JPH08174659A - Production of tape for tab - Google Patents

Production of tape for tab

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JPH08174659A
JPH08174659A JP33617194A JP33617194A JPH08174659A JP H08174659 A JPH08174659 A JP H08174659A JP 33617194 A JP33617194 A JP 33617194A JP 33617194 A JP33617194 A JP 33617194A JP H08174659 A JPH08174659 A JP H08174659A
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JP
Japan
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film
stretching
layer
tape
tab tape
Prior art date
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Withdrawn
Application number
JP33617194A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Masaru Nishinaka
賢 西中
Taku Ito
卓 伊藤
Hitoshi Nojiri
仁志 野尻
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Kanegafuchi Chemical Industry Co Ltd
Original Assignee
Kanegafuchi Chemical Industry Co Ltd
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Publication date
Application filed by Kanegafuchi Chemical Industry Co Ltd filed Critical Kanegafuchi Chemical Industry Co Ltd
Priority to JP33617194A priority Critical patent/JPH08174659A/en
Publication of JPH08174659A publication Critical patent/JPH08174659A/en
Withdrawn legal-status Critical Current

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    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05KPRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
    • H05K1/00Printed circuits
    • H05K1/02Details
    • H05K1/03Use of materials for the substrate
    • H05K1/0313Organic insulating material
    • H05K1/032Organic insulating material consisting of one material
    • H05K1/0346Organic insulating material consisting of one material containing N
    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05KPRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
    • H05K3/00Apparatus or processes for manufacturing printed circuits
    • H05K3/02Apparatus or processes for manufacturing printed circuits in which the conductive material is applied to the surface of the insulating support and is thereafter removed from such areas of the surface which are not intended for current conducting or shielding
    • H05K3/022Processes for manufacturing precursors of printed circuits, i.e. copper-clad substrates

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  • Processing And Handling Of Plastics And Other Materials For Molding In General (AREA)
  • Shaping By String And By Release Of Stress In Plastics And The Like (AREA)
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  • Laminated Bodies (AREA)

Abstract

PURPOSE: To produce a tape for TAB reducing the warp quantity of a copper clad laminated tape and capable of enhancing electric reliability at the time of the mounting of an IC. CONSTITUTION: In a method for producing a tape for TAB consisting of a base film layer, an adhesive layer and a protective layer, a polyimide film produced by a usual technique is equally stretched uniaxially and the uniaxially stretched polyimide film is processed so that the stretching direction thereof is set to a longitudinal direction to be used as a base film layer 12 and an adhesive layer 14 and a protective layer 16 are provided on the base film layer 12 to produce the tape 10 for TAB.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明はTAB用テープの製造方
法に関し、詳しくはTAB(Tape AutomatedBonding)
方式に用いられるベースフィルム層、接着剤層、保護層
の3層構造からなるTAB用テープの製造方法に関す
る。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a method for producing a TAB tape, and more specifically, TAB (Tape Automated Bonding).
The present invention relates to a method for producing a TAB tape having a three-layer structure of a base film layer, an adhesive layer, and a protective layer used in the method.

【0002】[0002]

【従来の技術】ICの実装技術の1つであるTAB方式
は、近年電子機器のダウンサイジング化などの要求から
液晶ディスプレイの駆動用ICなどの実装方法に採用さ
れている。かかるTAB方式においては、ベースフィル
ム層、接着剤層、保護層の3層構造からなるTAB用テ
ープが用いられている。このTAB用テープはその後の
加工工程でパンチング、銅箔ラミネート、接着剤硬化、
回路形成、メッキ処理、インナーリードボンディング、
樹脂封止、パンチング、アウターリードボンディングの
加工工程を経てICが実装される。
2. Description of the Related Art The TAB method, which is one of the mounting techniques for ICs, has been adopted in recent years as a mounting method for driving liquid crystal display ICs and the like due to demands for downsizing of electronic devices. In such a TAB system, a TAB tape having a three-layer structure including a base film layer, an adhesive layer, and a protective layer is used. This TAB tape is punched, copper foil laminated, adhesive cured,
Circuit formation, plating, inner lead bonding,
The IC is mounted through processing steps such as resin sealing, punching, and outer lead bonding.

【0003】ところで、TAB用テープの製造方法の1
つに、ベースフィルム層上に接着剤付き保護層を重ね合
わせて圧着させる方法があり、ベースフィルム層として
はポリイミドフィルムが好ましく用いられている。この
製造方法によって得られたTAB用テープから保護層を
剥離させた後、その保護層に代えて銅箔を重ね合わせて
加熱接着し、銅張積層テープを製造している。
By the way, one of the methods for manufacturing a TAB tape is described.
Thirdly, there is a method in which a protective layer with an adhesive is superposed on the base film layer and pressure-bonded thereto, and a polyimide film is preferably used as the base film layer. After peeling off the protective layer from the TAB tape obtained by this production method, copper foil is superposed instead of the protective layer and heat-bonded to produce a copper-clad laminated tape.

【0004】[0004]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、この方
法で得られた銅張積層テープは、ベースフィルム層と銅
層における温度や湿度の変化に伴う寸法の変化の挙動が
異なるため、銅張積層テープが反り、そのためにアウタ
ーリードボンディングなどの電気的な接続部に歪みが生
じ、回路の電気信頼性を低下させるという問題があっ
た。
However, the copper-clad laminated tape obtained by this method has different dimensional change behaviors due to changes in temperature and humidity in the base film layer and the copper layer, so that the copper-clad laminated tape is different. However, there is a problem in that the electrical connection portion such as outer lead bonding is distorted due to the warp, which lowers the electrical reliability of the circuit.

【0005】そこで、本発明者らは、上記問題を解決
し、銅張積層テープの反り量を小さくし、IC実装時の
電気信頼性を向上させることができるTAB用テープの
製造方法を提供することを目的に鋭意検討を重ねた結
果、本発明に至ったのである。
Therefore, the present inventors provide a method of manufacturing a TAB tape which solves the above problems, reduces the amount of warpage of a copper-clad laminated tape, and improves the electrical reliability during IC mounting. As a result of intensive studies for the purpose, the present invention has been achieved.

【0006】[0006]

【課題を解決するための手段】本発明に係るTAB用テ
ープの製造方法の要旨とするところは、ベースフィルム
層と接着剤層と保護層からなるTAB用テープを製造す
る方法において、該ベースフィルム層は、樹脂フィルム
を一軸方向に延伸させた後、該延伸方向を長手方向に加
工したものであることにある。
The gist of the method for producing a TAB tape according to the present invention is to provide a method for producing a TAB tape comprising a base film layer, an adhesive layer and a protective layer. The layer is obtained by stretching a resin film in a uniaxial direction and then processing the stretching direction in the longitudinal direction.

【0007】かかるTAB用テープの製造方法におい
て、前記ベースフィルム層は、樹脂フィルムを加熱下で
一軸方向に延伸させたものであることにある。
In the method for manufacturing a TAB tape, the base film layer is a resin film stretched uniaxially under heating.

【0008】また、かかるTAB用テープの製造方法に
おいて、前記ベースフィルム層は、樹脂フィルムを一軸
方向に延伸させた後、アニール処理を施したものである
ことにある。
Further, in the method for manufacturing a TAB tape, the base film layer is formed by annealing a resin film after stretching the resin film in a uniaxial direction.

【0009】更に、かかるTAB用テープの製造方法に
おいて、前記樹脂フィルムを一軸方向に延伸させる処理
条件が、該樹脂フィルムのガラス転移温度よりも充分に
高い温度範囲では、延伸倍率が10〜100%、好まし
くは20〜70%であることにある。
Further, in the method for producing a TAB tape, the stretching ratio is 10 to 100% when the treatment conditions for uniaxially stretching the resin film are sufficiently higher than the glass transition temperature of the resin film. , Preferably 20 to 70%.

【0010】更に、かかるTAB用テープの製造方法に
おいて、前記樹脂フィルムを一軸方向に延伸させる処理
条件が、該樹脂フィルムのガラス転移温度に近い温度範
囲又は該ガラス転移温度より低い温度範囲では、延伸倍
率が30〜80%、好ましくは40〜60%であること
にある。
Further, in such a method for producing a TAB tape, when the treatment condition for uniaxially stretching the resin film is a temperature range close to or lower than the glass transition temperature of the resin film, the stretching is performed. The magnification is 30 to 80%, preferably 40 to 60%.

【0011】また、かかるTAB用テープの製造方法に
おいて、前記樹脂フィルムの長手方向に対する幅方向の
線膨張係数が、TABテープの回路を形成する導体層の
線膨張係数の1.2倍以上になるように該樹脂フィルム
を処理することにある。
Further, in such a method for manufacturing a TAB tape, the coefficient of linear expansion in the width direction with respect to the longitudinal direction of the resin film is 1.2 times or more the coefficient of linear expansion of the conductor layer forming the circuit of the TAB tape. To treat the resin film.

【0012】更に、かかるTAB用テープの製造方法に
おいて、前記樹脂フィルムがポリイミドフィルムである
ことにある。
Further, in the method of manufacturing the TAB tape, the resin film is a polyimide film.

【0013】[0013]

【作用】本発明に係るTAB用テープの製造方法は、樹
脂フィルムを一軸方向に延伸させた後、その延伸方向が
長手方向になるように切断して加工したものをベースフ
ィルム層として用いており、特に、樹脂フィルムを加熱
下で一軸方向に延伸させるようにしたり、あるいは樹脂
フィルムを一軸方向に延伸させた後、アニール処理を施
し、次いでその延伸方向が長手方向になるように切断し
て加工したものをベースフィルム層として用いている。
このように、樹脂フィルムを一軸方向に延伸させること
によって分子内の配向に異方性を与えて分子を延伸方向
に配向させておき、その樹脂フィルムを延伸方向が長手
方向になるように切断加工してベースフィルムを得るこ
とにより、そのベースフィルムの長手方向に対する幅方
向の線膨張係数を大きくすることができる。
In the method for producing a TAB tape according to the present invention, a resin film is stretched in a uniaxial direction and then cut so that the stretching direction is the longitudinal direction, and the cut film is used as the base film layer. , In particular, the resin film may be stretched uniaxially under heating, or the resin film may be stretched uniaxially and then annealed, and then cut so that the stretching direction becomes the longitudinal direction. What was done is used as a base film layer.
In this way, by stretching the resin film uniaxially to give anisotropy to the orientation in the molecule and orienting the molecule in the stretching direction, the resin film is cut so that the stretching direction becomes the longitudinal direction. By thus obtaining the base film, the coefficient of linear expansion in the width direction with respect to the longitudinal direction of the base film can be increased.

