JPH0815504A - Optical device and production of optical device - Google Patents

Optical device and production of optical device

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JPH0815504A
JPH0815504A JP14505294A JP14505294A JPH0815504A JP H0815504 A JPH0815504 A JP H0815504A JP 14505294 A JP14505294 A JP 14505294A JP 14505294 A JP14505294 A JP 14505294A JP H0815504 A JPH0815504 A JP H0815504A
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optical device
transfer material
surface shape
curvature
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Kazuhiro Umeki
和博 梅木
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Abstract

PURPOSE:To realize an optical device having desired surface shape. CONSTITUTION:This process for production of the optical device comprises forming a desired curved surface shape on the surface of a device material 1 by laminating a transfer material 3 transferred with a projecting spherical surface shape by using molds 2 formed with a recessed spherical surface shape meeting the prescribed projecting spherical surface shape on the surface of the device material l and subjecting the transfer material 3 and the device material l to physical etching with the surface shape of a reference surface which is the surface of the transfer material 3 as a starting shape. The surface of the device material 1 to be laminated with the transfer material is formed as the projecting spherical surface 4 having a prescribed radius of curvature. The selection ratio of the physical etching is varied from 1 or is continuously and/or stepwise changed with lapse of time according to the desired curved surface shape 4' to be formed on the device material 4.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】この発明は光学デバイスおよび光
学デバイス製造方法に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to an optical device and an optical device manufacturing method.

【0002】[0002]

【従来の技術】レンズやミラーに、非球面に代表される
特殊な面形状が使用されるようになってきている。非球
面のような特殊な面形状は、機械的な研磨で創成するこ
とが容易ではなく、通常は型を用いた成形加工により作
製が行われる場合が多い。
2. Description of the Related Art A special surface shape represented by an aspherical surface has come to be used for lenses and mirrors. It is not easy to create a special surface shape such as an aspherical surface by mechanical polishing, and it is often manufactured by a molding process using a mold.

【0003】このため、例えば、非球面の屈折面を持つ
レンズなどは、その殆どがプラスチック材料を用いたプ
ラスチック成形品として作製されており、材料選択の余
地が少ない点が問題となっている。
For this reason, for example, most lenses having an aspherical refracting surface are manufactured as plastic molded products using a plastic material, and there is a problem that there is little room for material selection.

【0004】所望の面形状を、型を用いてガラス表面に
創成する技術としては「ガラスプレス法」が知られてい
るが、使用される型は、ガラスに成形する際の高温(6
50度以上)・高圧に耐えねばならず、高温下での酸化
に対する耐性も必要である。このため、型の材料は特殊
な金属やセラミックスに限定される。このような特殊な
材料は型の加工が非常に難しく、その上、耐酸化性を付
加するためには、型の表面にSi34,SiC,Au,
Pt等の薄膜を形成する必要がある。
The "glass pressing method" is known as a technique for creating a desired surface shape on a glass surface by using a mold, but the mold used has a high temperature (6
(50 degrees or more) ・ It must withstand high pressure and must also be resistant to oxidation at high temperatures. Therefore, the mold material is limited to special metals and ceramics. Such a special material is very difficult to process the mold, and in addition, in order to add oxidation resistance, Si 3 N 4 , SiC, Au,
It is necessary to form a thin film of Pt or the like.

【0005】このため、ガラスプレス法に用いられる
「型」は、コストが高く、しかも、高温・高圧下で使用
されるため、材料を選択するにも拘らず、「型としての
寿命」はさほど長くない。
For this reason, the "mold" used in the glass pressing method is high in cost and used at high temperature and high pressure, so that the "life as a mold" is not so good even though the material is selected. Not long.

【0006】一方、屈折面や反射面を型成形や研磨によ
らずに創成する方法として、光学材料の表面にフォトレ
ジストの層を形成し、この層を例えば、円形や楕円形に
パターニングし、その後、上記層を加熱して、フォトレ
ジストの熱流動により、フォトレジストの表面を曲面形
状化し、しかるのちに、フォトレジストと光学材料とに
対してエッチングを行い、フォトレジスト表面の曲面形
状を光学材料に彫り写すという方法が提案されている
(例えば、特開平5−173003号公報:請求項1
6)。
On the other hand, as a method of creating a refracting surface or a reflecting surface without using molding or polishing, a layer of photoresist is formed on the surface of an optical material, and this layer is patterned into, for example, a circle or an ellipse, Then, by heating the above layer, the surface of the photoresist is made into a curved surface shape by the thermal flow of the photoresist, and thereafter, the photoresist and the optical material are etched so that the curved surface shape of the photoresist surface is made optically. A method of engraving on a material has been proposed (for example, JP-A-5-173003: Claim 1).
6).

【0007】この方法は、マイクロレンズの屈折面形成
方法として適しているが、加熱に依りフォトレジスト表
面に生成する表面形状の制御が必ずしも容易でなく、意
図した通りの曲面を正確に形成することが難しい。
This method is suitable as a method for forming a refracting surface of a microlens, but it is not always easy to control the surface shape generated on the photoresist surface by heating, and it is possible to form a curved surface exactly as intended. Is difficult.

【0008】[0008]

【発明が解決しようとする課題】この発明は上述した事
情に鑑みてなされたものであって、所望の表面形状を正
確に有する新規な光学デバイスの提供を目的とする(請
求項6〜8)。
The present invention has been made in view of the above circumstances, and an object thereof is to provide a novel optical device having a desired surface shape accurately (claims 6 to 8). .

【0009】この発明の別の目的は、上記光学デバイス
を容易且つ確実に製造できる新規な光学デバイス製造方
法の提供にある(請求項1〜5)。
Another object of the present invention is to provide a novel optical device manufacturing method capable of easily and reliably manufacturing the above optical device (claims 1 to 5).

【0010】[0010]

【課題を解決するための手段】この発明の光学デバイス
製造方法は「成形型を用いて凸球面形状を転写された転
写材をデバイス材料表面上に積層し、上記転写材表面を
参照面とし、参照面を出発形状として、転写材とデバイ
ス材料とに対して物理的エッチングを行い、デバイス材
料の表面に所望の曲面形状を形成する」方法である。
The method for manufacturing an optical device of the present invention includes: "A transfer material having a convex spherical shape transferred using a molding die is laminated on the surface of a device material, and the transfer material surface is used as a reference surface; This is a method of forming a desired curved surface shape on the surface of the device material by physically etching the transfer material and the device material using the reference surface as a starting shape.

