JPH08235862A - Dynamic semiconductor memory device - Google Patents

Dynamic semiconductor memory device

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Publication number
JPH08235862A
JPH08235862A JP7040022A JP4002295A JPH08235862A JP H08235862 A JPH08235862 A JP H08235862A JP 7040022 A JP7040022 A JP 7040022A JP 4002295 A JP4002295 A JP 4002295A JP H08235862 A JPH08235862 A JP H08235862A
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JP
Japan
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sense amplifier
cell array
bit line
amplifier circuit
dram
Prior art date
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Pending
Application number
JP7040022A
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Japanese (ja)
Inventor
Hiroaki Nakano
浩明 中野
Daizaburo Takashima
大三郎 高島
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Toshiba Corp
Original Assignee
Toshiba Corp
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Filing date
Publication date
Application filed by Toshiba Corp filed Critical Toshiba Corp
Priority to JP7040022A priority Critical patent/JPH08235862A/en
Publication of JPH08235862A publication Critical patent/JPH08235862A/en
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  • Dram (AREA)

Abstract

PURPOSE: To make it possible to suppress a sense amplifier capacity to a lower level without addition of correction, such as addition of severity to design rule for sense amplifier circuits, to assure the bit line reading out voltage of cell information and to obtain a DRAM strong to the software error of a bit line mode. CONSTITUTION: This dynamic semiconductor memory device is provided with the DRAM having a memory cell array 10 consisting of memory cells MC arranged in matrix, the bit lines BL and word lines WL and the sense amplifier circuit 20 consisting of an equalizing circuit 22, sense amplifiers 24, 30 of a flip-flop type, cell array selection transistors 21 and data transfer transistors 23. A part 30 of the flip-flop type sense amplifiers 24, 30 of the sense amplifier circuit 20 are arranged nearer the sense array 10 side than the cell array selection TRs 21.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は、ダイナミック型半導体
記憶装置(DRAM)に係わり、特にセルアレイの高密
度化と信頼性を両立させたDRAMに関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a dynamic semiconductor memory device (DRAM) and, more particularly, to a DRAM having both high cell array density and high reliability.

【0002】[0002]

【従来の技術】1トランジスタ/1キャパシタのダイナ
ミック型メモリセルをマトリックス状に配列形成してな
るDRAMにおいては、ワード線により選択されたメモ
リセルの情報電荷をビット線に読み出す。このとき、メ
モリセルのキャパシタ容量に比べてビット線の容量が大
きいため、ビット線に現れる電位変動は極めて小さく、
これをセンスアンプによりセンス増幅する。
2. Description of the Related Art In a DRAM in which dynamic memory cells of 1 transistor / 1 capacitor are formed in a matrix, information charges of memory cells selected by word lines are read out to bit lines. At this time, since the capacitance of the bit line is larger than the capacitance of the memory cell capacitor, the potential fluctuation appearing on the bit line is extremely small,
This is sense-amplified by a sense amplifier.

【0003】図12に、従来のDRAMのメモリセルア
レイ及びセンスアンプ回路の構成例を示す。このDRA
Mのセル情報の読み出しを図13に従って簡単に説明す
る。待機時、ビット線対BL,/BLは、BLイコライ
ズ回路の制御信号/EQL=“H”、及びセルアレイ選
択Trの制御信号PT0,PT1=“H”により、プリ
チャージ電位VBLに固定されている。VBLは一般的には
電源電圧をVCCとすると (1/2)VCCにされることが多
い。
FIG. 12 shows a configuration example of a conventional memory cell array and sense amplifier circuit of a DRAM. This DRA
Reading of M cell information will be briefly described with reference to FIG. During standby, the bit line pair BL, / BL is fixed to the precharge potential V BL by the control signal / EQL = "H" of the BL equalize circuit and the control signals PT0, PT1 = "H" of the cell array selection Tr. There is. Generally, V BL is often set to (1/2) V CC when the power supply voltage is V CC .

【0004】次に、セル情報を読み出す場合を考える。
いま、WL0に接続されているメモリセル1から読み出
される場合について考えると、PT0は“H”レベルの
ままで、センスアンプ回路とメモリセル1がある側のセ
ルアレイを接続された状態に保ち、一方でPT1を
“L”レベルに下げ、図面上センスアンプ右側にあるセ
ルアレイをセンスアンプ回路と切り離す。
Next, consider the case of reading cell information.
Now, considering the case of reading from the memory cell 1 connected to WL0, PT0 remains at the “H” level and the sense amplifier circuit and the cell array on the side having the memory cell 1 are kept connected, PT1 is lowered to "L" level, and the cell array on the right side of the sense amplifier in the drawing is separated from the sense amplifier circuit.

【0005】次に、/EQL=“L”として、ビット線
対BL,/BLをフローティング状態にした後、選択さ
れたワード線(ここではWL0)とそれに対応するダミ
ーワード線(ここではDWL0)を立ち上げ、セルのデ
ータをビット線(ここでは/BL)に読み出す。
Next, after setting / EQL = "L" to bring the bit line pair BL, / BL into a floating state, the selected word line (here, WL0) and its corresponding dummy word line (here, DWL0). Is started and the cell data is read to the bit line (/ BL in this case).

【0006】また、ダミーセルには一般的にはメモリセ
ルと同じ容量のセルを用い、書き込まれている電圧はセ
ルに書きこまれる“H”レベルと“L”レベルの中間で
ある(1/2)VCCであることが多い。このようにして、B
L,/BLに読み出された電位の差は、センスアンプ駆
動信号SAPをVBLから引き上げ、また/SANをVBL
から引き下げることによってセンスアンプを動かし増幅
する。
Further, a cell having the same capacity as the memory cell is generally used as the dummy cell, and the voltage written is between the "H" level and the "L" level written in the cell (1/2 Often V CC . In this way, B
The difference between the potentials read to L and / BL causes the sense amplifier drive signal SAP to rise from V BL and / SAN to V BL.
The sense amplifier is moved and amplified by pulling it down from.

