JPH09302091A - Novel high-elasticity polyimide resin composition - Google Patents

Novel high-elasticity polyimide resin composition

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JPH09302091A
JPH09302091A JP11647196A JP11647196A JPH09302091A JP H09302091 A JPH09302091 A JP H09302091A JP 11647196 A JP11647196 A JP 11647196A JP 11647196 A JP11647196 A JP 11647196A JP H09302091 A JPH09302091 A JP H09302091A
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JP
Japan
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polyimide resin
represented
formula
group
general formula
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JP11647196A
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Japanese (ja)
Inventor
Hiroyuki Furuya
浩行 古谷
Shigeru Tanaka
田中  滋
Jiyunya Ida
純哉 井田
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Kanegafuchi Chemical Industry Co Ltd
Original Assignee
Kanegafuchi Chemical Industry Co Ltd
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To obtain a novel high-elasticity polyimide resin compsn. which has specified water absorption, storage modulus, and glass transition point and is excellent in fusion bonding properties. SOLUTION: A polyimide resin comprising repeating units represented by formulas III and IV [wherein R1 and R2 are each a divalent org. group; R3 is a tetravalent org. group; and X is a trivalent org. group represented by formula V] and having a water absorption of 1% or lower, a storage modulus of 0.5-2.0GPa at 240 deg.C, a glass transition point of 200-350 deg.C, and a number-average mol.wt. of about 100.000 or higher is obtd. by dissolving an ester acid dianhydride represented by formula I and a tetracarboxylic dianhydride represented by formula II (wherein R3 and R4 are each a tetravalent org. group) in a solvent (e.g. dimethylformamide), adding a diamine e.g. 2,2-bis[4-(4- aminophenoxy)phenyl]propane} to the resultant soln., reacting the dianhydrides with the diamine at about -5 to 20 deg.C for 0.5-6hr, evaporating the solvent to give a polyamic acid copolymer, and thermally treating the copolymer at about 200-350 deg.C to imidize it.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、新規なポリイミド
に関し、詳しくは、適切な温度範囲でガラス転移点を有
することにより熱融着が可能であり、絶縁被覆用積層フ
ィルムやフレキシブルプリント回路基板(以下、FPC
と略す。)、カバー・カバーレイフィルム、ボンディン
グシート、カバーコートインク、リードオンチップ、リ
ードフレーム固定用テープ等に好適に供することがで
き、柔軟性に優れた特徴を併せ持つ新規な重合体組成物
に関する。さらに詳しくは、これら記載の特徴と共に、
さらに、低い吸水率と誘電特性をも同時に,満足できる
ことを特徴とする新規な共重合体組成物に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a novel polyimide, and more specifically, it has a glass transition point in an appropriate temperature range so that it can be heat-sealed, and a laminated film for insulating coating and a flexible printed circuit board ( Below, FPC
Abbreviated. ), A cover / coverlay film, a bonding sheet, a cover coat ink, a lead-on-chip, a lead frame fixing tape, and the like, and a novel polymer composition having excellent flexibility. More specifically, along with these described features,
Furthermore, the present invention relates to a novel copolymer composition characterized by satisfying both low water absorption and dielectric properties.

【0002】[0002]

【従来技術】近年、電子機器の高性能化、高機能化、小
型化がさらに進んでおり、それらに伴って用いられる電
子部品に対する小型化、軽量化が求められている。電子
部品を実装する配線板も通常のリジット材に対し、可撓
性のあるフレキシブルプリント配線板が注目され、急激
に需要を増してきている。
2. Description of the Related Art In recent years, electronic devices have been further improved in performance, function and size, and accordingly, electronic components used have been required to be reduced in size and weight. As for a wiring board for mounting electronic parts, a flexible printed wiring board having flexibility is attracting attention as compared with a usual rigid material, and demand for the wiring board is rapidly increasing.

【0003】一方、一般に、ポリイミドフィルムは、そ
の優れた耐熱性・低温特性、耐薬品性・電気特性などか
ら、特に電気・電子機器用途の材料として広く用いられ
ている。ところが、フィルム用途に用いられているポリ
イミドは、一般に不溶不融であるため、融着・被覆用途
に用いる際には、熱可塑性または熱硬化性の樹脂をポリ
イミドフィルムに塗布して接着性を付与している。
On the other hand, in general, a polyimide film is widely used as a material especially for electric / electronic devices because of its excellent heat resistance / low temperature characteristics, chemical resistance / electric characteristics and the like. However, since polyimides used for film applications are generally insoluble and infusible, when used for fusing and coating applications, a thermoplastic or thermosetting resin is applied to the polyimide film to impart adhesion. doing.

【0004】この接着性を付与する用途において、熱可
塑性樹脂として従来より広く用いられているものの1つ
に、例えば、FEP等のフッ素樹脂がある。また、熱硬
化性樹脂としては、エポキシ樹脂等が用いられている。
One of the thermoplastic resins that have been widely used in the past for the purpose of imparting this adhesiveness is, for example, a fluororesin such as FEP. An epoxy resin or the like is used as the thermosetting resin.

【0005】[0005]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、フッ素
樹脂は、耐熱性が比較的高く、耐薬品性、低温特性に優
れるという特徴をもつ反面、耐放射性が極端に悪く、そ
のため上述の特定用途には不適であった。
However, while the fluororesin has relatively high heat resistance, excellent chemical resistance, and excellent low temperature characteristics, it has extremely poor radiation resistance, so that it is not suitable for the above-mentioned specific applications. It was unsuitable.

【0006】また、エポキシ樹脂等の熱硬化性樹脂は、
硬化に際し、高温、特に長時間に及ぶ硬化時間が必要で
あり、これらの用途には不向きであった。
Further, thermosetting resins such as epoxy resin are
When curing, a high temperature, especially a long curing time is required, which is not suitable for these applications.

【0007】上記の現状に対して、短時間において加工
が可能であり、耐薬品性・低温特性・接着性に優れ、さ
らに、電気特性等に優れる熱融着性を有するフィルムの
開発が待たれていた。
In view of the above situation, development of a film which can be processed in a short time, has excellent chemical resistance, low temperature characteristics, adhesiveness, and further has excellent heat fusion property with excellent electric characteristics is awaited. Was there.

