JPH0823238A - バッファ回路及び画像表示装置 - Google Patents

バッファ回路及び画像表示装置

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JPH0823238A
JPH0823238A JP6155014A JP15501494A JPH0823238A JP H0823238 A JPH0823238 A JP H0823238A JP 6155014 A JP6155014 A JP 6155014A JP 15501494 A JP15501494 A JP 15501494A JP H0823238 A JPH0823238 A JP H0823238A
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linear
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transistor
nmos
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Abstract

(57)【要約】 【目的】 トランジスタの耐圧を高くせずともバッファ
回路の入出力特性の線形領域を拡大することができるバ
ッファ回路を得る。 【構成】 ソースフォロワ型NMOS線形回路1を入力
初段に、ソースフォロワ型PMOS線形回路2aを入力
次段に用いてバッファ回路101を構成し、該NMOS
線形回路1を第1の高電位電源Vdd及び第1の低電位
電源Vssにより駆動し、該PMOS線形回路2aを第
2の高電位電源Vdd’及び第2の低電位電源Vss’
により駆動するようにした。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】この発明は、バッファ回路,及び
該バッファ回路を用いた画像表示装置に関し、特に、該
バッファ回路の線形動作領域を拡大するための回路構成
に関する。
【0002】
【従来の技術】薄型画像表示装置として代表的なものの
ひとつにアクティブマトリクス駆動方式の液晶表示装置
がある。該液晶表示装置は、ガラス板等の透過型絶縁基
板上に非晶質薄膜トランジスタ(Thin Film
Transistor:以下TFTと称する。)等のス
イッチング素子がマトリクス状に配列して形成され、併
せてデータ信号線、走査信号線等の各配線も形成された
構造の表示電極基板を用いている。この種の液晶表示装
置は表示品位が高く、表示電極基板として利用される透
過型絶縁基板の面積(大きさ)に対する制約が少なく、
反射型,透過型のいずれのタイプの液晶表示にも対応可
能なため広く用いられている。
【0003】このような液晶表示装置では、スイッチン
グ素子を備えた画素部分に、データ信号及び走査信号を
供給するための駆動回路,つまりデータ信号線駆動回路
及び走査信号線駆動回路を表示電極基板に接続する必要
がある。この接続方法として、ポリイミド樹脂薄膜ベー
ス等に銅薄膜線を多数形成した接続フィルムを用いるフ
ィルムキャリア方式、表示電極基板上に直接駆動回路を
実装するCOG(Chip on Glass)方式等
がある。
【0004】近年では、表示用電極上のスイッチング素
子を形成すると同時に上記駆動回路を該スイッチング素
子と一体形成し、回路素子の実装効率を向上するドライ
バモノリシック技術の開発が行われている。
【0005】しかし、現在スイッチング素子として一般
的に用いられている非晶質シリコンTFTを用いたので
は、駆動能力が不足するため、このドライバモノリシッ
クの実現が困難である。そこで、駆動能力を向上させた
多結晶シリコンTFTを用いてドライバモノリシック技
術の開発が進められている。上記多結晶シリコンTFT
は、トランジスタを構成する半導体層として多結晶シリ
コン薄膜を用いたものである。
【0006】上述したように、ドライバモノリシック技
術を実現するには多結晶シリコンTFTを用いることが
不可欠であるが、該TFTにはソース,ドレイン耐圧の
問題、NMOSトランジスタとPMOSトランジスタと
では閾値電圧に大きな差があり、また閾値そのものの値
が大きいという問題がある。これらTFTの問題に起因
して、液晶表示装置の駆動回路、特にデータ信号線駆動