【0007】以上述べたように通常、メモリセルの情報
の読み出しはビット線にセンスアンプ回路が接続された
状態で行われるため、セルの容量をCS 、セルに情報を
書きこむときの電圧をVW 、セルアレイ部のビットの容
量をCB 、センスアンプ回路の容量をCSAとすると、メ
モリセルからビット線に情報電荷を読み出したときのビ
ット線に現われる電圧VR は、 VR ={CS /(CB +CS +CSA)}VW …(1) と表わすことができる。従って、BLに読み出された電
圧は、CS /(CB +CS +CSA)とVW に比例する。
As described above, normally, the reading of information from the memory cell is performed in the state where the sense amplifier circuit is connected to the bit line. Therefore, the capacity of the cell is C S and the voltage for writing information to the cell is V W, and the capacitance of the bit of the cell array portion C B, the capacity of the sense amplifier circuit and C SA, voltage V R appearing at the bit line when reading the information charges from the memory cell to the bit line, V R = { It can be expressed as C S / (C B + C S + C SA )} V W (1) Therefore, the voltage read to BL is proportional to C S / (C B + C S + C SA ) and V W.

【0008】近年、DRAMはメモリセル構造の改良、
設計する技術及び微細加工技術の進歩により著しく高密
度化が進んでおり、研究開発レベルでは256Mビット
の集積度を持つDRAMの試作が進んでいる。
In recent years, DRAM has been improved in memory cell structure.
Due to the progress of designing technology and fine processing technology, the density has been remarkably increased. At the research and development level, trial manufacture of a DRAM having an integration degree of 256 Mbits has been advanced.

【0009】このようなDRAMの高密度化の進み過程
で、1本のビット線に接続されるメモリセルの数は増加
していない。これは、ビット線容量のかなりの部分をビ
ット線とメモリセルのコンタクトが占めているため、接
続するセルの数を増やすとビット線容量CB が大きくな
り、結果的に必要な読み出し電圧VR を確保することが
困難になるためである。このようにビット線に接続され
るメモリセルの数が一定ならば、DRAMはその高密度
化に伴う微細化に従ってビット線の容量は減少してい
く。一方で、センスアンプ回路の設計ルールはメモリセ
ルほどには微細化されない。これは、DRAMの動作の
安定性を考慮して余裕を持たせて設計をするためであ
る。従って、センスアンプ数の容量CSAはDRAMの世
代が変わっても、メモリセル容量ほどには減少しない。
In the process of increasing the density of DRAM, the number of memory cells connected to one bit line has not increased. This is because the bit line and memory cell contacts occupy a considerable part of the bit line capacitance, so that increasing the number of cells to be connected increases the bit line capacitance C B , resulting in the required read voltage V R. This is because it becomes difficult to secure As described above, if the number of memory cells connected to the bit line is constant, the capacity of the bit line decreases with the miniaturization of the DRAM as the density increases. On the other hand, the design rule of the sense amplifier circuit is not made finer than that of the memory cell. This is because the DRAM is designed with a margin in consideration of the operational stability. Therefore, the capacity C SA of the number of sense amplifiers does not decrease as much as the memory cell capacity even if the generation of DRAM changes.

【0010】DRAM各世代のCB ,CSA、及びCSA
(CB +CSA)の1例を図14に示す。DRAMの世代
が変わってもCSAはあまり変化しないため、CSA/(C
B +CSA)は世代毎に大きくなる。その結果、式(1)
において、CSAがVR に与える影響が相対的に大きくな
っていく。また、書き込み電圧VRWは電源電圧VCCに依
存する。VCCが書き込まれる(“1”書きのとき)場合
もあれば、降圧して書き込まれることもあるが、VCC
上に昇圧されることはあまりない。DRAMの高密度化
によって、電源電圧VCCは、微細化されたデバイスの信
頼性の確保及び低消費電力化の要求等により、低下して
いく傾向にあり、この傾向も式(1)から分かるよう
に、VR を維持するのと逆方向に働く要素となる。
C B , C SA , and C SA / of each generation of DRAM
FIG. 14 shows an example of (C B + C SA ). Because even changed DRAM generation C SA does not change much, C SA / (C
B + C SA ) increases with each generation. As a result, formula (1)
At, the influence of C SA on V R becomes relatively large. The write voltage V RW depends on the power supply voltage V CC . In some cases V CC is written ( "1" when the writing), but sometimes written by lowering, it is not much to be boosted above V CC. Due to the higher density of DRAM, the power supply voltage V CC tends to decrease due to the demand for ensuring the reliability of miniaturized devices and lower power consumption, and this tendency can be seen from the equation (1). As described above, it becomes an element that works in the opposite direction to maintaining V R.

【0011】さらに、セル容量CS も、メモリセルの微
細化により大きな容量を確保することが困難になってい
る。以上述べてきたように、DRAMの高密度化に伴
い、 (1) 電源電圧VCCは低下傾向にある。 (2) センスアンプ容量CSAは世代が変わってもあまり小
さくならない。 (3) メモリセル容量CS の確保が困難になる。 等の問題があり、式(1)におけるメモリセルのビット
線への読み出し電圧VRの維持が非常に困難になる。特
に問題になるのは、CSAがDRAM高密度化に伴なって
縮少(スケーリング)されないことであり、VR を決め
る要因としてCSAの占める要因が、世代毎に大きくなっ
ている点である。
Furthermore, it is difficult to secure a large cell capacity C S due to the miniaturization of memory cells. As described above, (1) the power supply voltage V CC tends to decrease as the density of DRAM increases. (2) The sense amplifier capacitance C SA does not become so small even if the generation changes. (3) It becomes difficult to secure the memory cell capacity C S. Therefore, it becomes very difficult to maintain the read voltage V R to the bit line of the memory cell in the formula (1). A particular problem is that C SA is not reduced (scaled) as the DRAM density increases, and the factor that C SA occupies as a factor that determines V R increases with each generation. is there.

