JPH08211312A - ラスタ走査装置における光線の方向を調整する装置 - Google Patents
ラスタ走査装置における光線の方向を調整する装置Info
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- JPH08211312A JPH08211312A JP7268364A JP26836495A JPH08211312A JP H08211312 A JPH08211312 A JP H08211312A JP 7268364 A JP7268364 A JP 7268364A JP 26836495 A JP26836495 A JP 26836495A JP H08211312 A JPH08211312 A JP H08211312A
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 光線を走査する装置において、走査線の湾曲
を修正する。 【解決手段】 ラスタ走査装置（ポリゴンミラー）５６
は第一光線１０３と第二光線１０５を受光部材３８上に
照射する。走査装置５６は、第一および第二光線１０
３、１０５を受光部材３８へ反射する少なくとも１つの
面を備える。透光板（ガラスプレート）７０が、第一光
発生装置９０と走査装置５６の間の第一光線１０３の光
路に設けられる。透光板７０を、第一光線１０３のサジ
タル方向およびタンジェンシャル方向へ所望の量だけ調
節し、第一および第二光線１０３、１０５が、お互いに
接近し、サジタル方向およびタンジェンシャル方向の両
方に平行な位置から反射するようにする。
を修正する。 【解決手段】 ラスタ走査装置（ポリゴンミラー）５６
は第一光線１０３と第二光線１０５を受光部材３８上に
照射する。走査装置５６は、第一および第二光線１０
３、１０５を受光部材３８へ反射する少なくとも１つの
面を備える。透光板（ガラスプレート）７０が、第一光
発生装置９０と走査装置５６の間の第一光線１０３の光
路に設けられる。透光板７０を、第一光線１０３のサジ
タル方向およびタンジェンシャル方向へ所望の量だけ調
節し、第一および第二光線１０３、１０５が、お互いに
接近し、サジタル方向およびタンジェンシャル方向の両
方に平行な位置から反射するようにする。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、一般に、ラスタ走
査装置における光線（光ビーム）の方向(orientation)
を調整する装置に関するものであり、特に湾曲差を修正
するために光線のサジタルおよびタンジェンシャル方向
の光線方向を調整する装置に関するものである。
査装置における光線（光ビーム）の方向(orientation)
を調整する装置に関するものであり、特に湾曲差を修正
するために光線のサジタルおよびタンジェンシャル方向
の光線方向を調整する装置に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】フライングスポット走査器（ラスタ出力
走査器または「ＲＯＳ（ラスターアウトプットスキャナ
ー）」と呼ばれることがある）は、従来、中心軸の周り
に回転する多面多角形反射（ポリゴン）ミラーを有し、
その回転により複数の強度変調された光線を、線走査方
向（タンジェンシャル（接線）方向に沿った高速走査方
向、又はタンジェンシャル方向の主走査方向ともよばれ
る）へ感光記録媒体上を横切らせて繰り返しスイープ
（走査）させる一方、光線がラスタ走査パターンに従っ
て記録媒体を走査できるように、記録媒体を直角または
「処理」方向（サジタル方向の低速走査方向とも呼ばれ
る）に送るようにするものである。デジタル印刷は、個
々の光線を２進数字サンプル列に応じて連続的に強度変
調させ、サンプルによって表される画像を走査中に記録
媒体に露出するようにして実行される。複数の光線を同
時にスイープさせるプリンタは、マルチビームプリンタ
と呼ばれている。ＲＯＳおよびマルチビームプリンタ技
術は両方とも、北村によって米国特許第４，４７４，４
２２号（１９９４年１０月２日付与）に説明されてお
り、同特許の内容が引用により開示されるものとする。
走査器または「ＲＯＳ（ラスターアウトプットスキャナ
ー）」と呼ばれることがある）は、従来、中心軸の周り
に回転する多面多角形反射（ポリゴン）ミラーを有し、
その回転により複数の強度変調された光線を、線走査方
向（タンジェンシャル（接線）方向に沿った高速走査方
向、又はタンジェンシャル方向の主走査方向ともよばれ
る）へ感光記録媒体上を横切らせて繰り返しスイープ
（走査）させる一方、光線がラスタ走査パターンに従っ
て記録媒体を走査できるように、記録媒体を直角または
「処理」方向（サジタル方向の低速走査方向とも呼ばれ
る）に送るようにするものである。デジタル印刷は、個
々の光線を２進数字サンプル列に応じて連続的に強度変
調させ、サンプルによって表される画像を走査中に記録
媒体に露出するようにして実行される。複数の光線を同
時にスイープさせるプリンタは、マルチビームプリンタ
と呼ばれている。ＲＯＳおよびマルチビームプリンタ技
術は両方とも、北村によって米国特許第４，４７４，４
２２号（１９９４年１０月２日付与）に説明されてお
り、同特許の内容が引用により開示されるものとする。
【０００３】高速処理カラーおよびマルチハイライトカ
ラーゼログラフィック画像出力端末器には、個別にアド
レスできる複数のラスタ線を同時に別々の場所で印刷す
る能力が要求される。これはマルチステーション印刷と
呼ばれている。従来のマルチステーション処理カラープ
リンタは、別々のＲＯＳを複数台、通常は独立したＲＯ
Ｓを４台使用している。この例としては村山他によって
米国特許第４，８４７，６４２号（１９８９年７月１１
日付与）および第４，９０３，０６７号（１９９０年２
月２０日付与）に説明されたものがあり、同特許が引用
により開示されるものとする。
ラーゼログラフィック画像出力端末器には、個別にアド
レスできる複数のラスタ線を同時に別々の場所で印刷す
る能力が要求される。これはマルチステーション印刷と
呼ばれている。従来のマルチステーション処理カラープ
リンタは、別々のＲＯＳを複数台、通常は独立したＲＯ
Ｓを４台使用している。この例としては村山他によって
米国特許第４，８４７，６４２号（１９８９年７月１１
日付与）および第４，９０３，０６７号（１９９０年２
月２０日付与）に説明されたものがあり、同特許が引用
により開示されるものとする。
【０００４】上記の装置の共通する問題は、複数のＲＯ
Ｓにかかる経費が高いことである。すなわち、複数のほ
ぼ同一のＲＯＳの製造費用が高いこと、およびシステム
カラーの正確な重ね合わせの困難さである。
Ｓにかかる経費が高いことである。すなわち、複数のほ
ぼ同一のＲＯＳの製造費用が高いこと、およびシステム
カラーの正確な重ね合わせの困難さである。
【０００５】米国特許第５，２４３，３５９号（１９９
３年９月７日付与）でティボア・フィスリ（Tibor Fis
li）は、マルチステーションプリンタ内で、複数のレー
ザービームを偏向できるＲＯＳ装置を開示している。以
後同特許の内容が引用により開示されるものとする。図
１は、フィスリのマルチステーションプリンタ１０の一
実施例を図示している。図示の便宜上、本願の図１にあ
る構成の番号は、フィスリ特許にある構成の番号とは異
なる。回転式多角形ミラー１２が、波長が異なり、それ
ぞれの最大発散角が互いに平行で、群をなす複数のレー
ザービームを同時に偏向する。次に、レーザービームが
複数の光学フィルター１６、１８、および２０により分
離され、それぞれが対応する各受光器２２、２４、２６
および２８に導かれている。各ビーム用に等しい光路の
長さを設立することにより、各受光器２２、２４、２６
