JPH08190731A - ヒートモード記録材料 - Google Patents
ヒートモード記録材料Info
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- JPH08190731A JPH08190731A JP14572595A JP14572595A JPH08190731A JP H08190731 A JPH08190731 A JP H08190731A JP 14572595 A JP14572595 A JP 14572595A JP 14572595 A JP14572595 A JP 14572595A JP H08190731 A JPH08190731 A JP H08190731A
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- mode recording
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- B41M—PRINTING, DUPLICATING, MARKING, OR COPYING PROCESSES; COLOUR PRINTING
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- B41M5/24—Ablative recording, e.g. by burning marks; Spark recording
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- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
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- B41M5/00—Duplicating or marking methods; Sheet materials for use therein
- B41M5/26—Thermography ; Marking by high energetic means, e.g. laser otherwise than by burning, and characterised by the material used
- B41M5/40—Thermography ; Marking by high energetic means, e.g. laser otherwise than by burning, and characterised by the material used characterised by the base backcoat, intermediate, or covering layers, e.g. for thermal transfer dye-donor or dye-receiver sheets; Heat, radiation filtering or absorbing means or layers; combined with other image registration layers or compositions; Special originals for reproduction by thermography
- B41M5/42—Intermediate, backcoat, or covering layers
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- Y10T428/24917—Discontinuous or differential coating, impregnation or bond [e.g., artwork, printing, retouched photograph, etc.] including metal layer
Landscapes
- Thermal Transfer Or Thermal Recording In General (AREA)
- Preparing Plates And Mask In Photomechanical Process (AREA)
- Optical Record Carriers And Manufacture Thereof (AREA)
- Heat Sensitive Colour Forming Recording (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 レーザー記録上に干渉パターンが減じられた
又は全く存在しない薄い金属層に基づいたヒートモード
記録材料を提供する。 【構成】 下記（ａ）〜（ｄ）をこの順序で含むヒート
モード記録材料： （ａ） 支持体、（ｂ） 粗性化剤を含有する層、
（ｃ） 金属記録層、（ｄ） 保護材料。
又は全く存在しない薄い金属層に基づいたヒートモード
記録材料を提供する。 【構成】 下記（ａ）〜（ｄ）をこの順序で含むヒート
モード記録材料： （ａ） 支持体、（ｂ） 粗性化剤を含有する層、
（ｃ） 金属記録層、（ｄ） 保護材料。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は薄い金属記録層を含有す
る改良されたヒートモード記録材料に関する。
る改良されたヒートモード記録材料に関する。
【０００２】
【従来の技術】高エネルギー濃度を有するレーザー光線
のような強い放射線の使用によって記録が熱的になされ
る記録材料が開示されている。このような熱的記録又は
ヒートモード記録材料では情報は記録層上の透過光学濃
度及び／又は反射の違いを創造することによって記録さ
れる。記録層は高光学濃度を有し、その上に当たる放射
光線を吸収する。放射線の熱への変換は局部的な温度上
昇をもたらし、蒸発又はアブレーションのような熱的変
化を記録層に起こす。結果として、記録層の照射部分は
全体的に又は部分的に除去され、光学濃度の違いが照射
部分と非照射部分の間に形成される（参照、米国特許Ｎ
ｏ．４２１６５０１、４２３３６２６、４１８８２１４
及び４２９１１１９及び英国特許Ｎｏ．２０２６３４
６）。
のような強い放射線の使用によって記録が熱的になされ
る記録材料が開示されている。このような熱的記録又は
ヒートモード記録材料では情報は記録層上の透過光学濃
度及び／又は反射の違いを創造することによって記録さ
れる。記録層は高光学濃度を有し、その上に当たる放射
光線を吸収する。放射線の熱への変換は局部的な温度上
昇をもたらし、蒸発又はアブレーションのような熱的変
化を記録層に起こす。結果として、記録層の照射部分は
全体的に又は部分的に除去され、光学濃度の違いが照射
部分と非照射部分の間に形成される（参照、米国特許Ｎ
ｏ．４２１６５０１、４２３３６２６、４１８８２１４
及び４２９１１１９及び英国特許Ｎｏ．２０２６３４
６）。
【０００３】かかるヒートモード記録材料の記録層は通
常、金属、染料又は重合体から作られる。このような記
録材料は“ Electron ， Ion and Laser Beam Tech
nology ”、 M. L. Levene ら著； The Proceeding
s of the Eleventh Symposium （１９６９）；“ E
lectronics ”（１９６８年３月１８日）、５０頁；
“ The Bell System Technical Journal ”、 D.
Maydan 著、Vol.５０（１９７１）、１７６１頁；及び
“ Science ”、C. O. Carlson 著、Vol.１５４（１９
