JP2004124091A - Polyimide film, its manufacturing method and its use - Google Patents

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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a polyimide film which prevents warping or curling from occurring in the processing course into a TAB (Tape Automated Bonding) tape or a flexible printed wiring board. <P>SOLUTION: The polyimide film according to this invention, which comprises 3,3',4,4'-benzophenone tetracarboxylic acid dianhydride, first fulfills all of that the mean coefficient of linear expansion at 100°C-200°C is ≥18 ppm/°C and ≤28 ppm/°C, that the modulus of elasticity is not less than 4.5 GPa, and that the coefficient of expansion caused by moisture absorption is not more than 13 ppm. The polyimide film which prevents warping or curling from occurring can be realized by fulfilling all of these three physical properties. <P>COPYRIGHT: (C)2004,JPO

Description

 本発明は、様々な電子機器の軽量、小型化に伴い、絶縁材料として多用されるようになってきたポリイミドフィルムと、このポリイミドフィルムの製造方法並びにその利用の代表的な一例とに関するものであり、特に、フレキシブルプリント配線板(Flexible printed wiring board)やTAB(Tape Automated Bonding)テープに加工されるベースフィルムとして用いられるポリイミドフィルムと、その製造方法・利用一例とに関するものである。 The present invention relates to a polyimide film that has come to be frequently used as an insulating material with the weight reduction and miniaturization of various electronic devices, and a method for producing the polyimide film and a typical example of its use. In particular, the present invention relates to a polyimide film used as a base film processed into a flexible printed wiring board (TAB) or a tape automated bonding (TAB) tape, and an example of a method of manufacturing and using the polyimide film.

 従来、フレキシブルプリント配線板(FPCと略記する)は、そのフレキシビリティを活かし、主にカメラ内部の狭いスペースに折り畳まれて用いられてきた。しかしながら、近年では、FPCは、フレキシブルディスクドライブ(FDD)、ハードディスクドライブ(HDD)、コピー機、プリンタなどの駆動部にも幅広く用いられているため、FPCの摺動屈曲特性を更に向上させることが要求されている。 Conventionally, flexible printed wiring boards (abbreviated as FPC) have been used mainly by being folded into a narrow space inside a camera, taking advantage of its flexibility. However, in recent years, since FPCs are widely used in driving units of flexible disk drives (FDD), hard disk drives (HDD), copiers, printers, etc., it is possible to further improve the sliding and bending characteristics of FPCs. Is required.

 FPCは樹脂フィルムをベースとしており、この樹脂フィルムはベースフィルムとも称する。このベースフィルムとしては、摺動性および屈曲性を向上させる目的であれば、化学構造的に屈曲性の高いポリイミドからなるポリイミドフィルムを用いればよい。 FPC is based on a resin film, and this resin film is also called a base film. For the purpose of improving the slidability and flexibility, a polyimide film made of polyimide having high flexibility in chemical structure may be used as the base film.

 ここで、上記ポリイミドフィルムとしては、様々な物性を有するものが開発されているが、特に、テープオートメーテッドボンディング方式(TAB方式と略記する)によるFPCの加工工程では、ベースフィルムとして用いられるポリイミドフィルムは、次に示す3つの物性を備えることが要求される。 Here, as the above-mentioned polyimide film, those having various physical properties have been developed. In particular, a polyimide film used as a base film in an FPC processing step by a tape automated bonding method (abbreviated as a TAB method). Is required to have the following three physical properties.

 (1)適度な熱膨張性
 一般に屈曲性の高いポリイミドは熱膨張性が高い、すなわち線膨張係数が大きいため、ポリイミドフィルムをベースフィルムとして用いたFPCは反りやカールを生じやすいという欠点を有している。また、逆に線膨張係数が小さいポリイミドを選択して樹脂フィルムを形成し、これをベースフィルムとして用いた場合は、フィルム自体の可撓性が失われるため、ベースフィルムが非常に脆弱となり、得られるFPCの屈曲性までも低下してしまうという欠点が生じる。
(1) Moderate thermal expansion property Generally, polyimide having high flexibility has a high thermal expansion property, that is, a linear expansion coefficient is large, so that FPC using a polyimide film as a base film has a drawback that warpage or curling easily occurs. ing. Conversely, when a resin film is formed by selecting a polyimide having a small coefficient of linear expansion and using this as a base film, since the flexibility of the film itself is lost, the base film becomes very fragile, and However, there is a disadvantage that the flexibility of the obtained FPC is reduced.

 ところで、近年、半導体デバイスの多ピン化、小型化、高密度実装に対応できる技術として上記TAB方式が注目されている。TAB方式では、長尺の樹脂フィルムにLSI等の半導体チップを載置するための孔(デバイスホール)を設け、その上に非常に薄い銅箔リードを形成し、この銅箔リードを介してLSI等とプリント配線板などを接続する。このようなTAB方式においては、一般に保護層、接着剤層、及び有機絶縁フィルム層(ベースフィルム層)の3層構造からなるフィルムキャリアテープ(FCテープと略記する)が用いられている。 By the way, in recent years, the above-mentioned TAB method has attracted attention as a technology capable of responding to increase in the number of pins, miniaturization, and high-density mounting of semiconductor devices. In the TAB method, a hole (device hole) for mounting a semiconductor chip such as an LSI is provided in a long resin film, a very thin copper foil lead is formed thereon, and the LSI is inserted through the copper foil lead. Etc. and a printed wiring board. In such a TAB method, a film carrier tape (abbreviated as FC tape) having a three-layer structure of a protective layer, an adhesive layer, and an organic insulating film layer (base film layer) is generally used.

 上記FCテープを加工してTAB方式に用いるTABテープとするが、その加工工程は、一般に、次の8工程からなる。すなわち、1)FCテープにパンチングによりテープ搬送用のスプロケットホールと、半導体チップを載置するためのデバイスホールとを形成する工程、2)保護層を除去し銅箔をラミネートした後、接着剤を硬化する工程(銅箔ラミネーティング工程)、3)レジスト塗布して銅箔をエッチングしレジスト剥離することにより、銅箔を所定のパターン(配置パターン)に形成する工程(配置パターン形成工程)、4)メッキ処理工程、5)インナーリードボンディング工程、6)樹脂封止工程、7)パンチング工程、および8)アウターリードボンディング工程の各工程である。このような加工工程を経て、TABテープにLSI等が実装される。なお、上記2)の工程を経た後に得られる積層体をフレキシブル銅張積層板(FCCLと略記する)と称する。 FC The above FC tape is processed into a TAB tape to be used in the TAB method. The processing step generally includes the following eight steps. That is, 1) a step of forming a sprocket hole for transporting the tape by punching an FC tape and a device hole for mounting a semiconductor chip, 2) removing a protective layer and laminating a copper foil, and then applying an adhesive. Curing step (copper foil laminating step), 3) forming a copper foil into a predetermined pattern (arranged pattern) by applying a resist, etching the copper foil and stripping the resist (arranged pattern forming step), 4 ) Plating step, 5) inner lead bonding step, 6) resin sealing step, 7) punching step, and 8) outer lead bonding step. Through such processing steps, an LSI or the like is mounted on the TAB tape. The laminate obtained after the step 2) is referred to as a flexible copper-clad laminate (abbreviated as FCCL).

 上記加工工程においては、FCCL又はTABテープの反りやカールが生じる場合があるが、このような反りやカールは、TABテープにLSI等を実装する際の実装不良を起こす最も大きな原因の一つとなる。すなわち、このような反りやカールは、寸法精度を要求されるような工程で様々な不良を引き起こす。具体的には、例えば、3)配置パターン形成工程では、銅箔を配置パターンに形成する際の形成不良を引き起こし、5)インナーリードボンディング工程または6)アウターリードボンディング工程では、半導体チップの接合不良などを引き起こす。また、実際の工程はリールトゥリール(reel-to-reel)で行われるので、TABテープの長手方向には張力がかかる。そのため、テープ長手方向の反りやカールは矯正することができるが、テープ幅方向の反りやカールを矯正することはできない。 In the above-described processing step, warping or curling of the FCCL or TAB tape may occur. Such warping or curling is one of the biggest causes of mounting failure when mounting an LSI or the like on the TAB tape. . That is, such warpage or curl causes various defects in a process requiring dimensional accuracy. Specifically, for example, in the 3) arrangement pattern forming step, a formation failure occurs when forming the copper foil in the arrangement pattern, and in the 5) inner lead bonding step or 6) the outer lead bonding step, And so on. Further, since the actual process is performed on a reel-to-reel basis, tension is applied in the longitudinal direction of the TAB tape. Therefore, the warp and the curl in the tape longitudinal direction can be corrected, but the warp and the curl in the tape width direction cannot be corrected.

 このように、TABテープやFPCに用いられるポリイミドフィルムでは、適度な熱膨張性を有していることが好ましいと言え、その線膨張係数は、反りやカールが生じる程大きくなく、また、可撓性が失われる程小さくない範囲内あることが必要である。このような線膨張係数の範囲としては、具体的には、18ppm/℃以上、28ppm/℃以下であることが望ましい。 Thus, it can be said that a polyimide film used for a TAB tape or an FPC preferably has an appropriate thermal expansion property, and its linear expansion coefficient is not so large as to cause warpage or curl. It must be within a range that is not small enough to lose its properties. Specifically, the range of such a linear expansion coefficient is desirably 18 ppm / ° C. or more and 28 ppm / ° C. or less.

 (2)小さい吸水・吸湿性
 ベースフィルムの吸水率が大きい場合、上記2)銅箔ラミネーティング工程の後、ベースフィルムと銅箔とにはさまれた接着剤層に内部応力が蓄積されるという問題が生じる。この内部応力は次のように蓄積される。すなわち、2)銅箔ラミネーティング工程で、接着剤の硬化反応が終了して硬化用加熱炉から取り出された直後はベースフィルムが乾燥しているため、ベースフィルムは、歪なく銅箔と固定されている。ここで、銅箔をラミネートした状態で放置すると、ベースフィルムは時間と共に吸湿膨張する。これに対して、銅箔は吸湿膨張せず、また、フィルムと比較して、剛性が高くフィルムの膨張が原因で寸法変化を起こすこともほとんどない。そのため、ベースフィルムと銅箔とに挟まれた接着剤層に内部応力が蓄積される。
(2) Small water absorption / hygroscopicity If the water absorption of the base film is high, internal stress is accumulated in the adhesive layer sandwiched between the base film and the copper foil after the above 2) copper foil laminating step. Problems arise. This internal stress is accumulated as follows. That is, 2) In the copper foil laminating step, the base film is dried immediately after the curing reaction of the adhesive is completed and the base film is dried immediately after being taken out of the curing heating furnace, so that the base film is fixed to the copper foil without distortion. ing. Here, when the copper foil is left in a laminated state, the base film expands and absorbs moisture with time. On the other hand, the copper foil does not undergo moisture expansion and expansion, and has high rigidity as compared with the film and hardly undergoes dimensional change due to expansion of the film. Therefore, internal stress is accumulated in the adhesive layer sandwiched between the base film and the copper foil.

 したがって、この状態で3)配置パターン形成工程を行うと、乾燥および吸湿が繰り返されることになるので、エッチングにより銅箔上に配線パターンを形成すると、銅箔が除去された部分の応力が開放されて寸法変化が生じる。それゆえ、配線パターン形成のためにフォトマスクを用いても、このフォトマスク寸法よりも大きなパターンが形成されたり、そりやカールが生じたりする。その結果、半導体デバイスとの接続不良が発生する。このような寸法変化はTAB加工工程における歩留まり低下の原因となっている。 Therefore, in this state, if a 3) arrangement pattern forming step is performed, drying and moisture absorption are repeated, so that when a wiring pattern is formed on the copper foil by etching, the stress in the portion where the copper foil is removed is released. Dimensional change occurs. Therefore, even if a photomask is used to form a wiring pattern, a pattern larger than this photomask dimension may be formed, or warpage or curling may occur. As a result, a connection failure with the semiconductor device occurs. Such a dimensional change causes a decrease in yield in the TAB processing step.

 このように、ベースフィルムに対しては、低い吸水・吸湿性が要求される。したがって、TABテープやFPCへの加工において、上記の反りやカールような不都合を生じさせないためには、適度な範囲内の線膨張係数と小さい吸湿膨張係数を有するベースフィルムが必要となる。 低 い Thus, low water absorption and low moisture absorption are required for the base film. Therefore, in processing into a TAB tape or FPC, a base film having a linear expansion coefficient within a proper range and a small hygroscopic expansion coefficient is required in order to prevent the above-mentioned inconvenience such as warpage and curling.

 (3)大きい弾性率
 さらに、ベースフィルムの弾性率が小さい、すなわち腰が弱いと、ベースフィルムが寸法変化を起こす場合もある。これは、リールトゥリールの製造工程では、長手方向に張力がかかるためである。この寸法変化は、加工工程に悪影響を及ぼしたり、反りやカールの原因となったりする。それゆえ、例えば、TABテープに用いられるポリイミドフィルムは、弾性率の大きなものである必要がある。
(3) Large elastic modulus Further, when the elastic modulus of the base film is small, that is, when the stiffness is weak, the base film may cause a dimensional change. This is because tension is applied in the longitudinal direction in the reel-to-reel manufacturing process. This dimensional change has an adverse effect on the processing step and causes warpage and curling. Therefore, for example, a polyimide film used for a TAB tape needs to have a large elastic modulus.

 しかしながら、ベースフィルムの弾性率を大きくすると、線膨張係数が小さくなるという問題が生じる。これは、弾性率および線膨張係数はポリイミドの一次化学構造(繰り返し単位の構造)に大きく依存するためである。すなわち、一般に弾性率が大きくなるようなポリイミドの一次化学構造を選択した場合、線膨張係数が小さくなってしまい、ポリイミドフィルムの可撓性が失われ屈曲性が低下する。 However, increasing the elastic modulus of the base film causes a problem that the coefficient of linear expansion decreases. This is because the elastic modulus and the coefficient of linear expansion greatly depend on the primary chemical structure (structure of repeating units) of the polyimide. That is, when a primary chemical structure of a polyimide that generally has a large elastic modulus is selected, the coefficient of linear expansion is reduced, and the flexibility of the polyimide film is lost, and the flexibility is reduced.

 上述したように、FPCをTAB方式により加工する工程では、反りやカールを発生しないためには、(1)熱膨張性と(2)吸水・吸湿性と(3)弾性率という3つの物性の調和がとれたポリイミドフィルムが求められる。 As described above, in the process of processing the FPC by the TAB method, three physical properties of (1) thermal expansion property, (2) water absorption / humidity property, and (3) elastic modulus are required to prevent warpage and curling. A harmonized polyimide film is required.

 ここで、特許文献1には、酸成分として3,3’,4,4’−ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物を用いて得られるポリイミドからなるポリイミドフィルムが開示されている、このポリイミドフィルムでは、「低めの吸水性、低めの吸湿膨張係数、高めの弾性率」および「低い熱膨張係数」を有している(例えば、同文献の段落番号〔0059〕参照)ことが報告されている。この公報で報告されているポリイミドフィルムは、酸成分としてピロメリット酸二無水物、または3,3’,4,4’−ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物を用い、ジアミン成分としてp−フェニレンジアミン、4,4’−オキシジアニリンを用い、これら酸成分およびジアミン成分を共重合させたポリイミドを用いて形成されている。 Here, Patent Document 1 discloses a polyimide film made of a polyimide obtained by using 3,3 ′, 4,4′-benzophenonetetracarboxylic dianhydride as an acid component. In this polyimide film, It is reported to have "lower water absorption, lower moisture expansion coefficient, higher elastic modulus" and "low thermal expansion coefficient" (for example, see paragraph [0059] of the same document). The polyimide film reported in this publication uses pyromellitic dianhydride or 3,3 ′, 4,4′-benzophenonetetracarboxylic dianhydride as an acid component, and p-phenylenediamine as a diamine component. It is formed using polyimide obtained by using 4,4′-oxydianiline and copolymerizing these acid component and diamine component.

