JPH08233527A - 対応点探索装置および対応点探索方法 - Google Patents

対応点探索装置および対応点探索方法

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JPH08233527A
JPH08233527A JP7039606A JP3960695A JPH08233527A JP H08233527 A JPH08233527 A JP H08233527A JP 7039606 A JP7039606 A JP 7039606A JP 3960695 A JP3960695 A JP 3960695A JP H08233527 A JPH08233527 A JP H08233527A
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JP
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Application number
JP7039606A
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English (en)
Inventor
Mitsuo Oshima
光雄 大島
Satoru Yamada
識 山田
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Oki Electric Industry Co Ltd
Original Assignee
Oki Electric Industry Co Ltd
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Publication date
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Abstract

(57)【要約】 【目的】 誤対応を低減できる対応点探索方法および対
応点探索装置および対応点探索方法の提供。 【構成】 ステレオ画像の左右画像の対応点の探索に用
いる形状特徴を生成する形状特徴生成装置１０と、従来
から用いられていた数値特徴（非形状特徴）に加えて形
状特徴を比較することにより対応点探索を行う対応点抽
出装置１２とを具えている。この形状特徴生成装置１０
は、左右画像を所望の種類の特徴によって階調化し、左
右画像中の同一階調の領域をそれぞれ連続パターンとし
て抽出するこの階調化装置２２と、エピポーララインに
垂直な方向での連続パターンの連続長を、所望の値を第
１の法として除算して得られる連続長剰余値を形状特徴
として生成する連続長剰余値生成装置２４を具えてい
る。

Description

【発明の詳細な説明】
【０００１】
【産業上の利用分野】この発明は、３次元画像入力装置
における、ステレオ画像入力時の対応点探索装置および
対応点探索方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】従来のステレオ画像入力時に、左右の入
力画像のエピポーラライン上の各画素、が、どの画素同
士が最も対応するかを調べ、対応する画素同士を対にし
ていく対応点探索方法の一例が、文献：「情報処理学会
研究報告 ＣＶ ７０ー３ ｐｐ．１５−２２ １９９
１．１．２４」に開示されている。この文献に開示の技
術によれば、ローカルミニマムによる誤対応を低減する
ために、多重スケールの弛緩法（多重スケール法）を用
いて反復的に視差を推定して画像の対応点を探索する。
多重スケール法では、ピラミッド型データ構造を用い、
粗い解像度から細かい解像度へと処理を進める。この処
理を進めるために、反復演算を行う必要がある。尚、エ
ピポーララインとは、左右カメラの水平方向の配置が同
じラインのことである。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上述し
た多重スケール法による対応点探索方法では、反復演算