６６）、１５５０頁に記載されている。
常、金属、染料又は重合体から作られる。このような記
録材料は“ Electron ， Ion and Laser Beam Tech
nology ”、 M. L. Levene ら著； The Proceeding
s of the Eleventh Symposium （１９６９）；“ E
lectronics ”（１９６８年３月１８日）、５０頁；
“ The Bell System Technical Journal ”、 D.
Maydan 著、Vol.５０（１９７１）、１７６１頁；及び
“ Science ”、C. O. Carlson 著、Vol.１５４（１９
６６）、１５５０頁に記載されている。
【０００４】かかる熱的記録材料上の記録は通常記録さ
れるべき情報を電気時系列信号に変換し、信号に従って
変調されるレーザー光線で記録材料を走査することによ
って達成される。この方法は記録画像をリアルタイムに
（すなわち、即座に）得ることができる点で有利であ
る。このタイプの記録材料は“直線追記型”（ＤＲＡ
Ｗ）材料と称せられる。ＤＲＡＷ記録材料は人の判読で
きる又は機械の判読できる記録を生みだすために像に従
って変調されたレーザー光線を記録するための媒体とし
て使用することができる。人の判読できる記録として
は、例えば拡大及び投射して判読できるマイクロ画像が
ある。機械の判読できるＤＲＡＷ記録材料の例は光ディ
スクである。今日まで光ディスクの製造のためにテルル
及びその合金がレーザー光線で局部的に加熱することで
ピット形成し反射率を減ずる高反射の薄い金属フィルム
を形成するために広く使用されている（参照、例えば定
期刊行誌“ Physik in unserer Zeit ”１５、 Jah
rg. １９８４／Ｎｒ．５、１２９〜１３０の記事“ Opt
ische Datenspeicher ” Jochen Fricke 著）。テ
ルルは有毒であり、酸素及び湿度に対する感受性のため
に記録保存性に劣る。ＤＲＡＷヒートモード記録に使用
するために好適な他の金属はＵＳ−Ｐ４４９９１７８及
びＵＳ−Ｐ４３８８４００に記載されている。毒性問題
を避けるためにビスマスのような他の相対的に低溶融の
金属がヒートモード記録層の製造に導入されている。こ
のような記録材料を高出力レーザーのパルスによって極
めて短く露光することによって放射線がビスマス層面に
当たると熱に変換される。結果として筆記部分は少量の
ビスマス層を融蝕又は溶融する。溶融するとすぐにその
層は表面張力によって加熱部分上を収縮し、かくして小
さなキャビテーション又は穴を形成する。結果として光
はこれらのキャビテーションを通して透過することがで
き、その濃度は照射されたレーザーエネルギーによって
一定のＤｍｉｎ値に低下される。
れるべき情報を電気時系列信号に変換し、信号に従って
変調されるレーザー光線で記録材料を走査することによ
って達成される。この方法は記録画像をリアルタイムに
（すなわち、即座に）得ることができる点で有利であ
る。このタイプの記録材料は“直線追記型”（ＤＲＡ
Ｗ）材料と称せられる。ＤＲＡＷ記録材料は人の判読で
きる又は機械の判読できる記録を生みだすために像に従
って変調されたレーザー光線を記録するための媒体とし
て使用することができる。人の判読できる記録として
は、例えば拡大及び投射して判読できるマイクロ画像が
ある。機械の判読できるＤＲＡＷ記録材料の例は光ディ
スクである。今日まで光ディスクの製造のためにテルル
及びその合金がレーザー光線で局部的に加熱することで
ピット形成し反射率を減ずる高反射の薄い金属フィルム
を形成するために広く使用されている（参照、例えば定
期刊行誌“ Physik in unserer Zeit ”１５、 Jah
rg. １９８４／Ｎｒ．５、１２９〜１３０の記事“ Opt
ische Datenspeicher ” Jochen Fricke 著）。テ
ルルは有毒であり、酸素及び湿度に対する感受性のため
に記録保存性に劣る。ＤＲＡＷヒートモード記録に使用
するために好適な他の金属はＵＳ−Ｐ４４９９１７８及
びＵＳ−Ｐ４３８８４００に記載されている。毒性問題
を避けるためにビスマスのような他の相対的に低溶融の
金属がヒートモード記録層の製造に導入されている。こ
のような記録材料を高出力レーザーのパルスによって極
めて短く露光することによって放射線がビスマス層面に
当たると熱に変換される。結果として筆記部分は少量の
ビスマス層を融蝕又は溶融する。溶融するとすぐにその
層は表面張力によって加熱部分上を収縮し、かくして小
さなキャビテーション又は穴を形成する。結果として光
はこれらのキャビテーションを通して透過することがで
き、その濃度は照射されたレーザーエネルギーによって
一定のＤｍｉｎ値に低下される。
【０００５】ヒートモード記録材料は通常、現像及び定
着工程を必要とせず、また室内光に不感受性のため暗室
操作を要求しない。それゆえにそれらは例えば写真植字
又は画像植字の用途のためのハロゲン化銀材料に基づく
従来からの感光性材料にとって代わる価値ある材料を構
成する。一般に知られているようにハロゲン化銀材料は
高ポテンシャルの固有感度及び優れた画像品質の利点を
有する。一方それらは生態学的見地から疑わしい化学的
成分を使用する幾つかの湿式処理工程を要求する欠点を
示す。例えば一般に使用される現像主薬ハイドロキノン
はアレルギーを起こし、処理されたフェニドンの生分解
は極めて遅い。結果としてこの種の使い果たされた溶液
を公共の下水道に放出することは望ましくない。それら
は収集されて燃焼によって破壊されなければならず、や
っかいで高価な方法である。
着工程を必要とせず、また室内光に不感受性のため暗室
操作を要求しない。それゆえにそれらは例えば写真植字
又は画像植字の用途のためのハロゲン化銀材料に基づく
従来からの感光性材料にとって代わる価値ある材料を構
成する。一般に知られているようにハロゲン化銀材料は
高ポテンシャルの固有感度及び優れた画像品質の利点を
有する。一方それらは生態学的見地から疑わしい化学的
成分を使用する幾つかの湿式処理工程を要求する欠点を
示す。例えば一般に使用される現像主薬ハイドロキノン
はアレルギーを起こし、処理されたフェニドンの生分解
は極めて遅い。結果としてこの種の使い果たされた溶液
を公共の下水道に放出することは望ましくない。それら
は収集されて燃焼によって破壊されなければならず、や
っかいで高価な方法である。
【０００６】しかしながら、薄い金属層に基づく記録材
料はレーザー照射のエネルギーを浪費してレーザー照射
の５０％以上を反射する欠点を示す。従って、このよう
な材料は記録のためのかなりの量のエネルギーを要求す
る。それゆえ、記録が高スピード走査によってなされる
場合には高出力レーザー光源が要求される。反射率を減
ずるための方法は日本国の特開昭４６−４０４７９１及
び特開昭５１−７４６３２に提案されている。しかしな
がら提案された溶液は他の欠点を有する。さらに、高い
正反射率のため引掻ききずに対して感受性のある金属層
を保護するために通常存在する保護被覆の厚さによって
は干渉パターンが周期的に起こる。これらの干渉現象の
結果として完成画像はむらがあり（ uneven ）かつ汚れ
た（ splodgy ）外観を有する。
料はレーザー照射のエネルギーを浪費してレーザー照射
の５０％以上を反射する欠点を示す。従って、このよう
な材料は記録のためのかなりの量のエネルギーを要求す
る。それゆえ、記録が高スピード走査によってなされる
場合には高出力レーザー光源が要求される。反射率を減
ずるための方法は日本国の特開昭４６−４０４７９１及