 また、特許文献2には、「剛構造の芳香族ジアミン化合物と芳香族テトラカルボン酸類化合物とからなるポリイミドのブロック成分と、柔構造の芳香族ジアミン化合物と少なくとも2種の芳香族テトラカルボン酸類化合物とからなる共重合ポリイミドのランダム成分とが、分子結合してなる共重合ポリイミド」が開示されており、酸成分として3,3’,4,4’−ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物を用いる例が開示されている(同文献の実施例11参照)。
特開平9−328544(公開日:1997年12月22日) 特開平9−235373(公開日:1997年9月9日)
Further, Patent Document 2 discloses “a block component of a polyimide comprising a rigid aromatic diamine compound and an aromatic tetracarboxylic acid compound, a flexible aromatic diamine compound and at least two kinds of aromatic tetracarboxylic acid compounds. And a random component of a copolymerized polyimide comprising: a copolymerized polyimide having a molecular bond, wherein 3,3 ′, 4,4′-benzophenonetetracarboxylic dianhydride is used as an acid component. Is disclosed (see Example 11 of the document).
JP-A-9-328544 (release date: December 22, 1997) JP-A-9-235373 (Published date: September 9, 1997)

 しかしながら、上記特許文献1で報告されているポリイミドフィルムは、実際には、(1)熱膨張性と(3)弾性率との調和はとれていても、(2)吸水・吸湿性が悪いという問題を生じている。具体的には、上記公報の実施例に記載されている吸水率は2.62〜3.69%の範囲内であり、吸湿膨張係数は、16.8〜29.8ppmの範囲内と非常に大きくなっている。 However, the polyimide film reported in Patent Literature 1 actually has (2) poor water-absorbing and moisture-absorbing properties even though (1) the thermal expansion property and (3) the elastic modulus are balanced. Has a problem. Specifically, the water absorption described in the examples of the above publication is in the range of 2.62 to 3.69%, and the coefficient of hygroscopic expansion is in the range of 16.8 to 29.8 ppm. It is getting bigger.

 また、上記特許文献2においては、得られる「樹脂成形体は、高い弾性率、低い熱膨張性、低い吸収性を併せ持つ」としている。確かに、3,3’,4,4’−ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物を用いた実施例11では、弾性率が4.3GPa(440kg/mm2)、線膨張係数が16.7ppm/℃、吸水率が2.4%となっており、確かに(1)〜(3)の各物性は向上しているものの、上記TAB方式によるFPCの製造に用いるには、後述する比較例8に示すように未だ十分とはいえない。 Patent Document 2 states that the obtained resin molded article has high elastic modulus, low thermal expansion, and low absorbency. Certainly, in Example 11 using 3,3 ′, 4,4′-benzophenonetetracarboxylic dianhydride, the elastic modulus was 4.3 GPa (440 kg / mm 2 ) and the coefficient of linear expansion was 16.7 ppm / ° C. Although the water absorption is 2.4%, and although the physical properties of (1) to (3) are certainly improved, in order to use it for the production of the FPC by the above-mentioned TAB method, the following Comparative Example 8 is used. As shown, it is still not enough.

 このように、ポリイミドの酸成分として3,3’,4,4’−ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物を用いて得られるポリイミドフィルムにおいては、従来では、特にTAB方式によるFPC(TABテープ等)に用いる場合、熱による膨張、吸水・吸湿性、弾性率という諸物性を同時に実現できることが好ましいことは知られていた。しかしながら、上記諸物性を評価する場合、(1)線膨張係数、(2)吸湿膨張係数、および(3)弾性率というより具体的なパラメータを用い、これらパラメータがすべて好ましい範囲の値とすることについては知られておらず、さらには、これら(1)〜(3)のパラメータの数値を全て好ましい範囲の値とするように調整することは非常に困難となっている。 As described above, in the polyimide film obtained by using 3,3 ′, 4,4′-benzophenonetetracarboxylic dianhydride as the acid component of the polyimide, the FPC (TAB tape or the like) by the TAB method has conventionally been used. It has been known that, when used, it is preferable to simultaneously realize various physical properties such as expansion by heat, water absorption / hygroscopicity, and elastic modulus. However, when evaluating the above physical properties, more specific parameters such as (1) a coefficient of linear expansion, (2) a coefficient of hygroscopic expansion, and (3) an elastic modulus are used, and these parameters are all set to values in a preferable range. Is not known, and it is very difficult to adjust all the numerical values of the parameters (1) to (3) so as to be within a preferable range.

 本発明は、上記の問題点に鑑みてなされたものであって、その目的は、特に、TABテープやFPCに用いるベースフィルムとして、3,3’,4,4’−ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物を用いて得られるポリイミドフィルムを用いる場合に、(1)熱膨張性、(2)吸水・吸湿性、および(3)弾性率の調和が十分にとれており、反りやカールの発生をより有効に回避することが可能なポリイミドフィルムと、その製造方法並びにその利用の代表的な一例とを提供することにある。 The present invention has been made in view of the above problems, and has as its object to provide 3,3 ′, 4,4′-benzophenonetetracarboxylic dianhydride, particularly as a base film used for TAB tape or FPC. When a polyimide film obtained by using a product is used, (1) thermal expansion property, (2) water absorption / hygroscopicity, and (3) elastic modulus are sufficiently harmonized, and the occurrence of warpage and curling can be reduced. An object of the present invention is to provide a polyimide film that can be effectively avoided, a method for producing the same, and a typical example of its use.

 そこで、本発明者は、上記問題点に鑑み鋭意検討した結果、特に、(2)吸水・吸湿性を評価するために吸湿膨張係数を用いることで、(1)熱膨張性、(2)吸水・吸湿性、および(3)弾性率という各物性の調和を十分にとることが可能になり、その結果、反りやカールの発生をより有効に回避することが可能なポリイミドフィルムを製造できることを見出し、本発明を完成するに至った。これら(1)〜(3)の各物性の調和のとれたポリイミドフィルムは、代表的な一例としてTABテープに用いられるが、もちろん多様な用途に応用されるFPCにも好適に用いることができるものである。 In view of the above problems, the present inventor has conducted intensive studies. In particular, (2) using the coefficient of hygroscopic expansion to evaluate water absorption and hygroscopicity, (1) thermal expansion, (2) water absorption -It has been found that it is possible to obtain a polyimide film that can sufficiently balance the various physical properties such as hygroscopicity and (3) elastic modulus, and as a result, can more effectively avoid the occurrence of warpage and curling. Thus, the present invention has been completed. A polyimide film in which the physical properties of (1) to (3) are harmonized is used for a TAB tape as a typical example, but it can of course be suitably used for an FPC applied to various uses. It is.

 すなわち、本発明にかかるポリイミドフィルムは、上記の問題を解決するために、主として芳香族ジアミンと芳香族テトラカルボン酸二無水物とから合成されるポリアミド酸を用いて得られるポリイミドフィルムであって、100〜200℃における平均線膨張係数が18〜28ppm、弾性率が4.5GPa以上、吸湿膨張係数が13ppm以下であり、芳香族テトラカルボン酸二無水物として、3,3’,4,4’−ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物を必須成分として用いてなる構成である。 That is, the polyimide film according to the present invention is a polyimide film obtained by using a polyamic acid synthesized mainly from an aromatic diamine and an aromatic tetracarboxylic dianhydride to solve the above problems, It has an average linear expansion coefficient at 100 to 200 ° C of 18 to 28 ppm, an elastic modulus of 4.5 GPa or more, a moisture absorption expansion coefficient of 13 ppm or less, and 3,3 ′, 4,4 ′ as an aromatic tetracarboxylic dianhydride. -Benzophenone tetracarboxylic dianhydride is used as an essential component.

 本発明にかかるポリイミドフィルムにおいては、全芳香族テトラカルボン酸二無水物成分を100mol%としたときに、3,3’,4,4’−ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物を、20〜60mol%の範囲内となるように用いることが好ましい。 In the polyimide film according to the present invention, when the wholly aromatic tetracarboxylic dianhydride component is 100 mol%, 3,3 ′, 4,4′-benzophenone tetracarboxylic dianhydride is 20 to 60 mol%. It is preferable to use it so that it may fall within the range.

 また、本発明にかかるポリイミドフィルムにおいて用いる酸成分としては、次に示す化合物を用いることが好ましい。すなわち、(I)上記芳香族テトラカルボン酸二無水物成分として、芳香族エステル酸二無水物が用いられることが好ましい。また、(II)上記全芳香族テトラカルボン酸二無水物成分を100mol%としたときに、上記芳香族エステル酸二無水物を、10〜60mol%の範囲内となるように用いることが好ましい。さらに、(III)上記芳香族エステル酸二無水物として、p−フェニレンビス(トリメリット酸モノエステル無水物)が用いられることが好ましい。 Further, as the acid component used in the polyimide film according to the present invention, the following compounds are preferably used. That is, it is preferable to use an aromatic ester acid dianhydride as (I) the aromatic tetracarboxylic dianhydride component. Further, it is preferable to use the aromatic ester dianhydride in the range of 10 to 60 mol% when (II) the wholly aromatic tetracarboxylic dianhydride component is 100 mol%. Further, (III) p-phenylenebis (trimellitic acid monoester anhydride) is preferably used as the aromatic ester dianhydride.

 本発明にかかるポリイミドフィルムにおいて用いるジアミン成分としては、直線性ジアミンと、屈曲性ジアミンとを、それぞれ少なくとも1種類用いることが好ましい。このとき、全芳香族ジアミン成分を100mol%としたときに、上記直線性ジアミンおよび屈曲性ジアミンを、それぞれ、20〜80mol%の範囲内および80〜20mol%の範囲内で用いることが好ましい。(II)上記直線性ジアミンとして、p−フェニレンジアミンが用いられることが好ましい。(III)さらに、上記屈曲性ジアミンとして、4,4’−オキシジアニリンが用いられることが好ましい。 ジ ア ミ ン As the diamine component used in the polyimide film according to the present invention, it is preferable to use at least one of a linear diamine and a flexible diamine. At this time, when the total aromatic diamine component is 100 mol%, it is preferable to use the linear diamine and the flexible diamine in the range of 20 to 80 mol% and in the range of 80 to 20 mol%, respectively. (II) As the linear diamine, p-phenylenediamine is preferably used. (III) Further, it is preferable to use 4,4'-oxydianiline as the flexible diamine.

 本発明にかかるポリイミドフィルムにおいては、上記直線性ジアミンおよび屈曲性ジアミンは、ポリイミド分子中で、ランダムに分布していることが好ましい。 に お い て In the polyimide film according to the present invention, it is preferable that the linear diamine and the flexible diamine are randomly distributed in the polyimide molecule.

 本発明にかかるポリイミドフィルムの製造方法は、少なくとも、a)有機溶媒中で芳香族ジアミンと芳香族テトラカルボン酸二無水物とを反応させてポリアミド酸溶液を得る工程、b)上記ポリアミド酸溶液を含む製膜ドープを支持体上に流延する工程、c)上記製膜ドープを支持体上で加熱した後、支持体からゲルフィルムを引き剥がす工程、d)更にゲルフィルムを加熱して、残存するアミド酸をイミド化し、乾燥させる工程、を含み、上記ポリイミドフィルムを製造する構成である。 The method for producing a polyimide film according to the present invention comprises at least a) a step of reacting an aromatic diamine and an aromatic tetracarboxylic dianhydride in an organic solvent to obtain a polyamic acid solution; Casting the film-forming dope on the support, c) heating the film-forming dope on the support, and then peeling off the gel film from the support; and d) further heating the gel film to remain. And imidizing the amic acid, followed by drying, to produce the polyimide film.

 本発明にかかるポリイミドフィルムの製造方法においては、少なくとも、脱水剤とイミド化触媒とを併用することが好ましい。 に お い て In the method for producing a polyimide film according to the present invention, it is preferable to use at least a dehydrating agent and an imidization catalyst in combination.

 本発明にかかるポリイミドフィルムの利用の一例としては、上記ポリイミドフィルム上に接着剤層および保護層を設けてなるFCテープ、上記ポリイミドフィルムからなる層と、金属導電層とを少なくとも有するフレキシブルプリント配線板を挙げることができる。 As an example of the use of the polyimide film according to the present invention, a flexible printed wiring board having at least an FC tape in which an adhesive layer and a protective layer are provided on the polyimide film, a layer made of the polyimide film, and a metal conductive layer Can be mentioned.

 本発明にかかるポリイミドフィルムは、上記のように、100〜200℃における平均線膨張係数が18〜28ppm、弾性率が4.5GPa以上、吸湿膨張係数が13ppm以下であり、芳香族テトラカルボン酸二無水物として、3,3’,4,4’−ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物を必須成分として用いてなる。 As described above, the polyimide film according to the present invention has an average linear expansion coefficient at 100 to 200 ° C of 18 to 28 ppm, an elastic modulus of 4.5 GPa or more, a moisture absorption expansion coefficient of 13 ppm or less, and an aromatic tetracarboxylic acid dicarboxylic acid. As the anhydride, 3,3 ′, 4,4′-benzophenonetetracarboxylic dianhydride is used as an essential component.

 それゆえ、上記構成によれば、特に、TABテープやFPCに用いるベースフィルムとして、3,3’,4,4’−ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物を必須成分として得られるポリイミドフィルムを用いる場合に、反りやカールを発生しないような線膨張係数と弾性率を併せ持つとともに、吸湿による寸法変化を原因とする反りやカールも発生しないポリイミドフィルムを提供することが可能となるという効果を奏する。 Therefore, according to the above configuration, particularly when a polyimide film obtained by using 3,3 ′, 4,4′-benzophenonetetracarboxylic dianhydride as an essential component is used as a base film used for a TAB tape or FPC. In addition, it is possible to provide a polyimide film which has both a linear expansion coefficient and an elastic modulus so as not to generate warpage or curl and also does not cause warpage or curl due to dimensional change due to moisture absorption.

 本発明の実施の一形態について説明すれば以下の通りである。なお、本発明はこれに限定されるものではない。以下、本発明の詳細について、ポリイミドフィルム、その製造方法、その利用(有用性)、具体的な実施例の順で具体的に説明する。
(1)本発明にかかるポリイミドフィルム
 <ポリイミドフィルムの物性>
 本発明にかかるポリイミドフィルムは、主として芳香族ジアミンと芳香族テトラカルボン酸二無水物から合成されるポリアミド酸(polyamic acid)をイミド化してポリイミドを用いてなるものである。このうち、上記芳香族テトラカルボン酸二無水物には、少なくとも3,3’,4,4’−ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物が含まれており、このようにして得られたポリイミドフィルムは、次に示す3つの条件を満たすものとなっている。
条件(1):100℃から200℃における平均線膨張係数が18〜28ppm/℃の範囲内である。
条件(2):弾性率が4.5GPa以上である。
条件(3):吸湿膨張係数が13ppm以下である。
An embodiment of the present invention will be described below. Note that the present invention is not limited to this. Hereinafter, the details of the present invention will be specifically described in the order of a polyimide film, a method for producing the same, its use (usefulness), and specific examples.
(1) Polyimide film according to the present invention <Physical properties of polyimide film>
The polyimide film according to the present invention is obtained by imidizing a polyamic acid synthesized mainly from an aromatic diamine and an aromatic tetracarboxylic dianhydride and using polyimide. Among them, the aromatic tetracarboxylic dianhydride contains at least 3,3 ′, 4,4′-benzophenonetetracarboxylic dianhydride, and the polyimide film thus obtained is It satisfies the following three conditions.
Condition (1): The average linear expansion coefficient at 100 ° C. to 200 ° C. is in the range of 18 to 28 ppm / ° C.
Condition (2): the elastic modulus is 4.5 GPa or more.
Condition (3): The coefficient of hygroscopic expansion is 13 ppm or less.

 上記ポリイミドフィルムは、条件(1)を満たすことにより、FPCやTABテープとして用いられた場合に、反りやカールの発生が防止される。これにより、屈曲性が高いとともに、線膨張係数も反りやカールを生じない範囲にあるポリイミドフィルムの提供が可能となる。なお、上記ポリイミドフィルムの100℃から200℃における平均線膨張係数のより好ましい範囲は、18ppm〜25ppm/℃の範囲内であり、さらに好ましい範囲は、20〜25ppm/℃の範囲内である。 By satisfying the condition (1), the polyimide film prevents warpage and curling when used as an FPC or TAB tape. This makes it possible to provide a polyimide film having high flexibility and a linear expansion coefficient in a range where warpage or curling does not occur. In addition, a more preferable range of the average linear expansion coefficient at 100 ° C to 200 ° C of the polyimide film is in a range of 18 ppm to 25 ppm / ° C, and a further preferable range is in a range of 20 to 25 ppm / ° C.