および２８上に同様な面積を有するスポットが得られ
る。フィスリの米国特許第５，２４３，３５９号では、
レーザーダイオードが低速走査方向に（すなわちサジタ
ル方向にオフセット）配列されている。レーザーダイオ
ードは、スポットサイズ、エネルギーの均等化、湾曲、
線形性等の光線特性の誤差を最小にするため、多角形ミ
ラーの回転軸に平行な方向に密集して配置される。すな
わち、光線ができるだけ多角形ミラー上の同一箇所に照
射されるよう、レーザーダイオードをできるだけ密集し
て配置する。
３年９月７日付与）でティボア・フィスリ（Tibor Fis
li）は、マルチステーションプリンタ内で、複数のレー
ザービームを偏向できるＲＯＳ装置を開示している。以
後同特許の内容が引用により開示されるものとする。図
１は、フィスリのマルチステーションプリンタ１０の一
実施例を図示している。図示の便宜上、本願の図１にあ
る構成の番号は、フィスリ特許にある構成の番号とは異
なる。回転式多角形ミラー１２が、波長が異なり、それ
ぞれの最大発散角が互いに平行で、群をなす複数のレー
ザービームを同時に偏向する。次に、レーザービームが
複数の光学フィルター１６、１８、および２０により分
離され、それぞれが対応する各受光器２２、２４、２６
および２８に導かれている。各ビーム用に等しい光路の
長さを設立することにより、各受光器２２、２４、２６
および２８上に同様な面積を有するスポットが得られ
る。フィスリの米国特許第５，２４３，３５９号では、
レーザーダイオードが低速走査方向に（すなわちサジタ
ル方向にオフセット）配列されている。レーザーダイオ
ードは、スポットサイズ、エネルギーの均等化、湾曲、
線形性等の光線特性の誤差を最小にするため、多角形ミ
ラーの回転軸に平行な方向に密集して配置される。すな
わち、光線ができるだけ多角形ミラー上の同一箇所に照
射されるよう、レーザーダイオードをできるだけ密集し
て配置する。
【０００６】特願平５−１５３５３０号では、フィスリ
の米国特許第５，２４３，３５９号のダイオード配置上
の制限を除くため、レーザービームが高速走査方向（す
なわち水平線方向に分離される）にオフセットされるＲ
ＯＳ装置が開示されている。以後同特許の内容が引用に
より開示されるものとする。
の米国特許第５，２４３，３５９号のダイオード配置上
の制限を除くため、レーザービームが高速走査方向（す
なわち水平線方向に分離される）にオフセットされるＲ
ＯＳ装置が開示されている。以後同特許の内容が引用に
より開示されるものとする。
【０００７】図２は、従来の技術によるシングルステー
ションプリンタ用のデュアルスポットＲＯＳを図解して
いる。このようなシングルステーションデュアルスポッ
トＲＯＳをマルチステーションデュアルスポットプリン
タに拡張することができる。図示の便宜上、図２にはレ
ーザーダイオードやポリゴン前段の光学系が省かれてい
る。これらの特徴は、従来の技術として公知の事実であ
り、下記に詳しく説明される。図２では、２つのレーザ
ービーム３１および３３が、回転多角形ミラー３０で偏
向され、公知のポリゴン後段の光学系３２および３４、
さらにフォールディングミラー３６によって受光器３８
上に合焦されている。このようなデュアルスポットプリ
ンタは、速度を早めるため、受光器３８上に２つ以上の
スポットを同時に印刷する。
ションプリンタ用のデュアルスポットＲＯＳを図解して
いる。このようなシングルステーションデュアルスポッ
トＲＯＳをマルチステーションデュアルスポットプリン
タに拡張することができる。図示の便宜上、図２にはレ
ーザーダイオードやポリゴン前段の光学系が省かれてい
る。これらの特徴は、従来の技術として公知の事実であ
り、下記に詳しく説明される。図２では、２つのレーザ
ービーム３１および３３が、回転多角形ミラー３０で偏
向され、公知のポリゴン後段の光学系３２および３４、
さらにフォールディングミラー３６によって受光器３８
上に合焦されている。このようなデュアルスポットプリ
ンタは、速度を早めるため、受光器３８上に２つ以上の
スポットを同時に印刷する。
【０００８】通常、このような装置は、受光器３８上に
複数の光線で画像を形成するインターレース技術を採用
している。例えば、特願平５−１５９８６０号にこのよ
うな複数光線インターレース走査装置が開示されてい
る。以後同特許の内容が引用により開示されるものとす
る。本発明は、フィスリの米国特許第５，２４３，３５
９号が説明するシングルスポットまたはマルチスポット
マルチステーションプリンタに適用することも可能だ
が、主に図２に示されているようなデュアルスポットプ
リンタに適用される。
複数の光線で画像を形成するインターレース技術を採用
している。例えば、特願平５−１５９８６０号にこのよ
うな複数光線インターレース走査装置が開示されてい
る。以後同特許の内容が引用により開示されるものとす
る。本発明は、フィスリの米国特許第５，２４３，３５
９号が説明するシングルスポットまたはマルチスポット
マルチステーションプリンタに適用することも可能だ
が、主に図２に示されているようなデュアルスポットプ
リンタに適用される。
【０００９】
【発明が解決しようとする課題】シングルスポット回転
多角形ベースの光学系では、光学公差の累積により、湾
曲変形が生じる。湾曲自体は、ＲＯＳが高速走査方向に
走査するとき、走査されるレーザービームが描く曲線で
ある。従って、湾曲は、線が高速走査方向に延びるにつ
れて、処理方向に走査線の変位として現われる。
多角形ベースの光学系では、光学公差の累積により、湾
曲変形が生じる。湾曲自体は、ＲＯＳが高速走査方向に
走査するとき、走査されるレーザービームが描く曲線で
ある。従って、湾曲は、線が高速走査方向に延びるにつ
れて、処理方向に走査線の変位として現われる。
【００１０】マルチビーム、レーザーダイオードベース
のＲＯＳは、高質ゼログラフィック印刷で最も強力な技
術とみなされているが、走査線湾曲差の問題は、好まし
くない副次効果として存在する。走査線湾曲差は、ビー
ムがサジタル方向（すなわち低速走査方向）にオフセッ
トされるというマルチビーム光学系そのものの特性に起
因する。湾曲は、各サジタルオフセットビームが、光学
系を伝播する際に、各サジタル面の倍率が変わるために
発生する。
のＲＯＳは、高質ゼログラフィック印刷で最も強力な技
術とみなされているが、走査線湾曲差の問題は、好まし
くない副次効果として存在する。走査線湾曲差は、ビー
ムがサジタル方向（すなわち低速走査方向）にオフセッ
トされるというマルチビーム光学系そのものの特性に起
因する。湾曲は、各サジタルオフセットビームが、光学
系を伝播する際に、各サジタル面の倍率が変わるために
発生する。
【００１１】例えば、図８（Ａ）には、多角形ミラー５
６の３つの面が示されている。現行の面１００では、高
速走査方向におけるレーザービーム３１および３３のそ
れぞれの走査を示すため、２つの走査線１０２と１０４
が図示されている。図８（Ａ）に示されているように、
走査線１０２は、現行面１００の上半分（すなわち光学
軸５６Ａの上）から反射しているが、走査線１０４は、
現行面１００の下半分（すなわち光学軸５６Ａの下）か
ら反射している。
６の３つの面が示されている。現行の面１００では、高
速走査方向におけるレーザービーム３１および３３のそ
れぞれの走査を示すため、２つの走査線１０２と１０４
が図示されている。図８（Ａ）に示されているように、
走査線１０２は、現行面１００の上半分（すなわち光学
軸５６Ａの上）から反射しているが、走査線１０４は、
現行面１００の下半分（すなわち光学軸５６Ａの下）か
ら反射している。
【００１２】装置のデザインにより、走査線湾曲は、お
互いに接近する方向に移動したり（たる型変形）、お互
いに遠ざかる方向に移動する（針差し型変形）。どちら
