JPH08201619A - カラーフィルタチップの製造方法 - Google Patents
カラーフィルタチップの製造方法Info
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- JPH08201619A JPH08201619A JP2747295A JP2747295A JPH08201619A JP H08201619 A JPH08201619 A JP H08201619A JP 2747295 A JP2747295 A JP 2747295A JP 2747295 A JP2747295 A JP 2747295A JP H08201619 A JPH08201619 A JP H08201619A
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 カラーフィルタチップに形成される透明導電
膜の表面清浄度を改善する。 【構成】 カラーフィルタチップを製造する為、先ずシ
ート基板１に設定された複数の区画２に夫々カラーフィ
ルタ膜３をパタニング形成する。このカラーフィルタ膜
３の上に透明導電膜５を形成する。さらに、エポキシア
クリレート系ポリマーに水酸基を導入したレジスト材料
を成膜して透明導電膜５を被覆する様に仮保護膜６を設
ける。仮保護膜６と共にシート基板１を区画に沿って切
断し個々のカラーフィルタチップ７に分離する。この
後、金属イオンを含まない弱アルカリ性の洗浄液を用い
てカラーフィルタチップ７に残された仮保護膜６を溶解
除去する。さらに、紫外線を照射してレジスト材料の残
渣を酸化除去する。最後に、透明導電膜に表面張力既知
の液体を滴下しその接触角を測定して透明導電膜表面の
清浄度を検査する。
膜の表面清浄度を改善する。 【構成】 カラーフィルタチップを製造する為、先ずシ
ート基板１に設定された複数の区画２に夫々カラーフィ
ルタ膜３をパタニング形成する。このカラーフィルタ膜
３の上に透明導電膜５を形成する。さらに、エポキシア
クリレート系ポリマーに水酸基を導入したレジスト材料
を成膜して透明導電膜５を被覆する様に仮保護膜６を設
ける。仮保護膜６と共にシート基板１を区画に沿って切
断し個々のカラーフィルタチップ７に分離する。この
後、金属イオンを含まない弱アルカリ性の洗浄液を用い
てカラーフィルタチップ７に残された仮保護膜６を溶解
除去する。さらに、紫外線を照射してレジスト材料の残
渣を酸化除去する。最後に、透明導電膜に表面張力既知
の液体を滴下しその接触角を測定して透明導電膜表面の
清浄度を検査する。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明はカラーフィルタチップの
製造方法に関する。カラーフィルタチップは、画素電極
及びスイッチング用の薄膜トランジスタが集積形成され
た薄膜半導体チップと組み合わせてアクティブマトリク
ス型のカラー液晶表示パネルを組み立てる為に用いられ
る。
製造方法に関する。カラーフィルタチップは、画素電極
及びスイッチング用の薄膜トランジスタが集積形成され
た薄膜半導体チップと組み合わせてアクティブマトリク
ス型のカラー液晶表示パネルを組み立てる為に用いられ
る。
【０００２】
【従来の技術】従来、カラーフィルタチップは大判の板
ガラス等からなるシート基板を用いて多数個取り方式に
て製造されていた。先ず、シート基板に設定された複数
の区画に夫々カラーフィルタ膜をパタニング形成する。
次に、カラーフィルタ膜の上に透明導電膜を全面的に形
成する。さらに、レジスト材料を成膜して透明導電膜を
被覆する仮保護膜を設ける。続いて、仮保護膜と共にシ
ート基板を区画に沿って切断し個々のカラーフィルタチ
ップに分離する。最後に、洗浄液を用いてカラーフィル
タチップに残された仮保護膜を溶解除去する。
ガラス等からなるシート基板を用いて多数個取り方式に
て製造されていた。先ず、シート基板に設定された複数
の区画に夫々カラーフィルタ膜をパタニング形成する。
次に、カラーフィルタ膜の上に透明導電膜を全面的に形
成する。さらに、レジスト材料を成膜して透明導電膜を
被覆する仮保護膜を設ける。続いて、仮保護膜と共にシ
ート基板を区画に沿って切断し個々のカラーフィルタチ
ップに分離する。最後に、洗浄液を用いてカラーフィル
タチップに残された仮保護膜を溶解除去する。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】比較的小型サイズのカ
ラー液晶表示パネルに組み込まれるカラーフィルタチッ
プは、一般的に多数個取り方式で製造され、予めシート
基板の複数区画に渡ってＲＧＢ三原色の微細なセグメン
トからなるカラーフィルタ膜をパタニング形成する。こ
の後、ダイシング等で個々のチップに切断・分割する。
この際、チップ表面に形成されたＩＴＯ等からなる透明
導電膜の切断ダメージを防止する為に、予めシート基板
の全面にフォトレジスト等の有機材料をスピナー等で塗
布して仮保護膜を設けておく。この仮保護膜は切断・分
割に引き続く洗浄工程で溶解除去される。しかしなが
ら、洗浄が不十分であると、液晶表示パネルに組み込ん
だ段階で、焼き付き現象等の表示不良を引き起す。液晶
表示パネルに組み立てた状態では、透明導電膜に繰り返
し駆動電圧が印加される。洗浄が不十分でこの透明導電
膜の表面に仮保護膜の残渣が付着していると、印加電圧
により分極等が生じ不要な直流成分となって表示の焼き
付き等が生じる。
ラー液晶表示パネルに組み込まれるカラーフィルタチッ
プは、一般的に多数個取り方式で製造され、予めシート
基板の複数区画に渡ってＲＧＢ三原色の微細なセグメン