 また、上記ポリイミドフィルムは、条件(2)を満たすことにより、リールトゥリールの製造工程における寸法変化、ひいては、FPCやTABテープの反りやカールの発生が防止される。なお、上記ポリイミドフィルムの弾性率のより好ましい範囲は4.5GPa〜8.0GPaの範囲内であり、さらに好ましい範囲は5.0GPa〜7.5GPaの範囲内である。 (4) By satisfying the condition (2), the polyimide film can prevent dimensional changes in the reel-to-reel manufacturing process, and thus, warpage and curling of the FPC or TAB tape can be prevented. The more preferable range of the elastic modulus of the polyimide film is in a range of 4.5 GPa to 8.0 GPa, and the more preferable range is in a range of 5.0 GPa to 7.5 GPa.

 さらに、上記ポリイミドフィルムは、条件(3)を満たすことにより、吸湿膨張による、銅箔との間の内部応力による寸法変化が防止される。なお、上記ポリイミドフィルムの吸湿膨張係数のより好ましい範囲は12ppm以下であり、さらに好ましい範囲は11ppm以下である。 Furthermore, when the polyimide film satisfies the condition (3), a dimensional change due to internal stress between the polyimide film and the copper foil due to moisture expansion is prevented. In addition, the more preferable range of the moisture absorption expansion coefficient of the said polyimide film is 12 ppm or less, and the still more preferable range is 11 ppm or less.

 本発明にかかるポリイミドフィルムは、上記3つの条件を満たすことにより、反りやカールを発生しないような熱膨張性と弾性率とを併せ持つとともに、吸水・吸湿性を低下させることが可能となり、吸湿による寸法変化を原因とする反りやカールも発生しないポリイミドフィルムを提供することが可能となる。 By satisfying the above three conditions, the polyimide film according to the present invention has both a thermal expansion property and an elastic modulus that do not generate warpage or curl, and can reduce water absorption and moisture absorption. It is possible to provide a polyimide film that does not cause warpage or curl due to dimensional change.

 <ポリイミドの合成に用いられるモノマー成分>
 本発明にかかるポリイミドフィルムは、主として芳香族ジアミンと芳香族テトラカルボン酸二無水物から合成されるポリアミド酸をイミド化することにより得られるポリイミドを用いる。すなわち、本発明で用いられるポリイミドは、前駆体のポリアミド酸を重合(合成)した後に、これをイミド化することにより得ることができる。
<Monomer component used for synthesis of polyimide>
The polyimide film according to the present invention mainly uses a polyimide obtained by imidizing a polyamic acid synthesized from an aromatic diamine and an aromatic tetracarboxylic dianhydride. That is, the polyimide used in the present invention can be obtained by polymerizing (synthesizing) the precursor polyamic acid and then imidizing the same.

 ここで、上記「主として芳香族ジアミンと芳香族テトラカルボン酸二無水物から合成されるポリアミド酸」とは、ポリアミド酸の原料である酸成分のうち、芳香族テトラカルボン酸二無水物の含有比率が最も大きく、ジアミン成分のうち、芳香族ジアミンの含有比率が最も大きい場合を指すものとする。 Here, the “polyamic acid mainly synthesized from an aromatic diamine and an aromatic tetracarboxylic dianhydride” refers to a content ratio of an aromatic tetracarboxylic dianhydride in an acid component which is a raw material of the polyamic acid. Is the largest, and among the diamine components, the content ratio of the aromatic diamine is the largest.

 換言すれば、本発明においては、前駆体であるポリアミド酸の重合には、酸成分として芳香族テトラカルボン酸二無水物を含み、ジアミン成分として芳香族ジアミンを含んでおり、これら成分が最も多く用いられていればよく、その他の酸成分やジアミン成分が用いられてもよい。 In other words, in the present invention, the polymerization of the polyamic acid as the precursor includes an aromatic tetracarboxylic dianhydride as an acid component and an aromatic diamine as a diamine component, and these components are most frequently used. As long as it is used, other acid components and diamine components may be used.

 以下、ポリアミド酸の原料(モノマー成分)である酸成分およびジアミン成分について具体的に説明する。 Hereinafter, the acid component and the diamine component, which are the raw materials (monomer components) of the polyamic acid, will be specifically described.

 <酸成分(酸二無水物成分)>
 本発明にかかるポリイミドフィルムでは、ポリイミドの前駆体であるポリアミド酸の原料のうち、酸成分として、少なくとも3,3’,4,4’−ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物が用いられる。この3,3’,4,4’−ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物は、上記芳香族テトラカルボン酸二無水物の範疇に含まれるものである。
<Acid component (acid dianhydride component)>
In the polyimide film according to the present invention, at least 3,3 ′, 4,4′-benzophenonetetracarboxylic dianhydride is used as an acid component among the raw materials of polyamic acid which is a precursor of polyimide. This 3,3 ′, 4,4′-benzophenonetetracarboxylic dianhydride is included in the category of the aromatic tetracarboxylic dianhydride.

 ポリアミド酸を重合する場合に、酸成分として上記3,3’,4,4’−ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物を用いる場合の具体的な量(使用量)は特に限定されるものではないが、全芳香族テトラカルボン酸二無水物成分を100mol%とした場合に、20〜60mol%の範囲内で用いられることが好ましく、25〜60mol%の範囲内で用いられることがより好ましく、25〜55mol%のであることがさらに好ましい。換言すれば、3,3’,4,4’−ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物の使用量の上限は、好ましくは60mol%以下であり、より好ましくは55mol%以下である。また、下限は、好ましくは20mol%以上であり、より好ましくは25mol%以上である。 When polyamic acid is polymerized, the specific amount (used amount) when the above 3,3 ′, 4,4′-benzophenonetetracarboxylic dianhydride is used as an acid component is not particularly limited, When the total aromatic tetracarboxylic dianhydride component is 100 mol%, it is preferably used within a range of 20 to 60 mol%, more preferably within a range of 25 to 60 mol%, and more preferably 25 to 60 mol%. More preferably, it is 55 mol%. In other words, the upper limit of the amount of 3,3 ', 4,4'-benzophenonetetracarboxylic dianhydride used is preferably 60 mol% or less, more preferably 55 mol% or less. Further, the lower limit is preferably at least 20 mol%, more preferably at least 25 mol%.

 3,3’,4,4’−ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物の使用量がこの範囲内であることにより、好適に線膨張係数と弾性率の調和をとることが可能となり、この範囲の上限以下であることにより、吸湿膨張係数を小さくすることが可能となる。 When the amount of 3,3 ', 4,4'-benzophenonetetracarboxylic dianhydride is within this range, it is possible to suitably balance the coefficient of linear expansion and the elastic modulus, and the upper limit of this range. By the following, the coefficient of hygroscopic expansion can be reduced.

 また、本発明で用いられる上記芳香族テトラカルボン酸二無水物としては、上記3,3’,4,4’−ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物に加えて、さらに、芳香族エステル酸二無水物が用いられることが好ましい。ここで言う「芳香族エステル酸二無水物」とは、構造中にエステルを含む芳香族テトラカルボン酸酸二無水物を指すものとする。 The aromatic tetracarboxylic dianhydride used in the present invention includes, in addition to the above 3,3 ′, 4,4′-benzophenonetetracarboxylic dianhydride, an aromatic ester dianhydride Is preferably used. The term “aromatic ester dianhydride” used herein refers to an aromatic tetracarboxylic dianhydride containing an ester in the structure.

 上記芳香族エステル酸二無水物としては、特に限定されるものではないが、具体的な一例として、p−フェニレンビス(トリメリット酸モノエステル無水物)、エチレンビス(トリメリット酸モノエステル酸無水物)、ビスフェノールAビス(トリメリット酸モノエステル酸無水物)等を挙げることができる。 The aromatic ester dianhydride is not particularly limited, but specific examples include p-phenylene bis (trimellitic acid monoester anhydride) and ethylene bis (trimellitic acid monoester anhydride). Products), bisphenol A bis (trimellitic acid monoester acid anhydride) and the like.

 上記芳香族エステル酸二無水物の使用量は、特に限定されるものではないが、全芳香族テトラカルボン酸二無水物成分を100mol%とした場合に、10〜60mol%の範囲内であることが好ましく、20〜55mol%の範囲内であることがより好ましく、25〜50mol%の範囲内であることがさらに好ましい。換言すれば、芳香族エステル酸二無水物の使用量の上限は、好ましくは60mol%以下であり、より好ましくは55mol%以下であり、より好ましくは50mol%以下である。また、下限は、好ましくは10mol%以上であり、より好ましくは20mol%以上であり、さらに好ましくは25mol%以上である。 The amount of the aromatic ester dianhydride to be used is not particularly limited, but is in the range of 10 to 60 mol% when the total aromatic tetracarboxylic dianhydride component is 100 mol%. Is more preferably in the range of 20 to 55 mol%, and still more preferably in the range of 25 to 50 mol%. In other words, the upper limit of the amount of the aromatic ester dianhydride used is preferably 60 mol% or less, more preferably 55 mol% or less, and more preferably 50 mol% or less. The lower limit is preferably at least 10 mol%, more preferably at least 20 mol%, further preferably at least 25 mol%.

 上記芳香族エステル酸二無水物の使用量がこの範囲を下回らないことにより、弾性率および吸湿膨張係数の改善効果が大きく、この範囲を上回らないことによりしなやかなフィルムを得ることが可能となる。 (4) When the amount of the aromatic ester dianhydride used does not fall below this range, the effect of improving the elastic modulus and the coefficient of hygroscopic expansion is great, and when it does not exceed this range, a flexible film can be obtained.

 本発明では、上述した芳香族エステル酸二無水物の中でも、特に、p−フェニレンビス(トリメリット酸モノエステル無水物)を好ましく用いることができる。これにより、機械的強度、吸湿膨張係数の改善および熱的挙動の観点から好適なポリイミドが得られる。 In the present invention, among the above-mentioned aromatic ester dianhydrides, p-phenylene bis (trimellitic acid monoester anhydride) can be particularly preferably used. As a result, a polyimide suitable for improving mechanical strength, coefficient of hygroscopic expansion and thermal behavior can be obtained.

 このp−フェニレンビス(トリメリット酸モノエステル無水物)の使用量も特に限定されるものではないが、全芳香族テトラカルボン酸二無水物成分を100mol%とした場合に、10〜60mol%の範囲内であることが好ましく、20〜55mol%の範囲内であることがより好ましく、25〜50mol%の範囲内であることがさらに好ましい。換言すれば、p−フェニレンビス(トリメリット酸モノエステル無水物)の使用量の上限は、好ましくは60mol%以下であり、より好ましくは55mol%以下であり、より好ましくは50mol%以下である。また、下限は、好ましくは10mol%以上であり、より好ましくは20mol%以上であり、さらに好ましくは25mol%以上である。 The amount of p-phenylenebis (trimellitic acid monoester anhydride) used is not particularly limited either, but is 10 to 60 mol% when the total aromatic tetracarboxylic dianhydride component is 100 mol%. It is preferably in the range, more preferably in the range of 20 to 55 mol%, and still more preferably in the range of 25 to 50 mol%. In other words, the upper limit of the amount of p-phenylenebis (trimellitic acid monoester anhydride) used is preferably 60 mol% or less, more preferably 55 mol% or less, and more preferably 50 mol% or less. The lower limit is preferably at least 10 mol%, more preferably at least 20 mol%, further preferably at least 25 mol%.

 さらに、本発明で用いられる上記芳香族テトラカルボン酸二無水物としては、上記3,3’,4,4’−ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物、あるいは、上記3,3’,4,4’−ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物及び上記芳香族エステル酸二無水物に加えて、他の芳香族テトラカルボン酸二無水物を用いてもよい。ここで言う「他の芳香族テトラカルボン酸二無水物」とは、上記3,3’,4,4’−ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物及び上記芳香族エステル酸二無水物に該当しない芳香族テトラカルボン酸酸二無水物を指すものとする。 Further, the aromatic tetracarboxylic dianhydride used in the present invention includes the 3,3 ′, 4,4′-benzophenonetetracarboxylic dianhydride or the 3,3 ′, 4,4 ′ -In addition to benzophenone tetracarboxylic dianhydride and the above-mentioned aromatic ester dianhydride, another aromatic tetracarboxylic dianhydride may be used. The term "another aromatic tetracarboxylic dianhydride" used herein refers to an aromatic that does not correspond to the above 3,3 ', 4,4'-benzophenonetetracarboxylic dianhydride or the aromatic ester dianhydride. It refers to tetracarboxylic dianhydride.

 上記他の芳香族テトラカルボン酸二無水物は、特に限定されるものではないが、具体的な一例としては、ピロメリット酸二無水物、2,3,6,7−ナフタレンテトラカルボン酸二無水物、3,3’,4,4’−ビフェニルテトラカルボン酸二無水物、1,2,5,6−ナフタレンテトラカルボン酸二無水物、2,2’,3,3’−ビフェニルテトラカルボン酸二無水物、2,2−ビス(3,4−ジカルボキシフェニル)プロパン二無水物、3,4,9,10−ペリレンテトラカルボン酸二無水物、ビス(3,4−ジカルボキシフェニル)プロパン二無水物、1,1−ビス(2,3−ジカルボキシフェニル)エタン二無水物、1,1−ビス(3,4−ジカルボキシフェニル)エタン二無水物、ビス(2,3−ジカルボキシフェニル)メタン二無水物、ビス(3,4−ジカルボキシフェニル)エタン二無水物、オキシジフタル酸二無水物、ビス(3,4−ジカルボキシフェニル)スルホン二無水物、エチレンビス(トリメリット酸モノエステル酸無水物)、ビスフェノールAビス(トリメリット酸モノエステル酸無水物)等を挙げることができる。これらは単独で用いられてもよいし、2種類以上を組み合わせて用いてもよい。 The other aromatic tetracarboxylic dianhydrides are not particularly limited, but specific examples include pyromellitic dianhydride, 2,3,6,7-naphthalenetetracarboxylic dianhydride. 3,3 ', 4,4'-biphenyltetracarboxylic dianhydride, 1,2,5,6-naphthalenetetracarboxylic dianhydride, 2,2', 3,3'-biphenyltetracarboxylic acid Dianhydride, 2,2-bis (3,4-dicarboxyphenyl) propane dianhydride, 3,4,9,10-perylenetetracarboxylic dianhydride, bis (3,4-dicarboxyphenyl) propane Dianhydride, 1,1-bis (2,3-dicarboxyphenyl) ethane dianhydride, 1,1-bis (3,4-dicarboxyphenyl) ethane dianhydride, bis (2,3-dicarboxy) Phenyl) methane Anhydride, bis (3,4-dicarboxyphenyl) ethane dianhydride, oxydiphthalic dianhydride, bis (3,4-dicarboxyphenyl) sulfone dianhydride, ethylenebis (trimellitic acid monoester anhydride) ), Bisphenol A bis (trimellitic acid monoester anhydride) and the like. These may be used alone or in combination of two or more.

 上記他の芳香族テトラカルボン酸二無水物のうちでも、ピロメリット酸二無水物、3,3’,4,4’−ビフェニルテトラカルボン酸二無水物がより好ましく用いられる。 の う ち Among the other aromatic tetracarboxylic dianhydrides, pyromellitic dianhydride and 3,3 ′, 4,4′-biphenyltetracarboxylic dianhydride are more preferably used.

 上記他の芳香族テトラカルボン酸二無水物の使用量は、特に限定されるものではないが、全芳香族テトラカルボン酸二無水物成分を100mol%とした場合に、50mol%以下であることが好ましく、45mol%以下であることがより好ましく、40mol%以下であることがさらに好ましい。換言すれば、他の芳香族テトラカルボン酸二無水物の使用量の上限は、好ましくは50mol%以下であり、より好ましくは45mol%以下であり、より好ましくは40mol%以下である。なお、下限は特に限定されるものではなく、0mol%以上であればよい。 The amount of the other aromatic tetracarboxylic dianhydride used is not particularly limited, but may be 50 mol% or less when the total aromatic tetracarboxylic dianhydride component is 100 mol%. Preferably, it is 45 mol% or less, more preferably, 40 mol% or less. In other words, the upper limit of the amount of the other aromatic tetracarboxylic dianhydride to be used is preferably 50 mol% or less, more preferably 45 mol% or less, and more preferably 40 mol% or less. The lower limit is not particularly limited, and may be 0 mol% or more.

 上記他の芳香族テトラカルボン酸二無水物量の使用量がこの範囲内であることにより、3,3’,4,4’−ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物および/または芳香族エステル酸二無水物を用いることによる、ポリイミドフィルムの改質効果を大きくすることができる。 When the amount of the other aromatic tetracarboxylic dianhydride used is within the above range, 3,3 ′, 4,4′-benzophenonetetracarboxylic dianhydride and / or aromatic ester dianhydride are used. Can improve the effect of modifying the polyimide film.

