JPH08158043A - 蒸発槽へのＭｇ供給方法 - Google Patents
蒸発槽へのＭｇ供給方法Info
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- JPH08158043A JPH08158043A JP33007494A JP33007494A JPH08158043A JP H08158043 A JPH08158043 A JP H08158043A JP 33007494 A JP33007494 A JP 33007494A JP 33007494 A JP33007494 A JP 33007494A JP H08158043 A JPH08158043 A JP H08158043A
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 安全且つ安定した条件下で溶融Ｍｇを真空槽
内の蒸発槽に送り込み、Ｍｇ含有合金めっきに必要なＭ
ｇ蒸気を得る。 【構成】 真空槽６の外部に設けたＭｇ溶解槽２からシ
ュノーケル５を経て真空槽６内のＭｇ蒸発槽７にＭｇを
供給する際、溶解槽２をシールする雰囲気を露点−６０
℃以上又は酸素濃度２．５ｐｐｍ以上の不活性雰囲気と
する。雰囲気としては、Ｎ2 単独，Ａｒ又はＨ2 を配合
したＮ2 混合ガス，Ａｒ単独，Ｈｅ，ＳＦ6 等を配合し
たＡｒ混合ガス等が使用される。溶解槽２は、減圧雰囲
気に維持したシール室１内に配置しても良い。 【効果】 溶融Ｍｇ４は、雰囲気中のＯ2 又はＨ2 Ｏと
反応し、活性度の低いＭｇＯ膜で表面が覆われる。その
ため、Ｍｇの蒸発や窒化が抑制され、安定した条件下で
Ｍｇが蒸発室７に供給される。
内の蒸発槽に送り込み、Ｍｇ含有合金めっきに必要なＭ
ｇ蒸気を得る。 【構成】 真空槽６の外部に設けたＭｇ溶解槽２からシ
ュノーケル５を経て真空槽６内のＭｇ蒸発槽７にＭｇを
供給する際、溶解槽２をシールする雰囲気を露点−６０
℃以上又は酸素濃度２．５ｐｐｍ以上の不活性雰囲気と
する。雰囲気としては、Ｎ2 単独，Ａｒ又はＨ2 を配合
したＮ2 混合ガス，Ａｒ単独，Ｈｅ，ＳＦ6 等を配合し
たＡｒ混合ガス等が使用される。溶解槽２は、減圧雰囲
気に維持したシール室１内に配置しても良い。 【効果】 溶融Ｍｇ４は、雰囲気中のＯ2 又はＨ2 Ｏと
反応し、活性度の低いＭｇＯ膜で表面が覆われる。その
ため、Ｍｇの蒸発や窒化が抑制され、安定した条件下で
Ｍｇが蒸発室７に供給される。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、真空蒸着設備の蒸発槽
にＭｇを安定的且つ安全に供給する方法に関する。
にＭｇを安定的且つ安全に供給する方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】Ｚｎ−Ｍｇ等のＭｇ含有めっき鋼板は、
従来の表面処理鋼板と比較して非常に優れた耐食性を示
すことから、過酷な腐食雰囲気に曝される構造材等とし
て今後の用途展開が期待されている。めっき層に取り込
まれるＭｇは、蒸発槽で発生させたＭｇ蒸気をめっき原
板の表面に送り込んで蒸着させている。Ｍｇは、減圧雰
囲気下では昇華性の金属であるが、高圧雰囲気下では昇
華しなくなり、溶融状態を経て蒸気になる。たとえば、
開口部が小さな容器でＭｇを加熱すると、Ｍｇ上の圧力
上昇に伴って、Ｍｇは、昇華性を示さなくなり、溶融状
態から蒸発する。そこで、真空槽の外部にある溶解槽か
ら供給管を経て溶融Ｍｇを送り、真空槽内で蒸発させた
