JPH08213715A - レーザ組立品およびその散乱光フィードバックの除去方法 - Google Patents
レーザ組立品およびその散乱光フィードバックの除去方法Info
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- JPH08213715A JPH08213715A JP7326272A JP32627295A JPH08213715A JP H08213715 A JPH08213715 A JP H08213715A JP 7326272 A JP7326272 A JP 7326272A JP 32627295 A JP32627295 A JP 32627295A JP H08213715 A JPH08213715 A JP H08213715A
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- H01S5/00—Semiconductor lasers
- H01S5/005—Optical components external to the laser cavity, specially adapted therefor, e.g. for homogenisation or merging of the beams or for manipulating laser pulses, e.g. pulse shaping
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- H01S5/00—Semiconductor lasers
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- H01S5/022—Mountings; Housings
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- H01S5/02257—Out-coupling of light using windows, e.g. specially adapted for back-reflecting light to a detector inside the housing
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 レーザパッケージにおける散乱光のフィード
バックを減少させる方法を提供する。 【解決手段】 光学表面上の粒子汚れや欠陥による散乱
光の、レーザへの戻りを減少させるためのシステムおよ
び方法が提供される。この戻りは、アナログ変調フォー
マットにおけるあらゆる温度下において不安定な歪みレ
ベルを引き起こす。戻りは、レーザパッケージの一体化
された領域から汚れを除去し、レーザへ到達する散乱光
の量を減少させることによって減少する。レーザパッケ
ージの一体化された全領域から汚れを除去するために、
改良された洗浄技術が使用される。レーザへ到達する散
乱光の量を減少させるために、レーザパッケージ設計に
おいてすべての光部品がアイソレータの後ろに配置され
る。
バックを減少させる方法を提供する。 【解決手段】 光学表面上の粒子汚れや欠陥による散乱
光の、レーザへの戻りを減少させるためのシステムおよ
び方法が提供される。この戻りは、アナログ変調フォー
マットにおけるあらゆる温度下において不安定な歪みレ
ベルを引き起こす。戻りは、レーザパッケージの一体化
された領域から汚れを除去し、レーザへ到達する散乱光
の量を減少させることによって減少する。レーザパッケ
ージの一体化された全領域から汚れを除去するために、
改良された洗浄技術が使用される。レーザへ到達する散
乱光の量を減少させるために、レーザパッケージ設計に
おいてすべての光部品がアイソレータの後ろに配置され
る。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、光通信システム、
特に、光信号源として変調半導体注入レーザを使用する
光伝送システムに関する。
特に、光信号源として変調半導体注入レーザを使用する
光伝送システムに関する。
【０００２】
【従来の技術】アナログまたはデジタル光通信システム
