KR20190060811A - A method for producing a polyimide-based polymer varnish, a method for producing a polyimide-based polymer film, and a transparent polyimide-based polymer film - Google Patents

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Abstract

폴리이미드계 고분자 바니시의 제조방법은, 폴리이미드계 고분자의 원료 모노머를 용매 중에 있어서 중합하여 폴리이미드계 고분자 전구체를 얻는 공정, 및, 감압 환경 하, 제 3급 아민을 포함하는 용매 중에 있어서 상기 폴리이미드계 고분자 전구체를, 이미드화하여 폴리이미드계 고분자의 용액을 얻는 공정을 포함한다.A method for producing a polyimide-based polymer varnish comprises a step of polymerizing a raw material monomer of a polyimide-based polymer in a solvent to obtain a polyimide-based polymer precursor, and a step of polymerizing the polyimide-based polymer precursor in a solvent containing a tertiary amine And imidizing the imide-based polymer precursor to obtain a solution of the polyimide-based polymer.

Description

폴리이미드계 고분자 바니시의 제조방법, 폴리이미드계 고분자 필름의 제조방법, 및, 투명 폴리이미드계 고분자 필름A method for producing a polyimide-based polymer varnish, a method for producing a polyimide-based polymer film, and a transparent polyimide-based polymer film

본 발명은, 폴리이미드계 고분자 바니시의 제조방법, 폴리이미드계 고분자 필름의 제조방법, 및, 투명 폴리이미드계 고분자 필름에 관한 것이다.The present invention relates to a process for producing a polyimide-based polymer varnish, a process for producing a polyimide-based polymer film, and a transparent polyimide-based polymer film.

종래, 질소 기류 하, 폴리이미드의 원료 모노머를 용매 중에서 중합 및 이미드화하여 폴리이미드 용액을 얻는 폴리이미드 용액의 제조방법이 알려져 있다. 이러한 반응계에 있어서는, 폴리이미드의 원료 모노머가 용매 중에서 혼합되면, 원료 모노머가 중합하여 폴리아믹산이 생성되고, 추가로 이를 가열함으로써 폴리아믹산의 이미드화가 진행되어, 폴리이미드가 생성된다. 그 때에, 이미드화를 촉진하는 촉매로서 제 3급 아민 화합물을 첨가하는 것이 알려져 있다.Conventionally, there is known a process for producing a polyimide solution in which a polyimide solution is obtained by polymerizing and imidizing a raw monomer of a polyimide in a solvent under a nitrogen gas stream. In such a reaction system, when the raw material monomers of the polyimide are mixed in the solvent, the starting monomer is polymerized to form the polyamic acid, and further, by heating the polyamic acid, the imidization of the polyamic acid proceeds to form the polyimide. At this time, it is known to add a tertiary amine compound as a catalyst promoting imidization.

일본국 공개특허 특개2000-080272호 공보Japanese Patent Application Laid-Open No. 2000-080272

그러나, 중합 및 이미드화에 의해 얻어진 촉매 함유 폴리이미드 용액을 그대로 필름에 유연(流延) 성형하면, 내절성(耐折性)이 양호한 필름을 얻는 것은 곤란하였다. 필름화 공정 전에 알코올 침전법 등에 의한 정제를 행하는 것도 알려져 있지만, 정제 공정은 비용이 불어나기 때문에, 정제 공정을 포함하는 프로세스는 비용면에서 불리한 경향이 있다.However, when the catalyst-containing polyimide solution obtained by polymerization and imidization is directly molded into a film, it is difficult to obtain a film having good folding resistance. It is also known to perform purification by the alcohol precipitation method or the like before the film forming process. However, since the purification process is costly, the process including the purification process tends to be disadvantageous in terms of cost.

또한, 양산 시에 있어서 폴리이미드계 고분자의 투명성을 높게 유지하는 것도 요구된다.It is also required to maintain high transparency of the polyimide-based polymer at the time of mass production.

본 발명은 상기 과제를 감안하여 이루어진 것이며, 정제 공정을 거치지 않고 필름에 높은 내절성을 부여할 수 있는, 폴리이미드계 고분자 바니시의 제조방법 등을 제공하는 것을 목적으로 한다.SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made in view of the above problems, and an object of the present invention is to provide a process for producing a polyimide-based polymer varnish capable of imparting high bendability to a film without going through a purification step.

또한, 본 발명의 다른 과제는, 투명성이 높은 폴리이미드계 고분자의 양산에 적합한 폴리이미드계 고분자 바니시의 제조방법을 제공하는 것을 목적으로 한다.Another object of the present invention is to provide a process for producing a polyimide-based polymer varnish suitable for mass production of a polyimide-based polymer having high transparency.

본 발명에 관련된 폴리이미드계 고분자 바니시의 제조방법은, 폴리이미드계 고분자의 원료 모노머를 용매 중에 있어서 중합하여 폴리이미드계 고분자 전구체를 얻는 중합 공정, 및, 감압 환경 하, 제 3급 아민을 포함하는 용매 중에 있어서, 상기 폴리이미드계 고분자 전구체를 이미드화하여 폴리이미드계 고분자의 용액을 얻는 이미드화 공정을 포함한다.A process for producing a polyimide-based polymer varnish according to the present invention comprises a polymerization step of polymerizing a raw monomer of a polyimide-based polymer in a solvent to obtain a polyimide-based polymer precursor, and a step of polymerizing And imidizing the polyimide-based polymer precursor in a solvent to obtain a solution of the polyimide-based polymer.

여기에서, 상기 이미드화 공정의 온도가 100℃ 이상 250℃ 이하일 수 있다.Here, the temperature of the imidation step may be 100 deg. C or higher and 250 deg. C or lower.

또한, 상기 제 3급 아민이, 120℃ 이상 350℃ 이하의 비점(沸點)을 가질 수 있다.In addition, the tertiary amine may have a boiling point of 120 ° C or higher and 350 ° C or lower.

또한, 상기 폴리이미드계 고분자가 불소를 20질량% 이상 포함할 수 있다.In addition, the polyimide-based polymer may contain 20 mass% or more of fluorine.

또한, 상기 감압 환경의 압력은 350mmHg 이상 730mmHg 이하일 수 있으며, 상기 감압 환경의 압력은 500mmHg 이상 730mmHg 이하일 수도 있다.Also, the pressure of the reduced-pressure environment may be 350 mmHg or more and 730 mmHg or less, and the pressure of the reduced-pressure environment may be 500 mmHg or more and 730 mmHg or less.

또한, 상기 이미드화 공정에 있어서 용매와 접촉하는 기상(氣相)의 산소 농도가 0.02% 이하일 수 있다.In the imidation step, the concentration of oxygen in the gaseous phase in contact with the solvent may be 0.02% or less.

또한, 100질량부의 상기 원료 모노머에 대하여, 상기 제 3급 아민을 0.05질량부 이상 0.7질량부 이하 첨가할 수 있다.In addition, from 0.05 part by mass to 0.7 part by mass of the tertiary amine may be added to 100 parts by mass of the raw material monomer.

상기 방법은, 얻어진 상기 폴리이미드계 고분자의 용액에, 자외선 흡수제를 첨가하는 공정을 추가로 구비할 수 있다. 또한, 상기 방법은, 얻어진 상기 폴리이미드계 고분자의 용액에, 실리카졸을 첨가하는 공정을 추가로 구비할 수 있다.The method may further comprise the step of adding an ultraviolet absorber to the obtained solution of the polyimide-based polymer. The method may further comprise the step of adding silica sol to the obtained solution of the polyimide-based polymer.

본 발명에 관련되는 폴리이미드계 고분자 필름의 제조방법은, 상기의 폴리이미드계 고분자 바니시의 제조방법을 실시하는 공정과, 얻어진 폴리이미드계 고분자 바니시 중의 폴리이미드계 고분자를 석출 및 재(再)용해 시키는 일 없이, 상기 폴리이미드계 고분자 바니시를 유연 성형하는 필름화 공정을 구비할 수 있다.The method for producing a polyimide-based polymer film according to the present invention comprises the steps of: (1) conducting the above-described method for producing a polyimide-based polymer varnish; (2) subjecting the obtained polyimide-based polymer varnish to precipitation and re- And a film forming step of forming the polyimide-based polymer varnish in a flexible manner without causing the polyimide-based polymer varnish.

본 발명에 관련된 필름은, 중량 평균 분자량이 50,000 이상, 500,000 이하인 폴리이미드계 고분자와, 필름의 전체 질량에 대하여 0.01질량% 이상 0.25질량% 이하의 제 3급 아민을 포함한다.The film relating to the present invention includes a polyimide-based polymer having a weight average molecular weight of 50,000 or more and 500,000 or less and a tertiary amine of 0.01% by mass or more and 0.25% by mass or less based on the total mass of the film.

상기 제 3급 아민의 비점은 120℃ 이상 350℃ 이하일 수 있다.The tertiary amine may have a boiling point of 120 ° C or higher and 350 ° C or lower.

본 발명에 관련되는 다른 폴리이미드계 고분자 바니시의 제조방법은,Another method for producing a polyimide-based polymer varnish according to the present invention is a method for producing a polyimide-

(1) 반응 용기에 있어서, 용매 A 중에서 모노머 원료를 반응시켜서 폴리이미드계 고분자의 용액을 얻는 공정,(1) a step of reacting a monomer raw material in a solvent A in a reaction vessel to obtain a solution of a polyimide-based polymer,

(3) 상기 반응 용기로부터 상기 용액을 취출하는 공정,(3) removing the solution from the reaction vessel,

(4) 용매 C로 상기 반응 용기를 세정하고, 세정 후의 상기 용매 C를 상기 반응 용기로부터 취출하는 공정을 구비하고, 상기 공정 (1), (3), 및 (4)를, 동일한 반응 용기를 이용하여 이 순서대로 반복한다. 그리고, 상기 공정 (1)에서 얻어지는 폴리이미드계 고분자는, 투명하면서, 또한 중량 평균 분자량이 250,000 이상이다.(4) a step of washing the reaction vessel with the solvent C, and then removing the solvent C after the washing from the reaction vessel, wherein the steps (1), (3) and (4) And repeats this sequence. The polyimide-based polymer obtained in the step (1) is transparent and has a weight average molecular weight of 250,000 or more.

본 발명에 의하면, 세정 공정을 가짐으로써, 2회째 이후의 공정 (1)에 있어서, 그 이전의 공정 (1)에서 생성한 고분자가 반응 용기에 잔존하는 양을 저감할 수 있다. 따라서, 2회째 이후의 공정 (1)에 있어서 합성되는 폴리이미드계 고분자의 투명성의 저하를 억제할 수 있다.According to the present invention, it is possible to reduce the amount of the polymer produced in the previous step (1) remaining in the reaction vessel in the second and subsequent steps (1) by having a cleaning step. Therefore, deterioration of the transparency of the polyimide-based polymer synthesized in the second and subsequent steps (1) can be suppressed.

여기에서, 상기 방법은,Here, the above-

(5) 상기 공정 (4) 후에, 용매 D로 상기 반응 용기를 세정하고, 세정 후의 상기 용매 D를 상기 반응 용기로부터 취출하는 공정을 추가로 구비할 수 있으며,(5) After the step (4), the step of washing the reaction vessel with the solvent D and taking out the solvent D from the reaction vessel after the step (4)

상기 공정 (1), (3), (4) 및 (5)를, 동일한 반응 용기를 이용하여 이 순서대로 반복할 수 있다.The above steps (1), (3), (4) and (5) can be repeated in this order using the same reaction vessel.

이에 의하면, 보다 한층, 반응 용기에 잔존하는 고분자의 양을 저감할 수 있다.According to this, it is possible to further reduce the amount of the polymer remaining in the reaction vessel.

또한, 상기 방법은, 상기 공정 (1)과 상기 공정 (3)의 사이에,The method may further comprise, between the step (1) and the step (3)

(2) 상기 반응 용기 내에 용매 B를 추가하여 상기 공정 (1)에서 얻어진 상기 용액을 희석하는 공정을 추가로 구비할 수 있으며,(2) adding a solvent B to the reaction vessel to dilute the solution obtained in the step (1)

상기 공정 (1)~(4), 또는, 상기 공정 (1)~(5)를 동일한 반응 용기를 이용하여 반복할 수 있다.The above steps (1) to (4) or the above steps (1) to (5) may be repeated using the same reaction vessel.

이에 의하면, 용액의 발출(拔出) 전의 반응 용기 내의 폴리이미드계 고분자의 농도가 저하되기 때문에, 발출 후의 반응 용기에 있어서의 고분자의 잔존량을 보다 한층 적게 할 수 있다.According to this, since the concentration of the polyimide-based polymer in the reaction vessel before the solution is extracted is lowered, the residual amount of the polymer in the reaction vessel after the extraction can be further reduced.

또한, 상기 용매 B는, 상기 공정 (4)에서 상기 반응 용기로부터 취출된 용매 C일 수 있다.Further, the solvent B may be the solvent C taken out of the reaction vessel in the step (4).

이에 의하면, 용매 B 중에 회수된 고분자가, 다음 배치(batch)에서 제조하는 바니시 중의 폴리이미드계 고분자의 일부가 되기 때문에, 수율이 향상된다.According to this, since the polymer recovered in the solvent B becomes a part of the polyimide-based polymer in the varnish produced in the next batch, the yield is improved.

본 발명에 의하면, 정제 공정을 거치지 않고 폴리이미드계 고분자를 직접 필름화하여도 필름에 높은 내절성을 부여할 수 있는, 폴리이미드 바니시의 제조방법 등이 제공된다.According to the present invention, there is provided a method for producing a polyimide varnish, which can impart high bendability to a film even if the polyimide-based polymer is directly film-formed without going through a purification step.

또한, 본 발명에 의하면, 투명성이 높은 폴리이미드계 수지의 양산에 적합한 폴리이미드계 고분자 바니시의 제조방법이 제공된다.According to the present invention, there is also provided a process for producing a polyimide-based polymer varnish suitable for mass production of a polyimide-based resin having high transparency.

본 발명의 실시형태와 관련되는 폴리이미드계 고분자 바니시의 제조방법에 대해서 설명한다. 이 방법은, 폴리이미드계 고분자의 원료 모노머를 용매 중에 있어서 중합하여 폴리이미드계 고분자 전구체를 얻는 중합 공정, 및, 감압 환경 하, 제 3급 아민을 포함하는 용매 중에 있어서 상기 폴리이미드계 고분자 전구체를 이미드화하여, 폴리이미드계 고분자 용액을 얻는 이미드화 공정을 포함한다.A method for producing a polyimide-based polymer varnish according to an embodiment of the present invention will be described. This method comprises a polymerization step of polymerizing a raw material monomer of a polyimide-based polymer in a solvent to obtain a polyimide-based polymer precursor, and a step of polymerizing the polyimide-based polymer precursor in a solvent containing a tertiary amine under a reduced- And imidizing the polyimide-based polymer solution to obtain a polyimide-based polymer solution.

(폴리이미드계 고분자의 원료 모노머)(Raw material monomer of polyimide-based polymer)

원료 모노머는, 테트라카르본산 화합물 및 디아민을 포함한다.The raw material monomer includes a tetracarboxylic acid compound and a diamine.

(테트라카르본산 화합물)(Tetracarboxylic acid compound)

테트라카르본산 화합물의 예는, 방향족 테트라카르본산 2무수물 등의 방향족 테트라카르본산 화합물, 및 지방족 테트라카르본산 2무수물 등의 지방족 테트라카르본산 화합물이다. 테트라카르본산 화합물은, 단독으로 이용하여도 되며, 2종 이상을 병용하여도 된다. 테트라카르본산 화합물은, 테트라카르본산 2무수물 외, 테트라카르본산클로라이드 화합물 등의 테트라카르본산 화합물 유연체(類緣體)여도 된다.Examples of the tetracarboxylic acid compound are an aromatic tetracarboxylic acid compound such as aromatic tetracarboxylic dianhydride and an aliphatic tetracarboxylic acid compound such as aliphatic tetracarboxylic dianhydride. The tetracarboxylic acid compound may be used alone or in combination of two or more. The tetracarboxylic acid compound may be a tetracarboxylic acid compound derivative such as tetracarboxylic acid chloride compound in addition to tetracarboxylic acid dianhydride.

방향족 테트라카르본산 2무수물의 구체예로서는, 비축합 다환식의 방향족 테트라카르본산 2무수물, 단환식의 방향족 테트라카르본산 2무수물, 및, 축합 다환식의 방향족 테트라카르본산 2무수물을 들 수 있다.Specific examples of the aromatic tetracarboxylic acid dianhydrides include non-condensed polycyclic aromatic tetracarboxylic dianhydrides, monocyclic aromatic tetracarboxylic dianhydrides, and condensed polycyclic aromatic tetracarboxylic dianhydrides.

비축합 다환식의 방향족 테트라카르본산 2무수물로서는, 4,4'-옥시디프탈산 2무수물, 3,3',4,4'-벤조페논테트라카르본산 2무수물, 2,2',3,3'-벤조페논테트라카르본산 2무수물, 3,3',4,4'-비페닐테트라카르본산 2무수물, 2,2',3,3'-비페닐테트라카르본산 2무수물, 3,3',4,4'-디페닐술폰테트라카르본산 2무수물, 2,2-비스(3,4-디카르복시페닐)프로판 2무수물, 2,2-비스(2,3-디카르복시페닐)프로판 2무수물, 2,2-비스(3,4-디카르복시페녹시페닐)프로판 2무수물, 4,4'-(헥사플루오로이소프로필리덴)디프탈산 2무수물(6FDA라고 부르는 경우가 있다.), 1,2-비스(2,3-디카르복시페닐)에탄 2무수물, 1,1-비스(2,3-디카르복시페닐)에탄 2무수물, 1,2-비스(3,4-디카르복시페닐)에탄 2무수물, 1,1-비스(3,4-디카르복시페닐)에탄 2무수물, 비스(3,4-디카르복시페닐)메탄 2무수물, 비스(2,3-디카르복시페닐)메탄 2무수물, 4,4'-(p-페닐렌디옥시)디프탈산 2무수물, 4,4'-(m-페닐렌디옥시)디프탈산 2무수물을 들 수 있다.Examples of the non-condensed polycyclic aromatic tetracarboxylic acid dianhydride include 4,4'-oxydiphthalic dianhydride, 3,3 ', 4,4'-benzophenonetetracarboxylic dianhydride, 2,2', 3,3 '- benzophenone tetracarboxylic dianhydride, 3,3', 4,4'-biphenyltetracarboxylic dianhydride, 2,2 ', 3,3'-biphenyltetracarboxylic dianhydride, 3,3' Bis (3,4-dicarboxyphenyl) propane dianhydride, 2,2-bis (2,3-dicarboxyphenyl) propane dianhydride, , 4,4'- (hexafluoroisopropylidene) diphthalic acid dianhydride (sometimes referred to as 6FDA), 1, 2'-bis (3,4-dicarboxyphenoxyphenyl) propane dianhydride, Bis (2,3-dicarboxyphenyl) ethane dianhydride, 1,1-bis (2,3-dicarboxyphenyl) ethane dianhydride, 1,2- (3,4-dicarboxyphenyl) methane dianhydride, bis (2,3-dicarboxyphenyl) methane dianhydride, 1,1- Dianhydride, 4,4 '- (p- phenylenedimaleimide oxy) diphthalic dianhydride, 4,4' - there may be mentioned (m- phenylenedimaleimide oxy) diphthalic acid dianhydride.

또한, 축합 다환식의 방향족 테트라카르본산 2무수물로서는, 2,3,6,7-나프탈렌테트라카르본산 2무수물을 들 수 있다.Examples of the condensed polycyclic aromatic tetracarboxylic acid dianhydride include 2,3,6,7-naphthalenetetracarboxylic dianhydride.

