JPH08179335A - 液晶パネルの製造方法 - Google Patents
液晶パネルの製造方法Info
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- JPH08179335A JPH08179335A JP32255894A JP32255894A JPH08179335A JP H08179335 A JPH08179335 A JP H08179335A JP 32255894 A JP32255894 A JP 32255894A JP 32255894 A JP32255894 A JP 32255894A JP H08179335 A JPH08179335 A JP H08179335A
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- Japan
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- liquid crystal
- crystal material
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Abstract
(57)【要約】
【目的】表示領域内でイオン吸着しない高品質かつ高信
頼性の液晶パネルを提供する。 【構成】２枚のガラス原板の間にスペーサ１５を散布
し、シール部材１４を介して貼り合わせ、シール部材１
４の角部付近に液晶材注入孔１７を成す。この貼り合わ
せガラス原板を個々の表示領域１６に応じて分断し、複
数個の空セル９を作成する。その後にスパッタリング装
置１０を用いて空セル９の端面にＳｉＯ2層２０を形成
する。この空セル９をボート２５とともに真空槽１１内
に入れ、空セル９をボート２５内へ下降して液晶材注入
孔１７を液晶材２４に浸漬させる。
頼性の液晶パネルを提供する。 【構成】２枚のガラス原板の間にスペーサ１５を散布
し、シール部材１４を介して貼り合わせ、シール部材１
４の角部付近に液晶材注入孔１７を成す。この貼り合わ
せガラス原板を個々の表示領域１６に応じて分断し、複
数個の空セル９を作成する。その後にスパッタリング装
置１０を用いて空セル９の端面にＳｉＯ2層２０を形成
する。この空セル９をボート２５とともに真空槽１１内
に入れ、空セル９をボート２５内へ下降して液晶材注入
孔１７を液晶材２４に浸漬させる。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は液晶パネルの製造方法に
関し、特に空セルに液晶材料を注入することの改良に関
するものである。
関し、特に空セルに液晶材料を注入することの改良に関
するものである。
【０００２】
【従来の技術】ＳＴＮ型液晶パネルが市場に急速に受入
れられるようになってきたが、同時に大画面化、高精細
化、薄型化の市場ニーズが要求されている。
れられるようになってきたが、同時に大画面化、高精細
化、薄型化の市場ニーズが要求されている。
【０００３】上記液晶パネルは順次下記のプロセスによ
り製造する（特開平４−８０７１９号参照）。 （１）表示領域が決定されたガラス基板上にＩＴＯの透
明電極パターンを形成する。 （２）上記ガラス基板の表示領域上にポリイミドの配向
膜を形成する。 （３）上記（１）と（２）と同様な工程により他方のガ
ラス基板上にＩＴＯの透明電極パターンとポリイミドの
配向膜を形成する。 （４）２種類のガラス基板のうち一方に対して、表示領
域の周囲にそって接着用樹脂を線条に塗布してシール部
材を設けるとともに、このシール部材の一部を切り欠
く。 （５）一方のガラス基板と他方のガラス基板とをシール
部材を介して貼り合わせるとともに、そのシール部材に
液晶材注入孔を成し、空セルを作成する。