は半導体注入レーザを使用し、その光出力は、伝送され
る情報を表す変調信号に従ってレーザに注入する電流を
変化させることによって変調される（電流注入変調）。
出力は次に伝送ライン（一般には光ファイバ）によって
受信器へ伝送され、そこで変調信号が検出され、情報が
回復され、利用される。このようなシステムは、例えば
ケーブルＴＶ、衛星通信、およびレーダ通信等に使用さ
れる。
は半導体注入レーザを使用し、その光出力は、伝送され
る情報を表す変調信号に従ってレーザに注入する電流を
変化させることによって変調される（電流注入変調）。
出力は次に伝送ライン（一般には光ファイバ）によって
受信器へ伝送され、そこで変調信号が検出され、情報が
回復され、利用される。このようなシステムは、例えば
ケーブルＴＶ、衛星通信、およびレーダ通信等に使用さ
れる。
【０００３】このようなシステムを経済的に使用するた
めに、多くの異なる信号が同一の伝送ライン上に、同一
のレーザを用いて同時に伝送（多重化）される。このた
めに、レーザは一般に、複数のサブキャリヤ周波数によ
って変調され（周波数多重化）、サブキャリヤ自体が対
応する複数の信号によって振幅変調または周波数変調
（ＡＭまたはＦＭ）される。
めに、多くの異なる信号が同一の伝送ライン上に、同一
のレーザを用いて同時に伝送（多重化）される。このた
めに、レーザは一般に、複数のサブキャリヤ周波数によ
って変調され（周波数多重化）、サブキャリヤ自体が対
応する複数の信号によって振幅変調または周波数変調
（ＡＭまたはＦＭ）される。
【０００４】レーザはこれらの変調信号を光線の形で放
射し、光線は、受信器への伝送のための光ファイバへ入
射するように光線を集束させるために設計された一連の
光部品に入射する。しかし、しばしば光部品の表面が汚
れや欠陥を有し、それによって光線が部分的に散乱され
てレーザへ戻る。
射し、光線は、受信器への伝送のための光ファイバへ入
射するように光線を集束させるために設計された一連の
光部品に入射する。しかし、しばしば光部品の表面が汚
れや欠陥を有し、それによって光線が部分的に散乱され
てレーザへ戻る。
【０００５】光線のうち散乱してレーザへ戻る部分は、
レーザへのフィードバックとして機能する。フィードバ
ック位相によってレーザの出力パワーは真性のレベル
（すなわち、このようなフィードバックが無い場合の出
力パワー）とは異なる。しかしフィードバック位相は、
レーザの瞬時波長と、レーザと散乱を起こす光部品（こ
れより散乱源と称する）の間の往復光路長に依存する。
レーザへのフィードバックとして機能する。フィードバ
ック位相によってレーザの出力パワーは真性のレベル
（すなわち、このようなフィードバックが無い場合の出
力パワー）とは異なる。しかしフィードバック位相は、
レーザの瞬時波長と、レーザと散乱を起こす光部品（こ
れより散乱源と称する）の間の往復光路長に依存する。
【０００６】レーザの瞬時波長は瞬時注入電流に依存す
るため、フィードバック位相は注入電流とともに変調さ
れる。従って、フィードバックが存在する場合の変調電
流に関するレーザの光応答は、真性の応答とは異なる。
言い替えると、レーザの歪みレベルは、散乱源からのフ
ィードバックの存在によって変化する。
るため、フィードバック位相は注入電流とともに変調さ
れる。従って、フィードバックが存在する場合の変調電
流に関するレーザの光応答は、真性の応答とは異なる。
言い替えると、レーザの歪みレベルは、散乱源からのフ
ィードバックの存在によって変化する。
【０００７】さらに、レーザの電流変調から帰結するフ
ィードバックの位相変調は、（レーザパッケージそのも
のの内部にある表面のように）散乱源がレーザチップに
非常に近い場合は常に、ひとつの完結サイクルよりかな
り小さい傾向がある。フィードバックの位相は、一定ま
たは平均部分と、変調部分の二つの部分を含む。（変調
部分は注入電流の変調によって人為的に作られる。）
ィードバックの位相変調は、（レーザパッケージそのも
のの内部にある表面のように）散乱源がレーザチップに
非常に近い場合は常に、ひとつの完結サイクルよりかな
り小さい傾向がある。フィードバックの位相は、一定ま
たは平均部分と、変調部分の二つの部分を含む。（変調