방향족 테트라카르본산 2무수물로서, 바람직하게는 4,4'-옥시디프탈산 2무수물, 3,3',4,4'-벤조페논테트라카르본산 2무수물, 2,2',3,3'-벤조페논테트라카르본산 2무수물, 3,3',4,4'-비페닐테트라카르본산 2무수물, 2,2',3,3'-비페닐테트라카르본산 2무수물, 3,3',4,4'-디페닐술폰테트라카르본산 2무수물, 2,2-비스(3,4-디카르복시페닐)프로판 2무수물, 2,2-비스(2,3-디카르복시페닐)프로판 2무수물, 2,2-비스(3,4-디카르복시페녹시페닐)프로판 2무수물, 4,4'-(헥사플루오로이소프로필리덴)디프탈산 2무수물, 1,2-비스(2,3-디카르복시페닐)에탄 2무수물, 1,1-비스(2,3-디카르복시페닐)에탄 2무수물, 1,2-비스(3,4-디카르복시페닐)에탄 2무수물, 1,1-비스(3,4-디카르복시페닐)에탄 2무수물, 비스(3,4-디카르복시페닐)메탄 2무수물, 비스(2,3-디카르복시페닐)메탄 2무수물, 4,4'-(p-페닐렌디옥시)디프탈산 2무수물 및 4,4'-(m-페닐렌디옥시)디프탈산 2무수물을 들 수 있다. 이들은 단독으로 또는 2종 이상을 조합시켜서 이용할 수 있다.As the aromatic tetracarboxylic acid dianhydride, 4,4'-oxydiphthalic dianhydride, 3,3 ', 4,4'-benzophenonetetracarboxylic dianhydride, 2,2', 3,3'- Benzophenone tetracarboxylic dianhydride, 3,3 ', 4,4'-biphenyltetracarboxylic dianhydride, 2,2', 3,3'-biphenyltetracarboxylic dianhydride, 3,3 ', 4 (2,3-dicarboxyphenyl) propane dianhydride, 2,2-bis (3,4-dicarboxyphenyl) propane dianhydride, 2,2- , 2-bis (3,4-dicarboxyphenoxyphenyl) propane dianhydride, 4,4 '- (hexafluoroisopropylidene) diphthalic dianhydride, 1,2- Bis (2,3-dicarboxyphenyl) ethane dianhydride, 1,2-bis (3,4-dicarboxyphenyl) ethane dianhydride, 1,1-bis (3,4-dicarboxyphenyl) methane dianhydride, bis (2,3-dicarboxyphenyl) methane dianhydride, 4,4 '- (p- Deoxidized dianhydride and 4,4 '- (m-phenylenedioxy) diphthalic dianhydride. These may be used alone or in combination of two or more.

지방족 테트라카르본산 2무수물로서는, 환식 또는 비환식의 지방족 테트라카르본산 2무수물을 들 수 있다. 환식 지방족 테트라카르본산 2무수물이란, 지환식 탄화수소 구조를 가지는 테트라카르본산 2무수물이며, 그 구체예로서는, 1,2,4,5-시클로헥산테트라카르본산 2무수물, 1,2,3,4-시클로부탄테트라카르본산 2무수물, 1,2,3,4-시클로펜탄테트라카르본산 2무수물 등의 시클로알칸테트라카르본산 2무수물, 비시클로[2.2.2]옥트-7-엔-2,3,5,6-테트라카르본산 2무수물, 디시클로헥실3,3'-4,4'-테트라카르본산 2무수물 및 이들의 위치 이성체를 들 수 있다. 이들은 단독으로 또는 2종 이상을 조합시켜서 이용할 수 있다. 비환식 지방족 테트라카르본산 2무수물의 구체예로서는, 1,2,3,4-부탄테트라카르본산 2무수물, 1,2,3,4-펜탄테트라카르본산 2무수물 등을 들 수 있으며, 이들은 단독으로 또는 2종 이상을 조합시켜서 이용할 수 있다.Examples of the aliphatic tetracarboxylic acid dianhydride include cyclic or acyclic aliphatic tetracarboxylic dianhydrides. The cyclic aliphatic tetracarboxylic acid dianhydride is tetracarboxylic dianhydride having an alicyclic hydrocarbon structure, and specific examples thereof include 1,2,4,5-cyclohexanetetracarboxylic dianhydride, 1,2,3,4- Cycloalkane tetracarboxylic dianhydride such as cyclobutane tetracarboxylic dianhydride and 1,2,3,4-cyclopentanetetracarboxylic dianhydride, bicyclo [2.2.2] oct-7-ene-2,3, 5,6-tetracarboxylic dianhydride, dicyclohexyl 3,3'-4,4'-tetracarboxylic dianhydride, and their positional isomers. These may be used alone or in combination of two or more. Specific examples of the non-cyclic aliphatic tetracarboxylic acid dianhydride include 1,2,3,4-butanetetracarboxylic dianhydride, 1,2,3,4-pentanetetracarboxylic dianhydride and the like, Or a combination of two or more.

필름의 투명성 및 착색의 억제의 관점으로부터, 테트라카르본산 화합물은, 상기 지환식 테트라카르본산 2무수물 또는 비축합 다환식의 방향족 테트라카르본산 2무수물이 바람직하다. 보다 바람직한 구체예로서는, 3,3',4,4'-비페닐테트라카르본산 2무수물, 2,2',3,3'-비페닐테트라카르본산 2무수물, 2,2-비스(3,4-디카르복시페닐)프로판 2무수물, 4,4'-(헥사플루오로이소프로필리덴)디프탈산 2무수물(6FDA)을 들 수 있다. 이들은 단독으로 또는 2종 이상을 조합시켜서 이용할 수 있다.From the viewpoints of transparency and inhibition of coloring of the film, the tetracarboxylic acid compound is preferably the alicyclic tetracarboxylic acid dianhydride or the non-condensed polycyclic aromatic tetracarboxylic dianhydride. More specific examples include 3,3 ', 4,4'-biphenyltetracarboxylic dianhydride, 2,2', 3,3'-biphenyltetracarboxylic dianhydride, 2,2-bis (3,4 -Dicarboxyphenyl) propane dianhydride, and 4,4 '- (hexafluoroisopropylidene) diphthalic dianhydride (6FDA). These may be used alone or in combination of two or more.

(트리카르본산 화합물 및 디카르본산 화합물)(Tricarboxylic acid compound and dicarboxylic acid compound)

원료 모노머는, 추가로, 트리카르본산 화합물 및/또는 디카르본산 화합물을 포함할 수 있다.The raw material monomer may further include a tricarboxylic acid compound and / or a dicarboxylic acid compound.

트리카르본산 화합물로서는, 방향족 트리카르본산, 지방족 트리카르본산 및 그들의 유연의 산클로라이드 화합물, 산무수물 등을 들 수 있으며, 2종 이상을 병용하여도 된다.Examples of the tricarboxylic acid compound include aromatic tricarboxylic acids, aliphatic tricarboxylic acids, and their flexible acid chloride compounds and acid anhydrides, and they may be used in combination of two or more.

구체예로서는, 1,2,4-벤젠 트리카르본산의 무수물; 2,3,6-나프탈렌트리카르본산-2,3-무수물; 프탈산 무수물과 벤조산이 단결합, -CH2-, -C(CH3)2-, -C(CF3)2-, -SO2- 혹은 페닐렌기로 연결된 화합물을 들 수 있다.Specific examples thereof include anhydrides of 1,2,4-benzenetricarboxylic acid; 2,3,6-naphthalenetricarboxylic acid-2,3-anhydride; Compounds in which phthalic anhydride and benzoic acid are linked by a single bond, -CH 2 -, -C (CH 3 ) 2 -, -C (CF 3 ) 2 -, -SO 2 - or phenylene group.

디카르본산 화합물로서는, 방향족 디카르본산, 지방족 디카르본산 및 그들의 유연의 산클로라이드 화합물, 산무수물 등을 들 수 있으며, 2종 이상을 병용하여도 된다. 구체예로서는, 테레프탈산; 이소프탈산; 나프탈렌디카르본산; 4,4'-비페닐디카르본산; 3,3'-비페닐디카르본산; 탄소수 8 이하인 쇄식 탄화수소,의 디카르본산 화합물 및 2개의 벤조산이 -CH2-, -C(CH3)2-, -C(CF3)2-, -SO2- 혹은 페닐렌기로 연결된 화합물을 들 수 있다.Examples of the dicarboxylic acid compound include aromatic dicarboxylic acids, aliphatic dicarboxylic acids and their flexible acid chloride compounds and acid anhydrides, and two or more of them may be used in combination. Specific examples include terephthalic acid; Isophthalic acid; Naphthalene dicarboxylic acid; 4,4'-biphenyldicarboxylic acid; 3,3'-biphenyldicarboxylic acid; A dicarboxylic acid compound of a cyclic hydrocarbon having 8 or less carbon atoms and a compound in which two benzoic acids are linked by -CH 2 -, -C (CH 3 ) 2 -, -C (CF 3 ) 2 -, -SO 2 - .

테트라카르본산 화합물, 트리카르본산 화합물, 및, 디카르본산 화합물의 합계에 대한, 테트라카르본산 화합물의 비율은 바람직하게는 40몰% 이상이며, 보다 바람직하게는 50몰% 이상이며, 더 바람직하게는 70몰% 이상이며, 보다 더 바람직하게는 90몰% 이상이며, 특히 바람직하게는 98몰% 이상이다.The ratio of the tetracarboxylic acid compound to the total of the tetracarboxylic acid compound, the tricarboxylic acid compound and the dicarboxylic acid compound is preferably 40 mol% or more, more preferably 50 mol% or more, Is at least 70 mol%, more preferably at least 90 mol%, particularly preferably at least 98 mol%.

(디아민)(Diamine)

디아민의 예는, 지방족 디아민, 방향족 디아민 또는 그들의 혼합물이다. 또한, 본 실시형태에 있어서 「방향족 디아민」이란, 아미노기가 방향환에 직접 결합하고 있는 디아민을 나타내며, 그 구조의 일부에 지방족기 또는 그 외의 치환기를 포함하고 있어도 된다. 방향환은 단환이어도 축합환이어도 되며, 벤젠환, 나프탈렌환, 안트라센환 및 플루오렌환 등이 예시되지만, 이들로 한정되는 것은 아니다. 이들 중에서도, 바람직하게는 벤젠환이다. 또한 「지방족 디아민」이란, 아미노기가 지방족기에 직접 결합하고 있는 디아민을 나타내며, 그 구조의 일부에 방향환이나 그 외의 치환기를 포함하고 있어도 된다.Examples of diamines are aliphatic diamines, aromatic diamines or mixtures thereof. In the present embodiment, the term "aromatic diamine" refers to a diamine in which an amino group is directly bonded to an aromatic ring, and a part of the structure may contain an aliphatic group or other substituent. The aromatic ring may be a monocyclic ring or a condensed ring, and examples thereof include a benzene ring, a naphthalene ring, an anthracene ring and a fluorene ring, but are not limited thereto. Of these, benzene rings are preferred. The term "aliphatic diamine" refers to a diamine in which an amino group is bonded directly to an aliphatic group, and a part of the structure may contain an aromatic ring or other substituent.

지방족 디아민으로서는, 예를 들면, 헥사메틸렌디아민 등의 비환식 지방족 디아민 및 1,3-비스(아미노메틸)시클로헥산, 1,4-비스(아미노메틸)시클로헥산, 노르보르난디아민, 4,4'-디아미노디시클로헥실메탄 등의 환식 지방족 디아민 등을 들 수 있으며, 이들은 단독으로 또는 2종 이상을 조합시켜서 이용할 수 있다.Examples of the aliphatic diamines include alicyclic diamines such as hexamethylene diamine and the like; aliphatic diamines such as 1,3-bis (aminomethyl) cyclohexane, 1,4-bis (aminomethyl) cyclohexane, '-Diaminodicyclohexylmethane and the like, and they may be used alone or in combination of two or more.

방향족 디아민의 예는, p-페닐렌디아민, m-페닐렌디아민, 2,4-톨루엔디아민, m-크실릴렌디아민, p-크실릴렌디아민, 1,5-디아미노나프탈렌, 2,6-디아미노나프탈렌 등의, 방향환을 1개 가지는 방향족 디아민, 4,4'-디아미노디페닐메탄, 4,4'-디아미노디페닐프로판, 4,4'-디아미노디페닐에테르, 3,4'-디아미노디페닐에테르, 3,3'-디아미노디페닐에테르, 4,4'-디아미노디페닐술폰, 3,4'-디아미노디페닐술폰, 3,3'-디아미노디페닐술폰, 1,4-비스(4-아미노페녹시)벤젠, 1,3-비스(4-아미노페녹시)벤젠, 4,4'-디아미노디페닐술폰, 비스〔4-(4-아미노페녹시)페닐〕술폰, 비스〔4-(3-아미노페녹시)페닐〕술폰, 2,2-비스[4-(4-아미노페녹시)페닐]프로판, 2,2-비스[4-(3-아미노페녹시)페닐]프로판, 2,2'-디메틸벤지딘, 2,2'-비스(트리플루오로메틸)-4,4'-디아미노디페닐(TFMB라고 부르는 경우가 있다), 4,4'-비스(4-아미노페녹시)비페닐, 4,4'-디아미노디페닐에테르, 3,4'-디아미노디페닐에테르, 4,4'-디아미노디페닐메탄, 9,9-비스(4-아미노페닐)플루오렌, 9,9-비스(4-아미노-3-메틸페닐)플루오렌, 9,9-비스(4-아미노-3-클로로페닐)플루오렌, 9,9-비스(4-아미노-3-플루오로페닐)플루오렌 등의, 방향환을 2개 이상 가지는 방향족 디아민이다. 이들은 단독으로 또는 2종 이상을 조합시켜서 이용할 수 있다.Examples of the aromatic diamine include p-phenylenediamine, m-phenylenediamine, 2,4-toluenediamine, m-xylylenediamine, p-xylylenediamine, 1,5-diaminonaphthalene, 2,6 Diaminodiphenyl ether, aromatic diamine having one aromatic ring, such as 4,4'-diaminodiphenylmethane, 4,4'-diaminodiphenylpropane, 4,4'-diaminodiphenyl ether, 3 , 4'-diaminodiphenyl ether, 3,3'-diaminodiphenyl ether, 4,4'-diaminodiphenylsulfone, 3,4'-diaminodiphenylsulfone, 3,3'-diamino Bis (4-aminophenoxy) benzene, 4,4'-diaminodiphenylsulfone, bis [4- (4- Bis (4-aminophenoxy) phenyl] sulfone, bis [4- (3-aminophenoxy) phenyl] sulfone, 2,2- (3-aminophenoxy) phenyl] propane, 2,2'-dimethylbenzidine, 2,2'-bis (trifluoromethyl) -4,4'- diaminodiphenyl (sometimes referred to as TFMB) 4 , 4'-bis (4-aminophenoxy) biphenyl, 4,4'-diaminodiphenyl ether, 3,4'-diaminodiphenyl ether, (4-aminophenyl) fluorene, 9,9-bis (4-amino-3-methylphenyl) fluorene, 9,9- -Bis (4-amino-3-fluorophenyl) fluorene, or an aromatic diamine having two or more aromatic rings. These may be used alone or in combination of two or more.

디아민은, 불소계 치환기를 가질 수도 있다. 불소계 치환기의 예는, 트리플루오로메틸기 등의 탄소수 1~5의 퍼플루오로알킬기, 및, 플루오로기이다.The diamine may have a fluorine-based substituent. Examples of the fluorine-based substituent include a perfluoroalkyl group having 1 to 5 carbon atoms such as a trifluoromethyl group, and a fluoro group.

상기 디아민 중에서도, 고(高)투명성 및 저(低)착색성의 관점에서는, 비페닐 구조를 가지는 방향족 디아민으로 이루어지는 군에서 선택되는 1종 이상을 이용하는 것이 바람직하다. 2,2'-디메틸벤지딘 , 2,2'-비스(트리플루오로메틸)벤지딘(TFMB) 및 4,4'-비스(4-아미노페녹시)비페닐로 이루어지는 군에서 선택되는 1종 이상을 이용하는 것이 더 바람직하다.Among these diamines, from the viewpoint of high transparency and low coloring property, it is preferable to use at least one selected from the group consisting of aromatic diamines having a biphenyl structure. At least one selected from the group consisting of 2,2'-dimethylbenzidine, 2,2'-bis (trifluoromethyl) benzidine (TFMB) and 4,4'-bis (4-aminophenoxy) It is more preferable to use it.

디아민은, 비페닐 구조 및 불소계 치환기를 가지는 디아민인 것이 바람직하며, 그 예는, 2,2'-비스(트리플루오로메틸)-4,4'-디아미노디페닐(TFMB)이다.The diamine is preferably a diamine having a biphenyl structure and a fluorine-based substituent, and an example thereof is 2,2'-bis (trifluoromethyl) -4,4'-diaminodiphenyl (TFMB).

원료 모노머 중의 디아민과, 테트라카르본산 화합물 등의 카르본산 화합물의 몰비는, 디아민 1.00㏖에 대하여, 바람직하게는 테트라카르본산 0.9㏖ 이상 1.1㏖ 이하의 범위에서 적절히 조절할 수 있다. 높은 내절성을 발현하기 위해서는 얻어지는 폴리이미드계 고분자가 고분자량인 것이 바람직한 것으로부터, 디아민 1.00㏖에 대하여 테트라카르본산 0.98㏖ 이상 1.02㏖인 것이 보다 바람직하고, 0.99㏖% 이상 1.01㏖% 이하인 것이 더 바람직하다.The molar ratio of the diamine in the raw material monomer to the carboxylic acid compound such as the tetracarboxylic acid compound can be appropriately controlled within a range of from 0.9 mol or more to 1.1 mol or less of the tetracarboxylic acid with respect to 1.00 mol of the diamine. From the viewpoint of exhibiting high yielding properties, it is preferable that the polyimide-based polymer to be obtained has a high molecular weight, more preferably from 0.98 to 1.02 mol of tetracarboxylic acid with respect to 1.00 mol of diamine, more preferably from 0.99 mol% to 1.01 mol% desirable.

또한, 얻어지는 폴리이미드계 고분자 필름의 황색도를 억제하는 관점에서, 얻어지는 고분자 말단에 차지하는 아미노기의 비율이 낮은 것이 바람직하고, 디아민 1.00㏖에 대하여 테트라카르본산 화합물 등의 카르본산 화합물은 1.00㏖ 이상인 것이 바람직하다.From the viewpoint of suppressing the yellowing degree of the obtained polyimide-based polymer film, it is preferable that the ratio of the amino group occupied to the terminal of the obtained polymer is low, and the ratio of the carboxylic acid compound such as tetracarboxylic acid compound to 1.00 mol of the diamine is 1.00 mol or more desirable.

디아민 및 카르본산 화합물(예를 들면, 테트라카르본산 화합물)의 분자 중의 불소수를 조정하고, 얻어지는 폴리이미드계 고분자 중의 불소량을, 폴리이미드계 고분자의 질량을 기준으로 하여, 1질량% 이상, 5질량% 이상, 10질량% 이상, 20질량% 이상으로 할 수 있다. 불소의 비율이 높을수록 원료 비용이 비싸게 되는 경향이 있는 것으로부터, 불소량의 상한은 40질량% 이하인 것이 바람직하다. 불소계 치환기는, 디아민 또는 카르본산 화합물 중 어디에 존재하여도 되며, 양방에 존재하여도 된다. 불소계 치환기를 포함하는 것에 의해 특히 YI값이 저감되는 경우가 있다.The fluorine number in the molecule of the diamine and the carboxylic acid compound (for example, the tetracarboxylic acid compound) is adjusted so that the amount of fluorine in the obtained polyimide-based polymer is 1% by mass or more, 5% by mass or more, 10% by mass or more, and 20% by mass or more. The higher the proportion of fluorine, the higher the cost of the raw material. Therefore, the upper limit of the fluorine content is preferably 40% by mass or less. The fluorine-based substituent may be present either in the diamine or in the carboxylic acid compound, or may be present in both of them. The inclusion of a fluorine-based substituent may reduce the YI value in particular.

(용매 A)(Solvent A)

폴리이미드계 고분자의 합성(원료 모노머의 중합 및 이미드화)에 이용되는 용매 A는, 중합에 의해 생성한 폴리이미드계 고분자 전구체 및 이미드화에 의해 생성하는 폴리이미드계 고분자를 용해 가능한 용매인 것이 바람직하다. 이러한 용매로서는 락톤계 용매, 아미드계 용매, 함(含)유황 용매를 들 수 있으며, 구체적으로는 γ부티로락톤(비점 204℃)(GBL이라고 부르는 경우가 있다), N,N-디메틸포름아미드(비점 153℃), N,N-디메틸아세트아미드(비점 165℃)(DMAc라고 부르는 경우가 있다), 디메틸술폭시드(비점 189℃) 등이 예시된다. 용매는, 혼합물이어도 된다.The solvent A used for the synthesis of the polyimide-based polymer (polymerization and imidization of the raw material monomer) is preferably a solvent capable of dissolving the polyimide-based polymer precursor produced by polymerization and the polyimide-based polymer produced by imidization Do. Examples of such solvents include lactone solvents, amide solvents, and sulfur solvents. Specific examples thereof include? -Butyrolactone (boiling point: 204 占 폚) (sometimes referred to as GBL), N, N-dimethylformamide (Boiling point: 153 占 폚), N, N-dimethylacetamide (boiling point: 165 占 폚) (sometimes referred to as DMAc), dimethylsulfoxide (boiling point: 189 占 폚) The solvent may be a mixture.

폴리이미드의 합성에 있어서, 후술하는 이미드화 반응을 고온에서 행할 경우, 용매 A는 고비점의 용매인 것이 바람직하다. 비점은 160℃ 이상이 바람직하고, 180℃ 이상이면 더 바람직하다. 이러한 용매 A의 예는, GBL, DMAc, 디메틸술폭시드이다.In the synthesis of the polyimide, when the imidization reaction described later is carried out at a high temperature, the solvent A is preferably a solvent having a high boiling point. The boiling point is preferably 160 DEG C or higher, more preferably 180 DEG C or higher. Examples of such solvent A are GBL, DMAc and dimethylsulfoxide.