Ｍｇ蒸気を蒸着部に送り込むことができる。このとき、
大気雰囲気中に置かれた溶解槽をシュノーケルで蒸着槽
に連結すると、大気と真空雰囲気との圧力差によってＭ
ｇ蒸気が蒸発槽から蒸着槽に送り込まれる［日新技報第
５６号（１９８７）第４１〜４９頁］。また、特開平２
−１２５８６６号公報では、複数の蒸発槽を蒸着槽に絞
り部を介して連結し、蒸発槽から送り込まれる蒸気の流
量を調整することが開示されている。
従来の表面処理鋼板と比較して非常に優れた耐食性を示
すことから、過酷な腐食雰囲気に曝される構造材等とし
て今後の用途展開が期待されている。めっき層に取り込
まれるＭｇは、蒸発槽で発生させたＭｇ蒸気をめっき原
板の表面に送り込んで蒸着させている。Ｍｇは、減圧雰
囲気下では昇華性の金属であるが、高圧雰囲気下では昇
華しなくなり、溶融状態を経て蒸気になる。たとえば、
開口部が小さな容器でＭｇを加熱すると、Ｍｇ上の圧力
上昇に伴って、Ｍｇは、昇華性を示さなくなり、溶融状
態から蒸発する。そこで、真空槽の外部にある溶解槽か
ら供給管を経て溶融Ｍｇを送り、真空槽内で蒸発させた
Ｍｇ蒸気を蒸着部に送り込むことができる。このとき、
大気雰囲気中に置かれた溶解槽をシュノーケルで蒸着槽
に連結すると、大気と真空雰囲気との圧力差によってＭ
ｇ蒸気が蒸発槽から蒸着槽に送り込まれる［日新技報第
５６号（１９８７）第４１〜４９頁］。また、特開平２
−１２５８６６号公報では、複数の蒸発槽を蒸着槽に絞
り部を介して連結し、蒸発槽から送り込まれる蒸気の流
量を調整することが開示されている。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】溶融状態を経てＭｇ蒸
気を得る場合、６５０℃以上の高温にＭｇを加熱する必
要がある。しかし、Ｍｇは、非常に活性な金属であるた
め、大気雰囲気下での加熱では燃焼し、非常に危険な状
態になる。Ｍｇと大気中の酸素との反応は、溶解槽の表
面をフラックスで覆う方法，溶解槽の表面を不活性ガス
でシールする方法等によって防止できる。しかし、フラ
ックスは、腐食性が強く、飛散や蒸発によって周囲の設
備を腐食し、ときには重大な損傷を与える。また、フラ
ックスで覆っていても、溶解槽の流動でフラックス被覆
層の一部が破れたりするとＭｇの燃焼が始まる虞れがあ
る。この点、フラックスによってＭｇの燃焼を回避する
方法は完全ではない。活性金属Ｍｇは、ＣＯ2 とも反応
し、燃焼する。したがって、ＣＯ2 をシールガスとして
使用することはできず、Ａｒ，Ｎ2 等の不活性ガスに限
られ、実用上からＮ2 又はＮ2 にＡｒやＨ2 を配合した
混合ガス（以下、これをＮ2 混合ガスという）が使用さ
れる。
気を得る場合、６５０℃以上の高温にＭｇを加熱する必
要がある。しかし、Ｍｇは、非常に活性な金属であるた
め、大気雰囲気下での加熱では燃焼し、非常に危険な状
態になる。Ｍｇと大気中の酸素との反応は、溶解槽の表
面をフラックスで覆う方法，溶解槽の表面を不活性ガス
でシールする方法等によって防止できる。しかし、フラ
ックスは、腐食性が強く、飛散や蒸発によって周囲の設
備を腐食し、ときには重大な損傷を与える。また、フラ
ックスで覆っていても、溶解槽の流動でフラックス被覆
層の一部が破れたりするとＭｇの燃焼が始まる虞れがあ
る。この点、フラックスによってＭｇの燃焼を回避する
方法は完全ではない。活性金属Ｍｇは、ＣＯ2 とも反応
し、燃焼する。したがって、ＣＯ2 をシールガスとして
使用することはできず、Ａｒ，Ｎ2 等の不活性ガスに限