を行うために、対応点の探索に多大な処理時間を要する
という問題点があった。例えば、多重スケール法では、
画素サイズが２n ×２n の場合には、（ｎ＋１）回の反
復処理を行うことが必要であった。
【０００４】また、多重スケール法では、画像をある程
度全体的に表現する必要がある。このため、対応点探索
に被写体の形状特徴（被写体の長さや幅あるいは画面上
の位置等）を使用することが困難であった。その結果、
画像を表現する特徴量が形状特徴でないものに限定され
てしまうという問題点があった。このため、形状特徴で
ない特徴が、同一のエピポーラライン上に、対応点でな
いものも含めていくつも現れてしまう確率が高いため、
対応点の誤対応が生じ易いという問題点があった。
【０００５】このため、誤対応を低減できる対応点探索
方法および対応点探索装置の実現が望まれていた。
【０００６】
【課題を解決するための手段】
＜第１の発明＞この出願に係る第１の発明の対応点探索
装置によれば、ステレオ画像の左右画像の対応点の探索
に用いる形状特徴を生成する形状特徴生成装置と、生成
された該形状特徴を当該左右画像の比較に用いて、対応
点抽出を行う対応点抽出装置とを具えた対応点探索装置
であって、形状特徴抽出装置は、左右画像を所望の種類
の特徴によって階調化し、左右画像中の同一階調の領域
をそれぞれ連続パターンとして抽出する階層化装置を具
え、所望の値を第１の法として、連続パターンのエピポ
ーララインに垂直な方向での連続パターンの連続長を除
算して得られる連続長剰余値を、形状特徴として生成す
る連続長余剰値生成装置、および、所望の値を第２の法
として、エピポーララインに垂直な方向でのこの連続パ
ターンの位置座標を除算して得られる位置座標剰余値
を、形状特徴として生成する位置座標剰余値生成装置の
少なくとも一方を具え、生成された該形状特徴を記憶す
る形状特徴記憶装置を具えてなることを特徴とする。
【０００７】また、第１の発明の対応点探索装置におい
て、左右画像を、エピポーララインに沿った方向で区切
られた複数のブロックに分割するブロック化装置を具え
てなることが望ましい。
【０００８】＜第２の発明＞また、この出願に係る第２
の発明の対応点探索方法によれば、ステレオ画像の左右
画像を所望の種類の特徴でもって階調化し、左右画像中
の同一階調の領域をそれぞれ連続パターンとして抽出
し、所望の値を第１の法として、エピポーララインに垂
直な方向でのこの連続パターンの連続長を除算して得ら
れる連続長剰余値、および、所望の値を第２の法とし
て、エピポーララインに垂直な方向でのこの連続パター
ンの位置座標を除算して得られる位置座標剰余値の少な
くとも一方を抽出し、抽出されたこの連続長剰余値およ
びこの位置座標剰余値の少なくとも一方を左右画像の比
較に用いて、対応点探索を行うことを特徴とする。
【０００９】また、第２の発明の対応点探索方法におい
て、左右画像を、エピポーララインに沿った方向で区切
られた複数のブロックに分割し、各ブロック毎に、連続
長剰余値を抽出することが望ましい。
【００１０】尚、左右画面をそれぞれ画面分割する際に
は、左右画面を同一のエピポーララインに沿って分割す
る。
【００１１】
【作用】この出願に係る第１の発明の対応点探索装置お
よび第２の発明の対応点探索方法によれば、ステレオ画
像を階調化し、同一階調の領域を連続パターンとして、
この連続パターンの連続長および位置座標を形状特徴と
して抽出する。そして、この形状特徴を対応点探索に用
いる。従って、形状特徴を使いにくい多重スケール法を
用いずに、特徴表現の種類を増加させることができる。
このため、対応点探索における誤対応の低減を図ること
ができる。
【００１２】特に、これらの発明では、この形状特徴と
して、左右画像の連続パターンのエピポーララインと垂
直な方向での連続長および位置座標の少なくとも一方を
比較する。垂直方向の連続長および位置座標は、左右画
像において視野によるずれが生じない。このため、対象
物のカメラからの距離に関係なく、左右画像の対応点の
連続パターンの垂直方向の連続長および位置座標は実質