び特開昭５１−７４６３２に提案されている。しかしな
がら提案された溶液は他の欠点を有する。さらに、高い
正反射率のため引掻ききずに対して感受性のある金属層
を保護するために通常存在する保護被覆の厚さによって
は干渉パターンが周期的に起こる。これらの干渉現象の
結果として完成画像はむらがあり（ uneven ）かつ汚れ
た（ splodgy ）外観を有する。
【０００７】
【発明が解決しようとする課題】本発明の目的はレーザ
ー記録上の干渉パターンを減じる又は全く存在しない薄
い金属層に基づいた改良されたヒートモード記録材料を
提供することにある。
ー記録上の干渉パターンを減じる又は全く存在しない薄
い金属層に基づいた改良されたヒートモード記録材料を
提供することにある。
【０００８】さらに本発明の目的は全くむら又は汚れが
ない外観を有するヒートモード画像の形成のための方法
を提供することにある。
ない外観を有するヒートモード画像の形成のための方法
を提供することにある。
【０００９】
【課題を解決するための手段】本発明の目的は下記
（ａ）〜（ｄ）をこの順序で含むヒートモード記録材料
によって達成される： （ａ） 支持体、（ｂ） 粗性化剤（roughening agen
t）を含有する層、（ｃ） 金属記録層、（ｄ） 保護
材料。
（ａ）〜（ｄ）をこの順序で含むヒートモード記録材料
によって達成される： （ａ） 支持体、（ｂ） 粗性化剤（roughening agen
t）を含有する層、（ｃ） 金属記録層、（ｄ） 保護
材料。
【００１０】好ましい具体例では金属層は好ましくは
０．１〜０．６μｍの厚さを有する真空蒸着された薄い
ビスマス層である。粗性化剤の平均粒径は好ましくは
０．３〜２．０μｍの範囲であり、最も好ましくは約
１．０μｍである。好ましい粗性化剤はポリメチルメタ
クリレートビーズから構成される。
０．１〜０．６μｍの厚さを有する真空蒸着された薄い
ビスマス層である。粗性化剤の平均粒径は好ましくは
０．３〜２．０μｍの範囲であり、最も好ましくは約
１．０μｍである。好ましい粗性化剤はポリメチルメタ
クリレートビーズから構成される。
【００１１】粗性化剤を含有する層は支持体の下塗り層
であることができ又は下塗り層と金属層の間の余分の層
であることができる。
であることができ又は下塗り層と金属層の間の余分の層
であることができる。
【００１２】保護材料は被覆紙及び接着剤層を含むこと
が好ましい。
が好ましい。
【００１３】本発明のヒートモード記録材料を構成する
様々な材料をさらに詳細に説明する。
様々な材料をさらに詳細に説明する。
【００１４】ヒートモード記録材料の支持体は原則とし
て不透明紙基体であるけれども、好ましくは透明有機樹
脂支持体である。有用な透明有機樹脂支持体は例えば硝
酸セルロースフィルム、酢酸セルロースフィルム、ポリ
酢酸ビニルフィルム、ポリスチレンフィルム、ポリエチ
レンテレフタレートフィルム、ポリカーボネートフィル
ム、ポリ塩化ビニルフィルム又はポリエチレン又はポリ
プロピレンフィルムのようなポリアルファオレフィンフ
ィルムである。このような有機樹脂フィルムの厚さは好
ましくは０．０７〜０．３５ｍｍである。本発明の最も
好ましい具体例では支持体は下塗り層を設けたポリエチ
レンテレフタレート層である。
て不透明紙基体であるけれども、好ましくは透明有機樹
脂支持体である。有用な透明有機樹脂支持体は例えば硝
酸セルロースフィルム、酢酸セルロースフィルム、ポリ
酢酸ビニルフィルム、ポリスチレンフィルム、ポリエチ
レンテレフタレートフィルム、ポリカーボネートフィル
ム、ポリ塩化ビニルフィルム又はポリエチレン又はポリ
プロピレンフィルムのようなポリアルファオレフィンフ
ィルムである。このような有機樹脂フィルムの厚さは好
ましくは０．０７〜０．３５ｍｍである。本発明の最も
好ましい具体例では支持体は下塗り層を設けたポリエチ
レンテレフタレート層である。
【００１５】粗性化剤を含有する層は支持体に適用され
る下塗り層そのものであることができ又は下塗り層と金
属層の間の余分の層であることができる。
る下塗り層そのものであることができ又は下塗り層と金
属層の間の余分の層であることができる。
【００１６】原則として層（ｂ）は結合剤を全く含有し
ないが、好ましくはそれは結合剤を含有する。その層
（ｂ）は結合剤の化学的性質によって原則として有機溶
媒又は水性媒体で被覆することができる。有機溶媒可溶
性結合剤としては例えばα，β−エチレン不飽和化合物
から誘導した重合体（ポリメチルメタクリレート、ポリ
塩化ビニル、塩化ビニリデン−塩化ビニル共重合体、ポ
リ酢酸ビニル、酢酸ビニル−塩化ビニル共重合体、塩化
ビニリデン−アクリロニトリル共重合体、スチレン−ア
クリロニトリル共重合体、塩素化ポリエチレン、塩素化
ポリプロピレン、ポリエステル、ポリアミド、ポリビニ
ルブチラールなど）がある。これらの重合体を溶解及び
被覆するために幾つかの有機溶剤を使用することができ
る。一方水性媒体で被覆しうる水溶性結合剤、例えばゼ
ラチン、ポリビニルアルコール、ポリビニルピロリド
ン、カルボキシメチルセルロース、メチルセルロース、
エチルセルロース、アラビアゴム、カゼイン、様々な種
類の水溶性ラテックスなどを使用することができる。
ないが、好ましくはそれは結合剤を含有する。その層
（ｂ）は結合剤の化学的性質によって原則として有機溶
媒又は水性媒体で被覆することができる。有機溶媒可溶
性結合剤としては例えばα，β−エチレン不飽和化合物
から誘導した重合体（ポリメチルメタクリレート、ポリ
塩化ビニル、塩化ビニリデン−塩化ビニル共重合体、ポ
リ酢酸ビニル、酢酸ビニル−塩化ビニル共重合体、塩化
ビニリデン−アクリロニトリル共重合体、スチレン−ア
クリロニトリル共重合体、塩素化ポリエチレン、塩素化
ポリプロピレン、ポリエステル、ポリアミド、ポリビニ
ルブチラールなど）がある。これらの重合体を溶解及び
被覆するために幾つかの有機溶剤を使用することができ
る。一方水性媒体で被覆しうる水溶性結合剤、例えばゼ
ラチン、ポリビニルアルコール、ポリビニルピロリド
ン、カルボキシメチルセルロース、メチルセルロース、
エチルセルロース、アラビアゴム、カゼイン、様々な種
類の水溶性ラテックスなどを使用することができる。
【００１７】好ましい具体例では粗性化剤はポリエステ
ル支持体に適用される下塗り層に混入される。換言すれ
ばこの下塗り層は層（ｂ）を構成する。この下塗り層は
ポリエステルフィルム支持体の延伸前又は延伸後に適用
することができる。ポリエステルフィルム支持体はその
厚さを約１／２〜１／９以上に減じかつその面積を２〜
９倍に増加して、例えば７０〜１２０℃の高温で二軸延
伸することが好ましい。延伸は横及び縦の２工程を順番
に又は同時のいずれかで達成することができる。下塗り
層は０．１〜５μｍの厚さで縦と横の延伸の間に水性被
覆を適用することが好ましい。ビスマス記録層の場合に
は下塗り層はヨーロッパ特許出願ＥＰ０４６４９０６に
記載のように共有結合した塩素を含むモノマーのホモポ
リマー又はコポリマーを含むことが好ましい。下塗り層
に使用するために好適な前記ホモポリマー又はコポリマ
ーの例としては、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデ
ン、塩化ビニリデン、アクリルエステル及びイタコン酸
のコポリマー、塩化ビニル及び塩化ビニリデンのコポリ
マー、塩化ビニル及び酢酸ビニルのコポリマー、ブチル
アクリレート、酢酸ビニル及び塩化ビニル又は塩化ビニ
リデンのコポリマー、塩化ビニル、塩化ビニリデン及び
イタコン酸のコポリマー、塩化ビニル、酢酸ビニル及び