の場合でも、光源（レーザー）は、光軸５６Ａの反対側
に置かれている。したがって、図９（Ｂ）に示されてい
るように、湾曲した走査線の曲率の中心も光軸の反対側
に存在することになる。すべての光源が、光軸に対し同
じ側に配置されると、すべての走査線は、光軸に対し反
対側に結像することになる。従って、すべての湾曲曲線
の曲率の中心も、光軸に対し同じ側に存在することにな
る。しかし、各湾曲曲線は、異なる曲率半径を有するこ
とになる。これは違った種類の湾曲差の原因となる。
互いに接近する方向に移動したり（たる型変形）、お互
いに遠ざかる方向に移動する（針差し型変形）。どちら
の場合でも、光源（レーザー）は、光軸５６Ａの反対側
に置かれている。したがって、図９（Ｂ）に示されてい
るように、湾曲した走査線の曲率の中心も光軸の反対側
に存在することになる。すべての光源が、光軸に対し同
じ側に配置されると、すべての走査線は、光軸に対し反
対側に結像することになる。従って、すべての湾曲曲線
の曲率の中心も、光軸に対し同じ側に存在することにな
る。しかし、各湾曲曲線は、異なる曲率半径を有するこ
とになる。これは違った種類の湾曲差の原因となる。
【００１３】１９９３年１２月２９日に出願された米国
特許出願第０８／１７４，９１７号でティボア・フィス
リ他は、光学系の最後の要素から受光器に放出される主
光線が、サジタル経線方向にテレセントリック状である
マルチビームＲＯＳを提案している。以後同特許の内容
が引用により開示されるものとする。テレセントリック
状の主放出光線を提供することにより、マルチビーム装
置は、シングルステーションゼログラフィックプリンタ
で、ピラミッド状ポリゴン角度誤差を許容し、適度に安
定し、許容された焦点の深度内でほぼ湾曲皆無の印刷を
実現する。さらに、湾曲の全体的形状、およびその方向
を注意深く制御することにより、シングルパス、マルチ
ステーション装置は、広域に配置されたゼログラフィッ
クステーションで描かれた多種の画像間の、重ね合わせ
の誤差を許容範囲に収めることができる。
特許出願第０８／１７４，９１７号でティボア・フィス
リ他は、光学系の最後の要素から受光器に放出される主
光線が、サジタル経線方向にテレセントリック状である
マルチビームＲＯＳを提案している。以後同特許の内容
が引用により開示されるものとする。テレセントリック
状の主放出光線を提供することにより、マルチビーム装
置は、シングルステーションゼログラフィックプリンタ
で、ピラミッド状ポリゴン角度誤差を許容し、適度に安
定し、許容された焦点の深度内でほぼ湾曲皆無の印刷を
実現する。さらに、湾曲の全体的形状、およびその方向
を注意深く制御することにより、シングルパス、マルチ
ステーション装置は、広域に配置されたゼログラフィッ
クステーションで描かれた多種の画像間の、重ね合わせ
の誤差を許容範囲に収めることができる。
【００１４】本発明の目的は、レーザービームが通過す
る光学領域（アパーチャ）を制御することによって湾曲
差問題を修正する光学系を提供することにある。
る光学領域（アパーチャ）を制御することによって湾曲
差問題を修正する光学系を提供することにある。
【００１５】また本発明の目的は、光線のサジタルおよ
びタンジェンシャル方向の方向設定を変える装置を提供
することにある。
びタンジェンシャル方向の方向設定を変える装置を提供
することにある。
【００１６】さらに本発明の目的は、多角形ミラーの面
上で、入射した静止光線を、お互いに密接して、サジタ
ルとタンジェンシャルの両方向に平行に、かつ光軸から
等間隔で平行にサジタル方向（垂直方向）に整列するよ
うに調節する装置を提供することにある。
上で、入射した静止光線を、お互いに密接して、サジタ
ルとタンジェンシャルの両方向に平行に、かつ光軸から
等間隔で平行にサジタル方向（垂直方向）に整列するよ
うに調節する装置を提供することにある。
【００１７】
【課題を解決するための手段】上記発明に係わる目的
は、光線を発する少なくとも１つの光線発生装置と、光
線を反射し、走査線を形成する回転可能の反射装置と、
光発生装置と反射装置の間の光路に設けられる視準レン
ズを少なくとも１つ備える光学装置と、光学装置と反射
装置の間の光路に設けられ、光学装置とは別の透光板
と、を含み、光線が透光板を通過して反射装置に達する
際に、前記透光板が光線のサジタル方向とタンジェンシ
ャル方向のうちの少なくとも１つを変化させることを特
徴とするラスタ走査光学装置によって達成される。
は、光線を発する少なくとも１つの光線発生装置と、光
線を反射し、走査線を形成する回転可能の反射装置と、
光発生装置と反射装置の間の光路に設けられる視準レン
ズを少なくとも１つ備える光学装置と、光学装置と反射
装置の間の光路に設けられ、光学装置とは別の透光板
と、を含み、光線が透光板を通過して反射装置に達する
際に、前記透光板が光線のサジタル方向とタンジェンシ
ャル方向のうちの少なくとも１つを変化させることを特
徴とするラスタ走査光学装置によって達成される。
【００１８】本発明は、このように、受光器のような光
受信部材を有するラスタ走査光学系を提供する。第一発
光装置が第一光線を発し、第二発光装置が第二光線を発
する。多角形ミラーのような走査装置は、第一光線と第
二光線を光受信部材に反射する面を少なくとも１つ有す
る。第一光線の光路の第一光発出装置と走査装置の間
に、透光板が設置される。第一光線が透光板を通過す
る。透光板が、第一光線の方向を、サジタル方向あるい
はタンジェンシャル方向の一方へ所望の量だけ調節す
る。
受信部材を有するラスタ走査光学系を提供する。第一発
光装置が第一光線を発し、第二発光装置が第二光線を発
する。多角形ミラーのような走査装置は、第一光線と第
二光線を光受信部材に反射する面を少なくとも１つ有す
る。第一光線の光路の第一光発出装置と走査装置の間
に、透光板が設置される。第一光線が透光板を通過す
る。透光板が、第一光線の方向を、サジタル方向あるい
はタンジェンシャル方向の一方へ所望の量だけ調節す
る。
【００１９】本発明はさらに、光線を発し、その光線を
透光板を通過させ、光線のサジタル方向の方向とタンジ
ェンシャル方向の方向の少なくとも一方を変えることに
よって、光線が当たる走査装置の面上の位置を調節する
方法を提供する。サジタル方向やタンジェンシャル方向
に光線の方向を変化させることにより、光線が走査装置
の面上で異なった場所にあたることになる。
透光板を通過させ、光線のサジタル方向の方向とタンジ
ェンシャル方向の方向の少なくとも一方を変えることに
よって、光線が当たる走査装置の面上の位置を調節する
方法を提供する。サジタル方向やタンジェンシャル方向
に光線の方向を変化させることにより、光線が走査装置
の面上で異なった場所にあたることになる。
【００２０】本発明のその他の目的、利点、顕著な特徴
が、本発明の実施の形態を開示する図を参照した下記の
詳しい説明によって明らかにされる。
が、本発明の実施の形態を開示する図を参照した下記の
詳しい説明によって明らかにされる。
【００２１】
【発明の実施の形態】図３は、公知の多角形ミラーラス
タ走査光学系をタンジェンシャル方向から見た図であ
る。当業者であれば、公知のラスタ走査光学系が他にも
あり、本発明の意図する範囲に入るものであることを理
解できるようになる。よく知られているように、レーザ
ーダイオード５０が、視準器（コリメーター）５２によ
って視準されるビーム５１を発生する。視準されたビー
ムは、回転多角形ミラー５６上でビームをタンジェンシ
ャル方向に合焦させないようなレンズ５４を通過する。
多角形ミラー５６で反射されると同時に、ビームは、レ
ンズ５８によって受光器３８の表面に収束される。Ｆ
θ ´レンズ５８は、走査の線形性を公知の方法で修正