回路における最終段の出力回路として用いられているバ
ッファ回路は、その線形動作領域が狭いものとなってし
まうという不具合が生じていた。
【0007】図8は、上記データ信号線駆動回路の出力
回路として用いられているソースフォロワ型線形回路を
2段用いて構成したバッファ回路の一例を示す。図にお
いて200は上記バッファ回路で、初段のNMOS線形
回路1と次段のPMOS線形回路2とから構成されてい
る。
【0008】上記初段のNMOS線形回路1は、高電位
側電源Vdd及び低電位側電源Vss間に直列に接続さ
れた2個のNMOSトランジスタTr1及びTr2から
なる。第1のNMOSトランジスタTr1のドレイン電
極は電源Vddに、そのゲート電極は入力端子Vin
に、ソース電極は第2のNMOSトランジスタTr2の
ドレイン電極に接続されている。該トランジスタTr2
のソース電極は電源Vssに接続され、上記両トランジ
スタの接続点が次段への出力ノードVo’となってい
る。そしてこのNMOS線形回路1は、トランジスタT
r2のゲート電極にバイアス電圧VBNが印加されるよ
うになっている。
【0009】また、上記次段のPMOS線形回路2は、
高電位側電源Vdd及び低電位側電源Vss間に直列に
接続された2個のPMOSトランジスタTr3及びTr
4からなる。第3のPMOSトランジスタTr3のソー
ス電極は高電位電源Vddに、そのドレイン電極は第4
のPMOSトランジスタTr4のソース電極に接続され
ている。該トランジスタTr4のゲート電極は前段のN
MOSトランジスタTr1、Tr2の接続点に、そのド
レイン電極は電源Vssに接続されている。そしてこの
PMOS線形回路2は、トランジスタTr3のゲート電
極にバイアス電圧VBPが印加されるようになってお
り、上記両トランジスタTr3,Tr4の接続点は、上
記バッファ回路200の出力端子Vout’となってい
る。
【0010】ここでNMOSトランジスタTr1および
Tr2、PMOSトランジスタTr3およびTr4の素
子特性はそれぞれ同一であるものとする。
【0011】またVinは上記バッファ回路200の入
力信号、Vo’は初段線形回路1の出力、Vout’は
該バッファ回路200の出力である。また、上記バイア
スVBNはバイアス用NMOSトランジスタTr2の動
作状態が飽和領域となるような電圧である。Vbnはバ
イアス電位VBNが印加されているときのゲート,ソー
ス間の電位差である。同様に上記バイアスVBPはバイ
アス用PMOSトランジスタTr3の動作状態が飽和領
域となるような電圧ある。Vbpは電位VBPが印加さ
れているときのゲート,ソース間の電位差である。
【0012】さらに詳しくはトランジスタTr2につい
て、 Vbn=(Tr2の閾値電圧Vthn)+(Tr2が飽
和領域に存在し、ある程度の電流が流れるためのマージ
ン電圧α) であり、 VBN−Vss=Vthn+α …(1) である。
【0013】次に、トランジスタTr3についてVB
P、Vbpは、上記と同様に Vbp=Vthp−α VBP−Vdd=Vthp−α …(2) である。
【0014】ここで、マージン電圧αの値は1〜2V程
度で、NMOSトランジスタ、PMOSトランジスタで
同じ大きさとするのが通例である。
【0015】次に上記バッファ回路の動作について説明
する。
【0016】まずNMOSトランジスタTr1、Tr2
で構成されたNMOS線形回路において、トランジスタ
Tr2には、その動作状態が飽和領域となるようなバイ
アスVbnがゲート,ソース間に印加されている。この
時該トランジスタTr2のソース,ドレイン間に流れる
電流Isd2は、動作状態が飽和領域となることから次
式で表される。
【0017】Isd2=(1/2)・Cox・μ(W/
L)・(Vbn−Vthn)2 Cox:ゲート絶縁膜容量 W:トランジ
スタのチャネル幅 μ :キャリア移動度 L:トランジ
スタのチャネル長 上記トランジスタTr1に流れる電流Isd1の経路
は、トランジスタTr1,Tr2の接続点で次段側へ分
岐しているが、この分岐した電流経路は、トランジスタ
Tr4のゲートにつながっており、電気的にはほぼ開放
状態にある。このため、定常状態においてIsd1は Isd1=Isd2 となる。
【0018】従って、トランジスタTr2に電流Isd