り製造する（特開平４−８０７１９号参照）。 （１）表示領域が決定されたガラス基板上にＩＴＯの透
明電極パターンを形成する。 （２）上記ガラス基板の表示領域上にポリイミドの配向
膜を形成する。 （３）上記（１）と（２）と同様な工程により他方のガ
ラス基板上にＩＴＯの透明電極パターンとポリイミドの
配向膜を形成する。 （４）２種類のガラス基板のうち一方に対して、表示領
域の周囲にそって接着用樹脂を線条に塗布してシール部
材を設けるとともに、このシール部材の一部を切り欠
く。 （５）一方のガラス基板と他方のガラス基板とをシール
部材を介して貼り合わせるとともに、そのシール部材に
液晶材注入孔を成し、空セルを作成する。
【０００４】以上の工程により得られた空セルを図５に
示す。同図の空セル１によれば、２枚のガラス基板２、
３をシール部材４を介して貼り合わせた構造であり、シ
ール部材４により囲まれる領域が表示領域５となり、シ
ール部材４の一部に２個の液晶材注入孔６が設けられて
いる。
示す。同図の空セル１によれば、２枚のガラス基板２、
３をシール部材４を介して貼り合わせた構造であり、シ
ール部材４により囲まれる領域が表示領域５となり、シ
ール部材４の一部に２個の液晶材注入孔６が設けられて
いる。
【０００５】次に空セル１に液晶材を注入する方法を図
６に示す原理でもって説明する。 （６）空セル１と液晶材を入れたボート７とを真空槽８
内に入れ、この真空槽８内を減圧にする。 （７）空セル１の液晶材注入孔６をボート７内の液晶材
に浸漬させる。 （８）真空槽８内に不活性ガスを導入して、上記液晶材
を液晶材注入孔６を通して空セル１内に注入する。 （９）液晶材注入孔６を接着用樹脂により封止する。 かくして上記各工程を順次経ることにより液晶パネルを
作製することができ、その後、この液晶パネルに対して
ＣＯＧ方式もしくはＴＡＢ方式等により駆動用ＩＣを配
設する。
６に示す原理でもって説明する。 （６）空セル１と液晶材を入れたボート７とを真空槽８
内に入れ、この真空槽８内を減圧にする。 （７）空セル１の液晶材注入孔６をボート７内の液晶材
に浸漬させる。 （８）真空槽８内に不活性ガスを導入して、上記液晶材
を液晶材注入孔６を通して空セル１内に注入する。 （９）液晶材注入孔６を接着用樹脂により封止する。 かくして上記各工程を順次経ることにより液晶パネルを
作製することができ、その後、この液晶パネルに対して
ＣＯＧ方式もしくはＴＡＢ方式等により駆動用ＩＣを配
設する。
【０００６】ところで、上記ガラス基板２、３は、たと
えばソーダガラスから成り、そのアルカリ成分が溶出し
て液晶材に混入し、表示に悪影響を及ぼすことが指摘さ
れており、これに対してガラス基板２、３をＳｉＯ2 液
を浸漬し、その両面および端面に薄くＳｉＯ2 膜を形成
し、これにより、アルカリ成分が溶出しないようにして
いる。
えばソーダガラスから成り、そのアルカリ成分が溶出し
て液晶材に混入し、表示に悪影響を及ぼすことが指摘さ
れており、これに対してガラス基板２、３をＳｉＯ2 液
を浸漬し、その両面および端面に薄くＳｉＯ2 膜を形成
し、これにより、アルカリ成分が溶出しないようにして
いる。
【０００７】
【発明が解決しようとする問題点】上述した液晶パネル
を量産する場合には、寸法サイズの大きなガラス基板に
ＩＴＯの透明電極パターンを形成して、複数個の表示領
域を設け、各表示領域数にポリイミドの配向膜を形成
し、一方、同様に寸法サイズの大きな他方のガラス基板
にも、その表示領域数に応じてＩＴＯの透明電極パター
ンとポリイミドの配向膜を形成し、その後、一方のガラ
ス基板の表示領域の周囲にそってシール部材を設け、他
方のガラス基板とをシール部材を介して貼り合わせ、然
る後に個々の表示領域に応じて分断することがおこなわ
れている。
を量産する場合には、寸法サイズの大きなガラス基板に