【0008】さらに、従来の熱硬化性ペーストタイプの
ダイボンドテープに変えて、熱可塑性樹脂を用いたフィ
ルム状の積層用テープの検討が進んでいる。これは、無
低分子量揮発成分によるアウトガスレス化、アフタキュ
アの必要のない利点があることにより検討がなされてい
るものである。さらに、これらのテープには、吸湿によ
るモールド時のパッケージクラック発生がないこと、高
速演算処理のために誘電率が低いことが望まれている。
また、これら新規なテープ接着剤を使用したときにおい
て、適切な熱貯蔵断熱率を有していないと、いわゆる接
着剤ダレによりダイボンド不良を発生するという問題点
が最近指摘されるようになってきた。
Further, in place of the conventional thermosetting paste type die bond tape, a film-shaped laminating tape using a thermoplastic resin is being studied. This is being studied because it has the advantages of no outgassing due to no low-molecular-weight volatile components and no need for aftercure. Further, it is desired that these tapes do not have package cracks during molding due to moisture absorption and have a low dielectric constant for high-speed arithmetic processing.
Further, when using these novel tape adhesives, it has been recently pointed out that if they do not have an appropriate heat storage adiabatic rate, so-called adhesive sagging causes die bond failure. .

【0009】そこで、本発明者らは、上記従来の問題を
解決し、短時間において加工が可能であり、耐薬品性・
低温特性・接着性・低吸水特性に優れ、更に、電気特性
等に優れ、上記用途に好適に用いることのできる材料を
提供することを目的に鋭意検討を重ねた結果、本発明に
至ったのである。
[0009] Therefore, the present inventors have solved the above-mentioned conventional problems, can process in a short time, and have chemical resistance and
As a result of intensive studies conducted for the purpose of providing a material which is excellent in low-temperature characteristics, adhesiveness, low water absorption characteristics, and further excellent in electric characteristics and can be suitably used for the above-mentioned applications, the present invention has been achieved. is there.

【0010】[0010]

【課題を解決するための手段】この目的を達成するため
の本発明に係る新規な高弾性ポリイミド樹脂組成物の要
旨とするところは、240℃で0.5〜2.0GPa以
上の貯蔵弾性率を有し、ガラス転移温度が200℃〜3
50℃であり、1%以下の吸水率とを併せ持つ熱可塑性
樹脂からなることにある。
The gist of the novel highly elastic polyimide resin composition according to the present invention for achieving this object is that the storage elastic modulus at 240 ° C. is 0.5 to 2.0 GPa or more. With a glass transition temperature of 200 ° C. to 3
It is 50 ° C. and consists of a thermoplastic resin having a water absorption rate of 1% or less.

【0011】また、前記熱可塑性樹脂の組成が、一般式
(1)化8
The composition of the thermoplastic resin is represented by the general formula (1)

【0012】[0012]

【化8】 Embedded image

【0013】と一般式(2)化9And the general formula (2):

【0014】[0014]

【化9】 Embedded image

【0015】(式中、R1 、R2 は2価の有機基、R3
は4価の有機基、Xは、化10
(Wherein R 1 and R 2 are divalent organic groups, R 3
Is a tetravalent organic group, X is

【0016】[0016]

【化10】 Embedded image

【0017】から選択される3価の結合基である。)の
繰り返し単位の双方からなることを特徴とすることにあ
る。
It is a trivalent linking group selected from: ) Is composed of both repeating units.

【0018】さらに、前記一般式(1)と一般式(2)
で表される繰り返し単位のモル分率〔(1)/(2)〕
が95/5〜5/95の範囲であることにある。
Further, the above general formulas (1) and (2)
Molar fraction of repeating unit represented by [(1) / (2)]
Is in the range of 95/5 to 5/95.

【0019】また、前記一般式(1)と一般式(2)中
のR2 が化11
Further, R 2 in the general formulas (1) and (2) is

【0020】[0020]

【化11】 Embedded image

【0021】に示す2価の有機基の群から選択される少
なくとも1種であることにある。
It is at least one selected from the group of divalent organic groups shown in.

【0022】また、前記一般式(1)中のR1 が化12Further, R 1 in the general formula (1) is

【0023】[0023]

【化12】 [Chemical 12]

【0024】(式中、R4 は2価の有機基)に示す有機
基から選択される少なくとも1種であることにある。
(Wherein R 4 is a divalent organic group) is at least one selected from the organic groups shown below.

【0025】また、前記一般式(2)中のR3 が化13Further, R 3 in the general formula (2) is

【0026】[0026]

【化13】 Embedded image

【0027】に示す4価の有機基の群から選択される少
なくとも1種であることにある。
It is at least one selected from the group of tetravalent organic groups shown in.

【0028】また、前記一般式(1)中のR1 のR4
化14
Further, R 4 of R 1 in the general formula (1) is

【0029】[0029]

【化14】 Embedded image

【0030】に示す有機基から選択される少なくとも1
種であることにある。
At least one selected from the organic groups shown in
It is to be a seed.

【0031】[0031]

【発明の実施の形態】本発明に係る新規な高弾性ポリイ
ミド樹脂組物は、240℃で0.5〜2.0GPa以上
の貯蔵弾性率を有し、ガラス転移温度が200℃〜35
0℃であり、1%以下の吸水率とを併せ持つ熱可塑性樹
脂からなることにある。さらに、詳しくは、一般式
(1)化15
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION The novel highly elastic polyimide resin composition according to the present invention has a storage elastic modulus of 0.5 to 2.0 GPa or more at 240 ° C and a glass transition temperature of 200 ° C to 35 ° C.
It is 0 ° C. and consists of a thermoplastic resin having a water absorption rate of 1% or less. More specifically, in general formula (1),

【0032】[0032]

【化15】 Embedded image

【0033】及び一般式(2)化16And the general formula (2):

【0034】[0034]

【化16】 Embedded image

【0035】(式中、R1 、R2 は2価の有機基、R3
は4価の有機基、Xは、化17
(Wherein R 1 and R 2 are divalent organic groups, R 3
Is a tetravalent organic group, and X is

【0036】[0036]

【化17】 Embedded image

【0037】から選択される3価の結合基である。)の
繰り返し単位の双方からなることを特徴とし、優れた耐
熱性、加工性、低吸水特性、及び誘電特性を併せ有して
いる。ここで一般式(1)及び一般式(2)で表される
繰り返し単位の双方を有しなけれならない。
It is a trivalent linking group selected from ), And has excellent heat resistance, processability, low water absorption property, and dielectric property. Here, it must have both the repeating unit represented by General formula (1) and General formula (2).

