JPS59231526A - 像形成性物品 - Google Patents
像形成性物品Info
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- JPS59231526A JPS59231526A JP59088219A JP8821984A JPS59231526A JP S59231526 A JPS59231526 A JP S59231526A JP 59088219 A JP59088219 A JP 59088219A JP 8821984 A JP8821984 A JP 8821984A JP S59231526 A JPS59231526 A JP S59231526A
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- JP
- Japan
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- metal
- deposited
- colorant
- organic
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-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F1/00—Originals for photomechanical production of textured or patterned surfaces, e.g., masks, photo-masks, reticles; Mask blanks or pellicles therefor; Containers specially adapted therefor; Preparation thereof
- G03F1/54—Absorbers, e.g. of opaque materials
- G03F1/56—Organic absorbers, e.g. of photo-resists
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03C—PHOTOSENSITIVE MATERIALS FOR PHOTOGRAPHIC PURPOSES; PHOTOGRAPHIC PROCESSES, e.g. CINE, X-RAY, COLOUR, STEREO-PHOTOGRAPHIC PROCESSES; AUXILIARY PROCESSES IN PHOTOGRAPHY
- G03C1/00—Photosensitive materials
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Laminated Bodies (AREA)
- Physical Vapour Deposition (AREA)
- Photoreceptors In Electrophotography (AREA)
- Preparing Plates And Mask In Photomechanical Process (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、基体上に蒸着着色剤層および着色剤層上に感
光性レジスト層を含む感光性物品に関する。
光性レジスト層を含む感光性物品に関する。
本発明は、さらに、好ましくは感光性物品に含まれる蒸
着着色剤および(または)蒸着金属層の表面に保護有機
層を有するこのような感光性物品に関する。
着着色剤および(または)蒸着金属層の表面に保護有機
層を有するこのような感光性物品に関する。
特に、本発明は、基体の表面上に少なくとも1層の蒸着
着色剤層を有する像形成性物品に関する。
着色剤層を有する像形成性物品に関する。
基体は、着色剤が蒸着される表面上に存在する蒸着金属
層および(または)他の層を既に有するかまたは有して
いなくてもよい。好ましい金属層は、一般に、着色剤の
適用前に、種々の蒸着技術の何れかによって支持基材上
に形成される。蒸着された着色剤および(または)金属
層を被覆の連続性を損うと思われる物理的処理または応
力(例えば圧延、折シたたみ、曲げなど)に供する前に
、有機保@層は、着色剤および(または)金属の表面上
に蒸着されるのが望ましい。
層および(または)他の層を既に有するかまたは有して
いなくてもよい。好ましい金属層は、一般に、着色剤の
適用前に、種々の蒸着技術の何れかによって支持基材上
に形成される。蒸着された着色剤および(または)金属
層を被覆の連続性を損うと思われる物理的処理または応
力(例えば圧延、折シたたみ、曲げなど)に供する前に
、有機保@層は、着色剤および(または)金属の表面上
に蒸着されるのが望ましい。
染料および顔料のような着色剤は、種々の像形成操作に
使用されて可視像の光学濃度を与える。
使用されて可視像の光学濃度を与える。
カラー写真、ジアゾニウム塩カツノリング、平版なせん
およびとつ版なせん、染料漂白像形成、ロイコ染料酸化
、染料およびホトレジスト像形成糸の昇華転写のような
非常に種々の技術は、すべて染料および顔料を用いて、
可視光学濃度を形成できる。これらの型の技術の若干の
例は、例えば、米国特許第3.136.637号、第3
,671,236号、第4.307,182号、第4,
262,087号、第4,230.789号、第4.2
12.936号、第4,336,323号などに見られ
る。これらの系のすべてにおいては、着色剤は、溶媒ま
たは重合体結合剤のような担体媒質内の像形成性物品に
存在する。昇華による染料の転写において、受容体シー
ト上で、純染料から主としてなるのは像のみである。こ
れらの種々の像形成技術の各々は、それぞれの複雑さ、
コンシスチンシー、像の品質、速度、安定性および費用
によって計られるその梅種の利益および障害を有する。
およびとつ版なせん、染料漂白像形成、ロイコ染料酸化
、染料およびホトレジスト像形成糸の昇華転写のような
非常に種々の技術は、すべて染料および顔料を用いて、
可視光学濃度を形成できる。これらの型の技術の若干の
例は、例えば、米国特許第3.136.637号、第3
,671,236号、第4.307,182号、第4,
262,087号、第4,230.789号、第4.2
12.936号、第4,336,323号などに見られ
る。これらの系のすべてにおいては、着色剤は、溶媒ま
たは重合体結合剤のような担体媒質内の像形成性物品に
存在する。昇華による染料の転写において、受容体シー
ト上で、純染料から主としてなるのは像のみである。こ
れらの種々の像形成技術の各々は、それぞれの複雑さ、
コンシスチンシー、像の品質、速度、安定性および費用
によって計られるその梅種の利益および障害を有する。
基体上の金属の蒸着層は、ホトレジスト像形成物品にお
けるように、その像形成材料としての使用において多数
の重大な制限を受ける。金属層は、(その像を正確に記
録する能力を減少する)欠点なしに蒸着するのが困難で
ある傾向があシ、しかもこの金属層は処理、輸送および
使用の間にさらに欠点を容易に発生しやすい。
けるように、その像形成材料としての使用において多数
の重大な制限を受ける。金属層は、(その像を正確に記
録する能力を減少する)欠点なしに蒸着するのが困難で
ある傾向があシ、しかもこの金属層は処理、輸送および
使用の間にさらに欠点を容易に発生しやすい。
金属の蒸着層、特に可撓性ウエゾ上の金属の蒸着層は、
軟質であシ、しかも容易にこすれて取れる傾向がある。
軟質であシ、しかも容易にこすれて取れる傾向がある。
これらの欠点は、このような層が、蒸着金属層および上
塗ホトレゾスト層または感光性重合体層からなる像形成
系の一部として使用される場合、これらの欠点は特に許
容できない。金属層の傷、すシ傷、キンクまたは摩耗は
フィルムに有用な像を含まない空げきまたは部分を生じ
、従って像の正確さを妨げる。これらの写真欠点部分は
、摩耗がどこにどのように生じたかによって、ピンホー
ル、しめつけ傷、すシ傷などのような種種の名称で呼ば
れている。このような欠点を避けるために、金属層上に
は、一般に保護樹脂層が被覆される。このことは別の被
覆操作において、異なった、塗布機で行われることが多
い。しかしながら、この実施についての難点は、蒸着操
作後に未保護蒸着金属フィルムを巻いて、材料を一層普
通の樹脂塗布機に移送することである。しめつけ傷、摩
耗およびキンクのような欠点にこの巻取り操作の間に生
じることが多い。
塗ホトレゾスト層または感光性重合体層からなる像形成
系の一部として使用される場合、これらの欠点は特に許
容できない。金属層の傷、すシ傷、キンクまたは摩耗は
フィルムに有用な像を含まない空げきまたは部分を生じ
、従って像の正確さを妨げる。これらの写真欠点部分は
、摩耗がどこにどのように生じたかによって、ピンホー
ル、しめつけ傷、すシ傷などのような種種の名称で呼ば
れている。このような欠点を避けるために、金属層上に
は、一般に保護樹脂層が被覆される。このことは別の被
覆操作において、異なった、塗布機で行われることが多
い。しかしながら、この実施についての難点は、蒸着操
作後に未保護蒸着金属フィルムを巻いて、材料を一層普
通の樹脂塗布機に移送することである。しめつけ傷、摩
耗およびキンクのような欠点にこの巻取り操作の間に生
じることが多い。
前記の問題を避けるために、同じ真空室内において金属
層および有機層を蒸着し、従って塗布操作の間にフィル
ムをロールに巻く必要のない幾つかの試みがなされた。
層および有機層を蒸着し、従って塗布操作の間にフィル