ＩＴＯの透明電極パターンを形成して、複数個の表示領
域を設け、各表示領域数にポリイミドの配向膜を形成
し、一方、同様に寸法サイズの大きな他方のガラス基板
にも、その表示領域数に応じてＩＴＯの透明電極パター
ンとポリイミドの配向膜を形成し、その後、一方のガラ
ス基板の表示領域の周囲にそってシール部材を設け、他
方のガラス基板とをシール部材を介して貼り合わせ、然
る後に個々の表示領域に応じて分断することがおこなわ
れている。
【０００８】上記の製造方法によれば、分断前の大きな
ガラス基板に対し、その両面および端面の全体にわたっ
て薄いＳｉＯ2 膜を形成し、これにより、アルカリ成分
が溶出しないようにしている。
ガラス基板に対し、その両面および端面の全体にわたっ
て薄いＳｉＯ2 膜を形成し、これにより、アルカリ成分
が溶出しないようにしている。
【０００９】しかしながら、その後に分断された場合に
は、切断面が露出された状態にあり、これにより、液晶
材を注入する工程において、特に（７）の工程にように
空セル１のガラス基板断面がボート７内の液晶材に浸漬
されると、その切断面からアルカリ成分が液晶材に溶出
し、これが空セル１内に注入され、その結果、長期間に
わたって液晶パネルを作動させたり、あるいは連続点灯
試験をおこなうと、上記アルカリ成分が透明電極パター
ンに対してイオン吸着し、コントラスト上スポット状の
ムラができるという問題点がある。
は、切断面が露出された状態にあり、これにより、液晶
材を注入する工程において、特に（７）の工程にように
空セル１のガラス基板断面がボート７内の液晶材に浸漬
されると、その切断面からアルカリ成分が液晶材に溶出
し、これが空セル１内に注入され、その結果、長期間に
わたって液晶パネルを作動させたり、あるいは連続点灯
試験をおこなうと、上記アルカリ成分が透明電極パター
ンに対してイオン吸着し、コントラスト上スポット状の
ムラができるという問題点がある。
【００１０】したがって、本発明は上記事情に鑑みて完
成されたものであって、その目的は寸法サイズの大きな
ガラス基板から複数個のガラス基板を分断した場合に、
個々の分断ガラス基板の端面からアルカリ成分が液晶材
に溶出しないようにして、液晶パネルに表示ムラが生じ
ないようにしたことにある。
成されたものであって、その目的は寸法サイズの大きな
ガラス基板から複数個のガラス基板を分断した場合に、
個々の分断ガラス基板の端面からアルカリ成分が液晶材
に溶出しないようにして、液晶パネルに表示ムラが生じ
ないようにしたことにある。
【００１１】
【発明の構成】本発明の液晶パネルの製造方法は、順次
下記Ａ〜Ｉの工程により空セルに液晶材料を注入したこ
とを特徴とする。 Ａ工程：一方の透明基板上および他方の透明基板上に透
明電極パターンを形成することで複数個の正方形もしく
は矩形状の表示領域を設ける。 Ｂ工程：上記一方の透明基板上の個々の表示領域の周囲
にそって接着用樹脂を線条に塗布してシール部材を設け
るとともに、シール部材の一部を切り欠く。 Ｃ工程：上記一方の透明基板と他方の透明基板とを上記
シール部材を介して貼り合わせるとともに、シール部材
に液晶材注入孔を成す。 Ｄ工程：上記貼り合わせ透明基板を個々の表示領域に応
じて分断し、空セルを作成する。 Ｅ工程：上記貼り合わせ透明基板の外周端面のうち、液
晶材注入孔を配する側の端面上に無機質層を形成する。 Ｆ工程：上記空セルと液晶材を入れたボートとを真空槽
内に入れ、真空槽内を減圧にする。 Ｇ工程：上記空セルの液晶材注入孔をボート内の液晶材
料に浸漬させる。 Ｈ工程：真空槽内に不活性ガスを導入して、上記液晶材
料を液晶材注入孔を通して空セル内に注入する。 Ｉ工程：液晶材注入孔を接着用樹脂により封止する。
下記Ａ〜Ｉの工程により空セルに液晶材料を注入したこ