的に等しくなる。従って、垂直方向の連続長および位置
座標は、形状特徴として用いて好適である。
【００１３】さらに、これらの発明では、連続長および
位置座標をそれぞれ、第１および第２の法で除算した剰
余値として表す。その結果、長さおよび設定長をそのま
ま用いる場合よりも、連続パターンがノイズによって断
絶した場合にも誤対応の確率を低減することができる。
即ち、連続パターンの連続長が長い程、連続パターン上
にランダムノイズの生じる確率が高くなる。従って、連
続長を剰余値で表すことによって、連続パターン上にラ
ンダムノイズの生じる確率を低減することができる。
【００１４】また、剰余値で形状特徴を表すことによ
り、連続長等をそのまま記憶する場合に比べて、形状特
徴を記憶するために必要となる記憶容量を小さくするこ
とができる。
【００１５】また、これらの発明において、画像を複数
のブロックに画面分割すれば、各ブロック毎に、対応点
探索を並列処理することができる。その結果、対応点探
索における処理時間の短縮を図ることができる。また、
画面分割することにより、ランダムノイズによる誤対応
をより低減することができる。
【００１６】
【実施例】以下、図面を参照して、この出願に係る第１
の発明の対応点探索装置および第２の発明の対応点探索
方法の実施例について併せて説明する。尚、参照する図
面は、これらの発明が理解できる程度に、各構成成分の
大きさ、形状および配置関係を概略的に示してあるにす
ぎない。従って、これらの発明は図示例にのみ限定され
るものではない。
【００１７】＜装置構成について＞図１は、この実施例
の対応点探索装置のブロック図である。この実施例の対
応点探索装置は、形状特徴生成装置１０と対応点抽出装
置１２とを具えている。この形状特徴生成装置１０は、
ステレオ画像の左右画像の対応点の探索に用いる形状特
徴を生成する手段であり、一方、対応点抽出装置１２
は、生成されたこの形状特徴をステレオ画像の左右画像
の比較に用いて、対応点抽出を行う手段である。
【００１８】この実施例では、ステレオ画像の左右画像
を入力するために、右カメラ１４および左カメラ１６を
具えている。右カメラおよび左カメラには、それぞれ右
画像記憶装置１８および左画像記憶装置２０が接続され
ている。
【００１９】従来は、右および左画像記憶装置１８およ
び２０に記憶された画像の数量特徴（非形状特徴）が、
対応点抽出装置１２に送られ、対応点抽出装置１２にお
いて、この非形状特徴を比較して対応点探索を行ってい
た。尚、非形状特徴とは、明るさ、濃淡、色といった光
刺激に依存する量を指す。一方、この実施例では、この
従来の非形状特徴の他に、形状特徴を比較して対応点の
抽出をすることによりに対応点探索を行う。このため、
この実施例では、左および右画像記憶装置１８および２
０は、形状特徴生成装置１０にも接続されている。
【００２０】この形状特徴生成装置１０は、階調化装置
２２、連続長剰余値生成装置２４、連続長剰余値記憶装
置２６、位置座標剰余値生成装置２８および位置座標剰
余値記憶装置３０を具えている。
【００２１】この階調化装置２２は、左および右画像記
憶装置１８および２０に接続しており、左右画像を所望
の種類の特徴によって階調化し、左右画像中の同一階調
の領域をそれぞれ連続パターンとして抽出する手段であ
る。
【００２２】また、この階調化装置２２は、連続長剰余
値生成装置２４に接続している。この連続長剰余値生成
装置２４は、エピポーララインに垂直な方向での連続パ
ターンの連続長を、所望の値を第１の法として除算して
得られる連続長剰余値を形状特徴として生成する手段で
ある。
【００２３】また、この連続長剰余値生成装置２４は、
連続長剰余値記憶装置２６に接続している。この連続長
剰余値記憶装置２６は、生成された形状特徴である連続
長剰余値を記憶する形状特徴記憶装置３２を構成してい
る。
【００２４】一方、階調化装置２２には、ブロック化装
置３４を介して位置座標生成装置２８も接続している。
この位置座標生成装置２８は、エピポーララインに垂直
