JPS5818715B2 - memory - Google Patents

memory

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JPS5818715B2
JPS5818715B2 JP51106689A JP10668976A JPS5818715B2 JP S5818715 B2 JPS5818715 B2 JP S5818715B2 JP 51106689 A JP51106689 A JP 51106689A JP 10668976 A JP10668976 A JP 10668976A JP S5818715 B2 JPS5818715 B2 JP S5818715B2
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line
memory cell
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JP51106689A
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伊藤清男
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Hitachi Ltd
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    • GPHYSICS
    • G11INFORMATION STORAGE
    • G11CSTATIC STORES
    • G11C7/00Arrangements for writing information into, or reading information out from, a digital store
    • G11C7/14Dummy cell management; Sense reference voltage generators

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  • Static Random-Access Memory (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】 本発明はメモリセルの構成に関するものである。[Detailed description of the invention] The present invention relates to the structure of a memory cell.

具体的には半導体メモリとくにモストランジスタメモリ
に関する。
Specifically, it relates to semiconductor memories, particularly MOS transistor memories.

以下、具体的には本発明の詳細な説明する。Hereinafter, the present invention will be specifically explained in detail.

従来、モストランジスタを用いたメモリとして選択線と
データ線の交点に設けたメモリセルをのみ選択的に読出
しうるメモリが特願昭49−5349の明細書(発明の
名称、メモリ、出願臼49.1.9)に示されている。
Conventionally, a memory using a MOS transistor that can selectively read out only memory cells provided at the intersection of a selection line and a data line is disclosed in the specification of Japanese Patent Application No. 49-5349 (Title of the Invention, Memory, Application No. 49. 1.9).

すなわち複数本のメモリセルの選択線と、これと交叉す
るとと(構成された複数のデータ線と、上記各交叉点に
配置されたメモリセルと、上記データ線に対応して、上
記データ線と同一方向に設けられた制御線と、上記各線
の交点に配されたメモリセルよりなるメモリセルアレー
と、上記データ線上の出力を検出するためのセンスアン
プと上記複数の制御線および選択線の中の特定の制御線
および選択線を選択的に駆動せしめる手段とを有し、こ
れら特定の線の交点にあるメモリセルのみを読出し可能
なごとく構成したメモリが開示されている。
In other words, a plurality of memory cell selection lines, a plurality of data lines that intersect with the selection lines, a memory cell arranged at each of the intersection points, and a data line corresponding to the data line. A memory cell array consisting of control lines provided in the same direction, memory cells arranged at the intersections of each of the lines, a sense amplifier for detecting the output on the data line, and the plurality of control lines and selection lines. A memory has been disclosed that has means for selectively driving specific control lines and selection lines, and is configured such that only memory cells located at the intersections of these specific lines can be read.

本発明はこのようなメモリの改良に関するものである。The present invention relates to improvements in such memory.

とくに、特定のデータ用メモリセルな検出する場合、そ
のメモリセルの出力を基準のダミーセルの出力とを差動
に検出することが望ましい。
In particular, when detecting a specific data memory cell, it is desirable to differentially detect the output of that memory cell and the output of a reference dummy cell.

しかし、ノイズ成分をデータ用メモリセルとダミーセル
の出力間でキャンセルする場合、両方に発生する7ノイ
ズをほぼ同等にするごとくメモリセルとダミーセルを配
置することが望ましい。
However, when canceling the noise component between the outputs of the data memory cell and the dummy cell, it is desirable to arrange the memory cell and the dummy cell so that the noise generated in both is approximately equal.

しかるに従来のダミーセルの配置は上記特願昭49−5
349の明細書にあるごとく、ターミーセルは選択線と
平行にかつデータ用メモリセルと異なる選択線上に配置
されていた。
However, the conventional arrangement of dummy cells
As stated in the specification of No. 349, the termie cells were arranged parallel to the selection line and on a different selection line from the data memory cells.

しかるに、これらの選択線は実際に微妙に異なるために
、これらの選択線に由来するノイズはデータ用メモリセ
ルとターミーセルでは微妙に異なり、完全な相殺が不可
能であった。
However, since these selection lines are actually slightly different, the noise originating from these selection lines is slightly different between the data memory cell and the termie cell, and it has been impossible to cancel them out completely.

本発明はこのような問題点を解決するためにダミーセル
を特定の制御線上に配置し、同一の選択線上のデータ用
メモリセルとダミーセルの出力な差動に検出するように
したものである。
In order to solve this problem, the present invention arranges a dummy cell on a specific control line, and detects the differential output of the data memory cell and the dummy cell on the same selection line.