(제 3급 아민)(Tertiary amine)

제 3급 아민은, 용매 중에서 폴리이미드계 고분자 전구체의 이미드화 촉매로서 기능할 수 있다.The tertiary amine can function as a polyimide-based polymer precursor imidization catalyst in a solvent.

3급 아민의 예로서는, 식 (a)로 나타내는 3급 아민(이하, 3급 아민 A라고도 한다), 식 (b)로 나타내는 3급 아민(이하, 3급 아민 B라고도 한다), 식 (c)로 나타내는 3급 아민(이하, 3급 아민 C라고도 한다), 식 (d)로 나타내는 3급 아민(이하, 3급 아민 D라고도 한다)을 들 수 있다.Examples of tertiary amines include tertiary amines (hereinafter also referred to as tertiary amines A), tertiary amines (hereinafter also referred to as tertiary amines B) represented by the formula (b) (Hereinafter, also referred to as a tertiary amine C) and a tertiary amine (hereinafter also referred to as a tertiary amine D) represented by the formula (d).

[화학식 1][Chemical Formula 1]

Figure pct00001
Figure pct00001

식 (a)에 있어서, R1A, R2A, R3A는, 각각 달라도 되는 탄소수 1~12의 1가의 탄화수소기이며, R1A, R2A 및 R3A의 탄소수의 합계는 10 이상 18 이하이다.In formula (a), R 1A , R 2A and R 3A are each a monovalent hydrocarbon group of 1 to 12 carbon atoms, and the total number of carbon atoms of R 1A , R 2A and R 3A is 10 or more and 18 or less.

3급 아민 A의 구체예로서는, 트리프로필아민, 디부틸프로필아민, 에틸디부틸아민을 들 수 있다.Specific examples of the tertiary amine A include tripropylamine, dibutylpropylamine and ethyldibutylamine.

[화학식 2](2)

Figure pct00002
Figure pct00002

식 (b)에 있어서, R1B는, 탄소수 2~10의 1가의 탄화수소기이며, R2B는 탄소수 3~12의 2가의 지방족 탄화수소기이며, R1B 및 R2B의 탄소수의 합계는 9~16이다.In formula (b), R 1B is a monovalent hydrocarbon group having 2 to 10 carbon atoms, R 2B is a divalent aliphatic hydrocarbon group having 3 to 12 carbon atoms, and the total number of carbon atoms of R 1B and R 2B is 9 to 16 to be.

3급 아민 B의 구체예로서는, N-에틸피페리딘, N-프로필피페리딘, N-부틸피롤리딘, N-부틸피페리딘, N-프로필헥사히드로아제핀을 들 수 있다.Specific examples of the tertiary amine B include N-ethylpiperidine, N-propylpiperidine, N-butylpyrrolidine, N-butylpiperidine and N-propylhexahydroazepine.

[화학식 3](3)

Figure pct00003
Figure pct00003

식 (c)에 있어서, R1C는 탄소수 7~15의 3가의 지방족 탄화수소기이다.In the formula (c), R 1C is a trivalent aliphatic hydrocarbon group having 7 to 15 carbon atoms.

3급 아민 C의 구체예로서는, 아자비시클로[2.2.1]헵탄, 아자비시클로[3.2.1]옥탄, 아자비시클로[2.2.2]옥탄, 아자비시클로[3.2.2]노난을 들 수 있다.Specific examples of the tertiary amine C include azabicyclo [2.2.1] heptane, azabicyclo [3.2.1] octane, azabicyclo [2.2.2] octane and azabicyclo [3.2.2] nonane.

[화학식 4][Chemical Formula 4]

Figure pct00004
Figure pct00004

식 (d)에 있어서, R1D는 탄소수 8~15의 3가의 지방족 탄화수소기이다.In the formula (d), R 1D is a trivalent aliphatic hydrocarbon group having 8 to 15 carbon atoms.

3급 아민 D의 구체예로서는, 2-메틸피리딘, 3-메틸피리딘, 4-메틸피리딘, 2-에틸피리딘, 3-에틸피리딘, 4-에틸피리딘, 2,4-디메틸피리딘, 2,4,6-트리메틸피리딘, 3,4-시클로펜테노피리딘, 5,6,7,8-테트라히드로이소퀴놀린, 이소퀴놀린을 들 수 있다.Specific examples of the tertiary amine D include 2-methylpyridine, 3-methylpyridine, 4-methylpyridine, 2-ethylpyridine, 3-ethylpyridine, 4-ethylpyridine, -Trimethylpyridine, 3,4-cyclopentenopyridine, 5,6,7,8-tetrahydroisoquinoline, and isoquinoline.

이용하는 3급 아민의 비점이 높으면, 감압 중의 수분의 증류 제거에 있어서, 계(系)외에 제외되는 촉매량이 억제되는 경향이 있기 때문에 바람직하다. 비점이 120℃ 이상인 3급 아민이 바람직하고, 비점이 140℃ 이상인 3급 아민이 보다 바람직하고, 비점이 170℃ 이상인 3급 아민이 더 바람직하고, 비점이 200℃ 이상인 3급 아민이 보다 더 바람직하다. 이용하는 3급 아민의 비점의 상한은 특별히 규정되지 않지만, 통상 350℃ 이하이다. 저비점의 3급 아민을 이용하는 경우일수록, 증류 제거분을 고려하여 촉매의 사용량을 늘릴 필요가 있다.If the boiling point of the tertiary amine to be used is high, the amount of the catalyst which is excluded from the system (system) tends to be suppressed in distilling off the water under reduced pressure, which is preferable. A tertiary amine having a boiling point of 120 ° C or higher is preferable, a tertiary amine having a boiling point of 140 ° C or higher is more preferable, a tertiary amine having a boiling point of 170 ° C or higher is more preferable, and a tertiary amine having a boiling point of 200 ° C or higher is more preferable Do. The upper limit of the boiling point of the tertiary amine to be used is not specifically defined, but is usually 350 DEG C or lower. In the case of using a tertiary amine having a low boiling point, it is necessary to increase the amount of the catalyst to be used in consideration of distillation removal components.

상기 3급 아민은, 바람직하게는 3급 아민 D이며, 보다 바람직하게는 탄소수 6 이상 13 이하의 3급 아민 D이다. 더 바람직하게는 탄소수 9 이상 13 이하의 3급 아민 D이며, 보다 더 바람직하게는 이소퀴놀린 및 그 수소화물이다.The tertiary amine is preferably tertiary amine D, more preferably tertiary amine D having 6 to 13 carbon atoms. More preferably a tertiary amine D having 9 to 13 carbon atoms, and still more preferably isoquinoline and a hydride thereof.

(폴리이미드계 고분자 바니시의 제조방법)(Production method of polyimide-based polymer varnish)

이 방법은, 폴리이미드계 고분자의 원료 모노머를 용매 중에 있어서 중합하여 폴리이미드계 고분자 전구체를 얻는 중합 공정, 및, 감압 환경 하, 제 3급 아민을 포함하는 용매 중에 있어서 상기 폴리이미드계 고분자 전구체를 이미드화하여 폴리이미드계 고분자 용액을 얻는 이미드화 공정을 포함한다.This method comprises a polymerization step of polymerizing a raw material monomer of a polyimide-based polymer in a solvent to obtain a polyimide-based polymer precursor, and a step of polymerizing the polyimide-based polymer precursor in a solvent containing a tertiary amine under a reduced- Imidization process in which imidization is carried out to obtain a polyimide-based polymer solution.

또한, 본 실시형태에 있어서 폴리이미드계 고분자 바니시란, 폴리이미드계 고분자 전구체의 이미드화에 의해 얻어지는 폴리이미드계 고분자 용액, 및, 당해 폴리이미드계 고분자 용액에 용매나 첨가제를 추가함으로써, 얻어지는 용액이다.Further, in the present embodiment, the polyimide-based polymer varnish is a solution obtained by imidizing a polyimide-based polymer precursor and a solution and a solvent or an additive added to the polyimide-based polymer solution .

(원료 모노머의 중합에 의한 폴리이미드계 고분자 전구체의 생성)(Production of polyimide-based polymer precursor by polymerization of raw material monomer)

반응 용기 내에서 폴리이미드계 고분자의 원료 모노머를 상기 서술하는 용매 A 중에서 중합시킨다. 원료 모노머 및 용매 A를 포함하는 전체 액체에 차지하는 원료 모노머의 양은, 10~60질량%로 할 수 있다. 모노머의 양이 많으면 중합 속도가 오르는 경향이 있으며, 분자량을 높게 할 수 있다. 또한, 중합 시간을 단축할 수 있으며, 폴리이미드계 고분자의 착색을 억제할 수 있는 경향이 있다. 모노머의 양이 지나치게 많으면, 중합물 또는 중합물을 포함하는 용액의 점도가 높아지는 경향이 있기 때문에, 교반하기 어려워지거나, 반응 용기나 교반 날개 등에 중합물이 부착되어서 수율이 낮아지거나 하는 경우가 있다.In the reaction vessel, the raw monomer of the polyimide-based polymer is polymerized in the solvent A described above. The amount of the raw material monomers in the total liquid including the raw material monomer and the solvent A may be 10 to 60% by mass. If the amount of the monomer is large, the polymerization rate tends to increase and the molecular weight can be increased. Further, the polymerization time can be shortened and the coloring of the polyimide-based polymer tends to be suppressed. If the amount of the monomer is excessively large, the viscosity of the solution containing the polymerized substance or the polymerized substance tends to be high, so that the stirring may become difficult or the polymerized substance may adhere to the reaction vessel or stirring vane, resulting in a low yield.

원료 모노머의 각 성분, 및, 용매 A의 혼합의 순서는 특별하게 한정되지 않으며, 모두를 동시에 혼합하여도 되며 각각 혼합하여도 되지만, 디아민의 적어도 일부와 용매를 혼합한 후에 카르본산 화합물을 추가하는 것이 바람직하다. 디아민 및 카르본산 화합물은 분할하여 추가하여도, 화합물마다 단계적으로 추가하여도 된다.The order of the components of the raw material monomer and the order of mixing of the solvent A is not particularly limited and they may be all mixed at the same time or may be mixed with each other. However, it is also possible to add a carboxylic acid compound after mixing at least a part of the diamine with a solvent . The diamine and the carboxylic acid compound may be added in a divided manner or may be added stepwise for each compound.

반응 매스 중 원료 모노머를 잘 교반함으로써 원료 모노머의 중합이 촉진되어 폴리이미드계 고분자 전구체가 형성된다. 필요에 따라, 반응 매스를 40~90℃ 정도로 가열하여도 된다. 원료 모노머의 중합 공정의 진행과 동시 병행으로, 후술하는 이미드화 공정을 진행시킬 수도 있다. 이 경우, 후술하는 이미드화의 조건에 맞춰서 반응 매스를 추가로 고온으로 가열하여도 된다.The raw material monomer is stirred well in the reaction mass to promote the polymerization of the raw material monomer to form a polyimide-based polymer precursor. If necessary, the reaction mass may be heated to about 40 to 90 占 폚. The imidization step described later may be carried out simultaneously with the progress of the polymerization step of the raw material monomer. In this case, the reaction mass may be further heated at a high temperature in accordance with the imidation condition described later.

중합의 반응 시간은, 예를 들면, 24시간 이하로 할 수 있으며, 1시간 이하여도 되고, 1~24시간으로 할 수 있다.The reaction time of the polymerization may be, for example, 24 hours or less, and may be 1 hour or less, or 1 to 24 hours.

반응 매스는 폴리이미드계 고분자 전구체의 중합 공정 중에 제 3급 아민을 포함하고 있어도 된다. 이 경우, 제 3급 아민은 디아민과 용매를 혼합하기 전에 추가하여도, 혼합한 후에 추가하여도 되며, 디아민과 용매와 카르본산 화합물을 혼합한 후에 추가하여도 된다. 또한, 이용하는 용매의 일부에 희석해 두고 나서 반응 매스에 추가하여도 된다.The reaction mass may contain a tertiary amine during the polymerization of the polyimide-based polymer precursor. In this case, the tertiary amine may be added before or after the mixing of the diamine and the solvent, or may be added after mixing the diamine, the solvent and the carboxylic acid compound. It may also be added to the reaction mass after being diluted with a part of the solvent used.

(폴리이미드계 고분자 전구체의 이미드화)(Imidization of polyimide-based polymer precursor)

계속해서, 감압 환경 하에서, 제 3급 아민을 포함하는 반응 매스를 가열함으로써 폴리이미드계 고분자 전구체의 이미드화를 촉진하여, 폴리이미드를 생성하면서 부생(副生)하는 물 등을 증류 제거한다. 상기의 중합을 행한 반응 용기 내에서, 용매 A 중의 폴리이미드계 고분자 전구체를 이미드화하는 것이 바람직하다. 제 3급 아민은, 상기 서술한 바와 같이 원료 모노머를 중합하여 폴리이미드계 고분자 전구체를 생성하는 중합 공정 중 또는 중합 공정 전에 추가하여도 되지만, 폴리이미드계 고분자 전구체를 생성하는 공정 후에 추가하여도 된다.Subsequently, the reaction mass containing the tertiary amine is heated in a reduced pressure environment to promote the imidization of the polyimide-based polymer precursor, thereby distilling off water or the like as a by-product while producing the polyimide. It is preferable to imidize the polyimide-based polymer precursor in the solvent A in the reaction vessel subjected to the above polymerization. The tertiary amine may be added during or during the polymerization process for producing the polyimide-based polymer precursor by polymerizing the raw material monomer as described above, but may be added after the step for producing the polyimide-based polymer precursor .

폴리이미드계 고분자 전구체의 생성 반응과 이미드화 반응을, 동시에 진행시켜도 된다. 그 경우, 이미드화 반응으로 생성되는 물에 의해 아미드기의 결합이 절단되어, 얻어지는 폴리이미드계 고분자의 분자량이 낮아지는 경우가 있다. 이러한 폴리이미드계 고분자를 포함하는 바니시로부터 얻어지는 필름은, 내절성이 저하되는 경우가 있다. 이미드화 공정 시에, 감압하여 반응 용액 중의 물을 조속히 제거함으로써, 아미드기의 절단 반응을 억제하고, 얻어지는 폴리이미드계 고분자의 분자량을 높게 할 수 있다. 따라서, 특히 폴리이미드계 고분자 전구체의 생성 반응과 이미드화 반응을 동시에 진행시키는 경우에, 이미드화 공정을 감압 환경 하에서 행함으로써, 정제 공정을 거치지 않고 폴리이미드계 고분자를 포함하는 바니시로부터 직접 필름을 제조하여도 필름에 높은 내절성을 부여할 수 있는 경향이 있다.The formation reaction and the imidization reaction of the polyimide-based polymer precursor may be carried out simultaneously. In this case, the amide group bond is cleaved by the water generated by the imidization reaction, and the molecular weight of the resulting polyimide-based polymer may be lowered. A film obtained from a varnish containing such a polyimide-based polymer may be degraded in endurance. During the imidation step, the decomposition reaction is carried out to remove water in the reaction solution at a rapid rate, whereby the cleavage reaction of the amide group can be suppressed and the molecular weight of the resulting polyimide-based polymer can be increased. Therefore, in particular, in the case where the formation reaction of the polyimide-based polymer precursor and the imidization reaction are simultaneously proceeded, the imidization step is performed under a reduced pressure environment to produce a film directly from the varnish containing the polyimide-based polymer There is a tendency that a high bendability can be imparted to the film.

반응 매스에 있어서, 내절성 향상의 관점에서, 100질량부의 원료 모노머에 대한 제 3급 아민의 첨가량은, 바람직하게는 0.05질량부 이상이며, 보다 바람직하게는 0.1질량부 이상이며, 더 바람직하게는 0.2질량부 이상이다. 한편, 필름의 착색을 억제하는 목적에서는 촉매의 첨가량은 적은 것이 바람직하다. 제 3급 아민의 첨가량은 바람직하게는 2질량부 이하이며, 보다 바람직하게는 1질량부 이하이며, 더 바람직하게는 0.7질량부 이하이며, 보다 더 바람직하게는 0.5질량부 이하, 특히 바람직하게는 0.3질량부 이하이다.The amount of tertiary amine added to 100 mass parts of the raw material monomer in the reaction mass is preferably 0.05 parts by mass or more, more preferably 0.1 parts by mass or more, and still more preferably 0.1 parts by mass or more, 0.2 parts by mass or more. On the other hand, for the purpose of suppressing the coloring of the film, it is preferable that the addition amount of the catalyst is small. The amount of the tertiary amine to be added is preferably 2 parts by mass or less, more preferably 1 part by mass or less, still more preferably 0.7 parts by mass or less, still more preferably 0.5 parts by mass or less, 0.3 parts by mass or less.

이미드화 공정의 온도는, 100℃ 이상 250℃ 이하로 하는 것이 바람직하고, 150℃ 이상 210℃ 이하로 하는 것이 보다 바람직하다. 이미드화 공정의 압력은, 바람직하게는 730mmHg 이하이며, 보다 바람직하게는 700mmHg 이하이며, 더 바람직하게는 675mmHg 이하이다.The temperature of the imidation step is preferably from 100 캜 to 250 캜, and more preferably from 150 캜 to 210 캜. The pressure in the imidation step is preferably 730 mmHg or less, more preferably 700 mmHg or less, and still more preferably 675 mmHg or less.

이미드화 공정의 압력은, 예를 들면, 350mmHg 이상으로 할 수 있으며, 500mmHg 이상이어도 된다. 이미드화 공정의 온도에 있어서의 용매의 증기압에 따라서는, 반응의 안정성을 높이기 위하여 압력은 400mmHg 이상으로 행하는 것이 바람직한 경우도 있다. 같은 이유에서, 600mmHg으로 행하는 것이 보다 바람직한 경우도 있다.The pressure of the imidation step may be, for example, 350 mmHg or more, or 500 mmHg or more. Depending on the vapor pressure of the solvent at the temperature of the imidation step, the pressure may preferably be at least 400 mmHg in order to enhance the stability of the reaction. For the same reason, it may be more preferable to perform at 600 mmHg.

이미드화 공정의 압력을 이미드화 공정의 용매의 포화 증기압 가까이에 설정하면 YI가 억제되기 쉬운 경향이 있다. 포화 증기압으로부터 50mmHg 이내의 압력이 바람직하다.If the imidation process pressure is set near the saturated vapor pressure of the solvent in the imidization process, YI tends to be suppressed. A pressure within 50 mmHg from saturated vapor pressure is preferred.

가열 시간은, 예를 들면, 1~24시간으로 할 수 있다. 바람직하게는 1~12시간이며, 보다 바람직하게는 2~9시간이며, 더 바람직하게는 2~8시간이며, 보다 더 바람직하게는 2~6시간이며, 특히 바람직하게는 2~5시간이다. 가열 중에는 교반을 행하는 것이 바람직하다.The heating time may be, for example, 1 to 24 hours. Preferably 1 to 12 hours, more preferably 2 to 9 hours, still more preferably 2 to 8 hours, still more preferably 2 to 6 hours, particularly preferably 2 to 5 hours. It is preferable to stir while heating.

반응 시간이 길어지면, 분자량이 높아지지만, 수지의 황색미(黃色味)가 강해지기 쉬운 경향이 있다. 한편, 반응 시간이 짧으면 분자량이 낮아지기 쉽고, 황색미는 약해지는 경향이 있다.When the reaction time is prolonged, the molecular weight is increased, but the yellowish taste of the resin tends to become strong. On the other hand, if the reaction time is short, the molecular weight tends to be lowered, and the yellowish color tends to weaken.

