JPWO2007083526A1 - Polyimide film and use thereof - Google Patents

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    • C08J2379/04Polycondensates having nitrogen-containing heterocyclic rings in the main chain; Polyhydrazides; Polyamide acids or similar polyimide precursors
    • C08J2379/08Polyimides; Polyester-imides; Polyamide-imides; Polyamide acids or similar polyimide precursors

Abstract

高い屈曲性及び寸法安定性を有しかつ良好なハンドリング性を有するポリイミドフィルムおよびその利用を提供する。酸二無水物成分とジアミン成分とを重合してなるポリアミド酸をイミド化してなるポリイミドフィルムであって、上記ジアミン成分は、少なくとも、2,2−ビス(4−(4−アミノフェノキシ)フェニル)プロパンを含み、弾性率が4GPa未満で、かつ100〜200℃の平均線膨張係数が15〜30ppmであることを特徴とするポリイミドフィルム。フィルムの厚み、弾性率および線膨張係数を設計することにより高い屈曲性及び寸法安定性を有するフレキシブル銅張積層板が高収率で得ることができる。Provided are a polyimide film having high flexibility and dimensional stability and good handling properties, and use thereof. A polyimide film formed by imidizing a polyamic acid obtained by polymerizing an acid dianhydride component and a diamine component, wherein the diamine component is at least 2,2-bis (4- (4-aminophenoxy) phenyl) A polyimide film comprising propane, having an elastic modulus of less than 4 GPa, and an average linear expansion coefficient at 100 to 200 ° C. of 15 to 30 ppm. By designing the thickness, elastic modulus, and linear expansion coefficient of the film, a flexible copper-clad laminate having high flexibility and dimensional stability can be obtained in high yield.

Description

本発明は、ポリイミドフィルムおよびその利用に関するものであって、ますます高い屈曲耐性が要求されるフレキシブルプリント基板に好適に使用できるポリイミドフィルムおよびその利用に関するものである。   The present invention relates to a polyimide film and use thereof, and more particularly to a polyimide film that can be suitably used for a flexible printed circuit board that is required to have higher bending resistance and use thereof.

近年、エレクトロニクス製品の軽量化、小型化、高密度化にともない、各種プリント基板の需要が伸びているが、中でも、フレキシブル積層板(フレキシブルプリント配線板(以下、「FPC」ともいう)等とも称される)の需要が特に伸びている。フレキシブル積層板は、絶縁性フィルム上に金属箔からなる回路が形成された構造を有している。   In recent years, demand for various types of printed circuit boards has increased with the reduction in weight, size, and density of electronic products. Among these, flexible laminates (also referred to as “flexible printed circuit boards” (hereinafter also referred to as “FPC”)) are known. Demand) is growing particularly. The flexible laminate has a structure in which a circuit made of a metal foil is formed on an insulating film.

上記FPCは、一般に、各種絶縁材料により形成され、柔軟性を有する絶縁性フィルムを基板とし、この基板の表面に、各種接着材料を介して金属箔を加熱・圧着することにより貼りあわせる方法により製造される。上記絶縁性フィルムとしては、例えば、ポリイミドフィルムが好ましく用いられている。   The FPC is generally made of various insulating materials, and is manufactured by a method in which a flexible insulating film is used as a substrate, and a metal foil is bonded to the surface of the substrate by heating and pressure bonding through various adhesive materials. Is done. As the insulating film, for example, a polyimide film is preferably used.

上記FPCは、その需要が高まると同時に、その性能の改良が求められている。具体的には、近年の携帯電話などの高機能化および小型化に伴い、FPCに対して、高い屈曲性および寸法安定性が要求されている。このような要求を解決するために、FPCについて、様々な改良が行われている。   The FPC is required to improve its performance at the same time as its demand increases. Specifically, with high functionality and downsizing of mobile phones and the like in recent years, high flexibility and dimensional stability are required for FPC. In order to solve such a demand, various improvements have been made on the FPC.

例えば、高い屈曲性を実現するために、FPCに用いられるポリイミドフィルムの厚みを薄くしたり、銅層を薄くしたりするなどの試みがなされている。具体的には、特許文献1〜4に開示される技術を挙げることができる。   For example, in order to achieve high flexibility, attempts have been made to reduce the thickness of a polyimide film used for FPC, or to reduce the thickness of a copper layer. Specifically, the techniques disclosed in Patent Documents 1 to 4 can be listed.

特許文献1には、金属層又はフッ素樹脂層又はマット処理面のいずれかの処理層を表面に設けるポリイミドフィルムを用いた高屈曲性FPCが開示されている。上記ポリイミドフィルムとして、厚みが12.5μm以下のポリイミドフィルムが用いられている。   Patent Document 1 discloses a highly flexible FPC using a polyimide film on which a treatment layer of either a metal layer, a fluororesin layer, or a matte treatment surface is provided. As the polyimide film, a polyimide film having a thickness of 12.5 μm or less is used.

特許文献2には、屈曲性及び耐熱性に優れたFPCを作製し得るフレキシブル銅張積層板として、厚みが10μm以下のポリイミドフィルムの片面又は両面に、厚みが10μm以下の銅層を直接形成して得られるフレキシブル銅張積層板が開示されている。上記ポリイミドフィルムは、初期引張弾性率が400kg/mm2以上のポリイミド重合体からなることが記載されている。In Patent Document 2, as a flexible copper-clad laminate capable of producing an FPC having excellent flexibility and heat resistance, a copper layer having a thickness of 10 μm or less is directly formed on one or both sides of a polyimide film having a thickness of 10 μm or less. A flexible copper-clad laminate obtained in this way is disclosed. It is described that the polyimide film is made of a polyimide polymer having an initial tensile elastic modulus of 400 kg / mm 2 or more.

また、特許文献3には、FPC材料における柔軟性の低下を抑制するための銅張りポリイミドフィルムとして、特定の構成の接着剤層を介してポリイミドフィルムと銅箔とを接着してなる銅張りポリイミドフィルムが開示されている。上記ポリイミドフィルムの厚みは、12.5〜125μmであることが記載されている。   Patent Document 3 discloses a copper-clad polyimide obtained by adhering a polyimide film and a copper foil through an adhesive layer having a specific configuration as a copper-clad polyimide film for suppressing a decrease in flexibility in an FPC material. A film is disclosed. It is described that the polyimide film has a thickness of 12.5 to 125 μm.

さらに、特許文献4には、耐熱性、耐折性および屈曲性に優れたFPC用銅張積層板として、特定の構成の樹脂組成物をポリイミドフィルムに塗工した後、導電箔を積層することで得られるFPC用銅張積層板が開示されている。上記ポリイミドフィルムには、厚みが25μmのポリイミドフィルムが用いられている。   Furthermore, in Patent Document 4, as a copper-clad laminate for FPC having excellent heat resistance, folding resistance and flexibility, a conductive foil is laminated after a resin composition having a specific configuration is applied to a polyimide film. A copper-clad laminate for FPC obtained by the above is disclosed. As the polyimide film, a polyimide film having a thickness of 25 μm is used.

また、高い寸法安定性を実現するために、ポリイミドの組成を改変したり、ポリイミドの重合方法を改変したりする試みがなされている。具体的には、特許文献5〜9に開示される技術を挙げることができる。   In order to achieve high dimensional stability, attempts have been made to modify the polyimide composition or the polyimide polymerization method. Specifically, techniques disclosed in Patent Documents 5 to 9 can be listed.

特許文献5には、フィルム厚みが5〜20μm、ヤング率が4〜7GPa、熱膨張係数が14〜22ppm/℃フレキシブルプリント基板用ポリイミドフィルムが開示されている。当該ポリイミドフィルムは、特定の芳香族ジアミン成分および芳香族テトラカルボン酸類化合物成分を含むポリイミドフィルムである。   Patent Document 5 discloses a polyimide film for a flexible printed circuit board having a film thickness of 5 to 20 μm, a Young's modulus of 4 to 7 GPa, and a thermal expansion coefficient of 14 to 22 ppm / ° C. The said polyimide film is a polyimide film containing a specific aromatic diamine component and an aromatic tetracarboxylic acid compound component.

特許文献6には、高弾性率、アルカリエッチング性、柔軟性、低湿度膨張係数、熱寸法安定性および製膜性にも優れたポリイミドフィルムが開示されている。具体的には、少なくともピロメリット酸二無水物、並びに3,4’−オキシジアニリン及び4,4’−オキシジアニリンを用い、該3,4’−オキシジアニリンがジアミンを基準に5モル%以上50モル%未満であるポリアミド酸から製造されるポリイミドフィルムである。当該ポリイミドフィルムのヤング率は、4.0〜6.5[GPa]である。   Patent Document 6 discloses a polyimide film excellent in high elastic modulus, alkali etching property, flexibility, low humidity expansion coefficient, thermal dimensional stability and film forming property. Specifically, at least pyromellitic dianhydride, and 3,4′-oxydianiline and 4,4′-oxydianiline are used, and the 3,4′-oxydianiline is 5 mol based on diamine. It is a polyimide film manufactured from polyamic acid which is not less than 50% and less than 50% by mole. The Young's modulus of the polyimide film is 4.0 to 6.5 [GPa].

特許文献7には、熱的寸法安定性とすぐれた機械的性質を有するポリイミド共重合体が開示されている。特許文献7のポリイミド共重合体の製造に用いられるポリアミド酸では、ジアミン成分として4,4’−ジアミノジフェニルエーテル(以下、「ODA」ともいう)及びパラフェニレンジアミン(以下、「p−PDA」ともいう)が用いられている。また、上記ポリアミド酸の製造では、まず、上記2つのジアミンのうちの一方のジアミンをピロメリット酸二無水物(以下、「PMDA」ともいう)と反応させて酸無水物末端のアミド酸プレポリマーを合成している。その後、他方のジアミンをこの酸無水物末端のアミド酸プレポリマーと反応させることにより、上記ポリアミド酸を製造している。このようなポリアミド酸を用いることにより、熱的寸法安定性とすぐれた機械的性質を有するポリイミドが得られることが開示されている。   Patent Document 7 discloses a polyimide copolymer having thermal dimensional stability and excellent mechanical properties. In the polyamic acid used for the production of the polyimide copolymer of Patent Document 7, 4,4′-diaminodiphenyl ether (hereinafter also referred to as “ODA”) and paraphenylenediamine (hereinafter also referred to as “p-PDA”) as the diamine component. ) Is used. In addition, in the production of the polyamic acid, first, one of the two diamines is reacted with pyromellitic dianhydride (hereinafter also referred to as “PMDA”) to obtain an acid anhydride-terminated amic acid prepolymer. Is synthesized. Thereafter, the polyamic acid is produced by reacting the other diamine with the acid anhydride-terminated amic acid prepolymer. It is disclosed that by using such a polyamic acid, a polyimide having excellent thermal dimensional stability and mechanical properties can be obtained.

特許文献8にも、熱的寸法安定性とすぐれた機械的性質を有するポリイミド共重合体が開示されている。このポリイミド共重合体の製造に用いられるポリアミド酸では、ジアミンとして、ODA及びp−PDAが用いられている。上記ポリアミド酸の製造では、まず、上記2種のジアミンのうち一方のジアミンを80重量%以上含有するジアミン成分とPMDAを70重量%以上含有する芳香族テトラカルボン酸二無水物成分とを反応させることにより酸無水物末端のアミド酸プレポリマーを合成している。次いで、このアミド酸プレポリマーと、上記2種のジアミンのうちもう一方のジアミンを80重量%以上含有するジアミン成分とを反応させてポリアミド酸を合成している。こうして得られるポリアミド酸を用いることにより、熱的寸法安定性とすぐれた機械的性質を有するポリイミドが得られることが開示されている。   Patent Document 8 also discloses a polyimide copolymer having thermal dimensional stability and excellent mechanical properties. In the polyamic acid used for the production of this polyimide copolymer, ODA and p-PDA are used as diamines. In the production of the polyamic acid, first, a diamine component containing 80% by weight or more of one of the two kinds of diamines is reacted with an aromatic tetracarboxylic dianhydride component containing 70% by weight or more of PMDA. Thus, an acid anhydride-terminated amic acid prepolymer is synthesized. Next, a polyamic acid is synthesized by reacting this amic acid prepolymer with a diamine component containing 80% by weight or more of the other of the two diamines. It is disclosed that by using the polyamic acid thus obtained, a polyimide having excellent thermal dimensional stability and mechanical properties can be obtained.

特許文献9には、高弾性、金属並の低熱膨張性、低吸水性である共重合ポリイミド、共重合ポリイミド樹脂成形体が開示されている。特許文献9の共重合ポリイミドの製造に用いられるポリアミド酸は、以下のように製造されることが記載されている。具体的には、まず、剛構造の芳香族ジアミン化合物と芳香族テトラカルボン酸類化合物とを、反応成分に対して非反応性の有機溶媒中で、剛構造の芳香族ジアミン化合物に対して芳香族テトラカルボン酸類化合物が90モル%以上、100モル%未満となる比率で、反応に必要な時間混合する。その後、柔構造の芳香族ジアミン化合物を添加し、続いて芳香族テトラカルボン酸類化合物(A)を添加する。さらに芳香族テトラカルボン酸類化合物(B;A≠B)を全芳香族テトラカルボン酸類成分と全芳香族ジアミン成分とがほぼ等モルとなる量添加する。その後、反応に必要な時間混合することにより、共重合ポリアミド酸溶液が得られる。こうして得られる共重合ポリアミド酸溶液を環化脱溶媒することにより、特許文献9の共重合ポリイミドが得られることが開示されている。   Patent Document 9 discloses a copolymerized polyimide and a copolymerized polyimide resin molded body having high elasticity, low thermal expansion comparable to metals, and low water absorption. It is described that the polyamic acid used for manufacture of the copolymerization polyimide of patent document 9 is manufactured as follows. Specifically, first, an aromatic diamine compound having a rigid structure and an aromatic tetracarboxylic acid compound are aromatic to an aromatic diamine compound having a rigid structure in an organic solvent non-reactive with the reaction components. The tetracarboxylic acid compound is mixed for a time required for the reaction at a ratio of 90 mol% or more and less than 100 mol%. Thereafter, an aromatic diamine compound having a flexible structure is added, and then an aromatic tetracarboxylic acid compound (A) is added. Further, an aromatic tetracarboxylic acid compound (B; A ≠ B) is added in an amount such that the wholly aromatic tetracarboxylic acid component and the wholly aromatic diamine component are approximately equimolar. Then, a copolymerized polyamic acid solution is obtained by mixing for a time required for the reaction. It is disclosed that the copolymerized polyimide of Patent Document 9 can be obtained by cyclizing and removing the copolymerized polyamic acid solution thus obtained.

