JPH08195886A - 調整済みディザ・マトリックス生成方法 - Google Patents
調整済みディザ・マトリックス生成方法Info
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- JPH08195886A JPH08195886A JP7261997A JP26199795A JPH08195886A JP H08195886 A JPH08195886 A JP H08195886A JP 7261997 A JP7261997 A JP 7261997A JP 26199795 A JP26199795 A JP 26199795A JP H08195886 A JPH08195886 A JP H08195886A
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Abstract
ように調整を行ったディザ・マトリックスを生成する方
法およびシステムを提供する。 【解決手段】第1に、所望の階調反応に近似した階調反
応が予測されるディザ・マトリックスを初期的に作成
し、そのディザ・マトリックスを用いた実際の階調反応
を測定する。次に、実際の階調反応を基にしたディザ・
マトリックスに関する度数分布を作成し、これをディザ
生成プログラムに入力し、上記累積度数分布に準拠する
ディザ・マトリックスを生成する。こうして、所望の階
調反応に近似した階調反応を導出するように調整された
ディザ・マトリックスが生成される。
Description
像に関するもので、特に、中間調画像を作成する際に使
用するための調整済みディザ・マトリックスを生成する
システムおよび方法に関するものである。
ダリング(表現)装置は、中間調または連続階調画像と
して画像を表現するように設計することができる。中間
調画像に関しては、画像ピクセルの各々は、表現された
記号(symbol)を持つか、持たないかのいずれかであ
る。連続階調画像に関しては、1つのピクセルに関する
記号の各々が、多数の階調レベルのうちの1つを持つよ
うに更に工夫される。
成が容易で安い。多くの比較的低コストのプリンタは、
特に中間調画像を印刷するように設計される。そのよう
なプリンタを連続階調画像の印刷に使うためには、画像
を中間調画像に変換しなければならない。プリンタ産業
の目的の1つは、中間調画像が連続階調画像と視覚的に
見分けのつかなくなるような適切な変換技術を開発する
ことである。同様の目的は、他の出力装置にも存在す
る。
般的方法は、ディザ・マトリックスによるものである。
連続階調画像は、各々がある1つの値を有する多くのピ
クセルを持つ。ディザ・マトリックスは、物理的な空間
を占め、各々が1つの値を有する多数のエレメントを持
つ。このマトリックスが、連続階調画像上にマップされ
る。ディザ・マトリックスによって占められる空間より
大きい画像の場合、マトリックスは、全画像をカバーす
るように複製される。マトリックス中の各エレメント
は、その対応する連続階調画像ピクセルと比較される。
連続階調画像ピクセルの値が、マトリックスのエレメン
トの値より大きければ、そのピクセルは、中間調画像の
対応する位置に表現されない。
きい値と呼ばれる。ディザ・マトリックス中のしきい値
の分布は、ディザ・マトリックスの階調反応(tonal re
sponse)の良否を決定する。中間調プリンタの設計目標
は、連続階調画像の正確で、快適な再生である。このよ
うな目標を達成するために、ディザ・マトリックスは調
整されなければならない、すなわち、ディザ・マトリッ
クスを構成するしきい値が調整されなければならない。
調整の1つの目標は、特定の明暗の連続階調画像が中間
調プリンタに印刷される時、それぞれオリジナルの画像
と同じ明暗であることを保証することである。モニタな
どその他の出力装置についても同様の目標が存在する。
omatic printer calibration withscanners(スキャナ
に関する半自動プリンタ調整)"(Journal of Imaging S
cience and Technology, 36(3):211-219, 1992)に記載
されているような従来技術のアプローチでは、マトリッ
クスの中間調パターンが決定された後でディザ・マトリ
ックスが調整される。中間調パターンが保存されている
ので、マトリックスの階調レベルの数が小さい場合、こ
の方法はうまく働く。マトリックスの階調レベルの数
が、例えば、256のように大きくなると、この方法
は、いくつかの異なる中間調パターンを同じ階調レベル
にマップしてしまい、このため、調整後の階調レベルの
有効数が減少する。
Images Using Printed Symbols Modelling(印刷記号モ
デル化を使用する中間調画像)"に記載されている別の
アプローチでは、調整は、プリンタ・ドットをモデル化
して、ディザ・マトリックス生成プロセス中の階調上の
反応を予測することによって実行される。しかし、この
方法は、必ずしもすべての出力装置についてうまく働く
ものではなく、また、生成されたディザ・マトリックス
をさらに調整することができない。
リックス生成プロセスの間に調整を完了したディザ・マ
トリックスを生成するためのシステムおよび方法を提供
することが必要とされる。更に、階調レベルの使用可能
数を減らさずに、調整済みディザ・マトリックスを生成