【0038】以下に、本発明に係共新規な高弾性ポリイ
ミド樹脂組物の製造方法について述べる。まず、アルゴ
ン、窒素などの不活性ガス雰囲気において、一般式
(3) HN2 −R2 −NH2 (3) (式中、R2 は2価の有機基を示す。)で表されるジア
ミンを有機溶媒中に溶解、又は拡散させる。この溶液に
一般式(4)化18
The method for producing a novel high-elasticity polyimide resin assembly according to the present invention will be described below. First, a diamine represented by the general formula (3) HN 2 —R 2 —NH 2 (3) (wherein R 2 represents a divalent organic group) in an atmosphere of an inert gas such as argon or nitrogen. Is dissolved or diffused in an organic solvent. In this solution, the compound of the general formula (4)

【0039】[0039]

【化18】 Embedded image

【0040】(式中、R4 は2価の有機基を示す。)で
表されるエステル酸二無水物と、一般式(5)化19
(Wherein R 4 represents a divalent organic group) and an ester dianhydride represented by the general formula (5)

【0041】[0041]

【化19】 Embedded image

【0042】(式中、R3 は4価の有機基を示す。)で
表される少なくとも1種のテトラカルボン酸二無水物の
混合物を固体の状態又は有機溶媒溶液の状態で添加し、
ポリアミド酸共重合体の溶液を得る。
A mixture of at least one tetracarboxylic dianhydride represented by the formula (wherein R 3 represents a tetravalent organic group) is added in a solid state or in an organic solvent solution,
A solution of polyamic acid copolymer is obtained.

【0043】この時の反応温度は、−10℃〜50℃が
好ましく、さらに好ましくは−5℃〜20℃である。反
応時間は30分〜6時間である。
The reaction temperature at this time is preferably -10 ° C to 50 ° C, more preferably -5 ° C to 20 ° C. The reaction time is 30 minutes to 6 hours.

【0044】また、この反応において、上記添加手順と
は逆に、まずエステル酸二無水物とテトラカルボン酸二
無水物の混合物を有機溶媒中に溶解又は拡散させ、該溶
液中に前記ジアミンの固体若しくは有機溶媒による溶液
若しくはスラリーを添加させてもよい。
In this reaction, contrary to the above addition procedure, first, a mixture of an ester acid dianhydride and a tetracarboxylic acid dianhydride is dissolved or diffused in an organic solvent, and the solid of the diamine is dissolved in the solution. Alternatively, a solution or slurry of an organic solvent may be added.

【0045】この際、酸二無水物成分の割合は、前記一
般式(4)で表されるエステル酸二無水物と前記一般式
(5)で表されるテトラカルボン酸二無水物のモル比が
95/5〜5/95の範囲であるように用いるのが好ま
しい。また、前記一般式(3)で表されるジアミンは、
酸二無水物成分の総量と等モル量用いるのが好ましい。
In this case, the ratio of the acid dianhydride component is the molar ratio of the ester acid dianhydride represented by the general formula (4) and the tetracarboxylic dianhydride represented by the general formula (5). Is preferably in the range of 95/5 to 5/95. Further, the diamine represented by the general formula (3) is
It is preferable to use the same molar amount as the total amount of the dianhydride component.

【0046】つぎに、このポリアミド酸共重合体の溶液
からポリイミド共重合体を得るためには、熱的及び/又
は化学的に脱水閉環(イミド化)する方法を用いればよ
い。
Next, in order to obtain a polyimide copolymer from the solution of the polyamic acid copolymer, a method of thermally and / or chemically performing dehydration ring closure (imidization) may be used.

【0047】例を挙げて説明すると、熱的に脱水閉環す
る方法では、まず、上記ポリアミド酸溶液を支持板やP
ET等の有機フィルム、ドラム又はエンドレスベルト等
の支持体上に流延または塗布して膜状とし、有機溶媒を
蒸発させることにより自己支持性を有する膜を得る。こ
の有機溶媒の蒸発は150℃以下の温度で約50〜90
分間行うのが好ましい。
Explaining with an example, in the method of thermally dehydrating and ring-closing, first, the above polyamic acid solution is added to a supporting plate or P
A film having a self-supporting property is obtained by casting or coating on a support such as an organic film such as ET or a drum or an endless belt to form a film, and evaporating the organic solvent. The evaporation of the organic solvent is about 50 to 90 at a temperature of 150 ° C or lower.
Minutes.

【0048】次いで、これを更に加熱して乾燥させつつ
イミド化し、本発明の熱可塑性ポリイミド共重合体から
なるポリイミド膜を得る。加熱の際の温度は150〜3
50℃の範囲の温度が好ましく、特には200〜250
℃が特に好ましい。加熱の際の昇温速度には制限はない
が、徐々に加熱して最高温度が上記温度になるようにす
るのが好ましい。加熱時間はフィルム厚みや最高温度に
よって異なるが、一般には最高温度に達してから10秒
〜10分の範囲が好ましい。自己支持性を有する膜を加
熱して乾燥・イミド化する際は、自己支持性を有する膜
を支持体から引き剥がしその状態で端部を固定して加熱
することにより線熱膨張係数が小さいポリイミド共重合
体からなるポリイミド膜が得られる。
Next, this is further heated and dried to be imidized to obtain a polyimide film made of the thermoplastic polyimide copolymer of the present invention. The temperature during heating is 150 to 3
Temperatures in the range of 50 ° C are preferred, especially 200-250.
C is especially preferred. There is no limitation on the rate of temperature increase during heating, but it is preferable that the maximum temperature reaches the above temperature by gradually heating. Although the heating time varies depending on the film thickness and the maximum temperature, it is generally preferably in the range of 10 seconds to 10 minutes after the maximum temperature is reached. When the film having self-supporting property is heated and dried / imidized, the film having self-supporting property is peeled from the support, and the end portion is fixed in that state and the polyimide is heated to have a small linear thermal expansion coefficient. A polyimide film made of a copolymer is obtained.

【0049】また、化学的に脱水閉環する方法では、上
記ポリアミド酸溶液に化学量論以上の脱水剤と触媒量の
第3級アミンを加え、熱的に脱水する場合と同様の方法
で処理すると、熱的に脱水閉環する場合よりも短時間で
所望のポリイミド膜が得られる。
Further, in the method of chemically dehydrating and ring-closing, a dehydrating agent in a stoichiometric amount or more and a catalytic amount of a tertiary amine are added to the above polyamic acid solution and treated in the same manner as in the case of thermally dehydrating. A desired polyimide film can be obtained in a shorter time than in the case of thermally dehydrating and ring-closing.

【0050】熱的にイミド化する方法と、化学的にイミ
ド化する方法とを比較すると化学的方法による方が得ら
れたポリイミドの機械的強度が大きく、且つ線熱膨張係
数が小さくなる利点がある。なお、熱的にイミド化する
方法と化学的にイミド化する方法とを併用することも可
能である。
Comparing the thermal imidization method and the chemical imidization method, the chemical method has the advantage that the polyimide obtained has a higher mechanical strength and a smaller coefficient of linear thermal expansion. is there. In addition, it is also possible to use both the method of thermally imidizing and the method of chemically imidizing together.