部分は注入電流の変調によって人為的に作られる。）
【０００８】一定または平均位相は、レーザの平均波長
と、レーザチップと散乱源の間の光路長に依存する。フ
ィードバック位相のＤＣ部分が安定である場合、パッケ
ージから発信される光信号の全歪みレベルもまた、（真
性のレベルとは異なるが、）安定である。しかし、フィ
ードバックのＤＣ位相が変化する場合、パッケージ内の
全歪みレベルも不安定となる。
と、レーザチップと散乱源の間の光路長に依存する。フ
ィードバック位相のＤＣ部分が安定である場合、パッケ
ージから発信される光信号の全歪みレベルもまた、（真
性のレベルとは異なるが、）安定である。しかし、フィ
ードバックのＤＣ位相が変化する場合、パッケージ内の
全歪みレベルも不安定となる。
【０００９】レーザの平均波長がＤＣバイアス電流とレ
ーザチップの温度の両方に依存するため、フィードバッ
クが存在する場合のパッケージの歪みレベルは、レーザ
チップ温度とバイアスレベルに関して不安定となる。ま
た、パッケージの機械的な大きさが変化すると光路長も
変化するため、歪みレベルは、パッケージの機械的変化
や熱応力に応じて変化する。
ーザチップの温度の両方に依存するため、フィードバッ
クが存在する場合のパッケージの歪みレベルは、レーザ
チップ温度とバイアスレベルに関して不安定となる。ま
た、パッケージの機械的な大きさが変化すると光路長も
変化するため、歪みレベルは、パッケージの機械的変化
や熱応力に応じて変化する。
【００１０】
【発明が解決しようとする課題】従って、レーザへの散
乱光フィードバックの量を減少させるためのシステムお
よび方法が必要とされている。
乱光フィードバックの量を減少させるためのシステムお
よび方法が必要とされている。
【００１１】
【課題を解決するための手段】本発明は、光学表面上の
粒子の汚れや欠陥による散乱光のレーザへのフィードバ
ックを低レベルに削減するためのシステムの提供を目的
とする。このフィードバックは、アナログ変調フォーマ
ットの温度における不安定な歪みに帰結する。本発明に
よると、よごれによって引き起こされるフィードバック
による不安定な歪みレベルを減少させるために、二つの
ステップが用いられる。
粒子の汚れや欠陥による散乱光のレーザへのフィードバ
ックを低レベルに削減するためのシステムの提供を目的
とする。このフィードバックは、アナログ変調フォーマ
ットの温度における不安定な歪みに帰結する。本発明に
よると、よごれによって引き起こされるフィードバック
による不安定な歪みレベルを減少させるために、二つの
ステップが用いられる。
【００１２】第一のステップは、レーザパッケージに一
体化された全領域から汚れを除去するステップであ
る。。これは改良された洗浄技術によって達成される。
第二のステップは、散乱によって発生するフィードバッ
クの量を減少させるステップである。これは、レーザパ
ッケージ設計において、全光部品をアイソレータの後方
（すなわち光路においてレーザより下流）に配置するこ
とによって達成される。
体化された全領域から汚れを除去するステップであ
る。。これは改良された洗浄技術によって達成される。
第二のステップは、散乱によって発生するフィードバッ
クの量を減少させるステップである。これは、レーザパ
ッケージ設計において、全光部品をアイソレータの後方
（すなわち光路においてレーザより下流）に配置するこ
とによって達成される。
【００１３】
【発明の実施の形態】図１の配置１００において、レー
ザ１０４は変調光線１１６を放射し、光線１１６は従来
技術のアナログ振幅または周波数変調信号に従って変調
される。本実施例において、レーザ１０４はＩｎＧａＡ
ｓＰ半導体注入レーザである。本発明によると、変調光
線１１６はレンズ１０６を通過し、平行光線１１８とな
って現れる。平行光線１１８はウィンドウ１０８を通過
し、レーザパッケージ１０２から出る。
ザ１０４は変調光線１１６を放射し、光線１１６は従来
技術のアナログ振幅または周波数変調信号に従って変調
される。本実施例において、レーザ１０４はＩｎＧａＡ
ｓＰ半導体注入レーザである。本発明によると、変調光
線１１６はレンズ１０６を通過し、平行光線１１８とな
って現れる。平行光線１１８はウィンドウ１０８を通過