とを特徴とする。 Ａ工程：一方の透明基板上および他方の透明基板上に透
明電極パターンを形成することで複数個の正方形もしく
は矩形状の表示領域を設ける。 Ｂ工程：上記一方の透明基板上の個々の表示領域の周囲
にそって接着用樹脂を線条に塗布してシール部材を設け
るとともに、シール部材の一部を切り欠く。 Ｃ工程：上記一方の透明基板と他方の透明基板とを上記
シール部材を介して貼り合わせるとともに、シール部材
に液晶材注入孔を成す。 Ｄ工程：上記貼り合わせ透明基板を個々の表示領域に応
じて分断し、空セルを作成する。 Ｅ工程：上記貼り合わせ透明基板の外周端面のうち、液
晶材注入孔を配する側の端面上に無機質層を形成する。 Ｆ工程：上記空セルと液晶材を入れたボートとを真空槽
内に入れ、真空槽内を減圧にする。 Ｇ工程：上記空セルの液晶材注入孔をボート内の液晶材
料に浸漬させる。 Ｈ工程：真空槽内に不活性ガスを導入して、上記液晶材
料を液晶材注入孔を通して空セル内に注入する。 Ｉ工程：液晶材注入孔を接着用樹脂により封止する。
【００１２】
【作用】本発明の液晶パネルの製造方法においては、空
セルの液晶注入前にＥ工程のように貼り合わせ透明基板
の外周端面のうち、液晶材注入孔を配する側の端面上に
無機質層を形成しているので、シール部材の液晶材注入
孔をボート内の液晶材料に浸漬させても、透明基板の切
断面が露出しないので、その切断面からアルカリ成分等
の不要成分が液晶材に溶出しなくなり、その結果、液晶
パネルを作動させても、イオン吸着を生じなくなり、コ
ントラストのムラができなくなる。
セルの液晶注入前にＥ工程のように貼り合わせ透明基板
の外周端面のうち、液晶材注入孔を配する側の端面上に
無機質層を形成しているので、シール部材の液晶材注入
孔をボート内の液晶材料に浸漬させても、透明基板の切
断面が露出しないので、その切断面からアルカリ成分等
の不要成分が液晶材に溶出しなくなり、その結果、液晶
パネルを作動させても、イオン吸着を生じなくなり、コ
ントラストのムラができなくなる。
【００１３】
【実施例】図１は本発明の液晶パネルの製造方法に係る
空セル９の平面を示し、図２は空セル９の横断面図であ
る。また、図３は空セル９の端面に無機質層を形成する
スパッタリング装置１０の概略構成を示す模式図であ
り、図４は空セル９に液晶材料を注入する真空槽１１の
概略構成を示す模式図である。
空セル９の平面を示し、図２は空セル９の横断面図であ
る。また、図３は空セル９の端面に無機質層を形成する
スパッタリング装置１０の概略構成を示す模式図であ
り、図４は空セル９に液晶材料を注入する真空槽１１の
概略構成を示す模式図である。
【００１４】先ず下記Ａ工程〜Ｄ工程により作製される
モノクロ液晶パネル用の空セル９の構成を図１および図
２により説明する。この空セル９は、前記透明基板とし
て２枚のソーダライムガラスから成るガラス基板１２、
１３をエポキシ樹脂から成るシール部材１４でもって貼
り合わせた構造であり、そのシール部材１４によって囲
まれた内部領域に球状樹脂から成る多くのスペーサ１５
が配置され、そして、この内部領域が表示領域１６をな
す。上記シール部材１４の角部付近は切り欠かれ、それ
が液晶材注入孔１７を成す。各ガラス基板１２、１３の
それぞれの内主面にＩＴＯ透明電極１８、１９が配列さ
れている。これらＩＴＯ透明電極１８、１９は相互に直
交するように配列され、その上に配向膜（図示せず）を
形成し、更にこの配向膜の表面をラビング処理して液晶
分子の向きを所定の方向に設定する。
モノクロ液晶パネル用の空セル９の構成を図１および図
２により説明する。この空セル９は、前記透明基板とし
て２枚のソーダライムガラスから成るガラス基板１２、
１３をエポキシ樹脂から成るシール部材１４でもって貼
り合わせた構造であり、そのシール部材１４によって囲