【0011】「デバイス材料」は、最終的に得られる光
学デバイスの実態と成るべき材料であり、透明あるいは
不透明の材料が用いられるが、固体であって物理的エッ
チングが可能であるものであれば、特に制限無く利用で
きる。
The "device material" is a material that should be the actual condition of the finally obtained optical device, and a transparent or opaque material is used, but if it is solid and capable of physical etching. Can be used without any particular restrictions.

【0012】「成形型」は所定の凸球面形状に対応する
凹球面形状を有し、この凹球面形状が反転した「所定の
凸球面形状」が転写材に、その表面形状として転写され
る。
The "molding die" has a concave spherical surface shape corresponding to a predetermined convex spherical surface shape, and the "predetermined convex spherical surface shape" obtained by inverting the concave spherical surface shape is transferred to the transfer material as its surface shape.

【0013】所望の凸球面形状を転写された「転写材」
は、デバイス材料の表面に積層されるが、デバイス材料
における「転写材を積層される面」は「所定の曲率半径
を持つ凸球面」である。
"Transfer material" on which a desired convex spherical shape is transferred
Is laminated on the surface of the device material, and the “surface on which the transfer material is laminated” in the device material is “a convex spherical surface having a predetermined radius of curvature”.

【0014】また、物理的エッチングの選択比、即ち
[デバイス材料のエッチング速度]/[転写材のエッチ
ング速度]は、デバイス材料に形成するべき所望の曲面
形状に応じて、1と異ならせられるか、もしくは経時的
に、連続的および/または段階的に変化させられる(請
求項1)。
Further, the selection ratio of physical etching, that is, [etching rate of device material] / [etching rate of transfer material] can be made different from 1 according to a desired curved surface shape to be formed on the device material. Or, it is changed continuously and / or stepwise over time (claim 1).

【0015】なお、上記「物理的エッチング」として
は、RIEやECRプラズマエッチング等のドライエッ
チングが好ましい。
As the above-mentioned "physical etching", dry etching such as RIE or ECR plasma etching is preferable.

【0016】上記請求項1記載の光学デバイス製造方法
において、成形型の球面形状を転写材の表面形状として
転写するに際し、成形型の凹球面形状に「離型のための
表面処理」を施すことができる(請求項2)。この表面
処理としては、プラズマフッ素処理や有機物質によるフ
ッ素撥水処理(トリアジンチオールのフッ素誘導体物質
による表面処理)が好適である。
In the method for manufacturing an optical device according to claim 1, when the spherical shape of the molding die is transferred as the surface shape of the transfer material, the concave spherical surface of the molding die is subjected to "surface treatment for mold release". (Claim 2) As this surface treatment, plasma fluorine treatment or fluorine water repellent treatment with an organic substance (surface treatment with a triazinethiol fluorine derivative substance) is suitable.

【0017】上記転写材は、物理的エッチングが可能
で、表面形状の転写が可能なものであれば特に制限無く
利用できるが、「光硬化性材料もしくは熱硬化性材料」
は特に好適である(請求項3)。
The above-mentioned transfer material can be used without particular limitation as long as it is capable of physical etching and transfer of the surface shape, and is a "photo-curable material or thermosetting material".
Are particularly suitable (claim 3).

【0018】「光硬化性材料」としては、エポキシ系樹
脂やアクリル系樹脂、ウレタン系樹脂、変形シリコーン
系樹脂、あるいは、これらをベースとした配合により構
成されるものを利用できる。特に、エポキシ系樹脂とア
クリル系樹脂を組み合わせて配合したものは、転写材と
して好適である。勿論、市販の紫外線硬化樹脂等は転写
材として好適に使用できる。
As the "photo-curable material", an epoxy resin, an acrylic resin, a urethane resin, a modified silicone resin, or a material composed of a mixture thereof can be used. In particular, a compound prepared by combining an epoxy resin and an acrylic resin is suitable as a transfer material. Of course, a commercially available ultraviolet curable resin or the like can be preferably used as the transfer material.

【0019】「熱硬化性材料」としては、エポキシ樹脂
やフェノール樹脂、ユリア樹脂、メラミン樹脂等を利用
することができる。これらは200度C以下の温度で硬
化するので、硬化の際の加熱処理で成形型に対する熱の
ダメージが少ない。
As the "thermosetting material", epoxy resin, phenol resin, urea resin, melamine resin and the like can be used. Since these are cured at a temperature of 200 ° C. or less, the heat treatment during curing causes less heat damage to the mold.

【0020】デバイス材料は、前述のように透明あるい
は不透明の材料で、固体であって物理的エッチングが可
能であるものであり、且つ、転写材を積層される表面が
所定の曲率半径の球面であるが、好適な例として「透明
球体」を上げることができる(請求項4)。
As described above, the device material is a transparent or opaque material, is solid, and can be physically etched, and the surface on which the transfer material is laminated is a spherical surface having a predetermined radius of curvature. However, as a preferable example, "transparent sphere" can be raised (claim 4).

【0021】このように、デバイス材料として透明球体
を用いる場合、その直径が10mm以下のもの、特に直
径が1〜3mm程度の透明球体の場合は、この発明の光
学デバイス製造方法を好適に適用できる(請求項5)。
As described above, when a transparent sphere is used as the device material, the optical device manufacturing method of the present invention can be preferably applied to a transparent sphere having a diameter of 10 mm or less, particularly a transparent sphere having a diameter of about 1 to 3 mm. (Claim 5).

【0022】この発明の「光学デバイス」は、上記請求
項1〜5記載の光学デバイス製造方法の任意の1により
製造される光学デバイスである(請求項6)。
The "optical device" of the present invention is an optical device manufactured by any one of the optical device manufacturing methods described in claims 1 to 5 (claim 6).

【0023】この光学デバイスの「物理的エッチングに
より形成される面」を、非球面とすることができる(請
求項7)。
The "surface formed by physical etching" of this optical device may be an aspherical surface (claim 7).

【0024】勿論、上記光学デバイス製造方法を用い、
デバイス材料に「表裏をなす」ようにして、所望の曲面
形状を「2面」形成してもよい。
Of course, using the above optical device manufacturing method,
A desired curved surface shape may be formed “two-sided” by forming “front and back” on the device material.