以下具体的に本発明の実施例について説明する。Examples of the present invention will be specifically described below.

第1図は本発明に用いうるメモリセルの例の説明図であ
る。
FIG. 1 is an explanatory diagram of an example of a memory cell that can be used in the present invention.

これは先願(特願昭50−133078昭和50年11
月7日出願、発明の名称「半導体メモリ」)ニて出願し
たものである。
This is a prior application (patent application 1978-133078, November 1975)
The application was filed on April 7th, 2007, with the title of the invention being "semiconductor memory."

これは2層のポリシリコン(poly si )ヲ用い
たメモリセルである。
This is a memory cell using two layers of polysilicon (poly si).

すなわち、電極CP、データ線制御電極DG、ワード線
Wはポリシリコンにより構成される。
That is, the electrode CP, data line control electrode DG, and word line W are made of polysilicon.

CP、DGとP型基板との間にはISで示される酸化膜
が形成され、とくに反転層領域を形成する部分はうすい
酸化膜で形成される。
An oxide film indicated by IS is formed between CP, DG and the P-type substrate, and in particular, a thin oxide film is formed in a portion forming an inversion layer region.

このりすい酸化膜域は図の太線域で示される。This susceptible oxide film area is indicated by the bold line area in the figure.

この太線域のうちCP直下部分が記憶容量部となる。The part directly below the CP in this bold line area becomes the storage capacity section.

Ljs 、cpとW間もISで構成される。IS is also configured between Ljs, cp and W.

記憶電荷はCP電極下のりすい酸化膜の直下に形成され
る反転層に記憶され、この電荷はワード線Wをオンにす
ることによって、DG直下に形成される反転層からゲー
ト部分Qを通してデータ線用電極DG下に形成される反
転層領域よりなるデータ線を介して、拡散層領域KKと
り出されて、メモリセルMCから記憶情報が読み出され
る。
The storage charge is stored in the inversion layer formed directly under the thin oxide film under the CP electrode, and by turning on the word line W, this charge is transferred from the inversion layer formed directly under the DG to the data line through the gate portion Q. The diffusion layer region KK is taken out through a data line formed of an inversion layer region formed under the electrode DG, and stored information is read out from the memory cell MC.

MCへの書き込みは、WをオンとすることによってKか
ら記憶電荷がMCK与えられることによって行われる。
Writing to MC is performed by turning on W and supplying storage charge from K to MCK.

このようなセルでは、DG直下に反転層を形成し、これ
をデータ線とするためにDGK高電圧(以下nチャンネ
ルMO8の例)を加える必要がある。
In such a cell, it is necessary to form an inversion layer directly under the DG and apply a DGK high voltage (hereinafter an example of n-channel MO8) in order to use this as a data line.

逆にDGKパルス電圧を与えることによってワード線と
データ線の交点のメモリセルのみを選択できるメモリが
できる。
Conversely, by applying the DGK pulse voltage, a memory can be created in which only the memory cells at the intersections of word lines and data lines can be selected.

第2図は2X2のマ) IJタス状に配置したメモリの
一構成例で、メモリセルの動作原理の説明図である。
FIG. 2 is an example of the configuration of a memory arranged in a 2×2 matrix, and is an explanatory diagram of the operating principle of the memory cell.

いまCP直下に蓄えられる記憶電圧かOV (tt Q
tt K対応)とvDD(〜10v、〃1〃に対応)
とし、W(WO、Wl)とDG(DGo 。
The memory voltage currently stored directly under the CP or OV (tt Q
tt K compatible) and vDD (~10V, compatible with 〃1〃)
and W (WO, Wl) and DG (DGo.

DGl)には、OVからvDDのステップ状のパルス電
圧が加わるものとしよう。
Assume that a step-like pulse voltage from OV to vDD is applied to DGl).

このようなメモリでは、WとDGの両方に電圧が印加さ
れたMCのみが、センスアンプSAとデータ入力回路D
ICに接続されて読み出しと書きこみが行われる。
In such a memory, only the MC to which voltage is applied to both W and DG is connected to the sense amplifier SA and the data input circuit D.
It is connected to the IC for reading and writing.

いずれか一方に印加されても(たとえばW。Even if applied to either one (for example, W.

オン、DGoオフ)オフのDG(例えばDG。on, DGo off) off DG (e.g. DG.