また、弾性率が低いポリイミドフィルムとして、特許文献10に開示されるポリイミドフィルムを挙げることができる。具体的には、折り曲げ加工が可能な回路基板を形成するために必要な低弾性率、具体的には200〜300kgf/mm2の引張弾性率(室温)を有し、かつ線膨張率が15〜25ppm/K(100〜200℃)であるポリイミドが開示されている。当該ポリイミドフィルムは、ピロメリット酸二無水物1当量モルと、パラフェニレンジアミン50〜70モル%、4,4’−メチレンジアニリン5〜25モル%、および4,4’−オキシジアニリン5〜30モル%からなるジアミン0.9〜1.1当量モルとを有機溶媒中で反応させて得られる繰り返し構造単位を有するランダム共重合体であるポリアミド酸を、熱的にイミド化して得られることが開示されている。Moreover, the polyimide film disclosed by patent document 10 can be mentioned as a polyimide film with a low elasticity modulus. Specifically, it has a low elastic modulus necessary for forming a circuit board that can be bent, specifically a tensile elastic modulus (room temperature) of 200 to 300 kgf / mm 2 , and a linear expansion coefficient of 15. Polyimides that are ˜25 ppm / K (100-200 ° C.) are disclosed. The polyimide film comprises 1 equivalent mole of pyromellitic dianhydride, 50 to 70 mole% paraphenylenediamine, 5 to 25 mole% 4,4′-methylenedianiline, and 5 to 4,4′-oxydianiline 5 Obtained by thermally imidizing polyamic acid which is a random copolymer having a repeating structural unit obtained by reacting 0.9 to 1.1 equivalent mole of diamine consisting of 30 mol% in an organic solvent. Is disclosed.

さらに、特許文献11には、ハロゲンを含まない低モジュラスのポリイミド系接着剤組成物が開示されている。具体的には、低モジュラスのポリイミドシロキサンポリマーと、熱硬化性の実質的にハロゲン化されていないエポキシ(エポキシ触媒を任意選択的に含む)と、可塑剤と、不溶性のハロゲンを含まない難燃性充填材と、任意選択的に接着促進剤とを含むポリイミド接着剤組成物である。当該ポリイミド接着剤組成物は、比較的低い貼合せ温度でフレキシブル回路に用いることができることが記載されている。
特開平8−153940号公報(平成8(1996)年6月11日公開) 特開平8−156176号公報(平成8(1996)年6月18日公開) 特開2005−53940号公報(平成17(2005)年3月3日公開) 特開2004−256678号公報(平成16(2004)年9月16日公開) 特開2003−109989号公報(平成15(2003)年4月11日公開) 特開2003−176370号公報(平成15(2003)年6月24日公開) 特開平1−131242号公報(平成1(1989)年5月24日公開;特許第2744786号(平成10(1998)年2月6日登録)) 特開平1−131241号公報(平成1(1989)年5月24日公開;特許第2847701号(平成10(1998)年11月6日登録)) 特開平9−235373号公報(平成9(1997)年9月9日公開) 特開2003−192788号公報(平成15(2003)年7月9日公開) 特開2005−194527号公報(平成17(2005)年7月21日公開)
Furthermore, Patent Document 11 discloses a low-modulus polyimide adhesive composition that does not contain halogen. Specifically, low modulus polyimide siloxane polymers, thermoset substantially non-halogenated epoxies (optionally including an epoxy catalyst), plasticizers, and flame retardants that do not contain insoluble halogens. A polyimide adhesive composition comprising a conductive filler and optionally an adhesion promoter. It is described that the polyimide adhesive composition can be used for a flexible circuit at a relatively low bonding temperature.
JP-A-8-153940 (published on June 11, 1996) Japanese Patent Laid-Open No. 8-156176 (published on June 18, 1996) Japanese Patent Laying-Open No. 2005-53940 (published March 3, 2005) Japanese Patent Laying-Open No. 2004-256678 (published on September 16, 2004) JP 2003-109989 A (published on April 11, 2003) JP 2003-176370 A (published June 24, 2003) JP-A-1-131242 (published on May 24, 1989; Patent No. 2744786 (registered on February 6, 1998)) JP-A-1-131241 (published on May 24, 1989; Patent No. 2847701 (registered on November 6, 1998)) Japanese Laid-Open Patent Publication No. 9-235373 (published on September 9, 1997) JP 2003-192788 A (released July 9, 2003) Japanese Patent Laying-Open No. 2005-194527 (published July 21, 2005)

上述したように、高い屈曲性および/または高い寸法安定性を有するポリイミドフィルムの開発が様々行われているが、これら従来のポリイミドフィルムは、高機能化および小型化する電子機器に対応するには十分とはいえない。   As described above, various developments have been made on polyimide films having high flexibility and / or high dimensional stability. However, these conventional polyimide films can be used for highly functional and miniaturized electronic devices. Not enough.

具体的には、特許文献1〜4では、高い屈曲性を実現するために、ポリイミドフィルムや金属層の厚みを薄くしている。しかし、フィルムを薄くしすぎるとコシが低くなりすぎ、ハンドリングが困難で加工収率が低下するという問題が顕在化しつつある。また、銅層を薄くすることについても基板設計の自由度が低下してしまうという問題がある。   Specifically, in Patent Documents 1 to 4, the thickness of the polyimide film or the metal layer is reduced in order to achieve high flexibility. However, if the film is made too thin, the stiffness becomes too low, handling is difficult, and the processing yield is decreasing. In addition, there is a problem that the degree of freedom in designing the substrate is reduced when the copper layer is thinned.

また、特許文献5〜9の技術は、高い寸法安定性については、ある程度の改良はなされているが、弾性率が高く、FPCにおける屈曲性の点で改良が不十分である。さらに、特許文献10の技術では、低弾性率と高寸法安定性とがある程度改善されているが、当該技術は、折り曲げ性の向上を目的とするものであり、高屈曲性や、低スティフネス(低消費電力)を必要とするFPCの材料としては、十分とはいえない。   Moreover, although the techniques of Patent Documents 5 to 9 have improved to some extent with respect to high dimensional stability, they have a high elastic modulus and are insufficiently improved in terms of flexibility in FPC. Furthermore, in the technique of Patent Document 10, the low elastic modulus and the high dimensional stability are improved to some extent. However, the technique aims at improving the bendability, and the high bendability and low stiffness ( It is not sufficient as a material for FPC requiring low power consumption.

そこで、ハンドリング性に優れ、かつ高い屈曲特性を実現するためのポリイミドフィルムの開発が求められている。   Therefore, development of a polyimide film for achieving excellent bending characteristics and excellent handling properties is required.

本発明は、上記の課題に鑑みてなされたものであって、その目的は、高い屈曲性及び寸法安定性を有し、かつハンドリング性が良好なポリイミドフィルムおよびその利用を提供することにある。   The present invention has been made in view of the above problems, and an object of the present invention is to provide a polyimide film having high flexibility and dimensional stability and good handling properties and use thereof.

本発明者らは、上記の課題に鑑み鋭意検討した結果、フィルムの厚み、弾性率および線膨張係数を設計することにより高い屈曲性及び寸法安定性を有するフレキシブル銅張積層板が高収率で得られることを見出し、本発明に至った。すなわち、本発明は、産業上有用な以下の発明(1)〜(11)を包含する。   As a result of intensive studies in view of the above problems, the present inventors have obtained a flexible copper-clad laminate having high flexibility and dimensional stability at a high yield by designing the thickness, elastic modulus, and linear expansion coefficient of the film. As a result, the present invention was found. That is, the present invention includes the following industrially useful inventions (1) to (11).

(1)酸二無水物成分とジアミン成分とを重合してなるポリアミド酸をイミド化してなるポリイミドフィルムであって、上記ジアミン成分は、少なくとも、2,2−ビス(4−(4−アミノフェノキシ)フェニル)プロパンを含み、弾性率が4GPa未満で、かつ100〜200℃の平均線膨張係数が15〜30ppmであることを特徴とするポリイミドフィルム。   (1) A polyimide film formed by imidizing a polyamic acid obtained by polymerizing an acid dianhydride component and a diamine component, wherein the diamine component is at least 2,2-bis (4- (4-aminophenoxy) A polyimide film comprising phenyl) propane, having an elastic modulus of less than 4 GPa, and an average linear expansion coefficient at 100 to 200 ° C. of 15 to 30 ppm.

(2)100〜200℃の平均線膨張係数が18〜25ppmであることを特徴とする(1)に記載のポリイミドフィルム。   (2) The polyimide film according to (1), wherein an average linear expansion coefficient at 100 to 200 ° C. is 18 to 25 ppm.

(3)弾性率が3.5GPa以下であることを特徴とする(1)または(2)に記載のポリイミドフィルム。   (3) The polyimide film according to (1) or (2), wherein the elastic modulus is 3.5 GPa or less.

(4)フィルム厚みが7〜28μmであることを特徴とする(1)〜(3)のいずれかに記載のポリイミドフィルム。   (4) The polyimide film according to any one of (1) to (3), wherein the film thickness is 7 to 28 μm.

(5)フィルム厚みが10〜14μmであることを特徴とする(1)〜(4)のいずれかに記載のポリイミドフィルム。   (5) The polyimide film according to any one of (1) to (4), wherein the film thickness is 10 to 14 μm.

(6)上記酸二無水物成分は、少なくとも、ピロメリット酸二無水物を含み、上記ジアミン成分は、少なくとも、4,4’−オキシジアニリンおよびp−フェニレンジアミンを含むことを特徴とする(1)〜(5)のいずれかに記載のポリイミドフィルム。   (6) The acid dianhydride component contains at least pyromellitic dianhydride, and the diamine component contains at least 4,4′-oxydianiline and p-phenylenediamine ( The polyimide film according to any one of 1) to (5).

(7)上記ジアミン成分は、2,2−ビス(4−(4−アミノフェノキシ)フェニル)プロパン、4,4’−オキシジアニリンおよびp−フェニレンジアミンを全て含み、かつ、上記ジアミン成分に含有される全てのジアミンのモル数の合計を100モル%としたときに、100モル%を越えない範囲で20〜50モル%の2,2−ビス(4−(4−アミノフェノキシ)フェニル)プロパンと、20〜50モル%の4,4’−オキシジアニリンと、15〜35モル%のp−フェニレンジアミンとを含むことを特徴とする(1)〜(6)のいずれかに記載のポリイミドフィルム。   (7) The diamine component contains all of 2,2-bis (4- (4-aminophenoxy) phenyl) propane, 4,4′-oxydianiline and p-phenylenediamine, and is contained in the diamine component. 20 to 50 mol% of 2,2-bis (4- (4-aminophenoxy) phenyl) propane within a range not exceeding 100 mol%, assuming that the total number of moles of all diamines is 100 mol% And the polyimide according to any one of (1) to (6), comprising 20 to 50 mol% of 4,4′-oxydianiline and 15 to 35 mol% of p-phenylenediamine. the film.

(8)フレキシブル金属張積層板の材料に用いられることを特徴とする(1)〜(7)のいずれかに記載のポリイミドフィルム。   (8) The polyimide film as described in any one of (1) to (7), which is used as a material for a flexible metal-clad laminate.

(9)(1)〜(8)のいずれかに記載のポリイミドフィルムの、少なくとも片面に、接着層を設けてなることを特徴とする接着フィルム。   (9) An adhesive film comprising an adhesive layer on at least one surface of the polyimide film according to any one of (1) to (8).

(10)(1)〜(8)のいずれかに記載のポリイミドフィルム、または(9)に記載の接着フィルムに金属箔を張り合わせてなることを特徴とするフレキシブル金属張積層板。   (10) A flexible metal-clad laminate comprising a polyimide film according to any one of (1) to (8) or a metal foil laminated to the adhesive film according to (9).

(11)(10)に記載のフレキシブル金属張積層板を用いて製造されることを特徴とするフレキシブルプリント配線板。   (11) A flexible printed wiring board manufactured using the flexible metal-clad laminate according to (10).

本発明にかかるポリイミドフィルムは、以上のように、2,2−ビス(4−(4−アミノフェノキシ)フェニル)プロパンをジアミン成分として用いて製造され、弾性率が4GPa未満で、かつ100〜200℃の平均線膨張係数が15〜30ppmであるため、高い屈曲性と高い寸法安定性とを有する。それゆえ、本発明にかかるポリイミドフィルムを用いることにより、高い屈曲性及び寸法安定性を有するフレキシブル金属張積層板が高収率で得られるという効果を奏する。   As described above, the polyimide film according to the present invention is produced using 2,2-bis (4- (4-aminophenoxy) phenyl) propane as a diamine component, and has an elastic modulus of less than 4 GPa and 100 to 200. Since the average linear expansion coefficient at 15 ° C. is 15 to 30 ppm, it has high flexibility and high dimensional stability. Therefore, by using the polyimide film according to the present invention, there is an effect that a flexible metal-clad laminate having high flexibility and dimensional stability can be obtained with high yield.

本発明の実施の形態について以下に詳細に説明するが、本発明は以下の記載に限定されるものではない。   Embodiments of the present invention will be described in detail below, but the present invention is not limited to the following description.

<I.ポリイミドフィルム>
本発明にかかるポリイミドフィルムは、2,2−ビス(4−(4−アミノフェノキシ)フェニル)プロパンをジアミン成分として用いて製造されるものであって、以下の物性を有することが好ましいが、その具体的な組成、構造、およびその製造方法等は特に限定されるものではない。
<I. Polyimide film>
The polyimide film according to the present invention is manufactured using 2,2-bis (4- (4-aminophenoxy) phenyl) propane as a diamine component, and preferably has the following physical properties, A specific composition, structure, manufacturing method thereof, and the like are not particularly limited.

本発明にかかるポリイミドフィルムは、4GPa未満の弾性率を有することが好ましい。ポリイミドフィルムの弾性率が小さすぎると、取り扱い性が悪くなる傾向がある。逆に、ポリイミドフィルムの弾性率が大きすぎると、屈曲性が低下する傾向にある。したがって、本発明にかかるポリイミドフィルムの弾性率は、1GPa以上、4GPa未満であることがより好ましく、1.5GPa以上、3.5GPa以下であることがさらに好ましい。上記範囲内であれば、取り扱い性がよく、屈曲性が良好なポリイミドフィルムとすることができる。なお、本明細書において、「屈曲性」とは、繰り返し屈曲したときの耐性を意味し、「屈曲性が良好」とは、繰り返し屈曲したときの耐性が高いことを意味する。また、「弾性率」とは、ASTM D−882に従って測定される弾性率を意味する。   The polyimide film according to the present invention preferably has an elastic modulus of less than 4 GPa. If the elastic modulus of the polyimide film is too small, the handleability tends to deteriorate. On the contrary, if the elastic modulus of the polyimide film is too large, the flexibility tends to decrease. Therefore, the elastic modulus of the polyimide film according to the present invention is more preferably 1 GPa or more and less than 4 GPa, and further preferably 1.5 GPa or more and 3.5 GPa or less. If it is in the said range, it can be set as a polyimide film with favorable handleability and favorable flexibility. In this specification, “flexibility” means resistance when repeatedly bent, and “good flexibility” means high resistance when repeatedly bent. The “elastic modulus” means an elastic modulus measured according to ASTM D-882.