ビニルアルコールのコポリマーなどがある。水分散可能
なポリマーが生態学的な利点である下塗り層の水性被覆
を可能にする点で好適である。
ル支持体に適用される下塗り層に混入される。換言すれ
ばこの下塗り層は層（ｂ）を構成する。この下塗り層は
ポリエステルフィルム支持体の延伸前又は延伸後に適用
することができる。ポリエステルフィルム支持体はその
厚さを約１／２〜１／９以上に減じかつその面積を２〜
９倍に増加して、例えば７０〜１２０℃の高温で二軸延
伸することが好ましい。延伸は横及び縦の２工程を順番
に又は同時のいずれかで達成することができる。下塗り
層は０．１〜５μｍの厚さで縦と横の延伸の間に水性被
覆を適用することが好ましい。ビスマス記録層の場合に
は下塗り層はヨーロッパ特許出願ＥＰ０４６４９０６に
記載のように共有結合した塩素を含むモノマーのホモポ
リマー又はコポリマーを含むことが好ましい。下塗り層
に使用するために好適な前記ホモポリマー又はコポリマ
ーの例としては、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデ
ン、塩化ビニリデン、アクリルエステル及びイタコン酸
のコポリマー、塩化ビニル及び塩化ビニリデンのコポリ
マー、塩化ビニル及び酢酸ビニルのコポリマー、ブチル
アクリレート、酢酸ビニル及び塩化ビニル又は塩化ビニ
リデンのコポリマー、塩化ビニル、塩化ビニリデン及び
イタコン酸のコポリマー、塩化ビニル、酢酸ビニル及び
ビニルアルコールのコポリマーなどがある。水分散可能
なポリマーが生態学的な利点である下塗り層の水性被覆
を可能にする点で好適である。
【００１８】前記ホモポリマー又はコポリマーは構成す
るモノマーの様々な重合方法によって製造することがで
きる。例えば、重合は触媒及び活性剤、例えば過硫酸ナ
トリウム及びメタ亜硫酸水素ナトリウム、及び乳化剤及
び／又は分散剤を含有する水性分散液で実施することが
できる。また、本発明で使用されるホモポリマー又はコ
ポリマーは稀釈剤を添加することなくバルク中のモノマ
ー成分の重合によって製造することができ、又はモノマ
ーは適切な有機溶媒反応媒体中で反応することができ
る。
るモノマーの様々な重合方法によって製造することがで
きる。例えば、重合は触媒及び活性剤、例えば過硫酸ナ
トリウム及びメタ亜硫酸水素ナトリウム、及び乳化剤及
び／又は分散剤を含有する水性分散液で実施することが
できる。また、本発明で使用されるホモポリマー又はコ
ポリマーは稀釈剤を添加することなくバルク中のモノマ
ー成分の重合によって製造することができ、又はモノマ
ーは適切な有機溶媒反応媒体中で反応することができ
る。
【００１９】層（ｂ）に混入される粗性化剤は−多くの
実際の物質にとってこの言葉はもっと良く知られている
言葉“艶消剤”又は“スペーシング剤”と等価である
が、その言葉はその機能的側面のために選択される−本
発明をうまく実行するための幾つかの条件を満たさなけ
ればならない。粗性化剤の化学的性質、濃度及び粒度分
布はある程度のむらを金属記録層に導入しうるような方
法で選択されなければならない。このむらは反射をさら
に拡散するので干渉パターンの発生を減ずることがわか
る。粗性化剤がその層内で密接に充填されなければなら
ないことは明らかである。充分な数の粗性化粒子が局部
的な変形部分を金属層に誘発するために界面層（ｂ）／
金属層の上方に突出するような方法で層（ｂ）の厚さ、
粗性化剤の平均粒径及び被覆面積は互いに調和しなけれ
ばならないことも容易に理解されるだろう。平均粒径が
極めて小さい場合には、粗性化剤は金属層にむらをもた
らすことができないだろう。平均粒径が極めて大きい場
合には、被覆面積が多くなりすぎ、層（ｂ）を極めて厚
くすることを要求するだろう。従って最適粒径は粗性化
剤のために選択されるべきであり、この最適値は金属層
の機械的強さ、即ちその厚さに依存することは明らかで
ある。約０．３μｍの厚さを有するビスマス層の好まし
い具体例のためには粗性化剤の平均粒径は好ましくは
０．３〜２．０μｍの範囲であり、最も好ましくは約
１．０μｍである。この場合には粗性化剤の被覆面積は
０．０５〜１．０ｇ／ｍ2 が好ましく、最も好ましくは
約０．６ｇ／ｍ2 である。
実際の物質にとってこの言葉はもっと良く知られている
言葉“艶消剤”又は“スペーシング剤”と等価である
が、その言葉はその機能的側面のために選択される−本
発明をうまく実行するための幾つかの条件を満たさなけ
ればならない。粗性化剤の化学的性質、濃度及び粒度分
布はある程度のむらを金属記録層に導入しうるような方
法で選択されなければならない。このむらは反射をさら
に拡散するので干渉パターンの発生を減ずることがわか
る。粗性化剤がその層内で密接に充填されなければなら
ないことは明らかである。充分な数の粗性化粒子が局部
的な変形部分を金属層に誘発するために界面層（ｂ）／
金属層の上方に突出するような方法で層（ｂ）の厚さ、
粗性化剤の平均粒径及び被覆面積は互いに調和しなけれ
ばならないことも容易に理解されるだろう。平均粒径が
極めて小さい場合には、粗性化剤は金属層にむらをもた
らすことができないだろう。平均粒径が極めて大きい場
合には、被覆面積が多くなりすぎ、層（ｂ）を極めて厚
くすることを要求するだろう。従って最適粒径は粗性化
剤のために選択されるべきであり、この最適値は金属層
の機械的強さ、即ちその厚さに依存することは明らかで
ある。約０．３μｍの厚さを有するビスマス層の好まし
い具体例のためには粗性化剤の平均粒径は好ましくは
０．３〜２．０μｍの範囲であり、最も好ましくは約
１．０μｍである。この場合には粗性化剤の被覆面積は
０．０５〜１．０ｇ／ｍ2 が好ましく、最も好ましくは
約０．６ｇ／ｍ2 である。
【００２０】結合剤の最適量／ｍ2 は粗性化剤の平均粒
径に依存することも明らかだろう。
径に依存することも明らかだろう。
【００２１】層（ｂ）の粗さの程度はいわゆるＲａ値に
よって最も特徴づけられる。このいわゆる平均粗さ値は
測定間隔内での中心線から粗さ側面のすべての測定距離
の絶対量の算術平均値として規定される。層（ｂ）は少
なくとも０．２μｍのＲａ値を有することが好ましい。
よって最も特徴づけられる。このいわゆる平均粗さ値は
測定間隔内での中心線から粗さ側面のすべての測定距離
の絶対量の算術平均値として規定される。層（ｂ）は少
なくとも０．２μｍのＲａ値を有することが好ましい。
【００２２】粗性化剤は選択される粒子が優れた機械的
及び熱的安定性を示すならば、幅広い種類の化学的分類
から選択することができる。好ましい粗性化剤としては
下記のものが含まれる： − ＵＳ−Ｐ４８６１８１８に開示されるような球状ポ
リマービーズ； − ＵＳ−Ｐ４９０６５６０及びＥＰ０５８４４０７の
アルカリ可溶性ビーズ； − ＥＰ０４６６９８２に開示されるような不溶性ポリ
マービーズ； − ポリメチルメタクリレートビーズ； − メタクリル酸とメチル−又はエチルメタクリレート
の共重合体； − ＴＯＳＰＥＡＲＬシロキサン粒子（例えばタイプＴ
１０５、Ｔ１０８、Ｔ１０３、Ｔ１２０）、東芝（株）
によって販売される； − ＳＨＥＨＯＳＴＡＲポリシロキサン−シリカ粒子
（例えばタイプＫＥ−Ｐ５０）、日本触媒（株）によっ
て販売される； − ＲＯＰＡＱＵＥ粒子、重合体中空球状コア／シート
ビーズ、 Rohm andHaas Co. によって販売され、例え
ばＵＳ−Ｐ４４２７８３６、４４６８４９８及び４４６
９８２５に記載されている； − ＡＢＤ ＰＵＬＶＥＲ、ＢＡＳＦ ＡＧによって販
売される； − ＣＨＥＭＩＰＥＡＲＬ、球状重合体粒子、三井石油
化学（株）によって販売される。
及び熱的安定性を示すならば、幅広い種類の化学的分類