)直下には反転層は形成されないから、Do(DG。) Since no inversion layer is formed directly under Do(DG.

オンの場合には反転層が形成されデータ線になる)は、
DIC8Aから切り離される。
When it is on, an inversion layer is formed and becomes a data line).
It is separated from DIC8A.

したがって、たとえばW。Wl とDGo、DG、に選
択的にパルスを印加すれば2×2のマトリクスから1個
のMCが選択できることになる。
Therefore, for example W. By selectively applying pulses to Wl, DGo, and DG, one MC can be selected from the 2×2 matrix.

従来のこの種のダイナミックメモリでは、ワード線につ
ながるすべてのメモリセルが同時に読み出され、しかも
これらの読み出しが破壊的(Destructive
Read Out、 DRO)であったので、再書きこ
みするために同時に読み出されるMCの数だけ増幅器が
必要であり、このため占有面積や消費電力が犬となる欠
点があった。
In conventional dynamic memories of this type, all memory cells connected to a word line are read simultaneously, and these reads are destructive.
(Read Out, DRO), therefore, in order to rewrite, as many amplifiers as there are MCs to be simultaneously read out are required, which has the disadvantage of increasing the occupied area and power consumption.

これに対して、本メモリは常にメモリマトリクスから1
個のMCLか読み出されないためにこれらの欠点が全部
とり除かれる利点がある。
On the other hand, this memory is always one step away from the memory matrix.
The advantage is that all of these drawbacks are eliminated because no MCL is read out.

以上本発明を適用するメモリを第1図の構造のメモリセ
ルを用いて説明したが、本発明はこの構造に限定される
ことはないことは明らかであり、第3図のごとくメモリ
セルMCとして、ワード線電圧で制御されるゲートQと
データ線制御線DGの電圧により制御されるゲー)QD
とを実質的にそなえ、両者のゲートがオンになったMC
のみ、その出力がデータ線り上に取り出されるものでも
よい。
Although the memory to which the present invention is applied has been explained using the memory cell having the structure shown in FIG. 1, it is clear that the present invention is not limited to this structure, and the memory cell MC as shown in FIG. , a gate Q controlled by the word line voltage and a gate controlled by the voltage of the data line control line DG) QD
MC with both gates turned on.
However, the output may be taken out onto the data line.

(第1図、第2図の例では、このゲートQDがデータ線
りとDGにより分布的に構成されているものである。
(In the examples shown in FIGS. 1 and 2, this gate QD is configured in a distributed manner by data lines and DG.

)第3図における記号は第2図と同一の意味を有する。) The symbols in FIG. 3 have the same meanings as in FIG.

第3図の構成に用いるメモリセルは第4図のごとくに構
成できる。
The memory cell used in the configuration of FIG. 3 can be configured as shown in FIG. 4.

ここでDは拡散層により形成されたデータ線でデータ線
制御電極DGにより基板との間に形成されるゲートQD
およびゲートQを介して電極CP下に形成される反転層
と接続される。
Here, D is a data line formed by a diffusion layer, and a gate QD is formed between the data line control electrode DG and the substrate.
and is connected to the inversion layer formed under the electrode CP via the gate Q.

第5図は本発明に用いうる他のメモリセルの例である。FIG. 5 is an example of another memory cell that can be used in the present invention.

DGoによりゲートQDがオンとなりこのとき、WoK
m圧がかかつていると、この電圧によりゲートQがオン
となり、WoとDGoO交点のMCが続出されることに
なる。
The gate QD is turned on by DGo, and at this time, WoK
When m pressure is applied, this voltage turns on the gate Q, and MC at the intersection of Wo and DGoO is successively output.

以上の例ではMCは2つのゲー)Q、QDと記憶部分容
量形成コンデンサC8とからなる例を用いて示した。
In the above example, MC is made up of two gates Q, QD, and a storage partial capacitance forming capacitor C8.

しかし、ゲートとこのメモリ記憶部分とを同一の素子で
形成することも可能である。
However, it is also possible to form the gate and this memory storage part with the same element.

いずれにせよ、本発明ではワード線とデータ線と、その
データ線と同一方向に配した制御線と、それらの交点に
配したメモリセルを有したメモリであってワード線と制
御線を適宜選択することにより、それらの交点のメモリ
セルのみ選択可能ならしめるメモリセルであればよい。
In any case, the present invention provides a memory having a word line, a data line, a control line arranged in the same direction as the data line, and a memory cell arranged at the intersection of these lines, and the word line and control line are selected as appropriate. By doing so, only the memory cells at the intersections thereof can be selected.