また、本発明にかかるポリイミドフィルムの線膨張係数は、100〜200℃の平均線膨張係数が15〜30ppmであることが好ましい。上述の範囲であれば、寸法安定性が悪くなったり、カールが生じやすくなったりすることはないが、より好ましくは、18〜25ppmである。上記範囲内であれば、寸法安定性が悪くなったり、カールが生じやすくなったりするのをより効果的に防ぐことができる。   Moreover, as for the linear expansion coefficient of the polyimide film concerning this invention, it is preferable that the average linear expansion coefficient of 100-200 degreeC is 15-30 ppm. If it is the above-mentioned range, although dimensional stability does not worsen or it does not become easy to produce curl, More preferably, it is 18-25 ppm. If it is in the said range, it can prevent more effectively that dimensional stability worsens or it becomes easy to produce curl.

また、ポリイミドフィルムの厚みは薄すぎると、取り扱い性およびフィルムの搬送性、生産安定性が極端に悪くなる傾向がある。逆に、ポリイミドフィルムの厚みが厚すぎると、FPCの反発力が大きくなり、かつ屈曲性が低下する傾向にある。したがって、本発明にかかるポリイミドフィルムの厚みは、7〜28μmであることが好ましく、10〜14μmであることがより好ましい。上記範囲内であれば、フィルムの取り扱い性および生産安定性が極端に悪くなったり、FPCの反発力が大きくなり、かつ屈曲性が低下したりすることがない。   Moreover, when the thickness of a polyimide film is too thin, there exists a tendency for a handleability, the conveyance property of a film, and production stability to deteriorate extremely. On the other hand, if the polyimide film is too thick, the repulsive force of the FPC increases and the flexibility tends to decrease. Therefore, it is preferable that the thickness of the polyimide film concerning this invention is 7-28 micrometers, and it is more preferable that it is 10-14 micrometers. If it is in the said range, the handleability and production stability of a film will not become extremely bad, the repulsive force of FPC will not become large, and a flexibility will not fall.

さらに、本発明にかかるポリイミドフィルムは、動的粘弾性測定によるtanδのピーク温度は300℃以上であることが好ましく、320℃以上であることがより好ましい。上記範囲内であれば、寸法安定性を低下させることはない。   Furthermore, in the polyimide film according to the present invention, the peak temperature of tan δ by dynamic viscoelasticity measurement is preferably 300 ° C. or higher, and more preferably 320 ° C. or higher. If it is in the said range, dimensional stability will not be reduced.

また、本発明にかかるポリイミドフィルムの引張破断伸度は、特に限定されるものではないが、屈曲性を向上させる観点から、ある程度大きいことが好ましい。具体的には、上記引張破断伸度は、40%以上であることが好ましく、50%以上であることがさらに好ましい。なお、上記引張破断伸度は、ASTM D−882に従って測定することができる。   Moreover, the tensile elongation at break of the polyimide film according to the present invention is not particularly limited, but is preferably large to some extent from the viewpoint of improving flexibility. Specifically, the tensile breaking elongation is preferably 40% or more, and more preferably 50% or more. The tensile breaking elongation can be measured according to ASTM D-882.

本発明にかかるポリイミドフィルムの物性は、以上の通りである。本発明にかかるポリイミドフィルムは、上記物性を有しているため、高い屈曲性と高い寸法安定性とを有するポリイミドフィルムを実現することができる。   The physical properties of the polyimide film according to the present invention are as described above. Since the polyimide film concerning this invention has the said physical property, it can implement | achieve the polyimide film which has high flexibility and high dimensional stability.

ここで、本発明にかかるポリイミドフィルムの構造について、以下、具体的に説明する。なお、以下の記載は、本発明についての理解を容易とするためのものである。したがって、本発明は以下の構造に限定されるものではない。   Here, the structure of the polyimide film according to the present invention will be specifically described below. The following description is intended to facilitate understanding of the present invention. Therefore, the present invention is not limited to the following structure.

本発明にかかるポリイミドフィルムは、酸二無水物成分とジアミン成分とを重合してなるポリアミド酸をイミド化してなるポリイミドフィルムである。   The polyimide film concerning this invention is a polyimide film formed by imidating the polyamic acid formed by superposing | polymerizing an acid dianhydride component and a diamine component.

上記酸二無水物成分は、特に限定されるものではないが、芳香族テトラカルボン酸二無水物を含有することが好ましい。例えば、ピロメリット酸二無水物(以下、「PMDA」ともいう)、2,3,6,7−ナフタレンテトラカルボン酸二無水物、3,3’,4,4’−ビフェニルテトラカルボン酸二無水物、1,2,5,6−ナフタレンテトラカルボン酸二無水物、2,2’,3,3’−ビフェニルテトラカルボン酸二無水物、3,3’,4,4’−ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物、2,2−ビス(3,4−ジカルボキシフェニル)プロパン二無水物、3,4,9,10−ペリレンテトラカルボン酸二無水物、ビス(3,4−ジカルボキシフェニル)プロパン二無水物、1,1−ビス(2,3−ジカルボキシフェニル)エタン二無水物、1,1−ビス(3,4−ジカルボキシフェニル)エタン二無水物、ビス(2,3−ジカルボキシフェニル)メタン二無水物、ビス(3,4−ジカルボキシフェニル)エタン二無水物、オキシジフタル酸二無水物、ビス(3,4−ジカルボキシフェニル)スルホン二無水物、p−フェニレンビス(トリメリット酸モノエステル酸無水物)、エチレンビス(トリメリット酸モノエステル酸無水物)、およびビスフェノールAビス(トリメリット酸モノエステル酸無水物)、並びにそれらの類似物などの芳香族テトラカルボン酸二無水物が挙げられる。これら化合物は、単独で含まれていてもよいし、また、任意の割合で混合した混合物として含まれていてもよい。本発明の酸二無水物成分には、上記化合物のうち、少なくともPMDAが含まれていることが好ましい。   The acid dianhydride component is not particularly limited, but preferably contains an aromatic tetracarboxylic dianhydride. For example, pyromellitic dianhydride (hereinafter also referred to as “PMDA”), 2,3,6,7-naphthalenetetracarboxylic dianhydride, 3,3 ′, 4,4′-biphenyltetracarboxylic dianhydride 1,2,5,6-naphthalenetetracarboxylic dianhydride, 2,2 ′, 3,3′-biphenyltetracarboxylic dianhydride, 3,3 ′, 4,4′-benzophenonetetracarboxylic acid Dianhydride, 2,2-bis (3,4-dicarboxyphenyl) propane dianhydride, 3,4,9,10-perylenetetracarboxylic dianhydride, bis (3,4-dicarboxyphenyl) propane Dianhydride, 1,1-bis (2,3-dicarboxyphenyl) ethane dianhydride, 1,1-bis (3,4-dicarboxyphenyl) ethane dianhydride, bis (2,3-dicarboxy) Phenyl) meta Dianhydride, bis (3,4-dicarboxyphenyl) ethane dianhydride, oxydiphthalic dianhydride, bis (3,4-dicarboxyphenyl) sulfone dianhydride, p-phenylenebis (trimellitic acid monoester Aromatic tetracarboxylic dianhydrides such as acid anhydride), ethylene bis (trimellitic acid monoester anhydride), and bisphenol A bis (trimellitic acid monoester anhydride), and the like It is done. These compounds may be contained singly or as a mixture mixed at an arbitrary ratio. The acid dianhydride component of the present invention preferably contains at least PMDA among the above compounds.

上記ジアミン成分は、特に限定されるものではないが、芳香族ジアミンを含有することが好ましい。例えば、4,4’−オキシジアニリン(以下、「ODA」ともいう)、3,3’−オキシジアニリン、3,4’−オキシジアニリン、p−フェニレンジアミン(以下、「p−PDA」ともいう)、4,4’−ジアミノジフェニルプロパン、4,4’−ジアミノジフェニルメタン、ベンジジン、3,3’−ジクロロベンジジン、4,4’−ジアミノジフェニルスルフィド、3,3’−ジアミノジフェニルスルホン、4,4’−ジアミノジフェニルスルホン、4,4’−ジアミノジフェニルエーテル、3,3’−ジアミノジフェニルエーテル、3,4’−ジアミノジフェニルエーテル、1,5−ジアミノナフタレン、4,4’−ジアミノジフェニルジエチルシラン、4,4’−ジアミノジフェニルシラン、4,4’−ジアミノジフェニルエチルホスフィンオキシド、4,4’−ジアミノジフェニルN−メチルアミン、4,4’−ジアミノジフェニル N−フェニルアミン、1,4−ジアミノベンゼン(p−フェニレンジアミン)、ビス{4−(4−アミノフェノキシ)フェニル}スルホン、ビス{4−(3−アミノフェノキシ)フェニル}スルホン、4,4’−ビス(4−アミノフェノキシ)ビフェニル、4,4’−ビス(3−アミノフェノキシ)ビフェニル、1,3−ビス(3−アミノフェノキシ)ベンゼン、1,3−ビス(4−アミノフェノキシ)ベンゼン、1,3−ビス(4−アミノフェノキシ)ベンゼン、1,3−ビス(3−アミノフェノキシ)ベンゼン、3,3’−ジアミノベンゾフェノン、4,4'−ジアミノベンゾフェノン、1,3−ジアミノベンゼン、1,2−ジアミノベンゼン、および2,2−ビス(4−(4−アミノフェノキシ)フェニル)プロパン(以下、「BAPP」ともいう)、並びにそれらの類似物などの芳香族ジアミンが挙げられる。これら化合物は、単独で含まれていてもよいし、また、任意の割合で混合した混合物として含まれていてもよい。   The diamine component is not particularly limited, but preferably contains an aromatic diamine. For example, 4,4′-oxydianiline (hereinafter also referred to as “ODA”), 3,3′-oxydianiline, 3,4′-oxydianiline, p-phenylenediamine (hereinafter “p-PDA”) 4,4′-diaminodiphenylpropane, 4,4′-diaminodiphenylmethane, benzidine, 3,3′-dichlorobenzidine, 4,4′-diaminodiphenyl sulfide, 3,3′-diaminodiphenylsulfone, 4) , 4′-diaminodiphenylsulfone, 4,4′-diaminodiphenyl ether, 3,3′-diaminodiphenyl ether, 3,4′-diaminodiphenyl ether, 1,5-diaminonaphthalene, 4,4′-diaminodiphenyldiethylsilane, 4, , 4'-diaminodiphenylsilane, 4,4'-diaminodiphenylethylphosphorus Fin oxide, 4,4′-diaminodiphenyl N-methylamine, 4,4′-diaminodiphenyl N-phenylamine, 1,4-diaminobenzene (p-phenylenediamine), bis {4- (4-aminophenoxy) Phenyl} sulfone, bis {4- (3-aminophenoxy) phenyl} sulfone, 4,4′-bis (4-aminophenoxy) biphenyl, 4,4′-bis (3-aminophenoxy) biphenyl, 1,3- Bis (3-aminophenoxy) benzene, 1,3-bis (4-aminophenoxy) benzene, 1,3-bis (4-aminophenoxy) benzene, 1,3-bis (3-aminophenoxy) benzene, 3, 3'-diaminobenzophenone, 4,4'-diaminobenzophenone, 1,3-diaminobenzene, 1,2-diamino Benzene, and 2,2-bis (4- (4-aminophenoxy) phenyl) propane (hereinafter also referred to as "BAPP"), as well as aromatic diamines, such as analogs thereof. These compounds may be contained singly or as a mixture mixed at an arbitrary ratio.

本発明のジアミン成分には、上記化合物のうち、BAPPが含まれていることが好ましく、ODAおよびp−PDAがさらに含まれていることがより好ましい。   Of the above compounds, BAPP is preferably contained in the diamine component of the present invention, and more preferably ODA and p-PDA are further contained.

ジアミン成分として、BAPP、ODAおよびp−PDAの全てを含有させる場合、ジアミン成分に含有される全てのジアミンのモル数の合計を100モル%としたとき、100モル%を越えない範囲で、20〜50モル%の2,2−ビス(4−(4−アミノフェノキシ)フェニル)プロパン、20〜50モル%の4,4’−オキシジアニリン、および15〜35モル%のp−フェニレンジアミンを含有させることが好ましい。   When all of BAPP, ODA and p-PDA are contained as the diamine component, when the total number of moles of all diamines contained in the diamine component is defined as 100 mol%, the amount does not exceed 100 mol%. ~ 50 mol% 2,2-bis (4- (4-aminophenoxy) phenyl) propane, 20-50 mol% 4,4'-oxydianiline, and 15-35 mol% p-phenylenediamine. It is preferable to contain.

上記構成によれば、当該ポリアミド酸をイミド化して得られるポリイミドフィルムは、上記物性を有するものとなる。なお、上記ポリアミド酸については、後述の<II.ポリイミドフィルムの製造方法>において、より詳細に説明しているので、そちらを参照されたい。   According to the said structure, the polyimide film obtained by imidating the said polyamic acid has the said physical property. The polyamic acid is described in <II. The method for producing a polyimide film> is described in more detail, so please refer to that.

<II.ポリイミドフィルムの製造方法>
本発明にかかるポリイミドフィルムの製造方法は、上述した本発明にかかるポリイミドフィルムを製造するのに好適に用いることができるものである。具体的には、ポリアミド酸を前駆体として用いて、上記ポリイミドフィルムを好適に製造する製造方法であればよく、その具体的な構成は特に限定されるものではない。
<II. Manufacturing method of polyimide film>
The manufacturing method of the polyimide film concerning this invention can be used suitably for manufacturing the polyimide film concerning this invention mentioned above. Specifically, it may be a production method for suitably producing the polyimide film using polyamic acid as a precursor, and the specific configuration is not particularly limited.

本発明において、上記ポリアミド酸溶液からポリイミドフィルムを製造する方法については、特に限定されるものではなく、従来公知の方法を用いることができる。具体的には、上記ポリアミド酸をイミド化する方法としては、熱イミド化法および化学イミド化法が代表例として挙げられる。本発明にかかるポリイミドフィルムの製造方法では、どちらの方法を用いてポリイミドフィルムを製造してもよいが、化学イミド化法を用いるほうが好ましい。化学イミド化法によれば、上述したような諸特性を有する本発明にかかるポリイミドフィルムを好適に得やすい傾向にある。   In this invention, it does not specifically limit about the method of manufacturing a polyimide film from the said polyamic-acid solution, A conventionally well-known method can be used. Specifically, examples of the method for imidizing the polyamic acid include a thermal imidization method and a chemical imidization method. In the method for producing a polyimide film according to the present invention, either method may be used to produce a polyimide film, but it is preferable to use a chemical imidization method. According to the chemical imidation method, the polyimide film according to the present invention having various characteristics as described above tends to be easily obtained.

以下、本発明にかかるポリイミドフィルムの製造方法について詳細に説明する。なお、ここでは、化学イミド化法によりポリアミド酸をイミド化する場合の実施形態について説明するが、上述したように、本発明は化学イミド化法に限定されるものではない。また、本発明では、上記ポリアミド酸の製造には、酸二無水物成分として、芳香族テトラカルボン酸二無水物を用い、ジアミン成分として、芳香族ジアミンを用いることが好ましい。したがって、説明の便宜上、以下の説明では、酸二無水物成分は芳香族テトラカルボン酸二無水物成分、ジアミン成分は芳香族ジアミン成分とする。   Hereinafter, the manufacturing method of the polyimide film concerning this invention is demonstrated in detail. Here, although an embodiment in the case of imidizing polyamic acid by a chemical imidization method will be described, as described above, the present invention is not limited to the chemical imidization method. In the present invention, it is preferable to use an aromatic tetracarboxylic dianhydride as the acid dianhydride component and an aromatic diamine as the diamine component in the production of the polyamic acid. Therefore, for convenience of explanation, in the following explanation, the acid dianhydride component is an aromatic tetracarboxylic dianhydride component and the diamine component is an aromatic diamine component.