トからなるカラーフィルタ膜をパタニング形成する。こ
の後、ダイシング等で個々のチップに切断・分割する。
この際、チップ表面に形成されたＩＴＯ等からなる透明
導電膜の切断ダメージを防止する為に、予めシート基板
の全面にフォトレジスト等の有機材料をスピナー等で塗
布して仮保護膜を設けておく。この仮保護膜は切断・分
割に引き続く洗浄工程で溶解除去される。しかしなが
ら、洗浄が不十分であると、液晶表示パネルに組み込ん
だ段階で、焼き付き現象等の表示不良を引き起す。液晶
表示パネルに組み立てた状態では、透明導電膜に繰り返
し駆動電圧が印加される。洗浄が不十分でこの透明導電
膜の表面に仮保護膜の残渣が付着していると、印加電圧
により分極等が生じ不要な直流成分となって表示の焼き
付き等が生じる。
【０００４】最終段階の仮保護膜を溶解除去する工程で
は、従来トリクロロエタン等の有機洗浄液を用いてい
た。一般に、透明導電膜等に付着したレジスト材料はト
リクロロエタン等でほぼ完全に除去可能である。しかし
ながら、洗浄液としてトリクロロエタンを大量に用いる
と廃液処理が負担となり、又環境汚染の原因になるとい
う問題がある。これに代えて、例えばアルカリ金属塩を
溶解した強アルカリ性の水溶液を洗浄液として用いる事
もでき、レジスト材料をほぼ完全に除去可能である。し
かしながら、金属原子等が可動イオンとして透明導電膜
の表面に残留した場合、最終的に液晶表示パネルとして
組み立てると、液晶を汚染する惧れがあり信頼性に悪影
響を及ぼすという問題がある。
は、従来トリクロロエタン等の有機洗浄液を用いてい
た。一般に、透明導電膜等に付着したレジスト材料はト
リクロロエタン等でほぼ完全に除去可能である。しかし
ながら、洗浄液としてトリクロロエタンを大量に用いる
と廃液処理が負担となり、又環境汚染の原因になるとい
う問題がある。これに代えて、例えばアルカリ金属塩を
溶解した強アルカリ性の水溶液を洗浄液として用いる事
もでき、レジスト材料をほぼ完全に除去可能である。し
かしながら、金属原子等が可動イオンとして透明導電膜
の表面に残留した場合、最終的に液晶表示パネルとして
組み立てると、液晶を汚染する惧れがあり信頼性に悪影
響を及ぼすという問題がある。
【０００５】洗浄工程の後で、透明導電膜表面の清浄度
を検査する場合がある。一般的には、ＥＳＣＡ，ＡＥＳ
等の表面分析装置が用いられている。しかしながら、焼
き付き現象の原因となる仮保護膜の残渣は透明導電膜の
直表面に限られており、通常の表面分析装置を用いても
実際に有用な検査結果は得られない。又、ＥＳＣＡ，Ａ
ＥＳ等の表面分析装置は、分析に要する時間が比較的長
いばかりでなく、装置自体も高価である為、製造プロセ
ス管理には不適当である。
を検査する場合がある。一般的には、ＥＳＣＡ，ＡＥＳ
等の表面分析装置が用いられている。しかしながら、焼
き付き現象の原因となる仮保護膜の残渣は透明導電膜の
直表面に限られており、通常の表面分析装置を用いても
実際に有用な検査結果は得られない。又、ＥＳＣＡ，Ａ
ＥＳ等の表面分析装置は、分析に要する時間が比較的長
いばかりでなく、装置自体も高価である為、製造プロセ
ス管理には不適当である。
【０００６】
【課題を解決するための手段】上述した従来の技術の課
題に鑑み、本発明は製品の信頼性を損なう事なく且つ廃
液処理に問題を生ずる事なく仮保護膜の洗浄除去が可能
なカラーフィルタチップの製造方法を提供する事を目的
とする。又、仮保護膜の残渣検査に関し簡便な工程管理
が可能なカラーフィルタチップの製造方法を提供する事
を目的とする。かかる目的を達成する為に、以下の３通
りの手段を講じた。第１の手段によれば、カラーフィル
タチップは以下の工程により製造される。即ち、先ずシ
ート基板に設定された複数の区画に夫々カラーフィルタ
膜をパタニング形成する工程を行なう。次に、該カラー
フィルタ膜の上に透明導電膜を形成する工程を行なう。
さらに、エポキシアクリレート系ポリマーに水酸基を導
入したレジスト材料を成膜して該透明導電膜を被覆する
仮保護膜を設ける工程を行なう。続いて、該仮保護膜と
共にシート基板を区画に沿って切断し個々のカラーフィ
ルタチップに分離する工程を行なう。最後に、金属イオ
ンを含まない弱アルカリ性の水溶液を用いてカラーフィ
ルタチップに残された仮保護膜を溶解除去する工程を行
なう。好ましくは、前記仮保護膜を溶解除去する工程で
は、金属イオンを含まない弱アルカリ性の洗浄液として
炭酸アンモニウム水溶液又はアンモニア水溶液を用い
る。
題に鑑み、本発明は製品の信頼性を損なう事なく且つ廃
液処理に問題を生ずる事なく仮保護膜の洗浄除去が可能
なカラーフィルタチップの製造方法を提供する事を目的
とする。又、仮保護膜の残渣検査に関し簡便な工程管理
が可能なカラーフィルタチップの製造方法を提供する事
を目的とする。かかる目的を達成する為に、以下の３通
りの手段を講じた。第１の手段によれば、カラーフィル
タチップは以下の工程により製造される。即ち、先ずシ
ート基板に設定された複数の区画に夫々カラーフィルタ
膜をパタニング形成する工程を行なう。次に、該カラー
フィルタ膜の上に透明導電膜を形成する工程を行なう。
さらに、エポキシアクリレート系ポリマーに水酸基を導
入したレジスト材料を成膜して該透明導電膜を被覆する
仮保護膜を設ける工程を行なう。続いて、該仮保護膜と
共にシート基板を区画に沿って切断し個々のカラーフィ
ルタチップに分離する工程を行なう。最後に、金属イオ
ンを含まない弱アルカリ性の水溶液を用いてカラーフィ
ルタチップに残された仮保護膜を溶解除去する工程を行
なう。好ましくは、前記仮保護膜を溶解除去する工程で
は、金属イオンを含まない弱アルカリ性の洗浄液として
