JPH08159877A - モノクロメータ - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【目的】 ダブルパスのモノクロメータに関し、第２の
スリットを移動させることなく、二つのパス間の波長同
調を実現し、装置の小型、簡素化を図った。 【構成】 コリメータ２、回折格子３、第１の平面鏡
４、第１のスリット５、第２の平面鏡６及び第２のスリ
ット７を備えたダブルパスのモノクロメータにおいて、
入射光を入射する位置である第１の位置１１と、第１の
平面鏡４で光路を変えない場合に集光する仮想の位置で
ある第２の位置１２と、第２の平面鏡６からコリメータ
２に向かう光路の延長線上の仮想点である第３の位置１
３と、第２のスリット７に集光する位置である第４の位
置１４とが、コリメータ２の光軸に垂直な平面内の光軸
を中心とする同一円周上に存在し、かつ、第１の位置１
１と第２の位置１２とが光軸に対し対称で、第３の位置
１３と第４の位置１４とが光軸に対し対称となるような
位置に配置されている。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、被測定光を回折格子に
二回入射させる（二つのパスを形成する）モノクロメー
タに関し、特に二つのパス間での波長同調の改善を図
り、装置の小型、簡素化を実現したモノクロメータに関
する。

【０００２】

【従来の技術】被測定光の波長特性を測定するモノクロ
メータ（分光器）としてダブルパスモノクロメータが用
いられる。このダブルパスモノクロメータは、被測定光
を回折格子（分散分光素子）に二回入射させて、二つの
パスを直列に形成することによって、分光特性における
高い分解能又は広いダイナミックレンジが得られる分光
器である。

【０００３】図７に、リトロー型による従来のダブルパ
スモノクロメータの概略構成図を示す。なお、リトロー
型とは、回折格子に対する入出射を一つのコリメータを
介して行うものをいう。図７において、例えば光ファイ
バーのような光入射手段１から入射された被測定光ａ
は、コリメータ２で平行光ｂに変換され、回折格子３へ
任意の入射角で入射する。回折格子３には多数の格子
（刻線ともいう）が刻設されており、任意の角度で入射
した光は波長に対し所定の角度に回折、すなわち分散分
光される。回折格子３で分散分光されて出射された回折
光ｃは、コリメータ２で集光される。このコリメータ２
で集光されて出射された光ｄは、第１の平面鏡４で反射
されて第１のスリット５上に焦点を結ぶ。このように、
光入射手段１から第１のスリット５の間で第１パスを形
成している。

【０００４】そして、第１のスリット５で焦点を結んだ
後（すなわち第１のスリット５を通過した後）に第２の
平面鏡６で反射された光ｅは、再び、コリメータ２に入
射し平行光ｆに変換されて回折格子３へ入射する。回折
格子３で再度分散分光されて出射された回折光ｇは、コ
リメータ２で再び集光される。このコリメータ２で集光
されて出射された光ｈは、平面鏡８で反射された後に第
２のスリット７上に焦点を結ぶ。このように、第１のス
リット５から第２のスリット７の間で第２パスを形成し
ている。

【０００５】なお、上記平面鏡８は装置の構成上の都合
によるもので必須ではなく、また第２のスリット７はス
リット機能をもつ出射ファイバが用いられることもあ
る。以上のような構成において、回折格子３を刻線方向
を軸にして図示の矢印のように回動させることによっ
て、上記第１及び第２パスを通って第２のスリット（ま
たは出射ファイバ）から出射される出力光ｉは、被測定
光ａのうちの回折格子３の回動角度で定まる所定波長の
光のみとなる。ところで、二つのパスを図７に示すよう
な構成で直列にする（上記第１パス及び第２パス）場合
には、二つの分光器を直列に接続したのと同様の効果が
得られるために、ダイナミックレンジが向上する。

【０００６】

【発明が解決しようとする課題】図７に示したリトロー
型のダブルパスモノクロメータにおいては、上記第１パ
スの第１のスリット５から出射される光の波長と、上記
第２パスの第２のスリット７から出射される光の波長と
が、回折格子３の回動動作に係わらず一致する必要があ
る。換言すれば、回折格子３を回動動作させたとき、各
パスでの出力光の波長を同調させる必要がある。