本発明にかかるポリイミドフィルムの製造方法は、(A)有機溶剤中で、芳香族ジアミンと芳香族テトラカルボン酸二無水物とを反応させてポリアミド酸溶液を得る工程(以下、「ポリアミド酸製造工程」ともいう)と、(B)上記ポリアミド酸溶液を含む製膜ドープを、支持体上に流延する工程(以下、「製膜ドープ流延工程」ともいう)と、(C)上記製膜ドープを支持体上で加熱した後、支持体からゲルフィルムを引き剥がす工程(以下、「ゲルフィルム形成工程」ともいう)と、(D)上記ゲルフィルムをさらに加熱して、残ったアミド酸をイミド化し、かつ乾燥させる工程(以下、「焼成工程」ともいう)とを含むことが好ましい。上記構成によれば、本発明にかかるポリイミドフィルムの諸物性を有するポリイミドフィルムを好適に製造することができる。   The method for producing a polyimide film according to the present invention comprises (A) a step of reacting an aromatic diamine with an aromatic tetracarboxylic dianhydride in an organic solvent to obtain a polyamic acid solution (hereinafter referred to as “polyamic acid production step”). And (B) a step of casting a film-forming dope containing the polyamic acid solution on a support (hereinafter also referred to as “film-forming dope casting step”), and (C) the film-forming dope After the dope is heated on the support, a step of peeling the gel film from the support (hereinafter also referred to as “gel film forming step”), (D) the gel film is further heated, and the remaining amic acid is removed. It is preferable to include a step of imidization and drying (hereinafter also referred to as “baking step”). According to the said structure, the polyimide film which has various physical properties of the polyimide film concerning this invention can be manufactured suitably.

以下、上記4つの工程について、詳細に述べるが、本発明は、上記4つの工程を全て含んでいる必要はない。すなわち、上記4つの工程のうち、一部だけを含む実施形態も本発明に含まれる。   Hereinafter, although the four steps will be described in detail, the present invention does not have to include all the four steps. That is, an embodiment including only a part of the above four steps is also included in the present invention.

(A)ポリアミド酸製造工程
本発明にかかるポリイミドフィルムは、上述したように、ポリアミド酸を前駆体として用いて製造することができる。上記ポリアミド酸製造工程では、当該前駆体であるポリアミド酸を製造する。ポリアミド酸製造工程において、ポリアミド酸を製造する方法は、特に限定されるものではなく、公知のあらゆる方法を用いることができる。例えば、まず、実質的等モル量の芳香族テトラカルボン酸二無水物と芳香族ジアミンとを、有機極性溶媒中に溶解させる。次に、得られたポリアミド酸有機極性溶媒溶液を、制御された温度条件下で、上記芳香族テトラカルボン酸二無水物と芳香族ジアミンとの重合(以下、「ポリアミド酸の重合」ともいう)が完了するまで攪拌することによって製造することができる。このようにして製造されるポリアミド酸溶液のポリアミド酸濃度は、通常、5〜35重量%、好ましくは10〜30重量%の範囲である。この範囲の濃度である場合には、本発明に好適な分子量と溶液粘度とが得られる。
(A) Polyamic acid manufacturing process As above-mentioned, the polyimide film concerning this invention can be manufactured using a polyamic acid as a precursor. In the polyamic acid production process, the precursor polyamic acid is produced. In the polyamic acid production step, the method for producing the polyamic acid is not particularly limited, and any known method can be used. For example, first, substantially equimolar amounts of aromatic tetracarboxylic dianhydride and aromatic diamine are dissolved in an organic polar solvent. Next, the obtained polyamic acid organic polar solvent solution is polymerized with the aromatic tetracarboxylic dianhydride and aromatic diamine under controlled temperature conditions (hereinafter also referred to as “polyamic acid polymerization”). Can be produced by stirring until complete. The polyamic acid concentration of the polyamic acid solution thus produced is usually 5 to 35% by weight, preferably 10 to 30% by weight. When the concentration is within this range, a molecular weight and a solution viscosity suitable for the present invention can be obtained.

ポリアミド酸の重合方法は、特に限定されるものではなく、あらゆる公知の方法、およびそれらを組み合わせた方法を用いることができる。ポリアミド酸の重合における重合方法の特徴は、そのモノマー、すなわち、芳香族テトラカルボン酸二無水物および芳香族ジアミンの添加順序にある。つまり、このモノマーの添加順序を制御することにより、得られるポリイミドの諸物性を制御することができる。したがって、本発明では、ポリアミド酸の重合方法において、いかなるモノマーの添加方法を用いてもよい。   The polyamic acid polymerization method is not particularly limited, and any known method and a combination thereof can be used. The characteristic of the polymerization method in the polymerization of polyamic acid is the order of addition of its monomers, that is, aromatic tetracarboxylic dianhydride and aromatic diamine. That is, various physical properties of the obtained polyimide can be controlled by controlling the order of addition of the monomers. Therefore, in the present invention, any monomer addition method may be used in the polyamic acid polymerization method.

上述のように、ポリアミド酸の重合方法は、特に限定されるものではないが、代表的な重合方法としては、次のような方法が挙げられる。   As described above, the polyamic acid polymerization method is not particularly limited, but typical polymerization methods include the following methods.

(1)芳香族ジアミンを有機極性溶媒中に溶解し、当該芳香族ジアミンと、これと実質的に等モルの芳香族テトラカルボン酸二無水物とを反応させて重合する方法。   (1) A method in which an aromatic diamine is dissolved in an organic polar solvent, and the aromatic diamine is reacted with a substantially equimolar aromatic tetracarboxylic dianhydride for polymerization.

(2)芳香族テトラカルボン酸二無水物と、これに対し過小モル量の芳香族ジアミン化合物とを有機極性溶媒中で反応させ、両末端に酸無水物基を有するプレポリマーを得る。続いて、全工程を通して、芳香族テトラカルボン酸二無水物と芳香族ジアミン化合物とが実質的に等モルとなるように、芳香族ジアミン化合物を用いて重合させる方法。   (2) An aromatic tetracarboxylic dianhydride is reacted with a small molar amount of an aromatic diamine compound in an organic polar solvent to obtain a prepolymer having acid anhydride groups at both ends. Subsequently, a method of polymerizing using an aromatic diamine compound so that the aromatic tetracarboxylic dianhydride and the aromatic diamine compound are substantially equimolar throughout all the steps.

(3)芳香族テトラカルボン酸二無水物と、これに対し過剰モル量の芳香族ジアミン化合物とを有機極性溶媒中で反応させ、両末端にアミノ基を有するプレポリマーを得る。続いて、ここに芳香族ジアミン化合物を追加添加後、全工程を通して、芳香族テトラカルボン酸二無水物と芳香族ジアミン化合物とが実質的に等モルとなるように、芳香族テトラカルボン酸二無水物を用いて重合する方法。   (3) An aromatic tetracarboxylic dianhydride is reacted with an excess molar amount of an aromatic diamine compound in an organic polar solvent to obtain a prepolymer having amino groups at both ends. Subsequently, the aromatic tetracarboxylic dianhydride is added so that the aromatic tetracarboxylic dianhydride and the aromatic diamine compound are substantially equimolar throughout the entire process after the addition of the aromatic diamine compound. A method of polymerizing using a product.

(4)芳香族テトラカルボン酸二無水物を有機極性溶媒中に溶解および/または分散させた後、実質的に等モルとなるように芳香族ジアミン化合物を用いて重合させる方法。   (4) A method in which an aromatic tetracarboxylic dianhydride is dissolved and / or dispersed in an organic polar solvent and then polymerized using an aromatic diamine compound so as to be substantially equimolar.

(5)実質的に等モルの芳香族テトラカルボン酸二無水物と芳香族ジアミンとの混合物を有機極性溶媒中で反応させて重合する方法。   (5) A method of polymerizing by reacting a substantially equimolar mixture of an aromatic tetracarboxylic dianhydride and an aromatic diamine in an organic polar solvent.

なお、これら方法は、単独で用いてもよいし、部分的に組み合わせて用いてもよい。   In addition, these methods may be used alone or in combination.

ポリアミド酸を重合するために用いられる、上記有機極性溶媒は、特に限定されるものではなく、ポリアミド酸を溶解する溶媒であればどのような溶媒でも用いることができる。例えば、N,N−ジメチルフォルムアミド、N,N−ジメチルアセトアミド、およびN−メチル−2−ピロリドンなどのアミド系溶媒を用いることができる。中でも、N,N−ジメチルフォルムアミド、およびN,N−ジメチルアセトアミドを特に好ましく用いることができる。   The organic polar solvent used for polymerizing the polyamic acid is not particularly limited, and any solvent can be used as long as it dissolves the polyamic acid. For example, amide solvents such as N, N-dimethylformamide, N, N-dimethylacetamide, and N-methyl-2-pyrrolidone can be used. Among these, N, N-dimethylformamide and N, N-dimethylacetamide can be particularly preferably used.

また、芳香族テトラカルボン酸二無水物成分として用いることができる上記芳香族テトラカルボン酸二無水物は、特に限定されるものではない。例えば、上記<I.ポリイミドフィルム>で例示した芳香族テトラカルボン酸二無水物を用いることができる。これら化合物は、単独で、または、任意の割合で混合した混合物として、好ましく用いることができる。また、これら例示した芳香族テトラカルボン酸二無水物のうち、少なくとも1種として、PMDAを用いることが好ましい。   Moreover, the said aromatic tetracarboxylic dianhydride which can be used as an aromatic tetracarboxylic dianhydride component is not specifically limited. For example, <I. Aromatic tetracarboxylic dianhydrides exemplified in <Polyimide film> can be used. These compounds can be preferably used alone or as a mixture mixed at an arbitrary ratio. Moreover, it is preferable to use PMDA as at least one of these exemplified aromatic tetracarboxylic dianhydrides.

さらに、芳香族ジアミン成分として用いることができる上記芳香族ジアミンは、特に限定されるものではない。例えば、上記<I.ポリイミドフィルム>で例示した芳香族ジアミンを用いることができる。これら化合物は、単独で、または、任意の割合で混合した混合物として、好ましく用いることができる。また、これら例示した芳香族ジアミンの中のうち、少なくともBAPPを用いることが好ましく、ODAおよびp−PDAをさらに用いることがより好ましい。   Furthermore, the said aromatic diamine which can be used as an aromatic diamine component is not specifically limited. For example, <I. The aromatic diamine exemplified in the polyimide film> can be used. These compounds can be preferably used alone or as a mixture mixed at an arbitrary ratio. Of these exemplified aromatic diamines, at least BAPP is preferably used, and ODA and p-PDA are more preferably used.

上記ポリアミド酸において、上記酸二無水物成分とジアミン成分との重合比は、特に限定されるものではなく、最終的に得られるポリイミドフィルムの物性が上述したものとなるように、設計すればよい。換言すれば、これら芳香族ジアミンと芳香族テトラカルボン酸二無水物とを適宜組み合わせて分子設計をすることによって、所望とする特性を有したポリイミドを製造することができる。上記分子設計に際しては、以下の傾向を考慮することが好ましい。   In the polyamic acid, the polymerization ratio of the acid dianhydride component and the diamine component is not particularly limited, and may be designed so that the physical properties of the finally obtained polyimide film are as described above. . In other words, a polyimide having desired characteristics can be produced by appropriately combining these aromatic diamines and aromatic tetracarboxylic dianhydrides for molecular design. In designing the molecule, it is preferable to consider the following tendency.

(i)フェニレンジアミン類、ベンジジン類、およびPMDAなどの剛直な構造を有するモノマーを用いた場合、弾性率が高くなり、線膨張係数が小さくなる傾向にある。   (I) When a monomer having a rigid structure such as phenylenediamines, benzidines, and PMDA is used, the elastic modulus tends to increase and the linear expansion coefficient tends to decrease.

(ii)分子鎖中にエーテル結合、炭化水素基、スルホン基、カルボニル基の様な屈曲性基を有するモノマーを用いた場合、弾性率が低くなり、線膨張係数が大きくなる傾向にある。   (Ii) When a monomer having an ether bond, a hydrocarbon group, a sulfone group, or a carbonyl group in the molecular chain is used, the elastic modulus tends to decrease and the linear expansion coefficient tends to increase.

(iii)3,3',4,4'−ビフェニルテトラカルボン酸二無水物のように分子全体で見た場合に直線状でないモノマーを用いた場合も、弾性率が低くなり、線膨張係数が大きくなる傾向にある。   (Iii) When a non-linear monomer is used when viewed as a whole molecule, such as 3,3 ′, 4,4′-biphenyltetracarboxylic dianhydride, the elastic modulus is lowered and the linear expansion coefficient is reduced. It tends to grow.

後述する実施例のポリイミドフィルムを例にとって、上記分子設計についてより具体的に以下に説明するが、本発明はこれに限定されないことは言うまでもない。   The above-described molecular design will be described more specifically below by taking a polyimide film of an example described later as an example, but it goes without saying that the present invention is not limited to this.

後述の実施例では、芳香族テトラカルボン酸二無水物として、PMDAを用いている。また、芳香族ジアミンとして、BAPP、ODA、およびp−PDAを用いている。これら化合物を用いて、本発明にかかるポリイミドフィルムを製造する場合、p−PDAが多いと、弾性率が高くなり、線膨張係数が小さくなる傾向がある。また、BAPPやODAが多いと弾性率が低くなり、線膨張係数が大きくなる傾向がある。この傾向は、ODAよりもBAPPでより強い。   In the examples described later, PMDA is used as the aromatic tetracarboxylic dianhydride. Moreover, BAPP, ODA, and p-PDA are used as aromatic diamine. When manufacturing the polyimide film concerning this invention using these compounds, when there are many p-PDAs, there exists a tendency for an elasticity modulus to become high and for a linear expansion coefficient to become small. Moreover, when there are many BAPP and ODA, an elasticity modulus will become low and there exists a tendency for a linear expansion coefficient to become large. This trend is stronger with BAPP than with ODA.

したがって、ジアミン成分として、BAPP、ODAおよびp−PDAの全てを含有させる場合、次のような比率で混合することが好ましい。すなわち、上記ジアミン成分に含有される全てのジアミンのモル数の合計を100モル%としたときに、100モル%を越えない範囲で、20〜50モル%の2,2−ビス(4−(4−アミノフェノキシ)フェニル)プロパンと、20〜50モル%の4,4’−オキシジアニリンと、15〜35モル%のp−フェニレンジアミンとを含むように、これら3つのジアミンを上記ジアミン成分に含有させることが好ましい。   Therefore, when all of BAPP, ODA, and p-PDA are contained as the diamine component, it is preferable to mix them in the following ratio. That is, when the total number of moles of all diamines contained in the diamine component is 100 mol%, 20 to 50 mol% of 2,2-bis (4- ( 4-aminophenoxy) phenyl) propane, 20 to 50 mol% 4,4′-oxydianiline, and 15 to 35 mol% p-phenylenediamine so that these three diamines are It is preferable to make it contain.