2を流すためのゲート,ソース間の電位差がVbnであ
り、Tr1とTr2の素子特性が同一であることから、
トランジスタTr1のゲート,ソース間の電位差もVb
nとなり、初段回路1の出力Vo’は Vo’=Vin−Vbn となる。
【0019】次段のPMOSトランジスタTr3、Tr
4で構成したPMOS線形回路2についても、トランジ
スタTr3のゲート,ソース間に動作状態が飽和領域と
なるような電圧Vbpが印加されているために、前段と
は極性の違いのみで同様の動作を行う。従ってVou
t’は Vout’=Vo’−Vbp となり、Vinとの関係をみると Vout’=Vin−Vbn−Vbp …(3) となる。
【0020】ここで、理想的なバッファ回路の入出力特
性は Vout’=Vin であるので、該バッファ回路は−(Vbp+Vbn)分
のオフセットを有していることがわかる。
【0021】該バッファ回路の入出力特性を図9に示
す。
【0022】同図において、曲線4はNMOS線形回路
1の入出力特性を、曲線5はPMOS線形回路2の入出
力特性を示す。該バッファ回路への入力信号Vinを線
分4aで示すと、曲線4における直線部分に対応した線
分4bが一段目NMOS線形回路の線形動作領域の出力
範囲に相当し、これが次段へ出力される。
【0023】次に一段目NMOS線形回路の出力Vo’
(線分4b)が二段目PMOS線形回路2への入力信号
(線分5a)となり、曲線5の直線部分に対応した線分
5bが該バッファ回路の線形動作領域の出力範囲Vou
t’に相当する。この場合、一段目の線形動作領域の出
力範囲(線分5a)が二段目回路の線形動作領域に対応
する入力範囲(線分5c)から逸脱している部分が広く
存在しており、この逸脱部分は図9では線分3の長さで
表されている。
【0024】上述した要因により該バッファ回路の線形
動作領域が狭められることとなる。また、閾値電圧の絶
対値が大きければ大きいほどバイアス電圧VBNは大き
く、バイアス電圧VBPは小さくとらなければならなく
なり、NMOSトランジスタ、PMOSトランジスタの
閾値電圧の絶対値の差が大きければ大きいほど線分3が
長くなり、バッファ回路の線形動作領域がより狭められ
ることとなる。
【0025】ところで、バッファ回路の線形動作領域を
広く取るためには電源電圧を高くすればよいが、そのた
めには、トランジスタの耐圧を高くすることが必要とな
る。しかしドライバモノリシック技術に不可欠な多結晶
シリコントランジスタは単結晶シリコントランジスタよ
りも耐圧が低いというのが現状であり、トランジスタの
耐圧を高くすることは困難である。
【0026】また、理想的なバッファ特性を得るために
は、上記オフセット(−Vbp−Vbn)を無くすこと
が考えられる。ここで、NMOSトランジスタとPMO
Sトランジスタの閾値電圧の絶対値を比較すると、これ
らの値が同等であれば上記条件を満足できるが、通常P
MOSトランジスタの閾値電圧の絶対値の方がNMOS
トランジスタのものより大きい。このためNMOSトラ
ンジスタのゲート,ソース間の電位差Vbn中のマージ
ン電圧αを必要以上に大きく取ることで上記条件を満た
すことができるが、各トランジスタのゲート,ソース間
の電位差Vbn及びVbpを大きく取れば取るほどトラ
ンジスタの動作が飽和領域から逸脱し線形回路が正常な
動作を行わなくなり、バッファ回路としての線形動作領
域が狭くなる。
【0027】したがって、ある入力電圧に対してはオフ
セットをなくしてVout’=Vinとすることはでき
るがバッファ回路の線形動作領域が極めて狭くなるため
に有効な解決法とは言えない。
【0028】
【発明が解決しようとする課題】上述したように、ソー
スフォロワ型線形回路ではオフセットを有するので、同
一の電源で駆動した場合、バイアス電圧により入出力特
性の線形領域が狭められるという根本的な要因をもって
いる。また、電源電圧を高くすることで該線形回路の線
形動作領域を拡大することができるがトランジスタの耐
圧の点から限界がある。さらにNMOSトランジスタと
PMOSトランジスタの閾値電圧が異なる場合には該バ
ッファ回路にオフセットが生じていた。
【0029】この発明は、上記のような問題点を解決す
るためになされたもので、トランジスタの耐圧を高くせ