し、レーザパッケージ１０２から出る。
【００１４】説明の都合上、光部品の相対的配置を示す
語を定義する必要がある。「後方に」、「前方に」、
「前に」、「後に」のような語はレーザ１０４を見る視
線における相対位置である。従って図１において、ウィ
ンドウ１０８はレンズ１０６の後方、または後ろに位置
する。同様にウィンドウ１０８はアイソレータ１１０の
前方に、または前にある。
語を定義する必要がある。「後方に」、「前方に」、
「前に」、「後に」のような語はレーザ１０４を見る視
線における相対位置である。従って図１において、ウィ
ンドウ１０８はレンズ１０６の後方、または後ろに位置
する。同様にウィンドウ１０８はアイソレータ１１０の
前方に、または前にある。
【００１５】また「内側に」および「外側に」という語
は、ウィンドウ１０８によって形成されるレーザパッケ
ージ１０２の境界線に関する表現である。レーザパッケ
ージ１０２の内側とは、レーザ１０４とウィンドウ１０
８によって挟まれる領域内を示す。「外側」とはウィン
ドウ１０８の後ろの領域を示す。従って図１において、
レーザ１０４、レンズ１０６およびウィンドウ１０８は
レーザパッケージ１０２の内側にあり、一方アイソレー
タ１１０、レンズ１１２および光ファイバ１１４はレー
ザパッケージ１０２の外側にある。以下、この表現を引
用する。
は、ウィンドウ１０８によって形成されるレーザパッケ
ージ１０２の境界線に関する表現である。レーザパッケ
ージ１０２の内側とは、レーザ１０４とウィンドウ１０
８によって挟まれる領域内を示す。「外側」とはウィン
ドウ１０８の後ろの領域を示す。従って図１において、
レーザ１０４、レンズ１０６およびウィンドウ１０８は
レーザパッケージ１０２の内側にあり、一方アイソレー
タ１１０、レンズ１１２および光ファイバ１１４はレー
ザパッケージ１０２の外側にある。以下、この表現を引
用する。
【００１６】配置１００内のレーザパッケージ１０２の
外側にある第一の光部品はアイソレータ１１０である。
アイソレータ１１０は、光を一方の方向にのみ通過さ
せ、逆方向には通過させない素子である。従って、アイ
ソレータ１１０は、光路内のアイソレータより後方から
の反射光または散乱光等がレーザパッケージ１０２へ再
入射するのを防ぐ。
外側にある第一の光部品はアイソレータ１１０である。
アイソレータ１１０は、光を一方の方向にのみ通過さ
せ、逆方向には通過させない素子である。従って、アイ
ソレータ１１０は、光路内のアイソレータより後方から
の反射光または散乱光等がレーザパッケージ１０２へ再
入射するのを防ぐ。
【００１７】レンズ１１２は平行光線１１８を集めて、
光ファイバ１１４に集束させる。光ファイバ１１４は光
信号を他の通信素子（図示されていない）に伝送する。
当業者には、光通信システムにおいてレンズ１１２が任
意の素子であることが認められる。例えば、レンズ１０
６が変調光線１１６を平行化するためにではなく、直接
光線１１６を光ファイバ１１４に集束させるように設計
されることも可能である。この場合においても変調光線
１１６は、光ファイバに入射するまでの光路上でウィン
ドウ１０８とアイソレータ１１０を通過する。
光ファイバ１１４に集束させる。光ファイバ１１４は光
信号を他の通信素子（図示されていない）に伝送する。
当業者には、光通信システムにおいてレンズ１１２が任
意の素子であることが認められる。例えば、レンズ１０
６が変調光線１１６を平行化するためにではなく、直接
光線１１６を光ファイバ１１４に集束させるように設計
されることも可能である。この場合においても変調光線
１１６は、光ファイバに入射するまでの光路上でウィン
ドウ１０８とアイソレータ１１０を通過する。
【００１８】図２の配置は、アイソレータ１１０がレー
ザパッケージ２０２の内部に設置され、レンズ１０６の
後方かつウィンドウ１０８の前方に配置されている点に
おいて図１の配置と異なる。機能的には、配置１００と
２００は同じである。
ザパッケージ２０２の内部に設置され、レンズ１０６の
後方かつウィンドウ１０８の前方に配置されている点に
おいて図１の配置と異なる。機能的には、配置１００と
２００は同じである。
【００１９】前述したように、配置１００および２００