【0051】また、ポリイミドはポリイソイミドと等価
体であることは周知のことであるが、イソイミド構造を
選択すれば溶媒溶解性を向上させることも可能である。
ポリイソイミド共重合体を得るためには上述したポリイ
ミド生成における反応物質、すなわち、ジアミン及びテ
トラカルボン酸二無水物をジシクロカルボジイミド(D
CC)等のジイミド及び/またはトリフルオロ酢酸等の
カルボン酸におきかえた上で、該ポリイミド生成と同様
の反応を行えばよい。
It is well known that polyimide is an equivalent to polyisoimide, but it is possible to improve the solvent solubility by selecting an isoimide structure.
In order to obtain a polyisoimide copolymer, the reactants in the above-mentioned polyimide formation, that is, diamine and tetracarboxylic dianhydride, are added to dicyclocarbodiimide (D
CC) or another diimide and / or carboxylic acid such as trifluoroacetic acid may be replaced with the same reaction as in the formation of the polyimide.

【0052】ここで、本発明に用いられる上記一般式
(3)で表されるジアミン化合物としては、本質的には
種々のジアミンが使用可能であるが、より具体的には、
諸特性のバランス面から一般式(3) HN2 −R2 −NH2 (3) (式中のR2 は、化20
Here, as the diamine compound represented by the general formula (3) used in the present invention, various diamines can be essentially used, but more specifically,
From the viewpoint of the balance of various characteristics, the general formula (3) HN 2 —R 2 —NH 2 (3) (R 2 in the formula is

【0053】[0053]

【化20】 Embedded image

【0054】から選択される2価の有機基を示す)のい
ずれかで表されるビスアミノフェノキシフェニルプロパ
ン、ビスアミノフェノキシベンゼン、ジアミノジフェニ
ルエーテル、フェニレンジアミン、ビスアミノフェノキ
シビフェニル、ビスアミノフェノキシフェニルエーテ
ル、ビスアミノフェノキシジメチルプロパン(それぞ
れ、オルト、メタ、パラ置換を選択できる)から選択さ
れる1種以上のジアミンを選択することができる。これ
らの置換基R3 は電子親和力pKaの点から選択されて
いることは自明である。なお、上記R3 によって特定さ
れるジアミンは、1種類で用いても2種類の混合物とし
て用いてもよい。
A bisaminophenoxyphenylpropane, bisaminophenoxybenzene, diaminodiphenyl ether, phenylenediamine, bisaminophenoxybiphenyl, bisaminophenoxyphenyl ether, It is possible to select one or more diamines selected from bisaminophenoxydimethylpropane (each can be ortho, meta, para substituted). It is self-evident that these substituents R 3 are selected in terms of electron affinity pKa. The diamine specified by R 3 may be used alone or as a mixture of two kinds.

【0055】また、上記一般式(4)で表されるエステ
ル酸二無水物としては、種々のエステル酸二無水物を使
用することができるが、より具体的には、諸特性のバラ
ンス面から一般式(4)中のR4 が、化21
As the ester dianhydride represented by the above general formula (4), various ester dianhydrides can be used, but more specifically, from the viewpoint of the balance of various characteristics. R 4 in the general formula (4) is

【0056】[0056]

【化21】 [Chemical 21]

【0057】から選択される2価の有機基であるエステ
ル酸二無水物を主成分とすることが更に好ましい。な
お、上記R1 によって特定されるエステル酸二無水物
は、1種類で用いても2種類の混合物として用いてもよ
い。
More preferably, the main component is an ester dianhydride which is a divalent organic group selected from The ester dianhydride specified by R 1 may be used alone or as a mixture of two kinds.

【0058】また、本発明に用いられるテトラカルボン
酸二無水物としては、本質的に種々のテトラカルボン酸
二無水物が使用可能であるが、より具体的には、諸特性
のバランスから、一般式(5)化22
As the tetracarboxylic dianhydride used in the present invention, essentially various tetracarboxylic dianhydrides can be used, but more specifically, from the balance of various characteristics, it is generally used. Formula (5) 22

【0059】[0059]

【化22】 Embedded image

【0060】(式中、R3 は化23(In the formula, R 3 is

【0061】[0061]

【化23】 Embedded image

【0062】で表される4価の有機基を示す。)のいず
れかより選択される1種以上のテトラカルボン酸二無水
物から選択される一種以上のテトラカルボン酸二無水物
を選択することが可能である。これらのモノマーは1種
類で用いても2種類以上の混合物として用いてもよい。
A tetravalent organic group represented by : ) It is possible to select one of the one or more selected from the tetracarboxylic dianhydride least one tetracarboxylic dianhydride selected from the. These monomers may be used alone or as a mixture of two or more kinds.

【0063】また、ポリアミド酸の生成反応に使用され
る有機溶媒としては、例えば、ジアミチルスルホキシ
ド、ジエチルスルホキシド等のスルホキシド系溶媒、N,
N-ジメチルホルムアミド、N,N-ジエチルホルムアミド等
のホルムアミド系溶媒、N,N-ジメチルアセトアミド、N,
N-ジエチルアセトアミド等のアセトアミド系溶媒等をあ
げることができる。これらを1種類の溶媒のみで用いる
ことも、2種以上からなる混合溶媒で用いることもでき
る。また、これらの極性溶媒とポリアミド酸の非溶媒と
からなる混合溶媒の用いることもできる。ポリアミド酸
の非溶媒としてはアセトン、メタノール、エタノール、
イソプロパノール、ベンゼン、メチルセロソルブ等を挙
げることができる。
Examples of the organic solvent used in the polyamic acid production reaction include sulfoxide-based solvents such as diamityl sulfoxide and diethyl sulfoxide, N,
Formamide solvents such as N-dimethylformamide, N, N-diethylformamide, N, N-dimethylacetamide, N,
Examples thereof include acetamide-based solvents such as N-diethylacetamide. These can be used only in one kind of solvent or in a mixed solvent composed of two or more kinds. Also, a mixed solvent composed of these polar solvents and a non-solvent of polyamic acid can be used. As non-solvents for polyamic acid, acetone, methanol, ethanol,
Isopropanol, benzene, methyl cellosolve and the like can be mentioned.

【0064】ジアミン化合物と酸二無水物のモル比は実
質的に等モルとなるように、また、ジアミン化合物と酸
二無水物の成分比は一般式(1)/(2)のモル比率と
同一となるように、それぞれ添加すればよい。
The molar ratio of the diamine compound and the acid dianhydride is substantially equimolar, and the component ratio of the diamine compound and the acid dianhydride is the same as the molar ratio of the general formula (1) / (2). They may be added so that they are the same.