ムをロールに巻く必要のない幾つかの試みがなされた。
このような一つの方法は、米国特許第4,268,54
1号明細書に記載されている。ここで、蒸着室は、隔壁
によって2部分に分割され、それによって金属沈積部分
を有機沈積部分から分離する。従って、有機保護層は、
ロールを2つの塗布操作の間に巻返す必要なしに金属層
上に沈積される。
1号明細書に記載されている。ここで、蒸着室は、隔壁
によって2部分に分割され、それによって金属沈積部分
を有機沈積部分から分離する。従って、有機保護層は、
ロールを2つの塗布操作の間に巻返す必要なしに金属層
上に沈積される。
米国特許第4,268,541号明細書において用いら
れる有機化合物としては、重合体(例えばメタクリル酸
およびアクリル酸から誘導されたものχカルボキシル基
を含有する低分子量有機化合物(例えばアビエチン酸、
インフタル酸、ベヘン酸、テレフタル酸、フタル酸など
のような化合物)、および少数のランダム化合物(例え
ばローダミンB10ジン、フタロシアニン、単糖類およ
び少糖類)がある。
れる有機化合物としては、重合体(例えばメタクリル酸
およびアクリル酸から誘導されたものχカルボキシル基
を含有する低分子量有機化合物(例えばアビエチン酸、
インフタル酸、ベヘン酸、テレフタル酸、フタル酸など
のような化合物)、および少数のランダム化合物(例え
ばローダミンB10ジン、フタロシアニン、単糖類およ
び少糖類)がある。
米国特許第4.268.541号明細書に記載された技
術および材料は、わずかに限られた用途に適しているこ
とが分った。規定された層厚さ30 nmから600
nmまでは、多くの像形成フィルム構造および多くの処
理技術に適していない。特に、被覆の単振特性によって
、積み重ねられたかまたはロール巻きされた被覆材料の
層がすベシ、しかも見当からはずれて動く。ロール巻き
形においては、ロールの竹の子巻きは非常に深刻である
にのことによって、金属層が被覆によって保護されてい
ても、フィルムの以後の使用において重大な遅れおよび
費用を生じ得る。
術および材料は、わずかに限られた用途に適しているこ
とが分った。規定された層厚さ30 nmから600
nmまでは、多くの像形成フィルム構造および多くの処
理技術に適していない。特に、被覆の単振特性によって
、積み重ねられたかまたはロール巻きされた被覆材料の
層がすベシ、しかも見当からはずれて動く。ロール巻き
形においては、ロールの竹の子巻きは非常に深刻である
にのことによって、金属層が被覆によって保護されてい
ても、フィルムの以後の使用において重大な遅れおよび
費用を生じ得る。
金属層とホトレジスト層の間に位置する有機保護層は、
酸化またはエツチング工程および得られる像の品質に著
しく影響し得る。例えば、このような層が厚すぎると、
現像剤またはエツチング液の優先的経路が生じ、それに
よって像の劣化または微細な細部損失をもたらすことが
ある。このことは、最終指定が複写または密着リプログ
ラフイ一作業である材料について特に尚て、ij:まる
・リスフィルムまたは゛密着フィルムと呼ばれるこのよ
うなフイームは、像色調を再生する微細な網点配列に依
存する。微細な網点(3qbから5%まで)はアンダー
カットおよびエツチングして失われ、それによって再生
の品質を劣化させることがある。
酸化またはエツチング工程および得られる像の品質に著
しく影響し得る。例えば、このような層が厚すぎると、
現像剤またはエツチング液の優先的経路が生じ、それに
よって像の劣化または微細な細部損失をもたらすことが
ある。このことは、最終指定が複写または密着リプログ
ラフイ一作業である材料について特に尚て、ij:まる
・リスフィルムまたは゛密着フィルムと呼ばれるこのよ
うなフイームは、像色調を再生する微細な網点配列に依
存する。微細な網点(3qbから5%まで)はアンダー
カットおよびエツチングして失われ、それによって再生
の品質を劣化させることがある。
米国特許第4,268,541号明細書において開示さ
れたような若干の酸含有保護材料の比較的厚い層は、ア
ルカリ性金属エツチング液を中和することによって金属
のエツチングをも妨害することがある。このような中和
は、エツチングされた金属像の形成を妨け、従って許容
し得る品質の像の形成を妨げる。
れたような若干の酸含有保護材料の比較的厚い層は、ア
ルカリ性金属エツチング液を中和することによって金属
のエツチングをも妨害することがある。このような中和
は、エツチングされた金属像の形成を妨け、従って許容
し得る品質の像の形成を妨げる。
摩耗の問題を克服する他の試みは、特開昭56−973
6号明細書に記載されている。この場合、金属および有
機化合物は、単一層として慎重に被覆される。すなわち
金属および有機蒸気は、これらが支持体上に沈積される
前に蒸気流に実質的に混合される。このことは、完全に
満足ではない0なぜならば加熱金属蒸気は、有機材料を
炭化または分解して許容できない生成物を生じる0また
、層の厚さは、少なくとも2 Q nmから1000
nmである必要がある。有機材料の範囲は、また非常に
特別のものであシ、一般に有機酸材料を強調する。
6号明細書に記載されている。この場合、金属および有
機化合物は、単一層として慎重に被覆される。すなわち
金属および有機蒸気は、これらが支持体上に沈積される
前に蒸気流に実質的に混合される。このことは、完全に
満足ではない0なぜならば加熱金属蒸気は、有機材料を
炭化または分解して許容できない生成物を生じる0また
、層の厚さは、少なくとも2 Q nmから1000
nmである必要がある。有機材料の範囲は、また非常に
特別のものであシ、一般に有機酸材料を強調する。
米国特許第4.271.256号明細書には、蒸着金属
層の下に染料を使用して、放射線吸収を増大することが
開示されているが、ホトレジスト層は物品と共に使用さ
れていない。
層の下に染料を使用して、放射線吸収を増大することが
開示されているが、ホトレジスト層は物品と共に使用さ
れていない。
蒸着着色剤(染料または顔料)層の基体表面への適用は
、ホトレジスト像形成物品に有用な光学濃度を与える。
、ホトレジスト像形成物品に有用な光学濃度を与える。
ホトレジスト層を蒸着着色剤層上に備えることによって
ホトレジスト像形成物品が与えられる。着色剤は、機械
的(例えばパフみがき)または溶解手段によって容易に
除去できる光学濃度の容具に制御された均一な連続層を
形成する。すべての放射吸収染料および顔料は、この型
の物品に有用である。
ホトレジスト像形成物品が与えられる。着色剤は、機械
的(例えばパフみがき)または溶解手段によって容易に
除去できる光学濃度の容具に制御された均一な連続層を
形成する。すべての放射吸収染料および顔料は、この型
の物品に有用である。
蒸気着色剤層とその上に(分散系中に金属および金属化
合物または金属および金属酸化物を宮む層を包含する)
蒸着金属層を有する。基体の組み合わせによって所望の
結果が与えられる。この金属は、高い光学濃度を与え、
しかも着色剤層は、像の品質に何ら悪影響なしに既存お
よび後に形成される欠点を隠す。蒸着着色剤層は、(米
国特許第4.364,995号明細書に開示された金属
/金属酸化物または金属/金属硫化物分散系を含む)蒸
着金属層または既に蒸着金属層上にある(米国特許第4
,268.541号明細書における摩耗保護層のような
)他の非耐食性現像剤可溶性層上に直接適用できる。
合物または金属および金属酸化物を宮む層を包含する)
蒸着金属層を有する。基体の組み合わせによって所望の
結果が与えられる。この金属は、高い光学濃度を与え、
しかも着色剤層は、像の品質に何ら悪影響なしに既存お
よび後に形成される欠点を隠す。蒸着着色剤層は、(米
国特許第4.364,995号明細書に開示された金属
/金属酸化物または金属/金属硫化物分散系を含む)蒸
着金属層または既に蒸着金属層上にある(米国特許第4
,268.541号明細書における摩耗保護層のような
)他の非耐食性現像剤可溶性層上に直接適用できる。
蒸着金属層゛および(または)蒸着着色剤層上の摩耗保
護層の使用は、本発明の好ましい構成である。
護層の使用は、本発明の好ましい構成である。
染料および顔料の使用における非常に重要なことは、蒸
着染料または顔料層の感光層への浸透の防止である。隣
接の感光層に不溶および(または)非相容性の顔料また
は染料の使用または染料/顔料および感光層の間の薄い
蒸着有機バリヤ一層の使用が必須である。染料および顔
料の感光層への浸透によって、写真フィルムの垂直寸法
に速度の不均一が生じ、この不均一性は像形成に本質的
な溶解性の光開始された変化に悪影響を及ぼす。このよ
うな変動によって、ネガチゾおよびボジチゾモードにそ
れぞれアンダーカットまたは不完全な像クリーンアウト
が与えられる。米国特許第4,268r541号明細書
において、開示されてはいるが例示されていない2種の
材料は、染料(ローダミンB)または顔料(フタロシア
ニン)として適しているが、これらは感光性レジスト層
と一体(例えば可溶性または相容性)である必要がある
−0 20℃における蒸気圧が1−n−オクタツールよシ大き
くない、1)カルボニル基、(カルボキシル基の1部で
あるものを含む)、2)フェノキシ基、3)エステル基
、4)尿素基、5)アルコール基、6)フタロシアニン
または7)糖類を有する有機材料の層の蒸着着色剤また
は金属表面への適用は、金属層にすぐれた耐損傷性を与
えることが分力っり。ホトレジスト像形成構造における
蒸着金属層上のこれらの有機材料の存在によって、像に
均一な現像%性が与えられる。これらの最初の5種の材
料(カルボキシル化合物を除く)は、保 ゛護層として