이미드화 공정에 있어서, 반응 용기 내의 용매 A를 포함하는 액상(液相)과 접촉하는 기상 중의 산소 농도가 낮으면, 폴리이미드계 고분자의 착색이 억제되는 경향이 있으며, 이를 포함하는 바니시로부터 얻어지는 필름의 YI의 수치가 낮아지는 경향이 있다. 제조방법에 있어서, 반응 용기의 기상 중의 산소 농도가 낮은 상태에서, 감압 환경 하에서의 반응 매스의 가열에 의한 이미드화 공정이 행해지면 되며, 감압 환경 하에서의 가열보다 전, 예를 들면, 감압을 개시할 때 또는 원료 모노머 등의 투입할 때로부터 당해 산소 농도가 낮아도 된다. 산소 농도는, 0.02% 이하로 하는 것이 바람직하고, 0.01% 이하로 하는 것이 더 바람직하다. 고온으로 가열했을 때에 산소 농도가 높으면, 특히 착색의 원인이 되므로, 예를 들면, 반응 용액의 온도가 130℃ 이상일 때에, 산소 농도를 0.02% 이하로 하는 것이 바람직하다. 전구체의 합성 및 전구체의 이미드화에 있어서, 실질적으로 산소는 발생하지 않는 것으로부터, 예를 들면 원료 투입 전에 반응 용기 내를 질소 가스로 치환하는 등하여 기상의 산소 농도를 낮추는 것에 의해, 이미드화 공정에 있어서의 기상의 산소 농도를 저감할 수 있다. 이미드화 공정의 산소 농도는, 예를 들면 반응 용기 내부를 감압할 때에 반응 용기로부터 제거하는 가스 중의 산소 농도의 분석을 함으로써 파악할 수 있다. 감압 중의 산소 농도의 측정이 곤란한 경우, 감압 전후의 기상을 샘플링하여 산소 농도를 측정하여도 된다.When the concentration of oxygen in the vapor phase in contact with the liquid phase (liquid phase) containing the solvent A in the reaction vessel is low in the imidation process, the coloring of the polyimide-based polymer tends to be suppressed, and the film obtained from the varnish The value of YI tends to be lowered. In the production method, the imidization step by heating the reaction mass under a reduced pressure environment is performed in a state in which the oxygen concentration in the gas phase of the reaction vessel is low, and before the heating under a reduced pressure environment, for example, Or the oxygen concentration may be low from the time when the raw material monomer or the like is added. The oxygen concentration is preferably 0.02% or less, more preferably 0.01% or less. If the oxygen concentration is high when heated to a high temperature, it may cause coloration. For example, when the temperature of the reaction solution is 130 ° C or higher, the oxygen concentration is preferably 0.02% or less. In the synthesis of the precursor and the imidization of the precursor, substantially no oxygen is generated. For example, by lowering the oxygen concentration in the gas phase by substituting the inside of the reaction vessel with nitrogen gas before the introduction of the raw material, It is possible to reduce the oxygen concentration in the gas phase in the gas phase. The oxygen concentration in the imidation process can be determined, for example, by analyzing the oxygen concentration in the gas removed from the reaction vessel when the pressure inside the reaction vessel is reduced. In the case where it is difficult to measure the oxygen concentration during the decompression, the oxygen concentration may be measured by sampling the gas phase before and after the decompression.

가열 후에, 대기압으로 되돌려, 냉각함으로써, 폴리이미드계 고분자 용액이 얻어진다.After heating, the mixture is returned to atmospheric pressure and cooled to obtain a polyimide-based polymer solution.

이 폴리이미드계 고분자 용액을 그대로 폴리이미드계 고분자 바니시로 하여도 된다.This polyimide-based polymer solution may be directly used as a polyimide-based polymer varnish.

(희석 공정)(Dilution step)

또한, 얻어진 폴리이미드계 고분자 용액에 대하여, 추가로 용매 B를 추가하고 폴리이미드계 고분자의 농도를 조정하여 폴리이미드계 고분자 바니시를 얻을 수도 있다. 바람직한 폴리이미드계 고분자 바니시 중의 고형분 농도는, 10~25질량%이다.Further, a polyimide-based polymer varnish can be obtained by further adding a solvent B to the obtained polyimide-based polymer solution and adjusting the concentration of the polyimide-based polymer. The solid content concentration in the preferable polyimide-based polymer varnish is 10 to 25 mass%.

또한, 폴리이미드계 고분자 바니시로부터 필름을 제조하는 경우, 바니시 중의 고형분의 전량에 대하여, 폴리이미드계 고분자를 30질량% 이상 포함하는 바니시를 사용하면, 후술하는 주성분의 1개가 폴리이미드계 고분자인 폴리이미드계 고분자 필름을 용이하게 얻을 수 있다. 폴리이미드계 고분자의 농도는, 바니시의 전체 질량을 기준으로 10질량% 이상이 바람직하고, 13질량% 이상이 보다 바람직하다.In the case of producing a film from a polyimide-based polymer varnish, when a varnish containing 30 mass% or more of a polyimide-based polymer is used for the entire solid content in the varnish, one of the main components described below is a polyimide- Based polymer film can be easily obtained. The concentration of the polyimide-based polymer is preferably 10% by mass or more, and more preferably 13% by mass or more, based on the total mass of the varnish.

희석은 반응 용기 내에 있어서 행할 수 있고, 반응 용기로부터 회수한 후의 용액에 대하여 행할 수도 있다.The dilution may be performed in the reaction vessel, or may be performed on the solution after recovery from the reaction vessel.

반응 용기 내에 있어서, 이미드화 후의 폴리이미드계 고분자 용매에 대하여 용매 B를 추가하여, 반응 용기 내에 있어서의 폴리이미드계 고분자의 농도를 희석시키면, 다음 발출 공정에서 반응 용기에 남는 고분자의 양을 저감할 수 있어, 고분자의 수율의 향상이 도모된다. 또한, 반응 용기에 남는 고분자의 양이 줄어들면, 이 반응 용기를 이용한 다음 중합 및 이미드화의 반복 공정에 있어서, 얻어지는 폴리이미드계 고분자의 착색(예를 들면, 황색)이 개선된다.When the concentration of the polyimide-based polymer in the reaction vessel is diluted by adding the solvent B to the imidized polyimide-based polymer solvent in the reaction vessel, the amount of the polymer remaining in the reaction vessel in the next extraction step is reduced And the yield of the polymer can be improved. Further, if the amount of the polymer remaining in the reaction vessel is reduced, the coloration (for example, yellow color) of the obtained polyimide-based polymer is improved in a subsequent step of polymerization and imidization using this reaction vessel.

희석용의 용매 B는, 상기 서술한 용매 A로 든 것으로 할 수 있다. 용매 B와 용매 A는, 동일종이어도 되며, 서로 이종(異種)이어도 된다. 희석용의 용매 B로서, 폴리이미드계 수지에 대한 용해성이 높은 용매를 적절하게 선정함으로써, 반응 용기로부터의 폴리이미드계 고분자의 회수율이 높아진다. 이러한 용매로서, N,N-디메틸아세트아미드, 시클로펜타논(비점 131℃) 등을 들 수 있다.The solvent B for dilution may be the solvent A described above. The solvent B and the solvent A may be the same or different from each other. By appropriately selecting a solvent having high solubility for the polyimide resin as the diluting solvent B, the recovery rate of the polyimide-based polymer from the reaction vessel is increased. As such a solvent, N, N-dimethylacetamide, cyclopentanone (boiling point 131 ° C) and the like can be given.

반응 용기 내에서의 희석을, 다른 종류의 복수의 용매 B를 이용하여 여러번 행할 수도 있다.Dilution in the reaction vessel may be performed several times by using a plurality of different kinds of solvents B. [

(용액의 발출 공정)(Solution extraction step)

계속해서, 반응 용기로부터, 폴리이미드계 고분자 바니시를 발출한다. 발출한 바니시는, 후술하는 필름 형성 공정에 이용할 수 있다.Subsequently, the polyimide-based polymer varnish is withdrawn from the reaction vessel. The varnish thus taken out can be used in a film forming process to be described later.

(용매 C에 의한 반응 용기의 세정)(Cleaning of reaction vessel with solvent C)

계속해서, 발출 후의 반응 용기 내에 용매 C를 공급하여 반응 용기 내에 잔존하는 고분자를 용매 C로 용해시키고, 그 후, 고분자를 용해한 용매 C를 반응 용기로부터 회수하여, 반응 용기 내에 남는 고분자를 더 제거할 수 있다.Subsequently, the solvent C is supplied into the reaction vessel after the extraction to dissolve the polymer remaining in the reaction vessel in the solvent C. Thereafter, the solvent C in which the polymer is dissolved is recovered from the reaction vessel to further remove the polymer remaining in the reaction vessel .

반응 용기의 세정에 의해, 반응 용기에 남는 고분자의 양을 저감할 수 있으며, 이 반응 용기를 이용한 다음 중합 및 이미드화의 반복 공정에 있어서, 얻어지는 폴리이미드계 고분자의 착색(예를 들면, 황색)이 개선된다.The amount of the polymer remaining in the reaction vessel can be reduced by washing the reaction vessel. In the next step of polymerization and imidization using this reaction vessel, the coloration (for example, yellow) of the obtained polyimide- .

용매 C는, 용매 A 및 용매 B로 예시한 것일 수 있다. 용매 C는, 용매 A와 동일종이어도 되며, 용매 A와 이종이어도 된다. 또한, 용매 C는, 용매 B와 동일종이어도 되며, 용매 B와 이종이어도 된다. 적절한 세정용의 용매를 채용함으로써, 반응 용기에 잔존하는 고분자의 양을 저감할 수 있다. 이러한 용매로서는, N,N-디메틸아세트아미드, 시클로펜타논 등을 들 수 있다.Solvent C may be one exemplified by Solvent A and Solvent B. The solvent C may be of the same species as the solvent A and may be different from the solvent A. The solvent C may be of the same species as the solvent B and may be of a different kind from the solvent B. By employing a suitable cleaning solvent, the amount of the polymer remaining in the reaction vessel can be reduced. Examples of such a solvent include N, N-dimethylacetamide and cyclopentanone.

반응 용기에 용매 C를 공급하고, 그 후 회수한 후에, 용매 D를 반응 용기에 공급하여 고분자를 용해시키고, 그 후, 용매 D를 회수하여도 된다. 용매 D에 의한 세정을 여러번 행하여도 된다. 용매 D는, 용매 C와 동종이어도 되며, 용매 C와 달라도 된다.After the solvent C is supplied to the reaction vessel and then recovered, the solvent D may be supplied to the reaction vessel to dissolve the polymer, and then the solvent D may be recovered. The solvent D may be washed several times. The solvent D may be the same as or different from the solvent C.

(반복)(repeat)

세정 후, 세정한 반응 용기를 다시 이용하여, 중합, 이미드화, 희석, 발출하고, 세정의 각 공정을 반복하는 것에 의해, 하나의 반응 용기를 이용하여 효율적이게, 폴리이미드계 고분자 바니시를 제조할 수 있다.After the cleaning, the polyimide-based polymer varnish is efficiently produced by using one reaction vessel by repeating the steps of polymerization, imidization, dilution, extraction, and washing using the washed reaction vessel again .

(용매 C 및 용매 D의 재이용)(Reuse of Solvent C and Solvent D)

상기 서술의 희석 공정에 이용하는 용매 B로서, 반응 용기의 세정에 이용한 용매 C를 이용하는 것이 바람직하다. 용매 B로서, 세정에 이용한 용매 D를 이용할 수도 있다. 희석용의 용매 B로서, 적어도 용매 C를 사용하는 것이 바람직하다. 희석용의 용매 B로서, 고분자를 포함하는 용매 C 등을 이용함으로써, 고분자의 수율을 높게 할 수 있다.As the solvent B used in the dilution process described above, it is preferable to use the solvent C used for washing the reaction vessel. As the solvent B, a solvent D used for cleaning may also be used. As the diluting solvent B, it is preferable to use at least the solvent C. By using a solvent C or the like containing a polymer as the diluting solvent B, the yield of the polymer can be increased.

여기에서, 수율이란, 한번 중합 공정에서의 원료 모노머의 투입량으로부터 산출되는 폴리이미드계 고분자의 이론량(중량)에 대하여, 그 후의 발출 공정에서 실제로 얻어진 폴리이미드 바니시 중의 수지 고형분의 중량이다. 폴리이미드 바니시가 반응 용기의 세정 후의 용매 C를 포함하는 경우, 폴리이미드 바니시 중의 수지 고형분의 중량은, 용매 C에 포함되는 수지 고형분과, 반응 용기 내에서 합성한 폴리이미드 바니시 중의 수지 고형분의 합계량이다.Here, the yield is the weight of the resin solid content in the polyimide varnish actually obtained in the subsequent extraction step, with respect to the theoretical amount (weight) of the polyimide-based polymer calculated from the amount of the raw material monomers charged in the polymerization step once. In the case where the polyimide varnish contains the solvent C after washing the reaction vessel, the weight of the resin solid content in the polyimide varnish is the sum of the resin solid content contained in the solvent C and the resin solid content in the polyimide varnish synthesized in the reaction vessel .

특히 중량 평균 분자량이 250,000 이상의 투명한 폴리이미드계 고분자 바니시의 제조에 있어서는, 얻어진 고분자가 반응 용기에 부착되기 쉬우며, 용액의 발출 후에 고분자가 반응 용기에 남아서 수율이 저하되거나, 반응 용기에 잔존한 고분자가 다음 공정의 폴리이미드의 합성에 있어서 악영향을 끼쳐, 얻어지는 고분자의 황색미가 높아지거나, 얻어지는 고분자에 포함되는 이물이 증가하거나 하는 경우가 있다.Particularly, in the production of a transparent polyimide-based polymer varnish having a weight average molecular weight of 250,000 or more, the obtained polymer tends to adhere to the reaction vessel, and the polymer remains in the reaction vessel after the solution is withdrawn and the yield is lowered. Adversely affects the synthesis of the polyimide in the next step, so that the yellowish color of the obtained polymer may be increased, or the foreign matter contained in the obtained polymer may be increased.

이러한 과제는, 발출 전의 용액의 용매 B에 의한 희석, 및/또는, 용매 C를 이용한 반응 용기의 세정에 의해 해결할 수 있다. 용매 C에 추가하여 용매 D를 이용한 세정을 행하는, 즉, 2종류 이상의 용매에서 여러번 세정함으로써 반응 용기의 세정이 보다 용이하게 되는 경향도 있다.This problem can be solved by diluting the solution before extraction with the solvent B and / or cleaning the reaction vessel using the solvent C. [ There is a tendency that cleaning of the reaction vessel is further facilitated by performing cleaning using solvent D in addition to the solvent C, that is, washing several times in two or more kinds of solvents.

예를 들면, 반응 용기의 세정을 하지 않는, 또는 세정이 불충분한 상황에서, 중합을 반복 행하면, 반응 용기의 벽면에 고분자에 유래하는 부착물이 잔존하여, 폴리이미드계 고분자의 YI값이 높아지는 경우가 있다. 그러한 경우에는, 복수의 용매(용매 C 및 용매 D)에서 세정함으로써, 보다 반응 용기의 세정이 강화되어, YI값의 상승이 억제된다.For example, in the case where the reaction vessel is not cleaned or the polymerization is repeatedly performed in a state where the washing is insufficient, adherence originating from the polymer remains on the wall surface of the reaction vessel and the YI value of the polyimide- have. In such a case, washing in a plurality of solvents (solvent C and solvent D) further strengthens the cleaning of the reaction vessel and suppresses an increase in the YI value.

또한, 상기의 「투명」이란, 바니시에 포함되는 폴리이미드계 고분자가, JIS K7105:1981에 준거하여 막두께 80㎛의 고분자 필름을 작성하여 측정하였을 때의 전광선(全光線) 투과율(Tt)이 85% 이상인 것을 의미한다. 이 전광선 투과율은, 90% 이상인 것이 바람직하다.The above-mentioned " transparent " means that the total light transmittance (Tt) of the polyimide-based polymer contained in the varnish is measured by preparing a polymer film having a thickness of 80 m according to JIS K7105: 1981 85% or more. The total light transmittance is preferably 90% or more.

또한, 상기 중량 평균 분자량은, GPC로 측정한 표준 폴리스티렌 환산 분자량이다.The weight average molecular weight is a standard polystyrene reduced molecular weight measured by GPC.

폴리이미드의 합성에 이용하는 용매 A와, 희석 및 세정에 이용하는 용매 B 및/또는 용매 C는, 같은 용매여도 되지만, 서로 다르면, 반응 용기의 세정도가 개선되어 얻어지는 고분자의 투명성을 개선할 수 있다. 용매 B 및 C로서 바람직한 용매로는, 상기 서술한 바와 같이, N,N-디메틸아세트아미드, 시클로펜타논 등을 들 수 있다. 이들의 용매는, GBL보다도 비점이 낮지만, 폴리이미드계 고분자 바니시의 점도가 저하되므로, 반응 용기로부터의 발출에 유리하게 되므로 바람직하다. 한편, 폴리이미드의 합성에 이용하는 용매 A는, 상기 서술한 바와 같이, 이미드화 반응을 고온으로 행할 경우에는, GBL과 같이 고비점의 용매인 것이 바람직하다.The solvent A used for the synthesis of the polyimide and the solvent B and / or the solvent C used for dilution and washing may be the same solvent, but if different, the degree of polymerization of the reaction vessel is improved and the transparency of the obtained polymer can be improved. As preferred solvents for the solvents B and C, there are N, N-dimethylacetamide, cyclopentanone and the like as described above. These solvents have a boiling point lower than that of GBL, but the viscosity of the polyimide-based polymer varnish is lowered, so that it is advantageous for the removal from the reaction vessel. On the other hand, when the imidization reaction is carried out at a high temperature as described above, the solvent A used in the synthesis of the polyimide is preferably a solvent having a high boiling point such as GBL.

또한, 상기 폴리이미드계 고분자 용액에 용매 이외의 첨가제를 추가하여, 폴리이미드계 고분자 바니시를 조제할 수도 있다. 첨가제의 예로서는, 무기 입자나 자외선 흡수제를 들 수 있다.In addition, a polyimide-based polymer varnish may be prepared by adding an additive other than a solvent to the polyimide-based polymer solution. Examples of the additive include inorganic particles and ultraviolet absorbers.

(무기 입자)(Inorganic particles)

무기 입자의 구체예로서는, 실리카 미립자를 들 수 있다.Specific examples of the inorganic particles include silica fine particles.

본 발명에 있어서 이용되는 무기 입자의 평균 1차 입자경은, 통상 100㎚ 이하이다.The average primary particle diameter of the inorganic particles used in the present invention is usually 100 nm or less.

무기 입자의 평균 1차 입자경이 100㎚ 이하이면 필름의 투명성이 향상되는 경향이 있다. 필름 중의 무기 입자의 1차 입자경의 측정은, 투과형 전자 현미경(TEM)에 의한 정방향경(定方向徑)으로 할 수 있다. 평균 1차 입자경은, 예를 들면, TEM 관찰에 의해 1차 입자경을 10점 측정하고, 그들의 평균값으로서 구할 수 있다.When the average primary particle diameter of the inorganic particles is 100 nm or less, transparency of the film tends to be improved. The primary particle size of the inorganic particles in the film can be measured by a transmission electron microscope (TEM) in a constant direction. The average primary particle size can be determined, for example, by measuring 10 points of the primary particle size by TEM observation and calculating the average value thereof.

무기 입자가 실리카 미립자인 경우, 실리카 미립자는, 유기 용제 등에 실리카 입자를 분산시킨 실리카졸이어도, 기상법으로 제조한 실리카 미립자 분말을 이용하여도 되지만, 핸들링이 용이한 것으로부터 실리카졸인 것이 바람직하다. 원료 실리카 입자의 평균 1차 입자경은, 예를 들면, BET 측정에 의해 구할 수 있다.When the inorganic particles are silica fine particles, the silica fine particles may be either silica sol dispersed silica particles in an organic solvent or the like, or silica fine particle powders prepared by the vapor phase method, but silica sol is preferable because of easy handling. The average primary particle size of the raw silica particles can be determined, for example, by BET measurement.

무기 입자의 첨가량은, 예를 들면, 유연 성형 후의 필름 중의 무기 입자의 농도가 0질량% 이상 90질량% 이하가 되도록, 폴리이미드계 고분자 용액 중의 수지 성분의 양에 맞춰서 설정할 수 있다. 바람직하게는 10질량% 이상 60질량% 이하이며, 더 바람직하게는 20질량% 이상 50질량% 이하이다. 배합비가 상기의 범위 내이면, 광학 필름의 투명성 및 기계적 강도를 양립시키기 쉬운 경향이 있다.The addition amount of the inorganic particles can be set, for example, in accordance with the amount of the resin component in the polyimide-based polymer solution so that the concentration of the inorganic particles in the film after the molding is 0 mass% or more and 90 mass% or less. Preferably 10 mass% or more and 60 mass% or less, and more preferably 20 mass% or more and 50 mass% or less. If the compounding ratio is within the above range, the transparency and the mechanical strength of the optical film tends to be compatible with each other.

(자외선 흡수제)(Ultraviolet absorber)

자외선 흡수제는, 수지 재료의 분야에서 자외선 흡수제로서 통상 이용되고 있는 것에서, 적절히 선택할 수 있다. 자외선 흡수제는, 400㎚ 이하의 파장의 광을 흡수하는 화합물에서, 용도에 따른 광흡수 능력의 요구 특성에 따라, 자외선 흡수제의 종류 및 첨가량을 정할 수 있다. 자외선 흡수제로서는, 예를 들면, 벤조페논계 화합물, 살리실레이트계 화합물, 벤조트리아졸계 화합물, 및 트리아진계 화합물로 이루어지는 군에서 선택되는 적어도 1종류의 화합물을 들 수 있다. 자외선 흡수제는, 벤조트리아졸계 화합물인 것이 바람직하다.The ultraviolet absorber is suitably selected because it is commonly used as an ultraviolet absorber in the field of resin materials. The ultraviolet absorber is a compound which absorbs light having a wavelength of 400 nm or less, and the kind and amount of the ultraviolet absorber can be determined according to the required properties of the light absorptive capacity depending on the application. Examples of the ultraviolet absorber include at least one compound selected from the group consisting of a benzophenone compound, a salicylate compound, a benzotriazole compound, and a triazine compound. The ultraviolet absorber is preferably a benzotriazole-based compound.