【0065】このようにして得られた本発明に係る共重
合体において、一般式(1)及び一般式(2)で表され
るブロック単位の繰り返し単位の双方からなるポリアミ
ド酸共重合体、ポリイミド共重合体、ポリイソイミド共
重合体を得ることができる。
In the thus-obtained copolymer according to the present invention, a polyamic acid copolymer and a polyimide having both the repeating units of the block units represented by the general formulas (1) and (2) A copolymer and a polyisoimide copolymer can be obtained.

【0066】また、分子量については特に制約はない
が、生成されるポリイミド樹脂の強度を維持するために
は数平均分子量が5万以上、更には8万以上、特には1
0万以上、更には12万以上が好ましい。なお、ポリイ
ミドの分子量に関する記述は、間接的方法によって得た
測定値による推測である。即ち本発明においては、ポリ
アミド酸の分子量の測定値をポリイミドの分子量とみな
す。
The molecular weight is not particularly limited, but in order to maintain the strength of the polyimide resin produced, the number average molecular weight is 50,000 or more, more preferably 80,000 or more, and particularly 1
It is preferably at least 0,000, more preferably at least 120,000. Note that the description regarding the molecular weight of the polyimide is an estimate based on measured values obtained by an indirect method. That is, in the present invention, the measured value of the molecular weight of polyamic acid is regarded as the molecular weight of polyimide.

【0067】以上のようにして得られたポリイミド共重
合体は上記一般式(1)及び一般式(2)で表されるブ
ロック単位の繰り返し数によるモル分率〔(1)/
(2)〕が、50/50から99/1の範囲にあり、優
れた熱可塑性、耐熱性、低温での接着性、低吸水率、低
誘電特性を併せ有している。また、これらの前駆体であ
るポリアミド酸共重合体や構造異性体であるポリイソイ
ミド共重合体はポリイミド共重合体と同様の特性を示
す。これらは、優れた耐熱性、熱可塑性、接着性、低吸
水特性、低誘電特性を併有するという特徴を有してい
る。具体的には、この共重合体は、200〜350℃の
間で明確なガラス転移温度を有するため比較的低温での
熱融着が可能であり、ガラス転移温度に近い温度でラミ
ネートすることにより種々の被着体、例えばポリイミド
フィルムや銅箔、FPC等に接着することができる。ま
た、優れた低吸水特性を示し、20℃の蒸留水中に24
時間浸漬する条件での吸水率は1%以下である。更に、
優れた低誘電特性を示し、Qメーター法における1MH
zの誘電率は3以下である。なお、低吸水特性及び低誘
電特性の発現機構は明らかではないが、イミド五員環に
近接するエステル基により、電子のかたよりを低減して
いる為ではないかと推察している。これら優れた低吸水
特性及び低誘電特性により、今後高密度実装用途に対応
すべき電子回路部品材料等として好適に用いることがで
きる。また、充分な機械的強度を発揮するために高い粘
度をも有する。
The polyimide copolymer obtained as described above has a molar fraction [(1) /
(2)] is in the range of 50/50 to 99/1 and has excellent thermoplasticity, heat resistance, low-temperature adhesiveness, low water absorption and low dielectric properties. Further, the polyamic acid copolymer which is a precursor thereof and the polyisoimide copolymer which is a structural isomer exhibit the same characteristics as the polyimide copolymer. These are characterized by having excellent heat resistance, thermoplasticity, adhesiveness, low water absorption property, and low dielectric property. Specifically, since this copolymer has a clear glass transition temperature between 200 and 350 ° C., it can be heat-sealed at a relatively low temperature, and by laminating at a temperature close to the glass transition temperature. It can be adhered to various adherends such as polyimide film, copper foil, FPC and the like. In addition, it shows excellent low water absorption properties and can be used in distilled water at 20 ° C for 24 hours.
The water absorption rate under the condition of immersion for a period of time is 1% or less. Furthermore,
Shows excellent low dielectric properties, 1MH in Q meter method
The dielectric constant of z is 3 or less. Although the mechanism of manifestation of low water absorption property and low dielectric property is not clear, it is speculated that it may be because the ester group adjacent to the imide five-membered ring reduces the electron bias. Due to these excellent low water absorption properties and low dielectric properties, it can be suitably used as an electronic circuit component material to be used for high-density packaging applications in the future. Further, it has a high viscosity in order to exhibit sufficient mechanical strength.

【0068】また、これらの本発明に係る熱融着性を有
する共重合体に、ナイロン、ポリ酢酸ビニル、ポリ塩化
ビニル、ポリテトラフルオロエチレン、ポリメタクリル
酸メチル等の熱可塑性樹脂、フィラー、ガラス繊維等を
配合して共重合体組成物を得てもよく、それにより機械
強度、接着性等の諸特性を更に向上させることもでき
る。
In addition, these heat-fusible copolymers according to the present invention may be incorporated with a thermoplastic resin such as nylon, polyvinyl acetate, polyvinyl chloride, polytetrafluoroethylene, polymethyl methacrylate, a filler, or a glass. Fibers and the like may be blended to obtain a copolymer composition, which can further improve various properties such as mechanical strength and adhesiveness.

【0069】[0069]

【0070】上記のジアミンおよび酸二無水物を用いて
生成された熱融着性を有する共重合体は、ガラス転移温
度が200℃〜350℃で明確なガラス転移温度を有す
るために比較的低温での熱融着が可能であり、ガラス転
移温度に近い温度でラミネートすることにより、種々の
被着体、例えば、ポリイミドフィルムやSUS、銅など
の金属箔、FPCTOUに接着することができる。ま
た、240℃で0.5〜2.0GPa以上の貯蔵弾性率
を有するためいわゆる液体ダレを皆無とすることができ
る。なお、貯蔵弾性率が、0.5GPa以下では、接着
剤としてフィルムに塗布する際に流れて、接着強度を保
持することができない。また、2.0GPa以上では、
圧着する際に接着性に乏しく、貼り合わすことができな
い。さらに1%以下の吸水率と3以下の誘電率の特性を
併せ有するため、今後の高密度実装用途に対応すべき電
子回路部品材料等として好適に用いることが可能とな
る。
The heat-fusible copolymer produced by using the above-mentioned diamine and acid dianhydride has a glass transition temperature of 200 ° C. to 350 ° C. and has a clear glass transition temperature. Can be heat-sealed, and by laminating at a temperature close to the glass transition temperature, it can be adhered to various adherends, for example, a polyimide film, a metal foil such as SUS or copper, or FPCTOU. Further, since it has a storage elastic modulus of 0.5 to 2.0 GPa or more at 240 ° C., so-called liquid sagging can be eliminated. When the storage elastic modulus is 0.5 GPa or less, it flows when the film is applied as an adhesive and the adhesive strength cannot be maintained. Moreover, at 2.0 GPa or more,
Poor adhesion when crimping, and cannot be bonded. Further, since it has a water absorption rate of 1% or less and a dielectric constant of 3 or less, it can be suitably used as a material for electronic circuit components which should be adapted to future high-density mounting applications.