炭酸アンモニウム水溶液又はアンモニア水溶液を用い
る。
【０００７】本発明の第２手段によれば、カラーフィル
タチップは以下の工程により製造される。即ち、先ずシ
ート基板に設定された複数の区画に夫々カラーフィルタ
膜をパタニング形成する工程を行なう。次に、該カラー
フィルタ膜の上に透明導電膜を形成する工程を行なう。
さらに、レジスト材料を成膜して該透明導電膜を被覆す
る仮保護膜を設ける工程を行なう。続いて、該仮保護膜
と共にシート基板を区画に沿って切断し個々のカラーフ
ィルタチップに分離する工程を行なう。この後、洗浄液
を用いてカラーフィルタチップ上の仮保護膜を溶解除去
する工程を行なう。最後に、紫外線を照射してレジスト
材料の残渣を酸化除去する工程を行なう。
タチップは以下の工程により製造される。即ち、先ずシ
ート基板に設定された複数の区画に夫々カラーフィルタ
膜をパタニング形成する工程を行なう。次に、該カラー
フィルタ膜の上に透明導電膜を形成する工程を行なう。
さらに、レジスト材料を成膜して該透明導電膜を被覆す
る仮保護膜を設ける工程を行なう。続いて、該仮保護膜
と共にシート基板を区画に沿って切断し個々のカラーフ
ィルタチップに分離する工程を行なう。この後、洗浄液
を用いてカラーフィルタチップ上の仮保護膜を溶解除去
する工程を行なう。最後に、紫外線を照射してレジスト
材料の残渣を酸化除去する工程を行なう。
【０００８】本発明の第３手段によれば、カラーフィル
タチップは以下の工程により製造される。即ち、先ずシ
ート基板に設定された複数の区画に夫々カラーフィルタ
膜をパタニング形成する工程を行なう。次に、該カラー
フィルタ膜の上に透明導電膜を形成する工程を行なう。
さらに、レジスト材料を成膜して該透明導電膜を被覆す
る仮保護膜を設ける工程を行なう。続いて、該仮保護膜
と共にシート基板を区画に沿って切断し個々のカラーフ
ィルタチップに分離する工程を行なう。この後、カラー
フィルタチップを洗浄して仮保護膜を除去し透明導電膜
を露出する工程を行なう。最後に、透明導電膜に表面張
力既知の液体を滴下しその接触角を測定して該透明導電
膜表面の清浄度を検査する工程を行なう。
タチップは以下の工程により製造される。即ち、先ずシ
ート基板に設定された複数の区画に夫々カラーフィルタ
膜をパタニング形成する工程を行なう。次に、該カラー
フィルタ膜の上に透明導電膜を形成する工程を行なう。
さらに、レジスト材料を成膜して該透明導電膜を被覆す
る仮保護膜を設ける工程を行なう。続いて、該仮保護膜
と共にシート基板を区画に沿って切断し個々のカラーフ
ィルタチップに分離する工程を行なう。この後、カラー
フィルタチップを洗浄して仮保護膜を除去し透明導電膜
を露出する工程を行なう。最後に、透明導電膜に表面張
力既知の液体を滴下しその接触角を測定して該透明導電
膜表面の清浄度を検査する工程を行なう。
【０００９】
【作用】本発明の第１側面では、仮保護膜となるレジス
ト材料として、骨格構造に水酸基が導入されたエポキシ
アクリレート系ポリマーを用いている。この改質された
レジスト材料は炭酸アンモニウム水溶液等の弱アルカリ
性洗浄液に十分溶解可能であり、ほぼ完全に仮保護膜を
除去できる。炭酸アンモニウム水溶液やアンモニア水溶
液等の弱アルカリ性洗浄液は極めて容易に廃液処理可能
であり環境汚染の惧れがない。又、何等金属原子を含有
していない為、製品の信頼性を損なう惧れがない。本発
明の第２側面では、洗浄液を用いた通常の洗浄工程後、
さらに紫外線を照射してレジスト材料の残渣を酸化除去
するＵＶ洗浄工程を加えている。仮に、通常の洗浄工程
でレジスト残渣が付着していても、このＵＶ洗浄工程に
よりレジスト残渣を完全に除去でき、透明導電膜表面の
清浄度が極めて高くなる。本発明の第３側面では、通常
の洗浄工程あるいはＵＶ洗浄工程後、透明導電膜に表面
張力既知の液体を滴下しその接触角を測定して透明導電
膜表面の清浄度を検査している。接触角は透明導電膜表
面の表面張力を表わしている。この表面張力は透明導電
膜の清浄度を表わすパラメータとなり得る。表面張力既
知の液体を滴下しその接触角を測定するという簡便な手
法により清浄度の検査が可能である。従って、製造プロ
セス中で容易に実施でき工程管理に好適である。なお、
前述した様にレジスト残渣の除去方法としてＵＶ洗浄は
効果的であるが、場合によっては過剰な紫外線照射によ
り透明導電膜表面にダメージを与える惧れがある。紫外
線照射時間や照射量を最適化する必要がある。この際、
表面張力を利用した検査手法を応用する事により、紫外
線照射条件を最適化する事が可能であり、レジスト残渣
を完全に除去しつつ透明導電膜表面にダメージを残さな
い紫外線照射条件が設定できる。
ト材料として、骨格構造に水酸基が導入されたエポキシ
アクリレート系ポリマーを用いている。この改質された
レジスト材料は炭酸アンモニウム水溶液等の弱アルカリ
性洗浄液に十分溶解可能であり、ほぼ完全に仮保護膜を
除去できる。炭酸アンモニウム水溶液やアンモニア水溶
液等の弱アルカリ性洗浄液は極めて容易に廃液処理可能
であり環境汚染の惧れがない。又、何等金属原子を含有
していない為、製品の信頼性を損なう惧れがない。本発
明の第２側面では、洗浄液を用いた通常の洗浄工程後、
さらに紫外線を照射してレジスト材料の残渣を酸化除去
するＵＶ洗浄工程を加えている。仮に、通常の洗浄工程
でレジスト残渣が付着していても、このＵＶ洗浄工程に
よりレジスト残渣を完全に除去でき、透明導電膜表面の
清浄度が極めて高くなる。本発明の第３側面では、通常
の洗浄工程あるいはＵＶ洗浄工程後、透明導電膜に表面
張力既知の液体を滴下しその接触角を測定して透明導電