【０００７】従来、この回折格子３の回動動作時の波長
同調を行う方法の一つとして、回折格子３の回動に応じ
て、各パス間の波長同調のずれを第２のスリット７（又
は出射ファイバ）の位置を移動することによって調整す
るというものがあった。すなわち、第１パスの第１のス
リット５の出射光の波長を基準にして、第２パスの第２
のスリット７の出射光の波長がその基準の波長に一致す
るように、第２のスリット７の位置を図７のようにｘ，
ｙ方向に調整するようにしていた。しかしながら、この
ような方法では、第２のスリット７（又は出射ファイ
バ）の移動機構が必要となり、装置が大型になり複雑化
するという問題があった。本発明は、このような事情に
鑑みてなされたものであり、第２のスリット（又は出射
ファイバ）の移動機構を不要とし、小型、簡素化を図っ
たモノクロメータを提供することを目的とする。

【０００８】

【課題を解決するための手段】上記課題、すなわち第２
のスリットの位置を移動させて波長同調を行わなければ
ならないといった課題を解決するために、本発明では、
上記第１パス及び第２パスのそれぞれについて、回折格
子に入射する光の入射位置及び回折格子から出射される
光の集光位置をコリメータの光軸に対して空間的に特定
すること、又は回折格子に入射する光の入射位置のみを
コリメータの光軸及び回折格子に対して空間的に特定す
ることによって、二つのパスの出力光の波長を一致させ
ることができる点に着目し、次に述べるような構成をと
った。

【０００９】すなわち、第１の発明のモノクロメータ
は、例えば図１及び図２に示すように、入射光（被測定
光）を入射する位置である第１の位置と、第１の平面鏡
で光路を変えない場合に集光する仮想の位置である第２
の位置と、第２の平面鏡からコリメータに向かう光路に
対して反対方向に延びる延長線上の仮想点であって、こ
の仮想点から前記コリメータに対して光を入射した場合
該コリメータを通過する光が平行光となるような該仮想
点である第３の位置と、第２のスリットに集光する位置
である第４の位置とが、前記コリメータの光軸に垂直な
平面内の該光軸を中心とする同一円周上に存在し、か
つ、前記第１の位置と前記第２の位置とが前記光軸に対
し対称で、前記第３の位置と前記第４の位置とが前記光
軸に対し対称となるような位置に配置されるようにし
た。

【００１０】また、第２の発明のモノクロメータは、例
えば図３の（ａ），（ｂ）に示すように、入射光（被測
定光）を入射する位置である第１の位置と、第２の平面
鏡からコリメータに向かう光路に対して反対方向に延び
る延長線上の仮想点であって、この仮想点から前記コリ
メータに対して光を入射した場合該コリメータを通過す
る光が平行光となるような該仮想点である第３の位置と
が、前記コリメータの光軸に垂直な平面内の回折格子の
刻線方向をｘ軸、該回折格子による波長の分散方向をｙ
軸とし、かつ前記コリメータの焦点位置を原点とする座
標系において、前記ｙ軸に対し対称となる位置に配置さ
れるようにした。

【００１１】

【作用】まず、二つのパスの出力光の波長を一致させる
ことができる条件を説明する。回折格子による回折は下
記の式で表される。 ｍ・λ＝２・ｄ・cos α・cos γ・sin θ ・・・・・・ （１） γ＝（β−ｉ）／２ θ＝ｉ＋γ ｍ：回折次数 λ：波長 ｄ：格子定数 α：主面（回折格子の刻線に垂直な平面）との角 ｉ：回折格子への入射角 β：回折格子での回折角 なお、上記（１）式に関し、回折格子に対する光の入射
と出射の関係を模式図で表すと図８の（ａ），（ｂ）の
ようになる。