なお、上記「剛直な構造を有するモノマー」とは、「剛直な構造を有する芳香族ジアミン」および「剛直な構造を有する芳香族テトラカルボン酸二無水物」を意味する。さらに、上記「剛直な構造を有する芳香族ジアミン」とは、2つのNH2基の間に、主鎖に屈曲性のない剛直な構造を有する芳香族ジアミンを指す。剛直な構造を有する芳香族ジアミンとしては、例えば、パラフェニレンジアミンのようなフェニレンジアミン類や、ベンジジン類、置換ベンジジン類を挙げることができる。同様に、「剛直な構造を有する芳香族テトラカルボン酸二無水物」とは、主鎖に屈曲性のない剛直な構造を有する芳香族テトラカルボン酸二無水物を指す。剛直な構造を有する芳香族テトラカルボン酸二無水物としては、例えば、ナフタレンテトラカルボン酸二無水物、およびPMDAを挙げることができる。The “monomer having a rigid structure” means “aromatic diamine having a rigid structure” and “aromatic tetracarboxylic dianhydride having a rigid structure”. Furthermore, the “aromatic diamine having a rigid structure” refers to an aromatic diamine having a rigid structure having no flexibility in the main chain between two NH 2 groups. Examples of the aromatic diamine having a rigid structure include phenylenediamines such as paraphenylenediamine, benzidines, and substituted benzidines. Similarly, “aromatic tetracarboxylic dianhydride having a rigid structure” refers to an aromatic tetracarboxylic dianhydride having a rigid structure having no flexibility in the main chain. Examples of the aromatic tetracarboxylic dianhydride having a rigid structure include naphthalene tetracarboxylic dianhydride and PMDA.

また、上記「屈曲性基を有するモノマー」とは、「屈曲性基を有する芳香族ジアミン」および「屈曲性基を有する芳香族テトラカルボン酸二無水物」を意味する。さらに、「屈曲性基を有する芳香族ジアミン」とは、エーテル基、スルホン基、ケトン基、およびスルフィド基など柔構造を有する芳香族ジアミンを指す。このような芳香族ジアミンとしては、例えば、4,4’−オキシジアニリン(以下、「ODA」ともいう)、3,3’−オキシジアニリン、3,4’−オキシジアニリン、4,4’−ジアミノジフェニルプロパン、4,4’−ジアミノジフェニルメタン、4,4’−ジアミノジフェニルスルフィド、3,3’−ジアミノジフェニルスルホン、4,4’−ジアミノジフェニルスルホン、4,4’−ジアミノジフェニルジエチルシラン、4,4’−ジアミノジフェニルシラン、4,4’−ジアミノジフェニルエチルホスフィンオキシド、4,4’−ジアミノジフェニルN−メチルアミン、4,4’−ジアミノジフェニル N−フェニルアミン、1,4−ジアミノベンゼン(p−フェニレンジアミン)、ビス{4−(4−アミノフェノキシ)フェニル}スルホン、ビス{4−(3−アミノフェノキシ)フェニル}スルホン、4,4’−ビス(4−アミノフェノキシ)ビフェニル、4,4’−ビス(3−アミノフェノキシ)ビフェニル、1,3−ビス(3−アミノフェノキシ)ベンゼン、1,3−ビス(4−アミノフェノキシ)ベンゼン、1,3−ビス(4−アミノフェノキシ)ベンゼン、1,3−ビス(3−アミノフェノキシ)ベンゼン、3,3’−ジアミノベンゾフェノン、4,4'−ジアミノベンゾフェノン、および2,2−ビス(4−(4−アミノフェノキシ)フェニル)プロパン(以下、「BAPP」ともいう)、並びにそれらの類似物等を挙げることができる。   The “monomer having a flexible group” means “aromatic diamine having a flexible group” and “aromatic tetracarboxylic dianhydride having a flexible group”. Furthermore, the “aromatic diamine having a flexible group” refers to an aromatic diamine having a flexible structure such as an ether group, a sulfone group, a ketone group, and a sulfide group. Examples of such aromatic diamines include 4,4′-oxydianiline (hereinafter also referred to as “ODA”), 3,3′-oxydianiline, 3,4′-oxydianiline, 4,4. '-Diaminodiphenylpropane, 4,4'-diaminodiphenylmethane, 4,4'-diaminodiphenyl sulfide, 3,3'-diaminodiphenylsulfone, 4,4'-diaminodiphenylsulfone, 4,4'-diaminodiphenyldiethylsilane 4,4′-diaminodiphenylsilane, 4,4′-diaminodiphenylethylphosphine oxide, 4,4′-diaminodiphenyl N-methylamine, 4,4′-diaminodiphenyl N-phenylamine, 1,4-diamino Benzene (p-phenylenediamine), bis {4- (4-aminophenoxy) pheny } Sulfone, bis {4- (3-aminophenoxy) phenyl} sulfone, 4,4′-bis (4-aminophenoxy) biphenyl, 4,4′-bis (3-aminophenoxy) biphenyl, 1,3-bis (3-aminophenoxy) benzene, 1,3-bis (4-aminophenoxy) benzene, 1,3-bis (4-aminophenoxy) benzene, 1,3-bis (3-aminophenoxy) benzene, 3,3 Mention of '-diaminobenzophenone, 4,4'-diaminobenzophenone, 2,2-bis (4- (4-aminophenoxy) phenyl) propane (hereinafter also referred to as “BAPP”), and the like Can do.

同様に、「屈曲性基を有する芳香族テトラカルボン酸二無水物」とは、エーテル基、スルホン基、ケトン基、およびスルフィド基など柔構造を有する芳香族テトラカルボン酸二無水物を指す。   Similarly, the “aromatic tetracarboxylic dianhydride having a flexible group” refers to an aromatic tetracarboxylic dianhydride having a flexible structure such as an ether group, a sulfone group, a ketone group, and a sulfide group.

また、摺動性、熱伝導性、導電性、耐コロナ性、ループスティフネス等のフィルムの諸特性を改善する目的で、上記ポリアミド酸溶液にフィラーを添加することができる。本発明に用いられるフィラーは、特に限定されるものでなく、あらゆるフィラーを用いることができる。例えば、シリカ、酸化チタン、アルミナ、窒化珪素、窒化ホウ素、リン酸水素カルシウム、リン酸カルシウム、および雲母などを好適に用いることができる。   In addition, a filler can be added to the polyamic acid solution for the purpose of improving various properties of the film such as slidability, thermal conductivity, conductivity, corona resistance, and loop stiffness. The filler used in the present invention is not particularly limited, and any filler can be used. For example, silica, titanium oxide, alumina, silicon nitride, boron nitride, calcium hydrogen phosphate, calcium phosphate, and mica can be suitably used.

本発明において用いるフィラーの粒子径は、改質すべきフィルム特性と添加するフィラーの種類とによって決定されるため、特に限定されるものではないが、上記粒子径が小さすぎると、改質効果が現れにくくなる傾向がある。逆に、上記粒径が大きすぎると、フィルムが表面性を大きく損なったり、フィルムの機械的特性が大きく低下したりすることがある。したがって、平均粒径は、0.05〜100μmであることが好ましく、0.1〜75μmであることがより好ましく、0.1〜50μmであることがさらに好ましく、0.1〜25μmであることが特に好ましい。上記範囲内にあれば、大きな改質効果が得られ、かつ、フィルムが表面性を大きく損なったり、フィルムの機械的特性が大きく低下したりすることがない。   The particle size of the filler used in the present invention is not particularly limited because it is determined by the film characteristics to be modified and the type of filler to be added. However, if the particle size is too small, a modification effect appears. There is a tendency to become difficult. On the other hand, if the particle size is too large, the film may greatly impair the surface properties, or the mechanical properties of the film may be greatly deteriorated. Therefore, the average particle size is preferably 0.05 to 100 μm, more preferably 0.1 to 75 μm, further preferably 0.1 to 50 μm, and 0.1 to 25 μm. Is particularly preferred. If it exists in the said range, a big modification effect will be acquired, and a film will not impair surface property greatly, or the mechanical characteristic of a film will not fall large.

また、フィラーの添加部数についても、改質すべきフィルム特性、およびフィラー粒子径などにより決定されるため、特に限定されるものではないが、一般に、フィラーの添加部数が少なすぎると、フィラーによる改質効果が現れにくくなる傾向がある。逆に、フィラーの添加部数が多すぎると、フィルムの機械的特性が大きく損なわれる可能性がある。したがって、フィラーによる改質効果が現れ、かつ、フィルムの機械的特性が損なわれない範囲で添加することが好ましい。具体的には、上記フィラーの添加部数は、ポリイミド100重量部に対して、0.01〜100重量部であることが好ましく、0.01〜90重量部であることがより好ましく、0.02〜80重量部であることがさらに好ましい。上記範囲内であれば、フィラーによる改質効果が現れ、かつ、フィルムの機械的特性が損なわれることがない。   Further, the number of added parts of the filler is not particularly limited because it is determined by the film characteristics to be modified, the filler particle diameter, and the like. Generally, if the number of added parts of the filler is too small, the modification by the filler There is a tendency that the effect becomes difficult to appear. Conversely, if the number of fillers added is too large, the mechanical properties of the film may be greatly impaired. Therefore, it is preferable to add in the range where the modification effect by the filler appears and the mechanical properties of the film are not impaired. Specifically, the number of added parts of the filler is preferably 0.01 to 100 parts by weight, more preferably 0.01 to 90 parts by weight, with respect to 100 parts by weight of polyimide. More preferably, it is -80 weight part. If it is in the said range, the modification effect by a filler will appear and the mechanical characteristic of a film will not be impaired.

上記フィラーを添加する方法は、特に限定されるものではないが、具体的には、以下のような方法が挙げられる。
(i)重合前または途中に重合反応液に添加する方法。
(ii)重合完了後、3本ロールなどを用いてフィラーを混錬する方法。
(iii)フィラーを含む分散液を用意し、これをポリアミド酸溶液に混合する方法。
(iv)ビーズミル等により分散する方法。
The method for adding the filler is not particularly limited, and specific examples include the following methods.
(I) A method of adding to the polymerization reaction solution before or during the polymerization.
(Ii) A method in which the filler is kneaded using three rolls after completion of the polymerization.
(Iii) A method of preparing a dispersion containing a filler and mixing it with a polyamic acid solution.
(Iv) A method of dispersing by a bead mill or the like.

これら方法のうち、(iii)フィラーを含む分散液をポリアミド酸溶液に混合する方法が好ましく、特に、製膜直前にフィラーを含む分散液をポリアミド酸溶液に混合する方法が好ましい。この方法を採用すれば、フィルムを形成する直前にフィラーを混合することができるため、フィルムの製造ラインのフィラーによる汚染を最小限にすることができる。   Among these methods, (iii) a method of mixing a dispersion containing a filler with a polyamic acid solution is preferable, and a method of mixing a dispersion containing a filler with a polyamic acid solution immediately before film formation is particularly preferable. If this method is adopted, the filler can be mixed immediately before forming the film, so that the contamination of the film production line by the filler can be minimized.

上記のフィラーを含む分散液を用意する場合、分散液の溶媒には、ポリアミド酸の重合溶媒と同じ溶媒を用いることが好ましい。また、フィラーを良好に分散させ、また分散状態を安定化させるために、分散剤、増粘剤等をフィルム物性に影響を及ぼさない範囲内で用いることもできる。   When preparing a dispersion containing the above filler, it is preferable to use the same solvent as the polyamic acid polymerization solvent as the solvent for the dispersion. Moreover, in order to disperse | distribute a filler favorably and stabilize a dispersion state, a dispersing agent, a thickener, etc. can also be used in the range which does not affect a film physical property.

また、上記フィラーをフィルムの摺動性を改善するために添加する場合、当該フィラーの粒子径が小さすぎると、摺動性改善の効果が発現しにくくなる傾向がある。逆に、上記粒子径が大きすぎると、高精細な配線パターンを作成し難くなる傾向にある。したがって、そのような問題が起こらない範囲で、フィラーを添加することが好ましい。具体的には、0.1〜10μmとすることが好ましく、0.1〜5μmとすることがより好ましい。上記範囲内とすれば、摺動性改善の効果が発現し、かつ、高精細な配線パターンを作成することができる。   Moreover, when adding the said filler in order to improve the slidability of a film, when the particle diameter of the said filler is too small, there exists a tendency for the effect of slidability improvement to become difficult to express. Conversely, if the particle size is too large, it tends to be difficult to create a high-definition wiring pattern. Therefore, it is preferable to add a filler as long as such a problem does not occur. Specifically, the thickness is preferably 0.1 to 10 μm, and more preferably 0.1 to 5 μm. Within the above range, the effect of improving the slidability is exhibited, and a high-definition wiring pattern can be created.

さらに、上記フィラーをフィルムの摺動性を改善するために添加する場合、フィラーの分散状態も重要である。より詳しく言えば、20μm以上のフィラー凝集物が多く含まれていると、接着剤塗工時にはじきの原因となったり、高精細配線パターンを作成したときに接着面積の減少をきたしてFPCそのものの信頼性が落ちたりする傾向にある。したがって、このような問題が発生しない程度に、20μm以上のフィラー凝集物を低くすることが好ましい。具体的には、20μm以上のフィラーの凝集物を、50個/m2以下にすることが好ましく、40個/m2以下にするのがより好ましい。上記範囲内であれば、接着剤塗工時にはじきの原因となったり、高精細配線パターンを作成したときに接着面積が減少したりすることがない。Furthermore, when adding the said filler in order to improve the slidability of a film, the dispersion state of a filler is also important. More specifically, if a large amount of filler aggregates of 20 μm or more are contained, it may cause repellency when the adhesive is applied, or the adhesive area may be reduced when a high-definition wiring pattern is created. There is a tendency for reliability to drop. Therefore, it is preferable to lower the filler aggregate of 20 μm or more to such an extent that such a problem does not occur. Specifically, the aggregate of fillers of 20 μm or more is preferably 50 pieces / m 2 or less, and more preferably 40 pieces / m 2 or less. If it is in the above-mentioned range, it will not cause repellency when the adhesive is applied, and the adhesion area will not decrease when a high-definition wiring pattern is created.