膜表面の清浄度を検査している。接触角は透明導電膜表
面の表面張力を表わしている。この表面張力は透明導電
膜の清浄度を表わすパラメータとなり得る。表面張力既
知の液体を滴下しその接触角を測定するという簡便な手
法により清浄度の検査が可能である。従って、製造プロ
セス中で容易に実施でき工程管理に好適である。なお、
前述した様にレジスト残渣の除去方法としてＵＶ洗浄は
効果的であるが、場合によっては過剰な紫外線照射によ
り透明導電膜表面にダメージを与える惧れがある。紫外
線照射時間や照射量を最適化する必要がある。この際、
表面張力を利用した検査手法を応用する事により、紫外
線照射条件を最適化する事が可能であり、レジスト残渣
を完全に除去しつつ透明導電膜表面にダメージを残さな
い紫外線照射条件が設定できる。
【００１０】
【実施例】以下図面を参照して本発明の好適な実施例を
詳細に説明する。図１は本発明にかかるカラーフィルタ
チップ製造方法を表わす工程図である。先ず、工程
（Ａ）で、シート基板１に設定された複数の区画２に夫
々カラーフィルタ膜３をパタニング形成する。シート基
板１としては例えば大判のガラス板等を用いる事ができ
る。カラーフィルタ膜３はＲＧＢ三原色の微細なセグメ
ントの集合からなる。かかるカラーフィルタ膜３は例え
ば顔料分散法や印刷法によりパタニング形成される。顔
料分散法では、例えば赤色（Ｒ）の顔料を分散したフォ
トレジストをシート基板１の全面に塗布する。続いて、
露光現像処理を行ないシート基板１上にＲセグメントの
みを残す。次に、緑色（Ｇ）の顔料を分散したフォトレ
ジストをシート基板１に成膜し、同様な露光現像処理を
行なってＧセグメントを形成する。さらに、青色（Ｂ）
の顔料を分散したフォトレジストを塗布した後同様の露
光現像処理を行なってＢセグメントを形成する。
詳細に説明する。図１は本発明にかかるカラーフィルタ
チップ製造方法を表わす工程図である。先ず、工程
（Ａ）で、シート基板１に設定された複数の区画２に夫
々カラーフィルタ膜３をパタニング形成する。シート基
板１としては例えば大判のガラス板等を用いる事ができ
る。カラーフィルタ膜３はＲＧＢ三原色の微細なセグメ
ントの集合からなる。かかるカラーフィルタ膜３は例え
ば顔料分散法や印刷法によりパタニング形成される。顔
料分散法では、例えば赤色（Ｒ）の顔料を分散したフォ
トレジストをシート基板１の全面に塗布する。続いて、
露光現像処理を行ないシート基板１上にＲセグメントの
みを残す。次に、緑色（Ｇ）の顔料を分散したフォトレ
ジストをシート基板１に成膜し、同様な露光現像処理を
行なってＧセグメントを形成する。さらに、青色（Ｂ）
の顔料を分散したフォトレジストを塗布した後同様の露
光現像処理を行なってＢセグメントを形成する。
【００１１】次に工程（Ｂ）に進み、カラーフィルタ膜
３の上に平坦化膜４を成膜する。この平坦化膜４は透明
なアクリル樹脂等からなり、カラーフィルタ膜３表面の
凹凸を埋め込んで吸収する。この平坦化膜４の上にＩＴ
Ｏ等からなる透明導電膜５を全面的に形成する。例え
ば、ＩＴＯをスパッタリングにより堆積して透明導電膜
５とする。
３の上に平坦化膜４を成膜する。この平坦化膜４は透明
なアクリル樹脂等からなり、カラーフィルタ膜３表面の
凹凸を埋め込んで吸収する。この平坦化膜４の上にＩＴ
Ｏ等からなる透明導電膜５を全面的に形成する。例え
ば、ＩＴＯをスパッタリングにより堆積して透明導電膜
５とする。
【００１２】工程（Ｃ）に進み、透明導電膜５を被覆す
る様に仮保護膜６を設ける。仮保護膜６はエポキシアク
リレート系ポリマーに水酸基を導入したレジスト材料か
らなり、例えばスピンコート法により塗布される。この
レジスト材料は一般的なエポキシアクリレート系ポリマ
ーの骨格に水酸基を導入して改質したものであり、洗浄
液に対する溶解性が改善されている。ポリマー骨格自体
に水酸基を導入する他、アクリレート官能基の一部に水
酸基を導入して改質を図っても良い。何れの場合であっ
ても、本レジスト材料の構造は、組み合わせる洗浄液の
種類及び耐薬品性等を考慮して適切に分子設計される。
る様に仮保護膜６を設ける。仮保護膜６はエポキシアク
リレート系ポリマーに水酸基を導入したレジスト材料か
らなり、例えばスピンコート法により塗布される。この
レジスト材料は一般的なエポキシアクリレート系ポリマ
ーの骨格に水酸基を導入して改質したものであり、洗浄
液に対する溶解性が改善されている。ポリマー骨格自体
に水酸基を導入する他、アクリレート官能基の一部に水
酸基を導入して改質を図っても良い。何れの場合であっ
ても、本レジスト材料の構造は、組み合わせる洗浄液の
種類及び耐薬品性等を考慮して適切に分子設計される。
【００１３】次に工程（Ｄ）に移り、仮保護膜６と共に
シート基板１を区画２に沿って切断し、個々のカラーフ
ィルタチップ７に分離する。この切断工程は通常のシリ
コンウェハと同様にダイシング加工等により行なわれ
る。ダイシングを行なう際透明導電膜５が予め仮保護膜
６により被覆されている為、破損、剥離、亀裂等のダメ
ージが透明導電膜５に加わる事を防止している。
シート基板１を区画２に沿って切断し、個々のカラーフ
ィルタチップ７に分離する。この切断工程は通常のシリ
コンウェハと同様にダイシング加工等により行なわれ
る。ダイシングを行なう際透明導電膜５が予め仮保護膜
６により被覆されている為、破損、剥離、亀裂等のダメ
ージが透明導電膜５に加わる事を防止している。
【００１４】この後工程（Ｅ）に進み、洗浄液を用いて
カラーフィルタチップ７に残された仮保護膜６を溶解除
去する。本発明では、洗浄液として金属イオンを含まな
い弱アルカリ性の水溶液を用いている。具体的には、炭