の酸の使用に付随する低摩擦特性を低下させるかまたは
除去し、しかも酸性度が低いためK、これらの材料は、
酸保護層はどにはアルカリ性現像液を中和しない。
着染料または顔料層の感光層への浸透の防止である。隣
接の感光層に不溶および(または)非相容性の顔料また
は染料の使用または染料/顔料および感光層の間の薄い
蒸着有機バリヤ一層の使用が必須である。染料および顔
料の感光層への浸透によって、写真フィルムの垂直寸法
に速度の不均一が生じ、この不均一性は像形成に本質的
な溶解性の光開始された変化に悪影響を及ぼす。このよ
うな変動によって、ネガチゾおよびボジチゾモードにそ
れぞれアンダーカットまたは不完全な像クリーンアウト
が与えられる。米国特許第4,268r541号明細書
において、開示されてはいるが例示されていない2種の
材料は、染料(ローダミンB)または顔料(フタロシア
ニン)として適しているが、これらは感光性レジスト層
と一体(例えば可溶性または相容性)である必要がある
−0 20℃における蒸気圧が1−n−オクタツールよシ大き
くない、1)カルボニル基、(カルボキシル基の1部で
あるものを含む)、2)フェノキシ基、3)エステル基
、4)尿素基、5)アルコール基、6)フタロシアニン
または7)糖類を有する有機材料の層の蒸着着色剤また
は金属表面への適用は、金属層にすぐれた耐損傷性を与
えることが分力っり。ホトレジスト像形成構造における
蒸着金属層上のこれらの有機材料の存在によって、像に
均一な現像%性が与えられる。これらの最初の5種の材
料(カルボキシル化合物を除く)は、保 ゛護層として
の酸の使用に付随する低摩擦特性を低下させるかまたは
除去し、しかも酸性度が低いためK、これらの材料は、
酸保護層はどにはアルカリ性現像液を中和しない。
本発明の感光性物品は、基材、光学濃度提供蒸着着色剤
層および蒸着着色剤層と一体でない感光性レジスト層を
含む。基体は、単一層を含むかまたはその上に蒸着金属
層または蒸着金属層および摩耗保護蒸着有機層の両者を
含んでもよい。
層および蒸着着色剤層と一体でない感光性レジスト層を
含む。基体は、単一層を含むかまたはその上に蒸着金属
層または蒸着金属層および摩耗保護蒸着有機層の両者を
含んでもよい。
本発明の実施による「一体でない」の用語は、着色層上
(またはホトレジスト現像剤〔すなわち、好1しくは米
国特許第4,314,022号明細書に開示されたpH
13+におけるアルカリ水溶液)〕に可溶性の有機材料
の蒸着バリヤ一層によってさらに被覆された着色剤層上
)に沈積された場合、(実際に構成された)感光性レジ
スト層は、着色剤10重量%より多くを取シこみあるい
は吸収しない。好ましくは1着色剤5重量係未満、よシ
好ましくは2重量係未満は被覆ホトレジスト層によって
取りこみまたは吸収される。
(またはホトレジスト現像剤〔すなわち、好1しくは米
国特許第4,314,022号明細書に開示されたpH
13+におけるアルカリ水溶液)〕に可溶性の有機材料
の蒸着バリヤ一層によってさらに被覆された着色剤層上
)に沈積された場合、(実際に構成された)感光性レジ
スト層は、着色剤10重量%より多くを取シこみあるい
は吸収しない。好ましくは1着色剤5重量係未満、よシ
好ましくは2重量係未満は被覆ホトレジスト層によって
取りこみまたは吸収される。
染料または顔料は、280 nmと900 nmの間(
好ましくは400 nmと700 nmの開)の電磁波
スペクトルの1 On、mバンドに光学濃度少なくとも
0.3を与えるに十分な厚さで塗布されなければならず
、好ましくは光学濃度少なくとも0.6、よシ好ましく
は少なくとも0.8、最も好ましくは少なくとも1.0
Δ染料によって与えられる。蒸着できる任意の化学薬品
の種類からの任意の染料または顔料は、本発明の実施に
おいて使用できる。
好ましくは400 nmと700 nmの開)の電磁波
スペクトルの1 On、mバンドに光学濃度少なくとも
0.3を与えるに十分な厚さで塗布されなければならず
、好ましくは光学濃度少なくとも0.6、よシ好ましく
は少なくとも0.8、最も好ましくは少なくとも1.0
Δ染料によって与えられる。蒸着できる任意の化学薬品
の種類からの任意の染料または顔料は、本発明の実施に
おいて使用できる。
この染料または顔料としては、限定されないがメチン、
アントラキノン、オキサジン、アジン、チアジン、シア
ニン、メロシアニン、フタロシアニン、インダアミン、
トリアリールメタン、ペンゾリデン、アゾ、モノアジン
、キサンチン、インジゴイド、オキソノール、フェノー
ル、ナフトール、ピラゾロンなどがある。ローダミンB
およびフタロシアニン以外の染料または顔料は、特に望
ましい。層の厚さは、着色剤が少なくとも最小の光学濃
度を与える能力によって決まる。蒸着層は、数ナノメー
トル(例えば6または10ナノメートル)の薄さであっ
てもよく、しかも1000ナノメートルに厚くてもよい
。一般的範囲は、5ナノメートルから1000ナノメー
トルまでであシ、好ましい範囲は10ナノメートルから
700ナノメートルまでまたは10ナノメートルから2
00ナノメートルまでであろう。一層好ましい範囲は、
染料または顔料について厚さ10ナノメートルから10
0ナノメートルまでであろう。多数の染料層または染料
の混合物は単一層内に使用できる。一層重要には、染料
は、透過光学濃度少なくとも0.6を与えなければなら
ない。濃度範囲0.6から0.7までおよびそれ以上を
得ることができる。好ましくは、光学濃度少なくとも0
.5または少なくとも1.0を与えなければならない。
アントラキノン、オキサジン、アジン、チアジン、シア
ニン、メロシアニン、フタロシアニン、インダアミン、
トリアリールメタン、ペンゾリデン、アゾ、モノアジン
、キサンチン、インジゴイド、オキソノール、フェノー
ル、ナフトール、ピラゾロンなどがある。ローダミンB
およびフタロシアニン以外の染料または顔料は、特に望
ましい。層の厚さは、着色剤が少なくとも最小の光学濃
度を与える能力によって決まる。蒸着層は、数ナノメー
トル(例えば6または10ナノメートル)の薄さであっ
てもよく、しかも1000ナノメートルに厚くてもよい
。一般的範囲は、5ナノメートルから1000ナノメー
トルまでであシ、好ましい範囲は10ナノメートルから
700ナノメートルまでまたは10ナノメートルから2
00ナノメートルまでであろう。一層好ましい範囲は、
染料または顔料について厚さ10ナノメートルから10
0ナノメートルまでであろう。多数の染料層または染料
の混合物は単一層内に使用できる。一層重要には、染料
は、透過光学濃度少なくとも0.6を与えなければなら
ない。濃度範囲0.6から0.7までおよびそれ以上を
得ることができる。好ましくは、光学濃度少なくとも0
.5または少なくとも1.0を与えなければならない。
染料の最高吸光度の波長において最高光学濃度について
範囲1.0から5.0までは、本発明の実施において得
ることができる有用な目標である。
範囲1.0から5.0までは、本発明の実施において得
ることができる有用な目標である。
本発明の物品は、さらに、基体、前記基体の少なくとも
一表面上に蒸着金属層、金属壇上に蒸着着色剤層、およ
び前記金属層および着色剤層の何しカまたは双方上に任
意に、フェノキシ基、アルコール基、尿素基、エステル
基、糖類ま゛たはカルボニル基(カルボキシル基の1部
であってもよい)を有する材料を含む保護有機層を含む
。着色剤層と一体でないホトレジスト層は、前記保護層
上に被覆される。ホトレジスト層と蒸着着色剤層の間に
放射線吸収材料の実質的量がないのが好ましい。
一表面上に蒸着金属層、金属壇上に蒸着着色剤層、およ
び前記金属層および着色剤層の何しカまたは双方上に任
意に、フェノキシ基、アルコール基、尿素基、エステル
基、糖類ま゛たはカルボニル基(カルボキシル基の1部
であってもよい)を有する材料を含む保護有機層を含む
。着色剤層と一体でないホトレジスト層は、前記保護層
上に被覆される。ホトレジスト層と蒸着着色剤層の間に
放射線吸収材料の実質的量がないのが好ましい。
基体上に染料または顔料層を有する構造、蒸着着色剤層
とホトレジスト層の間の蒸着金属層を有する構造はこの
好ましい構成の種類にはない有用な構造である。このよ
うな構造においては、染料は、金属層のエツチング後に
除くために漂白または溶解されなければならないであろ
う。
とホトレジスト層の間の蒸着金属層を有する構造はこの
好ましい構成の種類にはない有用な構造である。このよ
うな構造においては、染料は、金属層のエツチング後に
除くために漂白または溶解されなければならないであろ
う。
基体は、金属が蒸着されてもよい任意の表面または材料
であってもよい。基体は、粗いかまたは滑らか、透明ま
たは不透明および連続または多孔性であってもよい。基
体は、天然または合成重合体樹脂(熱aJ’塑性または
熱硬化性)、セラミクス □ガラス、金属、紙、布
などのものであってもよへ多くの商業用途には、基体は
、ポリエステル(例エバ&IJエチレンテレフタレー、
ト)セルロースエステル、ポリカーボネート、ポリビニ
ル樹脂(例えばポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、
ポリビニルグチラール、ポリビニルホルマール)、ポリ
アミド、ポリイミr、ポリアクリレート(例えばアクリ
ル酸、メタクリル酸、アクリル酸n−7’チル、アクリ
ル酸無水物などの共重合体およびホモポリマー)、ポリ
オレフィンなどの重合体樹脂が好ましい。重合体は、透
明、半透明または不透明であってもよい。重合体は、カ
ーボングラツク、チタニア、酸化亜鉛、染料、顔料のよ
うな充てん剤を含有してもよく、もち論これらの材料は