するための方法およびシステムを持つことが必要とされ
る。また、出力装置が、ソースのダイナミック・レンジ
におけ識別可能な階調レベルの数を、それ自身のダイナ
ミック・レンジにおける同じ数のレベルにマップするこ
とを可能にするディザ・マトリックス調整システムおよ
び方法を持つことが必要とされる。更にまた、特定の中
間調画像出力装置に対しディザ・マトリックスの微調整
を行うことを可能にする方法およびシステムを提供する
ことが必要とされる。
応に近似した階調反応の導出が予測されるディザ・マト
リックスを作成し、上記作成したディザ・マトリックス
を用いて実際の階調反応を測定して、上記実際の階調反
応に基づいて上記作成したディザ・マトリックスに関す
る度数分布を処理し、上記累積度数分布をディザ生成プ
ログラムに入力して、上記累積度数分布に準拠するディ
ザ・マトリックスを生成することを含む。本発明の課題
は、次の方法によって解決される。
するように調整を行ったディザ・マトリックスを生成す
る方法であって、所望の階調反応に近似した階調反応の
導出が予測されるディザ・マトリックスを作成するステ
ップと、上記作成したディザ・マトリックスを用いて実
際の階調反応を測定するステップと、上記実際の階調反
応に基づいて上記作成したディザ・マトリックスに関す
る度数分布を処理するステップと、上記累積度数分布を
ディザ生成プログラムに入力して、上記累積度数分布に
準拠するディザ・マトリックスを生成するステップと、
を含む調整済みディザ・マトリックスを生成する方法。
みディザ・マトリックスを生成するためのコンピュータ
・システムのブロック図である。中央処理装置(CP
U)101にコンピュータ・メモリ103が接続してい
る。コンピュータ・メモリ103は、制御プログラム1
05、ディザ・マトリックス生成プログラム107およ
び累積度数分布生成プログラム109を含む。CPU1
01は、また、複数の2次的記憶装置(図示されていな
い)を接続することもある。それぞれのプログラム10
5、107および109は、これらの2次的記憶装置に
記憶され、これらのプログラムの実行に先がけてコンピ
ュータ・メモリにロードされることもある。
ックス生成プログラム107および累積度数分布生成プ
ログラムに論理的に接続している。
1に接続している。中間調出力装置111は、ディザ・
マトリックス生成プログラム107によって生成される
ディザ・マトリックスを使用して連続階調画像を出力す
るように動作する。中間調出力装置111は、白黒また
はカラーの中間調出力装置である。
0は、例えばコンピュータ・メモリ103に記憶されて
いるグレイスケール画像102を中間調画像104に変
換する。中間調画像は、中間調出力装置111に出力さ
れる記号によって表現される。図2は、中間調画像10
4を生成するためコンピュータ・システム100によっ
て使われる本発明にとって好ましいディザ・マトリック
ス110を示す。中間調画像104、連続階調画像10
2、およびディザ・マトリックス110は、それぞれ、
1つの領域を占有する。例えば、ディザ・マトリックス
は領域112を占有する。3つの領域は、互いに本質的
には等しい。ディザ・マトリックスのサイズは小さく、
そして出力装置の解像度に依存する。ディザ・マトリッ
クスは、次元のない整数アレイである。ディザ・マトリ
ックスのサイズは、それが含む行数および列数の点から
規定される。ディザ・マトリックスの行数および列数が
画像の行数および列数より小さい場合、マトリックスが
複製される。
2は、連続階調画像ピクセル114および中間調画像ピ
クセル116のような多くのピクセルを持つ。各ピクセ
ルは値を持つ。例えば、連続階調画像ピクセル114
は、200という値を持ち、中間調画像ピクセル116
は、0の値を持つ。ディザ・マトリックス110は、エ
レメント118のような多くのエレメントを持つ。1つ
の好ましい実施例においては、マトリックスは、128
行×128列のエレメントを持つ。各エレメントは、1
つの値を持ち、ディザ・マトリックス領域において1つ
の位置を占める。例えば、エレメント118は、値18
8を持ち、位置122を占める。
またはカラーのいずれかであろう。カラーを表す好まし
い方法の1つは、各ピクセル毎に、それぞれが異なるカ
ラーを持つ3つの要素または記号を持つものである。
像の各ピクセルの値をディザ・マトリックスのエレメン
トの値と比較するステップを含む。比較の結果に基づい
て、中間調画像の対応するピクセルの値が決定される。
例えば、連続階調画像ピクセル114の値200が、エ
レメント118の値188と比較される。比較に基づい
て、ピクセル116の値は、記号がそのピクセルに出力
されないことを意味するゼロのような最小値として決定
される。
従う調整済みディザ・マトリックスを生成するステップ
を示す流れ図である。第1のステップは、所望の階調反
応に近い階調反応を持つ(例えば、ディザ・マトリック
ス110のような)初期ディザ・マトリックスを生成す
る(ステップ301)。第1のステップの代替的ステッ
プは、ディザ・マトリックスに初期しきい値のセットを
与えることである。初期ディザ・マトリックスは、米国
特許出願第08/057,244号の"Halftone Image Using Prin
ted Symbols Modelling(印刷記号モデル化を使用する
中間調画像)"に記載の印刷記号モデル化技法を用いて
生成することができる。
方法の第2のステップは、ディザ・マトリックスを使用