する。矢印ＡおよびＢは、サジタルとタンジェンシャル
方向の画像面に沿った画像スポット６４の移動可能な２
つの方向を示している。
タ走査光学系をタンジェンシャル方向から見た図であ
る。当業者であれば、公知のラスタ走査光学系が他にも
あり、本発明の意図する範囲に入るものであることを理
解できるようになる。よく知られているように、レーザ
ーダイオード５０が、視準器（コリメーター）５２によ
って視準されるビーム５１を発生する。視準されたビー
ムは、回転多角形ミラー５６上でビームをタンジェンシ
ャル方向に合焦させないようなレンズ５４を通過する。
多角形ミラー５６で反射されると同時に、ビームは、レ
ンズ５８によって受光器３８の表面に収束される。Ｆ
θ ´レンズ５８は、走査の線形性を公知の方法で修正
する。矢印ＡおよびＢは、サジタルとタンジェンシャル
方向の画像面に沿った画像スポット６４の移動可能な２
つの方向を示している。
【００２２】図４は、ラスタ走査光学系のサジタル図を
示している。レーザーダイオード５０は、視準器５２に
よって視準されるレーザービーム５１を発生する。次に
シリンダーレンズ５４が、ビームを、回転多角形ミラー
５６の現行面上でサジタル方向に合焦する。ビームは、
多角形ミラー５６で反射されると同時に発散する。次
に、レンズ５８が、受光器３８の表面上において、サジ
タル方向へ光線を合焦する。通常、歪形要素６０はビー
ム５１のサジタル合焦に限定されたパワーを提供する。
むしろ、Ｆθ レンズ５８の方が、タンジェンシャル方
向の合焦および走査線線形性を制御する。このことは当
業者にはよく知られていることである。
示している。レーザーダイオード５０は、視準器５２に
よって視準されるレーザービーム５１を発生する。次に
シリンダーレンズ５４が、ビームを、回転多角形ミラー
５６の現行面上でサジタル方向に合焦する。ビームは、
多角形ミラー５６で反射されると同時に発散する。次
に、レンズ５８が、受光器３８の表面上において、サジ
タル方向へ光線を合焦する。通常、歪形要素６０はビー
ム５１のサジタル合焦に限定されたパワーを提供する。
むしろ、Ｆθ レンズ５８の方が、タンジェンシャル方
向の合焦および走査線線形性を制御する。このことは当
業者にはよく知られていることである。
【００２３】図解と説明の便宜上、以後レンズ５２と５
４をポリゴン前段光学系、そしてレンズ５８と６０をポ
リゴン後段光学系と呼ぶことにする。当業者であれば、
ポリゴン前段光学系とポリゴン後段光学系には、さらに
他のレンズが含まれてもよいことが理解できる。
４をポリゴン前段光学系、そしてレンズ５８と６０をポ
リゴン後段光学系と呼ぶことにする。当業者であれば、
ポリゴン前段光学系とポリゴン後段光学系には、さらに
他のレンズが含まれてもよいことが理解できる。
【００２４】図３および図４に示されたような多角形走
査器（ポリゴン・スキャナー）は従来の技術として良く
知られており、例えばジョン・Ｃ・アーバック（John
C. Urbach）他の「電子印刷用レーザー走査」と題した
論文が、１９８２年６月に出版された「Proceedings of
the IEEE 」の第７０巻、第６号に載っている。以後同
論文の内容は引用により開示されるものとする。同様
に、他のポリゴン・スキャナーの例も良く知られてお
り、本発明の範囲内のものである。
査器（ポリゴン・スキャナー）は従来の技術として良く
知られており、例えばジョン・Ｃ・アーバック（John
C. Urbach）他の「電子印刷用レーザー走査」と題した
論文が、１９８２年６月に出版された「Proceedings of
the IEEE 」の第７０巻、第６号に載っている。以後同
論文の内容は引用により開示されるものとする。同様
に、他のポリゴン・スキャナーの例も良く知られてお
り、本発明の範囲内のものである。
【００２５】図９（Ａ）と図９（Ｂ）は、受光器の表面
に発生する湾曲を示している。理想的な走査線１１０が
破線で表されている。しかしながら、図３や図４に図示
されている装置を用いてレーザービームを走査して得ら
れた走査線１１２には湾曲が発生する。従って、湾曲問
題が解決されないと、線が真直ではなく曲がって印刷さ
れる。このような誤差は肉眼でも検知できる。
に発生する湾曲を示している。理想的な走査線１１０が
破線で表されている。しかしながら、図３や図４に図示
されている装置を用いてレーザービームを走査して得ら
れた走査線１１２には湾曲が発生する。従って、湾曲問
題が解決されないと、線が真直ではなく曲がって印刷さ
れる。このような誤差は肉眼でも検知できる。
【００２６】図２に示されるようなデュアルスポットＲ
ＯＳが使用されると，この問題はより顕著になる。デュ
アルスポットＲＯＳは、１つの受光器に２つのスポット
を同時に結像する。このようなＲＯＳでは、２つの異な
った湾曲が起こりうる。図９（Ｂ）では、走査線１１４
の曲率半径が、第一走査線１１２の曲率半径と違うこと
もある。従って、シングルステーションプリンタにおけ
るデュアルスポットＲＯＳでは、湾曲が修正されなけれ
ば、複数の湾曲の問題が生じる。
ＯＳが使用されると，この問題はより顕著になる。デュ
アルスポットＲＯＳは、１つの受光器に２つのスポット
を同時に結像する。このようなＲＯＳでは、２つの異な
った湾曲が起こりうる。図９（Ｂ）では、走査線１１４
の曲率半径が、第一走査線１１２の曲率半径と違うこと
もある。従って、シングルステーションプリンタにおけ
るデュアルスポットＲＯＳでは、湾曲が修正されなけれ
ば、複数の湾曲の問題が生じる。
【００２７】図９（Ｂ）に示された問題は、多角形ミラ
ー５６の現行面１００上の異なる領域で２つ以上のレー
ザービームを走査するために起こる。例えば、図８
（Ａ）は、回転多角形ミラー５６の３つの面を図解して
いる。２つの走査線１０２および１０４が、現行面１０
０から反射される。第一走査線１０２が、現行面１００
の光軸５６Ａの上半分を走査し、第二走査線１０４が、
現行面１００の光軸５６Ａの下半分を走査する。このよ
うな装置は、図９（Ｂ）に図示される湾曲差の問題を起
こす。上記で説明したように、湾曲は、サジタル方向に
オフセットされた走査線１０２および１０４が、光学系
を伝播する際に、各サジタル面の倍率が異なることに起
因する。
ー５６の現行面１００上の異なる領域で２つ以上のレー
ザービームを走査するために起こる。例えば、図８
（Ａ）は、回転多角形ミラー５６の３つの面を図解して
いる。２つの走査線１０２および１０４が、現行面１０
０から反射される。第一走査線１０２が、現行面１００
の光軸５６Ａの上半分を走査し、第二走査線１０４が、
現行面１００の光軸５６Ａの下半分を走査する。このよ
うな装置は、図９（Ｂ）に図示される湾曲差の問題を起
こす。上記で説明したように、湾曲は、サジタル方向に
オフセットされた走査線１０２および１０４が、光学系
を伝播する際に、各サジタル面の倍率が異なることに起
因する。
【００２８】図５は、レーザービーム１０３と１０５の
どちらかを、回転多角形ミラー５６で偏向する前に、サ
ジタルまたはタンジェンシャル方向に調節する装置を図
示している。本実施形態では、例えば走査線１０４（光
線１０５から得られる）のような１つの走査線の位置を
サジタルおよびタンジェンシャル方向に動かし、図８
（Ｂ）に示されているように、走査線１０２と１０４が
互いに接近し、光軸５６Ａから等距離（ｄ）となるよう
にする。従って、走査線１０２と１０４の両方が、ポリ
ゴン後段光学系のほぼ同一の領域を活用し、湾曲差等、
各種光学問題を同様な方法で修正できるように調節され
る。ビーム１０３と１０５の両方が、多角形ミラー５６
の同一領域から反射されるので、ビーム１０３と１０５
は、ポリゴン後段においてほとんど等しい倍率を持つこ
とになる。
どちらかを、回転多角形ミラー５６で偏向する前に、サ