−°般に被覆助剤、潤滑剤、酸化防止剤、紫外線吸収剤
、界面活性剤、触媒のようなフィルムの形成に用いられ
る。
であってもよい。基体は、粗いかまたは滑らか、透明ま
たは不透明および連続または多孔性であってもよい。基
体は、天然または合成重合体樹脂(熱aJ’塑性または
熱硬化性)、セラミクス □ガラス、金属、紙、布
などのものであってもよへ多くの商業用途には、基体は
、ポリエステル(例エバ&IJエチレンテレフタレー、
ト)セルロースエステル、ポリカーボネート、ポリビニ
ル樹脂(例えばポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、
ポリビニルグチラール、ポリビニルホルマール)、ポリ
アミド、ポリイミr、ポリアクリレート(例えばアクリ
ル酸、メタクリル酸、アクリル酸n−7’チル、アクリ
ル酸無水物などの共重合体およびホモポリマー)、ポリ
オレフィンなどの重合体樹脂が好ましい。重合体は、透
明、半透明または不透明であってもよい。重合体は、カ
ーボングラツク、チタニア、酸化亜鉛、染料、顔料のよ
うな充てん剤を含有してもよく、もち論これらの材料は
−°般に被覆助剤、潤滑剤、酸化防止剤、紫外線吸収剤
、界面活性剤、触媒のようなフィルムの形成に用いられ
る。
蒸着金属層は、任意の蒸着金属またはメタロ41層であ
ってもよい。本発明の実施によシ、用語金属層は金属、
金属合金、金属塩および金属化合物を含む層として定義
される。相当する意味は、用語メタロイド層に適用する
。用語金属層内の金属は、本発明において、半金属(例
えばメタロイr)および半導体材料を含むとして、定義
される。
ってもよい。本発明の実施によシ、用語金属層は金属、
金属合金、金属塩および金属化合物を含む層として定義
される。相当する意味は、用語メタロイド層に適用する
。用語金属層内の金属は、本発明において、半金属(例
えばメタロイr)および半導体材料を含むとして、定義
される。
金属としては、アルミニウム、アンチモン、ベリリウム
、ヒスマス、カドミウム、クロム、コバルト、銅、ガリ
ウム、rルマニウム、金、インジウム、鉄、鉛、マグネ
シウム、マンガン、モリブデン、ニッケル、パラジウム
、ロジウム、セレン、ケイ素、銀、ストロンチウム、テ
ルル、スズ、チタン、タングステン、バナジウム、およ
び亜鉛のような材料がある。好ましくは、金属はアルミ
ニウム、クロム、ニッケル、スズ、チタンおよび亜鉛か
ら選ばれる。より好ましくは、金属はアルミニウムであ
る。アルミニウムー鉄、アルミニウムー銀、ビスマス−
スズ、および鉄−コバルト合金のような金属合金は、用
語金属層に含有され、しかも特に有用である。金属−・
ロダン化物、金属炭酸塩、金属硝酸塩などの金属塩は有
用である。金属酸化物および金属硫化物のような金属化
合物は、像形成系において特に有用である。金属−金属
酸化物、金属−金属塩および金属塩−金属酸化物の混合
物のような、これらの材料の混合物を含む金属層もまた
特に興味深い。米国特許第4,364,995号明細書
には、このような被覆を提供できる方法が教示されてい
る。
、ヒスマス、カドミウム、クロム、コバルト、銅、ガリ
ウム、rルマニウム、金、インジウム、鉄、鉛、マグネ
シウム、マンガン、モリブデン、ニッケル、パラジウム
、ロジウム、セレン、ケイ素、銀、ストロンチウム、テ
ルル、スズ、チタン、タングステン、バナジウム、およ
び亜鉛のような材料がある。好ましくは、金属はアルミ
ニウム、クロム、ニッケル、スズ、チタンおよび亜鉛か
ら選ばれる。より好ましくは、金属はアルミニウムであ
る。アルミニウムー鉄、アルミニウムー銀、ビスマス−
スズ、および鉄−コバルト合金のような金属合金は、用
語金属層に含有され、しかも特に有用である。金属−・
ロダン化物、金属炭酸塩、金属硝酸塩などの金属塩は有
用である。金属酸化物および金属硫化物のような金属化
合物は、像形成系において特に有用である。金属−金属
酸化物、金属−金属塩および金属塩−金属酸化物の混合
物のような、これらの材料の混合物を含む金属層もまた
特に興味深い。米国特許第4,364,995号明細書
には、このような被覆を提供できる方法が教示されてい
る。
蒸着金属層の厚さは、最終製品の特別の要求によってき
まる。像形成構造においては、例えば厚さは少なくとも
約3 nmでなければならない。一般に、層は、長いエ
ツチング期間を要する7 50 nmよシ厚くはない。
まる。像形成構造においては、例えば厚さは少なくとも
約3 nmでなければならない。一般に、層は、長いエ
ツチング期間を要する7 50 nmよシ厚くはない。
一層実用的な商業的範囲は、10nmと500 nmの
間であろう。好ましい範囲は、2 ’Onmと400
nmの間、一層好ましい範囲は、25 nmと300
nmの間または30 nmと200 nmの間であろう
。
間であろう。好ましい範囲は、2 ’Onmと400
nmの間、一層好ましい範囲は、25 nmと300
nmの間または30 nmと200 nmの間であろう
。
金属層の断面の大多数は金属、金属合金、金属塩および
金属化合物から本質的になるのが好ましい。他の材料の
10チまでまたはそれ以上のこん跡は、一般にこの層に
許容でき、事実、製造のあるプロセスにおいては、金属
層と保護層の境昇領域は、金属i ooqbから有機材
料100チまでの勾配のゆるやかなまたは漸進的変化を
有してもよい。しかしながら、金属、金属合金、金属塩
、金属化合物およびそれらの組み合わせから主としてな
るその断面の大部分(少なくとも50%)f:有する金
属層が好ましい。金属層は17711IIK2当たシラ
00個未満、好ましくは50個未満、よシ好ましくは3
0個未満の欠点を有しなければならない。
金属化合物から本質的になるのが好ましい。他の材料の
10チまでまたはそれ以上のこん跡は、一般にこの層に
許容でき、事実、製造のあるプロセスにおいては、金属
層と保護層の境昇領域は、金属i ooqbから有機材
料100チまでの勾配のゆるやかなまたは漸進的変化を
有してもよい。しかしながら、金属、金属合金、金属塩
、金属化合物およびそれらの組み合わせから主としてな
るその断面の大部分(少なくとも50%)f:有する金
属層が好ましい。金属層は17711IIK2当たシラ
00個未満、好ましくは50個未満、よシ好ましくは3
0個未満の欠点を有しなければならない。
着色剤または金属層の蒸着は、任意の手段によって行う
ことができる。本発明の実施において、金属または着色
剤の熱蒸発、イオンブレーティング、高周波スパッタ、
交流スパッタ、直流スパッタ、および他の沈積用の既知
の方法を使用できる。
ことができる。本発明の実施において、金属または着色
剤の熱蒸発、イオンブレーティング、高周波スパッタ、
交流スパッタ、直流スパッタ、および他の沈積用の既知
の方法を使用できる。
圧力は被覆の間に大いに変わシ得るが、通常は10−6
)ルから10−4 )ルまでの範囲内でおる。
)ルから10−4 )ルまでの範囲内でおる。
有機保護層は、20℃において1−n−オクタツールの
蒸気圧よシ大きくない、1)カルボニル基(カルボキシ
ル基の1部であってもよいが、しかし1部である必要は
ない)、2)フェノキシ基、3)アルコールまたは4)
糖類全有する有機材料からなる群から選ばれた材料を含
んでもよい。用語「有機材料」が使用される。なぜなら
ば、保護被覆は単一化合物または単量体状化合物である
必要はないからであるっこれらの型の材料に加えて、二
量体、二量体、オIJ 、(Jマー、重合体、共重合体
、ターポリマーなどを使用できる。
蒸気圧よシ大きくない、1)カルボニル基(カルボキシ
ル基の1部であってもよいが、しかし1部である必要は
ない)、2)フェノキシ基、3)アルコールまたは4)
糖類全有する有機材料からなる群から選ばれた材料を含
んでもよい。用語「有機材料」が使用される。なぜなら
ば、保護被覆は単一化合物または単量体状化合物である
必要はないからであるっこれらの型の材料に加えて、二
量体、二量体、オIJ 、(Jマー、重合体、共重合体
、ターポリマーなどを使用できる。
カルボキシル基の1部でないカルボニル基を含有する有
機材料、例えば 1)フタルアミド、サリチルアミF、
尿素ホルムアルデヒド樹脂およびメチレン−ビス−アク
リルアミドのようなアミド、2)フタルアニリドおよび
サリチルアニリドのよ′(うなアニリドがある。これら
の有機材料は、1部mの薄い層において使用できて、良
好な摩耗またはすシ傷保護を与え得る。これらは、厚さ
600 nmまでにおいて使用できるが、結果の驚くべ
き向上はなく、事実性質が若干減少することが多い0好
ましい範囲は、3’nmと200 nm0間、一層好ま
しくは5 nmと100 nmの間、最も好ましくは少
なくとも5 nmであシ30 nmまたは20 nm未
満であるつ エステル基を含有する有機材料としては、ポリエステル
オリゴマー、低分子量ポリエステル重合体(例えば分子
量5,000と50,000の間を有するポリエチレン
テレフタレート、ポリエチレンイソフタレートなど)、
ジアリルフタレート(およびその重合体)、ジアリルイ
ソフタレート(およびその重合体)、モノメチルフタレ
ート、カルボン酸アルキルエステルなどのような材料が
ある。
機材料、例えば 1)フタルアミド、サリチルアミF、
尿素ホルムアルデヒド樹脂およびメチレン−ビス−アク
リルアミドのようなアミド、2)フタルアニリドおよび
サリチルアニリドのよ′(うなアニリドがある。これら
の有機材料は、1部mの薄い層において使用できて、良
好な摩耗またはすシ傷保護を与え得る。これらは、厚さ
600 nmまでにおいて使用できるが、結果の驚くべ