(B)製膜ドープ流延工程
上記製膜ドープ流延工程では、まず、ポリアミド酸溶液を含む製膜ドープを調製する。このとき、上記製膜ドープの調製は、上記ポリアミド酸溶液をそのまま製膜ドープとしてもよいが、上記ポリアミド酸溶液に、その他の添加剤を混合して製膜ドープを得てもよい。例えば、後述するゲルフィルム形成工程において、ポリアミド酸をイミド化する方法を用いる場合、上記製膜ドープに、脱水剤とイミド化触媒とを含む硬化剤を加えてもよい。上記脱水剤は特に限定されるものではないが、例えば、無水酢酸等の酸無水物を代表例として挙げることができる。また、上記イミド化触媒についても特に限定されるものではないが、イソキノリン、β−ピコリン、ピリジン等の第三級アミン類を代表例として挙げることができる。
(B) Film-forming dope casting step In the film-forming dope casting step, first, a film-forming dope containing a polyamic acid solution is prepared. At this time, the film-forming dope may be prepared by using the polyamic acid solution as it is as a film-forming dope. However, the polyamic acid solution may be mixed with other additives to obtain a film-forming dope. For example, in the gel film forming step described later, when a method of imidizing polyamic acid is used, a curing agent containing a dehydrating agent and an imidization catalyst may be added to the film forming dope. Although the said dehydrating agent is not specifically limited, For example, acid anhydrides, such as acetic anhydride, can be mentioned as a representative example. Further, the imidation catalyst is not particularly limited, but tertiary amines such as isoquinoline, β-picoline, and pyridine can be given as representative examples.

上記脱水剤およびイミド化触媒を、ポリアミド酸溶液に混合する方法は、特に限定されるものではない。例えば、脱水剤およびイミド化触媒を、低温で、上記ポリアミド酸溶液中に混合することにより、製膜ドープを得ることができる。   The method for mixing the dehydrating agent and the imidization catalyst into the polyamic acid solution is not particularly limited. For example, a film-forming dope can be obtained by mixing a dehydrating agent and an imidization catalyst into the polyamic acid solution at a low temperature.

上記脱水剤およびイミド化触媒の添加量は、特に限定されるものではないが、上記脱水剤およびイミド化触媒の添加量が少なすぎると、完全に化学的イミド化が起こり、後述の焼成工程の途中でフィルムが破断したり、機械的強度が低下したりすることがある。一方、上記脱水剤およびイミド化触媒の添加量が多すぎると、イミド化の進行が早くなりすぎて、製膜ドープ流延工程においてフィルム状にキャストすることが困難となることがある。   The addition amount of the dehydrating agent and the imidization catalyst is not particularly limited. However, if the addition amount of the dehydrating agent and the imidization catalyst is too small, the chemical imidization occurs completely, and the firing process described later is performed. The film may break along the way or the mechanical strength may decrease. On the other hand, when there are too many addition amounts of the said dehydrating agent and an imidation catalyst, the progress of imidation will become quick too much and it may become difficult to cast into a film form in the film forming dope casting process.

したがって、上記脱水剤の添加量は、ポリアミド酸中のアミド酸ユニット1モルに対して、0.5〜5モルの範囲内であることが好ましく、1.0〜4モルの範囲内であることがより好ましい。また、上記イミド化触媒の添加量は、ポリアミド酸中のアミド酸ユニット1モルに対して、0.05〜3モルの範囲内であることが好ましく、0.2〜2モルの範囲内であることがより好ましい。上記脱水剤およびイミド化触媒の添加量を上記範囲内とすることにより、ポリアミド酸溶液を含む製膜ドープを容易に、フィルム状にキャストすることができ、かつ、焼成工程の途中でフィルムが破断したり、機械的強度が低下したりするのを防ぐことができる。   Therefore, the addition amount of the dehydrating agent is preferably in the range of 0.5 to 5 mol and in the range of 1.0 to 4 mol with respect to 1 mol of the amic acid unit in the polyamic acid. Is more preferable. Moreover, it is preferable that the addition amount of the said imidation catalyst exists in the range of 0.05-3 mol with respect to 1 mol of amic acid units in a polyamic acid, and exists in the range of 0.2-2 mol. It is more preferable. By making the addition amount of the dehydrating agent and the imidization catalyst within the above range, the film forming dope containing the polyamic acid solution can be easily cast into a film shape, and the film is broken during the baking process. And mechanical strength can be prevented from decreasing.

なお、上記ポリアミド酸溶液は、上記ポリアミド酸製造工程で製造したポリアミド酸溶液であってもよいし、上述したポリアミド酸溶液と同等のポリアミド酸溶液を別途調製したものや、市販品でもよい。   The polyamic acid solution may be a polyamic acid solution produced in the polyamic acid production process, a separately prepared polyamic acid solution equivalent to the polyamic acid solution described above, or a commercially available product.

次に、上記製膜ドープ流延工程では、上記製膜ドープを支持体上に、フィルム状にキャストする。上記支持体は、特に限定されるものではなく、例えば、ガラス板、アルミ箔、エンドレスステンレスベルト、またはステンレスドラムなどを挙げることができる。また、上記製膜ドープをフィルム状にキャストする方法は、特に限定されるものではなく、従来公知の方法を用いることができる。   Next, in the film forming dope casting step, the film forming dope is cast on a support in the form of a film. The said support body is not specifically limited, For example, a glass plate, aluminum foil, an endless stainless steel belt, or a stainless steel drum can be mentioned. Moreover, the method of casting the said film forming dope in a film form is not specifically limited, A conventionally well-known method can be used.

(C)ゲルフィルム形成工程
上記ゲルフィルム形成工程では、まず、上記支持体上に、フィルム状にキャストされた製膜ドープを、支持体上で加熱する。上記加熱温度は特に限定されるものではないが、80℃〜200℃の温度領域であることが好ましく、100℃〜180℃の温度領域であることがさらに好ましい。上記温度領域で加熱すれば、脱水剤およびイミド化触媒が活性化され、上記製膜ドープを部分的に硬化および/または乾燥させることができる。このように部分的に硬化および/または乾燥したフィルムを、支持体から剥離することにより、ポリアミド酸フィルム(以下、「ゲルフィルム」ともいう)を得ることができる。
(C) Gel film formation process In the said gel film formation process, the film forming dope casted into the film form on the said support body is first heated on a support body. Although the said heating temperature is not specifically limited, It is preferable that it is a temperature range of 80 to 200 degreeC, and it is further more preferable that it is a temperature range of 100 to 180 degreeC. When heated in the above temperature range, the dehydrating agent and the imidization catalyst are activated, and the film forming dope can be partially cured and / or dried. A polyamic acid film (hereinafter also referred to as “gel film”) can be obtained by peeling the partially cured and / or dried film from the support.

上記ゲルフィルムは、ポリアミド酸からポリイミドへの硬化の中間段階にあり、自己支持性を有し、上記ゲルフィルムの揮発分含量は、5〜500重量%の範囲内であることが好ましく、5〜200重量%の範囲内であることがより好ましく、5〜150重量%の範囲内であることがさらに好ましい。揮発分含量が、この範囲内にあるゲルフィルムを用いることにより、焼成時(後述の焼成工程)におけるフィルム破断、乾燥ムラによるフィルムの色調ムラ、および特性ばらつき等の不具合を回避することができる。   The gel film is in an intermediate stage of curing from polyamic acid to polyimide, has a self-supporting property, and the volatile content of the gel film is preferably in the range of 5 to 500% by weight, More preferably within the range of 200% by weight, even more preferably within the range of 5 to 150% by weight. By using a gel film having a volatile content within this range, problems such as film breakage during baking (the baking process described later), film color unevenness due to drying unevenness, and characteristic variations can be avoided.

なお、ゲルフィルムの揮発分含量は、下記式(1)
(X−Y)×100/Y・・・・(1)
(式中、Xはゲルフィルムの重量を、Yはゲルフィルムを450℃で20分間加熱した後の重量を表す。)を用いて算出することができる。
The volatile content of the gel film is expressed by the following formula (1)
(X−Y) × 100 / Y (1)
(Wherein X represents the weight of the gel film and Y represents the weight after heating the gel film at 450 ° C. for 20 minutes).

また、製膜条件や加熱条件は、ポリアミド酸の種類、およびフィルムの厚さ等により、適宜変更すべきものであり、上記の例に限定されるものではない。   The film forming conditions and heating conditions should be appropriately changed depending on the type of polyamic acid, the thickness of the film, and the like, and are not limited to the above examples.

(D)焼成工程
上記焼成工程では、上述のゲルフィルムの端部を固定して、硬化時のフィルムの収縮を回避しながら、ゲルフィルムを乾燥し、水、残留溶媒、残存転化剤およびイミド化触媒を除去する。これにより、残ったアミド酸が完全にイミド化され、ポリイミドフィルムが得られる。
(D) Firing step In the firing step, the gel film is dried while fixing the end of the gel film and avoiding shrinkage of the film during curing, and water, residual solvent, residual conversion agent and imidization are performed. Remove the catalyst. Thereby, the remaining amic acid is completely imidized, and a polyimide film is obtained.

上記焼成工程では、上記ゲルフィルムを加熱して乾燥させるが、このときの最終的な焼成温度は、高すぎても低すぎてもフィルムの諸特性に悪影響を及ぼす可能性がある。具体的には、最終的な焼成温度が高すぎると、フィルムの熱劣化が起こることがある。逆に、最終的な焼成温度が低すぎると、得られるフィルムにおいて、所望の効果が発現しないことがある。したがって、最終的に400〜650℃の温度で、5〜400秒間、上記ゲルフィルムを加熱することが好ましい。   In the baking step, the gel film is heated and dried. If the final baking temperature is too high or too low, various properties of the film may be adversely affected. Specifically, if the final baking temperature is too high, thermal degradation of the film may occur. Conversely, if the final baking temperature is too low, the desired effect may not be exhibited in the resulting film. Therefore, it is preferable to finally heat the gel film at a temperature of 400 to 650 ° C. for 5 to 400 seconds.

また、適切な焼成状態は、ポリイミドの組成、製法などによっても種々変化させる必要がある。したがって、ポリイミドの組成や製法に応じて、適宜適切な焼成状態を選択することが好ましい。   Moreover, it is necessary to change various suitable baking states also with a composition, manufacturing method, etc. of a polyimide. Therefore, it is preferable to select an appropriate firing state as appropriate according to the composition and manufacturing method of the polyimide.

また、フィルム中に残留している内部応力を緩和させるために、フィルムを搬送する際に、必要最低限の張力下において、ゲルフィルムの加熱処理をすることもできる。この加熱処理は、焼成工程において行ってもよいし、また、別途この工程を設けてもよい。   Moreover, in order to relieve the internal stress remaining in the film, the gel film can be heat-treated under the necessary minimum tension when the film is conveyed. This heat treatment may be performed in the baking step, or may be provided separately.

上記加熱処理の加熱条件は、特に限定されるものではなく、フィルムの特性や用いる装置に応じて適宜変動させればよい。例えば、加熱温度は、一般的には200℃以上500℃以下であることが好ましく、250℃以上500℃以下であることがより好ましく、300℃以上450℃以下であることがさらに好ましい。また、加熱時間は、1〜300秒間であることが好ましく、2〜250秒間であることがより好ましく、5〜200秒間であることがさらに好ましい。上記加熱温度および加熱時間で熱処理をすることにより、内部応力を緩和することができる。それゆえ、200℃での加熱収縮率を小さくすることができる。   The heating conditions for the heat treatment are not particularly limited, and may be appropriately changed according to the characteristics of the film and the apparatus used. For example, the heating temperature is generally preferably 200 ° C. or higher and 500 ° C. or lower, more preferably 250 ° C. or higher and 500 ° C. or lower, and further preferably 300 ° C. or higher and 450 ° C. or lower. The heating time is preferably 1 to 300 seconds, more preferably 2 to 250 seconds, and further preferably 5 to 200 seconds. By performing the heat treatment at the heating temperature and the heating time, the internal stress can be relaxed. Therefore, the heat shrinkage rate at 200 ° C. can be reduced.

また、フィルムの異方性を悪化させない程度に、ゲルフィルムの固定前後でフィルムを延伸することもできる。このとき、ゲルフィルムの揮発分含有量が少なすぎると、フィルムを延伸しにくくなる傾向にある。逆に、ゲルフィルムの揮発分含有量が多すぎると、フィルムの自己支持性が悪く、延伸操作そのものが困難になる傾向にある。したがって、ゲルフィルムの揮発分含有量は100〜500重量%であることが好ましく、150〜500重量%であることがより好ましい。上記範囲内であれば、ゲルフィルムの自己支持性が良好で、延伸操作を行いやすく、また、当該ゲルフィルムを好適に延伸することができる。   Further, the film can be stretched before and after fixing the gel film to such an extent that the anisotropy of the film is not deteriorated. At this time, if the volatile content of the gel film is too small, the film tends to be difficult to stretch. On the other hand, when the volatile content of the gel film is too large, the self-supporting property of the film is poor and the stretching operation itself tends to be difficult. Therefore, the volatile content of the gel film is preferably 100 to 500% by weight, and more preferably 150 to 500% by weight. If it is in the said range, the self-support property of a gel film is favorable, it is easy to perform extending | stretching operation, and the said gel film can be extended | stretched suitably.

また、フィルムを延伸する方法は、特に限定されるものではなく、従来公知のいかなる方法を用いてもよい。例えば、差動ロールを用いる方法や、テンターの固定間隔を広げていく方法等を挙げることができる。   The method for stretching the film is not particularly limited, and any conventionally known method may be used. For example, a method using a differential roll, a method of widening the fixing interval of the tenter, and the like can be mentioned.

<III.接着フィルム>
本発明にかかる接着フィルムは、本発明にかかるポリイミドフィルムの少なくとも片面(すなわち、片面または両面)に接着層を設けてなり、上記ポリイミドフィルムをコアフィルムとする接着フィルムである。上記構成によれば、コア層として、本発明にかかるポリイミドフィルムを用いているため、弾性率が低く、寸法安定性に優れた接着フィルムとすることができる。
<III. Adhesive film>
The adhesive film according to the present invention is an adhesive film in which an adhesive layer is provided on at least one surface (that is, one surface or both surfaces) of the polyimide film according to the present invention, and the polyimide film is used as a core film. According to the said structure, since the polyimide film concerning this invention is used as a core layer, it can be set as the adhesive film with a low elasticity modulus and excellent in dimensional stability.

上記接着フィルムにおける接着層は、特に限定されるものではなく、従来公知の接着層を用いることができる。例えば、上記接着層は、アクリル系、エポキシ系、ポリイミド系等の従来公知の接着剤によって形成することができる。   The adhesive layer in the said adhesive film is not specifically limited, A conventionally well-known adhesive layer can be used. For example, the adhesive layer can be formed by a conventionally known adhesive such as acrylic, epoxy, or polyimide.

また、本発明にかかる接着フィルムの製造方法についても、特に限定されるものではなく、従来公知の方法を用いることができる。例えば、(1)基材フィルム(コア層)となるポリイミドフィルムに接着層を形成する方法、または(2)接着層をシート状に成形し、これを上記基材フィルムに貼り合わせる方法等を好適に用いることができる。   Moreover, it does not specifically limit about the manufacturing method of the adhesive film concerning this invention, A conventionally well-known method can be used. For example, (1) a method in which an adhesive layer is formed on a polyimide film to be a base film (core layer), or (2) a method in which the adhesive layer is formed into a sheet and bonded to the base film is suitable. Can be used.