【0014】なお、樹脂フィルムを延伸させた後に加熱
すると収縮するため、樹脂フィルムを一軸方向に延伸さ
せた後、その樹脂フィルムを適当な温度で加熱処理する
アニール処理を施して、樹脂フィルムの加熱収縮が除去
される。そして、得られた樹脂フィルムを延伸方向を長
手方向にして切断加工して、TAB用テープのベースフ
ィルム層に用いられる。良好なICの実装を行うために
はTAB用テープの製造工程においてアニール処理を施
すのが特に好ましい。
Since the resin film shrinks when it is stretched and then heated, the resin film is stretched uniaxially and then annealed to heat the resin film at an appropriate temperature to heat the resin film. Shrinkage is removed. Then, the obtained resin film is cut and processed with the stretching direction being the longitudinal direction and used for the base film layer of the TAB tape. It is particularly preferable to perform the annealing treatment in the manufacturing process of the TAB tape in order to mount the IC well.

【0015】詳しくは、本発明においては、上記樹脂フ
ィルムの長手方向に対する幅方向の線膨張係数が、TA
Bテープの回路を形成するために用いられる例えば銅箔
等の導体層の線膨張係数の1.2倍以上であることが好
ましい。この樹脂フィルムの幅方向の線膨張係数は、樹
脂フィルムの長手方向に一軸延伸させる際の処理条件す
なわち延伸温度及び延伸倍率により決定される。そし
て、樹脂フィルムの長手方向に対する幅方向の線膨張係
数が、上記線膨張係数であるフィルムをベースフィルム
層として用いることにより、本発明の効果、すなわち、
銅張積層テープを作製したときの反り量を小さくすると
いう効果を得ることができる。この効果は樹脂フィルム
としてポリイミドフィルムを用いた場合、より効果的に
発現される。
Specifically, in the present invention, the coefficient of linear expansion in the width direction with respect to the longitudinal direction of the resin film is TA.
It is preferably 1.2 times or more the linear expansion coefficient of a conductor layer such as a copper foil used for forming the circuit of the B tape. The linear expansion coefficient of the resin film in the width direction is determined by the processing conditions for uniaxially stretching the resin film in the longitudinal direction, that is, the stretching temperature and the stretching ratio. Then, the linear expansion coefficient in the width direction with respect to the longitudinal direction of the resin film, by using the film having the linear expansion coefficient as the base film layer, the effect of the present invention, that is,
It is possible to obtain the effect of reducing the amount of warpage when the copper-clad laminated tape is manufactured. This effect is more effectively exhibited when a polyimide film is used as the resin film.

【0016】なお、本発明の効果を得るためには、ベー
スフィルム層として用いる際のポリイミドフィルム、す
なわち、TAB用テープのベースフィルム層を得る際に
アニール処理を施した後のポリイミドフィルムに、上記
線膨張係数が維持されていなければならない。また、か
かるポリイミドフィルムをベースフィルム層として用い
てTAB用テープに加工するためには、フィルムの平坦
性が損なわれないことが必要である。ところが、ポリイ
ミドフィルムの長手方向に一軸延伸をしても、延伸倍率
が小さすぎるときには、上記アニール処理によって分子
配向の異方性に与える延伸の効果が消失してしまい、一
軸延伸することによって大きくしたフィルムの長手方向
に対する幅方向の線膨張係数を維持することができな
い。また、延伸倍率が大きすぎるときには、アニール処
理によってフィルムの平坦性が損なわれてしまう。
In order to obtain the effects of the present invention, the polyimide film used as the base film layer, that is, the polyimide film that has been annealed when the base film layer of the TAB tape is annealed is used as described above. The coefficient of linear expansion must be maintained. Further, in order to process the TAB tape by using such a polyimide film as a base film layer, it is necessary that the flatness of the film is not impaired. However, even if the polyimide film is uniaxially stretched in the longitudinal direction, when the stretching ratio is too small, the effect of stretching on the anisotropy of molecular orientation disappears due to the annealing treatment, and it is increased by uniaxial stretching. The linear expansion coefficient in the width direction with respect to the longitudinal direction of the film cannot be maintained. Further, if the stretching ratio is too large, the flatness of the film will be impaired by the annealing treatment.

【0017】そこで、本発明においては、更に一軸延伸
の処理条件である延伸温度及び延伸倍率を検討し、樹脂
フィルムのガラス転移温度よりも充分に高い温度範囲で
は延伸倍率を10〜100%、好ましくは20〜70%
の範囲とし、樹脂フィルムのガラス転移温度に近いかあ
るいは低い温度範囲では延伸倍率を30〜80%、好ま
しくは40〜60%の範囲で、樹脂フィルムの長手方向
に一軸延伸させることとした。かかる処理条件で一軸延
伸させることにより、アニール処理を施しても上記線膨
張係数が維持され、かつフィルムの平坦性も損なわれな
いポリイミドフィルムを得ることができる。
Therefore, in the present invention, the stretching temperature and the stretching ratio, which are the processing conditions of the uniaxial stretching, are further examined, and the stretching ratio is 10 to 100%, preferably in the temperature range sufficiently higher than the glass transition temperature of the resin film. Is 20-70%
In the temperature range close to or lower than the glass transition temperature of the resin film, the stretching ratio is 30 to 80%, preferably 40 to 60%, and the resin film is uniaxially stretched in the longitudinal direction. By uniaxially stretching under such treatment conditions, it is possible to obtain a polyimide film in which the above-mentioned linear expansion coefficient is maintained even when an annealing treatment is performed and the flatness of the film is not impaired.

【0018】本発明はこのようにして得られたポリイミ
ドフィルムをベースフィルム層として用いることを特徴
とするものであり、本発明の製造方法により得られたT
AB用テープを用いることにより、テープの長手方向に
対する幅方向の反り量が小さい銅張積層テープを作製す
ることができる。
The present invention is characterized by using the polyimide film thus obtained as a base film layer, and T obtained by the production method of the present invention.
By using the AB tape, it is possible to manufacture a copper-clad laminated tape having a small amount of warp in the width direction with respect to the longitudinal direction of the tape.

【0019】すなわち、銅張積層テープは上記TAB用
テープの保護層を除去し、その上に銅箔を重ね合わせて
加熱し、接着剤層を硬化させてベースフィルム層と銅箔
を固定させることにより作製される。従って、そのベー
スフィルム層として用いられるポリイミドフィルムの長
手方向に対する幅方向の線膨張係数が、銅箔の線膨張係
数の1.2倍以上であることより、加熱によって接着剤
層を硬化してベースフィルム層と銅箔を固定した後の、
冷却に伴うベースフィルム層の長手方向に対する幅方向
の収縮量が銅箔の収縮量よりも大きくなり、若干の銅箔
を外側にした反りが生じる。ところが、時間とともにベ
ースフィルム層であるポリイミドフィルムは吸湿により
膨張し、それに対して導体層である銅箔は吸湿による寸
法変化がほとんどない。その結果、両者の寸法変化率は
ほとんど同程度となり、銅張積層テープの幅方向の反り
量が小さくなる。そして、IC実装時において特に問題
になっているテープの幅方向の反り量が小さい銅張積層
テープを作製することにより、IC実装時の電気信頼性
を向上させることができるのである。
That is, in the copper-clad laminated tape, the protective layer of the TAB tape is removed, a copper foil is superposed thereon and heated, and the adhesive layer is cured to fix the base film layer and the copper foil. It is produced by. Therefore, the linear expansion coefficient in the width direction with respect to the longitudinal direction of the polyimide film used as the base film layer is 1.2 times or more the linear expansion coefficient of the copper foil. After fixing the film layer and copper foil,
The amount of shrinkage of the base film layer in the width direction with respect to the longitudinal direction due to cooling becomes larger than the amount of shrinkage of the copper foil, and some warpage occurs with the copper foil facing outward. However, with time, the polyimide film, which is the base film layer, expands due to moisture absorption, while the copper foil, which is the conductor layer, hardly changes in size due to moisture absorption. As a result, the dimensional change rates of the two become almost the same, and the amount of warpage in the width direction of the copper-clad laminated tape becomes small. Then, by producing a copper clad laminated tape having a small amount of warp in the width direction of the tape, which is a particular problem at the time of mounting the IC, the electrical reliability at the time of mounting the IC can be improved.

【0020】テープに生ずる反り量が小さい銅張積層テ
ープを作製するには、ベースフィルム層として用いるポ
リイミドフィルムの線膨張係数を等方的に大きくさせる
ことも考えられるが、ポリイミドフィルムは線膨張係数
を大きくすると弾性率が小さくなり、弾性率が小さいポ
リイミドフィルムは、フィルムのコシが無くなりICの
重さに耐えられなくなる。そのため、ポリイミドフィル
ムの線膨張係数が等方的に大きいものは、TAB用テー
プのベースフィルム層として用いることは困難である。
In order to produce a copper-clad laminated tape having a small amount of warp generated on the tape, it is possible to increase the linear expansion coefficient of the polyimide film used as the base film layer isotropically. The elastic modulus becomes smaller as the value becomes larger, and a polyimide film having a small elastic modulus loses rigidity of the film and cannot bear the weight of the IC. Therefore, it is difficult to use a polyimide film having a large linear expansion coefficient isotropically as the base film layer of the TAB tape.