ずともバッファ回路の入出力特性の線形領域を拡大する
ことができるバッファ回路を得ることが本発明の目的で
ある。
【0030】また、オフセットのないバッファ回路を得
ることが本発明の目的である。
【0031】さらに、該バッファ回路を含む映像表示装
置を得ることが本発明の目的である。
【0032】
【課題を解決するための手段】この発明に係るバッファ
回路は、入力信号に対して出力信号が線形関係となる線
形回路を複数段接続してなり、該各線形回路を、各々異
なる電源電圧により駆動するよう構成しており、そのこ
とにより上記目的が達成される。
【0033】また、前記各線形回路に供給する電源電圧
は、本バッファ回路の線形動作領域が最大となるようそ
れぞれ所定の値に設定されているのが好ましい。
【0034】この発明に係るバッファ回路は、NMOS
トランジスタからなるNMOS線形回路と、PMOSト
ランジスタからなるPMOS線形回路とをシリアルに複
数段接続してなり、前記NMOS線形回路の段数nと、
PMOS線形回路の段m(n,mは正整数)とは、NM
OS線形回路における電圧シフトVbnと、PMOS線
形回路における電圧シフトVbpとの間で、関係式n・
Vbn+m・Vbp=0で表される関係を満たしてお
り、そのことにより上記目的が達成される。
【0035】また、前記線形回路は、第1及び第2の電
源間に直列に接続された2個の同一導電型のMOS型電
界効果トランジスタから構成し、一方のトランジスタの
ゲート電極に入力信号を、他方のトランジスタのゲート
電極に該トランジスタが飽和領域で動作するバイアス電
圧を印加するようにしたソースフォロワ型線形回路であ
ることが好ましい。
【0036】この発明のバッファ回路は、NMOSトラ
ンジスタからなるNMOS線形回路と、PMOSトラン
ジスタからなるPMOS線形回路とをシリアルに複数段
接続してなり、該線形回路が、デプレッション型トラン
ジスタから構成されており、そのことにより式目的が達
成される。
【0037】また、前記線形回路は、絶縁基板上に形成
された単結晶シリコン薄膜、または多結晶シリコン薄膜
を用いて形成したものであることが好ましい。
【0038】また、前記線形回路は、該線形回路の周辺
回路、及びこれらの回路の出力により動作する能動素
子、若しくは能動回路とともに、同一基板上に形成した
ものであることが好ましい。
【0039】この発明の画像表示装置は、マトリクス状
に配置された複数の表示画素を有し、タイミング信号に
同期してデータ信号線に映像信号を書き込むデータ信号
線駆動回路を備え、該データ信号線駆動回路が、上記構
成のバッファ回路を含んでおり、そのことにより、上記
目的が達成される。
【0040】
【作用】本発明においては、入力信号に対して出力信号
が線形関係となる線形回路を複数段接続してなり、該各
線形回路を、各々異なる電源電圧により駆動するよう構
成したから、トランジスタの耐圧を高くせずともバッフ
ァ回路の入出力特性の線形領域を拡大することができ
る。
【0041】本発明においては、NMOSトランジスタ
からなるNMOS線形回路と、PMOSトランジスタか
らなるPMOS線形回路とをシリアルに複数段接続し、
前記NMOS線形回路の段数nと、PMOS線形回路の
段m(n,mは正整数)とが、NMOS線形回路におけ
る電圧シフトVbnと、PMOS線形回路における電圧
シフトVbpとの間で、関係式n・Vbn+m・Vbp
=0で表される関係を満たすようにしたので、上記と同
様トランジスタの耐圧を高くせずともバッファ回路の入
出力特性の線形領域を拡大することができる。
【0042】この発明においては、NMOSトランジス
タからなるNMOS線形回路と、PMOSトランジスタ
からなるPMOS線形回路とをシリアルに複数段接続し
てなり、該線形回路を、デプレッション型トランジスタ
から構成したので、バッファ回路のオフセットをなくす
ことができる。特にNMOS、PMOSトランジスタの
閾値電圧の絶対値が大きい、もしくはこれらの差が大き
い場合に有効である。
【0043】この発明においては、データ信号線に映像
信号を書き込むデータ信号線駆動回路を、上記構成のバ
ッファ回路を含む構成としたので、画像表示装置の駆動
回路の線形動作領域を広げることができる。
【0044】
【実施例】