以下、以上のようなメモリセルな用いた本発明を説明す
る。
The present invention using the above-mentioned memory cell will be explained below.

第6図は第1図のMCを用いた回路方式である。FIG. 6 shows a circuit system using the MC shown in FIG.

第7図に示されたような、ワード線への電圧印加時の雑
音を相殺するためのダミーセルDCを用いて、選択され
たMCからの信号を差動で検出する例である。
This is an example in which a signal from a selected MC is detected differentially using a dummy cell DC for canceling noise when voltage is applied to the word line, as shown in FIG.

偶数番目のDG(DGo、DC2)に接続されたMCを
選択する場合には、DDG 1をオンにし、奇数番目の
DG(DGl、DC3)に接続されたMCを選択する場
合には、DDGoをオンにすればよい。
To select the MC connected to the even-numbered DG (DGo, DC2), turn on DDG 1; to select the MC connected to the odd-numbered DG (DGl, DC3), turn on DDGo. Just turn it on.

このとき、MCとDCはそれぞれ、CDT、σDTK検
出され差動検出器SAで検出し、データD。
At this time, MC and DC are detected by CDT and σDTK, respectively, and detected by differential detector SA, and data D is obtained.

を出力する。データDiの書込みは書込み回路DICよ
り行われる。
Output. Writing of data Di is performed by write circuit DIC.

この実施例の特長は、1本のワード線上に選択しようと
するMCとDCが接続されていることで、これによって
、雑音が相殺しやすく、またワード線駆動回路が単純化
できる。
The feature of this embodiment is that the MC and DC to be selected are connected on one word line, which makes it easy to cancel noise and simplify the word line drive circuit.

さらに第6図で共通データ線CDT、CDTを同一方向
にとり出した例であるが、第8図のように両側からとり
出すこともできる。
Furthermore, although FIG. 6 shows an example in which the common data lines CDT and CDT are taken out in the same direction, they can also be taken out from both sides as shown in FIG.

なお一般に第1図のごときMOの読み出し信号電圧にき
わめて小さいので、製造工程で生ずるマスクずれなどに
よるCDT、CDTの電気的不平衡(たとえば容量不平
衡)がないように細心の注意が必要である。
In general, the MO readout signal voltage as shown in Figure 1 is extremely small, so great care must be taken to prevent CDTs and CDT electrical imbalances (e.g. capacitance imbalances) due to mask misalignment that occurs during the manufacturing process. .

たとえばマスクずれによって第5図、第8図でCDTの
容量がCDTのそれよりも大きくなりすぎると、この容
量の不平衡等が等;制約に雑音となり信号が正常に検出
できなくなる。
For example, if the capacitance of the CDT becomes too large than that of the CDT in FIGS. 5 and 8 due to mask displacement, the unbalance of this capacitance, etc. becomes noise due to constraints, and signals cannot be detected normally.

第9図、第10図のようにCDT 、CDTを奇数回交
叉すれば、容量は完全に平衡するから、この欠点をとり
除ける。
If CDT and CDT are crossed an odd number of times as shown in FIGS. 9 and 10, the capacitance will be completely balanced, and this drawback can be eliminated.

ただし図では1回交叉の例を示しである。However, the figure shows an example of one-time crossover.

第11図はこの電圧一致読み出し、書き込み特性を利用
したメモリの構成例である。
FIG. 11 shows an example of a memory configuration that utilizes this voltage matching read/write characteristic.

MAはサブマトリクスであり、図では2×4としである
MA is a submatrix, which is 2×4 in the figure.

各MAには第6図のごときDIC,SAがあるが図では
省略しである。
Each MA has a DIC and a SA as shown in FIG. 6, but they are omitted in the figure.

Wo 、Wl −DGo−DG3は各MAに共通に配線
されていて、Wo 、Wlにはワード駆動回路WDとア
ドレス信号a2 によっていずれかに選択的にパルスが
印加される。
Wo, Wl-DGo-DG3 are commonly wired to each MA, and a pulse is selectively applied to Wo and Wl by the word drive circuit WD and address signal a2.

同様にDG匍脚回路DGDとアドレス信号a。Similarly, DG leg circuit DGD and address signal a.

、al によってDGo−DG3のうちの1本およびD
DGo。
, one of DGo-DG3 and D
DGo.