酸アンモニウム水溶液又はアンモニア水溶液が好まし
い。前述した様に、仮保護膜としてはエポキシアクリレ
ート系ポリマーに水酸基を導入したレジスト材料が用い
られており、洗浄液に対する溶解性が改質されている。
この為、本レジスト材料は炭酸アンモニウム水溶液やア
ンモニア水溶液等の弱アルカリ性洗浄液で容易に剥離除
去可能であり、殆どレジスト残渣が残らない。ここで用
いる弱アルカリ性の洗浄液は金属イオンを含まない為、
製品の信頼性を損なう惧れがない。又、洗浄後の廃液処
理も極めて容易である。弱アルカリ性の洗浄液を用いて
レジスト材料を除去した後、好ましくは純水洗浄、イソ
プロピルアルコール（ＩＰＡ）洗浄、ＩＰＡ蒸気乾燥を
行なう。
カラーフィルタチップ７に残された仮保護膜６を溶解除
去する。本発明では、洗浄液として金属イオンを含まな
い弱アルカリ性の水溶液を用いている。具体的には、炭
酸アンモニウム水溶液又はアンモニア水溶液が好まし
い。前述した様に、仮保護膜としてはエポキシアクリレ
ート系ポリマーに水酸基を導入したレジスト材料が用い
られており、洗浄液に対する溶解性が改質されている。
この為、本レジスト材料は炭酸アンモニウム水溶液やア
ンモニア水溶液等の弱アルカリ性洗浄液で容易に剥離除
去可能であり、殆どレジスト残渣が残らない。ここで用
いる弱アルカリ性の洗浄液は金属イオンを含まない為、
製品の信頼性を損なう惧れがない。又、洗浄後の廃液処
理も極めて容易である。弱アルカリ性の洗浄液を用いて
レジスト材料を除去した後、好ましくは純水洗浄、イソ
プロピルアルコール（ＩＰＡ）洗浄、ＩＰＡ蒸気乾燥を
行なう。
【００１５】続いて工程（Ｆ）に移り、紫外線を照射し
てレジスト材料の残渣を酸化除去する。これは、先の工
程（Ｅ）で完全に取り切れなかったレジスト材料の残渣
を灰化して透明導電膜５の表面を清浄にする為に行な
う。例えば、紫外線ランプを光源として用い、短波長
（２５６nm中心）領域の紫外線を照射する。照射強度及
び照射時間は適切に設定する必要があり、レジスト残渣
を完全に酸化除去する一方、透明導電膜にダメージを与
えない様にしなければならない。前述した様に、透明導
電膜５は例えばＩＴＯ等の酸化物からなり、紫外線照射
時に発生するオゾンや酸素ラジカルの影響を受け膜質や
表面電気特性が変化する。透明導電膜の変質を伴なわな
い様にＵＶ洗浄のプロセス条件を決定すべきである。
てレジスト材料の残渣を酸化除去する。これは、先の工
程（Ｅ）で完全に取り切れなかったレジスト材料の残渣
を灰化して透明導電膜５の表面を清浄にする為に行な
う。例えば、紫外線ランプを光源として用い、短波長
（２５６nm中心）領域の紫外線を照射する。照射強度及
び照射時間は適切に設定する必要があり、レジスト残渣
を完全に酸化除去する一方、透明導電膜にダメージを与
えない様にしなければならない。前述した様に、透明導
電膜５は例えばＩＴＯ等の酸化物からなり、紫外線照射
時に発生するオゾンや酸素ラジカルの影響を受け膜質や
表面電気特性が変化する。透明導電膜の変質を伴なわな
い様にＵＶ洗浄のプロセス条件を決定すべきである。
【００１６】さらに工程（Ｇ）で、透明導電膜５の上に
表面張力既知の液体８を滴下し、その接触角θを測定し
て透明導電膜５の表面清浄度を検査する。この検査結果
に従って、表面清浄度が不十分な場合には、再び液体洗
浄工程（Ｅ）やＵＶ洗浄工程（Ｆ）を実施する。本例で
は、表面張力の極性成分（γp l ）及び非極性成分（γ
d l ）が既知である数種の液体８を用いて接触角θを測
定する。測定には一般的な接触角測定器を使用する。な
お、各種液体の表面張力の数値については文献「ＪＯＵ
ＲＮＡＬ ＯＦ ＡＰＰＬＩＥＤ ＰＯＬＹＭＥＲ Ｓ
ＣＩＥＮＣＥＶＯＬ．１３，ＰＰ．１７４１−１７４７
（１９６９）」に記載されている。測定した接触角θと
γp l 及びγd l の値を以下の数式１に代入し、透明導
電膜５の表面張力の極性成分（γp s ）及び非極性成分
（γd s ）を求める。なお、数式中、分母のγp L 及び
γd L は所定の定数である。
表面張力既知の液体８を滴下し、その接触角θを測定し
て透明導電膜５の表面清浄度を検査する。この検査結果
に従って、表面清浄度が不十分な場合には、再び液体洗
浄工程（Ｅ）やＵＶ洗浄工程（Ｆ）を実施する。本例で
は、表面張力の極性成分（γp l ）及び非極性成分（γ
d l ）が既知である数種の液体８を用いて接触角θを測
定する。測定には一般的な接触角測定器を使用する。な
お、各種液体の表面張力の数値については文献「ＪＯＵ
ＲＮＡＬ ＯＦ ＡＰＰＬＩＥＤ ＰＯＬＹＭＥＲ Ｓ
ＣＩＥＮＣＥＶＯＬ．１３，ＰＰ．１７４１−１７４７
（１９６９）」に記載されている。測定した接触角θと
γp l 及びγd l の値を以下の数式１に代入し、透明導
電膜５の表面張力の極性成分（γp s ）及び非極性成分
（γd s ）を求める。なお、数式中、分母のγp L 及び
γd L は所定の定数である。
【数１】 予め、成膜した状態における透明導電膜のγd s 及びγ
p s を基準値として測定しておき、洗浄後接触角に基づ
いて測定したγp s 及びγd s と比較すれば、その表面
清浄度を評価する事ができる。なお、接触角の測定に用
いる液体は通常４〜５種類選択し、最小自乗法によって
計算すれば正確な値が得られる。但し、実用的には最低
２種類の液体を用いて接触角を測定し、上記数式１の連
立方程式を作成してγp s 及びγd s を算出しても良
い。この程度でも工程管理用としては十分な目安にな
る。
p s を基準値として測定しておき、洗浄後接触角に基づ
いて測定したγp s 及びγd s と比較すれば、その表面
清浄度を評価する事ができる。なお、接触角の測定に用