【0012】さらに、CSAがスケーリングされないとい
うことは、センスアンプ回路まで含めたセルアレイにお
いて、メモリセル部に対しセンスアンプ回路の面積が占
める割合が増加していくことを意味している。その結
果、ビット線に情報電荷が読み出されてからセンスアン
プが動作するまでの間にα線が衝突し、ビット線対の電
荷比を破壊することによって起こるビット線モードのリ
フトエラーを起こす要因として、センスアンプ回路の占
める要因が高くなることも予想される。
Further, the fact that C SA is not scaled means that the ratio of the area of the sense amplifier circuit to the memory cell portion increases in the cell array including the sense amplifier circuit. As a result, the α line collides between the time when the information charge is read to the bit line and the time when the sense amplifier operates, causing a bit line mode lift error caused by destroying the charge ratio of the bit line pair. As a result, the factor occupied by the sense amplifier circuit is expected to increase.

【0013】[0013]

【発明が解決しようとする課題】このように従来のDR
AMにおいては、センスアンプ回路のスケーリングが十
分に行われないために、メモリセルからビット線への読
み出し電圧を十分に維持することが難しく、またビット
線モードのソフトエラーに対しても、センスアンプ回路
の占める要因が大きくなるという問題があった。
As described above, the conventional DR
In the AM, it is difficult to maintain a sufficient read voltage from the memory cell to the bit line because the sense amplifier circuit is not sufficiently scaled, and the sense amplifier is not affected by the soft error in the bit line mode. There is a problem that the factors occupied by the circuit increase.

【0014】本発明は、上記事情を考慮してなされたも
ので、その目的とするところは、センスアンプ回路の設
計ルールを厳しくする等の修正を加えることなく、セン
スアンプ容量CSAを小さく抑えることができ、セル情報
のビット線読み出し電圧を確保し、かつビット線モード
のソフトエラーにも強いDRAMを提供することにあ
る。
The present invention has been made in consideration of the above circumstances, and an object thereof is to suppress the sense amplifier capacitance C SA to a small value without making modifications such as tightening the design rules of the sense amplifier circuit. It is possible to provide a DRAM that can secure a bit line read voltage for cell information and is resistant to a soft error in the bit line mode.

【0015】[0015]

【課題を解決するための手段】上記課題を解決するため
に本発明は、次のような構成を採用している。即ち、本
発明(請求項1)は、マトリックス状に配置された複数
個のダイナミック型メモリセル、これらのメモリセルと
データの授受を行う複数本のビット線、これらのビット
線と交差して配設されメモリセルの選択を行う複数本の
ワード線等からなるメモリセルアレイと、非動作時及び
待期時にビット線を一定の電圧に保持するイコライズ回
路、動作時にビット線の電位をセンスするフリップフロ
ップ型のセンスアンプ、セルアレイとセンスアンプを接
続するためのセルアレイ選択トランジスタ、セルアレイ
外部とデータの授受を行うためのデータ転送トランジス
タ等からなるセンスアンプ回路と、を備えたダイナミッ
ク型半導体記憶装置において、前記センスアンプ回路の
フリップフロップ型センスアンプの一部を前記セルアレ
イ選択トランジスタよりも前記セルアレイ側に配置して
なることを特徴とする。
In order to solve the above problems, the present invention employs the following configurations. That is, the present invention (Claim 1) includes a plurality of dynamic memory cells arranged in a matrix, a plurality of bit lines for transmitting and receiving data to and from these memory cells, and an arrangement arranged so as to intersect these bit lines. A memory cell array including a plurality of word lines and the like for selecting memory cells, an equalizer circuit that holds a bit line at a constant voltage during non-operation and a waiting period, and a flip-flop that senses the potential of the bit line during operation Type sense amplifier, a cell array selection transistor for connecting the cell array to the sense amplifier, a sense amplifier circuit including a data transfer transistor for exchanging data with the outside of the cell array, and the like. A part of the flip-flop type sense amplifier of the sense amplifier circuit is selected as the cell array selection transistor. Than Njisuta and characterized by being arranged on the cell array side.

【0016】また、本発明(請求項2)は、ダイナミッ
ク型半導体記憶装置において、マトリックス状に配置さ
れた複数個のダイナミック型メモリセル、これらのメモ
リセルとデータの授受を行う複数本のビット線、これら
のビット線と交差して配設されメモリセルの選択を行う
複数本のワード線等からなるメモリセルアレイと、非動
作時及び待期時に前記ビット線を一定の電圧に保持する
イコライズ回路、動作時に前記ビット線の電位をセンス
するフリップフロップ型のセンスアンプ、前記セルアレ
イとセンスアンプを接続するためのセルアレイ選択トラ
ンジスタ、セルアレイ外部とデータの授受を行うための
データ転送トランジスタ等からなるセンスアンプ回路
と、前記センスアンプ回路のセルアレイ選択トランジス
タと前記セルアレイとの間に設けられた補助センスアン
プとを具備してなることを特徴とする。
According to the present invention (claim 2), in a dynamic semiconductor memory device, a plurality of dynamic memory cells arranged in a matrix, and a plurality of bit lines for exchanging data with these memory cells. A memory cell array composed of a plurality of word lines and the like arranged to intersect these bit lines to select a memory cell, and an equalizing circuit for holding the bit lines at a constant voltage during non-operation and waiting periods, A sense amplifier circuit including a flip-flop type sense amplifier that senses the potential of the bit line during operation, a cell array selection transistor for connecting the cell array to the sense amplifier, a data transfer transistor for exchanging data with the outside of the cell array, and the like. And a cell array selection transistor of the sense amplifier circuit and the cell array. And characterized by being provided with an auxiliary sense amplifier provided between the.