【0021】従って、上述したようにポリイミドフィル
ムを一軸延伸させて、その延伸方向が長手方向となるよ
うに用いることにより、フィルムの長手方向に対する幅
方向にのみ線膨張係数を大きくし、フィルムの長手方向
には弾性率が高くベースフィルム層として用いることが
できるコシを有するポリイミドフィルムを得ることがで
きる。すなわち、テープの幅方向の反り量が小さい銅張
積層テープを作製することができ、TAB用テープのベ
ースフィルム層として好適に用いることができるポリイ
ミドフィルムを得ることができる。
Therefore, as described above, the polyimide film is uniaxially stretched and used so that the stretching direction is the longitudinal direction, whereby the linear expansion coefficient is increased only in the width direction with respect to the longitudinal direction of the film, and the longitudinal direction of the film is increased. It is possible to obtain a polyimide film having a high elasticity in the direction and a stiffness that can be used as a base film layer. That is, a copper clad laminated tape having a small amount of warp in the width direction of the tape can be produced, and a polyimide film that can be suitably used as a base film layer of a TAB tape can be obtained.

【0022】[0022]

【実施例】以下、本発明に係るTAB用テープの製造方
法の実施例を詳細に説明する。
EXAMPLES Examples of the method for producing a TAB tape according to the present invention will be described in detail below.

【0023】図1に示すように、TAB用テープ10は
ベースフィルム層12と接着剤層14と保護層16とか
ら構成されていて、このTAB用テープ10の製造方法
の一例を示すと、保護層16の表面に接着剤を塗布する
等によって接着剤層14を形成した後、この接着剤層1
4にベースフィルム層12が貼着されて製造される。
As shown in FIG. 1, the TAB tape 10 is composed of a base film layer 12, an adhesive layer 14, and a protective layer 16. An example of a method for manufacturing the TAB tape 10 is as follows. After forming the adhesive layer 14 by applying an adhesive to the surface of the layer 16, the adhesive layer 1
The base film layer 12 is attached to 4 and manufactured.

【0024】なお、TAB用テープを製造する際の諸条
件は特に制限されないが、具体的には、例えば、まず、
保護層16上に所定の配合の接着剤を乾燥後の膜厚が5
〜50μm、より好ましくは10〜30μmの範囲にな
るように塗布し、100〜150℃で1〜15分間加熱
乾燥させて接着剤層を半硬化状態にし、保護層16上に
接着剤層14を形成して接着剤付き保護層を作製する。
そして、この接着剤付き保護層の接着剤面にベースフィ
ルム層12を重ね合わせ、20〜180℃で0.1 kgf
/cm2 以上の条件で圧着することにより、TAB用テー
プ10を製造する。
Although various conditions for manufacturing the TAB tape are not particularly limited, specifically, for example, first,
An adhesive having a predetermined composition has a thickness of 5 after drying on the protective layer 16.
To 50 μm, more preferably 10 to 30 μm, and heat-dried at 100 to 150 ° C. for 1 to 15 minutes to semi-cure the adhesive layer, and the adhesive layer 14 on the protective layer 16. Then, a protective layer with an adhesive is formed.
Then, the base film layer 12 is overlaid on the adhesive surface of the protective layer with the adhesive, and 0.1 kgf at 20 to 180 ° C.
The TAB tape 10 is manufactured by pressure bonding under the condition of not less than / cm 2 .

【0025】このとき、図1に示すように前記接着剤付
き保護層を一定幅にスリットし、ポリイミドフィルムの
幅が該保護層よりも広くなるようにスリットして、該ポ
リイミドフィルムの中央部に該保護層を重ね合わせて圧
着させると、テープの両端部には接着剤層の存在しない
TAB用テープを製造することができ好ましい。
At this time, as shown in FIG. 1, the protective layer with the adhesive is slit to a constant width, and the polyimide film is slit so that the width of the polyimide film is wider than that of the protective layer. When the protective layers are overlapped and pressure-bonded, a TAB tape having no adhesive layer on both ends of the tape can be produced, which is preferable.

【0026】そして、得られたTAB用テープ10の保
護層16を剥離した後、図2に示すように、転写された
接着剤層14の表面に銅箔等の導体層18を加熱貼着し
て、銅張積層テープ20が製造される。
After the protective layer 16 of the obtained TAB tape 10 is peeled off, a conductor layer 18 such as a copper foil is heat-bonded to the surface of the transferred adhesive layer 14 as shown in FIG. Thus, the copper-clad laminated tape 20 is manufactured.

【0027】このTAB用テープ10を製造するために
用いられる接着剤層14、保護層16は特に限定され
ず、従来公知のものを用いることができる。例えば、接
着剤としては、エポキシ系やフェノール系のものが好ま
しく用いられる。また、保護層としては、接着剤の剥離
性や強度、耐熱性、価格などのバランスからポリエチレ
ンテレフタレートやポリプロピレンのフィルムが好まし
く用いられる。
The adhesive layer 14 and the protective layer 16 used for manufacturing the TAB tape 10 are not particularly limited, and conventionally known ones can be used. For example, as the adhesive, epoxy-based or phenol-based adhesives are preferably used. Further, as the protective layer, a polyethylene terephthalate or polypropylene film is preferably used in view of the balance of peelability, strength, heat resistance, price of the adhesive.

【0028】次に、このTAB用テープ10を製造する
ために用いられるベースフィルム層12は次のようにし
て製造される。すなわち図3に示すように、通常の手法
によって製造されたポリイミドフィルム22を一軸方向
に均等に引っ張り、延伸させる。ポリイミドフィルム2
2を延伸させる際、ポリイミドフィルム22を加熱下で
延伸させるのが好ましく、加熱温度は特に限定されない
が、特にガラス転移温度の近傍から高温の範囲がより好
ましい。この加熱温度と延伸倍率は特に限定されない
が、所定の効果を得るためには、一定の範囲内で処理さ
れることになる。次に、ポリイミドフィルム22を一軸
方向に延伸させた後、そのポリイミドフィルム24にア
ニール処理が施される。
Next, the base film layer 12 used for manufacturing the TAB tape 10 is manufactured as follows. That is, as shown in FIG. 3, the polyimide film 22 manufactured by a normal method is uniformly pulled and stretched in the uniaxial direction. Polyimide film 2
When 2 is stretched, it is preferable to stretch the polyimide film 22 under heating, and the heating temperature is not particularly limited, but a range from near the glass transition temperature to a high temperature is more preferable. The heating temperature and the draw ratio are not particularly limited, but in order to obtain a predetermined effect, the treatment is performed within a certain range. Next, the polyimide film 22 is uniaxially stretched, and then the polyimide film 24 is annealed.

【0029】アニール処理とは一定温度に加熱して一定
時間保持し、成形によるひずみを除去する処理方法であ
り、例えば、400℃で1分間加熱することによりアニ
ール処理が施されるが、その条件は特に限定されるもの
ではなく、フィルムの組成等により適宜設定される。こ
のアニール処理は、ポリイミドフィルム22を延伸させ
ることにより内部に歪が残り、残留歪のあるポリイミド
フィルム24を加熱すると、その残留歪が開放されて大
きな寸法変化を生ずるため、後加工を施す前に残留歪を
除去し、寸法安定性の良いポリイミドフィルム24を得
るために行われる。したがって、TAB用テープの製造
工程においてアニール処理は必須であり、フィルムの加
熱収縮を除去し良好なICの実装を行うためには省略で
きない処理である。
The annealing treatment is a treatment method of heating at a constant temperature and holding it for a certain period of time to remove the distortion caused by molding. For example, the annealing treatment is performed by heating at 400 ° C. for 1 minute under the condition. Is not particularly limited and is appropriately set depending on the composition of the film and the like. In this annealing treatment, when the polyimide film 22 is stretched, strain remains inside, and when the polyimide film 24 having residual strain is heated, the residual strain is released and a large dimensional change occurs. This is performed to remove the residual strain and obtain the polyimide film 24 having good dimensional stability. Therefore, the annealing treatment is indispensable in the process of manufacturing the TAB tape, and is a treatment that cannot be omitted in order to remove the heat shrinkage of the film and to mount the IC well.

【0030】アニール処理の施されたポリイミドフィル
ム24は図4に一点鎖線で示すように、一軸方向に延伸
させた延伸方向を長手方向にして切断され、複数のベー
スフィルム層12が製造されるのである。
Since the annealed polyimide film 24 is cut in the uniaxially stretched direction with the longitudinal direction being the stretched direction, as shown by the dashed line in FIG. 4, a plurality of base film layers 12 are manufactured. is there.

【0031】次に、本発明においてベースフィルム層1
2として用いられるポリイミドフィルム24について説
明する。かかるポリイミドフィルム24は、フィルムの
長手方向に対する幅方向の線膨張係数が、アニール処理
後であっても銅箔の線膨張係数の1.2倍以上になるよ
うに形成されている。このような幅方向の線膨張係数を
備えたポリイミドフィルム24は、公知の方法で得られ
たポリイミドフィルム22を用いて、フィルムの長手方
向に一軸延伸させることによって得ることができる。
Next, in the present invention, the base film layer 1
The polyimide film 24 used as No. 2 will be described. The polyimide film 24 is formed such that the linear expansion coefficient in the width direction with respect to the longitudinal direction of the film is 1.2 times or more the linear expansion coefficient of the copper foil even after the annealing treatment. The polyimide film 24 having such a coefficient of linear expansion in the width direction can be obtained by uniaxially stretching the polyimide film 22 obtained by a known method in the longitudinal direction of the film.