して階調反応出力を測定することである。図1に戻っ
て、CPU101は、さらに階調反応測定装置113に
接続している。階調反応測定装置113は、例えば、以
下のものの1つである。すなわち、全体の反射エネルギ
ーを測定する密度計、デジタル出力を持つスキャナ、輝
度を出力する色彩計または分光光度計、またはCIEカ
ラー仕様を測定する分光計または色彩計。最後の場合、
階調反応は、CIEカラー仕様から得られる色差であ
る。このように、階調反応の特性は、それを測定するた
めに使われる機器に依存する。
ルに対応する出力パターンが、中間調出力装置104上
に出力される。これらの中間調出力は、階調反応測定装
置113によって読み取られる。階調反応測定装置から
の測定値は、階調レベルの関数である。図6の曲線60
1は、ある特定のディザ・マトリックスに対応する階調
反応の1例として示されている。
方法の第3のステップは、測定された階調反応に応答し
たマトリックスを記述する累積度数分布を処理すること
である。図4は、ある1つのディザ・マトリックスに関
する累積度数分布の図形表示である。累積度数分布は、
階調レベルの関数である。ある所与の階調レベルに関し
て、累積度数分布は、その階調レベルにおいて画像の中
間調表現に出力されるドットの数を示す。図4におい
て、垂直軸401は、ドット数を示し、水平軸403は
階調レベルを示す。曲線405は、ディザ・マトリック
スの累積度数分布を示す。例えば、図2のディザ・マト
リックス110のような128×128ディザ・マトリ
ックスを所与とすれば、(0から255までの)256
の階調レベルがある。例えば、曲線405上の点407
は、階調レベル120に対応しているが、この点では、
あるパターンに関してその階調レベルに該当する100
0個のピクセルがオンになっている。対応するディザ・
マトリックスにおいては、値が120以下を持つエレメ
ントが1000個ある。
クスを生成する方法の最後のステップは、累積度数分布
をディザ・マトリックス生成プログラム107に入力す
ることである。
が決定される。目標階調反応は、アプリケーションによ
って変わる。新しいディザ・マトリックスの階調反応を
既存のディザ・マトリックスのそれに調整しようとする
場合は、例えば、目標階調反応は、既存のディザ・マト
リックスの階調反応である。別の例は、ディザ・マトリ
ックスの輝度を線形化する場合であり、この場合目標階
調反応は、線形の輝度である。
め、またはディザ・マトリックスを初期状態にするた
め、目標階調反応に近い階調反応をもつディザ・マトリ
ックスが生成される(ステップ301)。これを達成す
る1つの方法は、米国特許出願第08/057,244号の"Halft
one images using printed symbol modelling(印刷記
号モデル化を使用する中間調画像)"に記載されている
方法に従うものである。各中間調パターン、すなわち、
各階調レベルに対応する中間調パターンを生成するため
に使われるそれぞれのパターンについて、有効ドット領
域は、プリンタ・ドット・モデルを使用して予測でき
る。有効ドット領域に基づいて、階調反射率は、TAGA P
roc., 3:65-76, 1951掲載のJ.A.C.Yule および W.J.Nie
lsen共著の"thepenetration of light into paper and
its effect on halftone reproduction用紙への光の浸
透および中間調生成に及ぼすその効果)"(TAGA Proc.,
3:65-76, 1951)に記載のユール−ニールセン(Yule-N
ielsen)方程式を使用して計算することができる。各中
間調パターンの階調反射率がわかれば、目標階調反応に
近い階調反応をもつディザ・マトリックスを生成するこ
とができる。
修正された累積度数分布に従うディザ・マトリックスを
生成し、それによって調整済みディザ・マトリックスを
生成するという本発明の第1の実施例のステップを示す
流れ図である。図5の方法は、累積度数分布および関連
ディザ・マトリックスを反復的に改良するプロセスであ
る。この方法では、生成されるディザ・マトリックスが
一定の許容基準の範囲内の階調反応、すなわち、所望の
階調反応に非常に近い階調反応を作り出すまで、累積度
数分布に対する反復的な調整が行われる。
図3のステップ301およびステップ303と同じであ
る。初期ディザ・マトリックスの生成およびその対応す
る階調反応の測定値に続いて、測定された階調反応と所
望の階調反応との間の差が判定される(ステップ50
1)。
間の差が十分小さい、すなわち、予め定められた許容基
準に合致すれば(ステップ503)、プロシージャは終
了する(ステップ505)。
度数分布が修正される(ステップ507)。図7は、累
積度数分布の修正を示す。曲線701は、ディザ・マト
リックスの累積度数分布を示す。所望の階調反応とディ
ザ・マトリックスの階調反応の比較結果が、中間調出力
が明るすぎることを標示する場合、累積度数分布は、上
方に移動される、すなわち、所与の階調レベルでオンに
セットされるピクセルの数が増やされる。この移動は、
図7において曲線703によって示されている。一方、
階調反応が暗すぎる場合、累積度数分布は、下方に移動
される、すなわち、各階調レベルでオンにセットされる
ピクセルの数が減らされる。このタイプの調整は、曲線
705として示されている。