【0017】ここで、本発明の望ましい実施態様として
は、次のものがあげられる。 (1) メモリセルからデータを読み出す際は、活性化され
るセルアレイをセルアレイ選択トランジスタによりセン
スアンプ回路から分離しておき、データ読み出し後はセ
ルアレイ選択トランジスタよりもセルアレイ側に配置さ
れたセンスアンプをまず動作させ、その後にセンスアン
プ回路とメモリセルアレイを接続し、残りのセンスアン
プを動作させる。 (2) セルアレイ内に配置されるフリップフロップ型セン
スアンプの配置領域を1単位のアレイ内で複数箇所設
け、センスアンプの配置を分散して行うこと。 (3) セルアレイ内に配置されるフリップフロップ型セン
スアンプ配置領域内で、ビット線をツイストすること。 (4) セルアレイのビット線構成はフォールデッド型であ
ること。 (5) センスアンプ回路の両側にそれぞれセルアレイ選択
トランジスタを介してメモリセルアレイが配置され、か
つ各々のセルアレイ選択トランジスタよりもセルアレイ
側にフリップフロップ型センスアンプの一部又は補助セ
ンスアンプがそれぞれ配置されていること。 (6) フリップフロップ型センスアンプは、pチャネルM
OSトランジスタからなるp型センスアンプとnチャネ
ルMOSトランジスタからなるn型センスアンプからな
り、セルアレイ選択トランジスタよりもセルアレイ側に
配置されるセンスアンプの一部又は補助センスアンプは
n型センスアンプであること。
The preferred embodiments of the present invention are as follows. (1) When reading data from the memory cell, the activated cell array is separated from the sense amplifier circuit by the cell array selection transistor, and after reading the data, the sense amplifier arranged on the cell array side of the cell array selection transistor is first After that, the sense amplifier circuit is connected to the memory cell array, and the remaining sense amplifiers are operated. (2) Arrangement of flip-flop type sense amplifiers arranged in the cell array at a plurality of locations in a single unit array, and disperse the sense amplifiers. (3) Twist the bit lines in the flip-flop type sense amplifier arrangement area arranged in the cell array. (4) The bit line configuration of the cell array must be a folded type. (5) A memory cell array is arranged on both sides of the sense amplifier circuit via cell array selection transistors, and a part of a flip-flop type sense amplifier or an auxiliary sense amplifier is arranged on the cell array side of each cell array selection transistor. To be. (6) The flip-flop type sense amplifier is a p-channel M
It is composed of a p-type sense amplifier composed of an OS transistor and an n-type sense amplifier composed of an n-channel MOS transistor, and a part of the sense amplifier arranged on the cell array side of the cell array selection transistor or an auxiliary sense amplifier is an n-type sense amplifier. .

【0018】[0018]

【作用】本発明によれば、セルアレイ選択トランジスタ
とセルアレイとの間にセンスアンプ回路のフリップフロ
ップ型センスアンプの一部又は補助センスアンプを配置
しているので、ワード線を立ち上げデータを読み出す際
に、セルアレイ選択トランジスタをOFFにして、セル
アレイ選択トランジスタよりもセル側に配設されたセン
スアンプにより初期増幅を行うことができる。これによ
り、データ読み出し時におけるセンスアンプ回路の容量
の影響を小さくして、セルの読み出し電圧を大きくする
ことができる。また、セルアレイ選択トランジスタをO
FFにしている間、イコライズ回路によりセンスアンプ
回路側を一定電圧にすることでで、センスアンプ回路の
フローティング時間を短縮しBLモードのソフトエラー
を減少させることが可能となる。
According to the present invention, since a part of the flip-flop type sense amplifier of the sense amplifier circuit or the auxiliary sense amplifier is arranged between the cell array selection transistor and the cell array, when the word line is raised and the data is read out. In addition, the cell array selection transistor can be turned off, and the initial amplification can be performed by the sense amplifier arranged on the cell side of the cell array selection transistor. This makes it possible to reduce the influence of the capacitance of the sense amplifier circuit at the time of reading data and increase the read voltage of the cell. In addition, the cell array selection transistor is turned on.
By setting the sense amplifier circuit side to a constant voltage by the equalizing circuit during the FF, it is possible to shorten the floating time of the sense amplifier circuit and reduce the soft error in the BL mode.

【0019】[0019]

【実施例】以下、本発明の実施例を図面を参照して説明
する。図1は、本発明の第1の実施例に係わるDRAM
のセルアレイ部及びセンスアンプ回路部の構成を示し、
図2はその動作を示すためのタイミング図を示してい
る。
Embodiments of the present invention will be described below with reference to the drawings. FIG. 1 shows a DRAM according to a first embodiment of the present invention.
The configurations of the cell array section and the sense amplifier circuit section of
FIG. 2 shows a timing diagram to show the operation.

【0020】図1は、本発明をフォールデッド(折り返
し)BL構成のセルアレイに適用した例である。メモリ
セルアレイ10(10a,10b)は、複数のメモリセ
ルMC(MC1〜2)をマトリックス状に配置して構成
され、これらと情報電荷のやりとりを行う複数のビット
線BL(BL1〜2、/BL1〜2)が平行に配置され
ている。また、ビット線BLと交差してメモリセルMC
を選択するワード線WLが配置されている。メモリセル
MCは良く知られている1トランジスタ/1キャパシタ
構造のものである。
FIG. 1 shows an example in which the present invention is applied to a cell array having a folded (folded) BL structure. The memory cell array 10 (10a, 10b) is configured by arranging a plurality of memory cells MC (MC1 to MC2) in a matrix, and a plurality of bit lines BL (BL1 to 2 and / BL1) for exchanging information charges with them. 2) are arranged in parallel. Further, the memory cell MC intersects with the bit line BL.
A word line WL for selecting is arranged. The memory cell MC has a well-known 1-transistor / 1-capacitor structure.

【0021】センスアンプ回路20は、本例ではフォー
ルデッドBL構成のため、両側のセルアレイ10により
共有される。そのため、信号PTで制御されるセルアレ
イ選択トランジスタ21(MN0〜3)が配設されてい
る。2箇所に配置されたセルアレイ選択トランジスタ2
1a,21bの間(MN0,1とMN2,3の間)に
は、ビット線対BL,/BLを所望の電位(VBL)に保
持するためのBLイコライザ22、セルアレイ外部との
データのやりとりを制御するデータ転送トランジスタ2
3及びpMOSセンスアンプ24が配設されている。
Since the sense amplifier circuit 20 has a folded BL structure in this example, it is shared by the cell arrays 10 on both sides. Therefore, the cell array selection transistors 21 (MN0 to 3) controlled by the signal PT are provided. Cell array selection transistor 2 arranged at two locations
Between 1a and 21b (between MN0, 1 and MN2, 3), a BL equalizer 22 for holding the bit line pair BL, / BL at a desired potential (V BL ) and data exchange with the outside of the cell array. Transfer transistor 2 for controlling
3 and a pMOS sense amplifier 24 are provided.