【0032】具体的には、公知の方法で得られたポリイ
ミドフィルム22とは、原料のテトラカルボン酸二無水
物成分とジアミン成分をそれぞれ単独で、又は2種以上
を混合して用い、有機極性溶媒中で全テトラカルボン酸
二無水物成分と全ジアミン成分を実質的に等モル量反応
させてポリアミド酸溶液を得て、該ポリアミド酸溶液を
流延又は塗布してフィルム状にしたものを化学的及び/
又は熱的にイミド化させて得たものである。
Specifically, the polyimide film 22 obtained by a known method is used as the raw material tetracarboxylic dianhydride component and diamine component either individually or as a mixture of two or more thereof, and organic polarities are used. A polyamic acid solution is obtained by reacting all tetracarboxylic dianhydride components and all diamine components in a solvent in a substantially equimolar amount, and the polyamic acid solution is cast or coated to form a film chemical. Target and /
Alternatively, it is obtained by thermal imidization.

【0033】更に詳しくは、酸二無水物成分としてピロ
メリット酸二無水物(以下、PMDAという。)を単
独、又はPMDAと化1
More specifically, pyromellitic dianhydride (hereinafter referred to as PMDA) as an acid dianhydride component alone or as PMDA 1

【化1】 に示される酸二無水物の1種又は2種以上とを混合した
ものを用い、ジアミン成分としてジアミノジフェニルエ
ーテル(以下、DADPEという。)を単独、又はDA
DPEと化2
Embedded image A mixture of one or more of the acid dianhydrides shown in 1 above is used, and diaminodiphenyl ether (hereinafter referred to as DADPE) is used alone as the diamine component, or DA
DPE and 2

【化2】 (但し、XはF,Cl,Br,CH3 ,CH3 O,CF
3 を示す。)に示される直線性ジアミン化合物の1種又
は2種以上とを混合したものを用いて得たポリイミドフ
ィルムが好ましく用いられる。混合の割合は任意である
が、酸二無水物成分としては、全酸二無水物成分中のP
MDAのモル比を10〜40%の割合に混合して用いる
のが好ましい。また、ジアミン成分としては、全ジアミ
ン成分中のDADPEのモル比を20〜80%の割合に
混合して用いるのが好ましい。
Embedded image (However, X is F, Cl, Br, CH 3 , CH 3 O, CF
3 is shown. A polyimide film obtained by using a mixture of one or two or more of the linear diamine compounds shown in (4) is preferably used. The mixing ratio is arbitrary, but as the acid dianhydride component, P in the total acid dianhydride component is used.
It is preferable to mix and use the MDA in a molar ratio of 10 to 40%. As the diamine component, it is preferable to use a mixture of DADPE in the total diamine component in a molar ratio of 20 to 80%.

【0034】また、ポリイミドフィルム22の膜厚は好
ましくは25〜200μm、より好ましくは50〜12
5μmのものが用いられる。
The thickness of the polyimide film 22 is preferably 25 to 200 μm, more preferably 50 to 12 μm.
The one having a thickness of 5 μm is used.

【0035】更に、かかるポリイミドフィルム22に
は、接着剤層との密着性やフィルムの搬送性の向上など
の目的で、表面及び/又は内部に適当な処理(例えば、
加熱処理やコロナ放電処理、無機フィラーの添加等)を
施してあってもよい。
Further, the polyimide film 22 is subjected to an appropriate treatment (for example, on the surface and / or inside) for the purpose of improving the adhesion to the adhesive layer and the transportability of the film.
Heat treatment, corona discharge treatment, addition of inorganic filler, etc.) may be performed.

【0036】このような公知の方法で得られたポリイミ
ドフィルム22を用い、一軸延伸させることにより、分
子内の配向に異方性が与えられる。その結果、分子が延
伸方向に配向されてフィルムの延伸方向に垂直な方向の
線膨張係数が大きくなり、該フィルムを延伸方向を長手
方向にして切断することにより、本発明においてベース
フィルム層として用いられる、前記線膨張係数のポリイ
ミドフィルム24を得ることができる。
The polyimide film 22 obtained by such a known method is uniaxially stretched to impart anisotropy to the orientation in the molecule. As a result, the molecules are oriented in the stretching direction to increase the linear expansion coefficient in the direction perpendicular to the stretching direction of the film, and the film is used as a base film layer in the present invention by cutting the film with the stretching direction being the longitudinal direction. The polyimide film 24 having the above-mentioned linear expansion coefficient can be obtained.

【0037】更に、このように一軸延伸して得られたポ
リイミドフィルム24を切断してTAB用テープのベー
スフィルム層として用いる前に、通常アニール処理が施
されるのであるが、一軸延伸の処理条件(延伸温度及び
延伸倍率)によっては、上記一軸延伸による効果がアニ
ール処理によって消失し、また、フィルムの平坦性が損
なわれることがある。従って、本発明において好適に用
いられるベースフィルム層を得るためには、かかる一軸
延伸の処理条件の設定が重要である。
Further, before the polyimide film 24 thus obtained by uniaxial stretching is cut and used as the base film layer of the TAB tape, an annealing treatment is usually performed. Depending on (stretching temperature and stretch ratio), the effect of the uniaxial stretching may disappear by the annealing treatment, and the flatness of the film may be impaired. Therefore, in order to obtain the base film layer preferably used in the present invention, it is important to set the processing conditions for such uniaxial stretching.

【0038】この一軸延伸の処理条件は任意に設定する
ことができるが、本発明においてベースフィルム層とし
て用いられるポリイミドフィルム24を得るためには、
延伸温度によって好ましい延伸倍率がある。
The treatment conditions for this uniaxial stretching can be set arbitrarily, but in order to obtain the polyimide film 24 used as the base film layer in the present invention,
There is a preferred stretching ratio depending on the stretching temperature.

【0039】すなわち、延伸温度がフィルムのガラス転
移温度よりも充分高い温度においては、延伸倍率が10
〜100%、好ましくは20〜70%の範囲でフィルム
の長手方向に一軸延伸させるのが好ましい。かかる延伸
温度において延伸倍率が10%未満では、フィルムの加
熱収縮を除去するために必須のアニール処理により、一
軸延伸により与えられた分子配向の異方性が消失してし
まうからである。また、延伸倍率が100%を越える
と、アニール処理によってフィルムの平坦性が損なわれ
てしまうからである。
That is, when the stretching temperature is sufficiently higher than the glass transition temperature of the film, the stretching ratio is 10
It is preferable that the film is uniaxially stretched in the longitudinal direction of the film in the range of -100%, preferably 20-70%. If the draw ratio is less than 10% at such a draw temperature, the anisotropy of the molecular orientation given by the uniaxial draw disappears due to the annealing treatment essential for removing the heat shrinkage of the film. Further, if the stretching ratio exceeds 100%, the flatness of the film will be impaired by the annealing treatment.

【0040】また、延伸温度がフィルムのガラス転移点
に近いかあるいは低い温度においては、延伸倍率を30
〜80%、好ましくは40〜60%の範囲に設定して一
軸延伸させるのが好ましい。上記同様の理由から、かか
る延伸倍率で一軸延伸することにより、アニール処理に
よって延伸の効果が消失することが無く、かつフィルム
の平坦性を損なうこともない。
When the stretching temperature is close to or lower than the glass transition point of the film, the stretching ratio is 30.
It is preferable to set it in the range of -80%, preferably 40-60% and uniaxially stretch. For the same reason as above, uniaxially stretching at such a stretching ratio does not eliminate the effect of stretching due to the annealing treatment and does not impair the flatness of the film.

【0041】従って、このような処理条件で一軸延伸さ
せることにより、アニール処理後であってもポリイミド
フィルムの延伸方向に垂直な方向の線膨張係数が、銅箔
の線膨張係数の1.2倍以上であり、かつフィルムの平
坦性が損なわれないポリイミドフィルムを得ることがで
きる。かかる条件で一軸延伸したポリイミドフィルム
は、一軸延伸した後にアニール処理を施しベースフィル
ム層として好適に用いることができる。
Therefore, by uniaxially stretching under such treatment conditions, the linear expansion coefficient in the direction perpendicular to the stretching direction of the polyimide film is 1.2 times that of the copper foil even after the annealing treatment. The polyimide film which is above and which does not impair the flatness of a film can be obtained. The polyimide film uniaxially stretched under such conditions can be suitably used as a base film layer by subjecting it to an anneal treatment after uniaxially stretching.

【0042】なお、一軸延伸の方法としては特に制限は
なく、ロール延伸方式などの一般的な方法が利用可能で
ある。
The uniaxial stretching method is not particularly limited, and a general method such as a roll stretching method can be used.

【0043】そして、このようにして得られたポリイミ
ドフィルム24を延伸方向を長手方向にして切断してベ
ースフィルム層として用い、上述したように該ベースフ
ィルム層12の上に接着剤層14、保護層16を形成す
ることによりTAB用テープ10を製造することができ
るのである。
Then, the polyimide film 24 thus obtained is cut as a base film layer by cutting the polyimide film 24 in the longitudinal direction, and as described above, the adhesive layer 14 and the protective layer are provided on the base film layer 12. By forming the layer 16, the TAB tape 10 can be manufactured.

【0044】なお、TAB用テープの製造方法としては
上述の方法に限定されず、例えば、上記一軸延伸したポ
リイミドフィルムを切断せずに、該フィルムの延伸方向
に一定幅にスリットした接着剤付き保護層を一定間隔を
開けて重ね合わせて圧着させ、その後TAB用テープの
両端の幅が等しくなるように該ポリイミドフィルムの保
護層と保護層の間をスリットするようにしてもよい。そ
の他、いかなる方法でベースフィルム層上に接着剤層、
保護層を形成してもよいが、TAB加工工程における加
工性の問題からTAB用テープの両端部には接着剤層が
存在しないことが好ましい。
The method for producing the TAB tape is not limited to the above-mentioned method. For example, the uniaxially stretched polyimide film is not cut, but is protected with an adhesive by slitting the polyimide film in a predetermined width in the stretching direction. The layers may be overlapped with each other at regular intervals and pressure-bonded, and then slits may be formed between the protective layers of the polyimide film so that the both ends of the TAB tape have the same width. Any other method, an adhesive layer on the base film layer,
Although a protective layer may be formed, it is preferable that there is no adhesive layer at both ends of the TAB tape in view of workability in the TAB processing step.