られ、実用上からＮ2 又はＮ2 にＡｒやＨ2 を配合した
混合ガス（以下、これをＮ2 混合ガスという）が使用さ
れる。
【０００４】溶解槽の表面又は溶解槽をＮ2 やＮ2 混合
ガスでシールした場合、蒸発したＭｇは、粉末状となっ
て溶解槽の壁面に付着する。付着したＭｇが保守作業時
に飛散すると、引火して粉塵爆発を起こす虞れがあり、
非常に危険な状態になる。また、Ｎ2 やＮ2 混合ガスで
シールするとき、溶融Ｍｇの表面にＭｇの窒化物がドロ
ス状に生成する。Ｍｇの窒化物は、湿気の多い気中でＨ
2 を発生させたり、それ自体が燃焼し易い物質であるこ
とから、溶解槽を大気に開放した後では非常に危険な状
態になる。また、Ｍｇは、密度が１．７４と低い金属で
ある。そのため、大気圧を利用して溶解槽から蒸発槽に
Ｍｇを供給しようとすると、溶解槽と蒸発槽との高低差
を大きくとる必要があり、設備規模が大きくなる。溶解
槽のシール部を減圧することにより、小さな高低差でも
Ｍｇの供給が可能になり、設備の大型化が避けられる。
しかし、減圧によってＭｇの蒸発が加速され、内壁に付
着するＭｇ粉末が多量になる。本発明は、このような問
題を解消すべく案出されたものであり、雰囲気制御によ
り溶融Ｍｇの液面に酸化膜を生成させることにより、Ｍ
ｇの蒸発を抑制し、安定した条件下で且つ安全にＭｇを
溶解槽から蒸発槽に送ることを目的とする。
ガスでシールした場合、蒸発したＭｇは、粉末状となっ
て溶解槽の壁面に付着する。付着したＭｇが保守作業時
に飛散すると、引火して粉塵爆発を起こす虞れがあり、
非常に危険な状態になる。また、Ｎ2 やＮ2 混合ガスで
シールするとき、溶融Ｍｇの表面にＭｇの窒化物がドロ
ス状に生成する。Ｍｇの窒化物は、湿気の多い気中でＨ
2 を発生させたり、それ自体が燃焼し易い物質であるこ
とから、溶解槽を大気に開放した後では非常に危険な状
態になる。また、Ｍｇは、密度が１．７４と低い金属で
ある。そのため、大気圧を利用して溶解槽から蒸発槽に
Ｍｇを供給しようとすると、溶解槽と蒸発槽との高低差
を大きくとる必要があり、設備規模が大きくなる。溶解
槽のシール部を減圧することにより、小さな高低差でも
Ｍｇの供給が可能になり、設備の大型化が避けられる。
しかし、減圧によってＭｇの蒸発が加速され、内壁に付
着するＭｇ粉末が多量になる。本発明は、このような問
題を解消すべく案出されたものであり、雰囲気制御によ
り溶融Ｍｇの液面に酸化膜を生成させることにより、Ｍ
ｇの蒸発を抑制し、安定した条件下で且つ安全にＭｇを
溶解槽から蒸発槽に送ることを目的とする。
【０００５】
【課題を解決するための手段】本発明のＭｇ供給方法
は、その目的を達成するため、真空槽の外部に設けたＭ
ｇ溶解槽からシュノーケルを経て真空槽内のＭｇ蒸発槽
にＭｇを供給する際、溶解槽をシールする雰囲気を露点
−６０℃以上又は酸素濃度２．５ｐｐｍ以上の不活性雰
囲気とすることを特徴とする。不活性雰囲気としては、
Ｎ2 にＡｒ又はＨ2 を配合したＮ2 混合ガスや、Ｍｇに
対して不活性なＨｅ，ＳＦ6 等を添加したＡｒガス等を
使用することもできる。シールに際しては、溶解槽のシ
ール部を減圧することが有効である。窒素ガスに添加さ
れるＡｒは、それ自体がフッ化性であるため任意の配合
割合で良い。しかし、Ｈ2 は、盛れた場合に爆発の虞れ
があることから、爆発限界濃度４容量％以下の配合割合
が好ましい。また、Ａｒガスに添加されるＨｅも、不活
性であることから任意の配合割合で良い。しかし、ＳＦ
6 は、Ｍｇが存在する状態では分解して腐食性を呈する