【００１２】したがって、第１パス及び第２パスの回折
は、上記（１）式から、それぞれ下記（２）及び（３）
式で表される。 ｍ・λ＝２・ｄ・cos α1 ・cos γ1 ・sin θ1 ・・・・・・ （２） （回折条件；入射角ｉ1,回折角β1,主面との角α1,β1
−ｉ1 ＝２γ1,θ1 ＝ｉ1 ＋γ1 ） ｍ・λ＝２・ｄ・cos α2 ・cos γ2 ・sin θ2 ・・・・・・ （３） （回折条件；入射角ｉ2,回折角β2,主面との角α2,β2
−ｉ2 ＝２γ2,θ2 ＝ｉ2 ＋γ2 ）

【００１３】第１パスと第２パスの波長に対する回折格
子の回動角を同じにした場合、第１パスと第２パスの出
力光の波長が同一となるためには、上記（２），（３）
式から、次の（４）及び（５）式を満足する配置であれ
ばよいことが分かる。 θ1 ＝θ2 ［すなわちｉ1 ＋γ1 ＝ｉ2 ＋γ2 ］ ・・・・・・ （４） cos α1 ・cos γ1 ＝cos α2 ・cos γ2 ・・・・・・ （５）

【００１４】次に、上述の手段に述べた構成が、上記
（４）及び（５）式を満足する配置であることを説明す
る。 （イ）第１の発明（請求項１）について 説明に際して、回折格子の刻線方向をｘ座標、回折格子
による波長の分散方向をｙ座標、コリメータの光軸（焦
点）を原点とし、コリメータの焦点距離をｆ、第１の位
置（第１パスの入射位置）を（ｘ，ｙ）＝（ｘ1 ，ｙ1
）、第２の位置（第１パスの仮想の出射位置）を
（ｘ，ｙ）＝（ｘ2 ，ｙ2 ）、第３の位置（第２パスの
仮想の入射位置）を（ｘ，ｙ）＝（ｘ3 ，ｙ3 ）及び第
４の位置（第２パスの出射位置）を（ｘ，ｙ）＝（ｘ4
，ｙ4 ）とする。

【００１５】 上記（４）式について 第１の位置と第２の位置とがコリメータの光軸に対し対
称であり、かつ第３の位置と第４の位置とがコリメータ
の光軸に対し対称であるとすると、第１パス及び第２パ
スの入射と回折の２等分線が一致し、θ1 ＝θ2 となる
ため、（４）式を満足する。なお、θ1 ，θ2 は波長の
関数であり、θ1 ＝θ2 の場合には、波長に依存しない
ことを意味する。

【００１６】 上記（５）式について 第１の位置と第２の位置とがコリメータの光軸に対し対
称であり、かつ第３の位置と第４の位置とがコリメータ
の光軸に対し対称であるとすると、コリメータの光軸を
原点とする任意のｘｙ座標においてγ1 ，γ2 ，α1 ，
α2 は下記の（６）〜（１３）式で表される。 γ1 ＝tan ^{- 1} （｜ｙ1 ｜／ｆ）≒｜ｙ1 ｜／ｆ ・・・・・・（６） ＝tan ^{- 1} （｜ｙ2 ｜／ｆ）≒｜ｙ2 ｜／ｆ ・・・・・・（７） γ2 ＝tan ^{- 1} （｜ｙ3 ｜／ｆ）≒｜ｙ3 ｜／ｆ ・・・・・・（８） ＝tan ^{- 1} （｜ｙ4 ｜／ｆ）≒｜ｙ4 ｜／ｆ ・・・・・・（９） α1 ＝tan ^{- 1} （｜ｘ1 ｜／ｆ）≒｜ｘ1 ｜／ｆ ・・・・・・（１０） ＝tan ^{- 1} （｜ｘ2 ｜／ｆ）≒｜ｘ2 ｜／ｆ ・・・・・・（１１） α2 ＝tan ^{- 1} （｜ｘ3 ｜／ｆ）≒｜ｘ3 ｜／ｆ ・・・・・・（１２） ＝tan ^{- 1} （｜ｘ4 ｜／ｆ）≒｜ｘ4 ｜／ｆ ・・・・・・（１３） （６）、（８）、（１０）、（１２）式を、［cosA≒1ー
(A² ／2)］なる関係を用いて（５）式に代入し、下記の
ように計算すると（１４）式の結果になる。 ｛１−( x1／ｆ)²／２｝｛１−( ｙ1 ／ｆ)²／２｝≒
｛１−( ｘ3 ／ｆ)²／２｝｛１−( ｙ3 ／ｆ)²／２｝ ｘ1²＋ｙ1²≒ｘ3²＋ｙ3²＋（ｘ1²・ｙ1²−ｘ3²・ｙ3²）
／（２・ｆ² ） ここで、ｘ1 ，ｙ1 ，ｘ3 ，ｙ3 《ｆ により、 （ｘ1²・ｙ1²−ｘ3²・ｙ3²）／（２・ｆ² ）≒０ とすると、 ｘ1²＋ｙ1²≒ｘ3²＋ｙ3² ・・・・・・（１４） となる。