な方向での連続パターンの位置座標を、所望の値を第２
の法として除算して得られる位置座標剰余値を形状特徴
として生成する手段である。また、ブロック化装置３４
は、左右画像を、エピポーララインに沿った方向で区切
られた複数のブロックに分割（画像分割）する手段であ
る。
【００２５】また、この位置座標剰余値生成装置２８
は、位置座標剰余値記憶装置３０に接続している。この
位置座標剰余値記憶装置３０は、生成された形状特徴で
ある連続長剰余値を記憶する形状特徴記憶装置３２を構
成している。
【００２６】そして、形状特徴記憶装置３２は、対応点
抽出装置１２に接続している。この対応点抽出装置１２
において、従来から用いられていた数値特徴（非形状特
徴）に加えて形状特徴を比較することにより対応点探索
を行う。比較特徴が従来よりも増加するので、誤対応の
低減を図ることができる。
【００２７】また、対応点抽出装置においては、抽出さ
れた対応点の位相差（左右画像での水平方向の画素ナン
バーの差）から距離画像を算出する。距離画像は、下記
の従来周知の式（１）を用いて算出する。ここで、Ｚは
対象物までの距離、ｌは左右のカメラ間隔、ｆは、カメ
ラレンズの焦点距離、ＸL 、ＸR は、左右画像での対応
点の水平方向の画素ナンバーをそれぞれ表す。また、位
相差は（ＸL −ＸR ）で表される。
【００２８】 Ｚ＝ｆ・（ｌ／（ＸL −ＸR ））・・・（１） また、対応点抽出装置は、距離画像記憶装置に接続して
いる。そして、この距離画像記憶装置は、上記距離画像
を記憶し、出力端に接続している。
【００２９】＜動作について＞次に、図２のフローチャ
ートを参照して、この実施例の対応点探索方法につい
て、特に、形状特徴を用いた対応点探索方法について説
明する。
【００３０】この実施例では、先ず、右カメラ１４およ
び左カメラ１６を用いてステレオ画像の左右画像（以
下、元画像とも称する）を入力する（ａ）。
【００３１】次に、元画像は、通常光刺激を電気量で表
してある。入力された右画像および左画像は、それぞれ
右画像記憶装置１８および左画像記憶装置２０に記憶さ
れる（ｂ）。
【００３２】次に、階調化装置２２において、元画像を
所望の種類の特徴で以って階調化して階調化画像を作る
（ｃ）。
【００３３】階調化画像とは、ある値の幅の範囲の値を
１つの値で表現した画像のとこである。ここで、図３の
（Ａ）〜（Ｃ）を参照して、この階調化について詳細に
説明する。 図３の（Ａ）は、元画像の一方（左または
右）の画像である。画像の中央左寄りに人形像Ｄが取り
込まれている。
【００３４】図３の（Ｂ）は、図３の（Ａ）のＡ−Ｂに
沿った垂直方向（エピポーララインに垂直な方向）での
切り口における断面数値特徴を表すグラフである。グラ
フの横軸は、切り口における垂直方向の画素数を表す。
元画像の下側をグラフの左側に取っている。また、グラ
フの縦軸は、数値特徴を表す。ここで、数値特徴として
は、例えば、明るさ、濃淡、色といった光刺激に依存し
た量を用いることができる。グラフ中の曲線Ｉは、人形
像Ｄの垂直方向に沿った切り口での数値特徴を表してい
る。
【００３５】図３の（Ｃ）は、図３の（Ｂ）のグラフを
階調化したグラフである。グラフの横軸は、図３の
（Ｂ）と同じく、垂直方向の画素数を表す。また、縦軸
は、階調を表している。グラフ中の折れ線ＩＩは、曲線
Ｉを階調化したものであり、段階的に数値特徴が与えら
れている。階調化にあたっては、曲線Ｉを、数値特徴が
ある値の幅内の数値特徴の値を１つの値で表現すると折
れ線ＩＩが得られる。その結果、数値特徴が段階的に表
される。
【００３６】次に、連続パターンから形状特徴を抽出す
る。ここでは、先ず、連続長剰余値の生成について、図
３の（Ｃ）および図４を参照して、説明する。
【００３７】階調化された階調画像において、同一の階
調の領域（画素群）を１つの連続パターンと考えて抽出
する。例えば、図３の（Ｃ）の階調がＦ1 の領域を連続
パターンとして、左右画像からそれぞれ抽出する。そし
て、垂直方向に沿った（連続パターンＦ1 の領域）の連