ようになるので、濃度を５容量％以下とし、強い腐食性
が出ないようにすることが望ましい。
は、その目的を達成するため、真空槽の外部に設けたＭ
ｇ溶解槽からシュノーケルを経て真空槽内のＭｇ蒸発槽
にＭｇを供給する際、溶解槽をシールする雰囲気を露点
−６０℃以上又は酸素濃度２．５ｐｐｍ以上の不活性雰
囲気とすることを特徴とする。不活性雰囲気としては、
Ｎ2 にＡｒ又はＨ2 を配合したＮ2 混合ガスや、Ｍｇに
対して不活性なＨｅ，ＳＦ6 等を添加したＡｒガス等を
使用することもできる。シールに際しては、溶解槽のシ
ール部を減圧することが有効である。窒素ガスに添加さ
れるＡｒは、それ自体がフッ化性であるため任意の配合
割合で良い。しかし、Ｈ2 は、盛れた場合に爆発の虞れ
があることから、爆発限界濃度４容量％以下の配合割合
が好ましい。また、Ａｒガスに添加されるＨｅも、不活
性であることから任意の配合割合で良い。しかし、ＳＦ
6 は、Ｍｇが存在する状態では分解して腐食性を呈する
ようになるので、濃度を５容量％以下とし、強い腐食性
が出ないようにすることが望ましい。
【０００６】
【作用】Ｍｇは、熱力学的にみるとＮ2 よりもＯ2 との
反応性が高く、酸化物の生成によって窒化物の生成が防
止される。しかも、ＭｇＯは、非常に安定であり、大気
との反応によって燃焼することはなく、また水分との反
応によってＨ2 を発生させることもない。本発明では、
このＭｇＯの特性を利用してＭｇの蒸発を抑制してい
る。本発明に従ったＭｇの供給には、たとえば図１に示
す設備構成が採用される。Ｍｇ原料は、シール室１の内
部に配置されている溶解槽２で溶解される。シール室１
は、大気と遮断され、Ｎ2 ，Ｎ2 混合ガス，Ａｒ又はＡ
ｒ混合ガスが導入される。シール室１は、排気ポンプ３
によって所定の雰囲気圧に維持される。調製された溶融
Ｍｇ４は、シュノーケル５を経て真空槽６内に配置され
ている蒸発槽７に送り込まれる。
反応性が高く、酸化物の生成によって窒化物の生成が防
止される。しかも、ＭｇＯは、非常に安定であり、大気
との反応によって燃焼することはなく、また水分との反
応によってＨ2 を発生させることもない。本発明では、
このＭｇＯの特性を利用してＭｇの蒸発を抑制してい
る。本発明に従ったＭｇの供給には、たとえば図１に示
す設備構成が採用される。Ｍｇ原料は、シール室１の内
部に配置されている溶解槽２で溶解される。シール室１
は、大気と遮断され、Ｎ2 ，Ｎ2 混合ガス，Ａｒ又はＡ
ｒ混合ガスが導入される。シール室１は、排気ポンプ３
によって所定の雰囲気圧に維持される。調製された溶融
Ｍｇ４は、シュノーケル５を経て真空槽６内に配置され
ている蒸発槽７に送り込まれる。
【０００７】蒸発槽７に送り込まれた溶融Ｍｇ４は、ヒ
ータ８で加熱される。加熱されたＭｇは、蒸気となって
案内フード９を通り、めっき原板（図示せず）の表面に
供給され、蒸着に消費される。このとき、Ｍｇ蒸気の流
量を調整し、溶融Ｍｇの飛散を防止するため、案内フー
ド９の入り口にシャッターを設けることが好ましい。こ
の設備構成において、Ｎ2 ，Ｎ2 混合ガス，Ａｒ又はＡ
ｒ混合ガスをシール室１に送り込む。Ｍｇは、酸素又は
水分との反応性が高く、露点−６０℃以上又は酸素濃度
２．５ｐｐｍ以上でＭｇの蒸発抑制に有効なＭｇＯ膜が
溶融Ｍｇ４の上に生成する。しかし、露点が−６０℃未
満の乾燥雰囲気や酸素濃度が２．５ｐｐｍに達しない雰
囲気では、Ｍｇの蒸発や窒化を抑制するのに十分なＭｇ
Ｏ膜が生成しない。ただし、Ｍｇの発火を抑制する上か
ら、酸素濃度は５体積％以下にすることが好ましい。