【0025】上記請求項6または7記載の光学デバイス
に、反射膜を形成したものを「光学デバイス」とするこ
ともできる(請求項8)。このように、反射膜を形成し
て光学デバイスとする場合には、デバイス材料が透明な
ものでなくてもよいことは言うまでもない。
An optical device having a reflection film formed on the optical device according to claim 6 or 7 may be used as an "optical device" (claim 8). As described above, it goes without saying that the device material does not have to be transparent when the reflective film is formed into an optical device.

【0026】[0026]

【作用】上述の如く、この発明の光学デバイス製造方法
では、デバイス材料の凸球面上に積層された転写材が、
所定の凸球面形状を「参照面」として有し、デバイス材
料と転写材に対して物理的エッチングを行い、その際
に、選択比を1と異ならせるか、あるいは経時的に連続
的および/または段階的に選択比を変化させることによ
り所望の曲面形状がデバイス材料表面形状として形成さ
れる。
As described above, in the optical device manufacturing method of the present invention, the transfer material laminated on the convex spherical surface of the device material is
It has a predetermined convex spherical shape as a “reference surface” and physically etches the device material and the transfer material, and at that time, makes the selection ratio different from 1 or continuously and / or with time. By changing the selection ratio stepwise, a desired curved surface shape is formed as the device material surface shape.

【0027】図1(a)において、符号1は「デバイス
材料」である透明球体、符号2は成形型、符号3は転写
材を示している。透明球体1は、所定の曲率半径を持っ
た凸球面4を有している。
In FIG. 1A, reference numeral 1 is a transparent sphere which is a "device material", reference numeral 2 is a molding die, and reference numeral 3 is a transfer material. The transparent sphere 1 has a convex spherical surface 4 having a predetermined radius of curvature.

【0028】転写型2は「所定の凸球面形状に応じた凹
球面形状」を形成されており、凹球面形状の部分に転写
材3を入れ、上方から透明球体1を押し当てて転写材3
を変形させた状態で透明球体1の表面に接着させ、型抜
きすると、図1(b)に示すように、転写材3がデバイ
ス材料である透明球体1の表面上に積層された状態が実
現する。
The transfer mold 2 has a "concave spherical surface shape corresponding to a predetermined convex spherical surface shape". The transfer material 3 is put in the concave spherical surface portion, and the transparent spherical body 1 is pressed from above to transfer the transfer material 3 therethrough.
When it is bonded to the surface of the transparent sphere 1 in a deformed state and die-cutting, as shown in FIG. 1B, a state in which the transfer material 3 is laminated on the surface of the transparent sphere 1 which is a device material is realized. To do.

【0029】透明球体1の表面に積層された転写材3の
表面形状は、成形型2における凹球面形状が反転した凸
球面形状を「参照面」として転写されたものである。
The surface shape of the transfer material 3 laminated on the surface of the transparent sphere 1 is transferred by using the convex spherical shape, which is the inverted concave spherical shape of the molding die 2, as a "reference surface".

【0030】上記参照面を出発形状として、転写材3と
デバイス材料1とに対して物理的エッチングを行い、デ
バイス材料1に形成するべき所望の曲面形状に応じて、
物理的エッチングの選択比を、1と異ならせるか、もし
くは経時的に連続的および/または段階的に変化させる
ことにより、図1(c)に示すように、透明球体1であ
ったデバイス材料に、所望の表面形状4’を形成でき
る。
Physical transfer is performed on the transfer material 3 and the device material 1 using the reference surface as a starting shape, and a desired curved surface shape to be formed on the device material 1
By changing the selection ratio of the physical etching from 1 or changing it continuously and / or stepwise over time, as shown in FIG. 1 (c), the device material which was the transparent sphere 1 was changed. The desired surface shape 4'can be formed.

【0031】所望の表面形状4’は、「選択比が一定
で、1と異なる」ときには、透明球体1の初期の曲率半
径よりも大なる曲率半径を持つ曲面であり、選択比を連
続的および/または段階的に変化させると「非球面形
状」になる。
The desired surface shape 4'is a curved surface having a radius of curvature larger than the initial radius of curvature of the transparent sphere 1 when "the selection ratio is constant and different from 1", and the selection ratio is continuous and / Or if it is changed stepwise, it becomes an "aspherical shape".

【0032】デバイス材料の形状は透明球体に限らな
い、例えば凸球面を少なくとも一方の面として持つレン
ズ形状であってもよい。
The shape of the device material is not limited to a transparent sphere, and may be, for example, a lens shape having a convex spherical surface as at least one surface.

【0033】図2(a)において、符号5は、透明球体
の一部に図1の方法あるいは他の方法で所望のレンズ面
7を形成してなるデバイス材料を示している。
In FIG. 2A, reference numeral 5 denotes a device material formed by forming a desired lens surface 7 on a part of a transparent sphere by the method of FIG. 1 or another method.

【0034】デバイス材料5の、所定の曲率半径を持つ
凸球面6上に、成形型2により凸球面形状を転写された
転写材3を積層して、その表面を参照面とし(図2
(b))、上記参照面を出発形状として、転写材3とデ
バイス材料5とに対して物理的エッチングを行い、デバ
イス材料5に形成するべき所望の曲面形状に応じて、物
理的エッチングの選択比を、1と異ならせるか、もしく
は経時的に連続的および/または段階的に変化させるこ
とにより、図2(c)に示す如くデバイス材料5に所望
の表面形状6’を形成できる。
On the convex spherical surface 6 having a predetermined radius of curvature of the device material 5, the transfer material 3 whose convex spherical shape has been transferred by the molding die 2 is laminated, and the surface thereof is used as a reference surface (see FIG. 2).
(B)) Physically etching the transfer material 3 and the device material 5 using the reference surface as a starting shape, and selecting physical etching according to a desired curved surface shape to be formed on the device material 5. By varying the ratio from 1 or changing it continuously and / or stepwise over time, a desired surface profile 6 ′ can be formed on the device material 5 as shown in FIG. 2 (c).

【0035】図2(c)における表面形状6’は非球面
形状であり、選択比の経時的な変化により実現される。
The surface shape 6'in FIG. 2 (c) is an aspherical shape, which is realized by the change of the selection ratio with time.

【0036】選択比と、エッチング結果の面形状との関
係を、モデル的に説明すると以下のようになる。
The relationship between the selection ratio and the surface shape of the etching result will be modeled as follows.