き向上はなく、事実性質が若干減少することが多い0好
ましい範囲は、3’nmと200 nm0間、一層好ま
しくは5 nmと100 nmの間、最も好ましくは少
なくとも5 nmであシ30 nmまたは20 nm未
満であるつ エステル基を含有する有機材料としては、ポリエステル
オリゴマー、低分子量ポリエステル重合体(例えば分子
量5,000と50,000の間を有するポリエチレン
テレフタレート、ポリエチレンイソフタレートなど)、
ジアリルフタレート(およびその重合体)、ジアリルイ
ソフタレート(およびその重合体)、モノメチルフタレ
ート、カルボン酸アルキルエステルなどのような材料が
ある。
フェノキシ基を含有する有機材料としては、ビスフェノ
ールA1および低分子量フェノールホルA 7 /l/
デヒド樹脂〔例えばレジノックス(Re5inox■)
〕のような材料がある。アルコール含有材料としては、
1−n−オクタツール% rデカノール、ペンシルアル
コールなどがあろう。
ールA1および低分子量フェノールホルA 7 /l/
デヒド樹脂〔例えばレジノックス(Re5inox■)
〕のような材料がある。アルコール含有材料としては、
1−n−オクタツール% rデカノール、ペンシルアル
コールなどがあろう。
有機材料は、蒸着性でなければならない。なぜならば、
この有機材料は、保護層の適用に好ましい一般的方法だ
からである。有機材料は、例えば米国特許第4.268
.541号明細書に開示された装置および操作において
沈積できる。この装置(例えば、例1)に記載された隔
壁またはそらせ板は、本質的であることは分からなかっ
た。2つの蒸気流(例えば金属流、および有機材料流)
は、この2種の材料の被覆帯域が完全に重ならないよう
に物理的に間隔を置かれるかまたは向けられてもよい。
この有機材料は、保護層の適用に好ましい一般的方法だ
からである。有機材料は、例えば米国特許第4.268
.541号明細書に開示された装置および操作において
沈積できる。この装置(例えば、例1)に記載された隔
壁またはそらせ板は、本質的であることは分からなかっ
た。2つの蒸気流(例えば金属流、および有機材料流)
は、この2種の材料の被覆帯域が完全に重ならないよう
に物理的に間隔を置かれるかまたは向けられてもよい。
各被覆帯域の50%が(金属層の厚さの少なくとも50
チが、金属、金属塩、金属化合物およびこれらの組み合
わせから本質的になるように)重なる場合にも重大な問
題は見られないが、これは好ましい構造ではない。金属
成分の全重量の25%未満がこのような重なシまたは混
合帯域にあシ、一層好ましくは10チ未満または0チさ
えもこのような帯域にあるのが好ましい。しかしながら
、本発明の実施において金属層は、通常基体に隣接した
被覆の少なくとも1領域が、その中に有機材料の分散相
なしに金属層から本質的になることを必要とする。本発
明によフ、染料または着色剤被覆は、金属またはメタロ
イド層とレゾスト層(金属層が存在する場合)の間にあ
るのが好ましい。保護層は、金属(またはメタロイド)
層および(または)染料層上であるがレジスト層下に存
在し得る。
チが、金属、金属塩、金属化合物およびこれらの組み合
わせから本質的になるように)重なる場合にも重大な問
題は見られないが、これは好ましい構造ではない。金属
成分の全重量の25%未満がこのような重なシまたは混
合帯域にあシ、一層好ましくは10チ未満または0チさ
えもこのような帯域にあるのが好ましい。しかしながら
、本発明の実施において金属層は、通常基体に隣接した
被覆の少なくとも1領域が、その中に有機材料の分散相
なしに金属層から本質的になることを必要とする。本発
明によフ、染料または着色剤被覆は、金属またはメタロ
イド層とレゾスト層(金属層が存在する場合)の間にあ
るのが好ましい。保護層は、金属(またはメタロイド)
層および(または)染料層上であるがレジスト層下に存
在し得る。
ホトレジスト層は、当業界で既知のようにネガテグ作動
またはボシチグ作動ホトレジストであってもよい。ボジ
チグ作動ホトレジスト系は、通常例えば米国特許第3,
046,120号、第3.469,902号および第、
5,210,239号明細書に開示されたようなボジチ
ゾ作動ジアゾニウム塩または樹脂を含有する重合体状結
合剤を含む。
またはボシチグ作動ホトレジストであってもよい。ボジ
チグ作動ホトレジスト系は、通常例えば米国特許第3,
046,120号、第3.469,902号および第、
5,210,239号明細書に開示されたようなボジチ
ゾ作動ジアゾニウム塩または樹脂を含有する重合体状結
合剤を含む。
ボジチゾ作動光増感剤は、市販され、しかも文献に十分
圧報告されている、ネガチゾ作動感光性レジスト系は、
通常露光によるような照射された場合に像様に重合する
重合性組成物を含む。これらの組成物は、文献に十分に
報告され、しかも広く市販されているこれらの組成物は
、通常、エチレン系またはポリエチレン系不飽和光重合
性材料合金むが感光性エポキシ系もまた当業界において
既知である。好ましくは、アクリレート、メタクリレー
ト、アクリルアミrおよびアリル系のようなエチレン系
不飽和光重合性系を用いろ。本発明によシ、アクリル酸
およびメタリル酸重合性系が最も好ましい。米国特許第
3,639,185号、第4,247.616号、第4
,008,084号、第4i 38,262号、第4.
139,931号。
圧報告されている、ネガチゾ作動感光性レジスト系は、
通常露光によるような照射された場合に像様に重合する
重合性組成物を含む。これらの組成物は、文献に十分に
報告され、しかも広く市販されているこれらの組成物は
、通常、エチレン系またはポリエチレン系不飽和光重合
性材料合金むが感光性エポキシ系もまた当業界において
既知である。好ましくは、アクリレート、メタクリレー
ト、アクリルアミrおよびアリル系のようなエチレン系
不飽和光重合性系を用いろ。本発明によシ、アクリル酸
およびメタリル酸重合性系が最も好ましい。米国特許第
3,639,185号、第4,247.616号、第4
,008,084号、第4i 38,262号、第4.
139,931号。
第4,158,079号、第3,469,982号明細
書、英国特許第1,468,746号明細書には、本発
明の実施において一般に有用な感光性組成物が開示され
ている。米国特許第4.314,022号明細書には1
本発明の実施において特に有用なエツチング剤溶液が開
示されている。
書、英国特許第1,468,746号明細書には、本発
明の実施において一般に有用な感光性組成物が開示され
ている。米国特許第4.314,022号明細書には1
本発明の実施において特に有用なエツチング剤溶液が開
示されている。
ホトレジスト層を着色剤層と「一体」にすることなく、
ホトレジスト層内にアキュータンス染料を含有できる。
ホトレジスト層内にアキュータンス染料を含有できる。
このアキュータンス染料は、それが着色剤と同一または
異なるように選ばれたとしても、ホトレジスト層に均質
に分散される。アキュータンス染料は、着色剤層から取
りこみまたは吸収されず、しかも「一体でない」ために
は、着色剤層の10重量%未満は既存のアキュータンス
染料を含む構成された感光層によって取シこまれなけれ
ばならない。着色剤が事実上、通常吸収性・可溶性であ
るかまたは適用された感光性レゾスト層との直接接触に
よ°つて取シとまれる場合、金属層(何ら可溶性染料を
除いて)を保護するために使用される同じ・型の材料の
バリヤ一層の使用は、この着色剤層と感光層の間に着色
剤層用のバリヤ一層として用いられて、着色剤層はレジ
スト層と一体でなくなる。
異なるように選ばれたとしても、ホトレジスト層に均質
に分散される。アキュータンス染料は、着色剤層から取
りこみまたは吸収されず、しかも「一体でない」ために
は、着色剤層の10重量%未満は既存のアキュータンス
染料を含む構成された感光層によって取シこまれなけれ
ばならない。着色剤が事実上、通常吸収性・可溶性であ
るかまたは適用された感光性レゾスト層との直接接触に
よ°つて取シとまれる場合、金属層(何ら可溶性染料を
除いて)を保護するために使用される同じ・型の材料の
バリヤ一層の使用は、この着色剤層と感光層の間に着色
剤層用のバリヤ一層として用いられて、着色剤層はレジ
スト層と一体でなくなる。
下記の例は、本発明の実施をさらに具体的に説明する。
例1
例1から例5までは、本発明の蒸着着色剤層と有効に組
み合わされた基体を示す。
み合わされた基体を示す。
そらせ板のない、米国特許第4,268.541号明細
書に記載された装置を用いて、10’mのポリエステル
ウエグを、アルミニウム70 nmをもって真空蒸着す
ることによって被覆した。同じ真空室における同じ操作
の間に、市販のターポリマー系アクリレート材料(メチ
ルメタクリレート62重量%、n−グチルアクリレート
66重量%およびアクリル酸2重を俤から誘導される)
の層を適用した。この試料は、米国特許第4.268.
541号明細書の教示によシ製造された物品を示す。ま
た非有機物被覆のアルミニウムフィルムの対照長のもの
も製造された。得られた有機/金属パッケージの楕円偏
光測定値は、アクリレート層の厚さが30.5’nmで
あることを示した。
書に記載された装置を用いて、10’mのポリエステル
ウエグを、アルミニウム70 nmをもって真空蒸着す
ることによって被覆した。同じ真空室における同じ操作
の間に、市販のターポリマー系アクリレート材料(メチ
ルメタクリレート62重量%、n−グチルアクリレート
66重量%およびアクリル酸2重を俤から誘導される)
の層を適用した。この試料は、米国特許第4.268.