続長Ｌが求まる。尚、この長さは、垂直方向の画素数で
表すことができる。
【００３８】次に、連続長剰余値生成装置２４におい
て、連続長Ｌから連続長剰余値Ｃを生成する方法につい
て、図４を参照して説明する（ｅ）。図４では、連続長
Ｌ＝２５（画素）の場合、第１の法の値を１６とし、１
６で２５を除算して得られる剰余値「９」を連続長剰余
値として生成する。
【００３９】次に、生成された連続長剰余値は、連続長
剰余値記憶装置２６に記憶される（ｆ）。
【００４０】ところで、この実施例では、ブロック化装
置３４において、左右画像（元画像）を、エピポーララ
インに沿った方向で区切られた複数のブロックに分割
（画像分割）する（ｄ）。そして、各ブロック毎に、連
続長剰余値を生成する。
【００４１】次に、画像分割を行った場合の連続長剰余
値の抽出について、図５の（Ａ）および（Ｂ）を参照し
て説明する。
【００４２】図５の（Ａ）に、４つのブロックに分割さ
れた階調画像を示す。分割数は、２つ以上ならば、５つ
以上の多数でも良い。図５の（Ａ）では、中央左寄りの
領域に、Ｆ1 階調の連続パターンＰのみを示してある。
この連続パターンＰは、第２ブロックと第３ブロックと
にまたがっている。尚、図５では、左右画像のうちの一
方の画像についてのみ示してあるが、左右画面をそれぞ
れ画面分割する際には、左右画面を同一のエピポーララ
インに沿って分割する。従って、図５に図示されていな
いもう一方の画像も、４つのブロックに分割される。
【００４３】次に、図５の（Ｂ）この連続パターンＰの
周辺部分の拡大図を示す。画面分割した場合には、２つ
以上のブロックにまたがっている連続パターンの連続長
は、各ブロック毎の長さでそれぞれ表される。例えば、
図５の（Ｂ）に示す連続パターンＰでは、連続長Ｌ（＝
２５）を、第２ブロックに係る部分の連続長Ｌ2 （＝
５）と、第３ブロックに係る部分の連続長Ｌ3 （＝２
０）とに分ける。そして、連続長Ｌ2 およびＬ3 をそれ
ぞれ法（＝１６）で除算してえられる余剰値を、それぞ
れのブロックにおける剰余値とする。例えば、第２ブロ
ックにおける連続長剰余値は、連続長が１６未満である
のでそのまま「５」となる。一方、第３ブロックに連続
長剰余値は、２０を１６で除算して得られる剰余値
「４」となる。
【００４４】また、画面分割した場合の連続長余剰値の
生成は、各ブロック毎に並列処理で行うことができる。
このため、処理時間の短縮を図ることができる。
【００４５】次に、位置座標剰余値生成装置２８におい
て、階調化画像の連続パターンから位置座標剰余値を生
成する方法について、図３の（Ｃ）および図４を参照し
て、説明する（ｅ）。
【００４６】連続パターンの位置座標は、パターンの上
端または下端の位置座標で表すと好適であり、この実施
例では、連続パターンの上端の位置座標で表している。
また、位置座標は、例えば、水平走査ラインのラインナ
ンバー（例えば、画面上側をＮｏ．１として、画面下側
に向かって画素数を数えていった値）で表される。
【００４７】図３の（Ｃ）では、Ｆ1 階調の連続パター
ンの上端の画素のラインナンバーＹを位置座標の値とし
て表す。そして、この位置座標の値Ｙを、任意の法で除
算して得られる剰余値を、位置座標剰余値として生成す
る。このラインナンバーは、画像の上端から垂直方向に
数えた画素数と同値である。ここでは、例えば２４を法
として位置座標Ｙを除算して得られる剰余値を生成すれ
ば良い。
【００４８】次に、生成された位置座標剰余値は、形状
特徴記憶装置３２を構成する位置座標剰余値記憶装置３
０に記憶される（ｆ）。
【００４９】次に、形状特徴記憶装置３２に記憶された
連続長剰余値および位置座標剰余値をそれぞれ形状特徴
として、対応点抽出装置１２に送り、ここで、形状特徴
の比較を行う（ｇ）。
【００５０】形状特徴の比較にあたっては、例えば、第
１の法を１６とすれば、連続長剰余値を１６通りで表
し、また、第２の法を２４とすれば、位置座標剰余値を
２４通りで表すことができる。従って、この場合、連続