또한, 본 실시형태에 있어서, 「계 화합물」이란, 당해 「계 화합물」이 붙여지는 화합물의 유도체를 가리킨다. 예를 들면, 「벤조페논계 화합물」이란, 모체 골격으로서의 벤조페논과, 벤조페논에 결합하고 있는 치환기를 가지는 화합물을 가리킨다.In the present embodiment, the term "system compound" refers to a derivative of a compound to which the "system compound" is attached. For example, the "benzophenone compound" refers to a compound having a substituent bonded to benzophenone and benzophenone as a matrix skeleton.

(다른 첨가제)(Other additives)

폴리이미드계 고분자 용액에, 투명성 및 굴곡성을 손상하지 않는 범위에서, 추가로 다른 첨가제를 추가하여도 된다. 다른 성분으로서는, 예를 들면, 산화방지제, 이형(離型)제, 안정제, 블루잉제 등의 착색제, 난연제, 활제, 증점제 및 레벨링제 등을 들 수 있다.To the polyimide-based polymer solution, other additives may be further added within a range that does not impair transparency and flexibility. Examples of the other components include antioxidants, releasing agents, stabilizers, coloring agents such as bluing agents, flame retardants, lubricants, thickeners and leveling agents.

무기 입자 이외의 첨가 성분의 총량은, 유연 성형 후의 필름 중의 농도가 0% 이상 20질량% 이하가 되도록, 바람직하게는 0% 초과 10질량% 이하가 되도록, 적절히 설정할 수 있다.The total amount of the additive components other than the inorganic particles can be appropriately set so that the concentration in the film after the molding is from 0% to 20% by mass, preferably from more than 0% to 10% by mass or less.

(중합 및 이미드화에 의해 얻어지는 폴리이미드계 고분자)(A polyimide-based polymer obtained by polymerization and imidization)

본 실시형태에 있어서, 폴리이미드란, 이미드기를 포함하는 반복 구조 단위를 함유하는 중합체이며, 폴리아미드란, 아미드기를 포함하는 반복 구조 단위를 함유하는 중합체이다. 폴리이미드계 고분자란, 폴리이미드; 이미드기 및 아미드기의 양방을 포함하는 반복 구조 단위를 함유하는 중합체; 및, 이미드기를 포함하는 반복 구조 단위와 아미드기를 포함하는 반복 구조 단위의 양방을 함유하는 중합체를 나타낸다.In the present embodiment, the polyimide is a polymer containing a repeating structural unit containing an imide group, and the polyamide is a polymer containing a repeating structural unit containing an amide group. The polyimide-based polymer includes polyimide; A polymer containing repeating structural units including both an imide group and an amide group; And a polymer containing both a repeating structural unit including an imide group and a repeating structural unit including an amide group.

중합 및 이미드화에 의해 얻어지는 폴리이미드계 고분자는, 하기의 식 (10)으로 나타나는 반복 구조 단위를 가진다. 여기에서, G는 4가의 유기기이며, A는 2가의 유기기이다. G 및/또는 A가 다른, 2종류 이상의 식 (10)으로 나타나는 구조를 포함하고 있어도 된다. 또한, 본 실시형태와 관련되는 폴리이미드계 고분자는, 얻어지는 폴리이미드계 고분자 필름의 각종 물성을 해치지 않는 범위에서, 식 (11), 식 (12), 및 식 (13)으로 나타나는 구조의 어느 하나 이상을 포함하고 있어도 된다.The polyimide-based polymer obtained by polymerization and imidization has a repeating structural unit represented by the following formula (10). Here, G is a tetravalent organic group and A is a divalent organic group. G, and / or A may include two or more kinds of structures represented by formula (10). The polyimide-based polymer according to the present embodiment may be any one of the structures represented by the formulas (11), (12) and (13) within the range of not impairing various physical properties of the obtained polyimide- Or more.

본 실시형태와 관련되는 폴리이미드계 고분자는, 후술하는 테트라카르본산 화합물과 디아민 화합물을 주된 원료로서 제조할 수 있으며, 식 (10)으로 나타나는 반복 구조 단위가, 폴리이미드계 고분자의 주된 구조 단위이면, 필름의 강도 및 투명성의 관점에서 바람직하다. 식 (10)으로 나타나는 반복 구조 단위는, 폴리이미드계 고분자의 전체 반복 구조 단위에 대하여, 바람직하게는 40몰% 이상이며, 보다 바람직하게는 50몰% 이상이며, 더 바람직하게는 70몰% 이상이며, 특히 바람직하게는 90몰% 이상이며, 특히 더 바람직하게는 98몰% 이상이다. 식 (10)으로 나타나는 반복 구조 단위는, 100몰%이어도 된다.The polyimide-based polymer according to the present embodiment can be produced as a main raw material of a tetracarboxylic acid compound and a diamine compound described later. When the repeating structural unit represented by the formula (10) is a main structural unit of the polyimide-based polymer , In view of the strength and transparency of the film. The repeating structural unit represented by the formula (10) is preferably at least 40 mol%, more preferably at least 50 mol%, still more preferably at least 70 mol%, based on the total repeating structural units of the polyimide polymer , Particularly preferably 90 mol% or more, and even more preferably 98 mol% or more. The repeating structural unit represented by the formula (10) may be 100 mol%.

[화학식 5][Chemical Formula 5]

Figure pct00005
Figure pct00005

[화학식 6][Chemical Formula 6]

Figure pct00006
Figure pct00006

[화학식 7](7)

Figure pct00007
Figure pct00007

[화학식 8][Chemical Formula 8]

Figure pct00008
Figure pct00008

G 및 G1은 4가의 유기기이며, 바람직하게는 탄화수소기 또는 불소 치환된 탄화수소기로 치환되어 있어도 되는 유기기이며, 이하의 식 (20), 식 (21), 식 (22), 식 (23), 식 (24), 식 (25), 식 (26), 식 (27), 식 (28) 또는 식 (29)로 나타나는 기 및 4가의 탄소수 6 이하의 쇄식 탄화수소기가 예시된다. 식 중의 *는 결합손을 나타내고, Z는, 단결합, -O-, -CH2-, -CH2-CH2-, -CH(CH3)-, -C(CH3)2-, -C(CF3)2-, -Ar-, -SO2-, -CO-, -O-Ar-O-, -Ar-O-Ar-, -Ar-CH2-Ar-, -Ar-C(CH3)2-Ar- 또는 -Ar-SO2-Ar-을 나타낸다. Ar은 불소 원자로 치환되어 있어도 되는 탄소수 6~20의 아릴렌기를 나타내고, 구체예로서는 페닐렌기를 들 수 있다. 얻어지는 필름의 황색도를 억제하기 쉬운 것으로부터, 식 (20)~식 (27)로 나타나는 기가 바람직하다.G and G 1 are each a tetravalent organic group and are preferably organic groups which may be substituted with a hydrocarbon group or a fluorine-substituted hydrocarbon group and are represented by the following formulas (20), (21), (22) ) And a tetravalent chain hydrocarbon group having 6 or less carbon atoms represented by the formula (24), (25), (26), (27), (28) or (29) Z represents a single bond, -O-, -CH 2 -, -CH 2 -CH 2 -, -CH (CH 3 ) -, -C (CH 3 ) 2 -, - -O-Ar-, -Ar-CH 2 -Ar-, -Ar-C (CF 3 ) 2 -, -Ar-, -SO 2 -, -CO-, -O-Ar-O-, (CH 3 ) 2 -Ar- or -Ar-SO 2 -Ar-. Ar represents an arylene group having 6 to 20 carbon atoms which may be substituted with a fluorine atom, and specific examples thereof include a phenylene group. The groups represented by formulas (20) to (27) are preferable because the yellowing degree of the resulting film is easily suppressed.

[화학식 9][Chemical Formula 9]

Figure pct00009
Figure pct00009

G2는 3가의 유기기이며, 바람직하게는 탄화수소기 또는 불소 치환된 탄화수소기로 치환되어 있어도 되는 유기기이다. G2의 유기기로서, 상기의 식 (20), 식 (21), 식 (22), 식 (23), 식 (24), 식 (25), 식 (26), 식 (27), 식 (28) 또는 식 (29)로 나타나는 기의 결합손의 어느 하나가 수소 원자로 치환된 기 및 3가의 탄소수 6 이하의 쇄식 탄화수소기가 예시된다.G 2 is a trivalent organic group and is preferably an organic group which may be substituted with a hydrocarbon group or a fluorine-substituted hydrocarbon group. As the organic group of G 2, of the formula 20, formula 21, formula 22, formula 23, formula 24, formula 25, formula 26, formula 27, formula A group in which one of the bonding hands of the group represented by the formula (28) or (29) is substituted with a hydrogen atom and a trivalent chain hydrocarbon group having a carbon number of 6 or less are exemplified.

G3은 2가의 유기기이며, 바람직하게는 탄화수소기 또는 불소 치환된 탄화수소기로 치환되어 있어도 되는 유기기이다. G3의 유기기로서, 상기의 식 (20), 식 (21), 식 (22), 식 (23), 식 (24), 식 (25), 식 (26), 식 (27), 식 (28) 또는 식 (29)로 나타나는 기의 결합손 중, 인접하지 않는 2개가 수소 원자로 치환된 기 및 탄소수 6 이하의 2가의 쇄식 탄화수소기가 예시된다.G 3 is a divalent organic group and is preferably an organic group which may be substituted with a hydrocarbon group or a fluorine-substituted hydrocarbon group. As the organic group of G 3, of the formula 20, formula 21, formula 22, formula 23, formula 24, formula 25, formula 26, formula 27, formula A group in which two nonadjacent groups are substituted with a hydrogen atom and a divalent chain hydrocarbon group having a carbon number in a range of 6 or less are exemplified among the bonds of the groups represented by formulas (28) and (29).

A, A1, A2 및 A3은 모두 2가의 유기기이다. 바람직하게는 탄화수소기 또는 불소 치환된 탄화수소기로 치환되어 있어도 되는 유기기이며, 이하의 식 (30), 식 (31), 식 (32), 식 (33), 식 (34), 식 (35), 식 (36), 식 (37) 혹은 식 (38)로 나타나는 기; 그들이 메틸기, 플루오로기, 클로로기 또는 트리플루오로메틸기로 치환된 기; 및 탄소수 6 이하의 쇄식 탄화수소기가 예시된다.A, A 1 , A 2 and A 3 are all bivalent organic groups. (30), (31), (32), (33), (34) and (35) below, which may be substituted with a hydrocarbon group or a fluorine- , Equation (36), equation (37) or equation (38); A group substituted by a methyl group, a fluoro group, a chloro group or a trifluoromethyl group; And a chain hydrocarbon group having 6 or less carbon atoms.

식 중의 *는 결합손을 나타내고, Z1, Z2 및 Z3은, 각각 독립하여, 단결합, -O-, -CH2-, -CH2-CH2-, -CH(CH3)-, -C(CH3)2-, -C(CF3)2-, -SO2- 또는 -CO-를 나타낸다. 하나의 예로는, Z1 및 Z3이 -O-이며, 또한, Z2가 -CH2-, -C(CH3)2-, -C(CF3)2- 또는 -SO2-이다. Z1과 Z2, 및, Z2와 Z3은, 각각, 각 환에 대하여 메타 위치 또는 파라 위치인 것이 바람직하다.Z 1 , Z 2 and Z 3 each independently represent a single bond, -O-, -CH 2 -, -CH 2 -CH 2 -, -CH (CH 3 ) -, , -C (CH 3) 2 - , -C (CF 3) 2 - or denotes a -CO- -, -SO 2. As one example, Z 1 and Z 3 are -O- and Z 2 is -CH 2 -, -C (CH 3 ) 2 -, -C (CF 3 ) 2 - or -SO 2 -. Z 1 and Z 2 , and Z 2 and Z 3 are each preferably a meta position or a para position with respect to each ring.

[화학식 10][Chemical formula 10]

Figure pct00010
Figure pct00010

식 (10) 및 식 (11)로 나타나는 반복 구조 단위는, 통상, 디아민류 및 테트라카르본산 화합물로부터 유도된다. 식 (12)로 나타나는 반복 구조 단위는, 통상, 디아민 및 트리카르본산 화합물로부터 유도된다. 식 (13)으로 나타나는 반복 구조 단위는, 통상, 디아민 및 디카르본산 화합물로부터 유도된다.The repeating structural units represented by formulas (10) and (11) are usually derived from diamines and tetracarboxylic acid compounds. The repeating structural unit represented by the formula (12) is usually derived from a diamine and a tricarboxylic acid compound. The repeating structural unit represented by the formula (13) is usually derived from a diamine and a dicarboxylic acid compound.

본 실시형태와 관련되는 폴리이미드계 고분자는, 다른 종류의 복수의 상기의 반복 구조 단위를 포함하는 공중합체여도 된다. 폴리이미드계 고분자의 중량 평균 분자량은, 통상 50,000~500,000이다. 폴리이미드계 고분자의 중량 평균 분자량은, 바람직하게는 80,000~500,000이며, 보다 바람직하게는 100,000~500,000이며, 더 바람직하게는 130,000~400,000이다. 중량 평균 분자량은, GPC로 측정한 표준 폴리스티렌 환산 분자량이다. 폴리이미드계 고분자의 중량 평균 분자량이 크면 높은 굴곡성이 얻어지기 쉬운 경향이 있지만, 폴리이미드계 고분자의 중량 평균 분자량이 너무 크면, 바니시의 점도가 높아져, 가공성이 저하되는 경향이 있다.The polyimide-based polymer according to the present embodiment may be a copolymer containing a plurality of different repeating structural units. The weight average molecular weight of the polyimide-based polymer is usually 50,000 to 500,000. The weight average molecular weight of the polyimide-based polymer is preferably 80,000 to 500,000, more preferably 100,000 to 500,000, and still more preferably 130,000 to 400,000. The weight average molecular weight is the standard polystyrene reduced molecular weight measured by GPC. If the weight average molecular weight of the polyimide-based polymer is large, high flexibility is likely to be obtained. However, if the weight average molecular weight of the polyimide-based polymer is too large, the viscosity of the varnish tends to be high and the workability tends to be lowered.

폴리이미드계 고분자 및 폴리아미드가 함불소 치환기를 포함하는 것에 의해, 얻어지는 필름의 탄성률이 향상되는 것과 함께, 필름의 YI값이 저감되는 경향이 있다. 필름의 탄성률이 높으면, 상처 및 주름 등의 발생이 억제되는 경향이 있다. 필름의 투명성의 관점에서, 폴리이미드계 고분자 및 폴리아미드는, 함불소 치환기를 가지는 것이 바람직하다. 함불소 치환기의 구체예로서는, 플루오로기 및 트리플루오로메틸기를 들 수 있다.When the polyimide-based polymer and the polyamide contain a fluorine-substituted group, the elastic modulus of the obtained film is improved and the YI value of the film tends to be reduced. If the elastic modulus of the film is high, the occurrence of scratches and wrinkles tends to be suppressed. From the viewpoint of transparency of the film, it is preferable that the polyimide-based polymer and the polyamide have a fluorinated substituent. Specific examples of fluorine-substituted groups include a fluoro group and a trifluoromethyl group.

폴리이미드계 고분자에 있어서의 불소 원자의 함유량은, 폴리이미드계 고분자의 질량을 기준으로 하여, 1질량% 이상, 5질량% 이상, 10질량% 이상, 20질량% 이상일 수 있다. 상한은 40질량% 이하일 수 있다.The content of the fluorine atom in the polyimide-based polymer may be 1% by mass or more, 5% by mass or more, 10% by mass or more and 20% by mass or more based on the mass of the polyimide-based polymer. The upper limit may be 40 mass% or less.

(필름 형성 방법)(Film forming method)

얻어진 폴리이미드 바니시를 이용한 폴리이미드계 고분자 필름의 제조방법의 일례를 설명한다. 기재 상에 폴리이미드계 고분자 바니시를 유연하여 도막을 형성하고, 도막으로부터 용제를 제거하고, 건조한 도막을 기재로부터 박리한다. 이에 의해, 폴리이미드계 고분자 필름이 얻어진다.An example of a method for producing a polyimide-based polymer film using the obtained polyimide varnish will be described. A polyimide-based polymer varnish is plied on the substrate to form a coating film, the solvent is removed from the coating film, and the dried coating film is peeled from the substrate. Thereby, a polyimide-based polymer film is obtained.

유연은, 롤·투·롤이나 배치 방식에 의해, 수지 기재, 스테인리스강 벨트, 또는 글라스 기재 상에 행할 수 있다. 수지 기재의 예로서는, PET, PEN, 폴리이미드, 폴리아미드이미드 등을 들 수 있다. 수지 기재는 내열성이 우수한 수지가 바람직하다.Flexing can be performed on a resin substrate, a stainless steel belt, or a glass substrate by a roll-to-roll method or a batch method. Examples of the resin substrate include PET, PEN, polyimide, polyamideimide and the like. The resin base material is preferably a resin having excellent heat resistance.

폴리이미드계 고분자 필름의 경우, PET 기재가 필름과의 밀착성 및 비용의 관점에서 바람직하다.In the case of a polyimide-based polymer film, the PET substrate is preferable from the viewpoint of adhesiveness with the film and cost.

상기의 본 발명의 제조방법으로 얻어지는 바니시는, 정제 공정을 거치지 않고 필름화하여도 양호한 물성의 필름이 얻어진다. 이 때문에, 폴리이미드계 고분자를 일단 고체로서 석출시키고 그 후 용제에서 재용해하는 정제 공정을 거치지 않고 필름화하는 것이 바람직하다. 이에 의해, 비용면에서 유리한 프로세스가 된다.The varnish obtained by the production method of the present invention can obtain a film having good physical properties even if it is made into a film without going through a purification step. For this reason, it is preferable that the polyimide-based polymer is firstly deposited as a solid and then film-formed without going through a purification step of re-dissolving in a solvent. Thereby, the process becomes advantageous in terms of cost.

본 발명의 폴리이미드계 필름의 제조방법에서는, 가온한 기체를 도막의 표면에 접촉시키는 건조기에 도막을 통과시키는 등하여, 일정량의 유기 용매를 휘발시켜, 도막을 자기(自己) 지지성 필름으로 하여 지지체로부터 박리하여 얻어도 된다. 실시 온도는 이용하는 기재에 의해 조절되며, 수지 기재를 이용하는 경우에는 그들의 글라스 전이 온도 이하로 행해지는 것이 일반적이다. 통상, 50℃~300℃의 적절한 온도로 가열하면 되고, 가열 온도는 다단계로 조절하거나, 온도 구배를 가지게 하거나 하여도 된다. 적절히, 불활성 분위기 혹은 감압의 조건하에서 행하는 것도 바람직하다.In the method for producing a polyimide film of the present invention, a predetermined amount of organic solvent is volatilized by passing a coated film through a dryer in which warmed gas is brought into contact with the surface of the coated film, and the coated film is made into a self- Or may be obtained by peeling from a support. The operating temperature is controlled by the substrate to be used, and in the case of using a resin substrate, it is generally carried out at a temperature lower than the glass transition temperature thereof. Usually, it is sufficient to heat to a suitable temperature of 50 ° C to 300 ° C, and the heating temperature may be controlled in multiple steps or have a temperature gradient. Suitably, it is also preferably carried out under an inert atmosphere or under reduced pressure.

또한, 필요에 따라, 박리된 폴리이미드계 고분자 필름을 추가로 80~300℃로 가열하여도 된다.If necessary, the peeled polyimide-based polymer film may be further heated to 80 to 300 占 폚.

(폴리이미드계 고분자 필름)(Polyimide-based polymer film)

이와 같이 하여 얻어지는 폴리이미드계 고분자 필름은 상기 폴리이미드계 고분자 바니시 중의 고형분에 의해 형성되며, 주성분의 1개가 폴리이미드계 고분자이다. 폴리이미드계 고분자는, 폴리이미드계 고분자 필름의 전량에 대하여, 30질량% 이상인 것이 바람직하다. 폴리이미드계 고분자 필름에는, 상기 실리카 미립자, 상기 자외선 흡수제 및/또는 상기 첨가제가 포함되어 있어도 된다. 폴리이미드계 고분자의 농도는, 폴리이미드계 고분자 필름의 전체 질량을 기준으로 10질량% 이상이 바람직하고, 13질량% 이상이 보다 바람직하다.The polyimide-based polymer film thus obtained is formed of the solid component in the polyimide-based polymer varnish, and one of the main components is a polyimide-based polymer. The polyimide-based polymer is preferably 30 mass% or more based on the total amount of the polyimide-based polymer film. The polyimide-based polymer film may contain the fine silica particles, the ultraviolet absorbent and / or the additive. The concentration of the polyimide-based polymer is preferably 10% by mass or more, and more preferably 13% by mass or more, based on the total mass of the polyimide-based polymer film.