【0071】以上のような方法で得られた本発明に係る
熱融着性を有する新規なポリイミド重合体組成物の応用
の1例としては、例えば、カバーレイ用接着剤が挙げら
れる。すなわち、本発明に係るポリイミド重合体からな
るフィルムを、“アピカル”シリーズ(登録商標;ポリ
イミドフィルム,鐘淵化学工業株式会社製)のような非
熱可塑性ポリイミドフィルムとFPCの導体層との間に
挟んで貼り合わせ、熱圧着させればよい。また、ポリア
ミド酸溶液をポリイミドフィルム上に流延し、イミド化
させた後にこのフィルムの接着剤面とFPCの導体面と
を接着するようにしてもよい。さらには、イミド化させ
た熱可塑性ポリイミドを加熱して溶融し、ポリイミドフ
ィルムに直接塗布したのち、この上にFPC導体面を接
着してもよい。このようにして、簡単にポリイミドフィ
ルムとFPCの導体面とを接着できる。これらの方法に
より作製されるカバーレイフィルムはすべてポリイミド
からなっており、アルカリエッチングが可能であるた
め、FPCとの接着後に容易に穴開け加工ができる。従
って、上記接着工程の後、得られた積層板をアルカリエ
ッチングして穴開け加工すれば従来の工程よりも簡単に
プリント基板を得ることができる。
As an example of the application of the novel polyimide polymer composition having heat fusion property according to the present invention obtained by the above-mentioned method, there is, for example, an adhesive for coverlay. That is, a film made of the polyimide polymer according to the present invention is provided between a non-thermoplastic polyimide film such as "Apical" series (registered trademark; polyimide film, manufactured by Kanegafuchi Chemical Industry Co., Ltd.) and a conductor layer of FPC. It suffices if they are sandwiched and pasted together and thermocompression bonded. Alternatively, the polyamic acid solution may be cast on a polyimide film to imidize it, and then the adhesive surface of this film and the conductor surface of the FPC may be bonded. Further, the imidized thermoplastic polyimide may be heated and melted and directly applied to the polyimide film, and then the FPC conductor surface may be adhered onto the polyimide film. In this way, the polyimide film and the conductor surface of the FPC can be easily bonded. Since the coverlay films produced by these methods are all made of polyimide and can be alkali-etched, they can be easily perforated after bonding with FPC. Therefore, after the above-mentioned bonding step, if the obtained laminate is subjected to alkali etching and perforation processing, a printed circuit board can be obtained more easily than in the conventional step.

【0072】その他、この共重合体及び該共重合体組成
物は、超伝導用線材等の絶縁被覆用フィルムやFPC、
ボンディングシート、カバーコートインク、リードオン
チップ、リードフレーム固定用テープとして好適に用い
ることができるが、機械強度、耐放射線性、耐薬品性、
低温特性、耐熱性、加工性、接着性、低吸水性、誘電特
性における優れた特性を発揮する限りにおいては用途は
特に限定されない。
In addition, the copolymer and the copolymer composition are used for insulating coating films such as superconducting wires and FPC,
It can be suitably used as a bonding sheet, cover coat ink, lead-on-chip, lead frame fixing tape, but it has mechanical strength, radiation resistance, chemical resistance,
The application is not particularly limited as long as it exhibits excellent properties in low-temperature characteristics, heat resistance, processability, adhesiveness, low water absorption, and dielectric characteristics.

【0073】なお、このような電気・電子機器用途の接
着層として用いるには、、1%以下の吸水率と240℃
で0.5GPa〜2.0GPaの貯蔵弾性率を有し、か
つ200℃〜350℃のガラス転移温度を併せ持つ熱可
塑性樹脂であれば、いかなる構成であっても好ましく用
いることができ、本発明に係る熱融着性を有する新規な
共重合体及び該共重合体組成物は上述した構成のものに
限定されない。かかる特性を併せ持つことにより、低温
での熱融着が可能となり、更には吸湿によるモールド時
のパッケージクラックの発生がなく、また高速演算処理
も可能となる。
To use as an adhesive layer for such electric / electronic equipment, a water absorption rate of 1% or less and 240 ° C.
Any thermoplastic resin having a storage elastic modulus of 0.5 GPa to 2.0 GPa and a glass transition temperature of 200 ° C. to 350 ° C. can be preferably used in any constitution, The novel copolymer having the heat-fusion property and the copolymer composition are not limited to those having the above-mentioned constitution. By having such characteristics, heat fusion at a low temperature becomes possible, and further, package cracks do not occur during molding due to moisture absorption, and high-speed arithmetic processing becomes possible.

【0074】以上本発明に係る熱融着性を有する新規な
ポリイミド重合体組成物の有用性を明らかにすべく実施
の形態を説明したが、本発明はこれらの実施例のみに限
定されるものではなく、本発明はその趣旨を逸脱しない
範囲内で当業者の知識に基づき、種々なる改良、変更、
修正を加えた態様で実施しうるものである。
The embodiments have been described above to clarify the usefulness of the novel polyimide polymer composition having the heat-fusible property according to the present invention, but the present invention is limited to these examples. However, the present invention is based on the knowledge of those skilled in the art without departing from the spirit of the invention, various improvements, changes,
It can be implemented in a modified mode.