【0037】例えば、図1(b)の場合の参照面を出発
形状として、物理的エッチングを行うと、透明球体1の
表面には転写材3が積層されているので、しばらくは選
択比に関係無く転写材3のみに侵刻が進行する。
For example, when physical etching is performed using the reference surface in the case of FIG. 1B as a starting shape, the transfer material 3 is laminated on the surface of the transparent sphere 1, so that it is related to the selection ratio for a while. However, the engraving progresses only on the transfer material 3.

【0038】そしてしばらくすると、転写材3が侵刻さ
れて透明球体1の表面が露呈された状態になる。
After a while, the transfer material 3 is engraved and the surface of the transparent sphere 1 is exposed.

【0039】図3(a)は、図1(b)の状態から物理
的エッチングを初めて、透明球体1の頂部が露呈した状
態を模式的に示している(上下関係が図1(b)のもの
と逆転している)。
FIG. 3 (a) schematically shows the state where the top of the transparent sphere 1 is exposed for the first time from the state of FIG. 1 (b) to the physical etching (the vertical relationship of FIG. 1 (b)). It is the opposite of the one).

【0040】説明を判り易くするために、透明球体1の
表面および転写材3の表面の球面形状を「階段状」に示
している。この「表面形状を表す階段」の段差が表面形
状の曲率に対応する。
For easy understanding of the explanation, the spherical shapes of the surface of the transparent sphere 1 and the surface of the transfer material 3 are shown as "stepwise". The step of the "stairs representing the surface shape" corresponds to the curvature of the surface shape.

【0041】即ち、転写材3の表面形状の連続した傾き
を表す「階段」の段差が、透明球体1の表面の連続した
傾きを表す「階段」の段差よりも小さいことは、転写材
3の表面の曲率が、透明球体1の表面の曲率よりも小さ
いことを示している。
That is, the step difference of “stairs” representing the continuous inclination of the surface shape of the transfer material 3 is smaller than the step difference of “stairs” indicating the continuous inclination of the surface of the transparent sphere 1 of the transfer material 3. It shows that the curvature of the surface is smaller than the curvature of the surface of the transparent sphere 1.

【0042】図3は、選択比を0.5として、異方性の
物理的エッチングを行ったときの侵刻の進行状況を経時
的に示したものであり、時間の進行と共に、エッチング
による侵刻状況は、図3の(a)から(d)へと順次進
行する。
FIG. 3 shows the progress of etching when anisotropic physical etching is performed with a selectivity of 0.5, and shows the progress of etching as time progresses. The time stamp progresses sequentially from (a) to (d) of FIG.

【0043】なお、図3における符号20は、物理的エ
ッチングが行われる際、デバイス材料を支持する治具を
示す。
The reference numeral 20 in FIG. 3 indicates a jig for supporting the device material when the physical etching is performed.

【0044】選択比が0.5であるため、転写材3は透
明球体1の2倍の速さで侵刻されるから、透明球体1の
頂部と、図の右端における転写材3の表面との「高さの
差」は、当初:ΔH(図3(a))であったものが、時
間と共に次第に拡大し、図3(d)の状態においては、
当初の1.3倍に拡大している。
Since the selection ratio is 0.5, the transfer material 3 is eroded at twice the speed of the transparent sphere 1, so that the top of the transparent sphere 1 and the surface of the transfer material 3 at the right end of the figure. The "height difference" of was initially: ΔH (Fig. 3 (a)), but gradually increased with time, and in the state of Fig. 3 (d),
It has expanded to 1.3 times the original size.

【0045】このことは、透明球体1に形成された曲面
形状の曲率が、当初、透明球体1の表面を覆っていた転
写材3の表面の曲率よりも大きくなることを意味する。
This means that the curvature of the curved surface formed on the transparent sphere 1 becomes larger than the curvature of the surface of the transfer material 3 which initially covered the surface of the transparent sphere 1.

【0046】即ち、「1より小さい選択比」は、透明球
体1に形成される曲面の曲率を「参照面の曲率」よりも
大きくするように作用する。
That is, the "selection ratio smaller than 1" acts to make the curvature of the curved surface formed on the transparent sphere 1 larger than the "curvature of the reference surface".

【0047】図4は、図3(a)と同一の出発状態か
ら、選択比を1.5として、異方性エッチングを行った
ときの侵刻の進行状況を経時的に示したものであり、時
間の進行と共に、エッチングによる侵刻状況は、図4の
(a)から(d)へと順次進行する。
FIG. 4 shows the progress of erosion with time when anisotropic etching is carried out from the same starting state as in FIG. 3 (a) with a selection ratio of 1.5. As time goes by, the etching state due to etching sequentially progresses from (a) to (d) of FIG.

【0048】透明球体1は、転写材3の1.5倍の速さ
で侵刻されるから、透明球体10の頂部と、図の右端に
おける転写材30の表面との「高さの差」は、当初:Δ
Hであったものが時間と共に次第に縮小し、図4(d)
の状態においては、当初の0.7倍に縮小している。
Since the transparent sphere 1 is engraved at a speed 1.5 times that of the transfer material 3, the "height difference" between the top of the transparent sphere 10 and the surface of the transfer material 30 at the right end of the figure. Initially: Δ
What was H was gradually reduced with time, and as shown in FIG.
In this state, it has been reduced to 0.7 times the original size.

【0049】このことは、透明球体1に形成された曲面
径状の曲率が、当初、透明球体1の表面を覆っていた固
化した粘性表面3の表面の曲率よりも小さくなることを
意味する。
This means that the radius of curvature of the curved surface formed on the transparent sphere 1 is smaller than the curvature of the surface of the solidified viscous surface 3 which initially covered the surface of the transparent sphere 1.

【0050】即ち、「1より大きい選択比」は、透明球
体1に形成される曲面の曲率を「参照面の曲率」よりも
小さくするように作用する。
That is, the "selection ratio larger than 1" acts to make the curvature of the curved surface formed on the transparent sphere 1 smaller than the "curvature of the reference surface".

【0051】上には、デバイス材料の凸球面の曲率半径
よりも、参照面の曲率半径が大きい場合を説明したが、
曲率半径の大小が逆の場合にも同様である。
The case where the radius of curvature of the reference surface is larger than the radius of curvature of the convex spherical surface of the device material has been described above.
The same applies when the radius of curvature is opposite.