から選択することができる。好ましい粗性化剤としては
下記のものが含まれる： − ＵＳ−Ｐ４８６１８１８に開示されるような球状ポ
リマービーズ； − ＵＳ−Ｐ４９０６５６０及びＥＰ０５８４４０７の
アルカリ可溶性ビーズ； − ＥＰ０４６６９８２に開示されるような不溶性ポリ
マービーズ； − ポリメチルメタクリレートビーズ； − メタクリル酸とメチル−又はエチルメタクリレート
の共重合体； − ＴＯＳＰＥＡＲＬシロキサン粒子（例えばタイプＴ
１０５、Ｔ１０８、Ｔ１０３、Ｔ１２０）、東芝（株）
によって販売される； − ＳＨＥＨＯＳＴＡＲポリシロキサン−シリカ粒子
（例えばタイプＫＥ−Ｐ５０）、日本触媒（株）によっ
て販売される； − ＲＯＰＡＱＵＥ粒子、重合体中空球状コア／シート
ビーズ、 Rohm andHaas Co. によって販売され、例え
ばＵＳ−Ｐ４４２７８３６、４４６８４９８及び４４６
９８２５に記載されている； − ＡＢＤ ＰＵＬＶＥＲ、ＢＡＳＦ ＡＧによって販
売される； − ＣＨＥＭＩＰＥＡＲＬ、球状重合体粒子、三井石油
化学（株）によって販売される。
【００２３】原則として、薄い中間層は物理的損傷に対
する保護の理由のため層（ｂ）と金属記録層の間に適用
することができる。この場合において薄い中間層はスラ
イドホッパー被覆によって層（ｂ）とともに被覆され
る。それは粗性化効果をゆるめないように１ｇ／ｍ2 未
満の被覆面積で層（ｂ）として同種の結合剤を含有する
ことができる。しかしながら好ましい具体例ではこのよ
うな中間層は全く存在せず、金属記録層は粗性化剤によ
って導入されたむらの充分な効果を得るために層の上部
に密接して設けられる。
する保護の理由のため層（ｂ）と金属記録層の間に適用
することができる。この場合において薄い中間層はスラ
イドホッパー被覆によって層（ｂ）とともに被覆され
る。それは粗性化効果をゆるめないように１ｇ／ｍ2 未
満の被覆面積で層（ｂ）として同種の結合剤を含有する
ことができる。しかしながら好ましい具体例ではこのよ
うな中間層は全く存在せず、金属記録層は粗性化剤によ
って導入されたむらの充分な効果を得るために層の上部
に密接して設けられる。
【００２４】本発明の記録層のための可能な金属として
は、Ｍｇ、Ｓｃ、Ｙ、Ｔｉ、Ｚｒ、Ｈｆ、Ｖ、Ｎｂ、Ｔ
ａ、Ｃｒ、Ｍｏ、Ｗ、Ｍｎ、Ｒｅ、Ｆｅ、Ｃｏ、Ｎｉ、
Ｒｕ、Ｒｈ、Ｐｄ、Ｉｒ、Ｐｔ、Ｃｕ、Ａｇ、Ａｕ、Ｚ
ｎ、Ｃｄ、Ａｌ、Ｇａ、Ｉｎ、Ｓｉ、Ｇｅ、Ｓｎ、Ａ
ｓ、Ｓｂ、Ｂｉ、Ｓｅ、Ｔｅが含まれる。これらの金属
は単独あるいは混合して又はそれらの少なくとも二つの
金属の合金として使用することができる。Ｍｇ、Ｚｎ、
Ｉｎ、Ｓｎ、Ｂｉ及びＴｅが低融点のため好ましい。本
発明の実施のために最も好ましい金属はＢｉである。
は、Ｍｇ、Ｓｃ、Ｙ、Ｔｉ、Ｚｒ、Ｈｆ、Ｖ、Ｎｂ、Ｔ
ａ、Ｃｒ、Ｍｏ、Ｗ、Ｍｎ、Ｒｅ、Ｆｅ、Ｃｏ、Ｎｉ、
Ｒｕ、Ｒｈ、Ｐｄ、Ｉｒ、Ｐｔ、Ｃｕ、Ａｇ、Ａｕ、Ｚ
ｎ、Ｃｄ、Ａｌ、Ｇａ、Ｉｎ、Ｓｉ、Ｇｅ、Ｓｎ、Ａ
ｓ、Ｓｂ、Ｂｉ、Ｓｅ、Ｔｅが含まれる。これらの金属
は単独あるいは混合して又はそれらの少なくとも二つの
金属の合金として使用することができる。Ｍｇ、Ｚｎ、
Ｉｎ、Ｓｎ、Ｂｉ及びＴｅが低融点のため好ましい。本
発明の実施のために最も好ましい金属はＢｉである。
【００２５】金属記録層は蒸着、スパッタリング、イオ
ンプレーティング、化学蒸着、電解プレーティング又は
無電解プレーティングによって粗性化剤を含有する層の
上部に適用することができる。Ｂｉの好適な例では記録
層は真空蒸着によって設けることが好ましい。このよう
な蒸着のための方法及び装置はＥＰ０３８４０４１に開
示されている。
ンプレーティング、化学蒸着、電解プレーティング又は
無電解プレーティングによって粗性化剤を含有する層の
上部に適用することができる。Ｂｉの好適な例では記録
層は真空蒸着によって設けることが好ましい。このよう
な蒸着のための方法及び装置はＥＰ０３８４０４１に開
示されている。
【００２６】このＢｉ層の厚さは０．１〜０．６μｍの
範囲であることが好ましい。この厚さが小さすぎる場合
は、記録画像は充分な濃度を有さない。一方その厚さが
大きすぎる場合は、感度は減少する傾向を示し、最小濃
度、即ち露光域でのレーザー記録後の濃度が高くなる傾
向を示す。
範囲であることが好ましい。この厚さが小さすぎる場合
は、記録画像は充分な濃度を有さない。一方その厚さが
大きすぎる場合は、感度は減少する傾向を示し、最小濃
度、即ち露光域でのレーザー記録後の濃度が高くなる傾
向を示す。
【００２７】金属層は機械的損傷に対して極めて敏感な
ので、保護材料を金属層の上部に設けなければならな
い。好ましい具体例ではこの保護材料は被覆シートとし
て作用する透明有機樹脂及び接着層を含む。金属層の蒸
着が起こるのと同じ真空条件で積層によってこのような
保護材料を適用するための方法はＥＰ０３８４０４１に
開示されている。被覆シートはヒートモード記録材料の
支持体のために使用可能な重合体樹脂の群から選択する
ことができる。好ましい具体例では被覆紙はポリエチレ
ンテレフタレートであるが、実質的には支持体のポリエ
チレンテレフタレートより薄いことが好ましい。
ので、保護材料を金属層の上部に設けなければならな
い。好ましい具体例ではこの保護材料は被覆シートとし
て作用する透明有機樹脂及び接着層を含む。金属層の蒸
着が起こるのと同じ真空条件で積層によってこのような
保護材料を適用するための方法はＥＰ０３８４０４１に
開示されている。被覆シートはヒートモード記録材料の
支持体のために使用可能な重合体樹脂の群から選択する
ことができる。好ましい具体例では被覆紙はポリエチレ
ンテレフタレートであるが、実質的には支持体のポリエ
チレンテレフタレートより薄いことが好ましい。
【００２８】硬い保護最外樹脂層のヒートモード記録層
に対する接着のために好ましくは感圧接着剤樹脂の層を
使用することができる。このような樹脂の例はカナダ特
許第７２８６０７号及び米国特許第３１３１１０６号に
おいて、銀錯体拡散転写法による接着剤転写（デカルコ
マニア）の製造に使用するための米国特許第４０３３７
７０号に記載されている。
に対する接着のために好ましくは感圧接着剤樹脂の層を
使用することができる。このような樹脂の例はカナダ特
許第７２８６０７号及び米国特許第３１３１１０６号に
おいて、銀錯体拡散転写法による接着剤転写（デカルコ
マニア）の製造に使用するための米国特許第４０３３７
７０号に記載されている。
【００２９】感圧接着剤は通常室温（約２０℃）でいく
らかの弾性及び粘着性を有する（ａ）熱可塑性重合体か
ら構成され、それは可塑剤及び／又は粘着化樹脂で任意
に制御される。熱可塑性重合体はもし応力の除去で回復
が全くないなら可塑性であり、もし回復が瞬間的で完全
であるなら、完全に弾性である。
らかの弾性及び粘着性を有する（ａ）熱可塑性重合体か
ら構成され、それは可塑剤及び／又は粘着化樹脂で任意
に制御される。熱可塑性重合体はもし応力の除去で回復
が全くないなら可塑性であり、もし回復が瞬間的で完全
であるなら、完全に弾性である。
【００３０】特に好ましい感圧接着剤はポリテルペン樹
脂、低密度ポリエチレン、コポリ（エチレン／ビニルア
セテート）、ポリ（Ｃ1 −Ｃ16）アルキルアクリレー
ト、ポリ（Ｃ1 −Ｃ16）アルキルアクリレートとポリ酢
酸ビニルの混合物、及び２０℃で粘着性であるコポリ
（ビニルアセテート−アクリレート）の群から選択され
る。
脂、低密度ポリエチレン、コポリ（エチレン／ビニルア
セテート）、ポリ（Ｃ1 −Ｃ16）アルキルアクリレー
ト、ポリ（Ｃ1 −Ｃ16）アルキルアクリレートとポリ酢