【００１７】また、｜ｘ1 ｜＝｜ｘ2 ｜，｜ｙ1 ｜＝｜
ｙ2 ｜，｜ｘ3 ｜＝｜ｘ4 ｜，｜ｙ3 ｜＝｜ｙ4 ｜であ
るから、上記（１４）式から、次式が求められる。 ｘ1²＋ｙ1²≒ｘ2²＋ｙ2²≒ｘ3²＋ｙ3²≒ｘ4²＋ｙ4² ・・・・・・（１５） したがって、（１５）式から、第１の位置、第２の位
置、第３の位置及び第４の位置が、コリメータの光軸に
垂直な任意の平面内においてほぼ同一円周上に存在する
ことによって、（５）式が満足されることになる。

【００１８】以上及びから、上記（４）、（５）式
を満足させるためには、第１の位置、第２の位置、第３
の位置及び第４の位置をコリメータの光軸に垂直な任意
の平面内のほぼ同一円周上に存在させ、かつ第１の位置
と第２の位置とがコリメータの光軸に対しほぼ対称で、
第３の位置と第４の位置とがコリメータの光軸に対しほ
ぼ対称となる位置に配置すればよいことになり、これは
請求項１と同様の構成である。

【００１９】（ロ）第２の発明（請求項２）について コリメータの光軸に垂直な平面内の回折格子の刻線方向
をｘ座標、回折格子による波長の分散方向をｙ座標と
し、コリメータの焦点位置を原点とする座標系におい
て、第１の位置と第３の位置のｙ座標が等しく、かつｙ
軸に対し第１の位置と第３の位置とが対称となるように
配置することにより、第１パスと第２パスの｜γ｜，｜
β｜，｜ｉ｜及び｜α｜が等しくなるため、上記（４）
及び（５）式を満足する。これは請求項２と同様の構成
である。

【００２０】なお、ここで、図７に示した従来技術にお
いて、何故第２のスリット７の移動機構が必要であるか
を説明する。従来技術では、上記第１の位置に対応する
光入射手段１による入射位置、第２の位置と第３の位置
に対応する第１のスリット５及び第４の位置に対応する
第２のスリット７は、それぞれ、図９に示すように回折
格子の刻線方向に配置されていた。したがって、第４の
位置を固定と考えると、前述の（２）及び（３）式にお
いてα1 ≠α2 であり、また、γ1 ，γ2 は光学配置で
決まる固定定数、θ1 ，θ2 は波長の関数であるため、
前述の第１パスと第２パスの出力光の波長が同一となる
ための条件（４）及び（５）式を満足し得ない。この結
果、第４の位置すなわち第２のスリット７を移動するこ
とが必要となる。