はレーザ１０４にフィードバックする光を受け易く、こ
れはレーザ１０４によって生成される変調光線１１６内
の不安定な歪みレベルを引き起こす。このフィードバッ
クは、レンズ１０６とウィンドウ１０８の表面や内部、
およびアイソレータ１１０の表面上の汚れや欠陥が原因
となる。
はレーザ１０４にフィードバックする光を受け易く、こ
れはレーザ１０４によって生成される変調光線１１６内
の不安定な歪みレベルを引き起こす。このフィードバッ
クは、レンズ１０６とウィンドウ１０８の表面や内部、
およびアイソレータ１１０の表面上の汚れや欠陥が原因
となる。
【００２０】直径５０ミクロンほどの小さい粒子汚れ
（例えばほこり）は、検出可能なレベルの歪み不安定性
の原因となり得る。従って、表面あたりの散乱汚れの数
を減らすことによって歪み安定性を改善するためには、
アイソレータ１１０の前の光部品が清潔であることが重
要である。さらに、アイソレータ１１０の前の光部品数
を減少させることによって、レーザ１０４へ光を散乱さ
せ得る表面の数が減少し、歪み不安定性を削減すること
ができる。
（例えばほこり）は、検出可能なレベルの歪み不安定性
の原因となり得る。従って、表面あたりの散乱汚れの数
を減らすことによって歪み安定性を改善するためには、
アイソレータ１１０の前の光部品が清潔であることが重
要である。さらに、アイソレータ１１０の前の光部品数
を減少させることによって、レーザ１０４へ光を散乱さ
せ得る表面の数が減少し、歪み不安定性を削減すること
ができる。
【００２１】一般に、レーザパッケージはクリーンルー
ム内で清潔な部品によって組み立てられ、密封される。
しかし、このようなレーザパッケージはなお、変調レー
ザ信号の歪みレベルにおけるかなりの不安定性の原因と
なる、表面の汚れた光部品を含む。汚れによる散乱に起
因する歪み不安定性を削減するための、本実施例におけ
るひとつの方法は、レーザパッケージ３０２内部の光部
品を、改良された洗浄技術を使用して洗浄することであ
る。この改良技術は、光部品の表面上の汚れの数を著し
く減少させる。
ム内で清潔な部品によって組み立てられ、密封される。
しかし、このようなレーザパッケージはなお、変調レー
ザ信号の歪みレベルにおけるかなりの不安定性の原因と
なる、表面の汚れた光部品を含む。汚れによる散乱に起
因する歪み不安定性を削減するための、本実施例におけ
るひとつの方法は、レーザパッケージ３０２内部の光部
品を、改良された洗浄技術を使用して洗浄することであ
る。この改良技術は、光部品の表面上の汚れの数を著し
く減少させる。
【００２２】図４の流れ図のステップ４０２において、
光部品表面は温蒸留水の噴流によって洗浄される。本実
施例においては、冷蒸留水や他の一般的な溶剤より、温
蒸留水を使用する方が良い結果が得られる。さらに、噴
流水の方が水浴より良い結果が得られる。
光部品表面は温蒸留水の噴流によって洗浄される。本実
施例においては、冷蒸留水や他の一般的な溶剤より、温
蒸留水を使用する方が良い結果が得られる。さらに、噴
流水の方が水浴より良い結果が得られる。
【００２３】次にステップ４０４において、表面を綿棒
でこすり洗いする。本実施例においては、連続して温蒸
留水の噴流に曝しながらこすると最も良い結果が得られ
る。ステップ４０６では、温蒸留水の噴流で再度洗浄
し、残留するすべての汚れを除去する。最後にステップ
４０８において、表面はフィルタを通した空気流によっ
て乾燥される。
でこすり洗いする。本実施例においては、連続して温蒸
留水の噴流に曝しながらこすると最も良い結果が得られ
る。ステップ４０６では、温蒸留水の噴流で再度洗浄
し、残留するすべての汚れを除去する。最後にステップ
４０８において、表面はフィルタを通した空気流によっ
て乾燥される。
【００２４】汚れによる散乱に起因する歪み不安定性を
減少させるための本実施例の第二のステップは、図３に
示されるように、すべての光部品をレーザパッケージ３
０２内部のアイソレータ１１０の後ろに配置することで
ある。レーザ１０４は、アナログ振幅または周波数変調
信号によって変調される変調光線１１６を放射する。こ
の実施例において、光線１１６はアイソレータ１１０を
直ちに通過する。従って配置３００においては、光を散