 また、本発明では、得られるポリイミドフィルムに要求される物性等に応じて、上記酸成分として、芳香族テトラカルボン酸二無水物以外の酸二無水物(他の酸二無水物)が用いられてもよい。この他の酸二無水物の使用量も特に限定されるものではない。 In the present invention, an acid dianhydride other than the aromatic tetracarboxylic dianhydride (another acid dianhydride) is used as the acid component according to the physical properties required for the obtained polyimide film. May be. The amount of the other acid dianhydride used is not particularly limited.

 <ジアミン成分>
 本発明にかかるポリイミドフィルムでは、ポリイミドの前駆体であるポリアミド酸の原料のうち、ジアミン成分として、少なくとも芳香族ジアミンが用いられる。
<Diamine component>
In the polyimide film according to the present invention, at least an aromatic diamine is used as a diamine component in a raw material of polyamic acid which is a precursor of polyimide.

 上記芳香族ジアミンとしては、具体的には、例えば、p−フェニレンジアミンおよびその核置換化合物、ベンジジンおよびその核置換化合物、4,4’−オキシジアニリン、1,3−ビス(4−アミノフェノキシ)ベンゼン、1,3−ビス(3−アミノフェノキシ)ベンゼン、4,4’−ビス(3−アミノフェノキシ)ビフェニル、4,4’−ビス(4−アミノフェノキシ)ビフェニル、ビス(4−(4−アミノフェノキシ)フェニル)スルホン、ビス(4−(3−アミノフェノキシ)フェニル)スルホン、4,4’−ジアミノジフェニルプロパン、4,4’−ジアミノジフェニルメタン、4,4’−ジアミノジフェニルスルフィド、3,3’−ジアミノジフェニルスルホン、4,4’−ジアミノジフェニルスルホン、3,3’−オキシジアニリン、3,4’−オキシジアニリン、2,4’−オキシジアニリン、4,4’−ジアミノジフェニルジエチルシラン、4,4’−ジアミノジフェニルシラン、4,4’−ジアミノジフェニルエチルホスフィンオキシド、4,4’−ジアミノジフェニルN−メチルアミン、4,4’−ジアミノジフェニル N−フェニルアミン、1,3−ジアミノベンゼン、1,2−ジアミノベンゼン等を挙げることができるが、特に限定されるものではない。 Specific examples of the aromatic diamine include p-phenylenediamine and its nucleus-substituted compound, benzidine and its nucleus-substituted compound, 4,4′-oxydianiline, 1,3-bis (4-aminophenoxy) ) Benzene, 1,3-bis (3-aminophenoxy) benzene, 4,4′-bis (3-aminophenoxy) biphenyl, 4,4′-bis (4-aminophenoxy) biphenyl, bis (4- (4 -Aminophenoxy) phenyl) sulfone, bis (4- (3-aminophenoxy) phenyl) sulfone, 4,4′-diaminodiphenylpropane, 4,4′-diaminodiphenylmethane, 4,4′-diaminodiphenylsulfide, 3, 3'-diaminodiphenylsulfone, 4,4'-diaminodiphenylsulfone, 3,3'-oxydi Niline, 3,4'-oxydianiline, 2,4'-oxydianiline, 4,4'-diaminodiphenyldiethylsilane, 4,4'-diaminodiphenylsilane, 4,4'-diaminodiphenylethylphosphine oxide, 4,4'-diaminodiphenyl N-methylamine, 4,4'-diaminodiphenyl @ N-phenylamine, 1,3-diaminobenzene, 1,2-diaminobenzene, and the like can be mentioned, but particularly limited ones are included. is not.

 本発明では、上記芳香族ジアミン成分には、直線性ジアミンおよび屈曲性ジアミンの少なくとも一方が含まれていることが好ましい。 In the present invention, the aromatic diamine component preferably contains at least one of a linear diamine and a flexible diamine.

 ここで、上記「直線性ジアミン」とは、エーテル基、メチレン基、プロパギル基、ヘキサフルオロプロパギル基、カルボニル基、スルホン基、スルフィド基などのような屈曲基を主鎖中に含まず、2個のアミノ基の窒素原子とそれらが結合している炭素原子が一直線に並ぶ構造をもつジアミン化合物を指す。 Here, the term “linear diamine” means that the main chain does not include a bending group such as an ether group, a methylene group, a propargyl group, a hexafluoropropargyl group, a carbonyl group, a sulfone group, and a sulfide group. A diamine compound having a structure in which the nitrogen atom of each amino group and the carbon atom to which they are bonded are aligned.

 上記直線性ジアミンの具体的な例としては、p−フェニレンジアミンおよびその核置換化合物、ベンジジンおよびその核置換化合物等を挙げることができるが、特に限定されるものではない。上記直線性ジアミンは1種類のみ用いられてもよいし、2種類以上を適宜組み合わせて用いてもよい。これらの中でもp−フェニレンジアミンを用いることがより好ましい。これにより、加工性、取り扱い性、特性調和の面から優れたポリイミドフィルムを得ることができる。 具体 Specific examples of the linear diamine include p-phenylenediamine and its nucleus-substituted compound, benzidine and its nucleus-substituted compound, but are not particularly limited thereto. The linear diamine may be used alone or in combination of two or more. Among these, it is more preferable to use p-phenylenediamine. This makes it possible to obtain a polyimide film that is excellent in terms of processability, handleability, and characteristics.

 また、上記「屈曲性ジアミン」とは、エーテル基、メチレン基、プロパギル基、ヘキサフルオロプロパギル基、カルボニル基、スルホン基、スルフィド基などの屈曲基を主鎖中に含むジアミン、または、屈曲基を含まない場合は、2個のアミノ基の窒素原子とそれらと結合する炭素原子が一直線に並ばない構造をもつジアミン化合物を指す。 Further, the "flexible diamine" refers to a diamine containing a bending group such as an ether group, a methylene group, a propargyl group, a hexafluoropropargyl group, a carbonyl group, a sulfone group, and a sulfide group in a main chain, or a bending group. Does not include a diamine compound having a structure in which a nitrogen atom of two amino groups and a carbon atom bonded thereto are not aligned.

 上記屈曲性ジアミンの具体的な例としては、4,4’−オキシジアニリン、1,3−ビス(4−アミノフェノキシ)ベンゼン、1,3−ビス(3−アミノフェノキシ)ベンゼン、4,4’−ビス(3−アミノフェノキシ)ビフェニル、4,4’−ビス(4−アミノフェノキシ)ビフェニル、ビス(4−(4−アミノフェノキシ)フェニル)スルホン、ビス(4−(3−アミノフェノキシ)フェニル)スルホン、4,4’−ジアミノジフェニルプロパン、4,4’−ジアミノジフェニルメタン、4,4’−ジアミノジフェニルスルフィド、3,3’−ジアミノジフェニルスルホン、4,4’−ジアミノジフェニルスルホン、3,3’−オキシジアニリン、3,4’−オキシジアニリン、2,4’−オキシジアニリン、4,4’−ジアミノジフェニルジエチルシラン、4,4’−ジアミノジフェニルシラン、4,4’−ジアミノジフェニルエチルホスフィンオキシド、4,4’−ジアミノジフェニルN−メチルアミン、4,4’−ジアミノジフェニル N−フェニルアミン、1,3−ジアミノベンゼン、1,2−ジアミノベンゼン等を挙げることができるが、特に限定されるものではない。上記屈曲性ジアミンは1種類のみ用いられてもよいし、2種類以上を適宜組み合わせて用いてもよい。これらの中でも、4,4’−オキシジアニリンを用いることが好ましい。これにより、諸物性の調和に優れたポリイミドフィルムを得ることができる。 Specific examples of the flexible diamine include 4,4′-oxydianiline, 1,3-bis (4-aminophenoxy) benzene, 1,3-bis (3-aminophenoxy) benzene, and 4,4′-oxydianiline. '-Bis (3-aminophenoxy) biphenyl, 4,4'-bis (4-aminophenoxy) biphenyl, bis (4- (4-aminophenoxy) phenyl) sulfone, bis (4- (3-aminophenoxy) phenyl ) Sulfone, 4,4'-diaminodiphenylpropane, 4,4'-diaminodiphenylmethane, 4,4'-diaminodiphenylsulfide, 3,3'-diaminodiphenylsulfone, 4,4'-diaminodiphenylsulfone, 3,3 '-Oxydianiline, 3,4'-oxydianiline, 2,4'-oxydianiline, 4,4'-diaminodiif Nyldiethylsilane, 4,4′-diaminodiphenylsilane, 4,4′-diaminodiphenylethylphosphine oxide, 4,4′-diaminodiphenyl N-methylamine, 4,4′-diaminodiphenyl @ N-phenylamine, Examples thereof include 3-diaminobenzene and 1,2-diaminobenzene, but are not particularly limited. Only one kind of the flexible diamine may be used, or two or more kinds thereof may be used in appropriate combination. Among these, it is preferable to use 4,4'-oxydianiline. Thereby, a polyimide film excellent in harmony of various physical properties can be obtained.

 上記芳香族ジアミンのうち、直線性ジアミンおよび屈曲性ジアミンの使用量は特に限定されるものではないが、全芳香族ジアミン成分を100mol%としたときに、直線性ジアミンは20〜80mol%の範囲内で用いられることが好ましく、30〜70mol%の範囲内で用いられることがより好ましく、35〜65mol%の範囲内で用いられることがさらに好ましい。 The amount of the linear diamine and the flexible diamine among the aromatic diamines is not particularly limited, but when the total aromatic diamine component is 100 mol%, the linear diamine is in the range of 20 to 80 mol%. Is preferably used in the range of 30 to 70 mol%, more preferably in the range of 35 to 65 mol%.

 同様に、全芳香族ジアミン成分を100mol%としたときに、屈曲性ジアミンは20〜80mol%の範囲内で用いられることが好ましく、30mol%〜70mol%の範囲内で用いられることがより好ましく、35〜65mol%の範囲内で用いられることがさらに好ましい。 Similarly, when the total aromatic diamine component is 100 mol%, the flexible diamine is preferably used in a range of 20 to 80 mol%, more preferably in a range of 30 to 70 mol%, More preferably, it is used in the range of 35 to 65 mol%.

 換言すれば、直線性ジアミンおよび屈曲性ジアミンの使用量の上限は、それぞれ、好ましくは80mol%以下であり、より好ましくは70mol%以下であり、より好ましくは65mol%以下である。また、下限は、好ましくは20mol%以上であり、より好ましくは30mol%以上であり、さらに好ましくは35mol%以上である。また、直線性ジアミンおよび屈曲性ジアミンの使用量を対比させれば、全芳香族ジアミン成分を100mol%としたときに、それぞれ、20〜80mol%の範囲内および80〜20mol%の範囲内で用いられることが好ましく、30〜70mol%の範囲内および70〜30mol%の範囲内で用いられることがより好ましく、35〜65mol%の範囲内および65〜35mol%の範囲内で用いられることがさらに好ましい。 In other words, the upper limit of the amount of each of the linear diamine and the flexible diamine is preferably 80 mol% or less, more preferably 70 mol% or less, and more preferably 65 mol% or less. In addition, the lower limit is preferably 20 mol% or more, more preferably 30 mol% or more, and further preferably 35 mol% or more. When the amounts of the linear diamine and the flexible diamine are compared, when the total aromatic diamine component is 100 mol%, the diamine is used in the range of 20 to 80 mol% and the range of 80 to 20 mol%, respectively. It is preferably used in the range of 30 to 70 mol% and more preferably in the range of 70 to 30 mol%, and still more preferably used in the range of 35 to 65 mol% and 65 to 35 mol%. .

 直線性ジアミンの使用量と屈曲性ジアミンの使用量が上記範囲内であることにより、弾性率と線膨張係数の調和が保たれ、フレキシブル銅張積層板またはTABテープの反り特性を改善することが容易となる。 When the usage amount of the linear diamine and the usage amount of the flexible diamine are within the above ranges, harmony between the elastic modulus and the coefficient of linear expansion is maintained, and the warpage characteristics of the flexible copper-clad laminate or the TAB tape can be improved. It will be easier.

 上記直線性ジアミンと上記屈曲性ジアミンの、上記ポリイミド分子(ポリアミド酸分子)中での分布は特に限定されるものではないが、ランダムに分布していることが好ましい。これにより、高い弾性率と大きい線膨張係数とを両立させることが容易となる。 分布 The distribution of the linear diamine and the flexible diamine in the polyimide molecule (polyamic acid molecule) is not particularly limited, but is preferably randomly distributed. This makes it easy to achieve both a high elastic modulus and a large coefficient of linear expansion.

 また、本発明では、得られるポリイミドフィルムに要求される物性等に応じて、上記ジアミン成分として、芳香族ジアミン以外のジアミン(他のジアミン)が用いられてもよい。この他のジアミンの使用量も特に限定されるものではない。 In the present invention, a diamine other than an aromatic diamine (other diamine) may be used as the diamine component according to the physical properties required for the obtained polyimide film. The use amount of the other diamines is not particularly limited.

 (2)本発明にかかるポリイミドフィルムの製造方法
 本発明にかかるポリイミドフィルムの製造方法について以下に説明する。
(2) Method for Producing Polyimide Film According to the Present Invention A method for producing a polyimide film according to the present invention will be described below.

 上記ポリアミド酸の重合(合成)方法は特に限定されるものではなく、従来公知の方法を用いることができる。有機溶媒中に酸成分およびジアミン成分をほぼ等モル量(実質的に等モルの量)となるように有機溶媒中に溶解させて、反応させ、ポリイミドの前駆体であるポリアミド酸の有機溶媒溶液(以下、ポリアミド酸溶液と称する)を調製すればよい。 重合 The method of polymerizing (synthesizing) the above polyamic acid is not particularly limited, and a conventionally known method can be used. An acid solution and a diamine component are dissolved in an organic solvent so as to be substantially equimolar (substantially equimolar amount) in the organic solvent and reacted, and a polyamic acid solution of a polyamic acid, which is a precursor of polyimide, is dissolved in the organic solvent. (Hereinafter, referred to as a polyamic acid solution).

 反応させるときの条件は特に限定されるものではないが、反応温度としては、−20℃〜90℃の範囲内が好ましく、反応時間としては、30分〜24時間程度の範囲内が好ましい。また、反応時の雰囲気としては、アルゴンや窒素等の不活性雰囲気であることがより好ましい。 The conditions for the reaction are not particularly limited, but the reaction temperature is preferably in the range of −20 ° C. to 90 ° C., and the reaction time is preferably in the range of about 30 minutes to 24 hours. Further, the atmosphere during the reaction is more preferably an inert atmosphere such as argon or nitrogen.

 上記ポリアミド酸の重合では、酸成分およびジアミン成分を反応させる手法にの違いから複数種類の重合方法を用いることができる。具体的には、例えば、以下の1)から5)に示すような重合方法を好適に用いることができる。 重合 In the polymerization of the polyamic acid, a plurality of types of polymerization methods can be used due to the difference in the method of reacting the acid component and the diamine component. Specifically, for example, the following polymerization methods 1) to 5) can be suitably used.

 1)芳香族ジアミンを有機溶媒中に溶解し、この芳香族ジアミンと実質的に等モルの芳香族テトラカルボン酸二無水物を反応させて重合する方法。 {Circle around (1)} A method in which an aromatic diamine is dissolved in an organic solvent, and the aromatic diamine is reacted with substantially equimolar aromatic tetracarboxylic dianhydride to carry out polymerization.

 2)芳香族テトラカルボン酸二無水物とこれに対し過小モル量の芳香族ジアミン化合物とを有機溶媒中で反応させ、両末端に酸無水物基を有するプレポリマーを得る。続いて、全工程において芳香族テトラカルボン酸二無水物と芳香族ジアミン化合物が実質的に等モルとなるように芳香族ジアミン化合物を用いて重合させる方法。 2) An aromatic tetracarboxylic dianhydride is reacted with an excessively small amount of an aromatic diamine compound in an organic solvent to obtain a prepolymer having acid anhydride groups at both terminals. Subsequently, a method of polymerizing using an aromatic diamine compound so that the aromatic tetracarboxylic dianhydride and the aromatic diamine compound are substantially equimolar in all steps.