まれた内部領域に球状樹脂から成る多くのスペーサ１５
が配置され、そして、この内部領域が表示領域１６をな
す。上記シール部材１４の角部付近は切り欠かれ、それ
が液晶材注入孔１７を成す。各ガラス基板１２、１３の
それぞれの内主面にＩＴＯ透明電極１８、１９が配列さ
れている。これらＩＴＯ透明電極１８、１９は相互に直
交するように配列され、その上に配向膜（図示せず）を
形成し、更にこの配向膜の表面をラビング処理して液晶
分子の向きを所定の方向に設定する。
【００１５】次にＡ工程〜Ｄ工程により上記空セル９の
作製方法を、Ｅ工程によりスパッタリング装置１０を用
いて空セル９の端面に無機質層を形成する方法を、Ｆ工
程〜Ｉ工程により真空槽１１を用いて空セル９に液晶材
を注入する方法を述べる。
作製方法を、Ｅ工程によりスパッタリング装置１０を用
いて空セル９の端面に無機質層を形成する方法を、Ｆ工
程〜Ｉ工程により真空槽１１を用いて空セル９に液晶材
を注入する方法を述べる。
【００１６】まず上記ガラス基板１２、１３の寸法サイ
ズに比べて大きなガラス基板を用意し、このガラス基板
をＳｉＯ2 液に浸漬し、その両面および端面の全体に薄
くＳｉＯ2 膜を形成する。このガラス基板を以下、ガラ
ス原板と称する。
ズに比べて大きなガラス基板を用意し、このガラス基板
をＳｉＯ2 液に浸漬し、その両面および端面の全体に薄
くＳｉＯ2 膜を形成する。このガラス基板を以下、ガラ
ス原板と称する。
【００１７】Ａ工程 ガラス原板を２枚用意して、一方のガラス原板上および
他方のガラス原板上に透明電極パターン１８、１９を形
成することで複数個の正方形もしくは矩形状の表示領域
１６を設ける。
他方のガラス原板上に透明電極パターン１８、１９を形
成することで複数個の正方形もしくは矩形状の表示領域
１６を設ける。
【００１８】Ｂ工程 一方のガラス原板上の個々の表示領域１４の周囲にそっ
て接着用樹脂を線条に塗布してシール部材１４を設け
る。また、このシール部材１４を設けるに当たっては、
その一部を切り欠く。
て接着用樹脂を線条に塗布してシール部材１４を設け
る。また、このシール部材１４を設けるに当たっては、
その一部を切り欠く。
【００１９】Ｃ工程 上記一方のガラス原板と他方のガラス原板の間に多くの
スペーサ１５を散布し、シール部材１４を介して貼り合
わせ、そして、シール部材１４のに液晶材注入孔１７を
成す。
スペーサ１５を散布し、シール部材１４を介して貼り合
わせ、そして、シール部材１４のに液晶材注入孔１７を
成す。
【００２０】Ｄ工程 上記貼り合わせガラス原板を個々の表示領域１６に応じ
て分断し、複数個の空セル９を作成する。
て分断し、複数個の空セル９を作成する。
【００２１】Ｅ工程 図３のスパッタリング装置１０を用いて、空セル９の外
周端面のうち、液晶材注入孔１７を配する側の端面上に
無機質層としてＳｉＯ2 層２０を形成する。
周端面のうち、液晶材注入孔１７を配する側の端面上に
無機質層としてＳｉＯ2 層２０を形成する。
【００２２】同図のスパッタリング装置１０内には、複
数個の空セル９を被成膜端面が揃うように配列し、この
被成膜端面が下方を向いている。その複数個の空セル９
は支持治具２１により固定されている。２２はターゲッ
トであり、たとえばＳｉＯもしくはＳｉから成る。２３
は高周波電源であり、一方の端子はターゲット２２と接
続され、他方の端子はアースされている。そして、Ｓｉ
Ｏのターゲット２２を用いた場合には、アルゴンでもっ
てスパッタし、Ｓｉターゲット２２を用いた場合には、
更に酸素ガスを導入し、これによって、空セル９の外周
端面にＳｉＯ2層２０が形成される。
数個の空セル９を被成膜端面が揃うように配列し、この
被成膜端面が下方を向いている。その複数個の空セル９
は支持治具２１により固定されている。２２はターゲッ
トであり、たとえばＳｉＯもしくはＳｉから成る。２３