(実施例1)図1は本発明の一実施例によるバッファ回
路の構成を示す回路図である。図において、101は本
実施例のバッファ回路で、これは初段と次段の2段のソ
ースフォロワ型線形回路1及び2aから構成されてい
る。この初段の線形回路1は、NMOS線形回路で、第
1の高電位電源Vddと第1の低電位電源Vssとの間
に直列に接続された2個のNMOSトランジスタTr
1、Tr2を有する。ここで、第1のトランジスタTr
1のドレイン電極は第1の高電位側電源Vddに、ゲー
ト電極は入力端子Vinに、ソース電極は第2のトラン
ジスタTr2のドレイン電極に接続されている。第2の
トランジスタTr2のソース電極は第1の低電位側電源
Vssに接続され、そのゲート電極にはバイアス電圧V
BNが印加されるようになっている。
【0045】上記次段の線形回路2aはPMOS線形回
路で、上記NMOS線形回路とは異なる第2の高電位電
源Vdd’と第2の低電位電源Vss’との間に直列に
接続された2個のPMOSトランジスタTr3、Tr4
を有する。ここで、第3のトランジスタTr3のソース
電極は第2の高電位側電源Vdd’に、ドレイン電極は
第4のトランジスタTr4のソース電極に接続され、こ
れが出力端子Voutになっている。そしてトランジス
タTr3のゲート電極にはバイアス電圧VBPが印加さ
れるようになっている。また第4のトランジスタTr4
のゲート電極はは前段のトランジスタTr1、Tr2の
接続点に、ドレイン電極は第2の低電位電源Vss’に
接続されている。
【0046】ここで上記NMOSトランジスタTr1お
よびTr2、PMOSトランジスタTr3およびTr4
の素子特性はそれぞれ同一であるものとする。
【0047】次に作用効果について説明する。
【0048】動作原理としては、二段目の電源電圧を一
段目と別電源としたこと以外は、従来の技術で述べたと
おりである。
【0049】上記電源を用いた場合の該バッファ回路の
入出力特性を図2に示す。
【0050】同図において、曲線11はNMOS線形回
路の入出力特性を、曲線12はPMOS線形回路の入出
力特性を示す。該バッファ回路への入力信号をVinと
すると、曲線11における直線部分に対応した線分11
bが一段目NMOS線形回路の線形領域の出力範囲Vo
に相当し、次段へ出力される。次に一段目NMOS線形
回路の出力Vo(線分12a)が二段目PMOS線形回
路の入力信号となり、曲線12の直線部分に対応した線
分12bが二段目PMOS線形回路の線形領域の出力範
囲Voutとなる。
【0051】本実施例において、一段目NMOS線形回
路の線形出力範囲が二段目PMOS線形回路の線形入力
範囲から逸脱している部分が0になるような方向に二段
目線形回路の電源をシフトさせているために一段目の出
力Voの線形領域を有効にVoutとして出力すること
ができる。
【0052】また、最適なシフト量を図1を用いて説明
する。ゲート電圧をVG、ドレイン電圧をVD、NMO
Sトランジスタの閾値電圧をVthn、PMOSトラン
ジスタの閾値電圧をVthpとして、NMOSトランジ
スタの動作状態が飽和領域となる条件は、 VG≦VD+Vthn である。
【0053】PMOSトランジスタについては、 VG≧VD+Vthp である。
【0054】この条件を満たす領域が該回路の線形領域
となる。
【0055】NMOS構成段のTr1、Tr2について
上記条件を当てはめるとトランジスタTr1について
は、 Vin−Vo≦Vdd−Vo+Vthn …(4) トランジスタTr2については、 VBN−Vss≦Vo−Vss+Vthn すなわち、 VBN≦Vo+Vthn …(5) となる。ここで前述のようにNMOS線形回路の出力V
oは、 Vo=Vin−(VBN−Vss) …(6) である。
【0056】(4)、(5)、(6)式により、入力電
圧Vin、NMOS線形回路の出力電圧Voの線形領域
をそれぞれ求めると、入力電圧Vinは、 2VBN−Vthn−Vss≦Vin≦Vdd+Vth
n となり、これに対する出力電圧Voは、 VBN−Vthn≦Vo≦Vdd−VBN+Vthn+Vss …(7) となる。
【0057】上記範囲内であればNMOS線形回路の入
出力特性は線形となる。
【0058】同様にPMOS線形回路についても、トラ