541号明細書の教示によシ製造された物品を示す。ま
た非有機物被覆のアルミニウムフィルムの対照長のもの
も製造された。得られた有機/金属パッケージの楕円偏
光測定値は、アクリレート層の厚さが30.5’nmで
あることを示した。
得られたアルミニウムプラス有機物被覆材料を、透過光
によって調べ、しかも非常に少ないピンホールまたは欠
点が分かった。別にこのパッケージの軟質アルミニウム
層は、親指圧力を用いてこすシ落とすことができなかっ
た。非有機物被覆アルミニウムフィルムは、親指圧力を
用いてこすDWとすことができた。
によって調べ、しかも非常に少ないピンホールまたは欠
点が分かった。別にこのパッケージの軟質アルミニウム
層は、親指圧力を用いてこすシ落とすことができなかっ
た。非有機物被覆アルミニウムフィルムは、親指圧力を
用いてこすDWとすことができた。
有機物蒸着試料および未保護試料の両者を、水酸化ナト
リウム1.2%およびニトリロトリ酢酸の四ナトリウム
塩6チの浴に62℃において浸せきした。未保護M層を
、15秒で均一にきれいに酸化して除いた。有機物保護
層はきれいに除去できなかった。事実、アルミニウムは
、浸せき時間の間に一部分持ち上が9、次いでアルミニ
ウムは溶液中で一般に酸化した。
リウム1.2%およびニトリロトリ酢酸の四ナトリウム
塩6チの浴に62℃において浸せきした。未保護M層を
、15秒で均一にきれいに酸化して除いた。有機物保護
層はきれいに除去できなかった。事実、アルミニウムは
、浸せき時間の間に一部分持ち上が9、次いでアルミニ
ウムは溶液中で一般に酸化した。
例2
例1に記載された装置を用いて、2000mの連続ウェ
ブを70nmのアルミニウム層をもって蒸着し、その後
直ちに同じ室内でテレフタル酸の10nm層を適用した
。1400mの水準で、テレフタル酸を被覆したロール
巻きはそれ自体の上に竹の子巻きになシ、さらに室から
取シ出す時に竹の子巻きになった。室から取シ出した後
、蒸着アルミニウム/テレフタル酸ロールは製造プロセ
スには許容できないと考えられた。
ブを70nmのアルミニウム層をもって蒸着し、その後
直ちに同じ室内でテレフタル酸の10nm層を適用した
。1400mの水準で、テレフタル酸を被覆したロール
巻きはそれ自体の上に竹の子巻きになシ、さらに室から
取シ出す時に竹の子巻きになった。室から取シ出した後
、蒸着アルミニウム/テレフタル酸ロールは製造プロセ
スには許容できないと考えられた。
例6
例1に記載された技術を用いて、さらに6個の2000
mのロール巻きを被覆し、次いで異なった有機材料を各
ロール巻きのアルミニウムに適用シタクロール41Aは
モンサンド・コーポレーション製のフェノールホルムア
ルデヒドm 合物m 脂のレジノックスからなる有機層
を(アルミニウム層の上面)に含有した。
mのロール巻きを被覆し、次いで異なった有機材料を各
ロール巻きのアルミニウムに適用シタクロール41Aは
モンサンド・コーポレーション製のフェノールホルムア
ルデヒドm 合物m 脂のレジノックスからなる有機層
を(アルミニウム層の上面)に含有した。
ロール巻きBは、グツドイヤー製で市販されている低分
子蓋ポリエステル樹脂(分子量約10.000 )のバ
イチル(Vitel ) 200の有機層がアルミニウ
ム層に適用された以外はロール巻きAと同一であった。
子蓋ポリエステル樹脂(分子量約10.000 )のバ
イチル(Vitel ) 200の有機層がアルミニウ
ム層に適用された以外はロール巻きAと同一であった。
ロール巻きCは有機保護被覆を有しないロール巻きAお
よびBと同一の蒸着アルミニウムフィルムの対照ロール
巻きからなっていた。
よびBと同一の蒸着アルミニウムフィルムの対照ロール
巻きからなっていた。
これらの6本のロール巻きは竹の子巻きしなかった。
例4
例1の装置を用いて、下記の材料を種々の厚さ15nm
から250 nm iでの蒸着アルミニウムウェブに適
用した。
から250 nm iでの蒸着アルミニウムウェブに適
用した。
1)ジメチルテレフタレート
2)無水フタル酸
3)モノメチルフタレート
4)ダボン(DapOn ) 35−エフ・エム・シー
・コーポレーション製シアリルフタレートプレポリマー 5)ビスフェノールA 6)エボy (Kpon ) 828−シェル・コーボ
レ−シEン製のエポキシ樹脂 7)ミヒラーケトン 8)ベンゾフェノン 9)ベンジルアルコール 10)サリチルアミド これらの材料は、被覆後、巻き出して透過光によって1
0×虫眼鏡をもって検査した。面積177rIL2の欠
点を計数して、対照として製造された有機被覆アルミニ
ウムフィルムのものと比較した。
・コーポレーション製シアリルフタレートプレポリマー 5)ビスフェノールA 6)エボy (Kpon ) 828−シェル・コーボ
レ−シEン製のエポキシ樹脂 7)ミヒラーケトン 8)ベンゾフェノン 9)ベンジルアルコール 10)サリチルアミド これらの材料は、被覆後、巻き出して透過光によって1
0×虫眼鏡をもって検査した。面積177rIL2の欠
点を計数して、対照として製造された有機被覆アルミニ
ウムフィルムのものと比較した。
対照フィルムは欠点水準100よシ大を示した。
試験した材料は欠点水準60またはそれ以下を有した。
保護層を有しない対照材料は、親指圧力を用いてこすシ
落すことができ一有機保護材料はこすシ落すことができ
なかった。前記材料は、何れも滑らず、しかも何れもロ
ール巻きの間または後に何ら竹の子巻きを生じなかった
。
落すことができ一有機保護材料はこすシ落すことができ
なかった。前記材料は、何れも滑らず、しかも何れもロ
ール巻きの間または後に何ら竹の子巻きを生じなかった
。
例5
例1の技術を用いて、バイチルPE 200 ポリエス
テル被覆を 1)スズ、 2)銅、 3)アルミニウム/マグネシウム(A194.8%、M
g 5.0 %、Mn 0.1 %、Oro、1%)、
4)アルミニウム プラス 鉄(比Al!2 Fe4
)、5)ニッケル を含む種々の金属層に厚さ10 nmで適用された。
テル被覆を 1)スズ、 2)銅、 3)アルミニウム/マグネシウム(A194.8%、M
g 5.0 %、Mn 0.1 %、Oro、1%)、
4)アルミニウム プラス 鉄(比Al!2 Fe4
)、5)ニッケル を含む種々の金属層に厚さ10 nmで適用された。
各金属について対照非有機被覆層が含まれたが、親指作
用の摩擦によって未保護金属を除去できた。
用の摩擦によって未保護金属を除去できた。
(有機被覆)保護金属層はとすシ落ちなかった0例6
蒸着 700Aアルミニウム層および5.OA〔グツド
イヤー・バイチル(Vitel■)PK200)ポリエ
ステル保護層を含有する4ミルのポリエステル基材上に
、かっ色染料〔クロレゾトン・アンド・ノウルズ・イン
ターサーム・ブラウン(Orompton & Kno
wles工ntertherm brovrnす130
3)を蒸着した。この層は、金属層上に色(光学濃度0
.6より犬)を生成するに十分な濃度が明らかになるま
で染料(ボート温度140°F)を含有するるつほまた
はボートを加熱することによって圧力10−’ )ルで
蒸着された。真空を除き、複合材料を検査のために除い
た後、染料のみの透過光学濃度は最高吸収(、l[1a
X)〔マクベス(MCBeth )濃度計モデル、TD
904青色フィルター読み〕において1.85である
ことが分かった。
イヤー・バイチル(Vitel■)PK200)ポリエ
ステル保護層を含有する4ミルのポリエステル基材上に
、かっ色染料〔クロレゾトン・アンド・ノウルズ・イン
ターサーム・ブラウン(Orompton & Kno
wles工ntertherm brovrnす130
3)を蒸着した。この層は、金属層上に色(光学濃度0
.6より犬)を生成するに十分な濃度が明らかになるま
で染料(ボート温度140°F)を含有するるつほまた
はボートを加熱することによって圧力10−’ )ルで
蒸着された。真空を除き、複合材料を検査のために除い
た後、染料のみの透過光学濃度は最高吸収(、l[1a
X)〔マクベス(MCBeth )濃度計モデル、TD
904青色フィルター読み〕において1.85である
ことが分かった。
接着/凝集試験は滑υ応力試験機(J、 Pho、 S
ci。
ci。
and Eng、、9月〜10月%1961.288頁
から296頁に記載)を用いて行ない、染料の表面は、
その表面の下に光沢のあるアルミニウム面を示すことな
くその表面上の1200 gyr*を越える摩耗屑シ試
験に耐えることができた。さらに浸せきおよびゼラチン
下塗シ試験から、この試験の間に染料が除かれなかった
ことが分かるっ例7 蒸着された光沢のあるアルミニウム層(700A)およ
びグツドイヤー・バイチル■l 200のポリエステル
50;の摩耗保護層を含有する4ミルのポリエステル基
材上にクロンプトン・アンド・ノウルズXB −2黒色
染料の染、材層を蒸着によって適用した。これは、暗黒
色染料濃度に染料を含有する(ボート/るつぼ)上に温
度1500Fから180″Fまでを用いて圧力0.6ミ
クロンにおいて行われた。全染料プラスアルミニウム染
料濃度のマクベス濃度計の読みは、濃度i o、oをこ
えた。透過光学濃度は(アルミニウム濃度水準のみ)は
6.85であった。染料の色はこすれて取れず、しかも
例6の応力試験機を用いて例6の接着/凝集結果に類似
の結果を生じた。
から296頁に記載)を用いて行ない、染料の表面は、
その表面の下に光沢のあるアルミニウム面を示すことな
くその表面上の1200 gyr*を越える摩耗屑シ試
験に耐えることができた。さらに浸せきおよびゼラチン
下塗シ試験から、この試験の間に染料が除かれなかった
ことが分かるっ例7 蒸着された光沢のあるアルミニウム層(700A)およ
びグツドイヤー・バイチル■l 200のポリエステル
50;の摩耗保護層を含有する4ミルのポリエステル基
材上にクロンプトン・アンド・ノウルズXB −2黒色