폴리이미드계 고분자 필름은, 제 3급 아민을 포함한다. 제 3급 아민의 종류의 바람직한 예는, 상기의 (제 3급 아민)의 항에 기재된대로이다. 얻어지는 폴리이미드계 고분자 필름의 내절성이 향상되는 관점에서는, 폴리이미드계 고분자 필름 중의 제 3급 아민의 함유량은 적은 것이 바람직하다. 상기 제 3급 아민의 함유량은 바람직하게는 0.25질량% 이하이며, 보다 바람직하게는 0.20질량% 이하이며, 더 바람직하게는 0.15질량% 이하이다. 함유량을 적게 함으로써, 필름의 착색도 억제되는 경향이 있다.The polyimide-based polymer film contains a tertiary amine. Preferred examples of tertiary amines are as described in (tertiary amines) above. From the viewpoint of improving the endurance of the obtained polyimide-based polymer film, the content of the tertiary amine in the polyimide-based polymer film is preferably small. The content of the tertiary amine is preferably 0.25 mass% or less, more preferably 0.20 mass% or less, and further preferably 0.15 mass% or less. By decreasing the content, the coloration of the film tends to be suppressed.

한편, 폴리이미드계 필름의 적층체를 작성하여 각종 용도에 응용할 때, 자외선 투과를 억제할 수 있다고 하는 관점에서는 제 3급 아민이 포함되어 있는 것이 바람직하다. 상기 제 3급 아민의 함유량은 바람직하게는 0.01질량% 이상이며, 보다 바람직하게는 0.02질량% 이상이며, 더 바람직하게는 0.05질량% 이상이다.On the other hand, when a laminate of a polyimide-based film is prepared and applied to various applications, it is preferable that a tertiary amine is contained in order to suppress ultraviolet transmission. The content of the tertiary amine is preferably 0.01 mass% or more, more preferably 0.02 mass% or more, and still more preferably 0.05 mass% or more.

폴리이미드계 고분자 필름의 두께는, 10~200㎛로 할 수 있다.The thickness of the polyimide-based polymer film may be 10 to 200 mu m.

본 실시형태에 의해 얻어지는 폴리이미드계 고분자 필름은, R=1㎜의 내절성 시험에 있어서 5000회 이상의 절곡 횟수를 나타내는 것이 가능하다. 폴리이미드계 고분자 바니시의 제조 조건을 최적화함으로써, 6000회 이상, 8000회 이상, 10000회 이상, 20000회 이상의 절곡 횟수를 나타내는 필름을 얻는 것도 가능하다. R=1㎜의 내절성 시험이란, 10㎜×100㎜의 단책상(短冊狀)으로 커트한 필름의 중앙을, 곡률 반경 1.0㎜로, 절곡 각도 135°, 하중 750g, 시험 속도 175cpm으로, 표리 양방향으로 번갈아 절곡하였을 때에, 파단했을 때의 절곡 횟수이다.The polyimide-based polymer film obtained by this embodiment can exhibit a bending number of times of 5,000 times or more in an endurance test of R = 1 mm. It is also possible to obtain a film exhibiting a number of bending times of 6,000 or more, 8,000 or more, 10,000 times or more, and 20,000 times or more by optimizing the production conditions of the polyimide-based polymer varnish. The endurance test of R = 1 mm is a test where the center of a film cut into a 10 mm x 100 mm short strip is measured with a radius of curvature of 1.0 mm, a bending angle of 135, a load of 750 g, This is the number of times of bending when bent alternately in both directions.

본 실시형태에 의해 얻어지는 폴리이미드계 고분자 필름은, JIS K7373:2006에 준거한 황색도 YI를 충분히 억제할 수 있으며, 황색도 YI를 2.5 이하, 2.4 이하, 2.3 이하, 2.2 이하로 할 수 있다. 필름화 시의 온도 등의 합성 조건을 최적화함으로써, 2.1 이하, 2.0 이하, 1.9 이하, 1.8 이하로 할 수 있다.The polyimide-based polymer film obtained by the present embodiment can sufficiently suppress the yellowness YI according to JIS K7373: 2006, and the yellowness YI can be 2.5 or less, 2.4 or less, 2.3 or less, 2.2 or less. It can be set to 2.1 or less, 2.0 or less, 1.9 or less, or 1.8 or less by optimizing the synthesis conditions such as the temperature at the time of film formation.

본 실시형태에 의해 얻어지는 폴리이미드계 고분자 필름은 투명하다. 구체적으로는, 이 폴리이미드계 고분자 필름은, JIS K7105:1981에 준거하여 측정한 전광선 투과율(Tt)이 85% 이상일 수 있으며, 90% 이상인 것이 바람직하다.The polyimide-based polymer film obtained by this embodiment is transparent. Specifically, the polyimide-based polymer film may have a total light transmittance (Tt) measured according to JIS K7105: 1981 of 85% or more, preferably 90% or more.

보다 바람직하게는 91% 이상이며, 더 바람직하게는 92% 이상이다. 또한, 폴리이미드계 고분자 필름은, JIS K 7105:1981에 준거하여 측정한 Haze가 1% 이하일 수 있으며, 바람직하게는 0.8% 이하이다. 보다 바람직하게는 0.5% 이하이며, 더 바람직하게는 0.3% 이하이다., More preferably not less than 91%, and even more preferably not less than 92%. In addition, the polyimide-based polymer film may have a haze measured according to JIS K 7105: 1981 of 1% or less, preferably 0.8% or less. Or less, more preferably 0.5% or less, and still more preferably 0.3% or less.

본 실시형태에 의해 얻어지는 폴리이미드계 고분자 필름은, 함불소 치환기를 포함하는 것에 의해 특히 착색이 저감되는 경우가 있다. 폴리이미드계 고분자에 있어서의 불소 원자의 함유량은, 폴리이미드계 고분자의 질량을 기준으로 하여, 1질량% 이상, 5질량% 이상, 10질량% 이상, 20질량% 이상일 수 있다. 상한은 40질량% 이하일 수 있다.The coloring of the polyimide-based polymer film obtained by the present embodiment may be reduced particularly by containing a fluorine-containing substituent. The content of the fluorine atom in the polyimide-based polymer may be 1% by mass or more, 5% by mass or more, 10% by mass or more and 20% by mass or more based on the mass of the polyimide-based polymer. The upper limit may be 40 mass% or less.

(용도)(Usage)

이러한 광학 필름은, 높은 내절성을 가지는데다 광학 특성(황색도, Tt, Haze)이 양호하므로, 플렉시블 디바이스의 전면판 등의 광학 부재로서 적합하게 사용할 수 있다.Such an optical film can be suitably used as an optical member such as a front plate of a flexible device because it has high endurance and good optical characteristics (yellow tint, Tt, haze).

플렉시블 디바이스의 예로서는, 화상 표시장치(플렉시블 디스플레이, 전자 페이퍼 등), 태양 전지 등을 들 수 있다. 플렉시블 디스플레이는, 예를 들면, 표면측으로부터 순서대로, 전면판/편광판 보호 필름/편광판/편광판 보호 필름/터치 센서 필름/유기 EL 소자층/TFT 기판이라고 하는 구성을 들 수 있으며, 구성의 표면 및 각 층 사이에, 하드 코팅층, 점착층, 접착층, 위상차층 등을 포함하여도 된다. 이러한 플렉시블 디스플레이는, 태블릿 PC, 스마트폰, 휴대 게임기 등의 화상 표시부로서 이용할 수 있다.Examples of the flexible device include an image display device (a flexible display, an electronic paper, etc.), a solar cell, and the like. The flexible display includes, for example, a front plate / a polarizing plate protective film / a polarizing plate / a polarizing plate protective film / a touch sensor film / an organic EL element layer / a TFT substrate in this order from the front side. A hard coating layer, an adhesive layer, an adhesive layer, a retardation layer, and the like may be included between the respective layers. Such a flexible display can be used as an image display unit of a tablet PC, a smart phone, a portable game machine or the like.

또한, 이 광학 필름의 표면에, 자외선 흡수층, 하드 코팅층, 점착층, 색상 조정층, 굴절률 조정층 등의 다양한 기능층을 부가한 적층체로 할 수도 있다.Further, a multilayer body in which various functional layers such as an ultraviolet absorbing layer, a hard coating layer, an adhesive layer, a color adjusting layer, and a refractive index adjusting layer are added to the surface of the optical film may be used.

실시예Example

(내절성의 평가)(Evaluation of bending resistance)

실시예 및 비교예에서 얻어진 폴리이미드계 고분자 필름의 내절성은, 이하의 기준으로 평가하였다. 필름을, 덤벨 커터를 이용하여 10㎜×100㎜의 단책상으로 커트하였다. 커트한 필름을 도요정기사제의 MIT-DA MIT 내절 피로 시험기에 세트하고, 시험 속도 175cpm, 절곡 각도 135°, 하중 750g, 절곡 클램프의 R=1.0㎜의 조건으로, 표리 양방향으로 절곡하고, 파단될 때까지의 절곡 횟수를 측정하였다.The bending resistance of the polyimide-based polymer films obtained in Examples and Comparative Examples was evaluated based on the following criteria. The film was cut with a dumbbell cutter into a 10 mm x 100 mm stage. The cut film was set in an MIT-DA MIT internal fatigue tester manufactured by Toyo Seiki Seisakusho Co., Ltd. and bent in both the front and back directions under the condition of a test speed of 175 cpm, a bending angle of 135 DEG, a load of 750 g, and a bending clamp R of 1.0 mm, The number of bending times until the bending was measured.

(전광선 투과율 Tt의 측정)(Measurement of total light transmittance Tt)

실시예 및 비교예에서 얻어진 폴리이미드계 고분자 필름의 각각의 전광선 투과율을, JIS K7105:1981에 준거하여, 스가시험기사제의 전(全)자동 직독 헤이즈 컴퓨터 HGM-2DP에 의해 측정하였다.The total light transmittance of the polyimide-based polymer films obtained in the examples and comparative examples was measured according to JIS K7105: 1981, using a fully automatic Hayes machine HGM-2DP manufactured by Suga Tester.

(Haze의 측정)(Haze measurement)

실시예 및 비교예에서 얻어진 폴리이미드계 고분자 필름의 각각의 전광선 투과율을, JIS K7105:1981에 준거하여, 스가시험기사제의 전자동 직독 헤이즈 컴퓨터 HGM-2DP에 의해 측정하였다.The total light transmittance of each of the polyimide polymer films obtained in Examples and Comparative Examples was measured according to JIS K7105: 1981 by means of a fully automatic Hayes computer HGM-2DP manufactured by Suga Tester.

(황색도(YI값)의 측정)(Measurement of yellowness value (YI value)) [

실시예 및 비교예에서 얻어진 폴리이미드계 고분자 필름의 각각의 황색도(Yellow Index:YI값)를, 일본분광사제의 자외가시근적외 분광 광도계 V-670에 의해 측정하였다. 샘플이 없는 상태에서 백그라운드 측정을 행한 후, 폴리이미드계 필름을 샘플 홀더에 세트하고, 300~800㎚의 광에 대한 투과율 측정을 행하여, 3자극값(X, Y, Z)을 구하였다. YI값을, 하기의 식에 의거하여 산출하였다.The yellow index (YI value) of each of the polyimide-based polymer films obtained in Examples and Comparative Examples was measured by an infrared spectrophotometer V-670 manufactured by Nippon Bunko K.K. After the background measurement was performed in the absence of the sample, the polyimide-based film was set in the sample holder, and the transmittance was measured with respect to the light of 300 to 800 nm to obtain the tristimulus values (X, Y, Z). The YI value was calculated based on the following equation.

YI=100×(1.2769X-1.0592Z)/Y YI = 100 x (1.2769X-1.0592Z) / Y

(중량 평균 분자량의 평가)(Evaluation of weight average molecular weight)

겔침투 크로마토그래피(GPC)측정Gel Permeation Chromatography (GPC) measurement

(1) 전(前)처리방법(1) Pre-processing method

시료를 γ-부티로락톤(GBL)에 녹여서 20% 용액으로 한 후, DMF 용리액으로 100배로 희석하고, 0.45㎛ 멤브레인 필터 여과한 것을 측정 용액으로 하였다.The sample was dissolved in? -Butyrolactone (GBL) to prepare a 20% solution. The sample was diluted 100 times with DMF eluant and filtered through a 0.45 占 퐉 membrane filter to obtain a measurement solution.

(2) 측정 조건(2) Measurement conditions

칼럼 : TSKgel SuperAWM-H×2+SuperAW2500×1(6.0㎜ I.D.×150㎜×3개) Column: TSKgel SuperAWM-H x 2 + SuperAW 2500 x 1 (6.0 mm I.D. x 150 mm x 3)

용리액 : DMF(10mM의 브롬화리튬 첨가) Eluent: DMF (10 mM lithium bromide added)

유량 : 0.6㎖/min. Flow rate: 0.6 ml / min.

검출기 : RI 검출기 Detector: RI detector

칼럼 온도 : 40℃ Column temperature: 40 DEG C

주입량 : 20㎕ Injection amount: 20 μl

분자량 표준 : 표준 폴리스티렌 Molecular weight standard: Standard polystyrene

(필름의 잔존 촉매의 농도의 평가)(Evaluation of concentration of residual catalyst in film)

이하의 조건으로 GC 측정을 행하여, 제 3급 아민의 정량을 행하였다.GC measurement was conducted under the following conditions to quantify the tertiary amine.

용액 조제 : 100㎎의 필름을 스크루관에 칭량하고, 5㎖의 DMSO를 추가하여 용해한다.Solution preparation: 100 mg of the film is weighed into a screw tube and dissolved by addition of 5 ml of DMSO.

장치 : Agilent사제 6890형(型), 칼럼 : BPX-5(0.25㎜×30m, 막두께:0.25㎛), 칼럼 온도 : 50℃(5min)→20℃/min→350℃(5min), 주입구 온도 : 280℃, 유량 : He를 1.0㎖/분, 검출기 : FID, 검출기 온 : 350℃, 시료 주입량 : 1.0㎕, 스플릿비 : 50:1, 시린지 세정 용매 : DMSO, 시린지 세정 용매 : A:3회, B:3회50 占 폚 (5 min)? 20 占 폚 / min? 350 占 폚 (5 min), column temperature BPX-5 (0.25 mm 占 30 m, film thickness 0.25 占 퐉) DMSO, syringe cleaning solvent A: 3 times (volume): 280 占 폚, flow rate: He at 1.0 ml / min, detector: FID, detector ON: 350 占 폚, sample injection amount: 1.0 占 퐇, split ratio: , B: 3 times

(실시예 1)(Example 1)

(폴리이미드 바니시의 제조)(Preparation of polyimide varnish)

질소분위기 하, 용매 트랩 및 필터를 부착한 진공 펌프가 접속된 반응 용기에, 1.25g의 이소퀴놀린을 투입하였다. 다음으로, 반응 용기에 γ-부티로락톤(GBL) 375.00g, 2,2'-비스(트리플루오로메틸)-4,4'-디아미노디페닐(TFMB) 104.12g을 투입하고, 교반하여 완전 용해시켰다. 추가로 4,4'-(헥사플루오로이소프로필리덴)디프탈산 2무수물(6FDA)을 145.88g 추가한 후, 교반하면서 오일 배스에서 승온을 개시하였다. 추가한 TFMB와 6FDA의 몰비는, 6FDA:TFMB가 1.00:0.99이며, 액 중의 모노머 농도가 40wt%였다. 원료 모노머 100질량부에 대한 3급 아민의 질량부는 0.5가 된다. 내부 온도가 80℃에 도달한 시점에서 650mmHg까지 감압하고, 계속해서 내부 온도 180℃까지 승온하였다. 180℃ 도달 후, 추가로 4시간 가열 교반을 행한 후에 대기압까지 압력을 회복하고, 155℃까지 냉각하여 폴리이미드 용액을 얻었다. 155℃에서 GBL을 추가하여 폴리이미드의 고형분이 24wt%인 균일 용액으로 하고 그 후, 반응 용기로부터 폴리이미드 바니시를 취출하였다.Under a nitrogen atmosphere, 1.25 g of isoquinoline was added to a reaction vessel to which a vacuum pump equipped with a solvent trap and a filter was connected. Next, 375.00 g of? -Butyrolactone (GBL) and 104.12 g of 2,2'-bis (trifluoromethyl) -4,4'-diaminodiphenyl (TFMB) were added to the reaction vessel and stirred Completely dissolved. 145.88 g of 4,4 '- (hexafluoroisopropylidene) diphthalic acid dianhydride (6FDA) was further added, and then the temperature in the oil bath was elevated with stirring. The molar ratio of the added TFMB to 6FDA was 6FDA: TFMB was 1.00: 0.99, and the monomer concentration in the liquid was 40 wt%. The mass part of the tertiary amine relative to 100 parts by mass of the raw material monomer is 0.5. When the internal temperature reached 80 占 폚, the pressure was reduced to 650 mmHg, and then the internal temperature was raised to 180 占 폚. After reaching 180 ° C, the mixture was further heated and stirred for 4 hours, then the pressure was restored to atmospheric pressure, and the solution was cooled to 155 ° C to obtain a polyimide solution. GBL was added at 155 캜 to obtain a uniform solution having a solid content of polyimide of 24 wt%, and then polyimide varnish was taken out from the reaction vessel.

(폴리이미드 필름의 제조)(Production of polyimide film)

얻어진 폴리이미드 바니시 200.00g에 GBL 38.31g 및 N,N-디메틸아세트아미드(DMAc) 11.82g을 가하여 추가로 희석하였다. 그것을 PET(폴리에틸렌테레프탈레이트) 필름 상에서 유연 성형하여 도막한 후, 50℃로 30분, 140℃로 10분 가열하여 폴리이미드 필름을 얻었다. PET로부터 박리하고 추가로 200℃ 40분 가열함으로써, 막두께 80㎛, Tt 92.6%, Haze 0.1%, 황색도 2.2의 필름을 얻었다.38.31 g of GBL and 11.82 g of N, N-dimethylacetamide (DMAc) were added to 200.00 g of the obtained polyimide varnish and further diluted. The coating film was formed by molding it on a PET (polyethylene terephthalate) film, and then heated at 50 占 폚 for 30 minutes and at 140 占 폚 for 10 minutes to obtain a polyimide film. PET and further heated at 200 캜 for 40 minutes to obtain a film having a thickness of 80 탆, a Tt of 92.6%, a Haze of 0.1% and a yellowness of 2.2.

(실시예 2)(Example 2)

180℃ 도달 후의 액체의 가열 교반 시간을 3시간으로 하는 것 이외에는, 실시예 1과 마찬가지로 하여, Tt 92.7%, Haze 0.1%, 황색도 2.0의 필름을 얻었다.A film having a Tt of 92.7%, a haze of 0.1% and a yellowness of 2.0 was obtained in the same manner as in Example 1 except that the heating and agitation time of the liquid after reaching 180 캜 was changed to 3 hours.

(실시예 3)(Example 3)

이소퀴놀린의 양을 0.75g으로 하는 것 이외에는 실시예 2와 마찬가지로 하여, Tt 92.4%, Haze 0.1%, 황색도 1.8의 필름을 얻었다. 원료 모노머 100질량부에 대한 3급 아민의 질량부는 0.3이 된다.A film having Tt of 92.4%, Haze of 0.1% and yellow of 1.8 was obtained in the same manner as in Example 2 except that the amount of isoquinoline was changed to 0.75 g. The mass part of the tertiary amine relative to 100 parts by mass of the raw material monomer is 0.3.

(비교예 1)(Comparative Example 1)

이소퀴놀린의 양을 2.00g으로 하고, 공정 중 감압을 일체 행하지 않고, 내부 온도가 180℃가 되고 나서 5시간 가열 교반을 행한 것 이외에는 실시예 1과 마찬가지로 하여, Tt 92.5%, Haze 0.1%, 황색도 2.4의 필름을 얻었다. 원료 모노머 100질량부에 대한 3급 아민의 질량부는 0.8이 된다.Except that the amount of isoquinoline was changed to 2.00 g and the inside temperature was changed to 180 deg. C without performing any decompression during the process, and the mixture was heated and stirred for 5 hours. Then, Tt 92.5%, Haze 0.1% The film of Fig. 2.4 was obtained. The mass part of the tertiary amine relative to 100 parts by mass of the raw material monomer is 0.8.