乱させてレーザ１０４へ戻す汚れを含む可能性があるの
は、アイソレータ１１０の表面のみである。
減少させるための本実施例の第二のステップは、図３に
示されるように、すべての光部品をレーザパッケージ３
０２内部のアイソレータ１１０の後ろに配置することで
ある。レーザ１０４は、アナログ振幅または周波数変調
信号によって変調される変調光線１１６を放射する。こ
の実施例において、光線１１６はアイソレータ１１０を
直ちに通過する。従って配置３００においては、光を散
乱させてレーザ１０４へ戻す汚れを含む可能性があるの
は、アイソレータ１１０の表面のみである。
【００２５】一般にアイソレータは３つ以上の構成部分
から成り、少なくとも６つの、光を散乱しレーザへ戻す
表面を有する。ファラデー回転子の前のこのような表面
のみが光を散乱させ、レーザへ戻す。一般に、ひとつの
アイソレータは光を散乱させレーザへ戻し得るこのよう
な表面を３つ有する。従って、配置２００はレーザ１０
４へ散乱光を戻す表面を全部で５つ有する。このうち２
つはレンズ１０６、残りの３つはアイソレータ１１０の
表面である。
から成り、少なくとも６つの、光を散乱しレーザへ戻す
表面を有する。ファラデー回転子の前のこのような表面
のみが光を散乱させ、レーザへ戻す。一般に、ひとつの
アイソレータは光を散乱させレーザへ戻し得るこのよう
な表面を３つ有する。従って、配置２００はレーザ１０
４へ散乱光を戻す表面を全部で５つ有する。このうち２
つはレンズ１０６、残りの３つはアイソレータ１１０の
表面である。
【００２６】配置１００はレーザ１０４へ散乱光を戻す
表面を全部で７つ有する。このうち２つはレンズ１０
６、２つはウィンドウ１０８、残りの３つはアイソレー
タ１１０の表面である。これに対して配置３００は、光
を散乱させ、レーザ１０４へ戻す表面は３つのみであ
る。
表面を全部で７つ有する。このうち２つはレンズ１０
６、２つはウィンドウ１０８、残りの３つはアイソレー
タ１１０の表面である。これに対して配置３００は、光
を散乱させ、レーザ１０４へ戻す表面は３つのみであ
る。
【００２７】アイソレータ１１０を通過した後、変調光
線１１６はレンズ３０４を通過する。図１と図３を比較
すると、レンズ３０４はアイソレータ１１０によって生
じるあらゆる球面収差を補正するという点において、レ
ンズ１０６とは異なっている。光学システムにおいてレ
ンズ１０６をアイソレータ１１０の前に配置する第一の
理由は、光信号内に球面収差が導入されることを防ぐた
めである。
線１１６はレンズ３０４を通過する。図１と図３を比較
すると、レンズ３０４はアイソレータ１１０によって生
じるあらゆる球面収差を補正するという点において、レ
ンズ１０６とは異なっている。光学システムにおいてレ
ンズ１０６をアイソレータ１１０の前に配置する第一の
理由は、光信号内に球面収差が導入されることを防ぐた
めである。
【００２８】図１のようにレンズ１０６がレーザ１０４
に接近して配置される場合、多くの光が、焦点がおおよ
そ均一であるレンズ１０６の中心を通過するため、球面
収差は著しく減少する。これに対して、アイソレータ１
１０の後ろに配置されたレンズ１０６（図示されていな
い）は、焦点が変動する傾向があるレンズの端部を含む
全領域を通して光を集める。この焦点の変動が球面収差
として知られる効果をもたらす。
に接近して配置される場合、多くの光が、焦点がおおよ
そ均一であるレンズ１０６の中心を通過するため、球面
収差は著しく減少する。これに対して、アイソレータ１
１０の後ろに配置されたレンズ１０６（図示されていな
い）は、焦点が変動する傾向があるレンズの端部を含む
全領域を通して光を集める。この焦点の変動が球面収差
として知られる効果をもたらす。
【００２９】本実施例においては、レーザ１０４へ戻る
散乱光を実質的に減少させるため、アイソレータ１１０
がレーザ１０４の直後に配置される。従って本実施例に
おいては、アイソレータ１１０の後ろに球面収差効果を
除去するための補正レンズ３０４を配置する。しかし他
の実施例では、レンズ３０４の位置にレンズ１０６のよ
うな他のレンズを使用して球面収差の問題には他様に対
処するか、または何も行わない。
散乱光を実質的に減少させるため、アイソレータ１１０