は高周波電源であり、一方の端子はターゲット２２と接
続され、他方の端子はアースされている。そして、Ｓｉ
Ｏのターゲット２２を用いた場合には、アルゴンでもっ
てスパッタし、Ｓｉターゲット２２を用いた場合には、
更に酸素ガスを導入し、これによって、空セル９の外周
端面にＳｉＯ2層２０が形成される。
【００２３】Ｆ工程 空セル９と液晶材２４を入れたボート２５とを図４の真
空槽１１内に入れ、その真空槽１１内を減圧する。
空槽１１内に入れ、その真空槽１１内を減圧する。
【００２４】Ｇ工程 空セル９をボート２５内へ下降して液晶材注入孔１７を
液晶材２４に浸漬させる。
液晶材２４に浸漬させる。
【００２５】Ｈ工程 真空槽１１内にＮ2 ガスや希ガスなどの不活性ガスを導
入して、上記液晶材２４を液晶材注入孔１７を通して空
セル９内に注入する。
入して、上記液晶材２４を液晶材注入孔１７を通して空
セル９内に注入する。
【００２６】Ｉ工程 以上の工程を経て、本工程においては、液晶材注入孔１
７を紫外線硬化型樹脂などの接着用樹脂により封止す
る。
７を紫外線硬化型樹脂などの接着用樹脂により封止す
る。
【００２７】かくして上記製法においては、空セル９の
端面にＳｉＯ2 層２０を形成しているので、空セル９の
液晶材注入孔１７をボート２５内の液晶材２４に浸漬さ
せ、ガラス基板１２、１３の端面が液晶材２４と接触し
ても、その切断面からアルカリ成分等の不要成分が液晶
材２４に溶出しなくなり、その結果、本発明の製法によ
り得られた液晶パネルを作動させた場合、イオン吸着を
生じなくなり、コントラストのムラができなくなる。
端面にＳｉＯ2 層２０を形成しているので、空セル９の
液晶材注入孔１７をボート２５内の液晶材２４に浸漬さ
せ、ガラス基板１２、１３の端面が液晶材２４と接触し
ても、その切断面からアルカリ成分等の不要成分が液晶
材２４に溶出しなくなり、その結果、本発明の製法によ
り得られた液晶パネルを作動させた場合、イオン吸着を
生じなくなり、コントラストのムラができなくなる。
【００２８】なお、本発明は上記実施例に限定されるも
のではなく、本発明の要旨を逸脱しない範囲内で種々の
変更や改善等は何ら差し支えない。たとえば、上記実施
例では、透明基板としてガラス基板を用いたが、プラス
チック基板を用いても切断面から不要成分が溶出して同
様な問題が生じるので、かかる問題点に対しても本発明
の製法により同じ作用効果が得られる。更に上記実施例
においては、無機質層としてＳｉＯ2 層を形成したが、
その他にＳｉＮ、ＴｉＯ2 、Ａｌ2 Ｏ3 、ＺｒＯ2 、Ｔ
ａ2 Ｏ5 、ＴｉＮ、ＺｒＮ、ＴａＮ、ＡｌＮを形成して
もよく、また、スパッタリング法の他に蒸着、ＣＶＤで
もって形成してもよい。
のではなく、本発明の要旨を逸脱しない範囲内で種々の
変更や改善等は何ら差し支えない。たとえば、上記実施
例では、透明基板としてガラス基板を用いたが、プラス
チック基板を用いても切断面から不要成分が溶出して同
様な問題が生じるので、かかる問題点に対しても本発明
の製法により同じ作用効果が得られる。更に上記実施例
においては、無機質層としてＳｉＯ2 層を形成したが、
その他にＳｉＮ、ＴｉＯ2 、Ａｌ2 Ｏ3 、ＺｒＯ2 、Ｔ
ａ2 Ｏ5 、ＴｉＮ、ＺｒＮ、ＴａＮ、ＡｌＮを形成して
もよく、また、スパッタリング法の他に蒸着、ＣＶＤで
もって形成してもよい。
【００２９】
【発明の効果】本発明によれば、空セルの液晶注入前に
貼り合わせ透明基板の端面に無機質層を形成しているの
で、シール部材の液晶材注入孔をボート内の液晶材料に
浸漬させても、透明基板の切断面が露出しないので、透
明基板の切断面から不要成分が液晶材に溶出しなくな
り、その結果、表示領域内でイオン吸着しなくなって、
高品質かつ高信頼性の液晶パネルが提供できる。