一定の階調レベルに対する階調反応が低すぎることも、
高すぎることもあり得る。そのような状況で、累積度数
分布は、ある階調レベルについては減じられ、別の場合
には増やされることもある。曲線707は、そのような
調整を図解している。
いディザ・マトリックスが生成され(ステップ50
9)、続いて、プロシージャは測定値ステップ303へ
戻る。所与の累積度数分布に準拠するディザ・マトリッ
クスの生成については、図10ないし図14を参照しな
がら後述する。
を構成するエレメントのしきい値が、直接マッピング法
を使用して調節される。この方法では、測定される階調
反応関数がオリジナルの階調で持つものと同じ値を所望
の階調反応関数が持つ点の階調レベルにしきい値が設定
される。図8は、この概念を図示する。
生成する直接マッピング法のステップを示す流れ図であ
る。最初の2つのステップは、図3のステップ301お
よびステップ303と同じである。ステップ303で、
階調反応関数foが測定される。次に、ディザ・マトリッ
クスのしきい値は、測定された階調反応および所望の階
調反応に基づいて新しい値にマップされる(ステップ9
01)。
と図示されるオリジナルの階調反応関数fo(x)を持つ。
所望の階調反応関数fd(x)は、曲線803として示され
る。ディザ・マトリックスは、エレメントtijから成
り、各tijは、階調レベルの範囲内のある値を持つ。
述される方法を使用して変更される。
に) For each tij with a value eqaul to a:(aに等しい値
を持つ各tij毎に) tij := fx(a) すなわち、各tijは、その値の関数である1つの値にセ
ットされる。
(fo(x))である。これは、図8で図示される特定のケー
スである。曲線801上の点805を所与とすれば、そ
れは階調レベルaに対応する。各しきい値について、階
調反応が決定される。従って、図8において、値aにつ
いて、階調反応は、fo(a)の値、点805である。次
に、fd(x) = fo(a)の場合、所望の階調反応関数fd(x)上
の点が決定される。この点は、点807である。その点
の縦軸(この例では値b)が決定される。最後に、値aを
持つ各tijが値bにセットされる。
関数が線形である場合、fx(a)はfo(a)である。このケー
スでは、各しきい値aについて、値aを持つディザ・マト
リックス・エレメントtijは、fo(a)にセットされる。
値マトリックスが得られる(ステップ901)。しか
し、量子化誤差のため、数多くの階調レベルが失われる
可能性がある。失われた階調レベルを補正するため、ス
テップ901、ステップ903で得られたマトリックス
に関して累積度数分布が計算される。
(ステップ905)。平滑化ステップ(ステップ90
5)の間、いかなる離散的なステップも平滑化され、そ
の結果、厳密な単調累積度数分布が生成される。
布がディザ・マトリックス生成プログラム107に入力
され、累積度数分布に基づいたディザ・マトリックスが
生成される(ステップ907)。
生成するプロセス200を示す。第1のステップ202
では、1またはゼロの値を持つエレメントで中間的パタ
ーンを生成する。1を持つエレメントは、パターンの範
囲内に実質的に均等に分散される。エレメントの値は、
記号モデルに依存して定められる。図11は、128行
×128列のエレメントを持った中間的パターン300
の例を示す。図11に示されているパターンは、600
DPIプリンタを用いて印刷されたもので強調のため9
倍に拡大してあり、最初に水平方向、次いで垂直方向に
複製して4倍に複製してある。記号の出力は、その位置
におけるエレメントが1の値を持つことを意味し、無記
号は、その位置におけるエレメントが0の値を持つこと
を意味する。
ントが中間的パターン300より少ないディザ・マトリ
ックス110が生成される。これは、エレメントの値を
記号のモデルによって修正することにより、また、複数
の1を中間的パターン300からの0と置き換えること
によって行われる。フィルタによって部分的に群がって
いると識別される1を持つエレメントに関する区域にあ
る1が置き換えられる。ある1つのパターンとその次の
パターンとの1を持つエレメントの数の差は、量子化数
に依存する。
300よりゼロが少ないディザ・マトリックスが生成さ
れる。これは、エレメントの値を記号のモデルによって
修正することにより、また、複数の0を中間的パターン
300からの1と置き換えることによって行われる。フ
ィルタによって部分的に集まっていると識別される0を
持つエレメントに関する区域にある0が置き換えられ
る。ある1つのパターンとその次のパターンとの0を持
つエレメントの数の差は、量子化数に依存する。
・マトリックス110が、すべてのパターンを中間的パ
ターンに加えることによって形成される。
されない。第3のステップ206を、第2のステップ2
04の前に実行することもできる。第4のステップ20
8が、まとめのステップとして、パターンを生成する。
例えば、中間的パターンの形成の後、パターンはディザ
・マトリックスにコピーされる。このようにして、追加
パターンの各々が生成される都度、それは、マトリック
ス加算によってディザ・マトリックスに加えられる。従
って、すべてのパターンが生成される時、ディザ・マト
リックス110もまた形成される。
10は、128行×128列のエレメントを持ち、グレ
イスケール画像102は、記号のないレベルおよび全体