がレーザ１０４の直後に配置される。従って本実施例に
おいては、アイソレータ１１０の後ろに球面収差効果を
除去するための補正レンズ３０４を配置する。しかし他
の実施例では、レンズ３０４の位置にレンズ１０６のよ
うな他のレンズを使用して球面収差の問題には他様に対
処するか、または何も行わない。
【００３０】図３において、変調光線１１６はレンズ３
０４を通り平行光線３０８として出てくる。平行光線３
０８はウィンドウ１０８を通過し、レーザパッケージ３
０２から出る。レンズ３０６は平行光線３０８を集め、
これらを伝送するために光ファイバ１１４に集束させ
る。平行光線３０８はアイソレータ１１０（または他の
あらゆる光部品）によって生じる球面収差効果を含むた
め、レンズ３０６は、球面収差の補正にも使用される。
０４を通り平行光線３０８として出てくる。平行光線３
０８はウィンドウ１０８を通過し、レーザパッケージ３
０２から出る。レンズ３０６は平行光線３０８を集め、
これらを伝送するために光ファイバ１１４に集束させ
る。平行光線３０８はアイソレータ１１０（または他の
あらゆる光部品）によって生じる球面収差効果を含むた
め、レンズ３０６は、球面収差の補正にも使用される。
【００３１】このように一実施例においては、レンズ３
０６は、平行光線３０８を光ファイバ１１４上に集束さ
せる機能に加え、球面収差を補正する機能も行う。他の
実施例において、レンズ３０６は平行光線３０８を光フ
ァイバ１１４上に集束させるためにのみ使用される。さ
らに他の実施例において、レンズ１１２に関して前述し
たように、レンズ３０６は任意の部品であり、除去可能
である。
０６は、平行光線３０８を光ファイバ１１４上に集束さ
せる機能に加え、球面収差を補正する機能も行う。他の
実施例において、レンズ３０６は平行光線３０８を光フ
ァイバ１１４上に集束させるためにのみ使用される。さ
らに他の実施例において、レンズ１１２に関して前述し
たように、レンズ３０６は任意の部品であり、除去可能
である。
【００３２】
【発明の効果】以上説明したように本発明によれば、レ
ーザパッケージ内の光部品を洗浄するための改良技術、
およびアイソレータをレーザの直後に配置したレーザパ
ッケージ内の光部品配置によって、散乱光のレーザへの
戻りを著しく減少させることが可能である。
ーザパッケージ内の光部品を洗浄するための改良技術、
およびアイソレータをレーザの直後に配置したレーザパ
ッケージ内の光部品配置によって、散乱光のレーザへの
戻りを著しく減少させることが可能である。
【図１】アイソレータをレーザパッケージの外部に設置
した、光通信システムにおいて使用される光部品配置図
である。
した、光通信システムにおいて使用される光部品配置図
である。
【図２】アイソレータをレーザパッケージの内部に設置
した、光通信システムにおいて使用される光部品配置図
である。
した、光通信システムにおいて使用される光部品配置図
である。
【図３】汚れによる散乱に起因する不安定な歪みレベル
を減少させるために設計された、光部品配置図である。
を減少させるために設計された、光部品配置図である。
【図４】本発明における光部品を洗浄するための方法を
示す流れ図である。
示す流れ図である。
１００ 光部品配置 １０２ レーザパッケージ １０４ レーザ １０６ レンズ １０８ ウィンドウ １１０ アイソレータ １１２ レンズ １１４ 光ファイバ １１６ 変調光線 １１８ 平行光線 ２００ 光部品配置 ２０２ レーザパッケージ ３００ 光部品配置 ３０２ レーザパッケージ ３０４ 補正レンズ ３０６ レンズ ３０８ 平行光線
Claims (6)
- 【請求項１】 （ａ）レーザと、 （ｂ）前記レーザに隣接して、その光路内に配置された
レンズと、 （ｃ）前記レーザと前記レンズの間に配置された光アイ
ソレータと、 （ｄ）前記レーザ、前記レンズおよび前記アイソレータ
を包含するハウジングとを含み、前記ハウジングが前記
光路内にウィンドウを有することを特徴とするレーザ組
立品。 - 【請求項２】 前記レーザが変調半導体注入レーザであ
ることを特徴とする、請求項１記載のレーザ組立品。 - 【請求項３】 前記半導体注入レーザがＩｎＧａＡｓＰ
レーザであることを特徴とする、請求項２記載のレーザ