酸ビニルの混合物、及び２０℃で粘着性であるコポリ
（ビニルアセテート−アクリレート）の群から選択され
る。
【００３１】圧力接着剤層の製造では本質的に非粘着性
の重合体を粘着化物質、例えば可塑剤又は他の粘着化樹
脂の添加によって粘着性にすることができる。
の重合体を粘着化物質、例えば可塑剤又は他の粘着化樹
脂の添加によって粘着性にすることができる。
【００３２】好適な粘着化樹脂の例としては定期刊行物
“ Adhesives Age ”Vol.３１，Ｎｏ．１２、１９８８
年１１月、２８〜２９頁に記載されるテルペン粘着化樹
脂がある。
“ Adhesives Age ”Vol.３１，Ｎｏ．１２、１９８８
年１１月、２８〜２９頁に記載されるテルペン粘着化樹
脂がある。
【００３３】別の具体例によれば保護材料は熱活性接着
剤層または熱接着剤層（その例はＵＳ−Ｐ４０３３７７
０にも記載されている）と称せられる感熱化によってヒ
ートモード記録層に積層又は接着される。このような具
体例では接着剤層及び耐摩耗性保護層から成る積層材料
及び／又は積層によって保護されるべき記録ウエブ材料
は接着剤の軟化点を越えた温度までそれらの接触領域に
おいて加熱される。熱は電気エネルギーによって少なく
とも一つのローラーに供給され、ローラーの間で積層物
が形成されるか又は赤外線によってそれは供給される。
その積層は例えばプラスチック被覆層を記録（ documen
ts）に適用するための方法を教示した公開されたＥＰ−
Ａ０２７８８１８に記載のように高周波数マイクロ波で
発生された熱によって同様に行うことができる。
剤層または熱接着剤層（その例はＵＳ−Ｐ４０３３７７
０にも記載されている）と称せられる感熱化によってヒ
ートモード記録層に積層又は接着される。このような具
体例では接着剤層及び耐摩耗性保護層から成る積層材料
及び／又は積層によって保護されるべき記録ウエブ材料
は接着剤の軟化点を越えた温度までそれらの接触領域に
おいて加熱される。熱は電気エネルギーによって少なく
とも一つのローラーに供給され、ローラーの間で積層物
が形成されるか又は赤外線によってそれは供給される。
その積層は例えばプラスチック被覆層を記録（ documen
ts）に適用するための方法を教示した公開されたＥＰ−
Ａ０２７８８１８に記載のように高周波数マイクロ波で
発生された熱によって同様に行うことができる。
【００３４】圧力及び／又は感圧接着剤の概要は J. sh
ields 著“ Adhesives Handbook”、第３版（１９８
４）、 Butterworths - London、Booton、及び Ernest
W. Flick 著“ Handbook of Adhesive Raw Mater
ials ”（１９８２）、 Noyens Pubications、Park
Ridge 、New Jersey −米国に与えられている。
ields 著“ Adhesives Handbook”、第３版（１９８
４）、 Butterworths - London、Booton、及び Ernest
W. Flick 著“ Handbook of Adhesive Raw Mater
ials ”（１９８２）、 Noyens Pubications、Park
Ridge 、New Jersey −米国に与えられている。
【００３５】接着剤層は熱硬化性又は紫外線硬化性であ
ることができる。熱硬化性有機樹脂及び硬化剤のために
参考文献として例えば上記の“ Handbook of Adhesi
veRaw Materials ”があり、ＵＶ硬化性樹脂層のため
に参考文献として例えば“ＵＶ Curing ： Science
and Technology ”− Technology MarketingCorpor
ation 、６４２ Westover Road − Stanford − Con
necticut−米国−０６９０２（１９７９）がある。しか
しながら、溶融性金属層を有するヒートモード記録材料
では高強度放射線レーザーエネルギーが当たる記録層の
領域に小さな金属小滴を形成するのを妨害しないように
容易に変形可能な接着剤層が好ましい。接着剤中間層の
容易な変形可能性は記録感度にとって好ましい。
ることができる。熱硬化性有機樹脂及び硬化剤のために
参考文献として例えば上記の“ Handbook of Adhesi
veRaw Materials ”があり、ＵＶ硬化性樹脂層のため
に参考文献として例えば“ＵＶ Curing ： Science
and Technology ”− Technology MarketingCorpor
ation 、６４２ Westover Road − Stanford − Con
necticut−米国−０６９０２（１９７９）がある。しか
しながら、溶融性金属層を有するヒートモード記録材料
では高強度放射線レーザーエネルギーが当たる記録層の
領域に小さな金属小滴を形成するのを妨害しないように
容易に変形可能な接着剤層が好ましい。接着剤中間層の
容易な変形可能性は記録感度にとって好ましい。
【００３６】本発明のようなヒートモードＤＲＡＷ材料
の幾つかの用途のためには寸法安定性は最も重要であ
る。寸法安定性の条件が極めて厳しい用途の分野は例え
ばヒートモード画像が平版印刷版の露光のためのインタ
ーミディエイトとして又はミクロ電子工学集積回路又は
印刷回路板（ＰＣＢ）の製造のためのマスターマスクと
して役立つ分野である。寸法安定性を改良するために１
以上のバリヤー層をヨーロッパ特許出願Ｎｏ．９３２０
１３６６（１９９３年５月１２日出願）に開示されるよ
うに水蒸気の取り込みを阻止するヒートモード記録材料
上に適用することができる。好ましい具体例ではこのバ
リヤー層は実質的にＳｉＯx （ｘは１．２〜１．８であ
る）から構成される蒸着ガラス層である。このようなバ
リヤー層は本発明の完全に完成したヒートモード記録材
料の一つにあるいは両最外面に又は記録材料の支持体の
一つにあるいは両面にその材料がさらに製造される前に
適用することができる。
の幾つかの用途のためには寸法安定性は最も重要であ
る。寸法安定性の条件が極めて厳しい用途の分野は例え
ばヒートモード画像が平版印刷版の露光のためのインタ
ーミディエイトとして又はミクロ電子工学集積回路又は
印刷回路板（ＰＣＢ）の製造のためのマスターマスクと
して役立つ分野である。寸法安定性を改良するために１
以上のバリヤー層をヨーロッパ特許出願Ｎｏ．９３２０
１３６６（１９９３年５月１２日出願）に開示されるよ
うに水蒸気の取り込みを阻止するヒートモード記録材料
上に適用することができる。好ましい具体例ではこのバ
リヤー層は実質的にＳｉＯx （ｘは１．２〜１．８であ
る）から構成される蒸着ガラス層である。このようなバ
リヤー層は本発明の完全に完成したヒートモード記録材
料の一つにあるいは両最外面に又は記録材料の支持体の
一つにあるいは両面にその材料がさらに製造される前に
適用することができる。
【００３７】本発明の材料を使用するヒートモード画像
の形成のためにはこの画像形成の特別な方法のための充
分な熱を発生するに必要とされるエネルギーを充分与え
るレーザーならいずれも使用することができる。好まし
い具体例では高出力の赤外線レーザーが使用される。最
も好ましくは１０５３ｎｍで放出されるＮｄ−ＹＬＦレ
ーザーが使用される。
の形成のためにはこの画像形成の特別な方法のための充
分な熱を発生するに必要とされるエネルギーを充分与え
るレーザーならいずれも使用することができる。好まし
い具体例では高出力の赤外線レーザーが使用される。最
も好ましくは１０５３ｎｍで放出されるＮｄ−ＹＬＦレ