が記号でおおわれているレベルという2つの終端レベル
を含めて256レベルの明度を持つ。明度のレベルは、
ディザ・マトリックス110に関するパターンの数を決
定する。1つの好ましい実施例では、中間的パターンを
含むパターンの総数は、256である。あるパターンと
その次のパターンとの間における1と等しい値を持つエ
レメント数の差は、量子化数に依存する。累積度数分布
に準拠するディザ・マトリックスを生成するために、量
子化数は、度数分布に依存し、連続した階調レベル値の
間の度数分布の値の増分として規定される。
るステップ202を更に詳細に記述している。中間的パ
ターンは、1と0がランダムに分散されているランダム
・パターンにセットされる(ステップ425)。好まし
くは、ランダム・パターン中の少なくとも(100/2
55)パーセントのエレメントが1に等しい値を持ち、
ランダム・パターン中の少なくとも(100/255)
パーセントのエレメントが0に等しい値を持つ。次に、
中間的パターン300がダミー・パターンにコピーされ
る(ステップ426)。ダミー・パターンの中のエレメ
ントの値は、記号のモデルによって修正される(ステッ
プ427)。エレメントの値を修正する別の好ましい方
法は、位置の関数としてトナー粒子を持つ確率を見つけ
るものである。プリンタの中には、レーザ・プリンタの
ように、トナー粒子を使用して記号を生成するものがあ
る。1つの実施例では、トナー粒子を生成する光学ビー
ムは、形状的にガウス型である。従って、好ましくは、
トナー粒子を持つ確率は、ガウス型形状に従う。記号モ
デルを使用し、位置の関数としてトナー粒子を持つ確率
を使用してダミー・パターンのエレメントの値を修正す
る方法の詳細は、米国特許出願第08/057,244号の"Halft
one Images Using Printed Symbols Modelling(印刷記
号モデル化を使用する中間調画像)"に記載されてい
る。
中のエレメントの値が修正された(ステップ427)
後、次のステップは、ダミー・パターンをフィルタに通
すことである。好ましいフィルタの例が、米国特許第5,
317,418号に記載されている。ダミー・パターンは、フ
ィルタに掛けられる前に、2次元的に複製される。これ
は、巡回畳込み法(circular convolution)として知ら
れている。修正されたダミー・パターンに関し、サブ・
エレメントおよびビット・マップを用いて、フィルタ
は、例えばあらゆるサブ・エレメントまたはあらゆるビ
ット・マップにおいて行うように、頻度をより多くして
サンプルしなければならない。フィルタ・プロセスにつ
いては、本明細書でこれ以上の説明を行わない。この種
の空間フィルタリングに関する一般的議論は、A.V. Opp
onheimおよびR.W.Schafer共著の"Discrete Time Signal
Processing(離散時間信号処理)"( Prentice Hall, 1
989)に記載されている。
いる位置で、最大の値を持ち、無(例えばゼロ)が最も
多い位置で最小の値を持つ。最大の値をもつ位置は、最
大位置として識別され、最小の値をもつ位置は、最小位
置として識別される(ステップ430)。1と無が等し
く分布している場所があれば、複数の最大、最小位置が
存在することになる。1つの好ましい実施例では、最大
であるとみなされ、中間的パターンの対応する位置に1
の値を持つ最初の位置が、最大位置として選択される。
同様に、最小であるとみなされ、中間的パターンの対応
する位置にゼロの値を持つ最初の位置が、最小位置とし
て選択される。
ップ430)後、中間的パターン300中のそれらエレ
メントが交換される(ステップ432)。
ルによって修正されフィルタにかけられるためダミー・
パターンに再びコピーされる。これらのステップは、中
間のパターンが、図11に示される例のように平衡状態
に達するまで、数回繰り返される(ステップ434)。
その時点で、1およびゼロは、パターン内で均等に分散
される。
エレメントを持つ1つまたは複数のパターンを必要とす
る。図13は、1が中間的パターンより少いディザ・マ
トリックスのパターンを生成するステップ204を詳細
に記述している。
合、最初に、中間的パターン300が、暫定中間的パタ
ーンにコピーされ(ステップ521)、また、ダミー・
パターンにもコピーされる(ステップ522)。次に、
ダミー・パターン中のエレメントの値が、上述のとおり
記号モデルによって修正され(ステップ524)、開始
時総和が生成される(ステップ526)。
れたパターンの値の総和に等しい。ユール‐ニールセン
方程式を用いて、パターン上の有効記号領域に基づいて
階調反射率を計算する方法は上述されている通りのもの
である。次に、ダミー・パターンがフィルタにかけら
れ、1が最大位置として最も集中しているダミー・パタ
ーンの位置が識別される(ステップ527)。この識別
ステップは、シグマ1.5を持つ正規化されたガウス型
フィルタによる上述方法と同様であり、これ以上の説明
は行わない。暫定的中間的パターンの最大位置における
エレメントの値は、ゼロに置き換えられる(ステップ5
28)。
ー・パターンにコピーされる(ステップ529)。ダミ
ー・パターンは、再度、記号モデルによって修正され
(ステップ530)、終了時総和が生成される(ステッ
プ532)。終了時総和は、開始時総和と同じ方法で生
成される。
化数以下となり、ディザ・マトリックスの1つのパター
