JPH08200221A - 真空集中排気システム - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【目的】 クリーンルーム内での各製造工程装置で用い
るガス等を真空排気設備により真空排気するシステムに
おいて、複数の製造工程装置にまたがってガス種ごとに
集中して真空排気することを可能とする。 【構成】 内部に単一又は複数のワーク加工室Ａ〜Ｇを
備えた複数の製造工程装置１〜３を有し、上記各ワーク
加工室Ａ〜Ｇに連結された排気管４，４，…を各ワーク
加工室で用いるガス種に応じて設けた一又は複数の集中
排気管５ａ，５ｂにガス種ごとに接続し、この集中排気
管５ａ，５ｂにはそれぞれ１台の真空排気設備６ａ，６
ｂを接続すると共に、上記排気管４を集中排気管５ａ，
５ｂに接続する部分には制御バルブ７ａ〜７ｎ，８ａ〜
８ｎを設け、かつこの制御バルブをコントロールする制
御部９を設け、上記複数の製造工程装置１〜３にまたが
ってガス種ごとに集中して真空排気するようにしたもの
である。これにより、真空排気設備６ａ，６ｂの台数を
減らすことができる。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、例えば半導体装置又は
ガラス基板などの製造工程においてクリーンルーム内で
の各製造工程装置で用いるガス等を真空排気設備により
真空排気するシステムに関し、特に、複数の製造工程装
置にまたがってガス種ごとに集中して真空排気し、真空
排気設備の台数を減らすことができる真空集中排気シス
テムに関する。

【０００２】

【従来の技術】従来のこの種の真空排気システムは、図
２に示すように、内部に単一又は複数のワーク加工室
（例えば反応室又は搬送室など）Ａ，Ｂ，Ｃ，Ｄ；Ｅ，
Ｆ；Ｇを備えた複数の製造工程装置１，２，３を有し、
上記各ワーク加工室Ａ〜Ｇにそれぞれ連結された各排気
管４，４，…の端部に真空ポンプ等の真空排気設備ａ，
ｂ，ｃ，ｄ，ｅ，ｆ，ｇをそれぞれ接続していた。すな
わち、各製造工程装置１〜３において真空排気すべきワ
ーク加工室Ａ〜Ｇごとに総て１対１で真空排気設備ａ〜
ｇを設けて、上記各ワーク加工室Ａ〜Ｇごとに個別に真
空排気していた。

【０００３】

【発明が解決しようとする課題】しかし、このような従
来の真空排気システムにおいては、真空排気すべき各ワ
ーク加工室Ａ〜Ｇごとに総て１対１で真空排気設備ａ〜
ｇを設けていたので、例えば半導体装置の製造工程の全
体における真空排気システムとして、設置する真空排気
設備の台数が大幅に増えるものであった。従って、多数
の真空排気設備ａ〜ｇの設置のためにクリーンルーム内
のスペースが多くとられ、スペース効率が低下するもの
であった。また、真空排気設備が多数となると共にクリ
ーンルームが大形化することから、コスト高となるもの
であった。さらに、各真空排気設備ａ〜ｇに至る配管系
も増えて、システムが複雑となるものであった。さらに
また、各ワーク加工室Ａ〜Ｇの真空排気は、各真空排気
設備ａ〜ｇの制御を個々的に行って個別に実施していた
ので、操作制御が複雑であると共に、安全性も低下する
おそれがあった。

【０００４】そこで、本発明は、このような問題点に対
処し、複数の製造工程装置にまたがってガス種ごとに集
中して真空排気し、真空排気設備の台数を減らすことが
できる真空集中排気システムを提供することを目的とす
る。

【０００５】

【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に、本発明による真空集中排気システムは、内部に単一
又は複数のワーク加工室を備えた複数の製造工程装置を
有し、上記各ワーク加工室に連結された排気管を各ワー
ク加工室で用いるガス種に応じて設けた一又は複数の集
中排気管にガス種ごとに接続し、この集中排気管にはそ
れぞれ１台の真空排気設備を接続すると共に、上記各排
気管を集中排気管に接続する部分には制御バルブを設
け、かつこの制御バルブをコントロールする制御部を設
け、上記複数の製造工程装置にまたがってガス種ごとに
集中して真空排気するようにしたものである。