貼り合わせ透明基板の端面に無機質層を形成しているの
で、シール部材の液晶材注入孔をボート内の液晶材料に
浸漬させても、透明基板の切断面が露出しないので、透
明基板の切断面から不要成分が液晶材に溶出しなくな
り、その結果、表示領域内でイオン吸着しなくなって、
高品質かつ高信頼性の液晶パネルが提供できる。
【図１】実施例における空セルの平面概略図である。
【図２】実施例における空セルの断面概略図である。
【図３】実施例におけるスパッタリング装置の概略構成
を示す説明図である。
を示す説明図である。
【図４】実施例における液晶注入用真空槽内の概略構成
を示す説明図である。
を示す説明図である。
【図５】従来における空セルの平面概略図である。
【図６】従来における液晶注入用真空槽内の概略構成を
示す説明図である。
示す説明図である。
９ 空セル １０ 真空槽 １１ スパッタリング装置 １２、１３ ガラス基板 １４ シール部材 １５ スペーサ １６ 表示領域 １７ 液晶材注入孔 １８、１９ ＩＴＯ透明電極 ２０ ＳｉＯ2 層 ２４ 液晶材 ２５ ボート
Claims (1)
- 【請求項１】 順次下記Ａ〜Ｉの工程により空セルに液
晶材料を注入したことを特徴とする液晶パネルの製造方
法。 Ａ工程：一方の透明基板上および他方の透明基板上に透
明電極パターンを形成することで複数個の正方形もしく
は矩形状の表示領域を設ける。 Ｂ工程：上記一方の透明基板上の個々の表示領域の周囲
にそって接着用樹脂を線条に塗布してシール部材を設け
るとともに、該シール部材の一部を切り欠く。 Ｃ工程：上記一方の透明基板と他方の透明基板とを上記
シール部材を介して貼り合わせるとともに、該シール部
材に液晶材注入孔を成す。 Ｄ工程：上記貼り合わせた透明基板を個々の表示領域に
応じて分断し、空セルを作成する。 Ｅ工程：上記貼り合わせた透明基板の外周端面のうち、
液晶材注入孔を配する側の端面上に無機質層を形成す
る。 Ｆ工程：上記空セルと液晶材を入れたボートとを真空槽
内に入れ、該真空槽内を減圧にする。 Ｇ工程：上記空セルの液晶材注入孔をボート内の液晶材
料に浸漬させる。 Ｈ工程：真空槽内に不活性ガスを導入して、上記液晶材
料を液晶材注入孔を通して空セル内に注入する。 Ｉ工程：液晶材注入孔を接着用樹脂により封止する。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP32255894A JPH08179335A (ja) | 1994-12-26 | 1994-12-26 | 液晶パネルの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP32255894A JPH08179335A (ja) | 1994-12-26 | 1994-12-26 | 液晶パネルの製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH08179335A true JPH08179335A (ja) | 1996-07-12 |
Family
ID=18145024
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP32255894A Pending JPH08179335A (ja) | 1994-12-26 | 1994-12-26 | 液晶パネルの製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH08179335A (ja) |
-
1994
- 1994-12-26 JP JP32255894A patent/JPH08179335A/ja active Pending
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