いる液体は通常４〜５種類選択し、最小自乗法によって
計算すれば正確な値が得られる。但し、実用的には最低
２種類の液体を用いて接触角を測定し、上記数式１の連
立方程式を作成してγp s 及びγd s を算出しても良
い。この程度でも工程管理用としては十分な目安にな
る。
【００１７】全ての表面張力は極性成分と非極性成分に
分解される。表面張力は表面エネルギーと等価であるか
ら、極性エネルギー及び非極性エネルギーを示すと考え
ても良い。例えば、水やアルコールは分子内に極性基Ｏ
Ｈを持っているので、極性成分が非極性成分に比べて大
きい。逆に、油等は非極性成分が大きくなる傾向を示
す。透明導電膜の表面にレジスト残渣等の有機物が付着
している場合非極性成分が極性成分に比べ相対的に大き
くなる。逆に、レジスト材料が完全に除去された清浄な
透明導電膜では、極性成分が非極性成分に比べかなり大
きい。従って、両者を比較すれば、透明導電膜表面の清
浄度を定量的に評価できる。例えば、規格化された値γ
p s ／（γp s ＋γd s ）とγd s ／（γp s ＋
γd s ）を用いて定量的な評価を行なえば良い。
分解される。表面張力は表面エネルギーと等価であるか
ら、極性エネルギー及び非極性エネルギーを示すと考え
ても良い。例えば、水やアルコールは分子内に極性基Ｏ
Ｈを持っているので、極性成分が非極性成分に比べて大
きい。逆に、油等は非極性成分が大きくなる傾向を示
す。透明導電膜の表面にレジスト残渣等の有機物が付着
している場合非極性成分が極性成分に比べ相対的に大き
くなる。逆に、レジスト材料が完全に除去された清浄な
透明導電膜では、極性成分が非極性成分に比べかなり大
きい。従って、両者を比較すれば、透明導電膜表面の清
浄度を定量的に評価できる。例えば、規格化された値γ
p s ／（γp s ＋γd s ）とγd s ／（γp s ＋
γd s ）を用いて定量的な評価を行なえば良い。
【００１８】なお、上述した液体の接触角を用いる透明
導電膜の表面評価方法は、前述したＵＶ洗浄の条件設定
を行なう際にも応用できる。前述した様に、ＩＴＯ等か
らなる透明導電膜はＵＶ洗浄時に発生するオゾンや酸素
ラジカルの影響を受け、表面膜質と表面電気特性が変化
する。これに対して本測定方法を用いる事により、レジ
スト残渣を完全に除去し且つ透明導電膜の変質を伴なわ
ないＵＶ洗浄のプロセス条件が決定できる。
導電膜の表面評価方法は、前述したＵＶ洗浄の条件設定
を行なう際にも応用できる。前述した様に、ＩＴＯ等か
らなる透明導電膜はＵＶ洗浄時に発生するオゾンや酸素
ラジカルの影響を受け、表面膜質と表面電気特性が変化
する。これに対して本測定方法を用いる事により、レジ
スト残渣を完全に除去し且つ透明導電膜の変質を伴なわ
ないＵＶ洗浄のプロセス条件が決定できる。
【００１９】最後に、図２を参照して、本発明に従って
製造されたカラーフィルタチップを用いて組み立てられ
たアクティブマトリクス型カラー液晶表示パネルの一例
を説明する。図示する様に、本液晶表示パネルは薄膜半
導体チップ３１及びカラーフィルタチップ３２を互いに
対向配置させ、その間隙に液晶３３を封入した構成とな
っている。薄膜半導体チップ３１は石英ガラス等からな
り、その上にはマトリクス状に配置した信号線３４と走
査線３５及びそれらの交点に配置した薄膜トランジスタ
３６と画素電極３７が形成されている。薄膜トランジス
タ３６は走査線３５により線順次選択されると共に、信
号線３４から供給される画像信号を対応する画素電極３
７に書き込む。一方、上側のカラーフィルタチップ３２
の内表面には透明導電膜からなる対向電極３８及びカラ
ーフィルタ膜３９とが形成されている。カラーフィルタ
膜３９は各画素電極３７に対応したＲ，Ｇ，Ｂのセグメ
ントに分割されている。この様な構成を有するアクティ
ブマトリクス型のカラー液晶表示パネルを２枚の偏光板
４０，４１で挟み、白色光を入射すると所望のフルカラ
ー画像表示が得られる。この際、カラーフィルタチップ
３２側に形成された対向電極３８は完全な清浄度が保た
れた透明導電膜からなり、何等レジスト残渣等が付着し
ていない。従って、対向電極３８と画素電極３７の間に
所定の駆動電圧を印加して画像表示を行なった場合、電
極表面被膜の分極等に起因する焼き付き現象が防止でき
る。
製造されたカラーフィルタチップを用いて組み立てられ
たアクティブマトリクス型カラー液晶表示パネルの一例
を説明する。図示する様に、本液晶表示パネルは薄膜半
導体チップ３１及びカラーフィルタチップ３２を互いに
対向配置させ、その間隙に液晶３３を封入した構成とな
っている。薄膜半導体チップ３１は石英ガラス等からな
り、その上にはマトリクス状に配置した信号線３４と走
査線３５及びそれらの交点に配置した薄膜トランジスタ
３６と画素電極３７が形成されている。薄膜トランジス
タ３６は走査線３５により線順次選択されると共に、信
号線３４から供給される画像信号を対応する画素電極３
７に書き込む。一方、上側のカラーフィルタチップ３２
の内表面には透明導電膜からなる対向電極３８及びカラ
ーフィルタ膜３９とが形成されている。カラーフィルタ
膜３９は各画素電極３７に対応したＲ，Ｇ，Ｂのセグメ
ントに分割されている。この様な構成を有するアクティ
ブマトリクス型のカラー液晶表示パネルを２枚の偏光板
４０，４１で挟み、白色光を入射すると所望のフルカラ
ー画像表示が得られる。この際、カラーフィルタチップ
３２側に形成された対向電極３８は完全な清浄度が保た
れた透明導電膜からなり、何等レジスト残渣等が付着し
ていない。従って、対向電極３８と画素電極３７の間に
所定の駆動電圧を印加して画像表示を行なった場合、電