ジタルまたはタンジェンシャル方向に調節する装置を図
示している。本実施形態では、例えば走査線１０４（光
線１０５から得られる）のような１つの走査線の位置を
サジタルおよびタンジェンシャル方向に動かし、図８
（Ｂ）に示されているように、走査線１０２と１０４が
互いに接近し、光軸５６Ａから等距離（ｄ）となるよう
にする。従って、走査線１０２と１０４の両方が、ポリ
ゴン後段光学系のほぼ同一の領域を活用し、湾曲差等、
各種光学問題を同様な方法で修正できるように調節され
る。ビーム１０３と１０５の両方が、多角形ミラー５６
の同一領域から反射されるので、ビーム１０３と１０５
は、ポリゴン後段においてほとんど等しい倍率を持つこ
とになる。
【００２９】図５に示されているように、レーザービー
ム１０５と１０３を発生するため、２つのレーザーダイ
オード９０と９６が、それぞれ２つの入力光学チャネル
として用意されている。ポリゴン後段光学系９２と９８
が、各入力光学チャネルごとに設けられている。一実施
形態では、レーザービーム１０５を偏向するためミラー
９４が利用されている。当業者であれば、サイズ上の制
限や光路の長さに関する各種の問題を修正するため、多
くのミラーやレンズを利用できることを理解できる。第
一入力光学チャネルでは、ビーム１０５が、ガラスプレ
ート７０を通過するが、第二光線はガラスプレート７０
を通過しない。ガラスプレート７０は、ユーザが、でき
れば手操作で、サジタルとタンジェンシャルの両方向に
調節できるようにする。ガラスプレート７０を使って、
多角形ミラー５６の現行面１００に結像される走査線１
０４の位置を調節する。理想的には、図８（Ｂ）に示さ
れているように走査線１０４が、第二走査線１０２に近
づき、走査線１０２と１０４が光軸５６Ａから等距離
（ｄ）になるようにすることが望まれる。多角形ミラー
５６から反射後、各ビーム１０３および１０５は、上記
図３と図４に関連して説明されたレンズ５８やＦθ レ
ンズ６０のようなポリゴン後段光学系を通過する。図示
の便宜上、図５では、多角形ミラー５６から１つの光線
だけが反射しているが、実際には２つのビームが反射さ
れることはいうまでもない。上記で説明したように、各
画像スポットは、ポリゴン後段光学系（例えば、レンズ
５８や６０）によって受光器３８の表面に合焦される。
ム１０５と１０３を発生するため、２つのレーザーダイ
オード９０と９６が、それぞれ２つの入力光学チャネル
として用意されている。ポリゴン後段光学系９２と９８
が、各入力光学チャネルごとに設けられている。一実施
形態では、レーザービーム１０５を偏向するためミラー
９４が利用されている。当業者であれば、サイズ上の制
限や光路の長さに関する各種の問題を修正するため、多
くのミラーやレンズを利用できることを理解できる。第
一入力光学チャネルでは、ビーム１０５が、ガラスプレ
ート７０を通過するが、第二光線はガラスプレート７０
を通過しない。ガラスプレート７０は、ユーザが、でき
れば手操作で、サジタルとタンジェンシャルの両方向に
調節できるようにする。ガラスプレート７０を使って、
多角形ミラー５６の現行面１００に結像される走査線１
０４の位置を調節する。理想的には、図８（Ｂ）に示さ
れているように走査線１０４が、第二走査線１０２に近
づき、走査線１０２と１０４が光軸５６Ａから等距離
（ｄ）になるようにすることが望まれる。多角形ミラー
５６から反射後、各ビーム１０３および１０５は、上記
図３と図４に関連して説明されたレンズ５８やＦθ レ
ンズ６０のようなポリゴン後段光学系を通過する。図示
の便宜上、図５では、多角形ミラー５６から１つの光線
だけが反射しているが、実際には２つのビームが反射さ
れることはいうまでもない。上記で説明したように、各
画像スポットは、ポリゴン後段光学系（例えば、レンズ
５８や６０）によって受光器３８の表面に合焦される。
【００３０】もう１つの実施例では、第二入力光学チャ
ネルに、もう１つのガラスプレート７０を配置して、光
線１０３がガラスプレート７０を通過するようにしてい
る。これによりユーザが、現行面１００に結像する走査
線１０２の位置を調節できる。１又は複数のガラスプレ
ート７０は、現行面１００上で走査線１０２と１０４が
サジタル方向に整列し、互いに接近し、互いに平行で、
光軸から等距離にあり、現行面１００の光軸に平行にな
るように結像された走査線１０２と１０４をさらに調節
することができる。
ネルに、もう１つのガラスプレート７０を配置して、光
線１０３がガラスプレート７０を通過するようにしてい
る。これによりユーザが、現行面１００に結像する走査
線１０２の位置を調節できる。１又は複数のガラスプレ
ート７０は、現行面１００上で走査線１０２と１０４が
サジタル方向に整列し、互いに接近し、互いに平行で、
光軸から等距離にあり、現行面１００の光軸に平行にな
るように結像された走査線１０２と１０４をさらに調節
することができる。
【００３１】当業者であれば、本発明がシングルステー
ションプリンタのデュアルスポットＲＯＳに限定される
ものでないことを理解でき、多くの修正が可能であるこ
とは明らかである。例えば、各入力チャネルは、その光
学チャネル内に複数の光線を含ませることもできる。そ
れにより、ガラスプレート７０が、複数の光線を調節で
きることになる。他の例では、１つのチャネルにつき４
つ以上の光線が導入されている。さらに、上述の光学に
似た光学を用いて、３つ以上の入力チャネルを提供する
ことも可能である。
ションプリンタのデュアルスポットＲＯＳに限定される
ものでないことを理解でき、多くの修正が可能であるこ
とは明らかである。例えば、各入力チャネルは、その光
学チャネル内に複数の光線を含ませることもできる。そ
れにより、ガラスプレート７０が、複数の光線を調節で
きることになる。他の例では、１つのチャネルにつき４
つ以上の光線が導入されている。さらに、上述の光学に
似た光学を用いて、３つ以上の入力チャネルを提供する
ことも可能である。
【００３２】また、当業者にはよく知られていることで
はあるが、レーザーダイオード９０と９６のそれぞれ
は、同一または異なる波長、さらに同一または異なる偏
光のレーザーダイオードを発することができる。これら
のビームは、後に複数の異なる受光器に分れて導かれる
こともある。例えば、フィスリに付与された米国特許第
５，２４３，３５９号では、光線が４つの個々の波長
（それぞれが異なる波長を持つ）に分けられ、それぞれ
が別々の受光器に送られている。さらに、ジェームス・
アペル（James Appel）他が１９９２年９月２２日に出
願した米国出願０７／９４８，５３０号では、レーザー
ビームを、その波長と偏光に基づいて分離するシステム
を開示している。以後同特許の内容は引用によって開示
されるものとする。当業者であれば、本発明に基づい
て、多くの異なるレーザーダイオード、波長、偏光およ
び受光器の様態が使用できることを理解できる。
はあるが、レーザーダイオード９０と９６のそれぞれ
は、同一または異なる波長、さらに同一または異なる偏
光のレーザーダイオードを発することができる。これら
のビームは、後に複数の異なる受光器に分れて導かれる
こともある。例えば、フィスリに付与された米国特許第
５，２４３，３５９号では、光線が４つの個々の波長
（それぞれが異なる波長を持つ）に分けられ、それぞれ
が別々の受光器に送られている。さらに、ジェームス・
アペル（James Appel）他が１９９２年９月２２日に出
願した米国出願０７／９４８，５３０号では、レーザー
ビームを、その波長と偏光に基づいて分離するシステム
を開示している。以後同特許の内容は引用によって開示
されるものとする。当業者であれば、本発明に基づい
て、多くの異なるレーザーダイオード、波長、偏光およ
び受光器の様態が使用できることを理解できる。