【０００６】

【作用】このように構成された真空集中排気システム
は、複数の製造工程装置内に設けられた単一又は複数の
ワーク加工室に連結された排気管を、上記各ワーク加工
室で用いるガス種に応じて設けた一又は複数の集中排気
管にガス種ごとに接続すると共に、上記集中排気管には
それぞれ１台の真空排気設備を接続したことにより、こ
の真空排気設備を運転することによって上記複数の製造
工程装置にまたがってガス種ごとに集中して真空排気す
るように動作する。これにより、上記真空排気設備の台
数を減らすことができる。

【０００７】

【実施例】以下、本発明の実施例を添付図面に基づいて
詳細に説明する。図１は本発明による真空集中排気シス
テムの実施例を示す概要図である。この真空集中排気シ
ステムは、例えば半導体装置又はガラス基板などの製造
工程においてクリーンルーム内での各製造工程装置で用
いるガス等を真空排気設備により真空排気するもので、
図１に示すように、複数の製造工程装置１，２，３と、
排気管４，４…と、集中排気管５ａ，５ｂと、真空排気
設備６ａ，６ｂと、スロットルバルブ７ａ〜７ｎと、シ
ャットオフバルブ８ａ〜８ｎと、制御部９とを有して成
る。

【０００８】上記複数の製造工程装置１〜３は、例えば
半導体装置の製造工程におけるＣＶＤ装置、ドライエッ
チング装置、スパッタリング（ＰＶＤ）装置、イオン打
込み装置などの真空処理装置であり、その内部には各製
造工程装置１〜３の機能に応じて所要の単一又は複数の
ワーク加工室（例えば反応室又は搬送室など）Ａ，Ｂ，
Ｃ，Ｄ；Ｅ，Ｆ；Ｇが設けられている。上記各ワーク加
工室Ａ〜Ｇには、それぞれ排気管４，４，…が連結され
ている。これらの排気管４，４，…は、各ワーク加工室
Ａ〜Ｇ中でウェハ等のワークに対して反応性のガスを供
給して各種の処理を施した後の残留ガスを排出するもの
で、上記ワーク加工室Ａ〜Ｇごとに１本ずつ設けられて
いる。

【０００９】上記排気管４，４，…の端部には、一又は
複数の集中排気管５ａ，５ｂが接続されている。この集
中排気管５ａ，５ｂは、上記排気管４，４，…を介して
排気される各ワーク加工室Ａ〜Ｇからのガスをそのガス
種に応じて集中排気するもので、上記各ワーク加工室Ａ
〜Ｇで用いる反応性ガスの種類に応じて１本又は複数本
設けられている。図１においては、ワーク加工室Ａ，
Ｂ，Ｃ，Ｅ，Ｇが同一系統の反応室でありそれぞれ同一
種類の反応性ガスを用いている場合であり、これらのワ
ーク加工室Ａ，Ｂ，Ｃ，Ｅ，Ｇに連結された排気管４，
４，…を第一の集中排気管５ａに接続している。また、
その他のワーク加工室Ｄ，Ｆが例えば搬送室でありそれ
ぞれ同一種類のガスを用いている場合であり、これらの
ワーク加工室Ｄ，Ｆに連結された排気管４，４を第二の
集中排気管５ｂに接続している。

【００１０】上記第一及び第二の集中排気管５ａ，５ｂ
には、それぞれ１台の真空排気設備６ａ，６ｂが接続さ
れている。この真空排気設備６ａ，６ｂは、上記集中排
気管５ａ，５ｂ及び各排気管４，４，…を介して前記各
ワーク加工室Ａ〜Ｇ内の残留ガスを排出するもので、例
えば真空ポンプから成り、対応する集中排気管５ａ又は
５ｂにそれぞれ接続された排気管４，４，…及びワーク
加工室Ａ〜Ｇ内の残留ガスを吸引して排出するだけの真
空排気能力を有するものとされている。

【００１１】そして、上記各排気管４，４，…を第一及
び第二の集中排気管５ａ，５ｂに接続する部分には、ス
ロットルバルブ７ａ〜７ｎと、シャットオフバルブ８ａ
〜８ｎが設けられている。上記シャットオフバルブ８ａ
〜８ｎは、各排気管４，４，…から第一又は第二の集中
排気管５ａ，５ｂに至る流路を開放又は遮断するもの
で、前記各ワーク加工室Ａ〜Ｇからのガスの排出をオ
ン、オフするようになっている。また、上記スロットル
バルブ７ａ〜７ｎは、各排気管４，４，…から第一又は
第二の集中排気管５ａ，５ｂに至る流路内の流量を調節
するもので、前記各ワーク加工室Ａ〜Ｇからのガスの排
出量を調節するようになっている。これらのスロットル
バルブ７ａ〜７ｎとシャットオフバルブ８ａ〜８ｎと
で、排気管系の制御バルブを構成している。