 3)芳香族テトラカルボン酸二無水物とこれに対し過剰モル量の芳香族ジアミン化合物とを有機溶媒中で反応させ、両末端にアミノ基を有するプレポリマーを得る。続いてここに芳香族ジアミン化合物を追加添加後、全工程において芳香族テトラカルボン酸二無水物と芳香族ジアミン化合物が実質的に等モルとなるように芳香族テトラカルボン酸二無水物を用いて重合する方法。 (3) An aromatic tetracarboxylic dianhydride is reacted with an excess molar amount of an aromatic diamine compound in an organic solvent to obtain a prepolymer having amino groups at both ends. Subsequently, after the aromatic diamine compound is additionally added, an aromatic tetracarboxylic dianhydride and an aromatic diamine compound are used in substantially all equimolar amounts in all the steps using the aromatic tetracarboxylic dianhydride. How to polymerize.

 4)芳香族テトラカルボン酸二無水物を有機溶媒中に溶解及び/または分散させた後、実質的に等モルとなるように芳香族ジアミン化合物を用いて重合させる方法。 # 4) A method of dissolving and / or dispersing an aromatic tetracarboxylic dianhydride in an organic solvent and then polymerizing the same using an aromatic diamine compound so as to be substantially equimolar.

 5)実質的に等モルの芳香族テトラカルボン酸二無水物と芳香族ジアミンの混合物を有機溶媒中で反応させて重合する方法。 # 5) A method in which a mixture of substantially equimolar aromatic tetracarboxylic dianhydride and aromatic diamine is reacted in an organic solvent to carry out polymerization.

 上記ポリアミド酸溶液の調製に用いられる有機溶媒、すなわちポリアミド酸の重合に用いられる重合用溶媒は、ポリアミド酸を溶解する溶媒であれば特に限定されるものではない。具体的な一例としては、アミド系溶媒すなわちN,N−ジメチルフォルムアミド、N,N−ジメチルアセトアミド、N−メチル−2−ピロリドン等を挙げることができ、この中でも、N,N−ジメチルフォルムアミド、N,N−ジメチルアセトアミドをより好ましく用いることができる。これら有機溶媒は、通常、単独で用いるが、必要に応じて2種類以上を適宜組み合わせて用いてもよい。 The organic solvent used for preparing the polyamic acid solution, that is, the polymerization solvent used for the polymerization of the polyamic acid is not particularly limited as long as it is a solvent that dissolves the polyamic acid. Specific examples include amide solvents, that is, N, N-dimethylformamide, N, N-dimethylacetamide, N-methyl-2-pyrrolidone, etc. Among them, N, N-dimethylformamide , N, N-dimethylacetamide can be more preferably used. These organic solvents are usually used alone, but may be used in combination of two or more as necessary.

 また、上記ポリアミド酸溶液の組成については特に限定されるものではないが、有機溶媒中にポリアミド酸が5〜35重量%の範囲内で溶解されていることが好ましく、10〜30重量%であることがより好ましい。かかる範囲内であることにより、適当な分子量と溶液粘度を得ることが可能となる。 The composition of the polyamic acid solution is not particularly limited, but the polyamic acid is preferably dissolved in the organic solvent within a range of 5 to 35% by weight, and is preferably 10 to 30% by weight. Is more preferable. When the content is within such a range, it becomes possible to obtain an appropriate molecular weight and solution viscosity.

 上記ポリイミドフィルムには、摺動性、熱伝導性、導電性、耐コロナ性等のフィルムの諸特性を改善する目的でフィラーを添加してもよい。フィラーとしては、特に限定されるものではないが、好ましい具体例としては、シリカ、酸化チタン、アルミナ、窒化珪素、窒化ホウ素、リン酸水素カルシウム、リン酸カルシウム、雲母等が挙げられる。 フ ィ ラ ー A filler may be added to the polyimide film for the purpose of improving various properties of the film such as slidability, thermal conductivity, conductivity, and corona resistance. The filler is not particularly limited, but preferred specific examples include silica, titanium oxide, alumina, silicon nitride, boron nitride, calcium hydrogen phosphate, calcium phosphate, mica and the like.

 また、上記フィラーの粒子径は、改質すべきフィルム特性と添加するフィラーの種類によって変動し得るものであり、特に限定されるものではないが、一般的には平均粒径が0.05〜100μmの範囲内であることが好ましく、0.1〜75μmの範囲内であることがより好ましく、0.1〜50μmの範囲内であることがさらに好ましく、0.1〜25μmの範囲内であることが特に好ましい。粒子径がこの範囲内であれば、ポリイミドフィルムにおいて改質効果が現れやすく、この範囲を上回らなければ、ポリイミドフィルムにおいて良好な表面性、機械的特性を得ることができる。 The particle size of the filler may vary depending on the film characteristics to be modified and the type of filler to be added, and is not particularly limited, but generally has an average particle size of 0.05 to 100 μm. Is preferably in the range of 0.1 to 75 μm, more preferably in the range of 0.1 to 50 μm, and more preferably in the range of 0.1 to 25 μm. Is particularly preferred. If the particle size is within this range, the modifying effect is likely to appear in the polyimide film, and if it does not exceed this range, good surface properties and mechanical properties can be obtained in the polyimide film.

 また、上記フィラーの添加部数についても、改質すべきフィルム特性やフィラー粒子径などによって変動し得るものであり、特に限定されるものではない。一般的には、フィラーの添加量はポリイミド100重量部に対して0.01〜100重量部の範囲内であることが好ましく、0.01〜90重量部の範囲内であることがより好ましく、0.02〜80重量部の範囲内であることがさらに好ましい。フィラー添加量がこの範囲を下回らなければ、フィラーによる改質効果が現れやすく、この範囲を上回らなければポリイミドフィルムの良好な機械的特性が保たれる。 Also, the number of the added parts of the filler may vary depending on the film properties to be modified, the filler particle diameter, and the like, and is not particularly limited. In general, the amount of the filler is preferably in the range of 0.01 to 100 parts by weight, more preferably in the range of 0.01 to 90 parts by weight, based on 100 parts by weight of the polyimide. More preferably, it is in the range of 0.02 to 80 parts by weight. If the amount of the filler is not less than this range, the modifying effect by the filler is likely to be exhibited, and if it is not more than this range, good mechanical properties of the polyimide film can be maintained.

 フィラーの添加の方法は特に限定されるものではないが、具体的には、例えば、重合前または重合中に重合反応液に添加する方法、ポリアミド酸の重合完了後3本ロールなどを用いてフィラーを混錬する方法、フィラーを含む分散液を用意しこれをポリアミド酸溶液に混合する方法等が挙げられる。 The method of adding the filler is not particularly limited, and specifically, for example, a method of adding the filler to the polymerization reaction solution before or during the polymerization, or a method of adding the filler using a three-roll after completion of the polymerization of the polyamic acid. And a method in which a dispersion containing a filler is prepared and mixed with a polyamic acid solution.

 中でも、フィラーを含む分散液を用意しこれをポリアミド酸溶液に混合する方法、特に製膜直前に混合する方法を用いることが好ましい。これにより、フィラーによる製造ラインの汚染を最も少なくすることができる。上記フィラーを含む分散液を用意する場合、ポリアミド酸の重合溶媒と同じ溶媒を用いることが好ましい。また、フィラーを良好に分散させ、また分散状態を安定化させるために、分散剤、増粘剤等をフィルム物性に影響を及ぼさない範囲内で用いてもよい。 Above all, it is preferable to use a method in which a dispersion liquid containing a filler is prepared and mixed with a polyamic acid solution, particularly, a method in which the dispersion liquid is mixed immediately before film formation. Thereby, contamination of the production line by the filler can be minimized. When preparing a dispersion containing the filler, it is preferable to use the same solvent as the polymerization solvent for the polyamic acid. In order to disperse the filler well and to stabilize the dispersion state, a dispersant, a thickener and the like may be used within a range that does not affect the physical properties of the film.

 本発明では、上記ポリアミド酸溶液からポリイミドフィルムを製造する方法については、特に限定されるものではなく、従来公知の方法を用いることができる。イミド化の方法としては、熱イミド化法と、化学イミド化法を挙げることができるが、化学イミド化法を用いることがより好ましい。これにより、熱的寸法安定性や機械的強度に優れるポリイミドフィルムを得ることができる。 In the present invention, the method for producing a polyimide film from the polyamic acid solution is not particularly limited, and a conventionally known method can be used. Examples of the imidation method include a thermal imidization method and a chemical imidization method, and it is more preferable to use the chemical imidization method. Thereby, a polyimide film excellent in thermal dimensional stability and mechanical strength can be obtained.

 次に本発明にかかるポリイミドフィルムの製造方法の好ましい一例を挙げ説明するが、もちろん本発明の製造方法はこれに限定されるものではない。本発明にかかるポリイミドフィルムの製造方法は、a)有機溶媒中で芳香族ジアミンと芳香族テトラカルボン酸二無水物とを反応させてポリアミド酸溶液を得る工程、b)上記ポリアミド酸溶液を含む製膜ドープを支持体上に流延する工程、c)上記製膜ドープを支持体上で加熱した後、支持体からゲルフィルムを引き剥がす工程、d)更にゲルフィルムを加熱して、残存するアミド酸をイミド化し、乾燥させる工程、の4工程を少なくとも含むことが好ましい。 Next, a preferred example of the method for producing a polyimide film according to the present invention will be described, but the production method of the present invention is not limited thereto. The method for producing a polyimide film according to the present invention comprises a) a step of reacting an aromatic diamine and an aromatic tetracarboxylic dianhydride in an organic solvent to obtain a polyamic acid solution; Casting the membrane dope on the support, c) heating the membrane dope on the support and then peeling off the gel film from the support, d) further heating the gel film to remove the remaining amide It is preferable to include at least four steps of imidizing and drying the acid.

 上記製造方法において、脱水剤と、好ましくはイミド化触媒とを含む硬化剤を併用することもできる。 に お い て In the above production method, a curing agent containing a dehydrating agent and preferably an imidization catalyst may be used in combination.

 本発明の好ましい一形態を例にとり、硬化剤を併用した化学イミド化法によるポリイミドフィルムの製造工程を説明する。 と り Taking a preferred embodiment of the present invention as an example, a process for producing a polyimide film by a chemical imidization method using a curing agent will be described.

 化学イミド化法は、ポリアミド酸溶液に、無水酢酸等の酸無水物に代表される脱水剤と、イソキノリン、β−ピコリン、ピリジン等の第3級アミン類等に代表されるイミド化触媒とをいずれかの工程で作用させる方法である。 In the chemical imidation method, a polyamic acid solution is mixed with a dehydrating agent represented by an acid anhydride such as acetic anhydride and an imidation catalyst represented by a tertiary amine such as isoquinoline, β-picoline and pyridine. This is a method of acting in any of the steps.

 化学イミド化法に熱イミド化法を併用してもよい。加熱条件は、ポリアミド酸の種類、フィルムの厚さ等により、変動し得る。 熱 The thermal imidation method may be used in combination with the chemical imidization method. Heating conditions can vary depending on the type of polyamic acid, film thickness, and the like.

 a)有機溶媒中で芳香族ジアミンと芳香族テトラカルボン酸二無水物とを反応させてポリアミド酸溶液を得、
 b)脱水剤およびイミド化触媒を低温でポリアミド酸溶液中に混合した製膜ドープをガラス板、アルミ箔、エンドレスステンレスベルト、ステンレスドラムなどの支持体上にフィルム状にキャストし、
 c)支持体上で80℃〜200℃、好ましくは100℃〜180℃の温度領域で加熱することで脱水剤及びイミド化触媒を活性化することによって部分的に硬化及び/または乾燥した後支持体から剥離してポリアミド酸フィルム(以下、ゲルフィルムという)を得る。
a) reacting an aromatic diamine and an aromatic tetracarboxylic dianhydride in an organic solvent to obtain a polyamic acid solution;
b) Casting a film-forming dope obtained by mixing a dehydrating agent and an imidization catalyst in a polyamic acid solution at a low temperature in a film shape on a support such as a glass plate, an aluminum foil, an endless stainless belt, or a stainless steel drum;
c) Partially cured and / or dried by activating the dehydrating agent and imidation catalyst by heating on a support in a temperature range of 80 ° C to 200 ° C, preferably 100 ° C to 180 ° C. It is peeled from the body to obtain a polyamic acid film (hereinafter, referred to as a gel film).

 ゲルフィルムは、ポリアミド酸からポリイミドへの硬化の中間段階にあり、自己支持性を有し、式1
(A−B)×100/B・・・・式1
式1中、A、Bは以下のものを表す。
A:ゲルフィルムの重量
B:ゲルフィルムを450℃で20分間加熱した後の重量
から算出される揮発分含量は5〜500%の範囲、好ましくは5〜100%、より好ましくは10〜80%、最も好ましくは30〜60%の範囲にある。
The gel film is in the middle stage of curing from polyamic acid to polyimide, has self-supporting properties, and has the formula 1
(AB) × 100 / B ··· Equation 1
In Formula 1, A and B represent the following.
A: Weight of gel film B: Volatile content calculated from weight after heating gel film at 450 ° C. for 20 minutes is in the range of 5 to 500%, preferably 5 to 100%, more preferably 10 to 80%. , Most preferably in the range of 30-60%.

 この範囲のフィルムを用いることが好適であり、外れると機械的強度の低下等を引き起こすことがある。 フ ィ ル ム It is preferable to use a film in this range, and if it is removed, the mechanical strength may be reduced.

 d)前記ゲルフィルムの端部を固定して硬化時の収縮を回避して乾燥し、水、残留溶媒、残存添加剤および触媒を除去し、そして残ったアミド酸を完全にイミド化して、本発明のポリイミドフィルムが得られる。 d) fixing the edge of the gel film to avoid shrinkage during curing, drying, removing water, residual solvent, residual additives and catalyst, and completely imidizing the remaining amic acid, The polyimide film of the invention is obtained.

 この時、最終的に400〜580℃の温度で5〜400秒間加熱するのが好ましい。この温度より高い及び/または時間が長いと、フィルムの熱劣化が起こり問題が生じる。逆にこの温度より低い及び/または時間が短いと所定の効果が発現しないことがある。 At this time, it is preferable to finally heat at a temperature of 400 to 580 ° C. for 5 to 400 seconds. If the temperature is higher than this temperature and / or the time is longer, thermal deterioration of the film occurs and a problem occurs. Conversely, if the temperature is lower than this temperature and / or the time is short, the predetermined effect may not be exhibited.

 得られるポリイミドフィルムの厚みは特に限定されるものではないが、特に、TABテープやFPCのベースフィルムとして用いる場合には、フィルムの厚みは10〜125μmの範囲内であることが好ましく、20〜100μmの範囲内であることがより好ましく、25〜90μmの範囲内であることがさらに好ましく、40〜80μmの範囲内であることが特に好ましい。 Although the thickness of the obtained polyimide film is not particularly limited, in particular, when used as a base film of a TAB tape or FPC, the thickness of the film is preferably in the range of 10 to 125 μm, preferably 20 to 100 μm. Is more preferably in the range of 25 to 90 μm, and particularly preferably in the range of 40 to 80 μm.

 このようにして得られる、本発明にかかるポリイミドフィルムは、前述したように、100℃から200℃における平均線膨張係数が18〜28ppm/℃の範囲内であり、弾性率が4.5GPa以上、吸湿膨張係数が13ppm以下であるという条件を満たすものである。 As described above, the thus obtained polyimide film according to the present invention has an average linear expansion coefficient at 100 ° C. to 200 ° C. in the range of 18 to 28 ppm / ° C. and an elastic modulus of 4.5 GPa or more, This satisfies the condition that the coefficient of hygroscopic expansion is 13 ppm or less.

 (3)本発明の用途(本発明の有用性)
 本発明にかかるポリイミドフィルムは、その物性に応じた様々な用途に用いることができるが、特に、FPCや、TABテープ等に用いるFC(フィルムキャリア)テープに好適に用いることができる。本発明にかかるFCテープは、本発明にかかるポリイミドフィルム上に接着剤層を設け、接着剤層の上に保護層を設けて3層構造としたテープをいう。接着剤層の材質としては、例えばエポキシ系樹脂、ナイロン変性エポキシ系樹脂、アクリル系樹脂、ポリイミド系樹脂、フェノール系樹脂、フェノール変性エポキシ系樹脂、ポリアミドイミド系樹脂等が挙げられるが特にこれらに限定されるものではない。また、保護層の材質としても、例えばPET、EVA等が挙げられるが特にこれらに限定されるものではない。
(3) Use of the present invention (usefulness of the present invention)
The polyimide film according to the present invention can be used for various applications depending on its physical properties, and can be particularly suitably used for FC (film carrier) tape used for FPC, TAB tape and the like. The FC tape according to the present invention refers to a tape having a three-layer structure in which an adhesive layer is provided on the polyimide film according to the present invention, and a protective layer is provided on the adhesive layer. Examples of the material of the adhesive layer include, but are not particularly limited to, epoxy resins, nylon-modified epoxy resins, acrylic resins, polyimide resins, phenol resins, phenol-modified epoxy resins, polyamideimide resins, and the like. It is not done. Examples of the material of the protective layer include PET and EVA, but are not particularly limited thereto.