(비교예 2)(Comparative Example 2)

이소퀴놀린의 양을 2.50g으로 하고, γ-부티로락톤(GBL)의 양을 464.29g, TFMB의 양을 103.50g, 6FDA의 양을 146.50g으로 하고, TFMB와 6FDA의 몰비를, 6FDA:TFMB가 1.00:0.98, 액 중의 모노머 농도를 35wt%로 하고, 공정 중 감압을 일체 행하지 않고, 내부 온도가 180℃가 되고 나서 5시간 가열 교반을 행한 것 이외에는 실시예 1과 마찬가지로 하여, Tt 92.5%, Haze 0.1%, 황색도 3.0의 필름을 얻었다. 원료 모노머 100질량부에 대한 3급 아민의 질량부는 1.0이 된다.The amount of isoquinoline was changed to 2.50 g, the amount of γ-butyrolactone (GBL) was 464.29 g, the amount of TFMB was 103.50 g, the amount of 6FDA was 146.50 g, the molar ratio of TFMB and 6FDA was changed to 6FDA: TFMB Of Tt was 92.5% in the same manner as in Example 1, except that the monomer concentration in the liquid was 35% by weight and the inside temperature was 180 占 폚 and the heating and stirring were carried out without performing any decompression during the process for 5 hours. Haze 0.1%, and yellow 3.0 was obtained. The mass part of the tertiary amine relative to 100 parts by mass of the raw material monomer is 1.0.

(비교예 3)(Comparative Example 3)

이소퀴놀린 대신에 트리에틸아민을 3.00g 첨가하고, TFMB의 양을 104.73g으로 하고, 6FDA를 145.27g으로 하고, TFMB와 6FDA의 몰비를 1.00:1.00으로 하고, 액 중의 모노머 농도는 40wt%인채로 하고, 공정 중 감압을 일체 행하지 않고, 내부 온도가 180℃가 되고 나서 5시간 가열 교반을 행한 것 이외에는 실시예 1과 마찬가지로 하여, 황색도 2.1의 필름을 얻었다. 원료 모노머 100질량부에 대한 3급 아민의 질량부는 1.2가 된다.3.00 g of triethylamine was added instead of isoquinoline, the amount of TFMB was 104.73 g, the amount of 6FDA was 145.27 g, the molar ratio of TFMB and 6FDA was 1.00: 1.00, and the monomer concentration in the liquid was 40 wt% And a film having a yellowness of 2.1 was obtained in the same manner as in Example 1 except that heating and stirring were carried out for 5 hours after the internal temperature reached 180 占 폚 without performing any decompression during the process. The mass part of the tertiary amine relative to 100 parts by mass of the raw material monomer is 1.2.

조건 및 결과를 표 1에 나타낸다.Conditions and results are shown in Table 1.

Figure pct00011
Figure pct00011

제 3급 아민을 첨가하면서 가열 중에 감압한 실시예 1~3에서는, 높은 내절성을 달성할 수 있었다. 이에 비하여, 가열 중에 감압하지 않은 비교예 1~3에서는, 실시예보다 촉매량을 높게 하여도 여전히 내절성을 높게 할 수 없었다. 비교예에 있어서의 촉매량을 실시예와 마찬가지의 정도로 하면, 내절성은 더욱 악화되는 것이 예상된다.In Examples 1 to 3 in which the tertiary amine was added and the pressure was reduced during heating, high bendability was achieved. On the other hand, in Comparative Examples 1 to 3, in which the pressure was not reduced during heating, even when the catalyst amount was higher than that in Examples, it was still impossible to increase the bending resistance. When the amount of the catalyst in the comparative example is made to the same degree as in the examples, it is expected that the bending resistance is further deteriorated.

(실시예 A1)(Example A1)

(폴리이미드 바니시의 제조)(Preparation of polyimide varnish)

질소분위기 하, 용매 트랩 및 필터를 부착한 진공 펌프가 접속된 반응 용기에, 1.25g의 이소퀴놀린을 투입하였다. 다음으로, 반응 용기에 γ-부티로락톤(GBL) 305.58g, 2,2'-비스(트리플루오로메틸)-4,4'-디아미노디페닐(TFMB) 104.43g을 투입하고, 교반하여 완전 용해시켰다. 추가로 4,4'-(헥사플루오로이소프로필리덴)디프탈산 2무수물(6FDA)을 145.59g 추가한 후, 교반하면서 오일 배스에서 승온을 개시하였다. 추가한 TFMB와 6FDA의 몰비는, 6FDA:TFMB가 1.00:0.995이며, 모노머 농도가 45wt%였다. 원료 모노머 100질량부에 대한 3급 아민의 질량부는 0.5이 된다. 내부 온도가 120℃에 도달한 시점에서 610mmHg까지 감압하고, 계속해서 내부 온도 200℃까지 승온하였다. 200℃ 도달 후, 추가로 5.5시간 가열 교반을 행한 후에 대기압까지 압력을 회복하고, 170℃까지 냉각하여 폴리이미드 용액을 얻었다. 감압 전후로 반응 용기 중의 산소 농도를 확인한 바, 0.2%였다. 170℃에서 GBL(용매 B)을 추가하여 폴리이미드의 고형분이 40wt%인 균일 용액으로 하고, 추가로, 155℃에서 N,N-디메틸아세트아미드(용매 B)를 추가하여 폴리이미드의 고형분이 20wt%인 균일 용액으로 하여 반응 용기로부터 폴리이미드 바니시를 취출하였다.Under a nitrogen atmosphere, 1.25 g of isoquinoline was added to a reaction vessel to which a vacuum pump equipped with a solvent trap and a filter was connected. Next, 305.58 g of? -Butyrolactone (GBL) and 104.43 g of 2,2'-bis (trifluoromethyl) -4,4'-diaminodiphenyl (TFMB) were added to the reaction vessel and stirred Completely dissolved. 145.59 g of 4,4 '- (hexafluoroisopropylidene) diphthalic acid dianhydride (6FDA) was further added, and then the temperature in the oil bath was elevated with stirring. The molar ratio of the added TFMB to 6FDA was 6FDA: TFMB of 1.00: 0.995, and the monomer concentration was 45 wt%. The mass part of the tertiary amine relative to 100 parts by mass of the raw material monomer is 0.5. When the internal temperature reached 120 ° C, the pressure was reduced to 610 mmHg, and then the internal temperature was raised to 200 ° C. After reaching 200 deg. C, the mixture was further heated and stirred for 5.5 hours, and then the pressure was restored to atmospheric pressure and cooled to 170 deg. C to obtain a polyimide solution. When the oxygen concentration in the reaction vessel was checked before and after the decompression, it was 0.2%. GBL (solvent B) was added at 170 ° C to obtain a uniform solution having a solid content of 40 wt% of polyimide. Further, N, N-dimethylacetamide (solvent B) was added at 155 캜 to obtain a polyimide having a solid content of 20 wt% %, And the polyimide varnish was taken out from the reaction vessel.

(폴리이미드 필름의 제조)(Production of polyimide film)

얻어진 폴리이미드 바니시 200.00g에 N,N-디메틸아세트아미드(DMAc) 50g을 가하여 추가로 희석하였다. 그것을 PET(폴리에틸렌테레프탈레이트) 필름 상에서 유연 성형하여 도막한 후, 50℃로 30분, 140℃로 10분 가열해서 폴리이미드 필름을 얻었다. PET로부터 박리하고 추가로 200℃ 40분 가열함으로써, 막두께 80㎛, Tt 92.0%, Haze 0.1%, 황색도 3.9의 필름을 얻었다.To 200.00 g of the polyimide varnish obtained, 50 g of N, N-dimethylacetamide (DMAc) was further added and diluted. The coating film was formed by molding it on a PET (polyethylene terephthalate) film, and then heated at 50 占 폚 for 30 minutes and at 140 占 폚 for 10 minutes to obtain a polyimide film. PET and further heated at 200 ° C for 40 minutes to obtain a film having a thickness of 80 μm, Tt 92.0%, Haze 0.1% and a yellowness of 3.9.

(실시예 A2)(Example A2)

γ-부티로락톤(GBL)의 양을 375.03g으로 변경하고, 또한 내부 온도가 120℃에 도달한 시점에서 610mmHg까지 감압하고, 계속해서 내부 온도 180℃까지 승온하고, 180℃ 도달 후, 추가로 8.5시간 가열 교반을 행한 것 이외에는 실시예 A1과 마찬가지로 하여, 폴리이미드 용액을 얻었다. 반응 용기 내의 전체 용액에 있어서, 모노머 농도는 40wt%였다. 원료 모노머 100질량부에 대한 3급 아민의 질량부는 0.5가 된다. 감압 전후로 반응 용기 중의 산소 농도를 확인한 바, 0.2%였다. 155℃에서 N,N-디메틸아세트아미드(DMAc)(용매 B)를 추가하여 폴리이미드의 고형분이 20wt%인 균일 용액으로 하여, 반응 용기로부터 폴리이미드 바니시를 취출하였다.The amount of gamma -butyrolactone (GBL) was changed to 375.03 g, and the internal pressure was reduced to 610 mmHg at the time when the internal temperature reached 120 DEG C, and then the internal temperature was raised to 180 DEG C, A polyimide solution was obtained in the same manner as in Example A1 except that heating and stirring were carried out for 8.5 hours. In the total solution in the reaction vessel, the monomer concentration was 40 wt%. The mass part of the tertiary amine relative to 100 parts by mass of the raw material monomer is 0.5. When the oxygen concentration in the reaction vessel was checked before and after the decompression, it was 0.2%. N, N-dimethylacetamide (DMAc) (solvent B) was added at 155 캜 to obtain a uniform solution having a solid content of polyimide of 20 wt%, and polyimide varnish was taken out from the reaction vessel.

얻어진 폴리이미드 바니시를 이용하고, 실시예 A1과 마찬가지로 하여 폴리이미드 필름을 제조하여, 막두께 80㎛, Tt 92.0%, Haze 0.1%, 황색도 3.9의 필름을 얻었다.Using the obtained polyimide varnish, a polyimide film was produced in the same manner as in Example A1 to obtain a film having a thickness of 80 占 퐉, Tt of 92.0%, Haze of 0.1%, and a yellow degree of 3.9.

(실시예 A3)(Example A3)

이소퀴놀린의 양을 0.5g으로, γ-부티로락톤(GBL)의 양을 375.03g으로 각각 변경하고, 또한 내부 온도가 120℃에 도달한 시점에서 400mmHg까지 감압하고, 계속해서 내부 온도 180℃까지 승온하고, 180℃ 도달 후, 추가로 8.5시간 가열 교반을 행한 것 이외에는 실시예 A1과 마찬가지로 하여, 폴리이미드 용액을 얻었다. 반응 용기 내의 전체 용액에 있어서, 모노머 농도는 40wt%였다. 원료 모노머 100질량부에 대한 3급 아민의 질량부는 0.2가 된다. 감압 전후로 반응 용기 중의 산소 농도를 확인한 바, 0.01% 미만이었다. 155℃에서 N,N-디메틸아세트아미드(DMAc)(용매 B)를 추가하여 폴리이미드의 고형분이 20wt%인 균일 용액으로 하고, 반응 용기로부터 폴리이미드 바니시를 취출하였다.The amount of isoquinoline was changed to 0.5 g and the amount of gamma -butyrolactone (GBL) was changed to 375.03 g. When the internal temperature reached 120 ° C, the pressure was reduced to 400 mmHg, A polyimide solution was obtained in the same manner as in Example A1 except that the temperature was elevated and the temperature was raised to 180 deg. C and further the heating and stirring were carried out for 8.5 hours. In the total solution in the reaction vessel, the monomer concentration was 40 wt%. The mass part of the tertiary amine relative to 100 parts by mass of the raw material monomer is 0.2. When the oxygen concentration in the reaction vessel was checked before and after the decompression, it was less than 0.01%. N, N-dimethylacetamide (DMAc) (solvent B) was added at 155 캜 to obtain a homogeneous solution having a solid content of polyimide of 20 wt%, and polyimide varnish was taken out from the reaction vessel.

얻어진 폴리이미드 바니시를 이용하고, 실시예 A1과 마찬가지로 하여 폴리이미드 필름을 제조하여, 막두께 80㎛, Tt 92.6%, Haze 0.1%, 황색도 2.0의 필름을 얻었다.Using the obtained polyimide varnish, a polyimide film was produced in the same manner as in Example A1 to obtain a film having a thickness of 80 占 퐉, a Tt of 92.6%, a Haze of 0.1% and a yellowness of 2.0.

(실시예 A4)(Example A4)

이소퀴놀린의 양을 0.5g으로 변경하고, 또한 내부 온도가 120℃에 도달한 시점에서 400mmHg까지 감압하고, 계속해서 내부 온도 180℃까지 승온하고, 180℃ 도달 후, 추가로 5.5시간 가열 교반을 행한 것 이외에는 실시예 A1과 마찬가지로 하여, 폴리이미드 용액을 얻었다. 반응 용기 내의 전체 용액에 있어서, 모노머 농도는 45wt%였다. 원료 모노머 100질량부에 대한 3급 아민의 질량부는 0.2가 된다. 감압 전후로 반응 용기 중의 산소 농도를 확인한 바, 0.01% 미만이었다. 폴리이미드 용액에 대하여, 실시예 A1과 마찬가지로 하여 GBL(용매 B) 및 N,N-디메틸아세트아미드(용매 B)를 각각 첨가하여, 폴리이미드의 고형분이 20wt%인 균일 용액으로 하여, 반응 용기로부터 폴리이미드 바니시를 취출하였다.The amount of isoquinoline was changed to 0.5 g, the pressure was reduced to 400 mmHg at the time when the internal temperature reached 120 캜, and then the internal temperature was raised to 180 캜. After reaching 180 캜, the mixture was further heated and stirred for 5.5 hours , A polyimide solution was obtained in the same manner as in Example A1. In the total solution in the reaction vessel, the monomer concentration was 45 wt%. The mass part of the tertiary amine relative to 100 parts by mass of the raw material monomer is 0.2. When the oxygen concentration in the reaction vessel was checked before and after the decompression, it was less than 0.01%. GBL (solvent B) and N, N-dimethylacetamide (solvent B) were added to the polyimide solution in the same manner as in Example A1 to prepare a homogeneous solution having a solid content of polyimide of 20 wt% The polyimide varnish was taken out.

얻어진 폴리이미드 바니시를 이용하고, 실시예 A1과 마찬가지로 하여 폴리이미드 필름을 제조하여, 막두께 80㎛, Tt 92.7%, Haze 0.1%, 황색도 1.7의 필름을 얻었다.Using the polyimide varnish thus obtained, a polyimide film was produced in the same manner as in Example A1 to obtain a film having a thickness of 80 占 퐉, Tt 92.7%, Haze 0.1% and yellow 1.7.

(실시예 A5)(Example A5)

실시예 A4와 마찬가지로 하여, 폴리이미드 바니시를 제조하였다. 필름 제조시에 있어서, 자외선 흡수제(스미토모화학(주)제의 상품명 Sumisorb340)를 첨가한 N,N-디메틸아세트아미드(DMAc)를 폴리이미드 바니시에 첨가한 것 이외에는, 실시예 A4와 마찬가지로 하여 폴리이미드 필름을 제조하였다. 얻어진 필름은, 막두께 80㎛, Tt 92.4%, Haze 0.2%, 황색도 2.3이었다. 또한, 표 2에 있어서의 단위 phr이란, 바니시에 포함되는 폴리이미드계 고분자 100질량부에 대한 질량부를 의미한다.A polyimide varnish was prepared in the same manner as in Example A4. Except that N, N-dimethylacetamide (DMAc) to which a UV absorber (trade name: Sumisorb340, manufactured by Sumitomo Chemical Co., Ltd.) was added to the polyimide varnish during the production of the film was changed to polyimide A film was prepared. The obtained film had a thickness of 80 탆, Tt of 92.4%, Haze of 0.2%, and a yellowness of 2.3. In addition, the unit phr in Table 2 means the parts by mass relative to 100 parts by mass of the polyimide-based polymer contained in the varnish.

(실시예 A6)(Example A6)

이소퀴놀린의 양을 0.5g으로 변경하고, 또한 내부 온도가 120℃에 도달한 시점에서 500mmHg까지 감압하고, 계속해서 내부 온도 180℃까지 승온하고, 180℃ 도달 후, 추가로 5.5시간 가열 교반을 행한 것 이외에는 실시예 A1과 마찬가지로 하여, 폴리이미드 용액을 얻었다. 반응 용기 내의 전체 용액에 있어서, 모노머 농도는 45wt%였다. 원료 모노머 100질량부에 대한 3급 아민의 질량부는 0.2가 된다. 감압 전후로 반응 용기 중의 산소 농도를 확인한 바, 0.01% 미만이었다. 폴리이미드 용액에 대하여, 실시예 A1과 마찬가지로 하여 GBL(용매 B) 및 N,N-디메틸아세트아미드(용매 B)를 각각 첨가하여, 폴리이미드의 고형분이 20wt%인 균일 용액으로 하여, 반응 용기로부터 폴리이미드 바니시를 취출하였다.The amount of isoquinoline was changed to 0.5 g, the pressure was reduced to 500 mmHg at the time when the internal temperature reached 120 캜, and then the internal temperature was raised to 180 캜. After reaching 180 캜, the mixture was further heated and stirred for 5.5 hours , A polyimide solution was obtained in the same manner as in Example A1. In the total solution in the reaction vessel, the monomer concentration was 45 wt%. The mass part of the tertiary amine relative to 100 parts by mass of the raw material monomer is 0.2. When the oxygen concentration in the reaction vessel was checked before and after the decompression, it was less than 0.01%. GBL (solvent B) and N, N-dimethylacetamide (solvent B) were added to the polyimide solution in the same manner as in Example A1 to prepare a homogeneous solution having a solid content of polyimide of 20 wt% The polyimide varnish was taken out.

얻어진 폴리이미드 바니시를 이용하고, 실시예 A1과 마찬가지로 하여 폴리이미드 필름을 제조하여, 막두께 80㎛, Tt 92.6%, Haze 0.2%, 황색도 2.0의 필름을 얻었다.Using the obtained polyimide varnish, a polyimide film was produced in the same manner as in Example A1 to obtain a film having a thickness of 80 占 퐉, a Tt of 92.6%, a haze of 0.2% and a yellowness of 2.0.

(실시예 A7)(Example A7)

이소퀴놀린의 양을 0.5g으로 변경하고, 또한 내부 온도가 120℃에 도달한 시점에서 400mmHg까지 감압하고, 계속해서 내부 온도 180℃까지 승온하고, 180℃ 도달 후, 추가로 5.5시간 가열 교반을 행한 것 이외에는 실시예 A1과 마찬가지로 하여, 폴리이미드 용액을 얻었다. 반응 용기 내의 전체 용액에 있어서, 모노머 농도는 45wt%였다. 원료 모노머 100질량부에 대한 3급 아민의 질량부는 0.2가 된다. 감압 전후로 반응 용기 중의 산소 농도를 확인한 바, 0.01% 미만이었다. 폴리이미드 용액에 대하여, 170℃에서 GBL(용매 B)을 추가하여 폴리이미드의 고형분이 40wt%인 균일 용액으로 하고, 추가로, 130℃에서 시클로펜타논(용매 B)을 추가하여 폴리이미드의 고형분이 20wt%인 균일 용액으로 하여, 반응 용기로부터 폴리이미드 바니시를 취출하였다.The amount of isoquinoline was changed to 0.5 g, the pressure was reduced to 400 mmHg at the time when the internal temperature reached 120 캜, and then the internal temperature was raised to 180 캜. After reaching 180 캜, the mixture was further heated and stirred for 5.5 hours , A polyimide solution was obtained in the same manner as in Example A1. In the total solution in the reaction vessel, the monomer concentration was 45 wt%. The mass part of the tertiary amine relative to 100 parts by mass of the raw material monomer is 0.2. When the oxygen concentration in the reaction vessel was checked before and after the decompression, it was less than 0.01%. GBI (solvent B) was added to the polyimide solution at 170 캜 to prepare a uniform solution having a solid content of 40% by weight of polyimide. Further, cyclopentanone (solvent B) was added at 130 캜 to obtain a solid component Of 20 wt%, and the polyimide varnish was taken out from the reaction vessel.

얻어진 폴리이미드 바니시 200.00g에 대하여 DMAc 대신에 시클로펜타논 50g을 가하여 추가로 희석한 것 이외에는, 실시예 A1과 마찬가지로 하여 폴리이미드 필름을 제조하여, 막두께 80㎛, Tt 92.6%, Haze 0.1%, 황색도 1.9의 필름을 얻었다.A polyimide film was prepared in the same manner as in Example A1 except that 50 g of cyclopentanone was added to 200.00 g of the obtained polyimide varnish in place of DMAc to further dilute the film. The film thickness was 80 占 퐉, Tt 92.6%, Haze 0.1% And a yellow 1.9 film was obtained.

(실시예 A8)(Example A8)

실시예 A7과 마찬가지로 하여, 폴리이미드 바니시를 제조하였다. 필름 제조시에 있어서, 자외선 흡수제(스미토모화학(주)제의 상품명 Sumisorb340)를 첨가한 시클로펜타논을 폴리이미드 바니시에 첨가한 것 이외에는, 실시예 A7과 마찬가지로 하여 폴리이미드 필름을 제조하였다. 얻어진 필름은, 막두께 80㎛, Tt 92.5%, Haze 0.1%, 황색도 2.4였다. 또한, 표 2에 있어서의 단위 phr이란, 바니시에 포함되는 폴리이미드계 고분자 100질량부에 대한 질량부를 의미한다.A polyimide varnish was prepared in the same manner as in Example A7. A polyimide film was produced in the same manner as in Example A7 except that cyclopentanone to which an ultraviolet absorber (trade name: Sumisorb340, manufactured by Sumitomo Chemical Co., Ltd.) was added to the polyimide varnish during the production of the film. The obtained film had a thickness of 80 탆, Tt 92.5%, Haze 0.1%, and a yellowness of 2.4. In addition, the unit phr in Table 2 means the parts by mass relative to 100 parts by mass of the polyimide-based polymer contained in the varnish.