ンジスタTr3については、 VBP−Vdd’≧Vout−Vdd’+Vthp VBP≧Vout+Vthp …(8) となる。
【0059】トランジスタTr4については、 Vo−Vout≧Vss’−Vout+Vthp Vo≧Vss’+Vthp …(9) となる。
【0060】ここで前述のようにPMOS線形回路の出
力Voutは、 Vout=Vo−(VBP−Vdd’) …(10) である。
【0061】(8)、(9)、(10)式より、PMO
S線形回路の入力電圧Vo、出力電圧Voutの線形領
域をそれぞれ求めると、入力電圧Voは、 Vthp+Vss’≦Vo≦2VBP−Vdd’−Vthp …(11) となり、出力電圧Voutは、 Vss’+Vthp−VBP+Vdd’≦Vout≦V
BP−Vthp となり、上記範囲内であればPMOS線形回路の入出力
特性は線形となる。
【0062】ここで、バッファ回路としての線形領域を
最大にするにはNMOS線形回路、及びPMOS線形回
路の線形領域を一致させればよく、(7)、(11)式
からLOW側の条件としては VBN−Vthn=Vthp+Vss’ Vss’=VBN−Vthn−Vthp …(12) である。
【0063】また図1より VBN=Vss+Vthn+α …(13) VBP=Vdd’+Vthn−α …(14) であるので、(13)式を(12)式に代入すると Vss’=Vss−Vthp+α …(15) となり、Vss’はVssに対し−Vthp+α(=V
dd’−VBP=−Vbp)だけシフトすればよい。
【0064】次にHIGH側の条件としては、 Vdd−VBN+Vthn+Vss=2VBP−Vdd’−Vthp Vdd’=2VBP−Vthp−Vdd+VBN−Vthn−Vss …(16) である。(16)式においても(13)、(14)式を
代入すると Vdd’=Vdd−Vthp+α …(17) となり、Vdd’もVddに対し−Vthp+α(=−
VBP)だけシフトすればよい。
【0065】即ち、一段目の電源に対して二段目の電源
を−Vthp+αだけシフトすることで線形領域の減少
を0とすることができる。
【0066】上記実施例では一段目線形回路をNMOS
で、二段目線形回路をPMOSで構成しているが、これ
に限らず、さらに多段の線形回路で構成してもよい。ま
たバッファ回路を構成する各段の線形回路は、NMO
S、PMOSをどのように組み合わせてもよい。
【0067】また、本発明では電源を多数使用すること
になるが、付加回路を用いることにより、電源数を減ら
すことも可能である。
【0068】(実施例2)このような構成のバッファ回
路を本発明の第2の実施例として図3に示す。駆動法を
単一電源で行う。
【0069】図において、102は本実施例のバッファ
回路で、このバッファ回路102は、図8の回路構成の
バッファ回路200において、NMOSトランジスタT
r5のゲート電極とドレイン電極とを短絡して電源Vd
dに接続し、そのソース電極を該バッファ回路200の
NMOS回路1の電源端子Aに接続し、PMOSトラン
ジスタTr6のゲート電極とドレイン電極とを短絡して
電源Vssに接続し、そのソース電極を該バッファ回路
200のPMOS回路2の電源端子Bに接続したもので
ある。これによりソース,ゲート間の電圧VGSと、ソ
ース,ドレイン電流IDSの関係は図4に示す特性とな
る。ただし、NMOSトランジスタTr5の閾値電圧を
Vthn、PMOSトランジスタTr6の閾値電圧をV
thpとする。同図は上記構成としたTr5における特
性であり、トランジスタTr6における特性は同図とは
逆の特性を示す。
【0070】以上のことから点Aの電位はVdd−Vt
hnとなり、一段目のソースフォロワ型線形回路の電源
電圧はVdd−VthnからVssまでの間で、同様に
二段目の該回路はVddからVss−Vthpまでの間
で動作させることが可能となる。
【0071】また、トランジスタTr5、Tr6のかわ
りに抵抗を挿入し、上記のように電源電圧の調整を行っ
てもよい。
【0072】(実施例3)また、図5の第3の実施例に
示すように電源Vdd,Vss間に例えば3つの抵抗R
1,R2,R3を直列に接続し、電源電圧の抵抗分割を
行い、電源Vdd、及びVssの他、図中のC点、D点
から各線形回路に異なった電源を供給してもよい。