【0045】また、ベースフィルム層として用いられる
樹脂フィルムとしては、ポリイミドフィルム以外にも、
例えばポリエステルフィルム、ポリアミドフィルムなど
を用いることができ、上記同様一軸延伸してベースフィ
ルム層とすることも可能であるが、特にはポリイミドフ
ィルムが好ましく用いられる。
As the resin film used as the base film layer, other than the polyimide film,
For example, a polyester film, a polyamide film, or the like can be used, and it is possible to uniaxially stretch the base film layer in the same manner as above, but a polyimide film is particularly preferably used.

【0046】このようにして得られたTAB用テープ
は、TAB加工工程において銅張積層テープを作製する
のに好適に用いられ、本発明の方法でTAB用テープを
製造することにより、IC実装時における電気信頼性を
向上させることができる。
The TAB tape thus obtained is preferably used for producing a copper-clad laminated tape in the TAB processing step, and by manufacturing the TAB tape by the method of the present invention, it can be mounted on an IC. It is possible to improve the electrical reliability in the.

【0047】すなわち、本発明の製造方法により得られ
たTAB用テープを用いて図2に示す銅張積層テープ2
0を作製した場合、該銅張積層テープ20は、ベースフ
ィルム層のフィルムの長手方向に対する幅方向の線膨張
係数が銅箔の線膨張係数の1.2倍以上であり、作製直
後には図5に示すように銅箔18を外側にした若干の反
りaが生じている。しかし、時間とともにベースフィル
ム層(ポリイミドフィルム)12は吸湿により膨張する
ため、結果的には図中2点鎖線で示すように反りaがほ
とんどない、テープの幅方向の反り量の小さい銅張積層
テープ20を得ることができる。
That is, using the TAB tape obtained by the manufacturing method of the present invention, the copper-clad laminated tape 2 shown in FIG. 2 is used.
When 0 was produced, the copper-clad laminated tape 20 had a linear expansion coefficient in the width direction with respect to the longitudinal direction of the film of the base film layer that was 1.2 times or more the linear expansion coefficient of the copper foil. As shown in FIG. 5, there is a slight warpage a with the copper foil 18 on the outside. However, since the base film layer (polyimide film) 12 expands due to moisture absorption over time, as a result, there is almost no warpage a as shown by the chain double-dashed line in the figure, and a copper clad laminate with a small amount of warpage in the width direction of the tape The tape 20 can be obtained.

【0048】そして、かかる銅張積層テープの銅層をエ
ッチングすることにより回路を形成し、次いでメッキ処
理、インナーリードボンディング、樹脂封止、アウター
リードボンディングの加工工程を経てICが実装される
が、本発明の製造方法で得たTAB用テープを用いて作
製した銅張積層テープは、テープの幅方向の反り量が小
さく、アウターリードボンディングなどの電気的な接続
部に歪が生じないので、IC実装時における電気信頼性
を向上させることができるのである。
Then, a circuit is formed by etching the copper layer of the copper clad laminated tape, and then the IC is mounted through the processing steps of plating, inner lead bonding, resin sealing, and outer lead bonding. The copper-clad laminated tape produced using the TAB tape obtained by the production method of the present invention has a small amount of warp in the width direction of the tape and does not cause distortion in an electrical connection portion such as outer lead bonding. The electrical reliability at the time of mounting can be improved.

【0049】なお、ここでは銅張積層テープとしている
が、TAB方式において回路を形成する導体層としては
必ずしも銅箔を用いる必要はなく、その他の導体層を用
いることも可能である。その場合は、ポリイミドフィル
ムの長手方向に対する幅方向の線膨張係数が、用いられ
る導体層の線膨張係数の1.2倍以上となっていればよ
い。その他、接着剤層、保護層、導体層の形成方法は特
に限定されるものではなく、その他の多種多様な方法で
形成した場合も本発明の効果が得られることは言うまで
もない。
Although the copper-clad laminated tape is used here, it is not always necessary to use the copper foil as the conductor layer forming the circuit in the TAB method, and other conductor layers can be used. In that case, the coefficient of linear expansion in the width direction with respect to the longitudinal direction of the polyimide film may be 1.2 times or more the coefficient of linear expansion of the conductor layer used. In addition, it is needless to say that the method of forming the adhesive layer, the protective layer, and the conductor layer is not particularly limited, and the effects of the present invention can be obtained even when they are formed by various other various methods.

【0050】以上、本発明に係るTAB用テープの製造
方法の実施例を説明したが、本発明はこれらの実施例の
みに限定されるものではなく、例えば、ポリイミドフィ
ルム上に接着剤を塗布して乾燥させ、その上に保護層を
設けるようにしてもよい。また、かかるTAB用テープ
の製造方法において、接着性を有する熱可塑性ポリイミ
ドフィルムを用いてベースフィルム層とした場合、ベー
スフィルム層、接着剤層、保護層とからなるTAB用テ
ープを作製することなく、該ポリイミドフィルム上に銅
箔を重ね合わせてラミネートし、2層銅張積層テープを
作製することも可能である。その他、本発明はその趣旨
を逸脱しない範囲内で当業者の知識に基づき、種々なる
改良、変更、修正を加えた態様で実施し得るものであ
る。
Although the embodiments of the method for manufacturing the TAB tape according to the present invention have been described above, the present invention is not limited to these embodiments. For example, an adhesive is applied on a polyimide film. You may make it dry and provide a protective layer on it. In the method for producing a TAB tape, when a thermoplastic polyimide film having adhesiveness is used as a base film layer, a TAB tape including a base film layer, an adhesive layer, and a protective layer is not produced. It is also possible to produce a two-layer copper-clad laminated tape by stacking and laminating copper foil on the polyimide film. In addition, the present invention can be carried out in a mode in which various improvements, changes and modifications are made based on the knowledge of those skilled in the art without departing from the spirit of the present invention.

【0051】以下に実施例により本発明をより具体的に
説明するが、本発明はこれら実施例によって限定される
ものではない。なお、実施例中DMFはN,N-ジメチルホ
ルムアミドである。また、銅箔の100〜200℃の温
度範囲の平均線膨張係数は17ppmである。
Hereinafter, the present invention will be described more specifically with reference to Examples, but the present invention is not limited to these Examples. In the examples, DMF is N, N-dimethylformamide. The average linear expansion coefficient of the copper foil in the temperature range of 100 to 200 ° C. is 17 ppm.

【0052】実施例 1 PDA:DADPE:BTDA:PMDAを2:1:
2:1のモル比でDMF溶媒中で重合してポリアミド酸
溶液を得て、該ポリアミド酸溶液をフィルム状に形成し
て化学的にイミド化させ、膜厚75μmのポリイミドフ
ィルムを得た。得られたポリイミドフィルムは面内の線
膨張係数が等方的で、100〜200℃の温度範囲の平
均線膨張係数は長手方向、幅方向のいずれも19ppm
であり、銅箔の線膨張係数の1.1倍であった。また、
ガラス転移温度は350℃であった。
Example 1 PDA: DADPE: BTDA: PMDA 2: 1:
Polymerization was performed in a DMF solvent at a molar ratio of 2: 1 to obtain a polyamic acid solution, and the polyamic acid solution was formed into a film and chemically imidized to obtain a polyimide film having a thickness of 75 μm. The obtained polyimide film has an isotropic in-plane linear expansion coefficient, and the average linear expansion coefficient in the temperature range of 100 to 200 ° C. is 19 ppm in both the longitudinal direction and the width direction.
And was 1.1 times the linear expansion coefficient of the copper foil. Also,
The glass transition temperature was 350 ° C.

【0053】このポリイミドフィルムを220℃の雰囲
気中で40%の延伸倍率でフィルムの長手方向に一軸延
伸し、次いで400℃の雰囲気中で1分間アニール処理
を行った後、35mm幅にスリットした。一軸延伸後、ア
ニール処理したこのフィルムの100〜200℃の温度
範囲の平均線膨張係数は、延伸方向では17ppm、幅
方向では22ppmであり、フィルム幅方向の線膨張係
数は銅箔の線膨張係数の1.3倍になっていた。この3
5mm幅のポリイミドフィルムをベースフィルム層として
用い、以下、従来の方法に準じて下記の方法でTAB用
テープを作製した。
This polyimide film was uniaxially stretched in the longitudinal direction of the film at a stretching ratio of 40% in an atmosphere of 220 ° C., annealed for 1 minute in an atmosphere of 400 ° C., and then slit into a width of 35 mm. After uniaxial stretching, the annealed film had an average linear expansion coefficient in the temperature range of 100 to 200 ° C. of 17 ppm in the stretching direction and 22 ppm in the width direction, and the linear expansion coefficient in the film width direction was the linear expansion coefficient of the copper foil. It was 1.3 times that of. This 3
Using a polyimide film having a width of 5 mm as a base film layer, a TAB tape was manufactured by the following method according to the conventional method.

【0054】すなわち、表面に剥離剤処理を施した保護
層用ポリエチレンテレフタレートフィルムに接着剤を乾
燥後の厚みが約20μmとなるように塗布し、150℃
で10分間乾燥させて接着剤付き保護層を得た。該接着
剤付き保護層を26mm幅にスリットし、前記ベースフィ
ルム層の中央部に40℃で圧着させてTAB用テープを
作製した。接着剤としては、ビスフェノールA型エポキ
シ樹脂(E1001/油化シェルエポキシ社製)50
部、クレゾールノボラック型エポキシ樹脂(180H6
5/油化シェルエポキシ社製)10部、ポリアミド樹脂
(M1276/日本リルサン社製)40部、ジアミノジ
フェニルスルフォン7部、ジシアンジアミド2部、トル
エン35部、イソプロピルアルコール15部からなる接
着剤を用いた。
That is, an adhesive was applied to a polyethylene terephthalate film for a protective layer, the surface of which was treated with a release agent, so that the thickness after drying was about 20 μm, and the temperature was 150 ° C.
And dried for 10 minutes to obtain a protective layer with an adhesive. The protective layer with an adhesive was slit to a width of 26 mm and pressure-bonded to the center of the base film layer at 40 ° C. to prepare a TAB tape. As the adhesive, bisphenol A type epoxy resin (E1001 / Yukaka Shell Epoxy Co., Ltd.) 50
Part, cresol novolac type epoxy resin (180H6
5 / Oilized Shell Epoxy Co., Ltd.) 10 parts, Polyamide resin (M1276 / Nippon Rilsan Co., Ltd.) 40 parts, Diaminodiphenylsulfone 7 parts, Dicyandiamide 2 parts, Toluene 35 parts, Isopropyl alcohol 15 parts .