【0075】[0075]

【実施例】【Example】

【0076】〔実施例 1〕攪拌機を備え、窒素置換し
た500ml三口フラスコ(1)に2,2-ビス(4-ヒドロキ
シフェニル)プロパンジベンゾエート-2,2 ,3,3 - テト
ラカルボキシリックアシッドジアンヒドライド(以下E
SDAという。)42.92g(74mmol)とピロ
メリット酸二無水物26.16g(0.12mmol)
を計量し、採取した。ジメチルホルムアミド(以下、D
MFという。)470gを投入、攪拌して均一溶液を得
た。2,2-ビス〔4-(4-アミノフェノキシ) フェニル] プ
ロパン(以下、BAPPという。)82.1g(0.2
mmol)とDMF20gを添加した。30分攪拌して
均一で粘調な溶液を得た。ESDA3.48g(6mm
ol)をDMF35gに溶かして予め調整した酸溶液
を、反応溶液に増粘に注意しながら徐々に添加した。最
大粘度に達した後、酸溶液の添加を終了し、1時間攪拌
しながら放置し、ポリアミド酸溶液を得た。粘度をB型
粘度計で測定したところ、2600ポイズを示した。
Example 1 In a 500 ml three-necked flask (1) equipped with a stirrer and purged with nitrogen, 2,2-bis (4-hydroxyphenyl) propanedibenzoate-2,2,3,3-tetracarboxylic acid dian Hydride (hereinafter E
Called SDA. ) 42.92 g (74 mmol) and pyromellitic dianhydride 26.16 g (0.12 mmol)
Was weighed and collected. Dimethylformamide (hereinafter D
It is called MF. ) 470 g was added and stirred to obtain a uniform solution. 2,2-bis [4- (4-aminophenoxy) phenyl] propane (hereinafter referred to as BAPP) 82.1 g (0.2
mmol) and 20 g of DMF were added. After stirring for 30 minutes, a uniform and viscous solution was obtained. 3.48 g of ESDA (6 mm
ol) was dissolved in 35 g of DMF, and an acid solution prepared in advance was gradually added to the reaction solution while paying attention to thickening. After reaching the maximum viscosity, the addition of the acid solution was completed, and the mixture was allowed to stand for 1 hour with stirring to obtain a polyamic acid solution. When the viscosity was measured with a B-type viscometer, it showed 2600 poise.

【0077】このポリアミド酸溶液100gを測りと
り、無水酢酸11.37gとイソキノリン11.18g
とDMF11.95gからなるケミカルキュア剤を加え
て、PETフィルム上に厚みを25μmに調整するため
にコンマメーターを使用して流延塗布し、80℃で25
分間加熱し、PETフィルムを剥がした後、150℃、
200℃で各25分間加熱しイミド化を完了させた。I
R測定により、1780cm- にイミドカルボニル基に
よる特性吸収を有するポリイミドフィルムであることを
確認した。一般式(1)と一般式(2)のモル比が7:
3のポリアミド酸溶液を得た。得られたポリアミド酸溶
液の構造(一般式(1)(2)のモル比)と到達粘度
(ポイズ)を表1に示した。なお、粘度は5℃にて測定
した。
100 g of this polyamic acid solution was measured, and 11.37 g of acetic anhydride and 11.18 g of isoquinoline.
And a chemical curing agent consisting of 11.95 g of DMF are added and cast-coated on a PET film using a comma meter to adjust the thickness to 25 μm.
After heating for 1 minute and peeling off the PET film,
The imidization was completed by heating at 200 ° C. for 25 minutes each. I
By R measurement, it was confirmed that the polyimide film had characteristic absorption at 1780 cm − due to an imide carbonyl group. The molar ratio of the general formula (1) and the general formula (2) is 7:
A polyamic acid solution of 3 was obtained. Table 1 shows the structure (molar ratio of the general formulas (1) and (2)) and the ultimate viscosity (poise) of the obtained polyamic acid solution. The viscosity was measured at 5 ° C.

【0078】[0078]

【表1】 [Table 1]

【0079】得られたポリイミドフィルムについて、ガ
ラス転移温度(℃)、ピール強度(MPa)、引張破断
時伸び(%)、引張破断時強度(MPa)240℃の貯
蔵弾性率E’( GPa)を測定した。ガラス転移温度
は、TMA法により測定し、ピール強度は、ダイボンダ
ーにより、42アロイ製の100ミクロンリードに35
0℃、10MPa、5秒で接着したサンプルを用いて9
0度剥離モードで測定した。また、接着剤のしみ出しは
100倍の光学顕微鏡下での目視評価した。吸水率につ
いてはASTM D−570に従って20℃の純水中に
浸した後の重量変化率を測定し、貯蔵弾性率は、引張モ
ードで5Hz、5℃/分の昇温速度の粘弾性測定により
評価した。それらの結果を表1及び表2に示した。
The glass transition temperature (° C.), peel strength (MPa), elongation at break (%), tensile strength at break (MPa) storage modulus E ′ (GPa) at 240 ° C. of the obtained polyimide film were measured. It was measured. The glass transition temperature was measured by the TMA method, and the peel strength was 35 with a die bonder for a 100-micron lead made of 42 alloy.
9 using the sample adhered at 0 ° C., 10 MPa, 5 seconds
It was measured in the 0 degree peeling mode. Further, the seepage of the adhesive was visually evaluated under a 100-fold optical microscope. Regarding the water absorption rate, the weight change rate after immersion in pure water at 20 ° C. was measured according to ASTM D-570, and the storage elastic modulus was measured by viscoelasticity at a heating rate of 5 Hz and 5 ° C./min in a tensile mode. evaluated. The results are shown in Tables 1 and 2.

【0080】[0080]

【表2】 [Table 2]

【0081】次に、35μmの電解銅箔と得られた25
μmのポリイミドフィルムと50μmのポリイミドフィ
ルム「アピカル50NPI(登録商標;鐘淵化学工業株
式会社製)」を重ね合わせ、ガラス転移温度より50℃
高い温度、30kg/cm2 、10分でプレスし、フレキシ
ブル銅張板(以下、FCCLという。)を得た。得られ
たFCCLを用い、JISC6481に準拠してピール
強度(MPa)を測定した。その結果を表2に示す。
Next, the electrolytic copper foil of 35 μm and the obtained 25
A polyimide film of μm and a polyimide film of 50 μm “Apical 50 NPI (registered trademark; manufactured by Kaneka Kagaku Kogyo Co., Ltd.)” are overlaid, and the glass transition temperature is 50 ° C.
By pressing at a high temperature of 30 kg / cm 2 for 10 minutes, a flexible copper clad plate (hereinafter referred to as FCCL) was obtained. The peel strength (MPa) was measured according to JISC6481 using the obtained FCCL. The results are shown in Table 2.

【0082】〔実施例2〜6〕表1に示すモノマーの構
成にて実質的に実施例1と同様の操作で、ポリアミド酸
溶液を得た。得られた各ポリアミド酸溶液の構造と到達
粘度(ポイズ)を表1に示す。そして、このポリアミド
酸溶液を用い、実施例1と同様に、25μmのポリイミ
ドフィルムを得て、更にFCCLを得た。得られたポリ
イミドフィルム、FCCLについて、それぞれの物性を
測定し、その結果を表1および表2に示した。
[Examples 2 to 6] Polyamic acid solutions were obtained by the same procedure as in Example 1 except that the monomer composition shown in Table 1 was used. Table 1 shows the structure and ultimate viscosity (poise) of each obtained polyamic acid solution. Then, using this polyamic acid solution, a polyimide film of 25 μm was obtained in the same manner as in Example 1, and further FCCL was obtained. Physical properties of the obtained polyimide film and FCCL were measured, and the results are shown in Tables 1 and 2.