DDGlのうちの1本に選択的にパルスが印加される。A pulse is selectively applied to one of the DDG1.

この結果、MA内の1個の選択されたMCおよびターミ
ーセルから、各MA内のSIC信号が読み出され、さら
に各SAからの複数個の出力信号は、さらに選択されて
(第2図では省略)1個のみがチップ外に読み出される
As a result, the SIC signal in each MA is read out from one selected MC and termi cell in the MA, and a plurality of output signals from each SA are further selected (not shown in FIG. 2). ) only one is read out of the chip.

第11図で重要な特長は、各MA間に単に配線で接続さ
れており、これを駆動する回路(WD、DGD)は1個
所に集中してレイアウトできることである。
An important feature of FIG. 11 is that the MAs are simply connected by wiring, and the circuits (WD, DGD) that drive them can be concentrated and laid out in one location.

従来の半導体メモリは、各メモリマトリクス内の各ワー
ド線、あるいは各データ線にアドレスデコータ′と駆動
回路が配置されており、これらの占有面積がMCに比べ
てかなり大きいため、MCのピッチとこれらの回路のピ
ッチが合わなくなってきており、これが高集積化の重大
な妨げになってきている。
In conventional semiconductor memory, address decoders and drive circuits are arranged on each word line or each data line in each memory matrix, and the area occupied by these is considerably larger than that of MC, so the pitch of MC and The pitches of these circuits are no longer matched, and this is becoming a serious hindrance to higher integration.

これに対して第11図は単に配線(このピッチは通常M
Cのピッチよりも小にできる)が問題になるだけだから
、高集積化への妨げはなくなる。
On the other hand, Fig. 11 simply shows the wiring (this pitch is usually M
Since the only problem is that the pitch can be made smaller than the pitch of C, there is no obstacle to higher integration.

第12図は、MC中で特にピッチの小さい方向をもつM
C(図ではその例としてワード線方向を記しである。
Figure 12 shows M, which has a particularly small pitch direction among MC.
C (The figure shows the word line direction as an example.

またデータ線方向は十分広いとしである。It is also assumed that the data line direction is sufficiently wide.

)を用いたメモリで、第11図は各MAから1個読み出
し信号をとり出したのに対して、複数個のMAからなる
MA群の中から1個の読み出し信号をとり出す例である
), FIG. 11 shows an example in which one readout signal is extracted from each MA, whereas one readout signal is extracted from an MA group consisting of a plurality of MAs.

まずGCo−GC3をオン(高電圧)、Woo、Wol
をオンにして、Qに相当する全トランジスタをオンにし
て全ワード線Woo−W3、を高電圧に充電(プリチャ
ージ)しておく。
First, turn on GCo-GC3 (high voltage), Woo, Wol
is turned on, all transistors corresponding to Q are turned on, and all word lines Woo-W3 are charged (precharged) to a high voltage.

この時DGo−DG、はOVにしておく。次KWDとア
ドレス信号a4によって、WooとWolの中で非選択
された一方の線をOvに放電する。
At this time, DGo-DG is set to OV. Next KWD and address signal a4 discharge one of the unselected lines of Woo and Wol to Ov.

これによって各MAの非選択ワード線はOvになる。This causes the unselected word line of each MA to become Ov.

この後で制御回路REFCとアドレス信号a5 、 a
6とで、GCo〜Go2の中で、選択された1本の線の
みをOVKし、他の非選択線は高電圧にしておく。
After this, control circuit REFC and address signals a5, a
6, only one selected line among GCo to Go2 is OVKed, and other non-selected lines are kept at high voltage.

この後で高電圧になっているW。0とW。After this, W becomes high voltage. 0 and W.

、のいずれかの選択線をOvに放電する。以上の動作に
よって選択されたワード線(Woo〜W3、の中の1本
たとえばW。
, to Ov. One of the word lines (Woo to W3) selected by the above operation, for example, W.

。)のみ高電圧となり、他はすべて0vvLなる。. ) only becomes high voltage, and all others become 0vvL.

以上の動作が完了した後でDGDとa□−a3でDGo
からDG、の中の選択された1本(たとえばDGo)K
高電圧のパルスを印加する。
After completing the above operations, use DGD and a□-a3 to
DG, the selected one (for example, DGo) K
Apply high voltage pulses.

これによってW。0とDGoの交点のMCだけを選択す
ることができる。
By this W. Only the MC at the intersection of 0 and DGo can be selected.