【0022】そして、センスアンプ回路20とセルアレ
イ10との間にnMOSセンスアンプ30が配置されて
いる。即ち、セルアレイ選択トランジスタ21aと左側
のセルアレイ10aの間にはnMOSセンスアンプ30
aが配設され、セルアレイ選択トランジスタ21bと右
側のセルアレイ10bの間にはnMOSセンスアンプ3
0bが配設されている。
An nMOS sense amplifier 30 is arranged between the sense amplifier circuit 20 and the cell array 10. That is, the nMOS sense amplifier 30 is provided between the cell array selection transistor 21a and the left cell array 10a.
a is provided, and the nMOS sense amplifier 3 is provided between the cell array selection transistor 21b and the cell array 10b on the right side.
0b is provided.

【0023】本実施例の回路動作を、図2のタイミング
図を用いて説明する。/RAS=“H”のプリチャージ
状態においては、ビット線プリチャージ信号/EQL=
“H”、かつセルアレイ選択信号PT=“H”であり、
各ビット線BLはプリチャージ電位VBLに保持される。
ここで、VBLは特に限定する必要はないが、例えば (1/
2)VCCとする。また、センスアンプ駆動信号SAP,/
SANLR SANRも各々VBLに保持されている。
The circuit operation of this embodiment will be described with reference to the timing chart of FIG. In the precharge state of / RAS = “H”, the bit line precharge signal / EQL =
“H” and the cell array selection signal PT = “H”,
Each bit line BL is held at the precharge potential V BL .
Here, V BL is not particularly limited, but for example (1 /
2) Set to V CC . In addition, the sense amplifier drive signal SAP, /
SAN L and R SAN R are also held in V BL .

【0024】次に、/RAS=“L”でアクティブサイ
クルに入ると、PTは左右(L,R)共“L”になって
セルアレイ10とセンスアンプ回路20が切り離され
る。次に、WLが立ち上がりメモリセルMCからデータ
が読み出され、センスアンプ駆動信号/SANL
“L”によりセルアレイ10a側のビット線BLの電位
が増幅される。
Next, in the active cycle with / RAS = "L", PT becomes "L" for both left and right (L, R), and the cell array 10 and the sense amplifier circuit 20 are separated. Next, WL rises, data is read from the memory cell MC, and the sense amplifier drive signal / SAN L =
The potential of the bit line BL on the cell array 10a side is amplified by "L".

【0025】ある程度信号が増幅されると、EQL=
“L”でセンスアンプ回路20内をフローティングに
し、動作しているアレイ側のセルアレイ選択信号PT
(PTL )を“H”とし、センスアンプ回路20とセル
アレイ10a側のビット線BLを接続してセンスアンプ
駆動信号SAP=“H”で信号を完全に増幅する。
When the signal is amplified to some extent, EQL =
When "L", the sense amplifier circuit 20 is floated, and the cell array selection signal PT on the operating array side is set.
(PT L ) is set to “H”, the sense amplifier circuit 20 and the bit line BL on the cell array 10a side are connected, and the signal is completely amplified by the sense amplifier drive signal SAP = “H”.

【0026】アクティブサイクル終了時はWL=
“L”、/SAN,SAP=VBL,/EQL=“H”、
PTR =“H”の順に元の状態に戻せばよい。このよう
に、本実施例においてはセルデータの初期センス時にn
MOSセンスアンプ30を除く他のセンスアンプ回路2
0をビット線BLから分離することにより、セルデータ
のビット線読み出し電圧に対するセンスアンプ容量の影
響を軽減し、センスマージンを増加させることができ
る。さらに、センスアンプ回路20はビット線BLがフ
ローティングになってセルからデータが読み出されてい
るときも、PT=“H”にする直前まで/EQL=
“H”として電位をLBLに保持することができ、BLモ
ードのソフトエラーの軽減にも有効である。 (実施例2)図3は、本発明の第2の実施例に係わるD
RAMのセルアレイ部及びセンスアンプ部の構成を示す
図である。なお、図1と同一部分には同一符号を付し
て、その詳しい説明は省略する。
At the end of the active cycle, WL =
"L", / SAN, SAP = V BL , / EQL = "H",
The original state may be returned in the order of PT R = “H”. As described above, in the present embodiment, when the cell data is initially sensed, n
Other sense amplifier circuit 2 except MOS sense amplifier 30
By separating 0 from the bit line BL, the influence of the sense amplifier capacitance on the bit line read voltage of cell data can be reduced and the sense margin can be increased. Further, even when the bit line BL is in a floating state and data is being read from the cell, the sense amplifier circuit 20 is provided until immediately before PT = “H” / EQL =
The potential can be held at L BL as “H”, which is also effective for reducing soft errors in BL mode. (Embodiment 2) FIG. 3 shows the D according to the second embodiment of the present invention.
It is a figure which shows the structure of the cell array part and sense amplifier part of RAM. The same parts as those in FIG. 1 are designated by the same reference numerals, and detailed description thereof will be omitted.