【0083】〔比較例1〕ESDAとBAPPから実施
例1と同様の操作で、ポリアミド酸溶液を得た。また、
実施例1と同様にして25μmのポリイミドフィルムを
製膜した。物性を測定し、その結果を表1および表2に
示した。
[Comparative Example 1] A polyamic acid solution was obtained from ESDA and BAPP in the same manner as in Example 1. Also,
In the same manner as in Example 1, a 25 μm polyimide film was formed. The physical properties were measured, and the results are shown in Tables 1 and 2.

【0084】[0084]

【0085】[0085]

【発明の効果】以上、具体的な実施例で示したように、
本発明に係る熱融着性を有する共重合体及び該共重合体
組成物は、優れた機械的強度を有しつつ、耐熱性、加工
性及び接着性に優れ、また、低吸水特性と優れた低誘電
特性とを同時に満足し、さらに、高い熱時貯蔵弾性率を
併せ有していることが明らかとなった。このことは、従
来のポリアミド樹脂樹脂では到底達し得なかった相反す
る物性を一挙に両立することができる材料を提供するこ
とができる点で優れている。また、本発明に係る熱融着
性共重合体組成物をダイボンド様の接着剤として使用す
ることにより、パッケージクラックの発生を低減できる
とともに、ダイボンド時の接着剤のしみ出しの問題をも
解決できる材料を提供することが可能となった。本発明
により例えば、FPCとの接着工程におけるカバーレイ
フィルムの加工時間短縮に貢献しうる熱融着性を有する
新規な共重合体及びこれを主成分とする共重合体組成物
を得ることができる。従って、本発明に係る熱融着性を
有する新規なポリイミド重合体組成物は、例えば、絶縁
被覆用積層フィルムやFPC、カバーフィルム、カバー
レイフィルム、ボンディングシート、カバーコートイン
ク、リードオンチップ、リードフレーム固定用テープ等
に好適に供することができる。
As described above, as shown in the specific embodiments,
The heat-fusible copolymer and the copolymer composition according to the present invention have excellent mechanical strength, excellent heat resistance, processability and adhesiveness, and low water absorption property. It has been clarified that it has both a low dielectric property and a high storage elastic modulus under heat. This is excellent in that it is possible to provide a material capable of simultaneously achieving the contradictory physical properties which cannot be achieved by conventional polyamide resin. Further, by using the heat-fusible copolymer composition according to the present invention as a die-bond-like adhesive, it is possible to reduce the occurrence of package cracks and solve the problem of adhesive seepage during die-bonding. It has become possible to provide materials. INDUSTRIAL APPLICABILITY According to the present invention, it is possible to obtain, for example, a novel copolymer having a heat fusion property capable of contributing to a reduction in processing time of a coverlay film in an adhesion step with FPC and a copolymer composition containing the same as a main component. . Therefore, the novel polyimide polymer composition having a heat-fusion property according to the present invention is, for example, a laminated film for insulation coating, FPC, cover film, coverlay film, bonding sheet, cover coat ink, lead-on-chip, lead. It can be suitably used as a frame fixing tape or the like.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】 貯蔵弾性率(E' )の測定チャートを示し
たグラフである。
FIG. 1 is a graph showing a measurement chart of storage elastic modulus (E ).

Claims (6)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 1%以下の吸水率と240℃で0.5〜
2.0GPa以上の貯蔵弾性率を有し、かつ、200℃
〜350℃のガラス転移温度を有する新規な高弾性ポリ
イミド樹脂組成物。
1. A water absorption rate of 1% or less and 0.5 to 240 ° C.
Has a storage elastic modulus of 2.0 GPa or more and 200 ° C.
Novel highly elastic polyimide resin composition having a glass transition temperature of ˜350 ° C.
【請求項2】 前記ポリイミド樹脂の組成が、一般式
(1)化1 【化1】 と一般式(2)化2 【化2】 (式中、R1 、R2 は2価の有機基、R3 は4価の有機
基、Xは、化3 【化3】 から選択される3価の結合基である。)からなる請求項
1に記載する新規な高弾性ポリイミド樹脂組成物。
2. The composition of the polyimide resin is represented by the general formula (1): And the general formula (2) (In the formula, R 1 and R 2 are divalent organic groups, R 3 is a tetravalent organic group, and X is a chemical formula 3 It is a trivalent linking group selected from ) The novel high-elasticity polyimide resin composition according to claim 1.
【請求項3】 前記一般式(1)、(2)中のR2 が化
4 【化4】 に示す2価の有機基の群から選択される少なくとも1種
であることを特徴とする請求項1及び請求項2に記載す
る新規な高弾性ポリイミド樹脂組成物。
3. R 2 in the general formulas (1) and (2) is represented by the following formula: It is at least 1 sort (s) selected from the group of the bivalent organic group shown in Claim 3, The novel highly elastic polyimide resin composition of Claim 1 or Claim 2 characterized by the above-mentioned.
【請求項4】 前記一般式(1)中のR1 が化5 【化5】 (式中、R4 は2価の有機基)に示す有機基から選択さ
れる少なくとも1種であることを特徴とする請求項1乃
至請求項3に記載する新規な高弾性ポリイミド樹脂組成
物。
4. R 1 in the general formula (1) is represented by the following formula: (In the formula, R 4 is a divalent organic group) is at least one selected from the organic groups, and the novel highly elastic polyimide resin composition according to any one of claims 1 to 3.
【請求項5】 前記一般式(2)中のR3 が化6 【化6】 に示す4価の有機基の群から選択される少なくとも1種
であることを特徴とする請求項1乃至請求項4に記載す
る新規な高弾性ポリイミド樹脂組成物。
5. R 3 in the general formula (2) is represented by the following formula: The novel highly elastic polyimide resin composition according to any one of claims 1 to 4, which is at least one selected from the group of tetravalent organic groups shown in.
【請求項6】 前記一般式(1)中のR1 のR4 が化7 【化7】 に示す有機基から選択される少なくとも1種であること
を特徴とする請求項1乃至請求項5に記載する新規な高
弾性ポリイミド樹脂組成物。
6. The R 4 of R 1 in the general formula (1) is represented by the following formula: It is at least 1 sort (s) selected from the organic group shown in Claim 6. The novel highly elastic polyimide resin composition of Claim 1 thru | or 5 characterized by the above-mentioned.
JP11647196A 1996-05-10 1996-05-10 Novel high-elasticity polyimide resin composition Pending JPH09302091A (en)

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