第3図に比べて本実施例の特長&’l下の通りである。The features of this embodiment compared to FIG. 3 are as follows.

通常各Yυも1個のMCを選択する場合、破壊読み出し
だから各MAに属するSAを動作させなければならない
Normally, if each Yυ also selects one MC, the SAs belonging to each MA must be operated because it is a destructive read.

プ般KSAを動作させた場合、消費電力が犬になる。When the general KSA is operated, the power consumption increases.

このよりなSAが同時に多数動作するとメモIJ L
S Iとしての許容消費電力を超えてしまうので、他の
周辺回路の消費電力を極力小にさせざるを得ない。
If a large number of SAs operate at the same time, the memo IJ L
Since this exceeds the allowable power consumption for the SI, it is necessary to minimize the power consumption of other peripheral circuits.

一般に消費電力と速度の積はほぼ一定であることを考え
れば、このことは低速になることを意味する。
Considering that the product of power consumption and speed is generally constant, this means that it will be slower.

したがって第12図の例は、SAが1偏動作するだけだ
から高速に向いた実施例といえる。
Therefore, the example shown in FIG. 12 can be said to be an embodiment suitable for high speed because the SA only operates in one bias.

なお従来の1トランジスタと記憶容量で形成されたいわ
ゆるIMO8Tセルなどのように、1本のワード線につ
ながるすべてのメモリセルから、同時に破壊読み出しさ
れるメモリでは、1個のメモリセルだけを選択し、1個
のSAを選択的に動作できないこと(したがって低速で
ある)は、前述したように、再書きこみ動作せざるを得
ないというIMO8Tセルの本質的欠点から・みて容易
に明らかである。
Note that in a memory that is destructively read out simultaneously from all memory cells connected to one word line, such as a conventional so-called IMO8T cell formed with one transistor and a storage capacity, only one memory cell is selected. , the inability to selectively operate one SA (therefore, the speed is low) is readily apparent from the essential drawback of the IMO8T cell that it is forced to perform a rewrite operation, as described above.

第4図の例が実現できるのは、第1図の例のようにMC
自身が電圧一致方式で動作するという利点のためである
The example in Figure 4 can be realized by using MC like the example in Figure 1.
This is due to the advantage that it operates in a voltage matching manner.

なお第1図に示すMCはダイナミッタ型のMCであるか
ら、周期的に再書きこみ(リフレッシュ)しなげればな
らない。
Note that since the MC shown in FIG. 1 is a dynamitter type MC, it must be periodically rewritten (refreshed).

この場合、通常複数個のMCを同時にリフレッシュする
方が高性能といわれている。
In this case, it is generally said that it is more efficient to refresh multiple MCs at the same time.

このリフレッシュ動作を第4図の例で行うには次のよう
にすればよい。
This refresh operation can be performed in the example shown in FIG. 4 as follows.

すなわちリフレツクユ命令信号REFが有効の場合、W
oo、Wolのいずれか;(たとえばW。
That is, when the reflex command signal REF is valid, W
Either oo or Wol; (for example, W.

1)を放電した後で、GCo−GC3をVにすれば、Q
に相当するトランジスタはカットオフとなるから、Wo
oKつながっていたW。
After discharging 1), if GCo-GC3 is set to V, Q
Since the transistor corresponding to is cutoff, Wo
OK was connected W.

0゜Wlo、W2o、W3oは高電圧に保持される。0°Wlo, W2o, and W3o are held at high voltages.

この後でDGoをオンにすれば、上記4本のワード線と
DGoの交点に存在する4個のMCが選択され、これら
が属するMA内のSAが動作してリフレッシュが行われ
る。
If DGo is then turned on, the four MCs present at the intersections of the four word lines and DGo are selected, and the SAs in the MAs to which they belong operate to perform refresh.

なおW。o−W31の配線ピッチが十分大であれば、従
来のように各ワード線にデコーダと駆動回路を接続する
ことによって選択された1本のワード線に電圧を印加で
きることは明らかであろう。
In addition, W. It is clear that if the wiring pitch of the o-W31 is sufficiently large, a voltage can be applied to a selected word line by connecting a decoder and a drive circuit to each word line as in the conventional manner.

第13図は第12図の具体的実施例である。FIG. 13 is a specific example of FIG. 12.