 また、本発明にかかるFPCやTABフィルムは、本発明にかかるポリイミドフィルムの少なくとも片面に、接着剤層を介して/又は介さずに金属導電層が形成されているものであれば特に限定されるものではない。換言すれば、本発明にかかるFPCやTABテープにおいては、上記ポリイミドフィルムからなる層と、金属導電層とを少なくとも有する構成であればよく、ポリイミドフィルムからなる層と金属導電層との間に接着剤層を有していても良い。また、ポリイミドフィルムからなる層(ベースフィルム)の片面のみに金属導電層が積層されていてもよいし、両面に金属導電層が積層されていてもよい。 Further, the FPC or TAB film according to the present invention is not particularly limited as long as a metal conductive layer is formed on at least one surface of the polyimide film according to the present invention with / without an adhesive layer. Not something. In other words, in the FPC or TAB tape according to the present invention, any structure having at least a layer made of the polyimide film and a metal conductive layer may be used, and an adhesive between the polyimide film layer and the metal conductive layer may be used. It may have an agent layer. Further, a metal conductive layer may be laminated on only one side of a layer (base film) made of a polyimide film, or a metal conductive layer may be laminated on both sides.

 したがって、本発明には、ポリイミドフィルム/金属導電層からなる2層構造の積層体、金属導電層/ポリイミドフィルム/金属導電層からなる3層構造の積層体、ポリイミドフィルム/接着剤層/金属導電層からなる3層構造の積層体、金属導電層/接着剤層/ポリイミドフィルム/接着剤層/金属導電層からなる5層構造の積層体等が含まれることになる。 Therefore, in the present invention, a laminate having a two-layer structure of a polyimide film / metal conductive layer, a laminate having a three-layer structure of a metal conductive layer / polyimide film / metal conductive layer, a polyimide film / adhesive layer / metal conductive layer A laminate having a three-layer structure composed of layers, a laminate having a five-layer structure composed of a metal conductive layer / adhesive layer / polyimide film / adhesive layer / metal conductive layer, and the like are included.

 上記接着剤層の材質としては、例えばエポキシ系樹脂、ナイロン変性エポキシ系樹脂、アクリル系樹脂、ポリイミド系樹脂、フェノール系樹脂、フェノール変性エポキシ系樹脂、ポリアミドイミド系樹脂等が挙げられるが特にこれらに限定されるものではない。また上記金属導電層に用いられる金属としては、例えば、銅等が挙げられるが特にこれらに限定されるものではない。 Examples of the material of the adhesive layer include, for example, an epoxy resin, a nylon-modified epoxy resin, an acrylic resin, a polyimide resin, a phenol resin, a phenol-modified epoxy resin, a polyamideimide resin, and the like. It is not limited. The metal used for the metal conductive layer includes, for example, copper, but is not particularly limited thereto.

 また、本発明にかかるポリイミドフィルムを用いて、接着剤を介して銅箔をラミネートした、FPCやTABテープを作成した場合、接着剤を完全硬化させ、かつ23℃、相対湿度60%の環境下で100時間調湿した後の反り量は、接着剤面を内側にした反りをプラス、接着剤面を外側にした反りをマイナスとして、次のようになる。銅をエッチングしない状態では、反り量は、好ましくは0.5mm以下、さらに好ましくは0mm以下、特に好ましくは−0.5mm以下である。また、銅箔をエッチングにより完全に除去した状態では、反り量は好ましくは3.0mm以下、更に好ましくは2.5mm以下、特に好ましくは2.0mm以下である。銅箔付き及び銅箔をエッチングにより完全に除去した状態の反り量がこれらの範囲を同時に満たすときに、加工および実装工程における反り由来の不具合点を解消することができる。 When an FPC or TAB tape is prepared by laminating a copper foil via an adhesive using the polyimide film according to the present invention, the adhesive is completely cured and is subjected to an environment of 23 ° C. and a relative humidity of 60%. After the humidity control for 100 hours, the amount of warpage is as follows, with the warpage having the adhesive surface inside as plus and the warpage with the adhesive surface outside as minus. When copper is not etched, the amount of warpage is preferably 0.5 mm or less, more preferably 0 mm or less, and particularly preferably -0.5 mm or less. When the copper foil is completely removed by etching, the amount of warpage is preferably 3.0 mm or less, more preferably 2.5 mm or less, and particularly preferably 2.0 mm or less. When the amount of warpage with the copper foil and the state where the copper foil is completely removed by etching simultaneously satisfies these ranges, it is possible to eliminate the problem caused by the warpage in the processing and mounting steps.

 以下、実施例及び比較例に基づいて本発明をより具体的に説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。なお、実施例又は比較例で得られたポリイミドフィルムの弾性率の測定はASTM D882に準じて行った。また、得られたポリイミドフィルムの線膨張係数、吸湿膨張係数は次のようにして測定した。 Hereinafter, the present invention will be described more specifically based on Examples and Comparative Examples, but the present invention is not limited thereto. In addition, the measurement of the elastic modulus of the polyimide film obtained by the Example or the comparative example was performed according to ASTM @ D882. The coefficient of linear expansion and the coefficient of hygroscopic expansion of the obtained polyimide film were measured as follows.

 〔線膨張係数の測定〕
 100℃から200℃の平均線膨張係数の測定は、セイコー電子(株)社製TMA120Cを用いて行った。サンプルサイズは幅3mm、長さ10mmとした。3gの荷重をかけ、10℃/minで10℃〜400℃まで一旦昇温させた後、10℃まで冷却した。さらに10℃/minで昇温させて、2回目の昇温時の100℃及び200℃における熱膨張率から平均値として計算した。
(Measurement of linear expansion coefficient)
The measurement of the average linear expansion coefficient from 100 ° C. to 200 ° C. was performed using TMA120C manufactured by Seiko Instruments Inc. The sample size was 3 mm in width and 10 mm in length. After applying a load of 3 g, the temperature was once increased from 10 ° C. to 400 ° C. at 10 ° C./min, and then cooled to 10 ° C. The temperature was further increased at 10 ° C./min, and the average value was calculated from the thermal expansion coefficients at 100 ° C. and 200 ° C. at the time of the second temperature increase.

 〔吸湿膨張係数の測定〕
 測定するフィルムを、50℃、相対湿度30%の環境試験機に24時間放置し、フィルム寸法(L1)を測定した。次にそのフィルムを50℃、相対湿度80%の環境試験機に24時間放置し、フィルム寸法(L2)を測定し、吸湿膨張係数を下記式より算出した。
(Measurement of coefficient of hygroscopic expansion)
The film to be measured was left in an environmental tester at 50 ° C. and a relative humidity of 30% for 24 hours, and the film size (L1) was measured. Next, the film was allowed to stand in an environmental tester at 50 ° C. and a relative humidity of 80% for 24 hours, the film size (L2) was measured, and the coefficient of hygroscopic expansion was calculated by the following equation.

 吸湿膨張係数(ppm)=(L1−L2)÷L1÷(80−30)×106
 また、得られたポリイミドフィルムから、次のようにTABテープを作成し、反りを測定した。
Hygroscopic expansion coefficient (ppm) = (L1-L2) {L1} (80-30) × 10 6
Also, a TAB tape was prepared from the obtained polyimide film as follows, and the warpage was measured.

 〔TABテープの作成〕
 ポリアミド樹脂(日本リルサン社製プラタボンドM1276)50重量部、ビスフェノールA型エポキシ樹脂(油化シェルエポキシ社製エピコート828)30重量部、クレゾールノボラック型エポキシ樹脂10重量部、トルエン/イソプロピルアルコール1/1混合溶液150重量部を混合した溶液に、ジアミノジフェニルスルホン/ジシアンジアミド4/1 20%メチルセロソルブ溶液45重量部を混合した接着剤溶液を調製した。
[Production of TAB tape]
50 parts by weight of a polyamide resin (Platabond M1276 manufactured by Nippon Rilsan Co., Ltd.), 30 parts by weight of a bisphenol A type epoxy resin (Epicoat 828 manufactured by Yuka Shell Epoxy), 10 parts by weight of a cresol novolac type epoxy resin, and toluene / isopropyl alcohol 1/1 mixed An adhesive solution was prepared by mixing 150 parts by weight of the solution with 45 parts by weight of a diaminodiphenyl sulfone / dicyandiamide 4/1 20% methyl cellosolve solution.

 25μm厚みのPETフィルム上に上記接着剤を、乾燥後11μmになるように塗布し、120℃で2分間乾燥した。得られたBステージ接着剤付きPETフィルムを26mm幅にスリットした。 The above-mentioned adhesive was applied on a PET film having a thickness of 25 μm to a thickness of 11 μm after drying, and dried at 120 ° C. for 2 minutes. The obtained PET film with the B-stage adhesive was slit to a width of 26 mm.

 35mm幅のポリイミドフィルムの中央部に、上記のBステージ接着剤付きPETフィルムを張り合わせ、90℃で1kg/cm2の圧力で圧着した。PETフィルムを剥がし、PETフィルムを剥がしたポリイミドフィルムの面に、銅箔(三井金属製、VLP18μm厚み)を、ロールラミネート法で張り合わせた(エッチング無しTABテープ)。張り合わせの温度は120℃、圧力は2kg/cm2である。 The PET film with the B-stage adhesive was bonded to the center of a 35 mm-wide polyimide film, and pressed at 90 ° C. under a pressure of 1 kg / cm 2 . A PET film was peeled off, and a copper foil (manufactured by Mitsui Kinzoku Co., Ltd., VLP 18 μm thickness) was adhered to the surface of the polyimide film from which the PET film was peeled off by a roll lamination method (an TAB tape without etching). The bonding temperature is 120 ° C. and the pressure is 2 kg / cm 2 .

 上記銅張あわせ品を、60℃で3時間、80℃で3時間、120℃で3時間、140℃で3時間、160℃で4時間のステップで加熱後徐冷して接着剤の硬化を行った。得られたテープを「銅付きテープ」とした。 The copper-clad product is heated at 60 ° C. for 3 hours, at 80 ° C. for 3 hours, at 120 ° C. for 3 hours, at 140 ° C. for 3 hours, and at 160 ° C. for 4 hours, and then gradually cooled to cure the adhesive. went. The obtained tape was designated as "tape with copper".

 接着剤の硬化後、銅箔をエッチングにより完全に除去した。得られたテープを「銅フルエッチングテープ」とした。 (4) After the adhesive was cured, the copper foil was completely removed by etching. The obtained tape was designated as "copper full etching tape".

 〔反り量の測定〕
 反り量の値は、上記の手順で作成したTABテープを、長さ40mm×幅35mm角に切り出して測定した。試験片を、相対湿度60%、温度23℃の部屋に72時間放置したのち、平面上に静置し、4隅のうき上がり高さを測定した。反り量の値は、4点のデータの平均値で示した。
[Measurement of warpage]
The value of the amount of warpage was measured by cutting out the TAB tape prepared in the above procedure into a length of 40 mm and a width of 35 mm. The test piece was allowed to stand in a room at a relative humidity of 60% and a temperature of 23 ° C. for 72 hours, then allowed to stand on a flat surface, and the lifted heights of four corners were measured. The value of the amount of warpage was indicated by an average value of data at four points.

 〔実施例1〕
 N,N−ジメチルホルムアミド(DMF)407.5gに、4,4’−オキシジアニリン(ODA)21.98gと、p−フェニレンジアミン(PDA)7.91gとを溶解して、この溶液を0℃に保った。ここに、3,3’,4,4’−ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物(BTDA)29.47gを徐々に添加し、1時間撹拌してBTDAを完全に溶解させた。この溶液にp-フェニレンビス(トリメリット酸モノエステル無水物)(TMHQ)25.15gを徐々に添加して1時間撹拌した後、さらにピロメリット酸二無水物(PMDA)7.98gを添加して1時間撹拌して23℃における溶液粘度3000ポイズ、固形分濃度18.5wt%のポリアミド酸溶液を得た。なお、このときに添加したモノマー成分のmol%を表1に示す。なお、表1および後述する表3においては、モノマー組成は、モノマーを添加した順序にしたがって、最上段から下方の段に向かって記載されている。
[Example 1]
21.98 g of 4,4′-oxydianiline (ODA) and 7.91 g of p-phenylenediamine (PDA) were dissolved in 407.5 g of N, N-dimethylformamide (DMF), and the solution was dissolved in 0. C. Here, 29.47 g of 3,3 ′, 4,4′-benzophenonetetracarboxylic dianhydride (BTDA) was gradually added, and the mixture was stirred for 1 hour to completely dissolve BTDA. To this solution, 25.15 g of p-phenylenebis (trimellitic acid monoester anhydride) (TMHQ) was gradually added, and the mixture was stirred for 1 hour. Then, 7.98 g of pyromellitic dianhydride (PMDA) was further added. After stirring for 1 hour, a polyamic acid solution having a solution viscosity of 3000 poise at 23 ° C. and a solid concentration of 18.5 wt% was obtained. Table 1 shows mol% of the monomer components added at this time. In Table 1 and Table 3 described later, the monomer composition is described from the top to the bottom in the order in which the monomers were added.

 このポリアミド酸溶液100gに無水酢酸11.4g、イソキノリン4.8gおよびDMF33.8gからなる硬化剤を混合し、攪拌した。得られた溶液を、遠心分離により脱泡した後、アルミ箔上に流延塗布した。攪拌から脱泡までは0℃に冷却しながら行った。得られたアルミ箔とポリアミド酸溶液の積層体を90℃で600秒間加熱し、自己支持性を有するゲルフィルムを得た。このゲルフィルムをアルミ箔から剥がし、フレームに固定した。このゲルフィルムを120℃、250℃、350℃、450℃で各180秒間加熱した後、400℃の遠赤外線オーブンでさらに180秒間加熱処理した。このようにして得られた厚み50μmのポリイミドフィルムを用い、上記方法に従ってTABテープを作成した。 硬化 To 100 g of this polyamic acid solution, a curing agent consisting of 11.4 g of acetic anhydride, 4.8 g of isoquinoline and 33.8 g of DMF was mixed and stirred. The resulting solution was defoamed by centrifugation, and then cast on an aluminum foil. The process from stirring to defoaming was performed while cooling to 0 ° C. The laminate of the obtained aluminum foil and the polyamic acid solution was heated at 90 ° C. for 600 seconds to obtain a self-supporting gel film. This gel film was peeled off from the aluminum foil and fixed to a frame. The gel film was heated at 120 ° C., 250 ° C., 350 ° C., and 450 ° C. for 180 seconds, respectively, and then heat-treated in a 400 ° C. far-infrared oven for another 180 seconds. Using the thus obtained polyimide film having a thickness of 50 μm, a TAB tape was prepared according to the above method.

 得られたポリイミドフィルムの弾性率、平均線膨張係数、吸湿膨張係数、及びTABテープの反り量を「銅付きテープ」と「銅フルエッチングテープ」について測定した。測定の結果を表2に示す。 (4) The modulus of elasticity, the average coefficient of linear expansion, the coefficient of hygroscopic expansion, and the amount of warpage of the TAB tape of the obtained polyimide film were measured for the “tape with copper” and “copper fully etched tape”. Table 2 shows the measurement results.