【0027】本実施例では、センスアンプ回路20内に
pMOSセンスアンプ24と共にnMOSセンスアンプ
25が設けられている。即ち、nMOSセンスアンプは
セルアレイ選択トランジスタよりもセルアレイ10側と
センスアンプ回路20側に分割して配設され、その結
果、アレイ側10に配設されるセンスアンプのサイズを
小さくすることができるため、チップ面積の低減に有効
である。動作タイミングはセンスアンプ回路20内のn
MOSセンスアンプ25の駆動信号/SAN0 をSAP
とほぼ同じタイミングで動作させる以外は、図2と同様
である。
In this embodiment, the nMOS sense amplifier 25 is provided in the sense amplifier circuit 20 together with the pMOS sense amplifier 24. That is, the nMOS sense amplifier is divided and arranged on the cell array 10 side and the sense amplifier circuit 20 side with respect to the cell array selection transistor, and as a result, the size of the sense amplifier arranged on the array side 10 can be reduced. It is effective in reducing the chip area. The operation timing is n in the sense amplifier circuit 20.
The drive signal / SAN 0 of the MOS sense amplifier 25 is set to SAP.
2 is the same as that of FIG. 2 except that the operation is performed at substantially the same timing.

【0028】このような構成であっても、第1の実施例
と同様の効果が得られる。 (実施例3)図4は、本発明の第3の実施例の要部構成
を示す図である。センスアンプ回路20及びセルアレイ
10側のnMOSセンスアンプ30は、第1或いは第2
の実施例の各々の回路と同様である。この実施例は、異
なるビット線対2組のnMOSセンスアンプ30をセル
アレイ10内部で一つの領域に配置することを特徴とす
る。 (実施例4)図5は、本発明の第4の実施例の要部構成
を示す図である。この実施例は、第3の実施例において
ビット線BLをツイストした場合の例であり、nMOS
センスアンプ30を配置する領域において、ビット線B
Lをツイストすることで、チップ面積の増加を抑えるこ
とを特徴とする。 (実施例5)図6は、本発明の第5の実施例の要部構成
を示す図である。一つのメモリセルアレイ10内でnM
OSセンスアンプ30を配置する領域を複数の場所に分
散することにより、nMOSセンスアンプ30の設計ル
ールを緩和することを特徴とする。 (実施例6)図7は、本発明の第6の実施例の要部構成
を示す図を示す図である。一つのメモリセルアレイ10
内で複数の場所でBLをツイストする場合に、それらの
一部或いは全てのツイスト領域をセンスアンプ30を配
置する領域として使用することで、ビット線BLのツイ
ストと、設計ルールの緩和を両立させることを特徴とす
る。
Even with such a structure, the same effect as that of the first embodiment can be obtained. (Embodiment 3) FIG. 4 is a diagram showing the construction of the essential parts of a third embodiment of the present invention. The sense amplifier circuit 20 and the nMOS sense amplifier 30 on the cell array 10 side are either the first or the second.
This is the same as each circuit of the embodiment. This embodiment is characterized in that two sets of different bit line pairs of nMOS sense amplifiers 30 are arranged in one region inside the cell array 10. (Embodiment 4) FIG. 5 is a diagram showing the construction of the essential parts of a fourth embodiment of the present invention. This embodiment is an example in which the bit line BL is twisted in the third embodiment.
In the area where the sense amplifier 30 is arranged, the bit line B
It is characterized in that an increase in the chip area is suppressed by twisting L. (Embodiment 5) FIG. 6 is a diagram showing the construction of the essential parts of a fifth embodiment of the present invention. NM in one memory cell array 10
The design rule of the nMOS sense amplifier 30 is relaxed by distributing the region in which the OS sense amplifier 30 is arranged in a plurality of places. (Embodiment 6) FIG. 7 is a diagram showing a configuration of a main portion of a sixth embodiment of the present invention. One memory cell array 10
In the case of twisting BL at a plurality of places in the same, by using a part or all of the twist areas as an area for arranging the sense amplifier 30, both the twist of the bit line BL and the relaxation of the design rule are made compatible. It is characterized by

【0029】以上述べてきた第5、第6の実施例は、例
えばビット線BLに2層の配線層を用い、上層と下層の
ビット線BLの間でフォールデッドBL構成を実現する
方式のようなセンスアンプの設計ルールが厳しい場合に
おいて特に有効である。
In the fifth and sixth embodiments described above, for example, two wiring layers are used for the bit lines BL, and a folded BL structure is realized between the upper and lower bit lines BL. This is especially effective when the design rules of a special sense amplifier are strict.

【0030】また、特に図は示さないが、2層BLを用
いた方式においては、アレイ内部に存在する上層と下層
はビット線BLをつなぎかえるための領域をnMOSセ
ンスアンプ30を配置する領域として用いることも、第
6の実施例と同様の効果を持つ。 (実施例7)図8は、本発明の第7の実施例の要部構成
を示す図を示す図である。この実施例は、第4の実施例
において、センスアンプ回路20の幅をピッチとしてセ
ルアレイを1/2アレイ分ずらして配置することで、一
つのセンスアンプ配置領域にセンスアンプ回路20とn
MOSセンスアンプ30を交互に配置し、各々のセンス
アンプの設計ルールを緩和することを特徴とする。
Although not shown in the figure, in the system using the two-layer BL, the upper layer and the lower layer existing inside the array are the regions for switching the bit lines BL as the regions for arranging the nMOS sense amplifier 30. Using it also has the same effect as the sixth embodiment. (Embodiment 7) FIG. 8 is a diagram showing a configuration of a main portion of a seventh embodiment of the present invention. In the present embodiment, the sense amplifier circuits 20 and n are arranged in one sense amplifier arrangement area by arranging the cell arrays by shifting by 1/2 array with the width of the sense amplifier circuit 20 as the pitch in the fourth embodiment.
The MOS sense amplifiers 30 are alternately arranged to relax the design rule of each sense amplifier.