極表面被膜の分極等に起因する焼き付き現象が防止でき
る。
【００２０】
【発明の効果】以上説明した様に、本発明によれば、エ
ポキシアクリレート系ポリマーに水酸基を導入したレジ
スト材料と金属イオンを含まない弱アルカリ性の洗浄液
とを組み合わせる事により、仮保護膜の溶解除去を行な
っている。従来の様に、洗浄液としてトリクロロエタン
等を用いない為、廃液処理が容易となり環境汚染の問題
もない。又、金属イオンを含まない洗浄液を用いている
為製品の信頼性を損なう惧れがない。本発明では、液体
洗浄を行なった後紫外線を照射してレジスト材料の残渣
を酸化除去するＵＶ洗浄を実施している。これにより、
透明導電膜表面の清浄度が顕著に改善できる。さらに、
表面張力既知の液体を滴下しその接触角を測定して透明
導電膜表面の清浄度を検査している。これ等により品質
上万全なカラーフィルタチップを提供でき、液晶表示パ
ネルに組み込んだ場合レジスト残渣に起因する焼き付き
現象を防止する事ができる。
ポキシアクリレート系ポリマーに水酸基を導入したレジ
スト材料と金属イオンを含まない弱アルカリ性の洗浄液
とを組み合わせる事により、仮保護膜の溶解除去を行な
っている。従来の様に、洗浄液としてトリクロロエタン
等を用いない為、廃液処理が容易となり環境汚染の問題
もない。又、金属イオンを含まない洗浄液を用いている
為製品の信頼性を損なう惧れがない。本発明では、液体
洗浄を行なった後紫外線を照射してレジスト材料の残渣
を酸化除去するＵＶ洗浄を実施している。これにより、
透明導電膜表面の清浄度が顕著に改善できる。さらに、
表面張力既知の液体を滴下しその接触角を測定して透明
導電膜表面の清浄度を検査している。これ等により品質
上万全なカラーフィルタチップを提供でき、液晶表示パ
ネルに組み込んだ場合レジスト残渣に起因する焼き付き
現象を防止する事ができる。
【図１】本発明にかかるカラーフィルタチップ製造方法
を示す工程図である。
を示す工程図である。
【図２】本発明に従って製造されたカラーフィルタチッ
プを用いて組み立てられたカラー液晶表示パネルの一例
を示す模式的な斜視図である。
プを用いて組み立てられたカラー液晶表示パネルの一例
を示す模式的な斜視図である。
１ シート基板 ２ 区画 ３ カラーフィルタ膜 ４ 平坦化膜 ５ 透明導電膜 ６ 仮保護膜 ７ カラーフィルタチップ ８ 液体
Claims (4)
- 【請求項１】 シート基板に設定された複数の区画に夫
々カラーフィルタ膜をパタニング形成する工程と、 該カラーフィルタ膜の上に透明導電膜を形成する工程
と、 エポキシアクリレート系ポリマーに水酸基を導入したレ
ジスト材料を成膜して該透明導電膜を被覆する仮保護膜
を設ける工程と、 該仮保護膜と共に、シート基板を区画に沿って切断し個
々のカラーフィルタチップに分離する工程と、 金属イオンを含まない弱アルカリ性の洗浄液を用いてカ
ラーフィルタチップに残された仮保護膜を溶解除去する
工程とを行なうカラーフィルタチップの製造方法。 - 【請求項２】 前記仮保護膜を溶解除去する工程は、金
属イオンを含まない弱アルカリ性の洗浄液として炭酸ア
ンモニウム水溶液又はアンモニア水溶液を用いる請求項
１記載のカラーフィルタチップの製造方法。 - 【請求項３】 シート基板に設定された複数の区画に夫
々カラーフィルタ膜をパタニング形成する工程と、 該カラーフィルタ膜の上に透明導電膜を形成する工程
と、 レジスト材料を成膜して該透明導電膜を被覆する仮保護
膜を設ける工程と、 該仮保護膜と共にシート基板を区画に沿って切断し個々
のカラーフィルタチップに分離する工程と、 洗浄液を用いてカラーフィルタチップ上の仮保護膜を溶
解除去する工程と、 紫外線を照射してレジスト材料の残渣を酸化除去する工
程とを行なうカラーフィルタチップの製造方法。 - 【請求項４】 シート基板に設定された複数の区画に夫
々カラーフィルタ膜をパタニング形成する工程と、 該カラーフィルタ膜の上に透明導電膜を形成する工程
と、 レジスト材料を成膜して該透明導電膜を被覆する仮保護
膜を設ける工程と、 該仮保護膜と共にシート基板を区画に沿って切断し個々
のカラーフィルタチップに分離する工程と、 カラーフィルタチップを洗浄して仮保護膜を除去し透明
導電膜を露出する工程と、 透明導電膜に表面張力既知の液体を滴下しその接触角を
測定して該透明導電膜表面の清浄度を検査する工程とを
行なうカラーフィルタチップの製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2747295A JPH08201619A (ja) | 1995-01-24 | 1995-01-24 | カラーフィルタチップの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2747295A JPH08201619A (ja) | 1995-01-24 | 1995-01-24 | カラーフィルタチップの製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH08201619A true JPH08201619A (ja) | 1996-08-09 |
Family
ID=12222064
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2747295A Pending JPH08201619A (ja) | 1995-01-24 | 1995-01-24 | カラーフィルタチップの製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH08201619A (ja) |