ンが生成されるまで、本発明の方法は、"識別"ステップ
527へ戻る。そこで、開始時総和が終了時総和である
ようにセットされ(ステップ535)、生成されたパタ
ーンがコンピュータ100に記憶される。量子化数は、
累積度数分布に応じて決定される。
ディザ・マトリックスの多数のパターンが生成されるま
で、本発明の方法は、"識別"ステップ527へ戻る(ス
テップ536)。最も疎なパターンが記号なしのパター
ンであるので、最も疎なパターンより上のパターンが生
成されると、本方法は停止する。
ロの少ない1つ以上のパターンを必要とする。図14
は、中間的パターンよりゼロの少いディザ・マトリック
ス110のパターンを生成するステップ206を詳細に
記述している。図14で示されるステップは、図13で
示されたステップに類似している。最初に、中間的パタ
ーン300が、暫定中間的パターンにコピーされ(ステ
ップ551)、また、ダミー・パターンにもコピーされ
る(ステップ552)。次に、ダミー・パターン中のエ
レメントの値が、記号モデルによって修正され(ステッ
プ554)、開始時総和が生成される(ステップ55
6)。ゼロを持つエレメントが最も群がっているダミー
・パターンの位置におけるエレメントが最小位置にある
と識別される(ステップ557)。暫定的中間的パター
ンの最小位置におけるエレメントが、1に置き換えられ
る(ステップ558)。次に、暫定的中間的パターンの
値は、ダミー・パターンにコピーされ(ステップ55
9)、ダミー・パターンのエレメントは、再度、記号モ
デルによって修正され(ステップ560)、終了時総和
が生成される(ステップ562)。開始時総和と終了時
総和との間の差が量子化数以下となり、ディザ・マトリ
ックスの1つのパターンが生成されるまで、識別"ステ
ップ557からの上記ステップが繰り返される。そこ
で、開始時総和が終了時総和であるようにセットされ
(ステップ565)、生成されたパターンがコンピュー
タ100に記憶される。最後に、終了時総和が((ディ
ザ・マトリックスのパターン総数−1)*量子化数)以
下となって、ディザ・マトリックスの多数のパターンが
生成されるまで、本発明の方法は、"識別"ステップ55
57からの上記ステップを繰り返す。上記好ましい実施
例におけるパターン総数は256である。最も密なパタ
ーンは記号が一杯に埋まったパターンであるので、最も
密なパターン以下のパターンが生成されると、このプロ
セスは停止する。
は、中間調パターンの密度を入力デジタル量の線形関数
にする。従って、目標階調反応は、密度の線形関数であ
る。中間調パターンの密度は、密度計で正確に測定する
ことができる。
タがスキャナに接続している複写機の応用分野では、コ
ピーが階調反応の点でオリジナルに一致することが望ま
しい。可能なソース画像は、例えば、写真、電子画像、
印刷テキス等多数ある。従って、ソース画像は、レンダ
リング装置の階調レンジと異なる階調ダイナミック・レ
ンジを持つことがある。そのような応用分野において
は、図1の階調反応測定装置113がスキャナである場
合があり、ディザ・マトリックス調整アルゴリズムは、
ソースのダイナミック・レンジをレンダリング装置のダ
イナミック・レンジ上へマップする。すべての入力デジ
タル値に対する中間調パターンが最大最小の範囲(例え
ば、0から255まで)であれば、典型的には、中間調
パターンに対する通常の走査値は、次式の部分範囲S1:S
2内にある。 min < S1 =< scanned value(走査値)<= S2 < max 1つの実施例では、図15の(a)に示されるように、
所望の階調反応関数は、S1とS2の間の線形関数として選
択される。走査された文書が、プリンタが作成すること
ができるより大きい階調域を持つならば、このマッピン
グから生成されるディザ・マトリックスは、階調域外の
階調をS1かS2かいずれか近い方に当てる。
は、最小から最大までの範囲に正規化されるように選択
され、図15の(b)に示されるように、階調反応関数
は、最小と最大の間で線形化される。このマッピングか
ら生成されたマトリックスは、S1からS2までの範囲へ
の文書全階調の線形圧縮を効果的に行う。走査される文
書中の全階調内階調はわずかにシフトされるが、関連す
る階調関係は維持される。
接する入力レベル間の認められた色差を均一にさせるこ
とが望ましい。調整プロセスの第1のステップは、入力
デジタル量の関数として線形累積色差を生むディザ・マ
トリックスを生成することである。これは、ドット利得
問題を解消し、ディザ・マトリックスにおける有効レベ
ルの数を増やす。
調整の1つの実施例では、CIELAB色差が使われ
る。 ΔE=((ΔL*)2+(Δa*)2+(Δb*)2)1/2 図16は、カラー中間調画像表現のためのディザ・マト
リックスの調整を図解したものである。初期ディザ・マ
トリックスが、上述の通り、および、米国特許第5,317,
418号の"Halftone Images Using Special Filters(特
殊フィルタ使用の中間調画像)"に記載されている方法
で、生成される。オリジナルのマトリックスは、線形度
数分布を使用する。
L*a*b*測定値をとり、累積色差データを計算する。
曲線161はオリジナルのディザ・マトリックスを使用
したΔEを示す。カラー誤差は、明るい領域(大きい階
調レベル)で大きく、陰の領域(小さい階調レベル)で
小さい。曲線161は、マップ関数を示す。カラー・レ