いま上述したように第12図においてGCoが選択され
てOVKなり、Wooのみが高電圧に保持された後でD
Goがオンになると、MCからの読み出し信号が第11
図のCDT 、CDTに現われる。
As mentioned above, in FIG. 12, GCo is selected and becomes OVK, and only Woo is held at a high voltage, and then D
When Go turns on, the read signal from the MC becomes the 11th
It appears in CDT, CDT in the figure.

その後にASのセット信号をオンにすると、この読み出
し信号はフリップフロップ型のSAで増幅される。
After that, when the AS set signal is turned on, this read signal is amplified by the flip-flop type SA.

その後で制御信号RWCオンとなってデータ出力線り。After that, the control signal RWC is turned on and the data output line is activated.

、DoK出力する。Wo、Wlともに非選択であればG
Coは高電圧になるからSETがオンになってもSAは
動作せず、またRWCがオンとなってもCDT 、CD
Tはり。
, DoK output. If both Wo and Wl are unselected, G
Since Co becomes a high voltage, SA will not operate even if SET is turned on, and CDT and CD will not operate even if RWC is turned on.
T-hari.

yD6から切りはなされる。The cut is made from yD6.

以上から本発明によって高速高集積のメモリLSIが実
現できることがわかった。
From the above, it has been found that a high-speed, highly integrated memory LSI can be realized by the present invention.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of drawings]

第1図から第5図は本発明を適用するメモリセルの説明
図、第6図から第13図は本発明の詳細な説明図である
。 Wo、Wl・・・ワード線、Do−D3・・・データ線
、DGo−Do3・・・制御線、DD。 ・・・ダミー用データ線、DDGo、DDGl・・・ダ
ミー用制御線、SA・・・センスアンプ、DGD・・・
制御線制御用回路。
1 to 5 are explanatory diagrams of a memory cell to which the present invention is applied, and FIGS. 6 to 13 are detailed explanatory diagrams of the present invention. Wo, Wl...word line, Do-D3...data line, DGo-Do3...control line, DD. ...Dummy data line, DDGo, DDGl...Dummy control line, SA...Sense amplifier, DGD...
Control line control circuit.

Claims (1)