染料の染、材層を蒸着によって適用した。これは、暗黒
色染料濃度に染料を含有する(ボート/るつぼ)上に温
度1500Fから180″Fまでを用いて圧力0.6ミ
クロンにおいて行われた。全染料プラスアルミニウム染
料濃度のマクベス濃度計の読みは、濃度i o、oをこ
えた。透過光学濃度は(アルミニウム濃度水準のみ)は
6.85であった。染料の色はこすれて取れず、しかも
例6の応力試験機を用いて例6の接着/凝集結果に類似
の結果を生じた。
例8
この例は、染料の蒸着の適用に続いて同じ真空において
グツドイヤー〔バイチル(Vitel■)〕PE200
を適用した以外は、例6と同じであった。得られた透過
濃度2.61は、この層において認められた。米国特許
出願第550,757号明細書(1982年2月22日
付)において開示されたホトレジストの有機被覆を適用
し、次いで乾燥した。パーキー・アスコー(Berke
y Ascor ) 2kw露光装置(光からフィルム
までの距離的in)に60秒露光後、米国特許第4.3
14.022号明細書の例6の処理溶液および技術を用
いて、ホトレジストの有機被覆を現像した。黒色の像が
認められた。黒色フィルムと同一の材料から生成はれた
が、蒸着染料層のない黒色像および光沢のあるアルミニ
ウム像の両者を、光学系列の心がわずかに合っていない
スリー・エム・マイクロフィルム・リーダープリンター
612型に入れた。黒色像は、良好なコントラストをも
ってプリンタースクリーン上に容易に見られた。非染料
像はフラットで、見に<<シかも洗って色がさめたよう
に思われたう例9 レジノックス(Re5inox■)ノボラックを保護層
として有する例8と同じものは、同一の結果が認められ
た。
グツドイヤー〔バイチル(Vitel■)〕PE200
を適用した以外は、例6と同じであった。得られた透過
濃度2.61は、この層において認められた。米国特許
出願第550,757号明細書(1982年2月22日
付)において開示されたホトレジストの有機被覆を適用
し、次いで乾燥した。パーキー・アスコー(Berke
y Ascor ) 2kw露光装置(光からフィルム
までの距離的in)に60秒露光後、米国特許第4.3
14.022号明細書の例6の処理溶液および技術を用
いて、ホトレジストの有機被覆を現像した。黒色の像が
認められた。黒色フィルムと同一の材料から生成はれた
が、蒸着染料層のない黒色像および光沢のあるアルミニ
ウム像の両者を、光学系列の心がわずかに合っていない
スリー・エム・マイクロフィルム・リーダープリンター
612型に入れた。黒色像は、良好なコントラストをも
ってプリンタースクリーン上に容易に見られた。非染料
像はフラットで、見に<<シかも洗って色がさめたよう
に思われたう例9 レジノックス(Re5inox■)ノボラックを保護層
として有する例8と同じものは、同一の結果が認められ
た。
例10から例11まで
ホトレゾスト層が、米国特許第4.247.646号明
細書の例6のものであった以外は1例8および9と同じ
ものが黒色層上に積層され、しかも保護中間層がなかっ
た。露光および現像後、黒色像は、残シのレジスト層を
通して見ると明らかであった。
細書の例6のものであった以外は1例8および9と同じ
ものが黒色層上に積層され、しかも保護中間層がなかっ
た。露光および現像後、黒色像は、残シのレジスト層を
通して見ると明らかであった。
例12
材料の種類:ペリレン顔料
試料の説明:
前記構造の顔料(商業基ペリレングリーン)を蒸着アル
ミニウムの70OAの層および[バイチル(Vitel
■) ] PIIC200の5OAを含有する4ミルの
ポリエステル中間層上に蒸着された。アルミニウム/ポ
リエステル/顔料フィルムの潰過光学濃度は16.0よ
シ多く記録されたー試料A。
ミニウムの70OAの層および[バイチル(Vitel
■) ] PIIC200の5OAを含有する4ミルの
ポリエステル中間層上に蒸着された。アルミニウム/ポ
リエステル/顔料フィルムの潰過光学濃度は16.0よ
シ多く記録されたー試料A。
同じポリエステルのさらに100Aを基材/アルミニウ
ム/ポリエステル/染料パッケージ上に蒸着した以外は
第一試料と同一の第二試料(ここで試料Bとして知られ
る)を製造した。第三試料は染料と蒸着アルミニウムの
間にポリエステル中間層なしに製造されたー試料0゜ 試料A、Bおよび0は、順次、米国特許第4.247,
616号明細書の例6に記載されたホトレジストをもっ
て上塗シされた。
ム/ポリエステル/染料パッケージ上に蒸着した以外は
第一試料と同一の第二試料(ここで試料Bとして知られ
る)を製造した。第三試料は染料と蒸着アルミニウムの
間にポリエステル中間層なしに製造されたー試料0゜ 試料A、Bおよび0は、順次、米国特許第4.247,
616号明細書の例6に記載されたホトレジストをもっ
て上塗シされた。
これらの試料は、紫外線リッチな源のバラキー・用にお
いて現像された。
いて現像された。
フィルムの以前は感光性の面上には、反射防止黒色層が
明らかであった。像品質の劣化は認められなかった。
明らかであった。像品質の劣化は認められなかった。
例16
前記の染料/顔料材料の代わりに下記の材料をもって例
8を繰シ返した。
8を繰シ返した。
1)アントラキノン染料
t
紫青色の像が得られた。
2)
CH2−OH3
(!H2O00H
黄色の像が得られた。
3)ローダミンB染料
青色の像が得られた。
4)シート フラビy (5eatoflavine
)染料灰色の像が得られた。
)染料灰色の像が得られた。
5)フタロシアニングルー顔料
代理人 浅 村 皓
手続補正書 (11
昭和59年 7月23日
特許庁長官殿
1、事件の表示
昭和59年特許願第 88219 号2、発明の名称
像形成性物品
3、補正をする者
事件との関係 4、シ許出願人
5、補正命令の日イJ
昭和 年 月 日
66補正により増加する発明の数
9、添付書類の目録 同時に出願審査請求書を提出し
てあります。
てあります。
2、特許請求の範囲
(11像形成性物品であって、その少なくとも一表面上
に染料および顔料よりなる群から選ばれ、しかも0.6
より大きい光学濃度を有する蒸着着色剤層を有する基体
と、前記着色剤層と一体でない該層をおおう感光性レジ
スト層を含むことを特徴とする、像形成性物品。
に染料および顔料よりなる群から選ばれ、しかも0.6
より大きい光学濃度を有する蒸着着色剤層を有する基体
と、前記着色剤層と一体でない該層をおおう感光性レジ
スト層を含むことを特徴とする、像形成性物品。
(2)前記基体が重合体系フィルムを含む、特許請求の
範囲第1項記載の物品。
範囲第1項記載の物品。
(3)前記基体が、その−表面上に厚さ少なくとも3n
mの蒸着金属層を有する重合体系フィルムを含み、しか
も前記着色剤材料は、金属層とレジスト層との間にあっ
て、感光性層中に着色剤が5%より少ない量で含有され
ている、特許請求の範囲第1項記載の物品。
mの蒸着金属層を有する重合体系フィルムを含み、しか
も前記着色剤材料は、金属層とレジスト層との間にあっ
て、感光性層中に着色剤が5%より少ない量で含有され
ている、特許請求の範囲第1項記載の物品。
(4)前記基体が、その−表面上に厚さ少なくとも3n
mの蒸着金属層、前記金属層の直上に蒸着有機摩耗保護
層および摩耗保護層上に前記着色剤を有する重合体系フ
ィルムを含み、感光性層中に着色剤が5%より少ない量
で含有されている、特許請求の範囲第1項記載の物品。
mの蒸着金属層、前記金属層の直上に蒸着有機摩耗保護
層および摩耗保護層上に前記着色剤を有する重合体系フ
ィルムを含み、感光性層中に着色剤が5%より少ない量
で含有されている、特許請求の範囲第1項記載の物品。
(5)蒸着有機バリヤ一層が着色剤層と感光性レジスト
層との間にあり、しかも着色剤層の直1上にある、特許
請求の範囲第3項記載の物品。
層との間にあり、しかも着色剤層の直1上にある、特許
請求の範囲第3項記載の物品。
(6)蒸着有機バリヤ一層か着色剤層と感光性レジスト
層との間にあり、しかも着色剤層の直上にある、特許請
求の範囲第4項に記載の物品。
層との間にあり、しかも着色剤層の直上にある、特許請
求の範囲第4項に記載の物品。
(7)前記蒸着金属層がその層に接着された、20℃に
おいて1−n−オクタツールより低いかまたは等しい蒸
気圧を有し、しかもa)カルボニル基、b)フェノキシ
基、C)エステル基、a)糖類、またはe)アルコール
基を有する有機材料を含□む1nmから600 nmま
での層を有す本、特許請求の範囲第6項記載の物品。
おいて1−n−オクタツールより低いかまたは等しい蒸
気圧を有し、しかもa)カルボニル基、b)フェノキシ
基、C)エステル基、a)糖類、またはe)アルコール
基を有する有機材料を含□む1nmから600 nmま
での層を有す本、特許請求の範囲第6項記載の物品。
(8) 前記金属層の厚さの少なくとも50%が、金
属、金属化合物、金属塩およびこれらの組合せからなる
群から選ばれた材料から木質的になる、特許請求の範囲
第7項記載の物品。
属、金属化合物、金属塩およびこれらの組合せからなる
群から選ばれた材料から木質的になる、特許請求の範囲
第7項記載の物品。
(9)前記金属層の厚さの少なくとも75%が金属、金
属化合物、金属塩およびこれらの組合せからなる群から
選ばれた材料から木質的になる、特許請求の範囲第7項
記載の物品。
属化合物、金属塩およびこれらの組合せからなる群から
選ばれた材料から木質的になる、特許請求の範囲第7項
記載の物品。
(10)前記有機摩耗保護層が、アミド、アニリP5ビ
スフェノールA、フェノールホルムアルデヒド樹脂、分
子量5,000と50,000の間を有するポリエステ
ル樹脂および20℃において蒸気圧が1−n−オクタツ
ールよりも高くないアルコールからなる群から選ばれた
材料l含む、特許請求の範囲第4項記載の物品。
スフェノールA、フェノールホルムアルデヒド樹脂、分
子量5,000と50,000の間を有するポリエステ