【００３３】図６は、ガラスプレート７０とその支持部
材７２の側面図である。支持部材７２が、セメント等の
接着材でガラスプレート７０を確実に固定する。支持部
材７２（および調節装置７６）にはアパーチャ７３（お
よび７７）が設けられ、光線１０５が、ガラスプレート
７０を矢印Ｃの方向に通過するようになっている。従っ
て、支持部材７２は、一部材で構成されることが望まし
い。また、支持部材７２は、装着板１１０に取付けら
れ、枢軸ねじ７８によって、装着板１１０に対し、所定
の角で傾いた位置に調節される。支持部材は、それがい
つも矢印Ｃの方向にバイアスされるように矢印Ｃの方向
に傾けられている。
材７２の側面図である。支持部材７２が、セメント等の
接着材でガラスプレート７０を確実に固定する。支持部
材７２（および調節装置７６）にはアパーチャ７３（お
よび７７）が設けられ、光線１０５が、ガラスプレート
７０を矢印Ｃの方向に通過するようになっている。従っ
て、支持部材７２は、一部材で構成されることが望まし
い。また、支持部材７２は、装着板１１０に取付けら
れ、枢軸ねじ７８によって、装着板１１０に対し、所定
の角で傾いた位置に調節される。支持部材は、それがい
つも矢印Ｃの方向にバイアスされるように矢印Ｃの方向
に傾けられている。
【００３４】支持部材７２の後側に、調節装置７６が設
けられる。調節装置７６には、中央に位置し、光線１０
５を矢印Ｃの方向に通過させるアパーチャ７７が形成さ
れている。調節装置７６は、２つのねじ８０、８２によ
って装着板１１０に取付けられることが望ましい。さら
に、調節装置７６には、装着板１１０に対し、支持部材
を傾いた位置に調節してガラスプレート７０を傾かせる
設定ねじ８４が含まれる。設定ねじ８４には、調節装置
７６を貫いて、ストッパー８４の付近まで溝が刻まれて
いる。設定ねじ８４が回されると、ねじ８４がストッパ
ー７４に当接し、支持部材７２を、矢印Ｃと反対方向に
押す。それにより、ガラスプレート７０の上端部が矢印
Ｃと反対方向に傾き、光線１０５の制御されたサジタル
平行調節を実行する。サジタル調節により、走査線１０
４の位置が、図８（Ａ）、図８（Ｂ）に示されるよう
に、移動する。このように、設定ねじ８４を調節するこ
とにより、走査線１０４が、多角形ミラー５６の現行面
１００上で適切に調節される。
けられる。調節装置７６には、中央に位置し、光線１０
５を矢印Ｃの方向に通過させるアパーチャ７７が形成さ
れている。調節装置７６は、２つのねじ８０、８２によ
って装着板１１０に取付けられることが望ましい。さら
に、調節装置７６には、装着板１１０に対し、支持部材
を傾いた位置に調節してガラスプレート７０を傾かせる
設定ねじ８４が含まれる。設定ねじ８４には、調節装置
７６を貫いて、ストッパー８４の付近まで溝が刻まれて
いる。設定ねじ８４が回されると、ねじ８４がストッパ
ー７４に当接し、支持部材７２を、矢印Ｃと反対方向に
押す。それにより、ガラスプレート７０の上端部が矢印
Ｃと反対方向に傾き、光線１０５の制御されたサジタル
平行調節を実行する。サジタル調節により、走査線１０
４の位置が、図８（Ａ）、図８（Ｂ）に示されるよう
に、移動する。このように、設定ねじ８４を調節するこ
とにより、走査線１０４が、多角形ミラー５６の現行面
１００上で適切に調節される。
【００３５】図７は、図６を矢印Ｅ方向からみた図であ
る。図７は、走査線のタンジェンシャル方向の移動がど
のように起こるか示している。支持部材７２とガラスプ
レート７０が、ねじ７８の周りを矢印Ｄの方向に回転す
る。第二設定ねじ８６がストッパー７５に当接し、枢軸
回転を制御する。設定ねじ８６を用いて支持部材７２を
回転させ、ガラスプレート７０を通過する光線１０５
を、タンジェンシャル方向に制御しながら調節する。
る。図７は、走査線のタンジェンシャル方向の移動がど
のように起こるか示している。支持部材７２とガラスプ
レート７０が、ねじ７８の周りを矢印Ｄの方向に回転す
る。第二設定ねじ８６がストッパー７５に当接し、枢軸
回転を制御する。設定ねじ８６を用いて支持部材７２を
回転させ、ガラスプレート７０を通過する光線１０５
を、タンジェンシャル方向に制御しながら調節する。
【００３６】光線１０５をタンジェンシャル方向に調節
することによって、多角形ミラー５６の現行面１００に
結像される走査線１０４をタンジェンシャル方向に調節
することができる。これは、図８（Ｃ）と図８（Ｄ）と
の違いによって示される。図８（Ｃ）は、現行面１００
上で、サジタルおよびタンジェンシャル方向にオフセッ
トされた２つの走査線１０２と１０４を示している。図
８（Ｄ）では、走査線１０４が設定ねじ８４によって、
サジタル方向に調節され、設定ねじ８６によってタンジ
ェンシャル方向に調節されている。このようなサジタル
およびタンジェンシャル方向の調節は、基本的に光像を
現行面１００上に整列させるものである。このようにし
て、各光像は、ポリゴン後段光学系のほとんど同一の領
域を通過することになる。上記で説明したように、ビー
ム１０３と１０５のそれぞれが、次に共通の受光器３８
に合焦されるか、図１に示されるように、波長や偏光に
基づいて分離され、異なった受光器に導かれる。
することによって、多角形ミラー５６の現行面１００に
結像される走査線１０４をタンジェンシャル方向に調節
することができる。これは、図８（Ｃ）と図８（Ｄ）と
の違いによって示される。図８（Ｃ）は、現行面１００
上で、サジタルおよびタンジェンシャル方向にオフセッ
トされた２つの走査線１０２と１０４を示している。図
８（Ｄ）では、走査線１０４が設定ねじ８４によって、
サジタル方向に調節され、設定ねじ８６によってタンジ
ェンシャル方向に調節されている。このようなサジタル
およびタンジェンシャル方向の調節は、基本的に光像を
現行面１００上に整列させるものである。このようにし
て、各光像は、ポリゴン後段光学系のほとんど同一の領
域を通過することになる。上記で説明したように、ビー
ム１０３と１０５のそれぞれが、次に共通の受光器３８
に合焦されるか、図１に示されるように、波長や偏光に
基づいて分離され、異なった受光器に導かれる。
【００３７】支持部材７２や調節装置７６のその他の様
態も、本発明の範囲内に含まれるものである。例えば、
設定ねじ８４と８６は、ストッパー７４ではなく、支持
部材７２に直接当接するようにすることもできる。ま
た、図１０は、設定ねじ８４の他の実施形態を示してい
る。この実施形態では、ねじ８４が、頭部８５と調節装
置７６内に受け入れられるねじ溝部８７と支持部材７２
にはめ込まれる凹部８９とを備えている。凹部８９は、
Ｔ字型になっており、頭が丸型なので支持部材７２の凹
部７３内にはめ込まれる。設定ねじ８６を、さらに図１
０にあるような形に変形してもよい。
態も、本発明の範囲内に含まれるものである。例えば、
設定ねじ８４と８６は、ストッパー７４ではなく、支持
部材７２に直接当接するようにすることもできる。ま
た、図１０は、設定ねじ８４の他の実施形態を示してい
る。この実施形態では、ねじ８４が、頭部８５と調節装
置７６内に受け入れられるねじ溝部８７と支持部材７２
にはめ込まれる凹部８９とを備えている。凹部８９は、
Ｔ字型になっており、頭が丸型なので支持部材７２の凹
部７３内にはめ込まれる。設定ねじ８６を、さらに図１
０にあるような形に変形してもよい。
【００３８】ガラスプレート７０は、支持部材７２と調
節装置７６を使って、多角形ミラー５６の現行面１００
で反射される前に、よく制御の行き届いた手法で、光線
をサジタル方向およびタンジェンシャル方向に調節す
る。上記で説明したように、このような調節によって、
デュアルスポットシングル受光器システムにおいて、湾
曲差の問題が解決されることが望まれる。しかしなが
ら、サジタルおよびタンジェンシャル方向の調節は、当