【００２１】

【実施例】以下、本発明の一実施例を図面を用いて説明
する。 （第１の実施例）図１は、第１の実施例を示すダブルパ
スモノクロメータの構成図である。これは請求項１に対
応する実施例である。なお、従来例と同一の構成部分に
は同一の記号を付けてある。コリメータ２の焦点の位置
からわずかにずれた第１の位置１１（例えば光ファイバ
ーのような光入射手段によって入射される光の入射位
置）から入射された被測定光ａは、レンズでなるコリメ
ータ２で平行光ｂに変換され、モータ等の軸に連結され
て取り付けられている回折格子３へ任意の入射角で入射
する。回折格子３で分散分光された回折光ｃは、コリメ
ータ２で集光される。このコリメータ２で集光されて出
射された光ｄは、第１の平面鏡４で反射されて第１のス
リット５上に焦点を結ぶ。このように、第１の位置１１
から第１のスリット５（第２の位置１２に相当する）の
間で第１パスを形成している。

【００２２】そして、第１のスリット５で焦点を結んだ
後（すなわち第１のスリット５を通過した後）に第２の
平面鏡６で反射された光ｅは、再び、コリメータ２に入
射し平行光ｆに変換されて回折格子３へ入射する。回折
格子３で再度分散分光されて出射された回折光ｇは、コ
リメータ２で再び集光される。このコリメータ２で集光
されて出射された光ｈは、第４の位置１４（例えば第２
のスリット又は出射ファイバ）上に焦点を結ぶ。このよ
うに、第１のスリット５（第３の位置１３に相当する）
から第４の位置１４の間で第２パスを形成している。

【００２３】図１の構成において、光の入射位置である
第１の位置１１、第１の平面鏡４で光路を変えない場合
に集光する仮想の位置である第２の位置１２、第２の平
面鏡６からコリメータ２に向かう光路に対して反対方向
に延びる延長線上の仮想点であって、この仮想点からコ
リメータ２に対して光を入射した場合このコリメータ２
を通過する光が平行光となるような仮想点である第３の
位置１３及び第２のスリット又は出射ファイバである第
４の位置１４は、それぞれ、コリメータ２の光軸に垂直
な断面において図２のように配置されている。

【００２４】すなわち、第１〜第４の位置１１〜１４
は、図２に示すように、コリメータ２の光軸に垂直な平
面内のこの光軸を中心とする同一円周上に存在し、か
つ、第１の位置１１と第２の位置１２とが上記光軸に対
し対称で、第３の位置１３と第４の位置１４とが上記光
軸に対し対称となるような位置に配置される。このよう
に構成されたリトロー型のダブルパスモノクロメータに
おいては、第２のスリット（又は出射ファイバ）を移動
させることなく、回折格子３を回動動作したときの第１
パスと第２パスの出射光の波長を同調させることができ
る。

【００２５】（第２の実施例）図３の（ａ），（ｂ）
は、第２の実施例を示すダブルパスモノクロメータの構
成図である。これは請求項２に対応する実施例である。
この実施例は、第１の実施例（図１，図２）に対して、
コリメータ２として放物面鏡を用いるようにした点、ま
た請求項２に対応させるようにした点が異なる。コリメ
ータ２としてレンズを用いて（図１）も放物面鏡を用い
て（図３の（ａ））も基本的な構成、動作は同じであ
る。したがって、図３の（ａ）に関する説明は省略し、
以下、請求項２に対応させるために第１〜第４の位置１
１〜１４を、図３の（ｂ）に示すように配置したことを
説明する。

【００２６】すなわち、第１の位置１１及び第３の位置
１３は、図３の（ｂ）に示すように、コリメータ２の光
軸に垂直な平面内の回折格子３の刻線方向をｘ軸、この
回折格子３による波長の分散方向をｙ軸とし、かつ上記
コリメータ２の焦点位置を原点とする座標系において、
上記ｙ軸に対し対称となる位置に配置される。なお、第
２の位置１２及び第４の位置１４の配置は、第１の位置
１１及び第３の位置１３を上記のように配置することに
よって自然に決まるものである。このリトロー型のダブ
ルパスモノクロメータの場合は、第１及び第２の平面鏡
４，６で回折格子３の波長の分散方向に光路を折り返す
ことで加分散配列を構成しているので、第２パスの角分
散が第１パスの角分散の２倍になり、高分解能でかつ広
いダイナミックレンジが得られるという特徴がある。