【特許請求の範囲】 1 読出し、書込みに共通のデータ線にそれぞれ関連づ
けられて設けられ、かつ互いに直交する複数の選択線と
制御線の交点に配置された複数のメモリセルな有し、各
々のメモリセルの記憶情報の読出し、並びに書込みは対
応する選択線と制御線とが共に選択されたとき行なわれ
るメモIJ において、前記メモリセルのうち特定の制
御線上に配置されるものを差動検出用ターミーセルとし
、残りをデータ記憶用メモリセルとし、前記複数の選択
線のうち単一の選択線を選択してこの選択線上のデータ
記憶用メモリセルと差動検出用ターミーセルとの出力を
差動に検出して読出しを行なうことを特徴とするメモリ
。 2、特許請求の範囲第1項のメモリにおいて同一選択線
上に複数のターミーセルを設け、この選択線上のデータ
用メモリセルに対応して、異なる夕゛ミーセルを選択す
るメモリ。 3 特許請求の範囲第1項のメモリにおいて同一選択線
上に2個のターミーセルを設け、上記データ用メモリセ
ルが偶数番目の位置か奇数番目の位置かにより異なるタ
ーミーセルを選ぶメモリ。 4 特許請求の範囲第1項のメモリにおいて、ダミーセ
ルを各選択線上の端部にのみ設けたメモリ。 5 特許請求の範囲第1項のメモリにおいて上記各デー
タ線の一部の複数のデータ線および残部の複数のデータ
線をそれぞれ互いに結線して第1、第2の出力線とし、
この出力線を互いに交叉させた後検出手段に接続したメ
モリ。 6 特許請求の範囲第1項のメモリにおいて上記各デー
タ線の一部の複数のデータ線および残部の複数のデータ
線をそれぞれメモリセルアレーの異なる側において結線
して第1.第2の出力線とし、この出力線を検出手段へ
接続したメモリ。 7 メモリセルがコンデンサとトランジスタとから成る
特許請求の範囲第1項、第2項、第3項、第4項、第5
項、もしくは第6項に記載のメモリ。 8 読出し、書込みに共通のデータ線にそれぞれ関連づ
けられて設けられ、かつ互いに直交する複数の選択線と
制御線の交点に配置された複数のメモリセルを有し、各
々のメモリセルの記憶情報の読出し、並びに書込みは対
応する選択線と制御線とが共に選択されたとき行なわれ
るメモIJ において、前記複数個のメモリセルをグル
ープ化して二次元マトリクス状に配列したものをそれぞ
れメモリセルアレーとし、各メモリセルアレー内のメモ
リセルのうち特定の制御線上に配置されるものを差動検
出用メモリセルとし、残りをデータ記憶用メモリセルと
し、かつそれぞれのメモリセルアレーには前記データ記
憶用メモリセルと前記ダミーセルを差動に検出すべき検
出手段を備え、該検出手段は前記複数の選択線のうち当
該メモリセルアレー内の単一の選択線が選択されたとき
該選択線上のデータ記憶用メモリセルと差動検出用ダミ
ーセルとの出力を差動に検出することを特徴とするメモ
リ。 9 特許請求の範囲第8項のメモリニおいて異なる行に
ある各メモリセルアレーの互いに対応する選択線が結線
されているメモリ。 10 特許請求の範囲第8項のメモIJ において異
なる列にあるメモリセルアレーの互いに対応する制御線
が結線されているメモリ。 11 特許請求の範囲第8項のメモIJ において上
記選択線および制御線を駆動する手段を全メモリアレー
に共通に設けたメモリ。 12、特許請求の範囲第8項のメモリにおいてメモリセ
ルとしてリフレッシュを必要とするメモリセルを用い、
リフレッシュ時には同−行内又は同一列内の複数のメモ
リセルアレーの、互いに対応するメモリセルを選択すべ
く、選択線および制御線を駆動せしめるメモリ。
[Claims] 1. A plurality of memory cells each of which is associated with a data line common to reading and writing, and which is arranged at the intersection of a plurality of selection lines and a control line that are orthogonal to each other. Reading and writing of information stored in a memory cell are performed when both the corresponding selection line and control line are selected. termy cells and the rest as data storage memory cells, select a single selection line from the plurality of selection lines, and make the outputs of the data storage memory cells and the differential detection terminal cells on this selection line differential. A memory characterized by detecting and reading data. 2. A memory according to claim 1, in which a plurality of termie cells are provided on the same selection line, and different termie cells are selected in correspondence with data memory cells on the selection line. 3. A memory according to claim 1, in which two termy cells are provided on the same selection line, and different termy cells are selected depending on whether the data memory cell is in an even numbered position or an odd numbered position. 4. The memory according to claim 1, in which dummy cells are provided only at the ends of each selection line. 5. In the memory according to claim 1, some of the plural data lines and the remaining plural data lines of each of the data lines are connected to each other to form first and second output lines,
After the output lines cross each other, the memory is connected to the detection means. 6. In the memory according to claim 1, a plurality of data lines and a plurality of remaining data lines of each of the data lines are respectively connected on different sides of the memory cell array. A memory serving as a second output line and connecting this output line to the detection means. 7 Claims 1, 2, 3, 4, and 5 in which the memory cell comprises a capacitor and a transistor
or the memory according to item 6. 8. It has a plurality of memory cells that are respectively associated with data lines common to reading and writing and arranged at the intersections of a plurality of selection lines and control lines that are orthogonal to each other, and each memory cell has a plurality of memory cells that are associated with data lines common to reading and writing, and are arranged at the intersections of a plurality of selection lines and control lines that are perpendicular to each other. In the memory IJ in which reading and writing are performed when both the corresponding selection line and control line are selected, each of the plurality of memory cells is grouped and arranged in a two-dimensional matrix as a memory cell array; Among the memory cells in each memory cell array, those arranged on a specific control line are used as differential detection memory cells, the rest are used as data storage memory cells, and each memory cell array is provided with the data storage memory. and detecting means for differentially detecting the cell and the dummy cell, and the detecting means detects the data storage on the selected line when a single selected line in the memory cell array is selected among the plurality of selected lines. A memory characterized in that outputs of a memory cell and a differential detection dummy cell are differentially detected. 9. A memory according to claim 8, in which corresponding selection lines of memory cell arrays in different rows are connected to each other. 10. A memory in which control lines corresponding to each other in memory cell arrays in different columns are connected in the memo IJ of claim 8. 11. A memory in which all memory arrays are provided with means for driving the selection line and control line in common in the memo IJ of claim 8. 12. Using a memory cell that requires refreshing as a memory cell in the memory according to claim 8,
A memory that drives a selection line and a control line to select mutually corresponding memory cells of a plurality of memory cell arrays in the same row or column during refreshing.
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JPS4420093Y1 (en) * 1966-04-27 1969-08-28
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