【0052】参照面を出発形状とし、所望の曲面形状を
得るように「選択比を制御する」ことは、コンピュータ
制御で実現することができる。
"Controlling the selection ratio" so as to obtain a desired curved surface shape using the reference surface as a starting shape can be realized by computer control.

【0053】即ち、例えば、図2(b)における転写材
3の表面形状(参照面)が「出発形状」で、図2(c)
に示すレンズ材料1の表面形状6’が「目的形状」であ
るとすると、1例として以下のような手順で進むのであ
る。
That is, for example, the surface shape (reference surface) of the transfer material 3 in FIG.
Assuming that the surface shape 6 ′ of the lens material 1 shown in 1 is the “target shape”, the procedure proceeds as follows as an example.

【0054】先ず、選択比を制御するためのパラメータ
を定め、上記出発形状から目的形状を得るために、上記
パラメータをどのように制御すべきかを「コンピュータ
シミュレーション」する。
First, a parameter for controlling the selection ratio is determined, and "computer simulation" is performed on how to control the above parameters in order to obtain the target shape from the starting shape.

【0055】即ち、上記パラメータの種々の時間的変化
に応じて、デバイス材料の面形状がどのように変化する
かをシミュレーションで調べ、出発形状から目的形状に
到る面形状変化をシミュレーションにより追跡しつつ、
どのような選択比制御が最も適しているかを調べる。
That is, it is investigated by simulation how the surface shape of the device material changes according to various temporal changes of the above parameters, and the surface shape change from the starting shape to the target shape is traced by the simulation. While
Find out what kind of selection ratio control is most suitable.

【0056】次に、このようにして得られた選択比の変
化を、実際にパラメータの変化で実現しつつ実験を行
い、制御の様子を補正して、実際に出発形状から目的形
状を得られるような制御条件を決定する。
Next, an experiment is carried out while actually realizing the change of the selection ratio obtained in this way by the change of the parameter, the control state is corrected, and the target shape can be actually obtained from the starting shape. Determine such control conditions.

【0057】このようにして決定された制御条件をプロ
グラム化し、実際のエッチング装置における「選択比制
御」をプログラム制御すれば良いのである。
It is only necessary to program the control conditions thus determined and program-control the "selection ratio control" in the actual etching apparatus.

【0058】物理的エッチングは、化学エッチングに比
して制御が容易であり、しかも、同一デバイス材料の同
一参照面形状(出発形状)に対し、選択比の制御を同一
にすれば、常に同一の結果(同一の目的形状)が得られ
る。即ち、再現性に優れている。
Physical etching is easier to control than chemical etching, and moreover, if control of the selection ratio is the same for the same reference surface shape (starting shape) of the same device material, it is always the same. The result (same target shape) is obtained. That is, it has excellent reproducibility.

【0059】なお、デバイス材料に目的の曲面形状が得
られた状態において、デバイス材料表面に転写材が残っ
ている場合もある。この場合の残留転写材は、洗浄等の
手段で除去しても良いし、あるいは、予め遮光性の材料
を転写材として選択して用いれば、残留転写材自体を、
光学デバイスに対するアパーチュアとして利用すること
もできる。
In some cases, the transfer material may remain on the surface of the device material when the desired curved surface shape is obtained on the device material. In this case, the residual transfer material may be removed by a means such as cleaning, or if a light-shielding material is selected and used as the transfer material in advance, the residual transfer material itself is
It can also be used as an aperture for an optical device.

【0060】場合によっては、転写材に転写された凸曲
面の形状が、成形型の凹球面と正確に対応しない場合も
考えられる。例えば、正確に転写されるべき凸球面の曲
率半径がrであるべきものが、実際に転写された面の曲
率半径がr’であるような場合である。
In some cases, the shape of the convex curved surface transferred to the transfer material may not exactly correspond to the concave spherical surface of the molding die. For example, there is a case where the radius of curvature of the convex spherical surface to be accurately transferred is r, but the radius of curvature of the actually transferred surface is r '.

【0061】このような場合であっても、もし転写材に
転写された面の曲率半径が、再現性良く、常にr’とな
るのであれば、物理的エッチングにおける選択比制御
を、参照面形状の曲率半径をr’とすることにより、や
はり所望の曲面形状をデバイス材料の表面に形成するこ
とが可能である。
Even in such a case, if the radius of curvature of the surface transferred to the transfer material has good reproducibility and is always r ', the selection ratio control in physical etching is performed in the reference surface shape. By setting the radius of curvature of r to r ′, it is possible to form a desired curved surface shape on the surface of the device material.

【0062】例えば、成形型の転写面形状である球面形
状を、転写材に転写する際に転写材が収縮すると、転写
された形状は成形型の球面形状と正確には対応しなくな
る。
For example, if the transfer material contracts when the spherical shape, which is the transfer surface shape of the mold, is transferred to the transfer material, the transferred shape does not correspond exactly to the spherical shape of the mold.

【0063】物理的エッチングを、選択比:1で行う場
合には、転写材の収縮を考慮して転写面形状を修正し、
転写に伴う収縮の結果、目的の形状を転写材に形成でき
るようにするする必要がある。
When the physical etching is carried out at a selection ratio of 1, the transfer surface shape is corrected in consideration of the contraction of the transfer material,
As a result of shrinkage accompanying transfer, it is necessary to be able to form a desired shape on the transfer material.

【0064】しかし、この発明においては、転写材に転
写される形状に再現性があれば、エッチング条件の変更
によって、目的形状の創成が可能となるので、成形型の
転写面形状自体を補正する必要はない。
However, in the present invention, if the shape transferred to the transfer material has reproducibility, the target shape can be created by changing the etching conditions. Therefore, the transfer surface shape itself of the molding die is corrected. No need.

【0065】この発明は、転写材の曲率が透明球体の曲
率よりも大きい場合にも、小さい場合にも適用できる。
The present invention can be applied to cases where the curvature of the transfer material is larger or smaller than that of the transparent sphere.