ータ８で加熱される。加熱されたＭｇは、蒸気となって
案内フード９を通り、めっき原板（図示せず）の表面に
供給され、蒸着に消費される。このとき、Ｍｇ蒸気の流
量を調整し、溶融Ｍｇの飛散を防止するため、案内フー
ド９の入り口にシャッターを設けることが好ましい。こ
の設備構成において、Ｎ2 ，Ｎ2 混合ガス，Ａｒ又はＡ
ｒ混合ガスをシール室１に送り込む。Ｍｇは、酸素又は
水分との反応性が高く、露点−６０℃以上又は酸素濃度
２．５ｐｐｍ以上でＭｇの蒸発抑制に有効なＭｇＯ膜が
溶融Ｍｇ４の上に生成する。しかし、露点が−６０℃未
満の乾燥雰囲気や酸素濃度が２．５ｐｐｍに達しない雰
囲気では、Ｍｇの蒸発や窒化を抑制するのに十分なＭｇ
Ｏ膜が生成しない。ただし、Ｍｇの発火を抑制する上か
ら、酸素濃度は５体積％以下にすることが好ましい。
【０００８】溶融Ｍｇの液面に生成したＭｇＯ膜は、実
質的な蒸発がなくなるまでＭｇの蒸発を抑制する。その
ため、シール室１を減圧しても、Ｍｇの蒸発が加速され
ることはない。したがって、シール室１の減圧により、
溶解槽２と蒸発槽７との高低差を小さくすることがで
き、設備的にコンパクトで安価な設計が可能になる。こ
れに対し、露点が−６０℃未満の乾燥雰囲気や酸素濃度
が２．５ｐｐｍに達しない雰囲気を使用する場合、Ｍｇ
の蒸発を抑えるためにシール室１の内圧を低く設定する
ことができない。この条件下で溶解槽２から蒸発槽７に
溶融Ｍｇ４を送るためには、図２に示すようにシュノー
ケル５を長くし、溶解槽２と蒸発槽７との高低差を大き
くとらなければならない。露点−６０℃以上又は酸素濃
度２．５ｐｐｍ以上のＮ2 又はＮ2 混合ガスやＨｅ，Ｓ
Ｆ6 等を添加したＡｒガス等の使用は、図２との対比か
ら明らかなように、設備的にも有利である。
質的な蒸発がなくなるまでＭｇの蒸発を抑制する。その
ため、シール室１を減圧しても、Ｍｇの蒸発が加速され
ることはない。したがって、シール室１の減圧により、
溶解槽２と蒸発槽７との高低差を小さくすることがで
き、設備的にコンパクトで安価な設計が可能になる。こ
れに対し、露点が−６０℃未満の乾燥雰囲気や酸素濃度
が２．５ｐｐｍに達しない雰囲気を使用する場合、Ｍｇ
の蒸発を抑えるためにシール室１の内圧を低く設定する
ことができない。この条件下で溶解槽２から蒸発槽７に
溶融Ｍｇ４を送るためには、図２に示すようにシュノー
ケル５を長くし、溶解槽２と蒸発槽７との高低差を大き
くとらなければならない。露点−６０℃以上又は酸素濃
度２．５ｐｐｍ以上のＮ2 又はＮ2 混合ガスやＨｅ，Ｓ
Ｆ6 等を添加したＡｒガス等の使用は、図２との対比か
ら明らかなように、設備的にも有利である。
【０００９】
実施例１：図２の設備構成でシール室１を大気圧の窒素
雰囲気とし、溶解槽２内の溶融Ｍｇ４を温度７００℃に
保持した。そして、窒素雰囲気の露点及び酸素濃度がＭ
ｇの蒸発及び窒化物の生成に及ぼす影響を調査した。な
お、溶解槽２から蒸発槽７までの高低差を６．６ｍと
し、露点及び酸素濃度をシール室１の入口部分で測定し
た。調査結果を示す表１から明らかなように、シール室
１が露点−６０℃以上又は酸素濃度２．５ｐｐｍ以上の
Ｎ2 満たされているとき、Ｍｇの蒸発や窒化物の生成が
検出されず、安定した条件下で溶融Ｍｇ４を得ることが
できた。これに対して、窒素雰囲気の露点が−６０℃未
満になったり、酸素濃度が２．５ｐｐｍに達しない場合
には、Ｍｇの蒸発がみられ、シール室１の内壁に粉末状
になってＭｇが付着することもあった。
雰囲気とし、溶解槽２内の溶融Ｍｇ４を温度７００℃に