【0031】本方式は、上述した2層BL方式のような
センスアンプの設計ルールが厳しい場合においても有効
である。また、これまでに述べてきた他の実施例に対し
ても容易に適用できる。 (実施例8)図9は、本発明の第8の実施例の要部構成
を示す図を示す図である。これは、本発明をオープンB
L構成のセルアレイに適用した例である。図中点線で示
すように片側のセルアレイ10のビット線BLを、セン
スアンプ回路20を通過させてnMOSセンスアンプ3
0に接続する必要があるが、このためにはビット線BL
を他の配線層につなぎかえて通過させてもよい。 (実施例9)図10は、本発明の第9の実施例の要部構
成を示す図を示す図である。これは、オープン・フォー
ルデッドBL構成とよばれるオープンBL,フォールデ
ッドBL混成アレイに適用した例である。このオープン
・フォールデッドBL構成とは、選択されたワード線に
よって、対となるビット線BLを組みかえBL選択トラ
ンジスタ40によって図中左側のセンスアンプはフォー
ルデッドBL構成の動作、右側のセンスアンプはオープ
ンBL構成の動作をする方式である。
This system is effective even when the sense amplifier design rule is strict as in the above-mentioned two-layer BL system. Further, it can be easily applied to the other embodiments described so far. (Embodiment 8) FIG. 9 is a diagram showing a configuration of a main part of an eighth embodiment of the present invention. This is the present invention Open B
This is an example applied to an L-structure cell array. As shown by the dotted line in the figure, the bit line BL of one cell array 10 is passed through the sense amplifier circuit 20 to pass through the nMOS sense amplifier 3
It is necessary to connect to 0, but for this purpose the bit line BL
May be connected to another wiring layer and passed therethrough. (Embodiment 9) FIG. 10 is a diagram showing the configuration of the essential parts of a ninth embodiment of the present invention. This is an example applied to an open BL / folded BL hybrid array called an open / folded BL configuration. In this open folded BL configuration, a pair of bit lines BL is recombined with a selected word line, and a BL select transistor 40 causes a sense amplifier on the left side of the drawing to operate in a folded BL configuration and a sense amplifier on the right side to operate. This is a system that operates in an open BL configuration.

【0032】本実施例においては、フォールデッドBL
型の動作をする左側のセンスアンプにおいては第1の実
施例と同様にビット線選択トランジスタ40とセンスア
ンプ回路20の間にnMOSセンスアンプ30を配置
し、オープンBL型の動作をする右側のセンスアンプに
おいては、第8の実施例と同様にセンスアンプ回路20
とnMOSセンスアンプ30を配置することで、オープ
ン・フォールデッドBL構成に対応している。 (実施例10)図11は、本発明の第10の実施例の要
部構成を示す図を示す図である。これは、FOF・BL
構成とよばれ、セルデータの読み出しはフォールデッド
BL型で行い、書き込みはオープン・フォールデッドB
L型で行う方式に対し適用した例である。
In this embodiment, the folded BL
In the left-side sense amplifier which performs the open type operation, the nMOS sense amplifier 30 is arranged between the bit line selection transistor 40 and the sense amplifier circuit 20 in the left sense amplifier which performs the open BL type operation as in the first embodiment. In the amplifier, as in the eighth embodiment, the sense amplifier circuit 20
And an nMOS sense amplifier 30 are arranged to support an open folded BL configuration. (Embodiment 10) FIG. 11 is a diagram showing the configuration of the essential parts of a tenth embodiment of the present invention. This is FOF / BL
This is called a configuration, and cell data is read using a folded BL type and writing is an open folded B type.
This is an example applied to a system of L type.

【0033】第9の実施例であるオープン・フォールデ
ッドBL構成のフォールデッドBL型動作を行うセンス
アンプの場合と同様に、BL選択トランジスタ40を介
してセルアレイ10とは反対側にセンスアンプ回路20
とnMOSセンスアンプ30を配置することで、FOF
・BL構成に対応する。
Similar to the case of the sense amplifier which performs the folded BL type operation of the open folded BL structure according to the ninth embodiment, the sense amplifier circuit 20 is provided on the side opposite to the cell array 10 via the BL selection transistor 40.
And the nMOS sense amplifier 30 are arranged, the FOF
・ Supports BL configuration.

【0034】なお、本発明は上述した各実施例に限定さ
れるものではない。例えば、セルアレイ内に配置したセ
ンスアンプは必ずしもnMOSセンスアンプに限るもの
ではなく、pMOSセンスアンプでもよい。また、セン
スアンプ回路の構成は図1、図3に何等限定されるもの
ではなく、少なくともビット線のイコライズ回路,ビッ
ト線の電位のセンスのためのセンスアンプ,及びセルア
レイ選択トランジスタ等を含むものであればよい。その
他、本発明の要旨を逸脱しない範囲で、種々変形して実
施することができる。
The present invention is not limited to the above embodiments. For example, the sense amplifier arranged in the cell array is not necessarily limited to the nMOS sense amplifier, but may be a pMOS sense amplifier. The configuration of the sense amplifier circuit is not limited to that shown in FIGS. 1 and 3, and includes at least an equalizer circuit for the bit line, a sense amplifier for sensing the potential of the bit line, and a cell array selection transistor. I wish I had it. In addition, various modifications can be made without departing from the scope of the present invention.

【0035】[0035]

【発明の効果】以上述べたように本発明によれば、セル
データ読み出し時においてセンスアンプ部の容量の影響
を最小限に抑えることでセンスマージンを高め、またB
Lモードのソフトエラーを低減可能なDRAMを実現す
ることが可能となる。
As described above, according to the present invention, when the cell data is read, the influence of the capacitance of the sense amplifier section is minimized to enhance the sense margin, and B
It is possible to realize a DRAM that can reduce the L-mode soft error.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】第1の実施例に係わるDRAMのセルアレイ部
及びセンスアンプ回路部の構成を示す図。
FIG. 1 is a diagram showing a configuration of a cell array unit and a sense amplifier circuit unit of a DRAM according to a first embodiment.

【図2】第1の実施例の動作を示すタイミング図。FIG. 2 is a timing chart showing the operation of the first embodiment.

【図3】第2の実施例に係わるDRAMのセルアレイ部
及びセンスアンプ回路部の構成を示す図。
FIG. 3 is a diagram showing a configuration of a cell array section and a sense amplifier circuit section of a DRAM according to a second embodiment.

【図4】第3の実施例に係わるDRAMの要部構成を示
す図。
FIG. 4 is a diagram showing a configuration of a main part of a DRAM according to a third embodiment.

【図5】第4の実施例に係わるDRAMの要部構成を示
す図。
FIG. 5 is a diagram showing a configuration of a main part of a DRAM according to a fourth embodiment.