【0066】即ち、目的の形状の曲率が光軸近傍で大き
く、光軸から離れるに従い小さくなる光学デバイスで
は、最も加工量の少なくなる曲率を持つ透明材料表面上
に曲率の大きな凹球面形状を持つ成形型を用いて曲率の
大きい凸曲面形状を転写し、その後、エッチング条件を
選択比を1と異ならせるか、もしくは経時的に、連続低
および/または段階的に変化させることによって、透明
材料の曲率よりも大きな曲率を持つ凸球面もしくは凸の
非球面形状を創成できる。
That is, in an optical device in which the curvature of the target shape is large in the vicinity of the optical axis and decreases with distance from the optical axis, it has a concave spherical surface shape with a large curvature on the surface of the transparent material having the curvature that minimizes the amount of processing. A convex curved surface shape having a large curvature is transferred using a molding die, and then the etching condition is changed to have a different selection ratio from 1 or is changed continuously and / or stepwise over time to obtain a transparent material It is possible to create a convex spherical surface or a convex aspherical shape having a curvature larger than the curvature.

【0067】なお、大口径の非球面形状の創成には非球
面金型加工が可能であるが、口径の小さい非球面形状の
創成の場合、金型加工は困難な場合や不可能な場合もあ
り、このように口径の小さい非球面形状を創成する場
合、即ち、デバイス材料としての透明球体の直径が10
mm以下、特に直径が1〜3mm程度の場合に、この発
明は極めて有効である(請求項5)。
Although it is possible to process an aspherical surface die to create a large-diameter aspherical shape, in the case of creating an aspherical surface shape having a small diameter, it may be difficult or impossible to process the die. When creating an aspherical shape with a small aperture in this way, that is, when the diameter of the transparent sphere as the device material is 10
The present invention is extremely effective when the diameter is less than or equal to mm, especially when the diameter is about 1 to 3 mm (Claim 5).

【0068】[0068]

【実施例】光学デバイスとして、第1面が球面で第2面
が非球面であるレンズを「光通信用カプラー」として設
計した。
EXAMPLE As an optical device, a lens having a spherical first surface and a second aspheric surface was designed as an "optical communication coupler".

【0069】「光線有効径」は第1面に対して、φ:
0.48mm,第2面に対して、φ:1.1mm、結合
効率:58%である。設計結果に基づき、以下のように
して光学デバイスとしての上記レンズを製造した。
“Effective diameter of light beam” is φ:
0.48 mm, φ: 1.1 mm with respect to the second surface, and coupling efficiency: 58%. Based on the design result, the above lens as an optical device was manufactured as follows.

【0070】材質:SF60(波長:1.3μmの赤外
光に対する屈折率:1.76817)を用い、直径:
2.0mmの透明球体を「デバイス材料」として用意し
た。
Material: SF60 (wavelength: 1.3 μm infrared light refractive index: 1.76817), diameter:
A 2.0 mm transparent sphere was prepared as a "device material".

【0071】この「透明球体」は、それ自体をボールレ
ンズとしても使用でき、ボールレンズのままで光通信用
カプラーとして用いた場合の結合効率は、最適使用条件
において「15%」である。
The "transparent sphere" itself can be used as a ball lens, and the coupling efficiency when it is used as a ball lens as a coupler for optical communication is "15%" under the optimum use condition.

【0072】図5(a)における符号10は、SF60
による直径2.0mmの透明球体によるデバイス材料を
示している。
Reference numeral 10 in FIG. 5A is SF60.
2 shows a device material made of transparent spheres having a diameter of 2.0 mm according to FIG.

【0073】デバイス材料10の第2面側の光線有効径
(1.1mm)よりも大きい直径:1.2mmよりも外
側の部分を、ダイヤモンドホイールで研磨し、図5
(b)に示すように、上下方向の両端が「曲率半径:
1.0mmの球面」である「円柱形状」とした。
A diameter larger than the effective light beam diameter (1.1 mm) on the second surface side of the device material 10: a portion outside 1.2 mm is polished with a diamond wheel, and then, as shown in FIG.
As shown in (b), both ends in the vertical direction have “curvature radius:
The "cylindrical shape", which is a "1.0 mm spherical surface", is adopted.

【0074】円柱形状としたデバイス材料10を、支持
治具50に「きっちり」と嵌合させて保持し(図5
(c))、この状態において、デバイス材料10の第2
面側(図の下方の球面)にプライマー処理を施した。
The device material 10 in the shape of a cylinder is fitted and held "closely" to the support jig 50 (see FIG. 5).
(C)), in this state, the second
The surface side (the lower spherical surface in the figure) was treated with a primer.

【0075】曲率半径:1.11mmの凹球面形状20
0Aを形成された成形型200の凹球面形状200Aの
部分には、プラズマフッ素処理(Ar,CF4を導入し
て用いたプラズマ処理)を施して離型性を高めた。
Radius of curvature: concave spherical shape 20 with 1.11 mm
The surface of the concave spherical surface 200A of the molding die 200 on which 0A was formed was subjected to plasma fluorine treatment (plasma treatment using Ar and CF 4 introduced and used) to improve releasability.

【0076】成形型200は以下のようにして形成し
た。即ち、超精密加工により曲率半径1.11mmの凸
球面を制作し、この凸球面を電鋳により型どりして成形
型200とした。
The molding die 200 was formed as follows. That is, a convex spherical surface having a curvature radius of 1.11 mm was produced by ultra-precision machining, and the convex spherical surface was electroformed to obtain a molding die 200.

【0077】上述の如く離型性を高めるための表面処理
を行った成形型200の凹球面形状200Aに、転写材
30として「アクリル樹脂とエポキシ樹脂を9:1の割
合で混合した紫外線硬化型の嫌気性樹脂」をセットし、
図5(c)に示すごとく、デバイス材料10の第2面側
の球面を押し当てた。
As described above, the concave spherical surface shape 200A of the molding die 200 which has been subjected to the surface treatment for enhancing the releasability is used as the transfer material 30 such as "UV curing type in which acrylic resin and epoxy resin are mixed at a ratio of 9: 1. Anaerobic resin ",
As shown in FIG. 5C, the spherical surface on the second surface side of the device material 10 was pressed.

【0078】次いで、全体(デバイス材料10,成形型
200,転写材30,支持治具50)を固定して、デバ
イス材料10側から紫外光を2500mJ/cm2以上照
射して転写材30を硬化させた。
Next, the whole (device material 10, molding die 200, transfer material 30, support jig 50) is fixed, and ultraviolet light of 2500 mJ / cm 2 or more is irradiated from the device material 10 side to cure the transfer material 30. Let

【0079】転写材30を硬化させた後、成形型200
と転写材30の間を剥離する。この剥離は、成形型の転
写面形状部分の表面処理効果により容易に実行できた。
剥離の際に、ヒ−トショック等の作用を加えると更に容
易に剥離できる。
After the transfer material 30 is cured, the molding die 200 is formed.
And the transfer material 30 is peeled off. This peeling could be easily performed by the surface treatment effect of the transfer surface shape portion of the molding die.
At the time of peeling, if a heat shock or the like is applied, the peeling can be performed more easily.