長剰余値と位置座標剰余値とを組み合わせれば、３８４
通りの形状特徴として表すことができる。この組み合わ
せた数が大きいほど誤対応の低減が図れる。
【００５１】また、この形状特徴は、数値特徴とは独立
であるので、従来の数値特徴に、比較特徴として追加す
ることができる。例えば、従来、数値特徴として画像の
濃淡のみを用いて対応点探索を行っていた場合、この実
施例によれば、比較特徴として、濃淡に加えて、連続長
剰余値および位置座標剰余値を用いることができる。従
って、濃淡だけで対応点探索を行う場合よりも、誤対応
を低減することができる。
【００５２】上述した実施例では、これらの発明を特定
の構成とした例について説明したが、これらの発明は、
多くの変更および変形を行うことができる。例えば、上
述した実施例では、２つの画像を取り込んだステレオ画
像における対応点探索の例について説明したが、これら
の発明では、３つ以上の複数の画像を取り込んだステレ
オ画像における対応点探索に適応することもできる。３
つ以上の画像のステレオ画像の場合は、２つの画像の組
み合わせについて、それぞれ上述した実施例と同様にし
て対応点探索を行うと良い。
【００５３】また、上述した実施例では、形状特徴とし
て、連続長剰余値と位置座標剰余値とを生成したが、こ
の発明では、形状特徴として、連続長剰余値または位置
情報剰余値のみを生成しても良い。
【００５４】
【発明の効果】この出願に係る第１の発明の対応点探索
装置および第２の発明の対応点探索方法によれば、ステ
レオ画像を階調化し、同一階調の領域を連続パターンと
して、この連続パターンの連続長および位置座標を形状
特徴として抽出する。そして、この形状特徴を対応点探
索に用いる。従って、形状特徴を使いにくい多重スケー
ル法を用いずに、特徴表現の種類を増加させることがで
きる。このため、対応点探索における誤対応の低減を図
ることができる。
【００５５】特に、これらの発明では、この形状特徴と
して、左右画像の連続パターンのエピポーララインと垂
直な方向での連続長および位置座標の少なくとも一方を
比較する。垂直方向の連続長および位置座標は、左右画
像において視野によるずれが生じない。このため、対象
物のカメラからの距離に関係なく、左右画像の対応点の
連続パターンの垂直方向の連続長および位置座標は実質
的に等しくなる。従って、垂直報告の連続長および位置
座標は、形状特徴として用いて好適である。
【００５６】さらに、これらの発明では、連続長および
位置座標をそれぞれ、第１および第２の法で除算した剰
余値として表す。その結果、長さおよび設定長をそのま
ま用いる場合よりも、連続パターンがノイズによって断
絶した場合にも誤対応の確率を低減することができる。
即ち、連続パターンの連続長が長い程、連続パターン上
にランダムノイズの生じる確率が高くなる。従って、連
続長を剰余値で表すことによって、連続パターン上にラ
ンダムノイズの生じる確率を低減することができる。
【００５７】また、剰余値で形状特徴を表すことによ
り、連続長等をそのまま記憶する場合に比べて、形状特
徴を記憶するために必要となる記憶容量を小さくするこ
とができる。
【００５８】また、これらの発明において、画像を複数
のブロックに画面分割すれば、各ブロック毎に、対応点
探索を並列処理することができる。その結果、対応点探
索における処理時間の短縮を図ることができる。また、
画面分割することにより、ランダムノイズによる誤対応
をより低減することができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】この発明の対応点探索装置の実施例の説明に供
するブロック図である。
【図２】この発明の実施例の説明に供するフローチャー
トである。
【図３】（Ａ）〜（Ｃ）は、実施例における階調化の説
明に供する図である。
【図４】この発明の実施例における連続長剰余値の説明
に供する図である。
【図５】（Ａ）〜（Ｂ）は、この発明の実施例における
画面分割の説明に供する図である。
【符号の説明】
