JPH0816083B2 - 末端にメタクリル基を有するクロロホルメ−トの製造方法 - Google Patents

末端にメタクリル基を有するクロロホルメ−トの製造方法

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JPH0816083B2
JPH0816083B2 JP6858186A JP6858186A JPH0816083B2 JP H0816083 B2 JPH0816083 B2 JP H0816083B2 JP 6858186 A JP6858186 A JP 6858186A JP 6858186 A JP6858186 A JP 6858186A JP H0816083 B2 JPH0816083 B2 JP H0816083B2
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Description

【発明の詳細な説明】 産業上の利用分野 本発明はポリマー原料として有用な端末にメタクリル
基を有するクロロホルメートの製造方法に関する。
従来の技術 これ等クロロホルメートの製造方法としては、 (1)英国特許629019号に記載されているように室温で
ヒドロキシメタクリレートにホスゲンを導入する方法、 (2)特公昭60-59897号における、ホスゲン化反応を水
酸化メタクリレートに対して、少なくとも等分子数(eq
uimolecular)の量である酸受体の存在下に行なう方法
等が知られている。
発明が解決しようとする問題点 しかし、(1)の方法によつて得られるクロロホルメ
ートの純度は著しく悪く、副生物としてホスゲン化反応
中に発生する塩酸がメタクリレート基に付加した、β−
クロロイソ酪酸のアルキルクロロホルメートエステルを
常に相当量混入してしまう。
また、(2)の方法では、酸受体として有機塩基(例
えばトリエチルアミン、ピリジン)を使用するため、当
該反応液から、これ等の塩酸塩を分離、又、回収する工
程を必要とするなど、工業的、経済的見地からすれば、
有利な方法とは言い難い。
問題点を解決するための手段 本発明者等は、これ等の問題を解決すべく鋭意検討を
重ねた結果、このホスゲン化反応を特定の選択された溶
媒の存在下に行なう本発明を完成させた。
すなわち本発明は、下記式を有するメタクリレート: (式中、Rは線状もしくは有枝アルキレン鎖であつて、
任意にハロゲン原子によつて置換され、合計1個ないし
10個の炭素原子を含有するものである。)を、1ないし
20倍量、好ましくは3ないし7倍量の鎖状もしくは環状
のアルキルエーテル溶媒に希釈させ、−20ないし+50
℃、好ましくは−5ないし+25℃の温度で、撹拌下化学
量論的に等量、又は小過剰量のホスゲンガス又はホスゲ
ン発生剤より発生させたホスゲンを含む溶液を導入する
ことにより容易に、かつ、高純度の末端にメタクリル基
を含有するクロロホルメートを製造するものである。
本発明に用いられる鎖状もしくは環状のアルキルエー
テルは、ホスゲン化反応液からの回収の際に必要以上の
高温を要するもの以外は全て用いられ、かつその構造の
中のエーテル結合の数を制限するものでもない。鎖状ア
ルキルエーテルとしては、例えばジエチルエーテル、ジ
−n−プロピルエーテル、ジイソプロピルエーテル、ジ
−n−ブチルエーテル等が用いられ、環状アルキルエー
テルとしては、例えばテトラヒドロフラン、1,4−1ジ
オキサン、1,3,5−トリオキサン等が用いられる。
ホスゲン化剤は、ホスゲンガスとしてそのまま反応系
に導入することが反応操作上有利であるが、例えばトリ
クロロメチルクロロホルメートのようなホスゲン発生剤
を用い、溶剤中にてホスゲンを発生させ、このホスゲン
を含む溶液を導入することもできる。
この場合の溶剤はホスゲンに対し不活性であれば特に
限定はされないが、工程を簡便なものとするためには、
反応系内の溶媒と同一であることが望ましい。
ホスゲン化剤の使用量は、原料の水酸化メタクリレー
トに対し1.0〜2.0モル比で良いが、好ましくは1.05〜1.
3モル比である。
反応液は乾燥した窒素ガスを用いて過剰のホスゲンを
充分に抜気した後、常圧又は減圧下にて溶媒を回収する
ことにより目的とするクロロホルメートを得ることが出
来る。回収した溶媒はそのまま次の反応に使用する事が
出来る。
発明の効果 本発明方法によれば、酸受体の塩酸塩の水洗除去及び
それ等の回収操作、更には酸受体の塩酸塩を除去した反
応液の洗浄〜乾燥処理操作等を全く必要とせず、容易か
つ簡便なる工程にて目的とするクロロホルメートを得る
ことができる。更に本発明により得られる目的化合物の
収率は少なくとも98%のオーダーであり、純度は90%以
上である。
実施例 以下に本発明を実施例を挙げて説明する。
実施例1 2−ヒドロキシエチルメタクリレート780gのジエチル
エーテル3000gにて希釈し、温度計、撹拌器、冷却コン
デンサーガス導入管を付備したガラス製反応器に仕込ん
だ。これを氷塩浴にて−2℃に冷却し、冷却コンデンサ
ーには氷水を循環させた。撹拌下772.8gのホスゲンをガ
ス状にて約5時間にわたつて導入した。この間、系内の
温度を−2〜+2℃に保つた。
導入終了後反応を完全に終了させる為に徐々に昇温さ
せながら約8時間後撹拌を行なつた。系内の最終温度は
20℃であつた。残存する過剰のホスゲンを同温度で乾燥
窒素ガスにて除去した後、溶媒のジエチルエーテルを減
圧下に除去した。完全に溶媒を除去する為に更に昇温
し、留残の最終温度は35℃となつた。
この残分として得られたエチルメタクリレートクロロ
ホルメートの量は1143.5gであり、これは原料の2−ヒ
ドロキシエチルメタクリレートに対して、収率99モル%
に相当する。
この物がエチルメタクリレートクロロホルメートであ
る事は、その13CNMRスペクトルから証明された。13 CNMRスペクトル (a)125.9ppm,(b) 17.8ppm, (c)135.4ppm,(d)166.3ppm, (e) 61.3ppm,(f) 68.9ppm, (g)150.2ppm 更にこの物のガスクロマトグラフイーによる純度は9
5.4%であり、β−クロロ酪酸のエチルクロロホルメー
トエステルは1.6%であつた。
実施例2〜4 原料に26.0gの2−ヒドロキシエチルメタクリレート
を用い、各種エーテル系溶媒の存在下実施例1と同様に
反応させた結果を表−1に示す。
比較例1〜3 原料に26.0gの2−ヒドロキシエチルメタクリレート
を用い、エーテル系溶媒を用いずに実施例1と同様に反
応させた結果を同じく表−1に示す。

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】下記式 (式中Rはハロゲン原子によつて任意に置換される炭素
    数が1〜10個の鎖状もしくは有枝アルキレン鎖を表わ
    す。)で表わされる水酸化メタクリレートを鎖状又は環
    状アルキルエーテル溶媒の存在下、ホスゲン化剤により
    反応させることを特徴とする末端にメタクリル基を有す
    るクロロホルメートの製造方法。
JP6858186A 1986-03-28 1986-03-28 末端にメタクリル基を有するクロロホルメ−トの製造方法 Expired - Fee Related JPH0816083B2 (ja)

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