【図6】第5の実施例に係わるDRAMの要部構成を示
す図。
FIG. 6 is a diagram showing a main part configuration of a DRAM according to a fifth embodiment.

【図7】第6の実施例に係わるDRAMの要部構成を示
す図。
FIG. 7 is a diagram showing a configuration of a main part of a DRAM according to a sixth embodiment.

【図8】第7の実施例に係わるDRAMの要部構成を示
す図。
FIG. 8 is a diagram showing a main part configuration of a DRAM according to a seventh embodiment.

【図9】第8の実施例に係わるDRAMの要部構成を示
す図。
FIG. 9 is a diagram showing a main part configuration of a DRAM according to an eighth embodiment.

【図10】第9の実施例に係わるDRAMの要部構成を
示す図。
FIG. 10 is a diagram showing a configuration of a main part of a DRAM according to a ninth embodiment.

【図11】第10の実施例に係わるDRAMの要部構成
を示す図。
FIG. 11 is a diagram showing a configuration of a main part of a DRAM according to a tenth embodiment.

【図12】従来のDRAMのメモリセルアレイ及びセン
スアンプ回路の構成を示す図。
FIG. 12 is a diagram showing a configuration of a memory cell array and a sense amplifier circuit of a conventional DRAM.

【図13】従来のDRAMの動作波形を示す図。FIG. 13 is a diagram showing operation waveforms of a conventional DRAM.

【図14】DRAMの各世代とCB ,CSA ,CSA
(CB +CSA)の関係を示す図。
[14] each generation of DRAM and C B, CS A, C SA /
The figure which shows the relationship of (C B + C SA ).

【符号の説明】[Explanation of symbols]

10(10a,10b)…メモリセルアレイ 20…センスアンプ回路 21(21a,21b)…セルアレイ選択トランジスタ 22…BLイコライザ 23…データ転送トランジスタ 24…pMOSセンスアンプ 25,30(30a,30b)…nMOSセンスアンプ 40…ビット線選択トランジスタ 10 (10a, 10b) ... Memory cell array 20 ... Sense amplifier circuit 21 (21a, 21b) ... Cell array selection transistor 22 ... BL equalizer 23 ... Data transfer transistor 24 ... pMOS sense amplifier 25, 30 (30a, 30b) ... nMOS sense amplifier 40 ... Bit line selection transistor

Claims (2)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】マトリックス状に配置された複数個のダイ
ナミック型メモリセル、これらのメモリセルとデータの
授受を行う複数本のビット線、及びこれらのビット線と
交差して配設されメモリセルの選択を行う複数本のワー
ド線を含んで構成されたメモリセルアレイと、 非動作時時にビット線を一定の電圧に保持するイコライ
ズ回路、動作時にビット線の電位をセンスするフリップ
フロップ型のセンスアンプ、セルアレイとセンスアンプ
を接続するためのセルアレイ選択トランジスタ、及びセ
ルアレイ外部とデータの授受を行うためのデータ転送ト
ランジスタを含んで構成されたセンスアンプ回路と、を
備えたダイナミック型半導体記憶装置において、 前記センスアンプ回路のフリップフロップ型センスアン
プの一部を前記セルアレイ選択トランジスタよりも前記
セルアレイ側に配置してなることを特徴とするダイナミ
ック型半導体記憶装置。
1. A plurality of dynamic memory cells arranged in a matrix, a plurality of bit lines for transmitting and receiving data to and from these memory cells, and memory cells arranged to intersect these bit lines. A memory cell array including a plurality of word lines for selection, an equalizing circuit that holds a bit line at a constant voltage when not operating, a flip-flop type sense amplifier that senses the potential of the bit line when operating, A dynamic semiconductor memory device comprising: a cell array selection transistor for connecting a cell array and a sense amplifier; and a sense amplifier circuit including a data transfer transistor for exchanging data with the outside of the cell array. Select a part of the flip-flop type sense amplifier of the amplifier circuit in the cell array Dynamic semiconductor memory device characterized by comprising arranged on the cell array side than transistors.
【請求項2】マトリックス状に配置された複数個のダイ
ナミック型メモリセル、これらのメモリセルとデータの
授受を行う複数本のビット線、及びこれらのビット線と
交差して配設されメモリセルの選択を行う複数本のワー
ド線を含んで構成されたメモリセルアレイと、 非動作時に前記ビット線を一定の電圧に保持するイコラ
イズ回路、動作時に前記ビット線の電位をセンスするフ
リップフロップ型のセンスアンプ、前記セルアレイとセ
ンスアンプを接続するためのセルアレイ選択トランジス
タ、及びセルアレイ外部とデータの授受を行うためのデ
ータ転送トランジスタを含んで構成されたセンスアンプ
回路と、 前記センスアンプ回路のセルアレイ選択トランジスタと
前記セルアレイとの間に設けられた補助センスアンプと
を具備してなることを特徴とするダイナミック型半導体
記憶装置。
2. A plurality of dynamic memory cells arranged in a matrix, a plurality of bit lines for transmitting and receiving data to and from these memory cells, and memory cells arranged to intersect these bit lines. A memory cell array including a plurality of word lines for selection, an equalizing circuit that holds the bit lines at a constant voltage when not operating, and a flip-flop type sense amplifier that senses the potential of the bit lines when operating. A cell array selection transistor for connecting the cell array and the sense amplifier; and a sense amplifier circuit including a data transfer transistor for exchanging data with the outside of the cell array; a cell array selection transistor of the sense amplifier circuit; And an auxiliary sense amplifier provided between the cell array and Dynamic semiconductor memory device according to claim and.
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Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100305031B1 (en) * 1998-05-30 2001-11-22 윤종용 Lay-out of sense amplifier block in dram
JP2006287225A (en) * 2005-03-31 2006-10-19 Hynix Semiconductor Inc Low voltage-semiconductor memory device
JP2010061734A (en) * 2008-09-03 2010-03-18 Toshiba Corp Semiconductor memory device

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