【0073】上記説明はNMOSトランジスタで構成し
たNMOS線形回路、PMOSトランジスタ構成したP
MOS線形回路の各一段ずつで構成した場合であった
が、さらに多段で、あるいは同極性線形回路のみで該バ
ッファ回路を構成してもよい。また、線形回路の段数、
特性に応じ、図3におけるトランジスタTr5、Tr6
の数、若しくは抵抗の数、図5における抵抗分割の数を
増加させてもよい。
【0074】以上の説明では上記バッファ回路が液晶表
示装置におけるデータ信号線駆動回路の出力回路として
用いられた場合について述べたが、他にビデオ信号処理
回路等にも用いることができる。
【0075】(実施例4)図6は、本発明の第4の実施
例によるバッファ回路の構成を示す図であり、図におい
て、104は、ソースフォロワ型線形回路を複数段接続
してなる、本実施例のバッファ回路である。このバッフ
ァ回路102では、NMOS線形回路をn段、PMOS
線形回路をm段用いている。m、nは正整数である。該
バッファ回路において、各NMOSトランジスタのバイ
アス電圧を、ゲート−ソース間に電位差Vbnが発生す
るよう電圧VBNとし、PMOSトランジスタのバイア
ス電圧を、ゲート−ソース間に電位差Vbpが発生する
よう電圧VBPとする。
【0076】すると、従来技術で述べたようにNMOS
線形回路では、入力電圧に対して、Vbnだけシフトし
た電位が出力となり、PMOS線形回路では、入力電圧
に対して、Vbpだけシフトした電位が出力される。
【0077】よって同図において、出力電圧Vout
は、 Vout=Vin−m・Vbp−n・Vbn となる。
【0078】この実施例の回路構成において、m・Vb
p+n・Vbn=0となるように正の整数m、nを適当
な値に設定することでマージン電圧αを必要最小限に抑
え、広い線形性を維持しながらオフセットを0にするこ
とが可能となる。ここでm、nは比較的小さい数とする
ことが、現実的であるので、そのようにマージン電圧α
を調整(NMOS構成段とPMOS構成段で異なる値と
してもよい)することが望ましい。
【0079】また、この実施例のバッファ回路において
も実施例1で述べたように各線形回路を異なる電源で動
作させてもよい。
【0080】(実施例5)図7は、本発明の第5の実施
例によるバッファ回路の構成を示す図であり、図におい
て、105は、初段にNMOSソースフォロワ線形回路
1cを、次段にPMOSソースフォロワ線形回路2cを
用いて構成した、第5の実施例によるバッファ回路であ
る。この回路では、初段の線形回路を構成するNMOS
型トランジスタTr1’,Tr2’,及び次段の線形回
路を構成するPMOS型トランジスタTr3,Tr4’
は、全てデプレッション型トランジスタである。NMO
SトランジスタTr2’のゲート電極を低電位側電源V
ssに接続し、PMOSトランジスタTr3’のゲート
電極を高電位側電源Vddに接続している以外は従来の
バッファ回路200と同様であり、動作原理についても
同様である。
【0081】但し、全てデプレッション型トランジスタ
を用いて構成しているために、バイアス用トランジスタ
Tr2’、Tr3’のゲート−ソース間の電位差が0で
あっても該トランジスタの動作状態が飽和領域となり、
該回路の入出力特性が線形となる動作を行う。
【0082】即ち、同図においてはVbn=0、Vbp
=0となり、式(3)において Vin=Vout となり、オフセットのない理想的なバッファ回路が構成
できる。
【0083】無論、NMOS、PMOSソースフォロワ
型線形回路をさらに多くの段数を有する構成、あるいは
同一導電型の線形回路のみの構成としてもよい。
【0084】
【発明の効果】本発明によれば、トランジスタの耐圧を
高くせずともバッファ回路の入出力特性の線形領域を拡
大することができる。またバッファ回路のオフセットを
0とすることができる。特にNMOS、PMOSトラン
ジスタ閾値電圧の絶対値が大きい、もしくはこれらの差
が大きい場合に有効である。
【0085】更に、液晶表示装置のドライバモノリシッ
ク化のために用いられる多結晶シリコンTFTによって
バッファ回路を構成する際には、本発明により、上記T
FTの耐圧が低く閾値電圧が大きいという不具合を解消
して良好な線形特性を得ることができ、極めて効果的で