ーザ・プリンタ・エンジンの動作に従って影の領域にお
いて必要とされる補正を減らすため、累積色差に対する
わずかな調整が行われる。レーザ・プリンタが陰影領域
において安定的に階調を複製しないため、陰影領域にお
いて小さい偏差が意図的に付けられる。すべての区域に
おいて均一な階調生成ができる出力装置については、そ
のような調整を行うことは必要でない。
図9に関連して述べたように、新しい値にマップされ
る。マッピングの後、カラー誤差は、曲線165によっ
て図示されるように、各階調レベルについて均一であ
る。
が含まれる。 (1)所望の階調反応に近似した階調反応を導出するよ
うに調整を行ったディザ・マトリックスを生成する方法
であって、(A)所望の階調反応に近似した階調反応の導
出が予測されるディザ・マトリックスを作成するステッ
プと、(B)上記作成したディザ・マトリックスを用いて
実際の階調反応を測定するステップと、(C)上記実際の
階調反応に基づいて上記作成したディザ・マトリックス
に関する度数分布を処理するステップと、(D)上記累積
度数分布をディザ生成プログラムに入力して、上記累積
度数分布に準拠するディザ・マトリックスを生成するス
テップと、を含む調整済みディザ・マトリックスを生成
する方法。 (2)上記ステップ(C)が、(C.1)上記階調反応と上記所
望の階調反応との間の差を計算するステップと、(C.2)
上記差を使用して、累積度数分布を修正し、上記測定し
た階調反応が上記所望の階調反応と一致するまで上記ス
テップ(B)ないし(D)を繰り返すステップと、を含む、上
記(1)に記載の調整済みディザ・マトリックスを生成
する方法。 (3)上記ステップ(A)が、モデルに基づくアプローチ
を使用して、上記所望のディザ・マトリックスに近似の
階調反応を持つディザ・マトリックスを計算するステッ
プを含む、上記(2)に記載の調整済みディザ・マトリ
ックスを生成する方法。 (4)上記モデルに基づくアプローチが、プリンタ・ド
ット・モデルである、上記(3)に記載の調整済みディ
ザ・マトリックスを生成する方法。
調反応が、密度計、スキャナからのデジタル出力、分光
計で測定される輝度、色彩計で測定される輝度、分光計
を使用して測定したCIEカラー仕様の処理から得られ
る色差、および色彩系を使用して測定したCIEカラー
仕様の処理から得られる色差を含むグループから選択さ
れる少くとも1つの技法を使用して測定される、上記
(1)に記載の調整済みディザ・マトリックスを生成す
る方法。 (6)上記ステップ(C)が、(C.3)階調反応がディザ・マ
トリックスを使用する出力が暗すぎことを標示する場
合、累積度数分布を下方に移動するステップと、(C.4)
階調反応がディザ・マトリックスを使用する出力が明る
すぎることを標示する場合、累積度数分布を上方に移動
するステップと、を含む、上記(1)に記載の調整済み
ディザ・マトリックスを生成する方法。 (7)上記調整済みディザ・マトリックスが、xを階調
レベルであるとして、所望の階調反応関数fd(x)に準拠
し、上記ステップ(A)で生成される上記ディザ・マトリ
ックスが、N×Mのしきい値エレメントtijを持ち、上
記ディザ・マトリックスが、xを階調レベルであるとし
て、階調反応関数fo(x)を持ち、上記ステップ(D)が、
(D.1)各しきいaに関し、値aを持つ各tijに関し、aの関
数である値に等しいtijにセットするステップを含む、
上記(1)に記載の調整済みディザ・マトリックスを生
成する方法。 (8)上記aの関数がfd -1[fo(a)]である、上記(7)に
記載の調整済みディザ・マトリックスを生成する方法。 (9)fd(x)が線形であり、値aのそれぞれに関し、値a
を持つ各tijに関し、上記aの関数がfo(a)である、上記
(7)に記載の調整済みディザ・マトリックスを生成す
る方法。 (10)関数fdに関する範囲を連続階調のサブセットで
あると規定するステップを含む上記(7)に記載の調整
済みディザ・マトリックスを生成する方法。 (11)上記ステップ(C)が、(C.5)上記累積度数分布
が、厳密に単調な累積度数分布であるように、離散的段
階を平滑化するステップ、を含む上記(1)に記載の調
整済みディザ・マトリックスを生成する方法。
の階調反応関数fd(x)に準拠するように調整したディザ
・マトリックスを生成する方法であって、(A)N×Mの
しきい値エレメントtijを持ち、上記ディザ・マトリッ
クスが、xを階調レベルであるとして、階調反応関数f
o(x)を持つディザ・マトリックスを生成するステップ
と、(B)各しきい値aに関し、値aを持つ各tijに関し、t
ijをfd -1[fo(a)]に等しくセットするステップと、を含
む調整済みディザ・マトリックスを生成する方法。 (13)関数fdに関する範囲を連続階調のサブセットで
あると規定するステップを含む上記(12)に記載の調
整済みディザ・マトリックスを生成する方法。 (14)関数fdが線形である、上記(13)に記載の調
整済みディザ・マトリックスを生成する方法。 (15)fd(x)が線形であって、そのため、各値aに関し
て、値aを持つ各tijをfo(a)に等しくセットする、上記
(12)に記載の調整済みディザ・マトリックスを生成
する方法。 (16)(C)ディザ・マトリックスの累積度数分布を計
算するステップと、(D)離散的段階を平滑化して厳密に
単調な累積度数分布を生成するするステップと、(E)上