【0080】このようにして、デバイス材料10の第2
面側に、固化した転写材30が積層された(図5
(d))。転写材30の表面形状は、曲率半径1.11
mmの凸球面で成形型200の凹球面形状200Aを転
写反転したものであり、「参照面」である。
In this way, the second
The solidified transfer material 30 was laminated on the surface side (FIG. 5).
(D)). The surface shape of the transfer material 30 has a curvature radius of 1.11.
The concave spherical surface shape 200A of the molding die 200 is transferred and inverted with a convex spherical surface of mm, which is a "reference surface".

【0081】さて、デバイス材料10の第2面側に形成
するべき「非球面」の形状は、周知の非球面の式: Z=(1/R)h2/[1+√{1−(K+1)(1/
R)22}]+Ah4+Bh6+Ch8 R:光軸上の曲率 K:円錐定数 A,B,C:非球面定数(Aは4次,Bは6次,Cは8
次の項) Z:レンズ頂点からの距離 において、 R=−1.0, K=−0.1071166×101, A=0.481868×10~2, B=−0.3087594×10~1, C=0.3821575 とした形状であり、この形状を最終形状としてデバイス
材料10に実現できるよう、コンピュータシミュレーシ
ョンと実験とにより、物理的エッチングの時間的な制御
条件(選択比を制御する条件)を定めた。
The shape of the "aspherical surface" to be formed on the second surface side of the device material 10 is the well-known aspherical surface formula: Z = (1 / R) h 2 / [1 + √ {1- (K + 1) ) (1 /
R) 2 h 2 }] + Ah 4 + Bh 6 + Ch 8 R: Curvature on the optical axis K: Conical constant A, B, C: Aspherical constant (A is 4th order, B is 6th order, C is 8th)
(Next term) Z: At distance from lens vertex, R = -1.0, K = -0.1071166 × 10 1 , A = 0.481868 × 10 ~ 2 , B = -0.3087594 × 10 ~ 1 , C = 0.3821575, and so that this shape can be realized as the final shape in the device material 10 by computer simulation and experiment, the time control condition of the physical etching (condition for controlling the selection ratio). Was set.

【0082】なお、デバイス材料10の素材や大きさ
(直径)、参照面の形状(曲率半径)は、上記物理的エ
ッチングが無理なく容易に実現されるように、予め実験
的および/または理論的に最適値が算出決定される。
The material and size (diameter) of the device material 10 and the shape (curvature radius) of the reference surface are preliminarily experimentally and / or theoretically set so that the above physical etching can be realized easily. The optimum value is calculated and determined.

【0083】上記非球面形状は、円錐定数:Kが−1よ
り小さいから、「双曲面」を基本とし、形状のタイプと
しては「光軸近傍で曲率が大きく(曲率半径が小さ
く)、光軸を離れるに従い曲率が小さく(曲率半径が大
きく)なる」形状である。
Since the aspherical shape has a conical constant: K smaller than −1, it is basically “hyperboloidal”, and the shape type is “large curvature (small radius of curvature) near the optical axis, optical axis The shape is such that the curvature becomes smaller (the radius of curvature becomes larger) with increasing distance.

【0084】続いて、転写材30を積層したデバイス材
料10(図5(d))を、支持治具50に保持させたま
ま、ECRプラズマエッチング装置にセットし、Ar,
CHF3,O2ガスを導入し、2〜4×10~4Toorの
条件下で、異方性エッチングを、エッチング条件を経時
的に変化させつつ行った。
Subsequently, the device material 10 (FIG. 5D) on which the transfer material 30 is laminated is set in the ECR plasma etching apparatus while being held by the supporting jig 50, and Ar,
CHF 3 and O 2 gas were introduced, and anisotropic etching was performed under the conditions of 2 to 4 × 10 to 4 Toor while changing the etching conditions with time.

【0085】即ち、エッチング開始時から終了時まで、
導入ガス中の「O2ガス」の導入量を時間の経過と共に
漸次減少させつつ、選択比を0.05〜2.0の範囲
で、当初は小さく(これにより、デバイス材料に形成さ
れる曲面の光軸近傍の曲率が大きくなる。図3参照)、
時間の経過と共に次第に大きくし(これによりデバイス
材料に形成される曲面の曲率が、光軸を離れるに連れて
小さくなる。図4参照)つつ、420分間、エッチング
を実行して所望の非球面100Aを形成した(図5
(e))。
That is, from the start of etching to the end of etching,
While gradually reducing the amount of "O 2 gas" introduced in the introduced gas with time, the selection ratio was initially small in the range of 0.05 to 2.0 (the curved surface formed on the device material was thereby formed). Has a large curvature near the optical axis (see FIG. 3),
While gradually increasing with time (the curvature of the curved surface formed in the device material decreases as the optical axis moves away, see FIG. 4), etching is performed for 420 minutes to obtain the desired aspherical surface 100A. Formed (Fig. 5
(E)).

【0086】このようにして得られた光学デバイスであ
るレンズ10Bを、光通信用カプラーとして使用した状
態を図6に示す。図の左方の、符号40が光源であるL
D、レンズ10Bの右側の、符号60は光ファイバ−を
示している。
FIG. 6 shows a state in which the lens 10B which is the optical device thus obtained is used as a coupler for optical communication. Reference numeral 40 on the left side of the figure is L which is a light source
Reference numeral 60 on the right side of D and the lens 10B indicates an optical fiber.

【0087】LDの半値全角:32°,LDとレンズ第
1面との間隔:0.385mm,レンズ第1面とレンズ
第2面との光軸上の間隔:1.983mm,レンズ第2
面と光ファイバ−との間隔:5.927mmの条件にお
いて、結合効率:57%という略設計通りの値を得た。
Full angle at half maximum of LD: 32 °, distance between LD and lens first surface: 0.385 mm, distance between optical axis of lens first surface and lens second surface: 1.983 mm, lens second
Under the condition that the distance between the surface and the optical fiber was 5.927 mm, the coupling efficiency was 57%, which was a value as designed.