【0055】このTAB用テープの保護層を取り除き、
26mm幅の銅箔を接着剤層の上に120℃でラミネート
したあと接着剤を加熱・硬化して銅張積層テープを作製
し、その銅張積層テープの長手方向に対する幅方向の反
り量を測定した。反り量の測定方法としては、前記銅張
積層テープを40mmの長さに切り出して20℃、65%
の環境中で24時間放置し、この吸湿状態の銅張積層テ
ープを水平面上にベースフィルム層を下にして静置し、
中央部を押さえたときの4角の水平面からの高さを測定
した。4角の水平面からの高さの平均値を銅張積層テー
プの幅方向の反り量とし、その結果を表1に示した。
Remove the protective layer of this TAB tape,
After laminating a 26 mm wide copper foil on the adhesive layer at 120 ° C, the adhesive is heated and cured to produce a copper-clad laminated tape, and the amount of warp in the width direction with respect to the longitudinal direction of the copper-clad laminated tape is measured. did. The amount of warpage is measured by cutting the copper-clad laminated tape into a length of 40 mm at 20 ° C. and 65%.
Left for 24 hours in this environment, and the copper-clad laminated tape in the moisture-absorption state is allowed to stand still on a horizontal surface with the base film layer down.
The height from the horizontal plane of the four corners when the central part was pressed was measured. The average value of the height from the horizontal surface of the four corners was taken as the amount of warpage in the width direction of the copper-clad laminated tape, and the results are shown in Table 1.

【0056】[0056]

【表1】 [Table 1]

【0057】実施例 2 一軸延伸の際の延伸倍率を60%にした以外は実施例1
と同様の方法でベースフィルム層として用いるポリイミ
ドフィルムを得た。一軸延伸後、アニール処理したこの
フィルムの100〜200℃の温度範囲の平均線膨張係
数は、延伸方向では15ppm、幅方向では32ppm
であり、フィルム幅方向の線膨張係数は銅箔の線膨張係
数の1.9倍になっていた。以下、実施例1と同様の方
法でTAB用テープを作製し、更に銅張積層テープを作
製した。得られた銅張積層テープについて、実施例1と
同様にして、その幅方向の反り量を測定し、その結果を
表1に示した。
Example 2 Example 1 except that the stretching ratio during uniaxial stretching was 60%.
A polyimide film used as a base film layer was obtained in the same manner as in. After uniaxial stretching, the average linear expansion coefficient in the temperature range of 100 to 200 ° C. of this annealed film is 15 ppm in the stretching direction and 32 ppm in the width direction.
The linear expansion coefficient in the film width direction was 1.9 times the linear expansion coefficient of the copper foil. Hereinafter, a TAB tape was produced in the same manner as in Example 1, and further a copper clad laminated tape was produced. With respect to the obtained copper-clad laminated tape, the amount of warpage in the width direction was measured in the same manner as in Example 1, and the results are shown in Table 1.

【0058】比較例 1 一軸延伸の際の延伸倍率を20%にした以外は実施例1
と同様の方法でベースフィルム層として用いるポリイミ
ドフィルムを得た。一軸延伸後、アニール処理したフィ
ルムの100〜200℃の温度範囲の平均線膨張係数
は、延伸方向では19ppm、幅方向では19ppmで
あり、フィルム幅方向の線膨張係数は銅箔の線膨張係数
の1.1倍であり、延伸による線膨張係数の増加はみら
れなかった。以下、実施例1と同様の方法でTAB用テ
ープを作製し、更に銅張積層テープを作製した。得られ
た銅張積層テープについて、実施例1と同様にして、そ
の幅方向の反り量を測定し、その結果を表1に示した。
Comparative Example 1 Example 1 except that the stretching ratio during uniaxial stretching was 20%.
A polyimide film used as a base film layer was obtained in the same manner as in. After uniaxial stretching, the average linear expansion coefficient of the annealed film in the temperature range of 100 to 200 ° C. is 19 ppm in the drawing direction and 19 ppm in the width direction, and the linear expansion coefficient in the film width direction is the linear expansion coefficient of the copper foil. It was 1.1 times, and the linear expansion coefficient was not increased by stretching. Hereinafter, a TAB tape was produced in the same manner as in Example 1, and further a copper clad laminated tape was produced. With respect to the obtained copper-clad laminated tape, the amount of warpage in the width direction was measured in the same manner as in Example 1, and the results are shown in Table 1.

【0059】比較例 2 一軸延伸の際の延伸倍率を90%にした以外は実施例1
と同様の方法でベースフィルム層として用いるポリイミ
ドフィルムを得た。一軸延伸後、アニール処理したこの
フィルムの100〜200℃の温度範囲の平均線膨張係
数は、延伸方向では12ppm、幅方向では27ppm
であり、フィルム幅方向の線膨張係数は銅箔の線膨張係
数の3.5倍になっていた。しかし、フィルムの平坦性
が損なわれており、以下、実施例1と同様の方法でTA
B用テープを作製したところ、TAB用テープを作製す
ることはできなかった。
Comparative Example 2 Example 1 except that the stretching ratio during uniaxial stretching was 90%.
A polyimide film used as a base film layer was obtained in the same manner as in. After uniaxial stretching, the annealed film has an average linear expansion coefficient in the temperature range of 100 to 200 ° C. of 12 ppm in the stretching direction and 27 ppm in the width direction.
The linear expansion coefficient in the film width direction was 3.5 times the linear expansion coefficient of the copper foil. However, the flatness of the film was impaired, and the same procedure as in Example 1 was repeated below.
When the B tape was produced, the TAB tape could not be produced.

【0060】実施例 3 一軸延伸の際の雰囲気温度を450℃とし、延伸倍率を
20%にした以外は実施例1と同様の方法でベースフィ
ルム層として用いるポリイミドフィルムを得た。一軸延
伸後、アニール処理したこのフィルムの100〜200
℃の温度範囲の平均線膨張係数は、延伸方向では17p
pm、幅方向では22ppmであり、フィルム幅方向の
線膨張係数は銅箔の線膨張係数の1.3倍になってい
た。以下、実施例1と同様の方法でTAB用テープを作
製し、更に銅張積層テープを作製した。得られた銅張積
層テープについて、実施例1と同様にして、その幅方向
の反り量を測定し、その結果を表2に示した。
Example 3 A polyimide film used as a base film layer was obtained in the same manner as in Example 1 except that the atmosphere temperature during uniaxial stretching was 450 ° C. and the stretching ratio was 20%. 100-200 of this film annealed after uniaxial stretching
The average linear expansion coefficient in the temperature range of ℃ is 17p in the stretching direction.
pm, 22 ppm in the width direction, and the linear expansion coefficient in the film width direction was 1.3 times the linear expansion coefficient of the copper foil. Hereinafter, a TAB tape was produced in the same manner as in Example 1, and further a copper clad laminated tape was produced. With respect to the obtained copper-clad laminated tape, the amount of warpage in the width direction was measured in the same manner as in Example 1, and the results are shown in Table 2.

【0061】[0061]

【表2】 [Table 2]

【0062】実施例 4 一軸延伸の際の雰囲気温度を450℃とし、延伸倍率を
30%にした以外は実施例1と同様の方法でベースフィ
ルム層として用いるポリイミドフィルムを得た。一軸延
伸後、アニール処理したこのフィルムの100〜200
℃の温度範囲の平均線膨張係数は、延伸方向では16p
pm、幅方向では26ppmであり、フィルム幅方向の
線膨張係数は銅箔の線膨張係数の1.5倍になってい
た。以下、実施例1と同様の方法でTAB用テープを作
製し、更に銅張積層テープを作製した。得られた銅張積
層テープについて、実施例1と同様にして、その幅方向
の反り量を測定し、その結果を表2に示した。
Example 4 A polyimide film used as a base film layer was obtained in the same manner as in Example 1 except that the atmosphere temperature during uniaxial stretching was 450 ° C. and the stretching ratio was 30%. 100-200 of this film annealed after uniaxial stretching
The average linear expansion coefficient in the temperature range of ℃ is 16p in the stretching direction.
pm, 26 ppm in the width direction, and the linear expansion coefficient in the film width direction was 1.5 times the linear expansion coefficient of the copper foil. Hereinafter, a TAB tape was produced in the same manner as in Example 1, and further a copper clad laminated tape was produced. With respect to the obtained copper-clad laminated tape, the amount of warpage in the width direction was measured in the same manner as in Example 1, and the results are shown in Table 2.

【0063】実施例 5 一軸延伸の際の雰囲気温度を450℃とし、延伸倍率を
70%にした以外は実施例1と同様の方法でベースフィ
ルム層として用いるポリイミドフィルムを得た。一軸延
伸後、アニール処理したこのフィルムの100〜200
℃の温度範囲の平均線膨張係数は、延伸方向では14p
pm、幅方向では35ppmであり、フィルム幅方向の
線膨張係数は銅箔の線膨張係数の2.1倍になってい
た。以下、実施例1と同様の方法でTAB用テープを作
製し、更に銅張積層テープを作製した。得られた銅張積
層テープについて、実施例1と同様にして、その幅方向
の反り量を測定し、その結果を表2に示した。
Example 5 A polyimide film used as a base film layer was obtained in the same manner as in Example 1 except that the atmosphere temperature during uniaxial stretching was 450 ° C. and the stretching ratio was 70%. 100-200 of this film annealed after uniaxial stretching
The average linear expansion coefficient in the temperature range of ℃ is 14p in the stretching direction.
pm, 35 ppm in the width direction, and the linear expansion coefficient in the film width direction was 2.1 times the linear expansion coefficient of the copper foil. Hereinafter, a TAB tape was produced in the same manner as in Example 1, and further a copper clad laminated tape was produced. With respect to the obtained copper-clad laminated tape, the amount of warpage in the width direction was measured in the same manner as in Example 1, and the results are shown in Table 2.