記単調累積度数分布をディザ・マトリックス生成プログ
ラムに入力するステップと、を更に含む上記(12)に
記載の調整済みディザ・マトリックスを生成する方法。
トリックスを生成するシステムであって、(A)コンピュ
ータ・プログラムを実行するように動作することができ
る中央処理装置と、(B)上記中央処理装置に接続したメ
モリと、(C)上記メモリにロードされ、累積度数分布図
を入力として受け取るように動作し、上記累積度数分布
に準拠するディザ・マトリックスを作成するように動作
することができるディザ・マトリックス生成プログラム
・モジュールと、(D)上記中央処理装置に接続した中間
調出力装置と、(E)上記中央処理装置に接続した階調反
応測定装置と、(F)(F.1)上記ディザ・マトリックス生成
プログラム・モジュールを制御して、初期ディザ・マト
リックスを作成させるステップと、(F.2)中間調出力装
置を制御して、各連続階調レベルに関するサンプル出力
を出力させるステップと、(F.3)上記階調反応測定装置
を制御して、各サンプル出力について階調反応を測定さ
せるステップと、(F.4)各サンプル出力に関する上記階
調反応をコンパイルして階調反応関数を作成するステッ
プと、(F.5)上記階調反応関数を所望の階調反応関数と
比較して、修正された累積度数分布を生成するステップ
と、(F.6)上記ディザ・マトリックス生成プログラム・
モジュールを制御して、上記修正された累積度数分布を
使用して調整済みディザ・マトリックスを生成させるス
テップとを含むプロセスを実行する上記メモリにロード
された制御プログラム・モジュールと、を備えた調整済
みディザ・マトリックスを生成するシステム。
品位の中間調出力装置に適用できるディザ・マトリック
スを、所望の階調反応に近似した中間調出力の階調反応
を保つように生成することができる。
を生成するためのコンピュータ・システムのブロック図
である。
る好ましいディザ・マトリックスを示す図である。
済みディザ・マトリックスを生成するステップを示す流
れ図である。
示す図である。
ックスを生成する本発明の第1の実施例のプロセスを示
す流れ図である。
を示す図である。
マッピングを示す図である。
接マッピング方法の流れ図である。
ましいプロセスを示す流れ図である。
ターンの拡大写真である。
示す流れ図である。
リックスのパターンを生成するプロセスの流れ図であ
る。
リックスのパターンを生成するプロセスの流れ図であ
る。
応および所望の階調反応関数の線形化の例を示す図であ
る。
リックスの調整を示す図である。
像 103 コンピュータ・メモリ 104 中間調画像 105 制御プログラム 107 ディザ・マトリックス生成プログラム 109 累積度数分布生成モジュール109 110 ディザ・マトリックス 111 中間調出力装置 112 領域 113 階調反応測定装置 114 連続階調画像ピクセル 116 中間調画像ピクセル 118 エレメント 122 位置 405、601、703、705、707、801
曲線
Claims (1)
- 【請求項1】所望の階調反応に近似した階調反応を導出
するように調整を行ったディザ・マトリックスを生成す
る方法であって、 所望の階調反応に近似した階調反応の導出が予測される
ディザ・マトリックスを作成するステップと、 上記作成したディザ・マトリックスを用いて実際の階調
反応を測定するステップと、 上記実際の階調反応に基づいて上記作成したディザ・マ
トリックスに関する度数分布を処理するステップと、 上記累積度数分布をディザ生成プログラムに入力して、
上記累積度数分布に準拠するディザ・マトリックスを生
成するステップと、 を含む調整済みディザ・マトリックスを生成する方法。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US08/308,321 US5760920A (en) | 1994-09-19 | 1994-09-19 | System and method for generating calibrated dither matrices |
US308,321 | 1994-09-19 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH08195886A true JPH08195886A (ja) | 1996-07-30 |
Family
ID=23193513
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP7261997A Pending JPH08195886A (ja) | 1994-09-19 | 1995-09-18 | 調整済みディザ・マトリックス生成方法 |
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---|---|
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JP (1) | JPH08195886A (ja) |
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- 1995-09-18 JP JP7261997A patent/JPH08195886A/ja active Pending
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