ーザーが使用される。
【００３８】本発明を以下の実施例によって説明する
が、これらに限定されるものではない。
が、これらに限定されるものではない。
【００３９】
− ヒートモード記録材料の製造 ビスマス層の付着のために下記基体を製造した： − 参考例１（Ｒ−１）：この基体は結合剤として作用
する、８８ｍｏｌ％の塩化ビニリデン、１０ｍｏｌ％の
メチルアクリレート及び２ｍｏｌ％のイタコン酸及び２
ｍｏｌ％のイタコン酸からなる共重合体０．１６ｇ／ｍ
2 と０．１μｍの平均粒径を有するＳｉＯ2 ０．０４ｇ
／ｍ2 を含有する層を下塗りしたポリエチレンテレフタ
レートシートから構成される。また、裏打ち層はポリス
ルホン酸で加水分解したエポキシシラン５．２ｍｇ／ｍ
2 及び０．１μｍの平均粒径を有するＳｉＯ2 ５ｍｇ／
ｍ2 を帯電防止剤として含有して存在する。この参考例
１の材料はアグファ ゲヴェルトＮ．Ｖ．によって現在
製造されている。； − 参考例２（Ｒ−２）：結合剤として作用する、８８
ｍｏｌ％の塩化ビニリデン、１０ｍｏｌ％のメチルアク
リレート及び２ｍｏｌ％のイタコン酸からなる同じ共重
合体及び二つの従来からの商業用湿潤剤を含有する水性
被覆溶液を製造した。この溶液を参考例１に相当する下
塗りされたポリエチレンテレフタレート基体の上部に被
覆した。乾燥後この余分の層は０．４５ｇ／ｍ2 の共重
合体を含有した。； − 本発明１（Ｉ−１）：余分の層が０．１６ｇ／ｍ2
の共重合体結合剤及び０．０９ｇ／ｍ2 の０．５μｍの
平均粒径を有する粗性化剤ＲＯＰＡＱＵＥ ＯＰ６２
ＬＯ（ Rohm and Haas Co. から購入）だけを含有し
た以外はこの基体は参考例２と同様にした。 − 本発明２（Ｉ−２）：余分の層が０．５９ｇ／ｍ2
の被覆面積で、１．０μｍの平均粒径を有するポリメチ
ルメタクリレートビーズからなる粗性化剤をさらに含有
した以外は参考例２と同様にした。
する、８８ｍｏｌ％の塩化ビニリデン、１０ｍｏｌ％の
メチルアクリレート及び２ｍｏｌ％のイタコン酸及び２
ｍｏｌ％のイタコン酸からなる共重合体０．１６ｇ／ｍ
2 と０．１μｍの平均粒径を有するＳｉＯ2 ０．０４ｇ
／ｍ2 を含有する層を下塗りしたポリエチレンテレフタ
レートシートから構成される。また、裏打ち層はポリス
ルホン酸で加水分解したエポキシシラン５．２ｍｇ／ｍ
2 及び０．１μｍの平均粒径を有するＳｉＯ2 ５ｍｇ／
ｍ2 を帯電防止剤として含有して存在する。この参考例
１の材料はアグファ ゲヴェルトＮ．Ｖ．によって現在
製造されている。； − 参考例２（Ｒ−２）：結合剤として作用する、８８
ｍｏｌ％の塩化ビニリデン、１０ｍｏｌ％のメチルアク
リレート及び２ｍｏｌ％のイタコン酸からなる同じ共重
合体及び二つの従来からの商業用湿潤剤を含有する水性
被覆溶液を製造した。この溶液を参考例１に相当する下
塗りされたポリエチレンテレフタレート基体の上部に被
覆した。乾燥後この余分の層は０．４５ｇ／ｍ2 の共重
合体を含有した。； − 本発明１（Ｉ−１）：余分の層が０．１６ｇ／ｍ2
の共重合体結合剤及び０．０９ｇ／ｍ2 の０．５μｍの
平均粒径を有する粗性化剤ＲＯＰＡＱＵＥ ＯＰ６２
ＬＯ（ Rohm and Haas Co. から購入）だけを含有し
た以外はこの基体は参考例２と同様にした。 − 本発明２（Ｉ−２）：余分の層が０．５９ｇ／ｍ2
の被覆面積で、１．０μｍの平均粒径を有するポリメチ
ルメタクリレートビーズからなる粗性化剤をさらに含有
した以外は参考例２と同様にした。
【００４０】これらの四つの基体に、０．０５アンペア
の弱いコロナ放電後、０．３μｍ厚のビスマス層をレイ
ボルド（ Leybold ）装置の真空蒸着（１０-2Ｐａの真
空）によって適用した。ビスマス層にコポリ（ブチルア
クリレート−ビニルアセテート）を含有する８μｍ厚の
接着剤及び１２μｍ厚のポリエチレンフタレート箔であ
る被覆シートからなる保護材料を真空下、積層した。
の弱いコロナ放電後、０．３μｍ厚のビスマス層をレイ
ボルド（ Leybold ）装置の真空蒸着（１０-2Ｐａの真
空）によって適用した。ビスマス層にコポリ（ブチルア
クリレート−ビニルアセテート）を含有する８μｍ厚の
接着剤及び１２μｍ厚のポリエチレンフタレート箔であ
る被覆シートからなる保護材料を真空下、積層した。
【００４１】− 画像形成性及び画像品質の評価 下記特徴を有する高出力内部ドラムレーザー記録器によ
って四つの記録材料を露光した： − レーザータイプ：Ｎｄ−ＹＬＦレーザー； − 波長：１０５３ｎｍ； − スポット径（１／ｅ2 ）：１８μｍ； − ピッチ：１０．５８μｍ； − 回転走査鏡の速度：１６６３ｒｐｍ； − ドラム半径：１８８．６ｍｍ；
って四つの記録材料を露光した： − レーザータイプ：Ｎｄ−ＹＬＦレーザー； − 波長：１０５３ｎｍ； − スポット径（１／ｅ2 ）：１８μｍ； − ピッチ：１０．５８μｍ； − 回転走査鏡の速度：１６６３ｒｐｍ； − ドラム半径：１８８．６ｍｍ；
【００４２】材料を保護積層側を通して露光した。４８
０ｍＷ〜１３３０ｍＷの範囲の異なるレーザー出力で全
領域（ full areas ）と分離走査線（ separate scan
lines ）（１ on ／１０ off）を露光した。得られた
画像品質は下記のように評価した。
０ｍＷ〜１３３０ｍＷの範囲の異なるレーザー出力で全
領域（ full areas ）と分離走査線（ separate scan
lines ）（１ on ／１０ off）を露光した。得られた
画像品質は下記のように評価した。
【００４３】(a) Ｄｍａｘ及びＤｍｉｎ 露光及び非露光の全領域の濃度を３ｍｍの測定スポット
でＵＶフィルターを備えたＭＡＣＫＢＥＴＨ ＴＤ９０
４濃度計で測定した。その結果（１０００単位で表し
た、異なる測定値の平均値）を表１にまとめた。
でＵＶフィルターを備えたＭＡＣＫＢＥＴＨ ＴＤ９０
４濃度計で測定した。その結果（１０００単位で表し
た、異なる測定値の平均値）を表１にまとめた。
【００４４】
【表１】
【００４５】表１から露光及び非露光領域間の最大濃度
差を得るためには記録材料のレーザー出力を少なくとも
１１１０ｍＷにする必要があることが明らかである。こ
の値及びこの値以上の出力では粗性化剤の存在又は不存
在はＤｍｉｎにほとんど影響がない。
差を得るためには記録材料のレーザー出力を少なくとも
１１１０ｍＷにする必要があることが明らかである。こ
の値及びこの値以上の出力では粗性化剤の存在又は不存
在はＤｍｉｎにほとんど影響がない。
【００４６】(b) 均質性の巨視的評価 全領域及び線がもうこれ以上干渉パターン又は干渉縞を
示さない最小レーザー出力として巨視的均質性を規定し
た。これらの値を表２にまとめた：
示さない最小レーザー出力として巨視的均質性を規定し
た。これらの値を表２にまとめた：
【００４７】
【表２】
【００４８】干渉現象は記録材料が粗性化剤を含有する
場合の低いレーザー出力で消滅する。最良の結果は１．
０μｍの平均粒径を有する粗性化剤ポリメチルメタクリ
レートで得られた。
場合の低いレーザー出力で消滅する。最良の結果は１．
０μｍの平均粒径を有する粗性化剤ポリメチルメタクリ
レートで得られた。
【００４９】(c) 均質性の微視的評価 記録された全領域及び線をニコン顕微鏡によって１００
倍に拡大し、個々の走査線が見えるように写真をとっ
た。
倍に拡大し、個々の走査線が見えるように写真をとっ
た。
【００５０】１２００ｍＷ及び１３３０ｍＷ出力で記録
された全領域の物理的品質に対して０〜５の範囲の任意