【0064】比較例 3 一軸延伸の際の雰囲気温度を450℃とし、延伸倍率を
5%にした以外は実施例1と同様の方法でベースフィル
ム層として用いるポリイミドフィルムを得た。一軸延伸
後、アニール処理したこのフィルムの100〜200℃
の温度範囲の平均線膨張係数は、延伸方向では18pp
m、幅方向では19ppmであり、フィルム幅方向の線
膨張係数は銅箔の線膨張係数の1.1倍であり、延伸に
よる線膨張係数の増加はみられなかった。以下、実施例
1と同様の方法でTAB用テープを作製し、更に銅張積
層テープを作製した。得られた銅張積層テープについ
て、実施例1と同様にして、その幅方向の反り量を測定
し、その結果を表2に示した。
Comparative Example 3 A polyimide film used as a base film layer was obtained in the same manner as in Example 1 except that the atmosphere temperature during uniaxial stretching was 450 ° C. and the stretching ratio was 5%. After uniaxial stretching, this film annealed is 100 to 200 ° C.
The average linear expansion coefficient in the temperature range is 18 pp in the stretching direction.
m was 19 ppm in the width direction, the linear expansion coefficient in the film width direction was 1.1 times the linear expansion coefficient of the copper foil, and the linear expansion coefficient was not increased by stretching. Hereinafter, a TAB tape was produced in the same manner as in Example 1, and further a copper clad laminated tape was produced. With respect to the obtained copper-clad laminated tape, the amount of warpage in the width direction was measured in the same manner as in Example 1, and the results are shown in Table 2.

【0065】比較例 4 一軸延伸の際の雰囲気温度を450℃とし、延伸倍率を
110%にした以外は実施例1と同様の方法でベースフ
ィルム層として用いるポリイミドフィルムを得た。一軸
延伸後、アニール処理したこのフィルムの100〜20
0℃の温度範囲の平均線膨張係数は、延伸方向では7p
pm、幅方向では70ppmであり、フィルム幅方向の
線膨張係数は銅箔の線膨張係数の4.1倍になってい
た。しかし、フィルムの平坦性が損なわれており、以
下、実施例1と同様の方法でTAB用テープを作製した
ところ、TAB用テープを作製することができなかっ
た。
Comparative Example 4 A polyimide film used as a base film layer was obtained in the same manner as in Example 1 except that the atmosphere temperature during uniaxial stretching was 450 ° C. and the stretching ratio was 110%. After uniaxial stretching, 100 to 20 of this annealed film
The average linear expansion coefficient in the temperature range of 0 ° C is 7p in the stretching direction.
pm, 70 ppm in the width direction, and the linear expansion coefficient in the film width direction was 4.1 times the linear expansion coefficient of the copper foil. However, the flatness of the film was impaired, and when a TAB tape was produced in the same manner as in Example 1 below, the TAB tape could not be produced.

【0066】比較例 5 PDA:DADPE:BTDA:PMDAを2:1:
2:1のモル比で重合させてなる実施例1と同様の膜厚
75μmのポリイミドフィルムを得た。得られたポリイ
ミドフィルムに400℃の雰囲気中で1分間アニール処
理を行った後、35mm幅にスリットした。この35mm幅
のポリイミドフィルムをベースフィルム層として用い、
以下、実施例1と同様の方法でTAB用テープを作製
し、更に銅張積層テープを作製した。得られた銅張積層
テープについて、実施例1と同様にして、その幅方向の
反り量を測定し、その結果を表1、2に示した。
Comparative Example 5 PDA: DADPE: BTDA: PMDA 2: 1:
A polyimide film having a film thickness of 75 μm similar to that of Example 1 obtained by polymerizing at a molar ratio of 2: 1 was obtained. The polyimide film thus obtained was annealed in an atmosphere of 400 ° C. for 1 minute and then slit into a width of 35 mm. Using this 35mm width polyimide film as the base film layer,
Hereinafter, a TAB tape was produced in the same manner as in Example 1, and further a copper clad laminated tape was produced. With respect to the obtained copper-clad laminated tape, the amount of warpage in the width direction was measured in the same manner as in Example 1, and the results are shown in Tables 1 and 2.

【0067】表1、2より、延伸温度が220℃、すな
わち、ガラス転移温度よりも低い温度範囲では延伸倍率
が40%、60%の処理条件で、また、延伸温度が45
0℃、すなわち、ガラス転移温度よりも高い温度範囲で
は延伸倍率が20%、30%、70%の処理条件で一軸
延伸することにより、反り量の小さい銅張積層テープを
作製することができることがわかる。また、延伸温度は
220℃で行うよりも450℃で行った方が、銅張積層
テープの反り量は小さくなることがわかる。特に、45
0℃の雰囲気中で30%の延伸倍率で一軸延伸したポリ
イミドフィルムを用いたもの(実施例4)は、従来の方
法で製造したもの(比較例5)と比べて、銅張積層テー
プの反り量が42%も低下しており、従来品に比べてI
C実装時の電気信頼性はかなり向上されると言える。
From Tables 1 and 2, the stretching temperature is 220 ° C., that is, in the temperature range lower than the glass transition temperature, the stretching ratio is 40% and 60%, and the stretching temperature is 45%.
In the temperature range of 0 ° C., that is, higher than the glass transition temperature, the copper-clad laminated tape having a small warp amount can be produced by uniaxially stretching under the treatment conditions of the stretching ratio of 20%, 30% and 70%. Recognize. Further, it can be seen that the warp amount of the copper-clad laminated tape is smaller when the stretching temperature is 450 ° C. than when the stretching temperature is 220 ° C. Especially 45
The one using a polyimide film uniaxially stretched at a draw ratio of 30% in an atmosphere of 0 ° C. (Example 4) is more warped than the one produced by a conventional method (Comparative Example 5). The amount is 42% lower than that of conventional products.
It can be said that the electrical reliability during C mounting is significantly improved.

【0068】なお、延伸倍率を、延伸温度が220℃で
は20%、又は延伸温度が450℃では5%にすると、
従来のように延伸しないで作製した場合との差がほとん
どなくなり、延伸倍率が小さすぎるとアニール処理後に
は延伸の効果が消失してしまうことがわかる。また、延
伸倍率が大きすぎると(220℃では90%、450℃
では110%)TAB用テープを作製することができな
くなるが、平坦性を損なわない範囲では延伸倍率が大き
い方が延伸の効果が大きいことがわかる。
When the stretching ratio is 20% at a stretching temperature of 220 ° C. or 5% at a stretching temperature of 450 ° C.,
It can be seen that there is almost no difference from the case of producing without stretching as in the conventional case, and that if the stretching ratio is too small, the effect of stretching disappears after the annealing treatment. If the draw ratio is too high (90% at 220 ° C, 450 ° C
However, it is not possible to produce a TAB tape. However, it is understood that the larger the draw ratio is, the larger the effect of drawing is, as long as the flatness is not impaired.

【0069】実施例 6 PDA:DADPE:PMDAを1:3:4のモル比で
DMF中で重合してポリアミド酸溶液を得て、該ポリア
ミド酸溶液をフィルム状に形成して化学的にイミド化さ
せ、膜厚75μmのポリイミドフィルムを得た。得られ
たポリイミドフィルムは面内の線膨張係数が等方的で、
100〜200℃の温度範囲の平均線膨張係数は長手方
向、幅方向のいずれも14ppmであり、銅箔の線膨張
係数の0.8倍であった。また、ガラス転移温度は44
0℃であった。
Example 6 PDA: DADPE: PMDA was polymerized in DMF at a molar ratio of 1: 3: 4 to obtain a polyamic acid solution, and the polyamic acid solution was formed into a film and chemically imidized. Then, a polyimide film having a film thickness of 75 μm was obtained. The obtained polyimide film has an in-plane linear expansion coefficient isotropic,
The average linear expansion coefficient in the temperature range of 100 to 200 ° C. was 14 ppm in both the longitudinal direction and the width direction, which was 0.8 times the linear expansion coefficient of the copper foil. The glass transition temperature is 44
It was 0 ° C.

【0070】このポリイミドフィルムを450℃の雰囲
気中で60%一軸延伸し、次いで400℃の雰囲気中で
1分間アニール処理を行った後、35mm幅にスリットし
た。一軸延伸後、アニール処理したこのフィルムの10
0〜200℃の温度範囲の平均線膨張係数は、延伸方向
では7ppm、幅方向では21ppmであり、フィルム
幅方向の線膨張係数は銅箔の線膨張係数の1.2倍にな
っていた。この35mm幅のポリイミドフィルムをベース
フィルム層として用い、以下、実施例1と同様の方法で
TAB用テープを作製し、更に銅張積層テープを作製し
た。得られた銅張積層テープについて、実施例1と同様
にして、その幅方向の反り量を測定し、その結果を表3
に示した。
This polyimide film was uniaxially stretched by 60% in an atmosphere of 450 ° C., annealed in an atmosphere of 400 ° C. for 1 minute, and then slit into a width of 35 mm. After uniaxial stretching, 10 of this film annealed
The average linear expansion coefficient in the temperature range of 0 to 200 ° C. was 7 ppm in the stretching direction and 21 ppm in the width direction, and the linear expansion coefficient in the film width direction was 1.2 times the linear expansion coefficient of the copper foil. Using this 35 mm wide polyimide film as a base film layer, a TAB tape was prepared in the same manner as in Example 1 and a copper clad laminated tape was prepared. With respect to the obtained copper-clad laminated tape, the amount of warpage in the width direction was measured in the same manner as in Example 1, and the results are shown in Table 3.
It was shown to.