業者が承知の通り、他の多くの理由で用いられる。
節装置７６を使って、多角形ミラー５６の現行面１００
で反射される前に、よく制御の行き届いた手法で、光線
をサジタル方向およびタンジェンシャル方向に調節す
る。上記で説明したように、このような調節によって、
デュアルスポットシングル受光器システムにおいて、湾
曲差の問題が解決されることが望まれる。しかしなが
ら、サジタルおよびタンジェンシャル方向の調節は、当
業者が承知の通り、他の多くの理由で用いられる。
【００３９】ガラスプレート７０は、できれば平行なガ
ラスで作られるのがよい。ほかの同類の材料を使うこと
もできる。システムが正しく作用するには、ガラスプレ
ート７０の透き通ったアパーチャ部分が、アーク角度が
数分以内で平行で、光学的平坦性が動作波長の約１／５
以内で、溝、傷、泡気、等が無く、動作波長に対し、最
低９８パーセントの伝送率（両面に反射防止塗料を塗っ
たもの）を有するものであることが望ましい。このよう
な小角の平行ガラスプレートを用いた場合の光線の平行
変位量は次の公式から求められる。
ラスで作られるのがよい。ほかの同類の材料を使うこと
もできる。システムが正しく作用するには、ガラスプレ
ート７０の透き通ったアパーチャ部分が、アーク角度が
数分以内で平行で、光学的平坦性が動作波長の約１／５
以内で、溝、傷、泡気、等が無く、動作波長に対し、最
低９８パーセントの伝送率（両面に反射防止塗料を塗っ
たもの）を有するものであることが望ましい。このよう
な小角の平行ガラスプレートを用いた場合の光線の平行
変位量は次の公式から求められる。
【００４０】 ｄ＝ｔｓｉｎθ（Ｎ′−１）／Ｎ′ （式１） ここで、ｄは平行変位量、ｔはプレートの厚さ、θは入
射角、Ｎ′はガラスの屈折率を表す。平行変位量（ｄ）
は、図１１に示されている。
射角、Ｎ′はガラスの屈折率を表す。平行変位量（ｄ）
は、図１１に示されている。
【００４１】例えば、もしガラスプレート７０の厚さが
２ミリで、屈折率が１．５であるとすると、５度の傾斜
により、５８ミクロンの変位が生じる。従って、ラスタ
走査装置にこのようなガラスプレートを導入すると、多
くの用途が考えられる。もし厚いガラスを導入しても、
修正の度合いが大き過ぎる場合は、屈折率の大きいガラ
スプレートを用いるか、より大きな傾斜角を採用すれば
よい。
２ミリで、屈折率が１．５であるとすると、５度の傾斜
により、５８ミクロンの変位が生じる。従って、ラスタ
走査装置にこのようなガラスプレートを導入すると、多
くの用途が考えられる。もし厚いガラスを導入しても、
修正の度合いが大き過ぎる場合は、屈折率の大きいガラ
スプレートを用いるか、より大きな傾斜角を採用すれば
よい。
【００４２】図１２（Ａ）は、多角形ミラー５６の現行
面１００上の２対の入力走査線を示している。第一対
は、光軸５６Ａの上にある走査線１２０と１２２であ
る。第二対は、光軸５６Ａの下にある走査線１２４と１
２６である。走査線１２０と１２２は、第一光学チャネ
ルから発し、走査線１２４と１２６は、第二光学チャネ
ルから発せられることが望ましい。図１２（Ｂ）から解
かるように、走査線の第一対、１２０と１２２は、線１
２０が光軸５６Ａの上にあり、線１２２が光軸５６Ａの
下にあるように調節される。走査線の第二対、１２４と
１２６は、線１２４が光軸５６Ａの上にあり、線１２６
が光軸５６Ａの下にあるように調節される。現行面上
で、走査線を互い違いにすることにより、飛び越し（イ
ンターレース）走査が実現する。また、ビーム分離を削
減し、湾曲差も少なくすることができる。図１２（Ｂ）
では、各入力光学チャネルにガラスプレート７０を設け
て、各対の走査線間のサジタル分離が狭められている。
これは、レーザー製造過程上の規制により分離を狭くで
きない場合に特に有効である。
面１００上の２対の入力走査線を示している。第一対
は、光軸５６Ａの上にある走査線１２０と１２２であ
る。第二対は、光軸５６Ａの下にある走査線１２４と１
２６である。走査線１２０と１２２は、第一光学チャネ
ルから発し、走査線１２４と１２６は、第二光学チャネ
ルから発せられることが望ましい。図１２（Ｂ）から解
かるように、走査線の第一対、１２０と１２２は、線１
２０が光軸５６Ａの上にあり、線１２２が光軸５６Ａの
下にあるように調節される。走査線の第二対、１２４と
１２６は、線１２４が光軸５６Ａの上にあり、線１２６
が光軸５６Ａの下にあるように調節される。現行面上
で、走査線を互い違いにすることにより、飛び越し（イ
ンターレース）走査が実現する。また、ビーム分離を削
減し、湾曲差も少なくすることができる。図１２（Ｂ）
では、各入力光学チャネルにガラスプレート７０を設け
て、各対の走査線間のサジタル分離が狭められている。
これは、レーザー製造過程上の規制により分離を狭くで
きない場合に特に有効である。
【００４３】
【発明の効果】本発明によれば、透光板を利用して湾曲
差を修正でき、この結果、良質の画像を形成できる。
差を修正でき、この結果、良質の画像を形成できる。
【図１】 従来のマルチステーション・ラスタ出力走査
器の概略図である。
器の概略図である。
【図２】 デュアルスポット・シングルステーション・
ゼログラフィックプリンタの概略図である。
ゼログラフィックプリンタの概略図である。
【図３】 ラスタ走査光学系のタンジェンシャル方向の
展開図である。
展開図である。
【図４】 ラスタ走査光学系のサジタル方向の展開図で
ある。
ある。
【図５】 本発明の実施形態の概略図である。
【図６】 平行ガラスプレートと調節装置の実施形態の
側面図である。
側面図である。
【図７】 図６を矢印Ｅの方向からみた図である。
【図８】 （Ａ）は多角形ミラー上の光像のサジタル分
離を示す図であり、（Ｂ）は本発明の実施形態に係る小
さくよく制御された光像のサジタル分離を示す図であ
り、（Ｃ）は多角形ミラー上の光像のサジタルおよびタ
ンジェンシャル分離を示す図であり、（Ｄ）は本発明の
実施形態に係る小さくよく制御された光像のサジタル分
離およびタンジェンシャル分離を示す図である。
離を示す図であり、（Ｂ）は本発明の実施形態に係る小
さくよく制御された光像のサジタル分離を示す図であ
り、（Ｃ）は多角形ミラー上の光像のサジタルおよびタ
ンジェンシャル分離を示す図であり、（Ｄ）は本発明の
実施形態に係る小さくよく制御された光像のサジタル分
離およびタンジェンシャル分離を示す図である。
【図９】 （Ａ）は湾曲を持つ走査線を示す図であり、
（Ｂ）は湾曲を持つ一対の走査線を示す図である。
（Ｂ）は湾曲を持つ一対の走査線を示す図である。
【図１０】 本発明の実施形態に用いられる設定ねじの
もう１つの実施形態の側面図である。
もう１つの実施形態の側面図である。
【図１１】 平面ガラスプレートを通過する光線を示す
図である。
図である。
【図１２】 （Ａ）は多角形ミラー上の二対の光像を示
す図であり、（Ｂ）は本発明の実施形態に係る小さくよ
く制御された二対の光像の分離を示す図である。
す図であり、（Ｂ）は本発明の実施形態に係る小さくよ
く制御された二対の光像の分離を示す図である。
３８ 受光器、５６ ポリゴンミラー、７０ ガラスプ
レート、９０ レーザーダイオード。
レート、９０ レーザーダイオード。
Claims (1)
- 【請求項１】 光線を発する少なくとも１つの光線発生
装置と、 光線を反射し、走査線を形成する回転可能な反射装置
と、 前記光発生装置と前記反射装置の間の光路に設けられる
視準レンズを少なくとも１つ備える光学装置と、 前記光学装置と前記反射装置の間の光路に設けられ、前
記光学装置とは別の透光板と、を含み、 光線が前記透光板を通過して前記反射装置に達する際
に、前記透光板が光線のサジタル方向とタンジェンシャ
ル方向のうちの少なくとも１つを変化させることを特徴