【００２７】（第３の実施例）図４の（ａ），（ｂ）
は、第３の実施例を示すダブルパスモノクロメータの構
成図である。これは請求項２に対応する実施例である。
この実施例は、第２の実施例（図３の（ａ），（ｂ））
と基本的に同じで、回折格子３の向きを９０度回転して
配置したものである。したがって、それに伴ってそのほ
かの構成要素の配置も図示のように、第２の実施例とは
若干異なっている。

【００２８】（第４の実施例）図５の（ａ），（ｂ）
は、第４の実施例を示すダブルパスモノクロメータの構
成図である。これは請求項１に対応する実施例である。
この実施例は、第１の実施例（図１，図２）と基本的に
同じで、コリメータ２と回折格子３との間に平面鏡９を
配置して光路を折り曲げるようにしたものである。な
お、第２パスの出射光は、従来技術（図７）と同様に、
平面鏡８で光路を折り曲げて第２のスリト７に焦点を結
ぶようにしているが、この場合は、平面鏡８で光路を変
えない場合に集光する仮想の位置が第４の位置となる。

【００２９】（第５の実施例）図６の（ａ），（ｂ）
は、第５の実施例を示すモノクロメータの構成図であ
る。これは請求項２に対応する実施例である。この実施
例は、第２の実施例（図３の（ａ），（ｂ））と基本的
に同じで、第１〜第４の位置１１〜１４とコリメータ２
との間に平面鏡１０を配置して光路を折り曲げるように
したものである。

【００３０】（その他の実施例） 実施例１（図１，図２）において、コリメータ２で
あるレンズを放物面鏡に変えると、図１０の（ａ），
（ｂ）に示すような構成になる。これは実施例１と同様
に請求項１に対応する。なお、詳細な説明は省略する。 実施例２（図３の（ａ），（ｂ））において、コリ
メータ２である放物面鏡をレンズに変えると、図１１の
（ａ），（ｂ）に示すような構成になる。これは実施例
２と同様に請求項２に対応する。なお、詳細な説明は省
略する。 上述の第１〜第５の実施例（上記，も含む）に
おいては、被測定光ａがコリメータ２の焦点の位置から
わずかにずれた第１の位置１１（例えば光ファイバーの
ような光入射手段によって入射される光の入射位置）か
ら入射される場合について説明したが、平面鏡等を配置
して光路を折り曲げた状態で入射するようにしてもよ
い。すなわち、図５の（ａ）に示す平面鏡８と同様な機
能（単に光路を折り曲げる）を持った平面鏡を配置し
て、被測定光ａの光路を折り曲げるようにする。なお。
この場合は、上記平面鏡で光路を変えない場合の仮想の
位置が第１の位置１１となる。

【００３１】

【発明の効果】以上のように、本発明は、第１パス及び
第２パスのそれぞれについて、回折格子に入射する光の
入射位置及び回折格子から出射される光の集光位置をコ
リメータの光軸に対して空間的に特定すること、又は回
折格子に入射する光の入射位置のみをコリメータの光軸
及び回折格子に対して空間的に特定するようにしたの
で、第２のスリットを移動させることなく、上記二つの
パスの出射光の波長を一致、すなわち波長同調を実現す
ることができた。この結果、小型、簡素化を図った高分
解能、広ダイナミックレンジのモノクロメータを実現す
ることができた。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の第１の実施例を示すダブルパスモノク
ロメータの構成図、