 〔実施例2〕
 DMF407.5gにODA17.90gと、PDA9.67gとを溶解して、この溶液を0℃に保った。ここに、BTDA28.81gを徐々に添加し、1時間撹拌してBTDAを完全に溶解させた。この溶液にTMHQ24.59gを徐々に添加して1時間撹拌した後、さらにBTDA11.52gを添加して1時間撹拌して23℃における溶液粘度2800ポイズ、固形分濃度18.5wt%のポリアミド酸溶液を得た。なお、このときに添加したモノマー成分のmol%を表1に示す。また、表1中でBTDAのmol%が50および20となっているのは、最初に加えたBPDAと後から加えたBPDAの量を示している。
[Example 2]
17.90 g of ODA and 9.67 g of PDA were dissolved in 407.5 g of DMF, and the solution was kept at 0 ° C. Here, 28.81 g of BTDA was gradually added and stirred for 1 hour to completely dissolve BTDA. 24.59 g of TMHQ was gradually added to this solution, and the mixture was stirred for 1 hour. Further, 11.52 g of BTDA was added, and the mixture was stirred for 1 hour. The polyamic acid solution had a solution viscosity of 2800 poise at 23 ° C. and a solid concentration of 18.5 wt%. Got. Table 1 shows mol% of the monomer components added at this time. Further, the fact that the mol% of BTDA is 50 or 20 in Table 1 indicates the amount of BPDA added first and the amount of BPDA added later.

 このポリアミド酸溶液を用いた以外は実施例1と同様にして厚み50μmのポリイミドフィルム及びTABテープを得た。ポリイミドフィルム及びTABテープの特性を表2に示す。 50A 50 μm-thick polyimide film and TAB tape were obtained in the same manner as in Example 1 except that this polyamic acid solution was used. Table 2 shows the properties of the polyimide film and the TAB tape.

 〔実施例3〕
 DMF407.5gにODA17.90g、PDA9.67gを溶解して、この溶液を0℃に保った。ここに、BTDA38.61gを徐々に添加し、1時間撹拌してBTDAを完全に溶解させた。この溶液にTMHQ24.59gを徐々に添加して1時間撹拌した後、さらにBTDA1.73gを添加して1時間撹拌して23℃における溶液粘度310000ポイズ、固形分濃度18.5wt%のポリアミド酸溶液を得た。なお、このときに添加したモノマー成分のmol%を表1に示す。また、表1中でBTDAのmol%が50および20となっているのは、最初に加えたBPDAと後から加えたBPDAの量を示している。
[Example 3]
17.90 g of ODA and 9.67 g of PDA were dissolved in 407.5 g of DMF, and the solution was kept at 0 ° C. Here, 38.61 g of BTDA was gradually added and stirred for 1 hour to completely dissolve BTDA. 24.59 g of TMHQ was gradually added to this solution, and the mixture was stirred for 1 hour. Then, 1.73 g of BTDA was further added and stirred for 1 hour, and the polyamic acid solution having a solution viscosity of 310,000 poise at 23 ° C. and a solid concentration of 18.5 wt% was added. Got. Table 1 shows mol% of the monomer components added at this time. Further, the fact that the mol% of BTDA is 50 or 20 in Table 1 indicates the amount of BPDA added first and the amount of BPDA added later.

 このポリアミド酸溶液を用いた以外は実施例1と同様にして厚み50μmのポリイミドフィルム及びTABテープを得た。ポリイミドフィルム及びTABテープの特性を表2に示す。 50A 50 μm-thick polyimide film and TAB tape were obtained in the same manner as in Example 1 except that this polyamic acid solution was used. Table 2 shows the properties of the polyimide film and the TAB tape.

 〔実施例4〕
 DMF407.5gにODA19.86g、PDA8.77gを溶解して、この溶液を0℃に保った。ここに、BTDA29.04gを徐々に添加し、1時間撹拌してBTDAを完全に溶解させた。この溶液にTMHQ28.92gを徐々に添加して1時間撹拌した後、さらにPMDA5.90gを添加して1時間撹拌して23℃における溶液粘度2900ポイズ、固形分濃度18.5wt%のポリアミド酸溶液を得た。なお、このときに添加したモノマー成分のmol%を表1に示す。
[Example 4]
19.86 g of ODA and 8.77 g of PDA were dissolved in 407.5 g of DMF, and the solution was kept at 0 ° C. Here, 29.04 g of BTDA was gradually added and stirred for 1 hour to completely dissolve BTDA. After slowly adding 28.92 g of TMHQ to this solution and stirring for 1 hour, further adding 5.90 g of PMDA and stirring for 1 hour, a polyamic acid solution having a solution viscosity of 2900 poise at 23 ° C. and a solid concentration of 18.5 wt%. Got. Table 1 shows mol% of the monomer components added at this time.

 このポリアミド酸溶液を用いた以外は実施例1と同様にして厚み50μmのポリイミドフィルム及びTABテープを得た。ポリイミドフィルム及びTABテープの特性を表2に示す。 50A 50 μm-thick polyimide film and TAB tape were obtained in the same manner as in Example 1 except that this polyamic acid solution was used. Table 2 shows the properties of the polyimide film and the TAB tape.

 〔実施例5〕
 DMF407.5gにODA18.66g、PDA10.07gを溶解して、この溶液を0℃に保った。ここに、BTDA30.02gを徐々に添加し、1時間撹拌してBTDAを完全に溶解させた。この溶液にTMHQ25.62gを徐々に添加して1時間撹拌した後、さらにPMDA8.13gを添加して1時間撹拌して23℃における溶液粘度3200ポイズ、固形分濃度18.5wt%のポリアミド酸溶液を得た。なお、このときに添加したモノマー成分のmol%を表1に示す。
[Example 5]
18.66 g of ODA and 10.07 g of PDA were dissolved in 407.5 g of DMF, and the solution was kept at 0 ° C. Here, 30.02 g of BTDA was gradually added, and the mixture was stirred for 1 hour to completely dissolve BTDA. 25.62 g of TMHQ was gradually added to this solution, and the mixture was stirred for 1 hour. Then, 8.13 g of PMDA was further added and stirred for 1 hour, and the polyamic acid solution having a solution viscosity of 3200 poise at 23 ° C. and a solid concentration of 18.5 wt% was added. Got. Table 1 shows mol% of the monomer components added at this time.

 このポリアミド酸溶液を用いた以外は実施例1と同様にして厚み50μmのポリイミドフィルム及びTABテープを得た。ポリイミドフィルム及びTABテープの特性を表2に示す。 50A 50 μm-thick polyimide film and TAB tape were obtained in the same manner as in Example 1 except that this polyamic acid solution was used. Table 2 shows the properties of the polyimide film and the TAB tape.

 〔実施例6〕
 DMF407.5gにODA22.92g、PDA8.25gを溶解して、この溶液を0℃に保った。ここに、BTDA18.44gを徐々に添加し、1時間撹拌してBTDAを完全に溶解させた。この溶液にTMHQ26.23gを徐々に添加して1時間撹拌した後、さらにPMDA16.65gを添加して1時間撹拌して23℃における溶液粘度3000ポイズ、固形分濃度18.5wt%のポリアミド酸溶液を得た。なお、このときに添加したモノマー成分のmol%を表1に示す。
[Example 6]
22.92 g of ODA and 8.25 g of PDA were dissolved in 407.5 g of DMF, and the solution was kept at 0 ° C. Here, 18.44 g of BTDA was gradually added and stirred for 1 hour to completely dissolve BTDA. To this solution, 26.23 g of TMHQ was gradually added, and the mixture was stirred for 1 hour. Then, 16.65 g of PMDA was further added, and the mixture was stirred for 1 hour. The polyamic acid solution having a solution viscosity of 3000 poise at 23 ° C. and a solid concentration of 18.5 wt% was added. Got. Table 1 shows mol% of the monomer components added at this time.

 このポリアミド酸溶液を用いた以外は実施例1と同様にして厚み50μmのポリイミドフィルム及びTABテープを得た。ポリイミドフィルム及びTABテープの特性を表2に示す。 50A 50 μm-thick polyimide film and TAB tape were obtained in the same manner as in Example 1 except that this polyamic acid solution was used. Table 2 shows the properties of the polyimide film and the TAB tape.

 〔実施例7〕
 DMF407.5gにODA25.13g、PDA7.31gを溶解して、この溶液を0℃に保った。ここに、BTDA12.44gを徐々に添加し、1時間撹拌してBTDAを完全に溶解させた。この溶液にTMHQ26.55gを徐々に添加して1時間撹拌した後、さらにPMDA21.06gを添加して1時間撹拌して23℃における溶液粘度3000ポイズ、固形分濃度18.5wt%のポリアミド酸溶液を得た。なお、このときに添加したモノマー成分のmol%を表1に示す。
[Example 7]
25.13 g of ODA and 7.31 g of PDA were dissolved in 407.5 g of DMF, and the solution was kept at 0 ° C. To this, 12.44 g of BTDA was gradually added and stirred for 1 hour to completely dissolve BTDA. 26.55 g of TMHQ was gradually added to this solution, and the mixture was stirred for 1 hour. Further, 21.06 g of PMDA was added, and the mixture was stirred for 1 hour. The polyamic acid solution having a solution viscosity of 3000 poise at 23 ° C. and a solid concentration of 18.5 wt% was added. Got. Table 1 shows mol% of the monomer components added at this time.

 このポリアミド酸溶液を用いた以外は実施例1と同様にして厚み50μmのポリイミドフィルム及びTABテープを得た。ポリイミドフィルム及びTABテープの特性を表2に示す。 50A 50 μm-thick polyimide film and TAB tape were obtained in the same manner as in Example 1 except that this polyamic acid solution was used. Table 2 shows the properties of the polyimide film and the TAB tape.

 〔実施例8〕
 DMF407.5gにODA18.86g、PDA10.19gを溶解して、この溶液を0℃に保った。ここに、3,3’,4,4’−ビフェニルテトラカルボン酸二無水(BPDA)11.09gを徐々に添加し、1時間撹拌してBPDAを完全に溶解させた。この溶液にBTDA18.22gを徐々に添加して1時間撹拌後、TMHQ25.91gを添加して1時間撹拌、さらにPMDA8.22gを添加して23℃における溶液粘度2700ポイズ、固形分濃度18.5wt%のポリアミド酸溶液を得た。なお、このときに添加したモノマー成分のmol%を表1に示す。
Example 8
18.86 g of ODA and 10.19 g of PDA were dissolved in 407.5 g of DMF, and the solution was kept at 0 ° C. Here, 11.09 g of 3,3 ′, 4,4′-biphenyltetracarboxylic dianhydride (BPDA) was gradually added, and the mixture was stirred for 1 hour to completely dissolve BPDA. To this solution, 18.22 g of BTDA was gradually added, and the mixture was stirred for 1 hour. 25.91 g of TMHQ was added, followed by stirring for 1 hour. Further, 8.22 g of PMDA was added, the solution had a viscosity of 2700 poise at 23 ° C. and a solid concentration of 18.5 wt. % Polyamic acid solution was obtained. Table 1 shows mol% of the monomer components added at this time.

 このポリアミド酸溶液を用いた以外は実施例1と同様にして厚み50μmのポリイミドフィルム及びTABテープを得た。ポリイミドフィルム及びTABテープの特性を表2に示す。 50A 50 μm-thick polyimide film and TAB tape were obtained in the same manner as in Example 1 except that this polyamic acid solution was used. Table 2 shows the properties of the polyimide film and the TAB tape.

 〔比較例1〕
 DMF407.5gにODA21.48g、PDA11.06gを溶解して、この溶液を0℃に保った。ここに、BPDA31.56gを徐々に添加し、2時間撹拌してBPDAを完全に溶解させた。この溶液にPMDA14.04gを徐々に添加して1時間撹拌した後、さらにBTDA13.83gを添加して1時間撹拌して23℃における溶液粘度2800ポイズ、固形分濃度18.5wt%のポリアミド酸溶液を得た。なお、このときに添加したモノマー成分のmol%を表3に示す。
[Comparative Example 1]
21.48 g of ODA and 11.06 g of PDA were dissolved in 407.5 g of DMF, and the solution was kept at 0 ° C. To this, 31.56 g of BPDA was gradually added and stirred for 2 hours to completely dissolve BPDA. 14.04 g of PMDA was gradually added to this solution, and the mixture was stirred for 1 hour. Then, 13.83 g of BTDA was further added and stirred for 1 hour, and the polyamic acid solution having a solution viscosity of 2800 poise at 23 ° C. and a solid concentration of 18.5 wt% was added. Got. Table 3 shows mol% of the monomer components added at this time.

 このポリアミド酸溶液を用いた以外は実施例1と同様にして厚み50μmのポリイミドフィルム及びTABテープを得た。ポリイミドフィルム及びTABテープの特性を表4に示す。 50A 50 μm-thick polyimide film and TAB tape were obtained in the same manner as in Example 1 except that this polyamic acid solution was used. Table 4 shows the characteristics of the polyimide film and the TAB tape.

 〔比較例2〕
 DMF407.5gにODA19.20g、PDA10.37gを溶解して、この溶液を0℃に保った。ここに、BPDA28.21gを徐々に添加し、2時間撹拌してBPDAを完全に溶解させた。この溶液にTMHQ26.36gを徐々に添加して1時間撹拌した後、さらにPMDA8.36gを添加して1時間撹拌して23℃における溶液粘度2800ポイズ、固形分濃度18.5wt%のポリアミド酸溶液を得た。なお、このときに添加したモノマー成分のmol%を表3に示す。
[Comparative Example 2]
19.20 g of ODA and 10.37 g of PDA were dissolved in 407.5 g of DMF, and the solution was kept at 0 ° C. To this, 28.21 g of BPDA was gradually added and stirred for 2 hours to completely dissolve BPDA. To this solution was gradually added 26.36 g of TMHQ and stirred for 1 hour. Then, 8.36 g of PMDA was further added and stirred for 1 hour. The polyamic acid solution having a solution viscosity of 2800 poise at 23 ° C. and a solid concentration of 18.5 wt% was added. Got. Table 3 shows mol% of the monomer components added at this time.

 このポリアミド酸溶液を用いた以外は実施例1と同様にして厚み50μmのポリイミドフィルム及びTABテープを得た。ポリイミドフィルム及びTABテープの特性を表4に示す。 50A 50 μm-thick polyimide film and TAB tape were obtained in the same manner as in Example 1 except that this polyamic acid solution was used. Table 4 shows the characteristics of the polyimide film and the TAB tape.

 〔比較例3〕
 DMF407.5gにODA19.92gを溶解して、この溶液を0℃に保った。ここに、PMDA16.49gを徐々に添加し、1時間撹拌してPMDAを完全に溶解させた。この溶液にPDA10.76gを溶解させた後、17.57gのBPDAを徐々に添加して2時間攪拌し、BPDAを完全に溶解させた。さらに、TMHQ26.45gを徐々に添加して1時間撹拌し、さらにPMDA1.30gを添加して1時間撹拌して23℃における溶液粘度3100ポイズ、固形分濃度18.5wt%のポリアミド酸溶液を得た。なお、このときに添加したモノマー成分のmol%を表3に示す。また、表3中でPMDAのmol%が50および20となっているのは、最初に加えたPMDAと後から加えたBPDAの量を示している。
[Comparative Example 3]
19.92 g of ODA was dissolved in 407.5 g of DMF, and the solution was kept at 0 ° C. To this, 16.49 g of PMDA was gradually added and stirred for 1 hour to completely dissolve PMDA. After dissolving 10.76 g of PDA in this solution, 17.57 g of BPDA was gradually added and stirred for 2 hours to completely dissolve BPDA. Further, 26.45 g of TMHQ was gradually added and stirred for 1 hour. Further, 1.30 g of PMDA was added and stirred for 1 hour to obtain a polyamic acid solution having a solution viscosity of 3100 poise at 23 ° C. and a solid concentration of 18.5 wt%. Was. Table 3 shows mol% of the monomer components added at this time. Further, the fact that the mol% of PMDA is 50 or 20 in Table 3 indicates the amount of PMDA added first and the amount of BPDA added later.

 このポリアミド酸溶液を用いた以外は実施例1と同様にして厚み50μmのポリイミドフィルム及びTABテープを得た。ポリイミドフィルム及びTABテープの特性を表4に示す。 50A 50 μm-thick polyimide film and TAB tape were obtained in the same manner as in Example 1 except that this polyamic acid solution was used. Table 4 shows the characteristics of the polyimide film and the TAB tape.

 〔比較例4〕
 DMF407.5gにODA30.21g、PDA5.15gを溶解して、この溶液を0℃に保った。ここに、TMHQ26.39gを徐々に添加して1時間撹拌した後、さらにPMDA30.75gを添加して1時間撹拌して23℃における溶液粘度2900ポイズ、固形分濃度18.5wt%のポリアミド酸溶液を得た。なお、このときに添加したモノマー成分のmol%を表3に示す。
[Comparative Example 4]
30.21 g of ODA and 5.15 g of PDA were dissolved in 407.5 g of DMF, and the solution was kept at 0 ° C. Here, 26.39 g of TMHQ was gradually added, and the mixture was stirred for 1 hour. Then, 30.75 g of PMDA was added, and the mixture was stirred for 1 hour. The polyamic acid solution had a solution viscosity of 2900 poise at 23 ° C. and a solid concentration of 18.5 wt%. Got. Table 3 shows mol% of the monomer components added at this time.