の評価を与えた。この評価は下記の意義を有する： １：不均質、極めて強い干渉スポット； ２：不均質、かなり強い干渉スポット； ３：かなり均質、まだわずかに干渉； ４：実際には完全に均質、時々極めてわずかに干渉； ５：極めて均質；干渉全くなし。
された全領域の物理的品質に対して０〜５の範囲の任意
の評価を与えた。この評価は下記の意義を有する： １：不均質、極めて強い干渉スポット； ２：不均質、かなり強い干渉スポット； ３：かなり均質、まだわずかに干渉； ４：実際には完全に均質、時々極めてわずかに干渉； ５：極めて均質；干渉全くなし。
【００５１】その評価結果を表３にまとめた：
【表３】
【００５２】本発明による材料で最高の結果が得られる
ことが表に示されている。
ことが表に示されている。
【００５３】記録された線が干渉の結果としてレーザー
出力の局部的変化のため幅において局部的な変化を示し
た。表４に１１０〜１３３０ｍＷで変化するレーザー出
力で得られた線幅（μｍ）の最小値及び最大値をまとめ
た。
出力の局部的変化のため幅において局部的な変化を示し
た。表４に１１０〜１３３０ｍＷで変化するレーザー出
力で得られた線幅（μｍ）の最小値及び最大値をまとめ
た。
【００５４】
【表４】
【００５５】最小及び最大の線幅の差が本発明による材
料では小さいことが表から明らかである。
料では小さいことが表から明らかである。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 ＦＩ 技術表示箇所 Ｂ４１Ｍ 5/26 Ｇ０３Ｆ 1/08 Ｚ Ｈ０１Ｌ 21/027 Ｈ０５Ｋ 3/00 Ｚ 7416−2Ｈ Ｂ４１Ｍ 5/26 Ｘ Ｈ０１Ｌ 21/30 ５０２ Ｐ (72)発明者 リュク・ヴォー ベルギー国モートゼール、セプテストラー ト 27 アグファ・ゲヴェルト・ナームロ ゼ・ベンノートチャップ内 (72)発明者 リュク・レーンデル ベルギー国モートゼール、セプテストラー ト 27 アグファ・ゲヴェルト・ナームロ ゼ・ベンノートチャップ内
Claims (14)
- 【請求項１】 下記（ａ）〜（ｄ）をこの順序で含むヒ
ートモード記録材料： （ａ） 支持体、 （ｂ） 粗性化剤（roughening agent）を含有する層、 （ｃ） 金属記録層、 （ｄ） 保護材料。 - 【請求項２】 前記粗性化剤を含有する層が少なくとも
０．２μｍのＲａ値を有する請求項１記載のヒートモー
ド記録材料。 - 【請求項３】 前記粗性化剤が０．３〜２．０μｍの平
均粒径を有する請求項１記載のヒートモード記録材料。 - 【請求項４】 前記０．３〜２．０μｍの平均粒径を有
する粗性化剤が０．０５〜１．０ｇ／ｍ2 の被覆面積で
層（ｂ）に存在する請求項３記載のヒートモード記録材
料。 - 【請求項５】 前記粗性化剤がポリメチルメタクリレー
トである請求項１記載のヒートモード記録材料。 - 【請求項６】 前記金属記録層がビスマス層である請求
項１記載のヒートモード記録材料。 - 【請求項７】 前記ビスマス層が０．０５〜０．６μｍ
の厚さを有する請求項６記載のヒートモード記録材料。 - 【請求項８】 前記支持体が下塗り層を設けられ、かつ
前記粗性化剤を含有する層（ｂ）が前記下塗り層である
請求項１記載のヒートモード記録材料。 - 【請求項９】 前記保護材料が透明重合体樹脂である重
合体被覆シート又は層、及び接着剤層を含む請求項１記
載のヒートモード記録材料。 - 【請求項１０】 請求項１記載のヒートモード記録材料
を強いレーザー放射線（ intense laser radiation）
によって情報に従って露光することを含むヒートモード
画像の形成方法。 - 【請求項１１】 前記強いレーザー放射線が赤外線レー
ザーによって生成される請求項１０記載の方法。 - 【請求項１２】 前記赤外線レーザーが１０５３ｎｍで
放出するＮｄ−ＹＬＦレーザーである請求項１１記載の
方法。 - 【請求項１３】 印刷回路板又はミクロ電子工学集積回
路の製造のためのマスターとしての請求項１０記載の方
法に従って得られたヒートモード画像の用途。 - 【請求項１４】 印刷版の露光のためのマスターとして
の請求項１０記載の方法に従って得られたヒートモード
画像の用途。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| EP94201472 | 1994-05-25 | ||
| DE94201472.1 | 1994-05-25 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH08190731A true JPH08190731A (ja) | 1996-07-23 |
Family
ID=8216899
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP14572595A Pending JPH08190731A (ja) | 1994-05-25 | 1995-05-18 | ヒートモード記録材料 |
Country Status (3)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US6309808B1 (ja) |
| JP (1) | JPH08190731A (ja) |
| DE (1) | DE69503968T2 (ja) |
Family Cites Families (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5764596A (en) * | 1980-10-06 | 1982-04-19 | Fuji Photo Film Co Ltd | Heat mode recording material |
| JPS57205193A (en) * | 1981-06-12 | 1982-12-16 | Fuji Photo Film Co Ltd | Optical information recording medium |
| US4711838A (en) * | 1985-08-26 | 1987-12-08 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Photographic elements sensitive to near infrared |
| JPH0693129B2 (ja) * | 1989-01-21 | 1994-11-16 | キヤノン株式会社 | 電子写真感光体 |
-
1995
- 1995-05-05 US US08/435,224 patent/US6309808B1/en not_active Expired - Fee Related
- 1995-05-08 DE DE69503968T patent/DE69503968T2/de not_active Expired - Fee Related
- 1995-05-18 JP JP14572595A patent/JPH08190731A/ja active Pending
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| DE69503968D1 (de) | 1998-09-17 |
| US6309808B1 (en) | 2001-10-30 |
| DE69503968T2 (de) | 1999-03-25 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20040813 |
|
| A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20050401 |