保持した。そして、窒素雰囲気の露点及び酸素濃度がＭ
ｇの蒸発及び窒化物の生成に及ぼす影響を調査した。な
お、溶解槽２から蒸発槽７までの高低差を６．６ｍと
し、露点及び酸素濃度をシール室１の入口部分で測定し
た。調査結果を示す表１から明らかなように、シール室
１が露点−６０℃以上又は酸素濃度２．５ｐｐｍ以上の
Ｎ2 満たされているとき、Ｍｇの蒸発や窒化物の生成が
検出されず、安定した条件下で溶融Ｍｇ４を得ることが
できた。これに対して、窒素雰囲気の露点が−６０℃未
満になったり、酸素濃度が２．５ｐｐｍに達しない場合
には、Ｍｇの蒸発がみられ、シール室１の内壁に粉末状
になってＭｇが付着することもあった。
【００１０】
【表１】
【００１１】実施例２：図１の設備構成でシール室１を
排気ポンプ３で排気し、１２０トールの窒素雰囲気に維
持した。この雰囲気圧の下で、雰囲気の露点及び酸素濃
度がＭｇの蒸発及び窒化に及ぼす影響を調査した。な
お、１２０トールまで減圧することにより、溶解槽２と
蒸発槽７との高低差を実施例１の約１／６に相当する
１．１ｍまで小さくしても、実施例１と同様な流量で溶
解槽２から蒸発槽７に溶融Ｍｇ４を送給することができ
た。また、露点及び酸素濃度は、大気圧のシール室１の
入口で測定した。表２から明らかなように、シール室１
が露点−６０℃以上又は酸素濃度２．５ｐｐｍ以上のＮ
2 満たされているとき、Ｍｇの蒸発や窒化物の生成が検
出されず、安定した条件下で溶融Ｍｇ４を得ることがで
きた。
排気ポンプ３で排気し、１２０トールの窒素雰囲気に維
持した。この雰囲気圧の下で、雰囲気の露点及び酸素濃
度がＭｇの蒸発及び窒化に及ぼす影響を調査した。な
お、１２０トールまで減圧することにより、溶解槽２と
蒸発槽７との高低差を実施例１の約１／６に相当する
１．１ｍまで小さくしても、実施例１と同様な流量で溶
解槽２から蒸発槽７に溶融Ｍｇ４を送給することができ
た。また、露点及び酸素濃度は、大気圧のシール室１の
入口で測定した。表２から明らかなように、シール室１
が露点−６０℃以上又は酸素濃度２．５ｐｐｍ以上のＮ
2 満たされているとき、Ｍｇの蒸発や窒化物の生成が検
出されず、安定した条件下で溶融Ｍｇ４を得ることがで
きた。
【００１２】
【表２】
【００１３】実施例３：図２の設備構成で、シール室１
を大気圧のＡｒ雰囲気及びＨｅ又はＳＦ6 を添加したＡ
ｒ雰囲気とし、溶解槽２内の溶融Ｍｇ４を温度６８０℃
に保持した。雰囲気の露点及び酸素濃度は、シール室１
の入口部分で測定した。Ａｒ雰囲気又はＡｒ混合ガス雰
囲気の露点及び酸素濃度がＭｇの蒸発に及ぼす影響を調
査した。調査結果を示す表３にみられるように、露点が
−６０℃以上又は酸素濃度が２．５ｐｐｍ以上の雰囲気
では、Ｍｇは蒸発することなく安定して溶解した。ま
た、Ｍｇの発火も全くみられなかった。
を大気圧のＡｒ雰囲気及びＨｅ又はＳＦ6 を添加したＡ
ｒ雰囲気とし、溶解槽２内の溶融Ｍｇ４を温度６８０℃
に保持した。雰囲気の露点及び酸素濃度は、シール室１
の入口部分で測定した。Ａｒ雰囲気又はＡｒ混合ガス雰
囲気の露点及び酸素濃度がＭｇの蒸発に及ぼす影響を調
査した。調査結果を示す表３にみられるように、露点が
−６０℃以上又は酸素濃度が２．５ｐｐｍ以上の雰囲気
では、Ｍｇは蒸発することなく安定して溶解した。ま
た、Ｍｇの発火も全くみられなかった。
【００１４】
【表３】
【００１５】実施例４：図１に設備構成で、シール室１
をポンプ３により排気し、３５０トールのＡｒ雰囲気と
した。溶解槽２内の溶融Ｍｇ４を温度６８０℃に保持