ある。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の第1の実施例によるバッファ回路の構
成を示す図である。
【図2】上記第1の実施例によるバッファ回路を構成す
る各線形回路の入出力特性を示す図である。
【図3】本発明の第2の実施例によるバッファ回路の構
成を示す図である。
【図4】第2の実施例のバッファ回路の特性を説明する
ための図である。
【図5】本発明の第3の実施例によるバッファ回路の構
成を説明する図である。
【図6】本発明の第4の実施例によるバッファ回路の構
成を示す図である。
【図7】本発明の第5の実施例によるバッファ回路の構
成を示す図である。
【図8】従来のバッファ回路の構成を示す図である。
【図9】従来のバッファ回路の入出力特性を示す図であ
る。
【符号の説明】
1,1c NMOS線形回路 2,2a,2c PMOS線形回路 101,102,104,105 バッファ回路 Vdd,Vdd’ 高電位電源 Vss,Vss’ 低電位電源 Tr1,Tr2 NMOSトランジスタ Tr3,Tr4 PMOSトランジスタ Tr1’,Tr2’ デプレッション型NMOSトラン
ジスタ Tr3’,Tr4’ デプレッション型PMOSトラン
ジスタ

Claims (8)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 入力信号に対して出力信号が線形関係と
    なる線形回路を複数段接続してなるバッファ回路であっ
    て、 該各線形回路は、各々異なる電源電圧により駆動するよ
    う構成されているバッファ回路。
  2. 【請求項2】 前記各線形回路に供給する電源電圧は、
    本バッファ回路の線形動作領域が最大となるようそれぞ
    れ所定の値に設定されている請求項1記載のバッファ回
    路。
  3. 【請求項3】 NMOSトランジスタからなるNMOS
    線形回路と、PMOSトランジスタからなるPMOS線
    形回路とをシリアルに複数段接続してなるバッファ回路
    であって、 前記NMOS線形回路の段数nと、PMOS線形回路の
    段m(n,mは正整数)とは、NMOS線形回路におけ
    る電圧シフトVbnと、PMOS線形回路における電圧
    シフトVbpとの間で、 関係式n・Vbn+m・Vbp=0で表される関係を満
    たすものであるバッファ回路。
  4. 【請求項4】 前記線形回路は、第1及び第2の電源間
    に直列に接続された2個の同一導電型のMOS型電界効
    果トランジスタから構成し、一方のトランジスタのゲー
    ト電極に入力信号を、他方のトランジスタのゲート電極
    に該トランジスタが飽和領域で動作するバイアス電圧を
    印加するようにしたソースフォロワ型線形回路である請
    求項1ないし3のいずれかに記載のバッファ回路。
  5. 【請求項5】 NMOSトランジスタからなるNMOS
    線形回路と、PMOSトランジスタからなるPMOS線
    形回路とをシリアルに複数段接続してなるバッファ回路
    であって、 該線形回路は、デプレッション型トランジスタから構成
    されているバッファ回路。
  6. 【請求項6】 前記線形回路は、絶縁基板上に形成され
    た単結晶シリコン薄膜、または多結晶シリコン薄膜を用
    いて形成したものである請求項1ないし5のいずれかに
    記載のバッファ回路。
  7. 【請求項7】 前記線形回路は、該線形回路の周辺回
    路、及びこれらの回路の出力により動作する能動素子、
    若しくは能動回路とともに、同一基板上に形成したもの
    である請求項1ないし6のいずれかに記載のバッファ回
    路。
  8. 【請求項8】 マトリクス状に配置された複数の表示画
    素を有するアクティブマトリクス型画像表示装置であっ
    て、 タイミング信号に同期してデータ信号線に映像信号を書
    き込むデータ信号線駆動回路を備え、 該データ信号線駆動回路は、請求項1ないし7のいずれ
    かに記載のバッファ回路を含むものである画像表示装
    置。
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