また、本発明にかかる接着フィルムの製造においては、必要に応じて、接着層を設ける前、もしくは接着層を設けた後に、コロナ処理、プラズマ処理、カップリング処理等の各種表面処理をコアフィルム表面に施してもよい。   In the production of the adhesive film according to the present invention, the surface of the core film is subjected to various surface treatments such as corona treatment, plasma treatment, and coupling treatment before or after providing the adhesive layer, if necessary. May be applied.

<IV.フレキシブル金属張積層板>
本発明にかかるフレキシブル金属張積層板は、本発明にかかる接着フィルムと、金属箔とを貼り合せることにより、得られるものである。また、上記フレキシブル金属張積層板は、シート状に成形された接着層を、金属箔とポリイミドフィルムとの間に挟んで貼り合わせることにより得ることもできる。この場合の接着層は、特に限定されるものではない。具体的には、上記接着フィルムに用いられる接着層を同様に用いることができる。
<IV. Flexible metal-clad laminate>
The flexible metal-clad laminate according to the present invention is obtained by bonding the adhesive film according to the present invention and a metal foil. The flexible metal-clad laminate can also be obtained by attaching and bonding a sheet-shaped adhesive layer between a metal foil and a polyimide film. The adhesive layer in this case is not particularly limited. Specifically, the adhesive layer used for the adhesive film can be used similarly.

上記フレキシブル金属張積層板において、ポリイミドフィルムは、絶縁層であり、上記金属箔は、導電層である。すなわち、上記フレキシブル金属張積層板は、絶縁層である本発明のポリイミドフィルム上に、導電層である金属箔が積層された構造を有するものである。   In the flexible metal-clad laminate, the polyimide film is an insulating layer, and the metal foil is a conductive layer. That is, the flexible metal-clad laminate has a structure in which a metal foil as a conductive layer is laminated on a polyimide film of the present invention as an insulating layer.

上記金属箔は、特に限定されるものではなく、あらゆる金属箔を用いることができる。例えば、銅箔、ステンレス箔、ニッケル箔、アルミニウム箔、およびこれら金属の合金からなる箔などを好適に用いることができる。また、一般的なフレキシブル金属張積層板では、圧延銅箔、電解銅箔といった銅箔が多用されるが、本発明においても好ましく用いることができる。   The metal foil is not particularly limited, and any metal foil can be used. For example, a copper foil, a stainless steel foil, a nickel foil, an aluminum foil, and a foil made of an alloy of these metals can be suitably used. Moreover, in general flexible metal-clad laminates, copper foil such as rolled copper foil and electrolytic copper foil is frequently used, but it can also be preferably used in the present invention.

また、上記金属箔は、目的に応じて表面処理、表面粗さ等種々特性を有したものを選択できる。さらに、上記金属箔の表面には、防錆層や耐熱層あるいは接着層が塗布されていてもよい。   Moreover, the said metal foil can select what has various characteristics, such as surface treatment and surface roughness, according to the objective. Furthermore, a rust preventive layer, a heat resistant layer or an adhesive layer may be applied to the surface of the metal foil.

上記金属箔の厚みについては特に限定されるものではなく、その用途に応じて、十分な機能が発揮できる厚みであればよい。   The thickness of the metal foil is not particularly limited, and may be any thickness that can exhibit a sufficient function depending on the application.

本発明にかかるフレキシブル金属張積層板は、以上の通りであるが、より具体的な実施形態として、金属箔が銅箔である場合、すなわち、フレキシブル銅張積層板(以下、「FCCL」ともいう)について、以下、説明する。本発明にかかるフレキシブル銅張積層板の寸法変化率は、±0.1%以下であることが好ましく、±0.05%以下であることがさらに好ましい。また、当該フレキシブル銅張積層板の屈曲回数は、1万回以上であることが好ましく、12000回以上であることがさらに好ましい。なお、上記金属箔が銅箔以外の金属箔である場合にも、当該フレキシブル金属張積層板の寸法変化率および屈曲回数は、上記フレキシブル銅張積層板のそれらと同一であることが好ましい。   The flexible metal-clad laminate according to the present invention is as described above. However, as a more specific embodiment, when the metal foil is a copper foil, that is, a flexible copper-clad laminate (hereinafter also referred to as “FCCL”). ) Will be described below. The dimensional change rate of the flexible copper clad laminate according to the present invention is preferably ± 0.1% or less, and more preferably ± 0.05% or less. Further, the number of flexing of the flexible copper clad laminate is preferably 10,000 times or more, and more preferably 12000 times or more. In addition, also when the said metal foil is metal foils other than copper foil, it is preferable that the dimensional change rate and the frequency | count of bending of the said flexible metal-clad laminate are the same as those of the said flexible copper-clad laminate.

また、本発明にかかるフレキシブル金属張積層板の製造方法については、特に限定されるものではなく、フレキシブル金属張積層板の製造方法として従来公知のいかなる方法を用いてもよい。   Moreover, it does not specifically limit about the manufacturing method of the flexible metal clad laminated board concerning this invention, Any conventionally well-known method may be used as a manufacturing method of a flexible metal clad laminated board.

<V.フレキシブルプリント配線板>
本発明にかかるフレキシブルプリント配線板(以下、「FPC」ともいう)は、上述したフレキシブル金属張積層板を用いて製造されるものである。具体的には、上記フレキシブル金属張積層板の金属箔をエッチングして所望のパターン配線を形成する。次に、当該パターン配線を保護するために、導体層である銅箔表面に、カバーレイフィルム(絶縁保護フィルム)を積層することにより、本発明のFPCを得ることができる。
<V. Flexible printed wiring board>
A flexible printed wiring board (hereinafter also referred to as “FPC”) according to the present invention is manufactured using the above-described flexible metal-clad laminate. Specifically, the metal foil of the flexible metal-clad laminate is etched to form a desired pattern wiring. Next, in order to protect the said pattern wiring, the FPC of this invention can be obtained by laminating | stacking a coverlay film (insulation protection film) on the copper foil surface which is a conductor layer.

上記カバーレイフィルムには、絶縁層に用いられたものと同一のフィルムを用いるか、または、絶縁層のフィルムよりも低弾性率のフィルムを用いることが、屈曲性の観点から好ましい。また、カバーレイフィルムの厚みは、特に限定されないが、カール防止、および屈曲性の観点から、絶縁層以下の厚みであることが好ましい。   As the coverlay film, it is preferable from the viewpoint of flexibility that the same film as that used for the insulating layer is used, or a film having a lower elastic modulus than the film of the insulating layer is used. Further, the thickness of the coverlay film is not particularly limited, but is preferably equal to or less than the insulating layer from the viewpoint of curling prevention and flexibility.

また、上記フレキシブル金属張積層板上にカバーレイフィルムを積層する方法は、特に限定されるものではなく、従来公知の方法を用いることができる。例えば、真空ラミネーターにより積層することができる。   Moreover, the method of laminating the coverlay film on the flexible metal-clad laminate is not particularly limited, and a conventionally known method can be used. For example, lamination can be performed using a vacuum laminator.

こうして得られるFPCの屈曲回数は、1万回以上であることが好ましく、12000回以上であることがより好ましい。   The number of flexures of the FPC thus obtained is preferably 10,000 times or more, and more preferably 12000 times or more.

本発明にかかるFPCは、上記構成を備えているため、高い屈曲性をもつFPCとなる。それゆえ、各種の小型化、高密度化された部品を実装したフレキシブルプリント配線板として好適に用いることができる。   Since the FPC according to the present invention has the above-described configuration, the FPC has high flexibility. Therefore, it can be suitably used as a flexible printed wiring board on which various miniaturized and densified components are mounted.

<VI.本発明の利用>
上述したように、本発明にかかるポリイミドフィルムは、弾性率が低く、線膨張係数が小さいポリイミドフィルムである。換言すれば、本発明にかかるフィルムは、屈曲性が高く、寸法安定性に優れたポリイミドフィルムである。
<VI. Use of the present invention>
As described above, the polyimide film according to the present invention is a polyimide film having a low elastic modulus and a small linear expansion coefficient. In other words, the film according to the present invention is a polyimide film having high flexibility and excellent dimensional stability.

したがって、本発明は、高い屈曲性が求められるフレキシブルプリント配線をはじめ、種々の用途に用いることができる。   Therefore, the present invention can be used for various applications including flexible printed wiring that requires high flexibility.

なお本発明は、以上説示した各構成に限定されるものではなく、特許請求の範囲に示した範囲で種々の変更が可能であり、異なる実施形態にそれぞれ開示された技術的手段を適宜組み合わせて得られる実施形態についても本発明の技術的範囲に含まれる。   The present invention is not limited to the configurations described above, and various modifications can be made within the scope of the claims, and the technical means disclosed in different embodiments are appropriately combined. The obtained embodiment is also included in the technical scope of the present invention.

本発明について、実施例に基づいてより具体的に説明するが、本発明はこれに限定されるものではない。当業者は本発明の範囲を逸脱することなく、種々の変更、修正、および改変を行うことができる。なお、ポリイミドフィルムの弾性率および線膨張係数、FCCLの寸法変化率、および屈曲特性は、次のようにして評価した。   The present invention will be described more specifically based on examples, but the present invention is not limited to this. Those skilled in the art can make various changes, modifications, and alterations without departing from the scope of the present invention. The elastic modulus and linear expansion coefficient of the polyimide film, the dimensional change rate of FCCL, and the bending characteristics were evaluated as follows.

〔弾性率〕
弾性率は、ASTM D−882に従って測定した。
[Elastic modulus]
Elastic modulus was measured according to ASTM D-882.

〔ポリイミドフィルムの線膨張係数〕
100〜200℃の線膨張係数の測定は、セイコー電子(株)社製TMA120Cを用いて(サンプルサイズ 幅3mm、長さ10mm)、荷重3gで10℃/minで10〜400℃まで一旦昇温させた後、10℃まで冷却し、さらに10℃/minで昇温させて、2回目の昇温時の100℃および200℃における熱膨張率から平均値として計算した。
[Linear expansion coefficient of polyimide film]
The linear expansion coefficient at 100 to 200 ° C. was measured by using a TMA120C manufactured by Seiko Electronics Co., Ltd. (sample size: 3 mm width, 10 mm length), and once heated to 10 to 400 ° C. at 10 ° C./min with a load of 3 g. Then, it was cooled to 10 ° C., further heated at 10 ° C./min, and calculated as an average value from the coefficient of thermal expansion at 100 ° C. and 200 ° C. during the second temperature increase.

〔FCCLの寸法変化率〕
FCCLを20×20cmに切り出し、15cm間隔で4隅にドリルで直径1mmの基準穴をあけた後、初期寸法を測定した。その後、銅箔をエッチングにより完全に除去、23℃、55%RH下で24時間調湿した。調湿後、基準穴間距離を測定し、エッチング後の寸法とした。
[Dimensional change rate of FCCL]
The FCCL was cut into 20 × 20 cm, a reference hole having a diameter of 1 mm was drilled at four corners at intervals of 15 cm, and initial dimensions were measured. Thereafter, the copper foil was completely removed by etching and conditioned at 23 ° C. and 55% RH for 24 hours. After humidity control, the distance between the reference holes was measured and used as the dimension after etching.

このシートをさらに150℃で30分間熱処理した。その後、23℃、55%RH下で24時間調湿した。調湿後、基準穴間距離を測定し、加熱後の寸法とした。この穴間距離の変化率を加熱時の寸法変化率とした。   This sheet was further heat-treated at 150 ° C. for 30 minutes. Thereafter, the humidity was adjusted at 23 ° C. and 55% RH for 24 hours. After humidity control, the distance between the reference holes was measured and taken as the dimension after heating. The change rate of the distance between the holes was defined as the dimensional change rate during heating.

なお、上記寸法変化率は、MD方向及びTD方向の双方について測定した。   In addition, the said dimensional change rate was measured about both MD direction and TD direction.

〔屈曲特性〕
MIT屈曲試験機(東洋精機社製MIT−D)を用いて、R=0.38mm、張力750gf、折り曲げ角度135°、速度175回/分で、試料の屈曲特性を測定した。当該試料は、JIS C5016に従って作製した。
(Bending characteristics)
Using a MIT bending tester (MIT-D, manufactured by Toyo Seiki Co., Ltd.), the bending characteristics of the sample were measured at R = 0.38 mm, a tension of 750 gf, a bending angle of 135 °, and a speed of 175 times / minute. The sample was prepared according to JIS C5016.

〔合成例1:ナイロン変性エポキシ系接着剤の合成〕
ポリアミド樹脂(日本リルサン社製プラタボンドM1276)50重量部、ビスフェノールA型エポキシ樹脂(油化シェルエポキシ社製エピコート828)30重量部、クレゾールノボラック型エポキシ樹脂10重量部、トルエン/イソプロピルアルコール1/1混合溶液150重量部を混合した溶液に、ジアミノジフェニルスルホン/ジシアンジアミド4/1 20%メチルセロソルブ溶液45重量部を混合した接着剤溶液を調製した。
[Synthesis Example 1: Synthesis of nylon-modified epoxy adhesive]
50 parts by weight of polyamide resin (Platabond M1276 manufactured by Nippon Rilsan Co., Ltd.), 30 parts by weight of bisphenol A type epoxy resin (Epicoat 828 manufactured by Yuka Shell Epoxy Co., Ltd.), 10 parts by weight of cresol novolac type epoxy resin, toluene / isopropyl alcohol 1/1 mixed An adhesive solution in which 150 parts by weight of the solution was mixed with 45 parts by weight of diaminodiphenylsulfone / dicyandiamide 4/1 20% methyl cellosolve solution was prepared.

次に、25μm厚みのPETフィルム上に接着剤を、乾燥後11μmになるように塗布し、120℃で2分間乾燥して支持体つきBステージ接着剤を得た。   Next, an adhesive was applied onto a 25 μm thick PET film so as to be 11 μm after drying, and dried at 120 ° C. for 2 minutes to obtain a B-stage adhesive with a support.