し、雰囲気の露点及び酸素濃度がＭｇの蒸発に与える影
響を調査した。なお、露点及び酸素濃度は、実施例３と
同様にシール室の入口部分で測定した。調査結果を示す
表４から明らかなように、減圧されたシール室１の露点
が−６０℃以上又は酸素濃度が２．５ｐｐｍ以上のＡｒ
雰囲気では、Ｍｇは、蒸発や発火することなく、安定条
件下で溶解した。
をポンプ３により排気し、３５０トールのＡｒ雰囲気と
した。溶解槽２内の溶融Ｍｇ４を温度６８０℃に保持
し、雰囲気の露点及び酸素濃度がＭｇの蒸発に与える影
響を調査した。なお、露点及び酸素濃度は、実施例３と
同様にシール室の入口部分で測定した。調査結果を示す
表４から明らかなように、減圧されたシール室１の露点
が−６０℃以上又は酸素濃度が２．５ｐｐｍ以上のＡｒ
雰囲気では、Ｍｇは、蒸発や発火することなく、安定条
件下で溶解した。
【００１６】
【表４】
【００１７】
【発明の効果】以上に説明したように、本発明において
は、溶解槽の溶融Ｍｇと接する雰囲気を露点−６０℃以
上又は酸素濃度２．５ｐｐｍ以上のＮ2 ，Ｎ2 混合ガ
ス，Ａｒ，Ａｒ混合ガス等の不活性雰囲気とすることに
より、ＭｇＯ膜を溶融Ｍｇの表面に積極的に形成させて
いる。ＭｇＯ膜は、溶融ＭｇからのＭｇ蒸気の揮散を防
止すると共に、溶融Ｍｇと雰囲気窒素との反応によって
Ｍｇの窒化物が生成することを抑制している。そのた
め、溶解槽を減圧雰囲気に維持してもＭｇが蒸気となる
ことがなく、溶解槽から蒸発槽までの高低差を小さくし
た設計が可能になる。このようにして、本発明によると
き、設備の大型化を招くことなく、高耐食性Ｍｇ含有合
金めっき鋼板の製造に好適なＭｇ蒸気の供給が可能とな
る。
は、溶解槽の溶融Ｍｇと接する雰囲気を露点−６０℃以
上又は酸素濃度２．５ｐｐｍ以上のＮ2 ，Ｎ2 混合ガ
ス，Ａｒ，Ａｒ混合ガス等の不活性雰囲気とすることに
より、ＭｇＯ膜を溶融Ｍｇの表面に積極的に形成させて
いる。ＭｇＯ膜は、溶融ＭｇからのＭｇ蒸気の揮散を防
止すると共に、溶融Ｍｇと雰囲気窒素との反応によって
Ｍｇの窒化物が生成することを抑制している。そのた
め、溶解槽を減圧雰囲気に維持してもＭｇが蒸気となる
ことがなく、溶解槽から蒸発槽までの高低差を小さくし
た設計が可能になる。このようにして、本発明によると
き、設備の大型化を招くことなく、高耐食性Ｍｇ含有合
金めっき鋼板の製造に好適なＭｇ蒸気の供給が可能とな
る。
【図１】 本発明に従って溶解槽から蒸発槽までの高低
差を小さくした設備構成
差を小さくした設備構成
【図２】 溶解槽から蒸発槽までの高低差が大きな設備
構成
構成
１：シール室 ２：溶解槽 ３：ポンプ ４：溶
融Ｍｇ ５：シュノーケル ６：真空槽 ７：蒸
発槽 ８：ヒータ ９：案内フード １０：シャ
ッター
融Ｍｇ ５：シュノーケル ６：真空槽 ７：蒸
発槽 ８：ヒータ ９：案内フード １０：シャ
ッター
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 森山 義輝 大阪府堺市石津西町５番地 日新製鋼株式 会社堺製造所内 (72)発明者 土居 隆司 大阪府堺市石津西町５番地 日新製鋼株式 会社堺製造所内
Claims (4)
- 【請求項１】 真空槽の外部に設けたＭｇ溶解槽からシ
ュノーケルを経て真空槽内のＭｇ蒸発槽にＭｇを供給す
る際、溶解槽をシールする雰囲気を露点−６０℃以上又
は酸素濃度２．５ｐｐｍ以上の不活性雰囲気とすること
を特徴とする蒸発槽へのＭｇ供給方法。 - 【請求項２】 Ａｒ又はＨ2 を含む窒素ガスを不活性雰