Cited By (10)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2005134419A (ja) * | 2003-10-28 | 2005-05-26 | Dainippon Printing Co Ltd | 積層体及びカラーフィルター基板の利用方法 |
| JP2005134425A (ja) * | 2003-10-28 | 2005-05-26 | Dainippon Printing Co Ltd | カラーフィルター基板、その積層体及びカラーフィルター基板の利用方法 |
| JP2005134418A (ja) * | 2003-10-28 | 2005-05-26 | Dainippon Printing Co Ltd | カラーフィルター基板、その積層体及びカラーフィルター基板の利用方法 |
| KR100484702B1 (ko) * | 1997-03-10 | 2005-06-16 | 이데미쓰 고산 가부시키가이샤 | 유기전기발광소자의제조방법 |
| KR100484096B1 (ko) * | 1998-08-26 | 2005-08-01 | 삼성에스디아이 주식회사 | 액정디스플레이용 칼라필터의 제조방법 |
| JP2008539467A (ja) * | 2005-04-29 | 2008-11-13 | コーニング インコーポレイテッド | ガラスの保護方法 |
| JP2010108002A (ja) * | 2010-02-03 | 2010-05-13 | Dainippon Printing Co Ltd | カラーフィルター基板、その積層体及びカラーフィルター基板の利用方法 |
| JP2010108003A (ja) * | 2010-02-03 | 2010-05-13 | Dainippon Printing Co Ltd | 積層体及びカラーフィルター基板の利用方法 |
| JP2010152377A (ja) * | 2010-02-03 | 2010-07-08 | Dainippon Printing Co Ltd | 積層体及びカラーフィルター基板の利用方法 |
| JP2010156983A (ja) * | 2010-02-03 | 2010-07-15 | Dainippon Printing Co Ltd | カラーフィルター基板、その積層体及びカラーフィルター基板の利用方法 |
-
1995
- 1995-01-24 JP JP2747295A patent/JPH08201619A/ja active Pending
Cited By (12)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100484702B1 (ko) * | 1997-03-10 | 2005-06-16 | 이데미쓰 고산 가부시키가이샤 | 유기전기발광소자의제조방법 |
| KR100484096B1 (ko) * | 1998-08-26 | 2005-08-01 | 삼성에스디아이 주식회사 | 액정디스플레이용 칼라필터의 제조방법 |
| JP2005134419A (ja) * | 2003-10-28 | 2005-05-26 | Dainippon Printing Co Ltd | 積層体及びカラーフィルター基板の利用方法 |
| JP2005134425A (ja) * | 2003-10-28 | 2005-05-26 | Dainippon Printing Co Ltd | カラーフィルター基板、その積層体及びカラーフィルター基板の利用方法 |
| JP2005134418A (ja) * | 2003-10-28 | 2005-05-26 | Dainippon Printing Co Ltd | カラーフィルター基板、その積層体及びカラーフィルター基板の利用方法 |
| JP4493977B2 (ja) * | 2003-10-28 | 2010-06-30 | 大日本印刷株式会社 | 積層体及びカラーフィルター基板の利用方法 |
| JP4493976B2 (ja) * | 2003-10-28 | 2010-06-30 | 大日本印刷株式会社 | カラーフィルター基板、その積層体及びカラーフィルター基板の利用方法 |
| JP2008539467A (ja) * | 2005-04-29 | 2008-11-13 | コーニング インコーポレイテッド | ガラスの保護方法 |
| JP2010108002A (ja) * | 2010-02-03 | 2010-05-13 | Dainippon Printing Co Ltd | カラーフィルター基板、その積層体及びカラーフィルター基板の利用方法 |
| JP2010108003A (ja) * | 2010-02-03 | 2010-05-13 | Dainippon Printing Co Ltd | 積層体及びカラーフィルター基板の利用方法 |
| JP2010152377A (ja) * | 2010-02-03 | 2010-07-08 | Dainippon Printing Co Ltd | 積層体及びカラーフィルター基板の利用方法 |
| JP2010156983A (ja) * | 2010-02-03 | 2010-07-15 | Dainippon Printing Co Ltd | カラーフィルター基板、その積層体及びカラーフィルター基板の利用方法 |
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