〔実施例1〕
10℃に冷却したN,N−ジメチルホルムアミド(以下、「DMF」ともいう)566gに2,2−ビス(4−(4−アミノフェノキシフェニル)プロパン(BAPP)27.27gと4,4’−オキシジアニリン(4,4’ODA)26.60gとを溶解した。ここに、ピロメリット酸二無水物(PMDA)57.95gを添加して溶解させた後、パラフェニレンジアミン(p−PDA)の20重量%DMF溶液を徐々に添加し、粘度が2000ポイズ(200Pa・s)程度に達したところで添加を止めた。1時間撹拌を行って固形分濃度約17重量%、23℃での回転粘度が2500ポイズ(250Pa・s)のポリアミド酸溶液を得た。(BAPP/ODA/p−PDA/PMDA=25/50/25/100(モル比))
このポリアミド酸溶液100gに対してイソキノリン/無水酢酸/DMF=6.74/19.03/44.23(重量比)で調製したイミド化剤を0℃で添加してすばやく混合した後、遠心脱泡して製膜ドープを得た。この製膜ドープを、コンマコーターを用いてアルミ箔上に流延塗布した。この樹脂膜を130℃×100秒で加熱した後、アルミ箔から自己支持性のゲル膜を引き剥がして(揮発分含量47重量%)金属枠に固定し、300℃×20秒、450℃×20秒、500℃×10秒で乾燥・イミド化させて厚み12.5μmのポリイミドフィルムを得た。なお、乾燥・イミド化には、各温度に予熱した3台の熱風循環オーブンを用いた。このようにして得られたポリイミドフィルムの特性を表1に示す。
[Example 1]
566 g of N, N-dimethylformamide (hereinafter also referred to as “DMF”) cooled to 10 ° C., 27.27 g of 2,2-bis (4- (4-aminophenoxyphenyl) propane (BAPP) and 4,4′- 26.60 g of oxydianiline (4,4′ODA) was dissolved, and 57.95 g of pyromellitic dianhydride (PMDA) was added and dissolved therein, followed by paraphenylenediamine (p-PDA). 20% by weight DMF solution was gradually added, and the addition was stopped when the viscosity reached about 2000 poise (200 Pa · s), and the mixture was stirred for 1 hour to rotate at a solid content concentration of about 17% by weight at 23 ° C. A polyamic acid solution having a viscosity of 2500 poise (250 Pa · s) was obtained (BAPP / ODA / p-PDA / PMDA = 25/50/25/100 (molar ratio)).
An imidizing agent prepared with isoquinoline / acetic anhydride / DMF = 6.74 / 19.03 / 44.23 (weight ratio) was added to 100 g of this polyamic acid solution at 0 ° C., and the mixture was quickly mixed. Foaming dope was obtained. This film-forming dope was cast and applied onto an aluminum foil using a comma coater. After heating this resin film at 130 ° C. × 100 seconds, the self-supporting gel film is peeled off from the aluminum foil (volatile content 47% by weight) and fixed to a metal frame, 300 ° C. × 20 seconds, 450 ° C. × It was dried and imidized at 500 ° C. for 10 seconds for 20 seconds to obtain a polyimide film having a thickness of 12.5 μm. For drying and imidization, three hot air circulation ovens preheated to each temperature were used. The properties of the polyimide film thus obtained are shown in Table 1.

Figure 2007083526
Figure 2007083526

このフィルムをコロナ密度200W・min/m2で処理した後、合成例1で得られたBステージ接着剤付きPETフィルムを重ね合わせ、90℃で1kg/cm2の圧力で圧着した。After this film was treated with a corona density of 200 W · min / m 2 , the B-stage adhesive-attached PET film obtained in Synthesis Example 1 was superposed and pressure-bonded at 90 ° C. with a pressure of 1 kg / cm 2 .

その後、PETフィルムを剥がし、12μmの圧延銅箔と120℃、圧力は2kg/cmでロールラミネート法により張り合わせた。銅張あわせ品を、60℃で3時間、80℃で3時間、120℃で3時間、140℃で3時間、160℃で4時間のステップで加熱後、徐冷して接着剤の硬化を行って、フレキシブル銅張積層板(FCCL)を得た。そして、当該FCCLについて、寸法変化率を評価した。   Thereafter, the PET film was peeled off, and bonded with a 12 μm rolled copper foil at 120 ° C. under a pressure of 2 kg / cm by a roll laminating method. The copper-clad product is heated at 60 ° C. for 3 hours, 80 ° C. for 3 hours, 120 ° C. for 3 hours, 140 ° C. for 3 hours, and 160 ° C. for 4 hours, and then gradually cooled to cure the adhesive. And a flexible copper clad laminate (FCCL) was obtained. And the dimensional change rate was evaluated about the said FCCL.

このFCCLに、JIS C5016に従ってパターンを形成したのち、12.5μmのポリイミドフィルム((株)カネカ製 アピカル12.5AH)に接着剤溶液を塗工して得たカバーレイフィルムを、真空ラミネーターを用いて160℃ 4MPa 40分間プレスしてFPCを作製し、屈曲特性を評価した。結果を表1に示す。   After forming a pattern on this FCCL according to JIS C5016, a cover lay film obtained by applying an adhesive solution to a 12.5 μm polyimide film (Apical 12.5AH manufactured by Kaneka Corp.) was used with a vacuum laminator. FPC was produced by pressing at 160 ° C. and 4 MPa for 40 minutes, and bending properties were evaluated. The results are shown in Table 1.

〔実施例2および3〕
表1に記載の通りにモノマー添加順序および添加モル分率を変更した以外は、実施例1と同様にしてポリイミドフィルム、FCCLおよびFPCを得た。これらの特性を表1に示す。
[Examples 2 and 3]
A polyimide film, FCCL, and FPC were obtained in the same manner as in Example 1 except that the monomer addition order and the addition mole fraction were changed as shown in Table 1. These characteristics are shown in Table 1.

〔比較例1〜3〕
市販されているポリイミドフィルム(アピカルAH12.5μm((株)カネカ製)、およびカプトンV12.5μm(東レデュポン製))を用いて、実施例1と同様の方法で、FCCLおよびFPCを作製し、屈曲特性を評価した。結果を表1に示す。
[Comparative Examples 1-3]
FCCL and FPC were prepared in the same manner as in Example 1 using commercially available polyimide films (Apical AH 12.5 μm (manufactured by Kaneka Corporation) and Kapton V12.5 μm (manufactured by Toray DuPont)). Flexural properties were evaluated. The results are shown in Table 1.

なお本発明は、以上説示した各構成に限定されるものではなく、特許請求の範囲に示した範囲で種々の変更が可能であり、異なる実施形態や実施例にそれぞれ開示された技術的手段を適宜組み合わせて得られる実施形態や実施例についても本発明の技術的範囲に含まれる。   Note that the present invention is not limited to the configurations described above, and various modifications are possible within the scope of the claims, and technical means disclosed in different embodiments and examples respectively. Embodiments and examples obtained by appropriately combining them are also included in the technical scope of the present invention.

以上のように、本発明のポリイミドフィルムは、弾性率が低く、かつ、寸法安定性が優れている。それゆえ、折り畳み性、耐屈曲性及び低スティフネス(低消費電力)が要求されるFPC等に好適に用いることができるだけではなく、ポリイミドフィルムからなる積層体を用いた電子部品の製造に関わる分野に広く用いることができる。さらに、本発明は、ポリイミド性接着フィルムからなる積層体に代表される各種樹脂成形品を製造する分野にも応用することができる。   As described above, the polyimide film of the present invention has a low elastic modulus and excellent dimensional stability. Therefore, not only can it be suitably used for FPCs and the like that require foldability, bending resistance and low stiffness (low power consumption), but also in fields related to the manufacture of electronic components using laminates made of polyimide films. Can be widely used. Furthermore, this invention can be applied also to the field | area which manufactures the various resin molded products represented by the laminated body which consists of a polyimide adhesive film.

Claims (11)

酸二無水物成分とジアミン成分とを重合してなるポリアミド酸をイミド化してなるポリイミドフィルムであって、上記ジアミン成分は、少なくとも、2,2−ビス(4−(4−アミノフェノキシ)フェニル)プロパンを含み、弾性率が4GPa未満で、かつ100〜200℃の平均線膨張係数が15〜30ppmであることを特徴とするポリイミドフィルム。   A polyimide film formed by imidizing a polyamic acid obtained by polymerizing an acid dianhydride component and a diamine component, wherein the diamine component is at least 2,2-bis (4- (4-aminophenoxy) phenyl) A polyimide film comprising propane, having an elastic modulus of less than 4 GPa, and an average linear expansion coefficient at 100 to 200 ° C. of 15 to 30 ppm. 100〜200℃の平均線膨張係数が18〜25ppmであることを特徴とする請求の範囲1に記載のポリイミドフィルム。   The polyimide film according to claim 1, wherein an average linear expansion coefficient at 100 to 200 ° C is 18 to 25 ppm. 弾性率が3.5GPa以下であることを特徴とする請求の範囲1または2に記載のポリイミドフィルム。   The polyimide film according to claim 1 or 2, wherein an elastic modulus is 3.5 GPa or less. フィルム厚みが7〜28μmであることを特徴とする請求の範囲1〜3のいずれか1項に記載のポリイミドフィルム。   Film thickness is 7-28 micrometers, The polyimide film of any one of Claims 1-3 characterized by the above-mentioned. フィルム厚みが10〜14μmであることを特徴とする請求の範囲1〜4のいずれか1項に記載のポリイミドフィルム。   Film thickness is 10-14 micrometers, The polyimide film of any one of Claims 1-4 characterized by the above-mentioned. 上記酸二無水物成分は、少なくとも、ピロメリット酸二無水物を含み、上記ジアミン成分は、少なくとも、2,2−ビス(4−(4−アミノフェノキシ)フェニル)プロパン、4,4’−オキシジアニリンおよびp−フェニレンジアミンを含むことを特徴とする請求の範囲1〜5のいずれか1項に記載のポリイミドフィルム。   The acid dianhydride component includes at least pyromellitic dianhydride, and the diamine component includes at least 2,2-bis (4- (4-aminophenoxy) phenyl) propane, 4,4′-oxy. Dianiline and p-phenylenediamine are contained, The polyimide film of any one of Claims 1-5 characterized by the above-mentioned. 上記ジアミン成分は、2,2−ビス(4−(4−アミノフェノキシ)フェニル)プロパン、4,4’−オキシジアニリンおよびp−フェニレンジアミンを全て含み、かつ、上記ジアミン成分に含有される全てのジアミンのモル数の合計を100モル%としたときに、100モル%を越えない範囲で20〜50モル%の2,2−ビス(4−(4−アミノフェノキシ)フェニル)プロパンと、20〜50モル%の4,4’−オキシジアニリンと、15〜35モル%のp−フェニレンジアミンとを含むことを特徴とする請求の範囲1〜6のいずれか1項に記載のポリイミドフィルム。   The diamine component includes all of 2,2-bis (4- (4-aminophenoxy) phenyl) propane, 4,4′-oxydianiline and p-phenylenediamine, and all contained in the diamine component. 20 to 50 mol% of 2,2-bis (4- (4-aminophenoxy) phenyl) propane and 20 mol% within a range not exceeding 100 mol%, assuming that the total number of moles of diamines is 100 mol%, The polyimide film according to any one of claims 1 to 6, comprising -50 mol% of 4,4'-oxydianiline and 15-35 mol% of p-phenylenediamine. フレキシブル金属張積層板の材料に用いられることを特徴とする請求の範囲1〜7のいずれか1項に記載のポリイミドフィルム。   The polyimide film according to claim 1, wherein the polyimide film is used as a material for a flexible metal-clad laminate. 請求の範囲1〜8のいずれか1項に記載のポリイミドフィルムの、少なくとも片面に、接着層を設けてなることを特徴とする接着フィルム。   An adhesive film comprising an adhesive layer on at least one side of the polyimide film according to any one of claims 1 to 8. 請求の範囲1〜8のいずれか1項に記載のポリイミドフィルム、または請求の範囲9に記載の接着フィルムに金属箔を張り合わせてなることを特徴とするフレキシブル金属張積層板。   A flexible metal-clad laminate comprising a metal foil laminated to the polyimide film according to any one of claims 1 to 8 or the adhesive film according to claim 9. 請求の範囲10に記載のフレキシブル金属張積層板を用いて製造されることを特徴とするフレキシブルプリント配線板。   A flexible printed wiring board manufactured using the flexible metal-clad laminate according to claim 10.
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Families Citing this family (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP5355478B2 (en) * 2010-04-07 2013-11-27 株式会社フジクラ Flexible printed circuit board and manufacturing method thereof
JP2012233123A (en) * 2011-05-09 2012-11-29 Sumitomo Electric Wintec Inc Polyimide resin varnish, insulated electric wire using the same, electric machine coil, and motor
TWI488887B (en) 2013-02-08 2015-06-21 長興材料工業股份有限公司 Polyimides, coating composition formed therefrom and use thereof
CN103145986B (en) * 2013-03-21 2016-04-06 华威聚酰亚胺有限责任公司 A kind of chemical imidization catalyst of polyamic acid and Kapton manufacture method
CN104057663A (en) * 2014-07-09 2014-09-24 苏州城邦达力材料科技有限公司 Double-sided flexible copper-clad laminate and production method thereof
CN105399950B (en) * 2015-12-18 2018-03-09 吉林大学 A kind of polyimide resin of cyano-containing and its application in terms of copper foil is covered in preparation

Citations (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS6416834A (en) * 1987-07-10 1989-01-20 Kanegafuchi Chemical Ind Polyamic acid copolymer, polyimide copolymer therefrom and production thereof
JPS6417219A (en) * 1987-07-10 1989-01-20 Kanegafuchi Chemical Ind Perpendicular magnetic recording medium
JPS6416833A (en) * 1987-07-10 1989-01-20 Kanegafuchi Chemical Ind Polyamic acid copolymer, polyimide copolymer therefrom and production thereof
JPS6420238A (en) * 1987-07-15 1989-01-24 Kanegafuchi Chemical Ind Production of aromatic polyimide polymer molding
JPH01131242A (en) * 1987-01-20 1989-05-24 Kanegafuchi Chem Ind Co Ltd Polyimide having excellent thermal dimensional stability
JPH0741556A (en) * 1993-07-29 1995-02-10 Kanegafuchi Chem Ind Co Ltd Polyimide resin and polyimide film
JPH0753717A (en) * 1993-08-18 1995-02-28 Kanegafuchi Chem Ind Co Ltd New copolymer and its production
JPH0762097A (en) * 1993-08-23 1995-03-07 Kanegafuchi Chem Ind Co Ltd New copolymer and production thereof
JPH09302091A (en) * 1996-05-10 1997-11-25 Kanegafuchi Chem Ind Co Ltd Novel high-elasticity polyimide resin composition

Family Cites Families (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP5297573B2 (en) * 2004-09-30 2013-09-25 株式会社カネカ Polyimide film with high adhesiveness

Patent Citations (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH01131242A (en) * 1987-01-20 1989-05-24 Kanegafuchi Chem Ind Co Ltd Polyimide having excellent thermal dimensional stability
JPS6416834A (en) * 1987-07-10 1989-01-20 Kanegafuchi Chemical Ind Polyamic acid copolymer, polyimide copolymer therefrom and production thereof
JPS6417219A (en) * 1987-07-10 1989-01-20 Kanegafuchi Chemical Ind Perpendicular magnetic recording medium
JPS6416833A (en) * 1987-07-10 1989-01-20 Kanegafuchi Chemical Ind Polyamic acid copolymer, polyimide copolymer therefrom and production thereof
JPS6420238A (en) * 1987-07-15 1989-01-24 Kanegafuchi Chemical Ind Production of aromatic polyimide polymer molding
JPH0741556A (en) * 1993-07-29 1995-02-10 Kanegafuchi Chem Ind Co Ltd Polyimide resin and polyimide film
JPH0753717A (en) * 1993-08-18 1995-02-28 Kanegafuchi Chem Ind Co Ltd New copolymer and its production
JPH0762097A (en) * 1993-08-23 1995-03-07 Kanegafuchi Chem Ind Co Ltd New copolymer and production thereof
JPH09302091A (en) * 1996-05-10 1997-11-25 Kanegafuchi Chem Ind Co Ltd Novel high-elasticity polyimide resin composition

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