囲気として使用する請求項１記載の蒸発槽へのＭｇ供給
方法。 - 【請求項３】 Ｍｇに対して不活性なＨｅ及び／又はＳ
Ｆ6 をＡｒと混合した混合ガスを不活性雰囲気として使
用する請求項１記載の蒸発槽へのＭｇ供給方法。 - 【請求項４】 溶解槽のシール部を減圧する請求項１〜
３の何れかに記載の蒸発槽へのＭｇ供給方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP33007494A JPH08158043A (ja) | 1994-12-05 | 1994-12-05 | 蒸発槽へのＭｇ供給方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP33007494A JPH08158043A (ja) | 1994-12-05 | 1994-12-05 | 蒸発槽へのＭｇ供給方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH08158043A true JPH08158043A (ja) | 1996-06-18 |
Family
ID=18228498
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP33007494A Withdrawn JPH08158043A (ja) | 1994-12-05 | 1994-12-05 | 蒸発槽へのＭｇ供給方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH08158043A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP4956826B2 (ja) * | 2005-03-02 | 2012-06-20 | 日本重化学工業株式会社 | 高蒸気圧金属含有合金の溶解方法 |
| WO2012091390A3 (en) * | 2010-12-27 | 2012-08-23 | Posco | Dry coating apparatus |
-
1994
- 1994-12-05 JP JP33007494A patent/JPH08158043A/ja not_active Withdrawn
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP4956826B2 (ja) * | 2005-03-02 | 2012-06-20 | 日本重化学工業株式会社 | 高蒸気圧金属含有合金の溶解方法 |
| WO2012091390A3 (en) * | 2010-12-27 | 2012-08-23 | Posco | Dry coating apparatus |
| CN103237917A (zh) * | 2010-12-27 | 2013-08-07 | Posco公司 | 干法涂覆装置 |
| US9732423B2 (en) | 2010-12-27 | 2017-08-15 | Posco | Dry coating apparatus |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A300 | Withdrawal of application because of no request for examination |
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