【００１２】さらに、上記各スロットルバルブ７ａ〜７
ｎと各シャットオフバルブ８ａ〜８ｎとには、制御部９
が接続されている。この制御部９は、上記各スロットル
バルブ７ａ〜７ｎと各シャットオフバルブ８ａ〜８ｎの
動作をコントロールするもので、各スロットルバルブ７
ａ〜７ｎ及びシャットオフバルブ８ａ〜８ｎにそれぞれ
信号線１０，１１が接続されており、一方の信号線１０
を介して総てのスロットルバルブ７ａ〜７ｎに制御信号
をパラレルに送出し、他方の信号線１１を介して総ての
シャットオフバルブ８ａ〜８ｎに制御信号をパラレルに
送出するようになっている。この結果、前記各ワーク加
工室Ａ〜Ｇ内の残留ガスの排出を、上記制御部９で自在
にコントロールできる。

【００１３】このように構成された真空集中排気システ
ムを使用するには、まず、真空排気設備６ａ，６ｂを運
転して真空排気状態とし、次に、制御部９から各信号線
１０，１１を介して排気すべき所要のシャットオフバル
ブ８ａ〜８ｎ及びスロットルバルブ７ａ〜７ｎを選択し
て制御信号を送出し、上記シャットオフバルブ８ａ〜８
ｎを開放すると共にスロットルバルブ７ａ〜７ｎの流量
を調節する。すると、各製造工程装置１〜３内の各ワー
ク加工室Ａ〜Ｇの残留ガスは、第一の集中排気管５ａに
接続された系統と、第二の集中排気管５ｂに接続された
系統とで集中されて排気される。すなわち、上記複数の
製造工程装置にまたがってガス種ごとに集中して真空排
気することができる。

【００１４】なお、図１に示す実施例においては、製造
工程装置１〜３の数を３個とし、各ワーク加工室Ａ〜Ｇ
で用いる反応性ガスの種類を２種類として集中排気管５
ａ，５ｂ及び真空排気設備６ａ，６ｂの数を２個として
示したが、本発明はこれに限らず、製造工程装置は製造
する製品に応じて４個以上としてもよいし、集中排気管
及び真空排気設備も用いる反応性ガスの種類に応じて３
個以上としてもよい。

【００１５】

【発明の効果】本発明は以上のように構成されたので、
複数の製造工程装置内に設けられた単一又は複数のワー
ク加工室に連結された排気管を、上記各ワーク加工室で
用いるガス種に応じて設けた一又は複数の集中排気管に
ガス種ごとに接続すると共に、上記集中排気管にはそれ
ぞれ１台の真空排気設備を接続したことにより、この真
空排気設備を運転することによって上記複数の製造工程
装置にまたがってガス種ごとに集中して真空排気するこ
とができる。これにより、上記真空排気設備の台数を減
らすことができる。従って、上記真空排気設備の設置の
ためにクリーンルーム内のスペースが多くとられること
はなく、スペース効率を向上することができる。また、
従来よりも真空排気設備の台数が少なくなると共にクリ
ーンルームを小形化することができるので、低コスト化
を図ることができる。さらに、各真空排気設備に至る配
管系も減るので、システムを簡単化することができる。
さらにまた、各ワーク加工室の真空排気は、制御バルブ
を制御部でコントロールすることにより、操作制御を簡
単に行うことができると共に、安全性を向上することが
できる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明による真空集中排気システムの実施例を
示す概要図である。

【図２】従来の真空排気システムを示す概要図である。

【符号の説明】 １，２，３…製造工程装置 ４…排気管 ５ａ，５ｂ…集中排気管 ６ａ，６ｂ…真空排気設備 ７ａ〜７ｎ…スロットルバルブ ８ａ〜８ｎ…シャットオフバルブ ９…制御部 １０，１１…信号線 Ａ〜Ｇ…ワーク加工室

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 内部に単一又は複数のワーク加工室を備
   えた複数の製造工程装置を有し、上記各ワーク加工室に
   連結された排気管を各ワーク加工室で用いるガス種に応
   じて設けた一又は複数の集中排気管にガス種ごとに接続
   し、この集中排気管にはそれぞれ１台の真空排気設備を
   接続すると共に、上記各排気管を集中排気管に接続する
   部分には制御バルブを設け、かつこの制御バルブをコン
   トロールする制御部を設け、上記複数の製造工程装置に
   またがってガス種ごとに集中して真空排気するようにし
   たことを特徴とする真空集中排気システム。