１０：形状特徴生成装置 １２：対応点抽出装置 １４：右カメラ １６：左カメラ １８：右画像記憶装置 ２０：左画像記憶装置 ２２：階調化装置 ２４：連続長剰余値生成装置 ２６：連続長剰余値記憶装置 ２８：位置座標剰余値生成装置 ３０：位置座標剰余値記憶装置 ３２：形状特徴記憶装置 ３４：ブロック化装置 ３６：距離画像記憶装置

Claims (4)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項１】 ステレオ画像の左右画像の対応点の探索
    に用いる形状特徴を生成する形状特徴生成装置と、 生成された該形状特徴を当該左右画像の比較に用いて、
    対応点抽出を行う対応点抽出装置とを具えた対応点探索
    装置であって、 前記形状特徴抽出装置は、 前記左右画像を所望の種類の特徴によって階調化し、前
    記左右画像中の同一階調の領域をそれぞれ連続パターン
    として抽出する階層化装置を具え、 所望の値を第１の法として、エピポーララインに垂直な
    方向での該連続パターンの連続長を除算して得られる連
    続長剰余値を、前記形状特徴として生成する連続長余剰
    値生成装置、および、所望の値を第２の法として、エピ
    ポーララインに垂直な方向での該連続パターンの位置座
    標を除算して得られる位置座標剰余値を、前記形状特徴
    として生成する位置座標剰余値生成装置の少なくとも一
    方を具え、 生成された該形状特徴を記憶する形状特徴記憶装置を具
    えてなることを特徴とする対応点探索装置。
  2. 【請求項２】 請求項１に記載の対応点探索装置におい
    て、 前記左右画像を、前記エピポーララインに沿った方向で
    区切られた複数のブロックに分割するブロック化装置を
    具えてなることを特徴とする対応点探索装置。
  3. 【請求項３】 ステレオ画像の左右画像を所望の種類の
    特徴でもって階調化し、前記左右画像中の同一階調の領
    域をそれぞれ連続パターンとして抽出し、 所望の値を第１の法として、該連続パターンのエピポー
    ララインに垂直な方向での該連続パターンの連続長を除
    算して得られる連続長剰余値、および、 所望の値を第２の法として、該連続パターンのエピポー
    ララインに垂直な方向での該連続パターンの位置座標を
    除算して得られる位置座標剰余値の少なくとも一方を形
    状特徴として生成し、 生成された該形状特徴を前記左右画像の比較に用いて、
    対応点探索を行うことを特徴とする対応点探索方法。
  4. 【請求項４】 請求項３に記載の対応点探索方法におい
    て、 前記左右画像を、前記エピポーララインに沿った方向で
    区切られた複数のブロックに分割し、各ブロック毎に、
    前記連続長剰余値を生成することを特徴とする対応点探
    索方法。
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Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6144761A (en) * 1997-02-03 2000-11-07 Asahi Kogaku Kogyo Kabushiki Kaisha Photogrammetric analytical measurement system
US6304669B1 (en) 1997-11-10 2001-10-16 Asahi Kogaku Kogyo Kabushiki Kaisha Photogrammetric analytical measurement system
US7015951B1 (en) * 1998-05-08 2006-03-21 Sony Corporation Picture generating apparatus and picture generating method

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