組立品。 - 【請求項４】 前記レーザと前記レンズの間の前記光路
内に光アイソレータを配置することを特徴とする、レー
ザ、レンズ、およびウィンドウを有し前記レーザと前記
レンズを包含するハウジングから成るレーザ組立品内の
散乱光のフィードバックを減少させる方法。 - 【請求項５】 さらに、前記レンズ、前記アイソレータ
および前記ウィンドウを洗浄するステップを含むことを
特徴とする、請求項４記載の方法。 - 【請求項６】 前記洗浄が、 前記レンズ、前記アイソレータおよび前記ウィンドウ
を、温蒸留水の噴流に曝すステップと、 前記レンズ、前記アイソレータおよび前記ウィンドウを
綿棒でこするステップと、 前記レンズ、前記アイソレータおよび前記ウィンドウ
を、再度温蒸留水の噴流に曝すステップと、 前記レンズ、前記アイソレータおよび前記ウィンドウを
フィルタを通した空気流によって乾燥させるステップを
含むことを特徴とする、請求項５記載の方法。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| US344446 | 1982-02-01 | ||
| US34444694A | 1994-11-23 | 1994-11-23 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH08213715A true JPH08213715A (ja) | 1996-08-20 |
Family
ID=23350588
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP7326272A Pending JPH08213715A (ja) | 1994-11-23 | 1995-11-22 | レーザ組立品およびその散乱光フィードバックの除去方法 |
Country Status (2)
| Country | Link |
|---|---|
| EP (1) | EP0714157A3 (ja) |
| JP (1) | JPH08213715A (ja) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6480272B1 (en) * | 2001-09-06 | 2002-11-12 | Raytheon Company | System and method for in-situ particle contamination measurement using shadowgrams |
Family Cites Families (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4686678A (en) * | 1984-03-27 | 1987-08-11 | Nec Corporation | Semiconductor laser apparatus with isolator |
| JPH077156B2 (ja) * | 1985-09-12 | 1995-01-30 | 日本電気株式会社 | 光アイソレ−タ |
| JPS62298195A (ja) * | 1986-06-18 | 1987-12-25 | Mitsubishi Electric Corp | レ−ザダイオ−ド |
| JP2574858B2 (ja) * | 1988-03-14 | 1997-01-22 | 株式会社日立製作所 | 光アイソレータ付半導体レーザ |
-
1995
- 1995-11-14 EP EP95308162A patent/EP0714157A3/en not_active Withdrawn
- 1995-11-22 JP JP7326272A patent/JPH08213715A/ja active Pending
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| EP0714157A2 (en) | 1996-05-29 |
| EP0714157A3 (en) | 1996-08-21 |
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