【0088】[0088]

【発明の効果】以上に説明したように、この発明によれ
ば、新規な光学デバイスおよびその製造方法を提供でき
る。
As described above, according to the present invention, it is possible to provide a novel optical device and a method for manufacturing the same.

【0089】請求項1〜5記載の光学デバイス製造方法
によれば、面精度良く作成できる凹球面形状を持つ成形
型を用い、正確な参照面を転写材に転写してデバイス材
料の凸球面上に積層し、デバイス材料に形成する目的形
状に応じた条件で、再現性の良い物理的エッチングを行
うので、所望の面形状を持った光学デバイスを容易且つ
確実に製造できる。
According to the optical device manufacturing method of the first to fifth aspects, a molding die having a concave spherical surface shape that can be formed with high surface accuracy is used, and an accurate reference surface is transferred onto a transfer material to form a convex spherical surface of the device material. Since the physical etching is performed with good reproducibility under the conditions according to the target shape to be formed on the device material, it is possible to easily and surely manufacture an optical device having a desired surface shape.

【0090】請求項6〜8記載の光学デバイスは、上記
請求項1〜5記載の方法で製造されるので、製造が容易
であり、低価格で量産性が良く、しかも実質的に設計通
りのものを実現できる。また、デバイス材料は物理的エ
ッチングが可能なものであれば良いから材料選択の自由
度が広く、光学設計の自由度が大きい。
The optical devices described in claims 6 to 8 are manufactured by the methods described in claims 1 to 5, so that they are easy to manufacture, low in cost, good in mass productivity, and substantially as designed. You can realize things. Further, since the device material may be any material that can be physically etched, the degree of freedom in selecting a material is wide and the degree of freedom in optical design is large.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】この発明の光学デバイス製造方法を説明するた
めの図である。
FIG. 1 is a diagram illustrating an optical device manufacturing method according to the present invention.

【図2】この発明の光学デバイス製造方法を説明するた
めの図である。
FIG. 2 is a diagram for explaining the optical device manufacturing method of the present invention.

【図3】参照面を出発形状として、1より小さい選択比
で物理的エッチングを行うときのエッチングの作用を説
明するための図である。
FIG. 3 is a diagram for explaining an action of etching when physical etching is performed with a selection ratio smaller than 1 with a reference surface as a starting shape.

【図4】参照面を出発形状として、1より大きい選択比
で物理的エッチングを行うときのエッチングの作用を説
明するための図である。
FIG. 4 is a diagram for explaining the action of etching when physical etching is performed with a selection ratio larger than 1 using the reference surface as a starting shape.

【図5】実施例を説明するための図である。FIG. 5 is a diagram for explaining an example.

【図6】実施例で形成された光通信用カプラーの光結合
状態を示す図である。
FIG. 6 is a diagram showing an optical coupling state of an optical communication coupler formed in an example.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 デバイス材料(透明球体) 2 成形型 3 転写材 4’ レンズ面として形成された所望の面形状 1 device material (transparent sphere) 2 molding die 3 transfer material 4'desired surface shape formed as a lens surface

Claims (8)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】所定の凸球面形状に応じた凹球面形状を形
成された成形型を用いて上記凸球面形状を転写された転
写材を、デバイス材料表面上に積層し、上記転写材表面
を参照面とし、 上記参照面を出発形状として、転写材とデバイス材料と
に対して物理的エッチングを行い、デバイス材料の表面
に所望の曲面形状を形成する光学デバイス製造方法にお
いて、 デバイス材料の、転写材を積層される面を所定の曲率半
径を持つ凸球面とし、 上記デバイス材料に形成するべき所望の曲面形状に応じ
て、上記物理的エッチングの選択比を、1と異ならせる
か、もしくは経時的に、連続的および/または段階的に
変化させることを特徴とする光学デバイス製造方法。
1. A transfer material having the convex spherical surface shape transferred thereto is stacked on a device material surface by using a molding die having a concave spherical surface shape corresponding to a predetermined convex spherical surface shape, and the transfer material surface is In the optical device manufacturing method in which the reference surface is used as a starting shape, physical etching is performed on the transfer material and the device material to form a desired curved surface shape on the surface of the device material, the transfer of the device material is performed. The surface on which the material is laminated is a convex spherical surface having a predetermined radius of curvature, and the selection ratio of the physical etching is different from 1 according to the desired curved surface shape to be formed on the device material, And a step of continuously and / or stepwise changing the optical device manufacturing method.
【請求項2】請求項1記載の光学デバイス製造方法にお
いて、 成形型の球面形状を転写材の表面形状として転写するに
際し、成形型の凹球面形状に離型のための表面処理を施
すことを特徴とする光学デバイス製造方法。
2. The optical device manufacturing method according to claim 1, wherein when the spherical shape of the molding die is transferred as the surface shape of the transfer material, the concave spherical shape of the molding die is subjected to surface treatment for releasing. Characteristic optical device manufacturing method.
【請求項3】請求項1または2記載の光学デバイス製造
方法において、 転写材として、光硬化性材料もしくは熱硬化性材料を用
いることを特徴とする光学デバイス製造方法。
3. The optical device manufacturing method according to claim 1, wherein a photo-curable material or a thermosetting material is used as the transfer material.
【請求項4】請求項1または2または3記載の光学デバ
イス製造方法において、 デバイス材料を透明球体としたことを特徴とする光学デ
バイス製造方法。
4. The optical device manufacturing method according to claim 1, 2 or 3, wherein the device material is a transparent sphere.
【請求項5】請求項4記載の光学デバイス製造方法にお
いて、 デバイス材料である透明球体が、直径10mm以下のも
のであることを特徴とする光学デバイス製造方法。
5. The method for manufacturing an optical device according to claim 4, wherein the transparent sphere which is a device material has a diameter of 10 mm or less.
【請求項6】請求項1または2または3または4または
5記載の光学デバイス製造方法により製造される光学デ
バイス。
6. An optical device manufactured by the method for manufacturing an optical device according to claim 1, 2, 3 or 4 or 5.
【請求項7】請求項6記載の光学デバイスにおいて、 物理的エッチングにより形成される面が非球面であるこ
とを特徴とする光学デバイス。
7. The optical device according to claim 6, wherein the surface formed by physical etching is an aspherical surface.
【請求項8】請求項6または7記載の光学デバイスに反
射膜を形成してなる光学デバイス。
8. An optical device obtained by forming a reflective film on the optical device according to claim 6.
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