 このポリアミド酸溶液を用いた以外は実施例1と同様にして厚み50μmのポリイミドフィルム及びTABテープを得た。ポリイミドフィルム及びTABテープの特性を表4に示す。 50A 50 μm-thick polyimide film and TAB tape were obtained in the same manner as in Example 1 except that this polyamic acid solution was used. Table 4 shows the characteristics of the polyimide film and the TAB tape.

 〔比較例5〕
 DMF407.5gにODA44.27gを溶解して、この溶液を0℃に保った。ここに、PMDA48.23gを徐々に添加し、2時間撹拌してPMDAを完全に溶解させて23℃における溶液粘度2800ポイズ、固形分濃度18.5wt%のポリアミド酸溶液を得た。なお、このときに添加したモノマー成分のmol%を表3に示す。
[Comparative Example 5]
44.27 g of ODA was dissolved in 407.5 g of DMF, and the solution was kept at 0 ° C. Here, 48.23 g of PMDA was gradually added, and the mixture was stirred for 2 hours to completely dissolve PMDA to obtain a polyamic acid solution having a solution viscosity of 2800 poise at 23 ° C. and a solid concentration of 18.5 wt%. Table 3 shows mol% of the monomer components added at this time.

 このポリアミド酸溶液を用いた以外は実施例1と同様にして厚み50μmのポリイミドフィルム及びTABテープを得た。ポリイミドフィルム及びTABテープの特性を表4に示す。 50A 50 μm-thick polyimide film and TAB tape were obtained in the same manner as in Example 1 except that this polyamic acid solution was used. Table 4 shows the characteristics of the polyimide film and the TAB tape.

 〔比較例6〕
 DMF407.5gに、ODA24.87g、PDA13.43gを溶解して、この溶液を0℃に保った。ここに、PMDA54.19gを徐々に添加し、2時間撹拌してPMDAを完全に溶解させて23℃における溶液粘度2900ポイズ、固形分濃度18.5wt%のポリアミド酸溶液を得た。なお、このときに添加したモノマー成分のmol%を表3に示す。
[Comparative Example 6]
24.87 g of ODA and 13.43 g of PDA were dissolved in 407.5 g of DMF, and the solution was kept at 0 ° C. Here, 54.19 g of PMDA was gradually added, and the mixture was stirred for 2 hours to completely dissolve PMDA to obtain a polyamic acid solution having a solution viscosity of 2900 poise at 23 ° C. and a solid content concentration of 18.5 wt%. Table 3 shows mol% of the monomer components added at this time.

 このポリアミド酸溶液を用いた以外は実施例1と同様にして厚み50μmのポリイミドフィルム及びTABテープを得た。ポリイミドフィルム及びTABテープの特性を表4に示す。 50A 50 μm-thick polyimide film and TAB tape were obtained in the same manner as in Example 1 except that this polyamic acid solution was used. Table 4 shows the characteristics of the polyimide film and the TAB tape.

 〔比較例7〕
 DMF489gにODA26.19g、PDA14.14gを溶解して、この溶液を0℃に保った。ここに、BTDA42.14gを徐々に添加して1時間撹拌した後、さらにPMDA28.53gを徐々に添加し、2時間撹拌してPMDAを完全に溶解させて23℃における溶液粘度3000ポイズ、固形分濃度18.5wt%のポリアミド酸溶液を得た。なお、このときに添加したモノマー成分のmol%を表3に示す。
[Comparative Example 7]
26.19 g of ODA and 14.14 g of PDA were dissolved in 489 g of DMF, and the solution was kept at 0 ° C. Here, 42.14 g of BTDA was gradually added, and the mixture was stirred for 1 hour. Then, 28.53 g of PMDA was gradually added, and the mixture was stirred for 2 hours to completely dissolve PMDA. A polyamic acid solution having a concentration of 18.5% by weight was obtained. Table 3 shows mol% of the monomer components added at this time.

 このポリアミド酸溶液を用いた以外は実施例1と同様にして厚み50μmのポリイミドフィルム及びTABテープを得た。ポリイミドフィルム及びTABテープの特性を表4に示す。 50A 50 μm-thick polyimide film and TAB tape were obtained in the same manner as in Example 1 except that this polyamic acid solution was used. Table 4 shows the characteristics of the polyimide film and the TAB tape.

 〔比較例8〕
 上述した特許文献2に開示されている、酸成分として3,3’,4,4’−ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物を用いる実施例11と同様のモノマー組成でポリアミド酸を得た。各モノマーの添加重量は、PPD5.93g;PMDA11.64g;ODA32.97g;BTDA17.68g;PMDA24.28gであった。
[Comparative Example 8]
Polyamic acid was obtained with a monomer composition similar to that of Example 11 using 3,3 ′, 4,4′-benzophenonetetracarboxylic dianhydride as an acid component as disclosed in Patent Document 2 described above. The addition weight of each monomer was 5.93 g of PPD; 11.64 g of PMDA; 32.97 g of ODA; 17.68 g of BTDA; and 24.28 g of PMDA.

 このポリアミド酸溶液を用いた以外は実施例1と同様にして厚み50μmのポリイミドフィルムを得、吸湿膨張係数を測定したところ、18ppmであり、非常に大きな値となった。このことから、上記特許文献2に開示されている技術では、吸湿膨張係数を小さくすることは実現できていない。 50A polyimide film having a thickness of 50 μm was obtained in the same manner as in Example 1 except that this polyamic acid solution was used, and the coefficient of hygroscopic expansion was measured. As a result, it was 18 ppm, which was a very large value. For this reason, the technique disclosed in Patent Literature 2 cannot reduce the coefficient of hygroscopic expansion.

Figure 2004124091
Figure 2004124091

Figure 2004124091
 表2に示すように、実施例1〜8で製造され、評価されたポリイミドフィルムは、100℃から200℃における平均線膨張係数が18ppm/℃以上、28ppm/℃以下であり、弾性率が4.5GPa以上、吸湿膨張係数が13ppm以下であり、本発明にかかるポリイミドフィルムとして、優れた物性を示した。また、「銅付きテープ」における反り量は、全ての実施例で−0.5mm以下であり、「フルエッチテープ」における反り量も、全ての実施例で2.0mm以下であり、加工及び実装工程における反り由来の不具合点を解消できることが示された。
Figure 2004124091
As shown in Table 2, the polyimide films produced and evaluated in Examples 1 to 8 had an average linear expansion coefficient at 100 ° C. to 200 ° C. of 18 ppm / ° C. or more and 28 ppm / ° C. or less, and an elastic modulus of 4 0.5 GPa or more, the coefficient of hygroscopic expansion was 13 ppm or less, and the polyimide film according to the present invention exhibited excellent physical properties. Also, the amount of warpage in the “tape with copper” is −0.5 mm or less in all examples, and the amount of warpage in the “full-etch tape” is 2.0 mm or less in all examples. It was shown that the problem caused by the warpage in the process can be eliminated.

Figure 2004124091
Figure 2004124091

Figure 2004124091
 これに対して、表4に示すように、比較例1〜7で製造され、評価されたポリイミドフィルムは、100℃から200℃における平均線膨張係数、弾性率、吸湿膨張係数のいずれかが上記(1)〜(3)の条件を満たさず、本発明にかかるポリイミドフィルムに比べて明らかに物性が劣っていた。また、「銅付きテープ」における反り量は、比較例1、4、7で5mm以上であり、「フルエッチテープ」における反り量は、比較例6で3mm以上であり、本発明にかかるポリイミドフィルムに比べて物性が劣っていた。
Figure 2004124091
On the other hand, as shown in Table 4, the polyimide films produced and evaluated in Comparative Examples 1 to 7 had an average linear expansion coefficient at 100 ° C. to 200 ° C., an elastic modulus, and a coefficient of hygroscopic expansion of the above. The conditions (1) to (3) were not satisfied, and the physical properties were clearly inferior to those of the polyimide film according to the present invention. The warp amount in the “copper tape” is 5 mm or more in Comparative Examples 1, 4, and 7, and the warp amount in the “full-etch tape” is 3 mm or more in Comparative Example 6, and the polyimide film according to the present invention. Physical properties were inferior to those of.

 本発明にかかるポリイミドフィルムは、以上のように、主として芳香族ジアミンと芳香族テトラカルボン酸二無水物から合成されるポリアミド酸を用いて得られるポリイミドフィルムであって、上記芳香族テトラカルボン酸二無水物として3,3’,4,4’−ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物が含まれるとともに、100℃から200℃における平均線膨張係数が18ppm/℃以上、28ppm/℃以下であり、弾性率が4.5GPa以上であるとともに、吸湿膨張係数が13ppm以下であるものである。 As described above, the polyimide film according to the present invention is a polyimide film obtained by using a polyamic acid synthesized mainly from an aromatic diamine and an aromatic tetracarboxylic dianhydride, It contains 3,3 ′, 4,4′-benzophenonetetracarboxylic dianhydride as an anhydride, and has an average coefficient of linear expansion from 100 ° C. to 200 ° C. of 18 ppm / ° C. or more and 28 ppm / ° C. or less, and an elastic modulus. Is 4.5 GPa or more and the coefficient of hygroscopic expansion is 13 ppm or less.

 それゆえ、反りやカールを発生しないような線膨張係数と弾性率を併せ持つとともに、吸湿による寸法変化を原因とする反りやカールも発生しないポリイミドフィルムを提供することが可能となる。それゆえ、様々な電子機器において用いられるFPCやTABテープへの加工工程において、実装不良の原因となる反りやカールの発生を防止できる。 Therefore, it is possible to provide a polyimide film having both a linear expansion coefficient and an elastic modulus so as not to generate warpage or curl, and also not to generate warp or curl due to dimensional change due to moisture absorption. Therefore, it is possible to prevent the occurrence of warpage or curl which causes a mounting failure in a process of processing into an FPC or TAB tape used in various electronic devices.

 したがって、本発明は、ポリイミドフィルムを製造する化学産業や樹脂産業だけでなく、FPCやTABテープ等を利用した電子部品産業、さらには、電子部品を利用した電気電子機器産業にも好適に利用することができる。 Therefore, the present invention is suitably used not only in the chemical industry and the resin industry for producing a polyimide film, but also in the electronic component industry using FPC and TAB tape and the like, and further, in the electric / electronic equipment industry using electronic components. be able to.

Claims (14)

 主として芳香族ジアミンと芳香族テトラカルボン酸二無水物とから合成されるポリアミド酸を用いて得られるポリイミドフィルムであって、
 100〜200℃における平均線膨張係数が18〜28ppm、弾性率が4.5GPa以上、吸湿膨張係数が13ppm以下であり、
 芳香族テトラカルボン酸二無水物として、3,3’,4,4’−ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物を必須成分として用いてなるポリイミドフィルム。
A polyimide film obtained using a polyamic acid mainly synthesized from an aromatic diamine and an aromatic tetracarboxylic dianhydride,
An average linear expansion coefficient at 100 to 200 ° C. of 18 to 28 ppm, an elastic modulus of 4.5 GPa or more, and a moisture absorption expansion coefficient of 13 ppm or less,
A polyimide film comprising 3,3 ′, 4,4′-benzophenonetetracarboxylic dianhydride as an essential component as an aromatic tetracarboxylic dianhydride.
 全芳香族テトラカルボン酸二無水物成分を100mol%としたときに、3,3’,4,4’−ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物を、20〜60mol%の範囲内となるように用いることを特徴とする請求項1に記載のポリイミドフィルム。 Using 3,3 ′, 4,4′-benzophenonetetracarboxylic dianhydride as a total aromatic tetracarboxylic dianhydride component of 100 mol% so as to be within a range of 20 to 60 mol%. The polyimide film according to claim 1, wherein:  さらに、上記芳香族テトラカルボン酸二無水物成分として、芳香族エステル酸二無水物が用いられることを特徴とする請求項1または2に記載のポリイミドフィルム。 (3) The polyimide film according to (1) or (2), wherein an aromatic ester dianhydride is used as the aromatic tetracarboxylic dianhydride component.  全芳香族テトラカルボン酸二無水物成分を100mol%としたときに、上記芳香族エステル酸二無水物を、10〜60mol%の範囲内となるように用いることを特徴とする請求項3に記載のポリイミドフィルム。 The aromatic ester dianhydride is used in a range of 10 to 60 mol% when the total aromatic tetracarboxylic dianhydride component is 100 mol%. Polyimide film.  上記芳香族エステル酸二無水物として、p−フェニレンビス(トリメリット酸モノエステル無水物)が用いられることを特徴とする請求項3または4に記載のポリイミドフィルム。 (5) The polyimide film according to (3) or (4), wherein p-phenylenebis (trimellitic acid monoester anhydride) is used as the aromatic ester dianhydride.  上記芳香族ジアミン成分として、直線性ジアミンと、屈曲性ジアミンとを、それぞれ少なくとも1種類用いることを特徴とする請求項1〜5のいずれか1項に記載のポリイミドフィルム。 The polyimide film according to any one of claims 1 to 5, wherein at least one of a linear diamine and a flexible diamine is used as the aromatic diamine component.  全芳香族ジアミン成分を100mol%としたときに、上記直線性ジアミンおよび屈曲性ジアミンを、それぞれ、20〜80mol%の範囲内および80〜20mol%の範囲内で用いることを特徴とする請求項6に記載のポリイミドフィルム。 When the total aromatic diamine component is 100 mol%, the linear diamine and the flexible diamine are used in the range of 20 to 80 mol% and in the range of 80 to 20 mol%, respectively. 3. The polyimide film according to item 1.  上記直線性ジアミンとして、p−フェニレンジアミンが用いられることを特徴とする請求項6または7に記載のポリイミドフィルム。 The polyimide film according to claim 6, wherein p-phenylenediamine is used as the linear diamine.  上記屈曲性ジアミンとして、4,4’−オキシジアニリンが用いられることを特徴とする請求項6〜8のいずれか1項に記載のポリイミドフィルム。 The polyimide film according to any one of claims 6 to 8, wherein 4,4'-oxydianiline is used as the flexible diamine.  上記直線性ジアミンおよび屈曲性ジアミンは、ポリイミド分子中で、ランダムに分布していることを特徴とする請求項6〜9のいずれか1項に記載のポリイミドフィルム。 The polyimide film according to any one of claims 6 to 9, wherein the linear diamine and the flexible diamine are randomly distributed in the polyimide molecule.  少なくとも、
a)有機溶媒中で芳香族ジアミンと芳香族テトラカルボン酸二無水物とを反応させてポリアミド酸溶液を得る工程、
b)上記ポリアミド酸溶液を含む製膜ドープを支持体上に流延する工程、
c)上記製膜ドープを支持体上で加熱した後、支持体からゲルフィルムを引き剥がす工程、
d)更にゲルフィルムを加熱して、残存するアミド酸をイミド化し、乾燥させる工程、
を含むことを特徴とする請求項1〜10のいずれか1項に記載のポリイミドフィルムの製造方法。
at least,
a) a step of reacting an aromatic diamine and an aromatic tetracarboxylic dianhydride in an organic solvent to obtain a polyamic acid solution;
b) casting a film-forming dope containing the polyamic acid solution on a support,
c) a step of heating the film-forming dope on a support and then peeling off the gel film from the support;
d) further heating the gel film to imidize the remaining amic acid and drying it;
The method for producing a polyimide film according to any one of claims 1 to 10, comprising:
 少なくとも、脱水剤とイミド化触媒とを併用することを特徴とする請求項11に記載のポリイミドフィルムの製造方法。 12. The method for producing a polyimide film according to claim 11, wherein at least a dehydrating agent and an imidization catalyst are used in combination.  請求項1〜10の何れかに記載のポリイミドフィルム上に接着剤層および保護層を設けてなることを特徴とするFCテープ。 (11) An FC tape, comprising an adhesive layer and a protective layer provided on the polyimide film according to any one of (1) to (10).  請求項1〜10の何れかに記載のポリイミドフィルムからなる層と、金属導電層とを少なくとも有することを特徴とするフレキシブルプリント配線板。 A flexible printed wiring board comprising at least a layer made of the polyimide film according to any one of claims 1 to 10 and a metal conductive layer.
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