조건 및 결과를 표 2에 나타낸다.Conditions and results are shown in Table 2.

Figure pct00012
Figure pct00012

이하의 실시예에 있어서, 폴리이미드의 수율은, 식 「(세정 후의 용매 C에 포함되는 수지 고형분+제조한 폴리이미드 바니시 중의 수지 고형분의 합계량(단위:중량))/원료 모노머의 투입량으로부터 산출되는 폴리이미드계 고분자의 이론량(단위:중량)×100」에 의해 산출하였다. 세정 후의 용매 C란, 이하의 예에 있어서, 1회째의 폴리이미드 바니시의 제조 후에 행한 세정액이다. 제조한 폴리이미드 바니시란, 이하의 예에 있어서, 2회째의 폴리이미드 바니시의 제조로 얻어진 폴리이미드 바니시이다. 원료 모노머의 투입량으로부터 산출되는 폴리이미드계 고분자의 이론량이란, 이하의 예에 있어서, 2회째의 폴리이미드 바니시의 제조에 있어서의 원료 모노머의 투입량으로부터 산출되는 폴리이미드계 고분자의 이론량이다.In the following examples, the yield of the polyimide is calculated from the amount of the raw material monomer / resin solid content contained in the solvent C after cleaning + the total amount (unit: weight) of resin solid content in the polyimide varnish produced Theoretical amount (unit: weight) of polyimide-based polymer x 100 ". The solvent C after cleaning is a cleaning liquid which is obtained after the first production of the polyimide varnish in the following examples. The produced polyimide varnish is a polyimide varnish obtained by the production of a second polyimide varnish in the following examples. The theoretical amount of the polyimide-based polymer calculated from the input amount of the raw material monomer is the theoretical amount of the polyimide-based polymer calculated from the input amount of the raw material monomer in the production of the second polyimide varnish in the following examples.

(실시예 B1)(Example B1)

실시예 A7과 마찬가지로 하여 폴리이미드 바니시를 제조하고, 얻어진 폴리이미드 바니시를 반응 용기로부터 발출한 후, 반응 용기에 용매 C로서 시클로펜타논을 주입하고, 130℃로 승온하여 3시간 가열하고 세정하였다. 세정에 이용한 시클로펜타논을 반응 용기로부터 발출하여 회수하였다(세정 후의 용매 C). 그 후, 반응 용기에 용매 D로서 GBL을 주입하고 200℃로 승온하여, 8시간 가열하고 세정하였다. 세정한 반응 용기에서 실시예 10에 준하여 다시 합성하고, 2회째의 폴리이미드 바니시를 얻었다. 반응 용기로부터 취출 전에 용액에 첨가하는 희석용의 용매 B의 시클로펜타논으로서 상기 세정 후의 용매 C를 이용하여, 폴리이미드 바니시를 얻었다. 얻어진 2회째의 폴리이미드 바니시에 포함되는 폴리이미드는, 폴리스티렌 환산 중량 평균 분자량이 32만이며, 폴리이미드의 수율은 97.2%였다.A polyimide varnish was prepared in the same manner as in Example A7, and the obtained polyimide varnish was taken out of the reaction vessel. Then, cyclopentanone was injected into the reaction vessel as a solvent C, heated to 130 캜 and heated for 3 hours and washed. Cyclopentanone used for washing was withdrawn from the reaction vessel and recovered (solvent C after washing). Then, GBL was injected into the reaction vessel as solvent D, and the temperature was raised to 200 占 폚 and heated for 8 hours to be cleaned. The reaction vessel was re-synthesized in the same manner as in Example 10 to obtain a second polyimide varnish. A polyimide varnish was obtained by using the solvent C after washing as the cyclopentanone of the diluting solvent B to be added to the solution before being taken out from the reaction vessel. The polyimide contained in the second polyimide varnish obtained had a weight average molecular weight in terms of polystyrene of 320,000, and the yield of polyimide was 97.2%.

이어서, 이 2회째의 폴리이미드 바니시를 이용하고 실시예 A7과 마찬가지로 하여 폴리이미드 필름을 제조하여, 막두께 80㎛, Tt 92.5%, Haze 0.1%, 황색도가 2.1의 필름을 얻었다.Subsequently, a polyimide film was produced in the same manner as in Example A7 using this second polyimide varnish to obtain a film having a thickness of 80 占 퐉, Tt 92.5%, Haze 0.1% and a yellowness degree of 2.1.

(실시예 B2)(Example B2)

폴리이미드 바니시를 반응 용기로부터 발출한 후에 행하는 용매 C에서의 시클로펜타논에서의 세정 시간을 28시간으로 변경하고 세정액을 회수(세정 후의 용매 C)하는 것 이외에는 실시예 B1과 마찬가지로 하여 2회째의 폴리이미드 바니시를 얻었다. 얻어진 2회째의 폴리이미드 바니시에 포함되는 폴리이미드는, 폴리스티렌 환산 중량 평균 분자량이 34만이며, 폴리이미드의 수율은 96.6%였다.Except that the cleaning time in the cyclopentanone in the solvent C after the polyimide varnish was withdrawn from the reaction vessel was changed to 28 hours and the washing liquid was recovered (solvent C after washing), the second poly I got a mid varnish. The polyimide contained in the second polyimide varnish obtained had a weight average molecular weight in terms of polystyrene of 340,000, and the yield of polyimide was 96.6%.

이어서, 이 2회째의 폴리이미드 바니시를 이용하고 실시예 A7과 마찬가지로 하여 폴리이미드 필름을 제조하여, 막두께 80㎛, Tt 92.6%, Haze 0.1%, 황색도가 2.2의 필름을 얻었다.Subsequently, a polyimide film was produced in the same manner as in Example A7 using this second polyimide varnish to obtain a film having a thickness of 80 占 퐉, Tt 92.6%, Haze 0.1%, and a yellowness value of 2.2.

(실시예 B3)(Example B3)

실시예 A4와 마찬가지로 하여 폴리이미드 바니시를 제조하고, 얻어진 폴리이미드 바니시를 반응 용기로부터 발출한 후, 반응 용기에 용매 C로서 GBL을 주입하고, 200℃로 승온하여 8시간 가열하고 세정하였다. 세정에 이용한 GBL을 반응 용기로부터 발출하여 회수하였다. 그 후, 반응 용기에 용매 D로서 GBL을 주입하고 200℃로 승온하여, 8시간 가열하고 세정하였다. 세정한 반응 용기에서 실시예 A4와 마찬가지로 하여 2회째의 폴리이미드 바니시를 제조하였다. 이 때, 상기 세정 후의 용매 C 및 D는, 2회째의 폴리이미드 바니시의 제조(희석)에 추가하지 않았다. 얻어진 2회째의 폴리이미드 바니시에 포함되는 폴리이미드는, 폴리스티렌 환산 중량 평균 분자량이 36만이며, 폴리이미드의 수율은 92.2%였다.Polyimide varnish was prepared in the same manner as in Example A4, and the obtained polyimide varnish was withdrawn from the reaction vessel. Then, GBL was injected into the reaction vessel as a solvent C. The temperature was raised to 200 占 폚 and the reaction vessel was heated for 8 hours and then washed. The GBL used for washing was withdrawn from the reaction vessel and recovered. Then, GBL was injected into the reaction vessel as solvent D, and the temperature was raised to 200 占 폚 and heated for 8 hours to be cleaned. In the washed reaction vessel, a second polyimide varnish was prepared in the same manner as in Example A4. At this time, the solvents C and D after the cleaning were not added to the production (dilution) of the second polyimide varnish. The polyimide contained in the second polyimide varnish obtained had a weight average molecular weight in terms of polystyrene of 360,000, and the yield of polyimide was 92.2%.

이어서, 2회째의 이 폴리이미드 바니시를 이용하고 실시예 A4와 마찬가지로 하여 폴리이미드 필름을 제조하여, 막두께 80㎛, Tt 92.7%, Haze 0.1%, 황색도가 1.7의 필름을 얻었다.Subsequently, a polyimide film was produced in the same manner as in Example A4 by using the second polyimide varnish to obtain a film having a thickness of 80 占 퐉, Tt 92.7%, Haze 0.1%, and a yellowness of 1.7.

(실시예 B4)(Example B4)

실시예 A7과 마찬가지로 하여 폴리이미드 바니시를 제조하고, 얻어진 폴리이미드 바니시를 반응 용기로부터 발출한 후, 반응 용기에 용매 C로서 GBL을 주입하고, 200℃로 승온하여 8시간 가열하고 세정하였다. 세정에 이용한 GBL을 반응 용기로부터 발출하여 회수하였다. 그 후, 반응 용기에 용매 D로서 GBL을 주입하고 200℃로 승온하여, 8시간 가열하고 세정하였다. 세정한 반응 용기에서 실시예 A7과 마찬가지로 하여 2회째의 폴리이미드 바니시를 제조하였다. 이 때, 상기 세정 후의 용매 C 및 D는, 2회째의 폴리이미드 바니시의 제조(희석)에 추가하지 않았다. 얻어진 2회째의 폴리이미드 바니시에 포함되는 폴리이미드는, 폴리스티렌 환산 중량 평균 분자량이 31만이며, 폴리이미드의 수율은 91.3%였다.A polyimide varnish was prepared in the same manner as in Example A7, and the obtained polyimide varnish was taken out of the reaction vessel. Then, GBL was injected into the reaction vessel as a solvent C, heated to 200 캜 and heated for 8 hours and washed. The GBL used for washing was withdrawn from the reaction vessel and recovered. Then, GBL was injected into the reaction vessel as solvent D, and the temperature was raised to 200 占 폚 and heated for 8 hours to be cleaned. In the washed reaction vessel, a second polyimide varnish was prepared in the same manner as in Example A7. At this time, the solvents C and D after the cleaning were not added to the production (dilution) of the second polyimide varnish. The polyimide contained in the second polyimide varnish obtained had a weight average molecular weight in terms of polystyrene of 311,000, and the yield of polyimide was 91.3%.

이어서, 이 2회째의 폴리이미드 바니시를 이용하고 실시예 A7과 마찬가지로 하여 폴리이미드 필름을 제조하여, 막두께 80㎛, Tt 92.6%, Haze 0.1%, 황색도가 1.9의 필름을 얻었다.Subsequently, a polyimide film was produced in the same manner as in Example A7 using this second polyimide varnish to obtain a film having a thickness of 80 탆, Tt 92.6%, Haze 0.1%, and a yellowness value of 1.9.

(참고예 B1)(Reference Example B1)

실시예 A2와 마찬가지로 하여 폴리이미드 바니시를 제조하고, 얻어진 폴리이미드 바니시를 반응 용기로부터 발출한 후, 반응 용기에 용매 C으로서 GBL을 주입하고, 200℃로 승온하여 8시간 가열하고 세정하였다. 세정에 이용한 GBL을 반응 용기로부터 발출하여 회수하였다. 그 후, 반응 용기에 용매 D로서 GBL을 주입하고 200℃로 승온하여, 8시간 가열하고 세정하였다. 세정한 반응 용기에서 실시예 A2와 마찬가지로 하여 2회째의 폴리이미드 바니시를 제조하였다. 이 때, 상기 세정 후의 용매 C 및 D는, 2회째의 폴리이미드 바니시의 제조(희석)에 추가하지 않았다. 얻어진 2회째의 폴리이미드 바니시에 포함되는 폴리이미드는, 폴리스티렌 환산 중량 평균 분자량이 22만이며, 폴리이미드의 수율은 94.5%였다.Polyimide varnish was prepared in the same manner as in Example A2, and the obtained polyimide varnish was taken out from the reaction vessel. Then, GBL was injected into the reaction vessel as a solvent C, heated to 200 DEG C, heated for 8 hours and washed. The GBL used for washing was withdrawn from the reaction vessel and recovered. Then, GBL was injected into the reaction vessel as solvent D, and the temperature was raised to 200 占 폚 and heated for 8 hours to be cleaned. In the washed reaction vessel, a second polyimide varnish was prepared in the same manner as in Example A2. At this time, the solvents C and D after the cleaning were not added to the production (dilution) of the second polyimide varnish. The polyimide contained in the second polyimide varnish obtained had a weight average molecular weight in terms of polystyrene of 220,000, and the yield of polyimide was 94.5%.

이어서, 이 2회째의 폴리이미드 바니시를 이용하고 실시예 A2와 마찬가지로 하여 폴리이미드 필름을 제조하여, 막두께 80㎛, Tt 92.0%, Haze 0.1%, 황색도가 3.9의 필름을 얻었다. 조건 및 결과를 표 3에 나타낸다.Subsequently, a polyimide film was produced in the same manner as in Example A2 by using the second polyimide varnish to obtain a film having a thickness of 80 탆, Tt 92.0%, Haze 0.1%, and a yellowness value of 3.9. Conditions and results are shown in Table 3.

Figure pct00013
Figure pct00013

Claims (17)

폴리이미드계 고분자의 원료 모노머를 용매 중에 있어서 중합하여 폴리이미드계 고분자 전구체를 얻는 중합 공정, 및, 감압 환경 하, 제 3급 아민을 포함하는 용매 중에 있어서 상기 폴리이미드계 고분자 전구체를 이미드화하여 폴리이미드계 고분자의 용액을 얻는 이미드화 공정을 포함하는, 폴리이미드계 고분자 바니시의 제조방법.Polymerizing a raw material monomer of a polyimide-based polymer in a solvent to obtain a polyimide-based polymer precursor; and polymerizing the polyimide-based polymer precursor in a solvent containing a tertiary amine in a reduced- A method for producing a polyimide-based polymer varnish, which comprises an imidization step of obtaining a solution of a mid-system polymer. 제 1 항에 있어서,
상기 이미드화 공정의 온도가 100℃ 이상 250℃ 이하인 제조방법.
The method according to claim 1,
Wherein the temperature of the imidation step is 100 占 폚 or higher and 250 占 폚 or lower.
제 1 항 또는 제 2 항에 있어서,
상기 제 3급 아민이, 120℃ 이상 350℃ 이하의 비점을 가지는 제조방법.
3. The method according to claim 1 or 2,
Wherein the tertiary amine has a boiling point of from 120 캜 to 350 캜.
제 1 항 내지 제 3 항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 폴리이미드계 고분자가 불소를 20질량% 이상 포함하는, 제조방법.
4. The method according to any one of claims 1 to 3,
Wherein the polyimide-based polymer contains fluorine at 20 mass% or more.
제 1 항 내지 제 4 항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 감압 환경의 압력은 350mmHg 이상 730mmHg 이하인, 제조방법.
5. The method according to any one of claims 1 to 4,
Wherein the pressure of the reduced-pressure environment is not less than 350 mmHg and not more than 730 mmHg.
제 5 항에 있어서,
상기 감압 환경의 압력은 500mmHg 이상 730mmHg 이하인, 제조방법.
6. The method of claim 5,
Wherein the pressure of the reduced-pressure environment is not less than 500 mmHg and not more than 730 mmHg.
제 1 항 내지 제 6 항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 이미드화 공정에 있어서 상기 용매를 포함하는 액상과 접촉하는 기상의 산소 농도가 0.02% 이하인 제조방법.
7. The method according to any one of claims 1 to 6,
Wherein the concentration of oxygen in the gaseous phase in contact with the liquid phase containing the solvent in the imidation step is 0.02% or less.
제 1 항 내지 제 7 항 중 어느 한 항에 있어서,
100질량부의 상기 원료 모노머에 대하여, 상기 제 3급 아민을 0.05질량부 이상 0.7질량부 이하 첨가하는, 제조방법.
8. The method according to any one of claims 1 to 7,
0.05 parts by mass or more and 0.7 parts by mass or less of the tertiary amine is added to 100 parts by mass of the raw material monomer.
제 1 항 내지 제 8 항 중 어느 한 항에 있어서,
얻어진 상기 폴리이미드계 고분자의 용액에, 자외선 흡수제를 첨가하는 공정을 추가로 구비하는, 제조방법.
9. The method according to any one of claims 1 to 8,
Further comprising a step of adding an ultraviolet absorber to the obtained solution of the polyimide-based polymer.
제 1 항 내지 제 9 항 중 어느 한 항에 있어서,
얻어진 상기 폴리이미드계 고분자의 용액에, 실리카졸을 첨가하는 공정을 추가로 구비하는, 제조방법.
10. The method according to any one of claims 1 to 9,
And further adding a silica sol to the obtained solution of the polyimide-based polymer.
제 1 항 내지 제 10 항 중 어느 한 항에 기재된 폴리이미드계 고분자 바니시의 제조방법을 실시하는 공정과,
얻어진 폴리이미드계 고분자 바니시 중의 폴리이미드계 고분자를 석출 및 재용해시키는 일 없이, 상기 폴리이미드계 고분자 바니시를 유연 성형하는 필름화 공정을 구비하는, 폴리이미드계 고분자 필름의 제조방법.
A process for producing a polyimide-based polymer varnish as claimed in any one of claims 1 to 10,
And polymerizing the polyimide-based polymer varnish without causing precipitation and re-dissolution of the polyimide-based polymer in the obtained polyimide-based polymer varnish.
중량 평균 분자량이 50,000 이상, 500,000 이하인 폴리이미드계 고분자와, 필름의 전체 질량에 대하여 0.01질량% 이상 0.25질량% 이하의 제 3급 아민을 포함하는 필름.A polyimide polymer having a weight average molecular weight of 50,000 or more and 500,000 or less and a tertiary amine in an amount of 0.01% by mass or more and 0.25% by mass or less based on the total mass of the film. 제 12 항에 있어서,
상기 제 3급 아민의 비점이 120℃ 이상 350℃ 이하인, 필름.
13. The method of claim 12,
Wherein the tertiary amine has a boiling point of from 120 캜 to 350 캜.
(1) 반응 용기에 있어서, 용매 A 중에서 모노머 원료를 반응시켜서 폴리이미드계 고분자의 용액을 얻는 공정,
(3) 상기 반응 용기로부터 상기 용액을 취출하는 공정,
(4) 용매 C로 상기 반응 용기를 세정하고, 세정 후의 상기 용매 C를 상기 반응 용기로부터 취출하는 공정을 구비하고, 상기 공정 (1), (3), 및 (4)를, 동일한 반응 용기를 이용하여 이 순서대로 반복하고,
상기 공정 (1)에서 얻어지는 폴리이미드계 고분자는, 투명하면서, 또한 중량 평균 분자량이 250,000 이상인, 폴리이미드계 고분자 바니시의 제조방법.
(1) a step of reacting a monomer raw material in a solvent A in a reaction vessel to obtain a solution of a polyimide-based polymer,
(3) removing the solution from the reaction vessel,
(4) a step of washing the reaction vessel with the solvent C, and then removing the solvent C after the washing from the reaction vessel, wherein the steps (1), (3) and (4) And repeating this process in this order,
The polyimide-based polymer obtained in the step (1) is transparent and has a weight average molecular weight of 250,000 or more.
제 14 항에 있어서,
(5) 상기 공정 (4)의 후에, 용매 D로 상기 반응 용기를 세정하고, 세정 후의 상기 용매 D를 상기 반응 용기로부터 취출하는 공정을 추가로 구비하고,
상기 공정 (1), (3), (4) 및 (5)를, 동일한 반응 용기를 이용하여 이 순서대로 반복하는, 폴리이미드계 고분자 바니시의 제조방법.
15. The method of claim 14,
(5) After the step (4), the step of cleaning the reaction vessel with the solvent D and taking out the solvent D after cleaning from the reaction vessel,
Wherein the steps (1), (3), (4) and (5) are repeated in this order using the same reaction vessel.
제 14 항 또는 제 15 항에 있어서,
상기 공정 (1)과 상기 공정 (3)의 사이에,
(2) 상기 반응 용기 내에 용매 B를 추가하여 상기 공정 (1)에서 얻어진 상기 용액을 희석하는 공정을 추가로 구비하고,
상기 공정 (1)~(4), 또는, 상기 공정 (1)~(5)를 동일한 반응 용기를 이용하여 반복하는, 방법.
16. The method according to claim 14 or 15,
Between the step (1) and the step (3)
(2) adding a solvent B to the reaction vessel to dilute the solution obtained in the step (1)
Wherein the steps (1) to (4) or the steps (1) to (5) are repeated using the same reaction vessel.
제 16 항에 있어서,
상기 용매 B는, 상기 공정 (4)에서 상기 반응 용기로부터 취출된 용매 C인, 방법.
17. The method of claim 16,
Wherein the solvent B is a solvent C taken out of the reaction vessel in the step (4).
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