【図２】第１の実施例の第１〜第４の位置（入射，出射
位置）の配置を示す図、

【図３】本発明の第２の実施例を示すダブルパスモノク
ロメータの構成図、

【図４】本発明の第３の実施例を示すダブルパスモノク
ロメータの構成図、

【図５】本発明の第４の実施例を示すダブルパスモノク
ロメータの構成図、

【図６】本発明の第５の実施例を示すダブルパスモノク
ロメータの構成図、

【図７】従来のダブルパスモノクロメータの概略構成
図、

【図８】回折格子に対する光の入射と出射の関係を示す
模式図、

【図９】従来例の第１〜第４の位置（入射，出射位置）
の配置を示す図、

【図１０】第１の実施例のコリメータを放物面鏡にした
場合のダブルパスモノクロメータの構成図、

【図１１】第２の実施例のコリメータをレンズにした場
合のダブルパスモノクロメータの構成図。

【符号の説明】

１・・・・光入射手段、２・・・・コリメータ、３・・・・回折格
子、４・・・・第１の平面鏡、５・・・・第１のスリット、６・・
・・第２の平面鏡、７・・・・第２のスリット、８，９，１０
・・・・平面鏡、１１・・・・第１の位置、１２・・・・第２の位
置、１３・・・・第３の位置、１４・・・・第４の位置。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 津田 幸夫 東京都港区南麻布五丁目10番27号 アンリ ツ株式会社内

Claims (2)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 入射光を平行光に変換し出射するコリメ
   ータ（２）と、 該コリメータから出射された平行光を分散分光する回動
   可能な回折格子（３）と、 該回折格子からの回折光が前記コリメータに入射し集光
   する位置に配置された第１のスリット（５）と、 前記回折光が前記コリメータへ入射し出射した後に光路
   を変えて該第１のスリットに集光するようにする第１の
   平面鏡（４）と、 前記第１のスリットを通過した光が光路を変えて前記コ
   リメータに再入射するようにする第２の平面鏡（６）
   と、 前記第１のスリットを通過した光が前記第２の平面鏡と
   前記コリメータと前記回折格子と前記コリメータを介し
   て再び分散分光された後に集光される位置に配置された
   第２のスリット（７）とを備えたモノクロメータにおい
   て、 前記入射光を入射する位置である第１の位置（１１）
   と、前記第１の平面鏡で光路を変えない場合に集光する
   仮想の位置である第２の位置（１２）と、前記第２の平
   面鏡から前記コリメータに向かう光路に対して反対方向
   に延びる延長線上の仮想点であって、この仮想点から前
   記コリメータに対して光を入射した場合前記コリメータ
   を通過する光が平行光となるような該仮想点である第３
   の位置（１３）と、前記第２のスリットに集光する位置
   である第４の位置（１４）とが、前記コリメータの光軸
   に垂直な平面内の光軸を中心とする同一円周上に存在
   し、かつ、前記第１の位置と前記第２の位置とが前記光
   軸に対し対称で、前記第３の位置と前記第４の位置とが
   前記光軸に対し対称となるような位置に配置されたこと
   を特徴とするモノクロメータ。
2. 【請求項２】 入射光を平行光に変換し出射するコリメ
   ータ（２）と、 該コリメータから出射された平行光を分散分光する回動
   可能な回折格子（３）と、 該回折格子からの回折光が前記コリメータに入射し集光
   する位置に配置された第１のスリット（５）と、 前記回折光が前記コリメータへ入射し出射した後に光路
   を変えて該第１のスリットに集光するようにする第１の
   平面鏡（４）と、 前記第１のスリットを通過した光が光路を変えて前記コ
   リメータに再入射するようにする第２の平面鏡（６）
   と、 前記第１のスリットを通過した光が前記第２の平面鏡と
   前記コリメータと前記回折格子と前記コリメータを介し
   て再び分散分光された後に集光される位置に配置された
   第２のスリット（７）とを備えたモノクロメータにおい
   て、 前記入射光を入射する位置である第１の位置（１１）
   と、前記第２の平面鏡から前記コリメータに向かう光路
   に対して反対方向に延びる延長線上の仮想点であって、
   この仮想点から前記コリメータに対して光を入射した場
   合前記コリメータを通過する光が平行光となるような該
   仮想点である第３の位置（１３）とが、前記コリメータ
   の光軸に垂直な平面内の前記回折格子の刻線方向をｘ
   軸、前記回折格子による波長の分散方向をｙ軸とし、か
   つ前記コリメータの焦点位置を原点とする座標系におい
   て、前記ｙ軸に対し対称となる位置に配置されたことを
   特徴とするモノクロメータ。