【0071】[0071]

【表3】 [Table 3]

【0072】比較例 6 PDA:DADPE:PMDAを1:3:4のモル比で
重合させてなる実施例5と同様の膜厚75μmのポリイ
ミドフィルムを得た。得られたポリイミドフィルムに4
00℃の雰囲気中で1分間アニール処理を行った後、3
5mm幅にスリットした。この35mm幅のポリイミドフィ
ルムをベースフィルム層として用い、以下、実施例1と
同様の方法でTAB用テープを作製し、更に銅張積層テ
ープを作製した。得られた銅張積層テープについて、実
施例1と同様にして、その幅方向の反り量を測定し、そ
の結果を表3に示した。
Comparative Example 6 A polyimide film having a film thickness of 75 μm was obtained in the same manner as in Example 5 by polymerizing PDA: DADPE: PMDA in a molar ratio of 1: 3: 4. 4 on the obtained polyimide film
After annealing for 1 minute in the atmosphere of 00 ° C, 3
Slit to a width of 5 mm. Using this 35 mm wide polyimide film as a base film layer, a TAB tape was prepared in the same manner as in Example 1 and a copper clad laminated tape was prepared. With respect to the obtained copper-clad laminated tape, the amount of warpage in the width direction was measured in the same manner as in Example 1, and the results are shown in Table 3.

【0073】表1、2、3より、延伸温度が高く、フィ
ルムの平坦性を損なわない範囲で延伸倍率が大きいほど
延伸による効果が大きくなり、銅張積層テープの反り量
が小さくなるが、その効果の程度はポリイミドフィルム
の組成により異なることがわかる。
From Tables 1, 2 and 3, the higher the stretching temperature and the larger the stretching ratio within the range where the flatness of the film is not impaired, the greater the effect of stretching and the smaller the warp amount of the copper clad laminated tape. It can be seen that the degree of effect depends on the composition of the polyimide film.

【0074】[0074]

【発明の効果】本発明のTAB用テープの製造方法は、
フィルムの長手方向に一軸延伸したポリイミドフィルム
をベースフィルム層として用いることを特徴とするもの
であり、かかる製造方法によってベースフィルム層の長
手方向に対する幅方向の線膨張係数が、回路を形成する
導体層(例えば、銅箔)の線膨張係数の1.2倍以上で
あるTAB用テープを製造することができる。このよう
にフィルムの幅方向にのみ線膨張係数が大きいポリイミ
ドフィルムは、フィルムの長手方向の弾性率が維持され
コシのあるフィルムとなり、ベースフィルム層として好
適に用いることができる。
The method of manufacturing the TAB tape of the present invention comprises:
It is characterized by using a polyimide film uniaxially stretched in the longitudinal direction of the film as a base film layer, the linear expansion coefficient in the width direction with respect to the longitudinal direction of the base film layer by such a manufacturing method, a conductor layer forming a circuit. A TAB tape having a coefficient of linear expansion of 1.2 times or more (for example, copper foil) can be manufactured. As described above, the polyimide film having a large linear expansion coefficient only in the width direction of the film becomes a elastic film that maintains the elastic modulus in the longitudinal direction of the film and can be suitably used as a base film layer.

【0075】また、かかるTAB用テープに銅箔等を貼
り合わせた場合、ベースフィルム層は接着剤硬化直後に
は加熱により収縮しているが、時間とともに吸湿により
膨張することとなる。その結果、実質的にはベースフィ
ルム層と銅箔との寸法変化率が同程度となり、銅張積層
テープの幅方向の反り量を小さくすることができる。そ
れにより、主として銅張積層テープの幅方向の反りによ
り生じるIC実装時における電気的な接続部の歪みが無
くなり、IC実装時における電気信頼性を向上させるこ
とができる。
When a copper foil or the like is attached to the TAB tape, the base film layer shrinks due to heating immediately after the adhesive is hardened, but expands due to moisture absorption over time. As a result, the dimensional change rates of the base film layer and the copper foil are substantially the same, and the amount of warpage in the width direction of the copper-clad laminated tape can be reduced. This eliminates the distortion of the electrical connection portion during IC mounting, which is mainly caused by the warpage of the copper-clad laminated tape in the width direction, and improves the electrical reliability during IC mounting.

【0076】すなわち、本発明の製造方法により、テー
プの幅方向の反り量を小さくすることのできる銅張積層
テープを作製することができ、電気信頼性の向上したI
Cの実装技術を提供できる。
That is, according to the manufacturing method of the present invention, it is possible to manufacture a copper-clad laminated tape in which the amount of warp in the width direction of the tape can be reduced, and the electrical reliability is improved.
C mounting technology can be provided.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】本発明に係るTAB用テープの製造方法の一例
を示した拡大斜視説明図である。
FIG. 1 is an enlarged perspective explanatory view showing an example of a method for manufacturing a TAB tape according to the present invention.

【図2】上記TAB用テープを用いて銅張積層テープを
作製する一過程を示した拡大斜視説明図である。
FIG. 2 is an enlarged perspective explanatory view showing one process of producing a copper-clad laminated tape using the TAB tape.

【図3】本発明においてポリイミドフィルムを一軸延伸
する一例を示した拡大斜視説明図である。
FIG. 3 is an enlarged perspective explanatory view showing an example of uniaxially stretching a polyimide film in the present invention.

【図4】本発明において一軸延伸をしたポリイミドフィ
ルムを切断してベースフィルム層を作製する1例を示し
た拡大斜視説明図である。
FIG. 4 is an enlarged perspective explanatory view showing an example of producing a base film layer by cutting a uniaxially stretched polyimide film in the present invention.

【図5】銅張積層テープの反りの状態を示した拡大斜視
説明図である。
FIG. 5 is an enlarged perspective explanatory view showing a warped state of the copper-clad laminated tape.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

10; TAB用テープ 12; ベースフィルム層(ポリイミドフィルム) 14; 接着剤層 16; 保護層 18; 導体層(銅箔) 20; 銅張積層テープ 22、24; ポリイミドフィルム 10; TAB tape 12; base film layer (polyimide film) 14; adhesive layer 16; protective layer 18; conductor layer (copper foil) 20; copper-clad laminated tape 22, 24; polyimide film

フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 FI 技術表示箇所 // B29K 77:00 B29L 9:00 Continuation of front page (51) Int.Cl. 6 Identification number Office reference number FI technical display location // B29K 77:00 B29L 9:00

Claims (7)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 ベースフィルム層と接着剤層と保護層か
らなるTAB用テープを製造する方法において、該ベー
スフィルム層は、樹脂フィルムを一軸方向に延伸させた
後、該延伸方向を長手方向に加工したものであることを
特徴とするTAB用テープの製造方法。
1. A method for producing a TAB tape comprising a base film layer, an adhesive layer and a protective layer, wherein the base film layer is obtained by stretching a resin film in a uniaxial direction and then stretching the resin film in a longitudinal direction. A method for producing a TAB tape, which is processed.
【請求項2】 前記ベースフィルム層は、樹脂フィルム
を加熱下で一軸方向に延伸させたものであることを特徴
とする請求項1に記載するTAB用テープの製造方法。
2. The method of manufacturing a TAB tape according to claim 1, wherein the base film layer is a resin film stretched uniaxially under heating.
【請求項3】 前記ベースフィルム層は、樹脂フィルム
を一軸方向に延伸させた後、アニール処理を施したもの
であることを特徴とする請求項1又は請求項2に記載す
るTAB用テープの製造方法。
3. The production of a TAB tape according to claim 1, wherein the base film layer is formed by uniaxially stretching a resin film and then subjecting it to an annealing treatment. Method.
【請求項4】 前記樹脂フィルムを一軸方向に延伸させ
る処理条件が、該樹脂フィルムのガラス転移温度よりも
充分に高い温度範囲では、延伸倍率が10〜100%、
好ましくは20〜70%であることを特徴とする請求項
2に記載するTAB用テープの製造方法。
4. The stretching ratio is 10 to 100% when the treatment condition for stretching the resin film in a uniaxial direction is a temperature range sufficiently higher than the glass transition temperature of the resin film.
It is preferably 20 to 70%, and the method for producing a TAB tape according to claim 2.
【請求項5】 前記樹脂フィルムを一軸方向に延伸させ
る処理条件が、該樹脂フィルムのガラス転移温度に近い
温度範囲又は該ガラス転移温度より低い温度範囲では、
延伸倍率が30〜80%、好ましくは40〜60%であ
ることを特徴とする請求項2に記載するTAB用テープ
の製造方法。
5. The treatment condition for uniaxially stretching the resin film is within a temperature range close to or lower than the glass transition temperature of the resin film,
The method for producing a TAB tape according to claim 2, wherein the draw ratio is 30 to 80%, preferably 40 to 60%.
【請求項6】 前記樹脂フィルムの長手方向に対する幅
方向の線膨張係数が、TABテープの回路を形成する導
体層の線膨張係数の1.2倍以上になるように該樹脂フ
ィルムを処理することを特徴とする請求項1乃至請求項
5のいずれかに記載するTAB用テープの製造方法。
6. The resin film is processed so that the linear expansion coefficient in the width direction with respect to the longitudinal direction of the resin film is 1.2 times or more the linear expansion coefficient of the conductor layer forming the circuit of the TAB tape. A method for manufacturing a TAB tape according to any one of claims 1 to 5.
【請求項7】 前記樹脂フィルムがポリイミドフィルム
であることを特徴とする請求項1乃至請求項6のいずれ
かに記載するTAB用テープの製造方法。
7. The method of manufacturing a TAB tape according to claim 1, wherein the resin film is a polyimide film.
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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2002017379A1 (en) * 2000-08-25 2002-02-28 Toray Industries, Inc. Semiconductor joining substrate-use tape with adhesive and copper-clad laminate sheet using it
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