とするラスタ走査光学装置。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| US327872 | 1994-10-24 | ||
| US08/327,872 US5617133A (en) | 1994-10-24 | 1994-10-24 | Method and apparatus for adjusting orientation of light beams in a raster scanning system |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH08211312A true JPH08211312A (ja) | 1996-08-20 |
| JP3693190B2 JP3693190B2 (ja) | 2005-09-07 |
Family
ID=23278444
Family Applications (1)
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|---|---|---|---|
| JP26836495A Expired - Fee Related JP3693190B2 (ja) | 1994-10-24 | 1995-10-17 | ラスタ走査装置における光線の方向を調整する装置 |
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| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US5617133A (ja) |
| JP (1) | JP3693190B2 (ja) |
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| US6055005A (en) * | 1998-01-08 | 2000-04-25 | Xerox Corporation | Color printer with jitter signature matching |
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| US6490072B2 (en) | 2001-01-12 | 2002-12-03 | Lexmark International, Inc. | Mirror angle adjustment and mounting system for a laser scanner device |
| KR100452852B1 (ko) * | 2002-01-09 | 2004-10-14 | 삼성전자주식회사 | 확대 광학계 및 그것을 갖는 화상형성 장치 |
| US6825922B2 (en) | 2002-09-26 | 2004-11-30 | Metron Systems, Inc. | Determination of the angular position of a laser beam |
| WO2004040335A2 (en) * | 2002-10-28 | 2004-05-13 | Metron Systems, Inc. | High precision optical imaging systems and related systems |
| AU2003285098A1 (en) * | 2002-10-29 | 2004-05-25 | Metron Systems, Inc. | Calibration for 3d measurement system |
| JP5162829B2 (ja) * | 2006-01-19 | 2013-03-13 | 富士ゼロックス株式会社 | 画像形成装置およびその画像処理方法 |
| US8917432B2 (en) * | 2012-03-13 | 2014-12-23 | Kla-Tencor Corporation | Multiplexing EUV sources in reticle inspection |
| CN109532243B (zh) * | 2018-09-27 | 2020-07-24 | 合肥泰沃达智能装备有限公司 | 一种高速导光板激光打印机 |
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US2885924A (en) * | 1953-11-17 | 1959-05-12 | S-Hertogenbosch Max Cahen | Optical apparatus for use in accurately positioning printing plates on a printing cylinder |
| US4474422A (en) * | 1979-11-13 | 1984-10-02 | Canon Kabushiki Kaisha | Optical scanning apparatus having an array of light sources |
| JPS63120261U (ja) * | 1987-01-30 | 1988-08-03 | ||
| EP0291738B1 (en) * | 1987-04-28 | 1993-09-22 | Canon Kabushiki Kaisha | Multiimage forming apparatus |
| JPS6475239A (en) * | 1987-09-18 | 1989-03-20 | Toshiba Corp | Optical device for imaging device |
| JPH03248115A (ja) * | 1990-02-26 | 1991-11-06 | Minolta Camera Co Ltd | マルチビーム光学装置 |
| JP2995925B2 (ja) * | 1991-06-14 | 1999-12-27 | ミノルタ株式会社 | レーザビーム合成方法 |
| US5243359A (en) * | 1991-12-19 | 1993-09-07 | Xerox Corporation | Raster output scanner for a multistation xerographic printing system |
| US5233367A (en) * | 1992-09-18 | 1993-08-03 | Xerox Corporation | Multiple beam interlaced scanning system |
| US5341158A (en) * | 1992-09-22 | 1994-08-23 | Xerox Corporation | Raster output scanner for a xerographic printing system having laser diodes arranged in a line parallel to the fast scan direction |
-
1994
- 1994-10-24 US US08/327,872 patent/US5617133A/en not_active Expired - Lifetime
-
1995
- 1995-10-17 JP JP26836495A patent/JP3693190B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| US5617133A (en) | 1997-04-01 |
| JP3693190B2 (ja) | 2005-09-07 |
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