ル樹脂および20℃において蒸気圧が1−n−オクタツ
ールよりも高くないアルコールからなる群から選ばれた
材料l含む、特許請求の範囲第4項記載の物品。
(1υ 前記有機摩耗保護層が、アミド、アニIJド、
ビスフェノールA1フエノールホルムアルデヒド樹脂、
分子量5,000と50,000の間を有するポリエス
テル樹脂および20℃において蒸気圧が1−n−オクタ
ツールよりも高くないアルコールからなる群から選ばれ
た材料を含む、特許請求の範囲第5項記載の物品。
ビスフェノールA1フエノールホルムアルデヒド樹脂、
分子量5,000と50,000の間を有するポリエス
テル樹脂および20℃において蒸気圧が1−n−オクタ
ツールよりも高くないアルコールからなる群から選ばれ
た材料を含む、特許請求の範囲第5項記載の物品。
u21 前記有機摩耗保護層が、アミド、7二りP5
ビスフェノールA1フェノールホルムアルデヒド樹脂、
分子量5,000と50.000の間を有するポリエス
テル樹脂および20℃において蒸気圧が1−n−オクタ
ツールよりも高くないアルコールからなる群から選ばれ
た材料を含む、特許請求の範囲第6項記載の物品。
ビスフェノールA1フェノールホルムアルデヒド樹脂、
分子量5,000と50.000の間を有するポリエス
テル樹脂および20℃において蒸気圧が1−n−オクタ
ツールよりも高くないアルコールからなる群から選ばれ
た材料を含む、特許請求の範囲第6項記載の物品。
(131前記有機摩耗保護層がフタルアミv5丈すチル
アミド、フタルアニリr、ナリチルアニリr5少なくと
も8個の炭素、原子を有する脂肪族アルコール、ベンジ
ルアルコール、尿素ホルムアルデヒド樹脂およびポリエ
ステル樹脂からなる群から選ばれた材料を含む特許請求
の範囲第10項記載の物品。
アミド、フタルアニリr、ナリチルアニリr5少なくと
も8個の炭素、原子を有する脂肪族アルコール、ベンジ
ルアルコール、尿素ホルムアルデヒド樹脂およびポリエ
ステル樹脂からなる群から選ばれた材料を含む特許請求
の範囲第10項記載の物品。
■ 前記有機材料上に被覆されたポジ作用性ホトレジス
ト層な有する、特許請求の範囲第511ij記載の物品
。
ト層な有する、特許請求の範囲第511ij記載の物品
。
a9 前記有機材料上に被覆されたポジ作用性ホトレ
ジスト層を有する、特許請求の範囲第4項記載の物品。
ジスト層を有する、特許請求の範囲第4項記載の物品。
(1G+ 前記着色剤層上に被覆されたポジ作用性ホ
トレジスト層を有し、前記金属層は平・均厚さ10nm
から500 nmまでであり、しかも金属、金属酸化物
またはこれらの組合せからなる、特許請求の範囲第3r
I!記載の物品。
トレジスト層を有し、前記金属層は平・均厚さ10nm
から500 nmまでであり、しかも金属、金属酸化物
またはこれらの組合せからなる、特許請求の範囲第3r
I!記載の物品。
(In 前記着色剤層上に被覆されたポジ作用性ホト
レジスト層を有し、前記金属層は、平均厚さ10nmか
ら500 nmまでであり、しかも金属、金属酸化物ま
たはこれらの組合わせからなり、かつ前記有機層は厚さ
3 nmから200 nmまでである、特許請求の範囲
第4項記載の物品。
レジスト層を有し、前記金属層は、平均厚さ10nmか
ら500 nmまでであり、しかも金属、金属酸化物ま
たはこれらの組合わせからなり、かつ前記有機層は厚さ
3 nmから200 nmまでである、特許請求の範囲
第4項記載の物品。
aa 前記着色剤層上にwt覆されたポジ作用性ホト
レジスト層を有し、前記金属層は、平均厚さ10nmか
ら50 Q nmまでであり、しかも金属、金属酸化物
またはこれらの組合せからなり、かつ前記有機層は厚さ
3nmから200 nmまでである、特許請求の範囲第
5項記載の物品。
レジスト層を有し、前記金属層は、平均厚さ10nmか
ら50 Q nmまでであり、しかも金属、金属酸化物
またはこれらの組合せからなり、かつ前記有機層は厚さ
3nmから200 nmまでである、特許請求の範囲第
5項記載の物品。
! 前記着色剤層上に被覆されたポジ作用性ホトレジ
スト層を有し、前記金属層は、平均厚さ10nmから5
00 nmまでであり、しかも金属、金属酸化物または
これらの組合せからなり、かつ前記有機層は厚さ3 n
mから200 nmまでである、特許請求の範囲第10
項記載の物品。
スト層を有し、前記金属層は、平均厚さ10nmから5
00 nmまでであり、しかも金属、金属酸化物または
これらの組合せからなり、かつ前記有機層は厚さ3 n
mから200 nmまでである、特許請求の範囲第10
項記載の物品。
t20+ 前記着色剤層上に被覆されたポジ作用性ホ
トレジスト層を有し、前記金属塩は、平均厚さ1゜nm
から500 nmまでであり、しかも金属、金属酸化物
またはこれらの組合せからなり、かつ前記有機層は厚さ
3nmから200 nmまでである、特許請求の範囲第
12項記載の物品。
トレジスト層を有し、前記金属塩は、平均厚さ1゜nm
から500 nmまでであり、しかも金属、金属酸化物
またはこれらの組合せからなり、かつ前記有機層は厚さ
3nmから200 nmまでである、特許請求の範囲第
12項記載の物品。
(211前記基体が重合体系フィルムを含み、少なくと
も3 nmの厚さの蒸着金属層が前記着色剤層と前記感
光性レジスト層との間にある、特許請求の範囲第1項記
載の物品。
も3 nmの厚さの蒸着金属層が前記着色剤層と前記感
光性レジスト層との間にある、特許請求の範囲第1項記
載の物品。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 (1)像形成性物品において、その少なくとも一表面上
に0゜6よシ大きい光学濃度を有する蒸着着色剤層を有
する基体と、前記着色剤層と一体でない該層をおおう感
光性レジスト層よシなることを特徴とする、像形成性物
品。 (2ン 前記基体が重合体フィルムよシなる、特許請
求の範囲第1項記載の物品。 (3)前記基体が、その−表面上に厚さ少なくとも3
nmの蒸着金属層を有し、しかも前記着色剤材料は、金
属層とレジスト層の間にある、特許請求の範囲第1項記
載の物品。 (4) 前記基体が、その−表面上に厚さ少なくとも3
nmの蒸着金属層、前記金属層の直上に蒸着有機摩耗
保護層および摩耗保護層上に前記着色剤を有する重合体
フィルムよシなる、特許請求の範囲第1項記載の物品。 1(5)蒸着有機バリヤ一層が着色剤層と感光性レゾス
ト層の間にあシ、しかも着色剤層の直上にある、特許請
求の範囲第1項から第4項までのいづれかに記載の物品
。 (6) 前記蒸着金属層がその層に接着された、2゜
℃において1−n−オクタツールよシ低いかまたは等し
い蒸気圧を有し、しかもa)カルボニル基、b)フェノ
キシ基、C)エステル基、 d)糖類、tたはe)アル
コール基を有する有機材料よシなる1nmから600
nmまでの層を有する、特許請求の範囲第1項から第4
項のいづれかに記載の物品。 (7) 前記金属層の厚さの少なくとも50%が、金属
、金属化合物、金属塩およびこれらの組み合せからなる
群から選ばれた材料から本質的になる、特許請求の範囲
第6項記載の物品。 (8) 前記有機摩耗保護層が、アミド、アニIJド
、ビスフェノールA、フェノールホルムアルデヒド樹脂
、分子量5.000と50,000の間を有するポリエ
ステル樹脂および20’Cにおいて蒸気圧が1−n−オ
lfi/−ルよシも高くないアルコールからなる群から
選ばれた材料よシなる、特許請求の範囲第1項から第4
項までのいづれかに記載の物品。 (9) 前記有機材料上に被覆されたボジチゾ作動ホ
トレジスト層を有する、特許請求の範囲第1項から第4
項までのいづれかに記載の物品。 0Q 前記着色剤層上に被覆されたボジチグ作動ポト
レジスト層を有し、前記金属層は、平均厚さ10nmか
ら500 nmまでであシ、しかも金属、金属酸化物ま
たはこれらの組み合わせからなり、かつ前記有機層は厚
さ3 nmがら200 nmまでである、特許請求の範
囲第5項記載の物品。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US49047983A | 1983-05-02 | 1983-05-02 | |
US490479 | 1983-05-02 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS59231526A true JPS59231526A (ja) | 1984-12-26 |
Family
ID=23948239
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP59088219A Pending JPS59231526A (ja) | 1983-05-02 | 1984-05-01 | 像形成性物品 |
Country Status (6)
Country | Link |
---|---|
EP (1) | EP0125086A3 (ja) |
JP (1) | JPS59231526A (ja) |
KR (1) | KR840008842A (ja) |
AU (1) | AU2754184A (ja) |
BR (1) | BR8402003A (ja) |
ZA (1) | ZA843242B (ja) |
Families Citing this family (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US4587198A (en) * | 1984-07-16 | 1986-05-06 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Dye transfer image process |
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