JPH08151267A - 炭化珪素−炭素焼結体及び炭化珪素−シリコン複合材料の製造方法 - Google Patents

炭化珪素−炭素焼結体及び炭化珪素−シリコン複合材料の製造方法

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JPH08151267A
JPH08151267A JP6315982A JP31598294A JPH08151267A JP H08151267 A JPH08151267 A JP H08151267A JP 6315982 A JP6315982 A JP 6315982A JP 31598294 A JP31598294 A JP 31598294A JP H08151267 A JPH08151267 A JP H08151267A
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silicon carbide
silicon
slurry
composite material
molding
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JP6315982A
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Yoshio Nakamura
好男 中村
Hideyasu Matsuo
秀逸 松尾
Yushi Horiuchi
雄史 堀内
Masatoshi Onishi
正俊 大西
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Coorstek KK
Original Assignee
Toshiba Ceramics Co Ltd
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Abstract

(57)【要約】 【目的】 炭化珪素−シリコン複合材料の前駆体である
炭化珪素−炭素焼結体を任意の形状で安価に、容易に製
造し、且つ、それを用いて高強度、耐熱衝撃性等の特性
を有する炭化珪素−シリコン複合材料を製造する方法の
提供。 【構成】 (a)炭化珪素粉末及び熱硬化性樹脂を含有
し、要すれば更に溶媒を含有してなるスラリーを調製す
る工程、(b)前記(a)工程で調製したスラリーに赤
外線を照射して所定形状に硬化成形する工程、(c)前
記(b)工程で成形した炭化珪素硬化体を、不活性雰囲
気下で加熱焼成して炭化珪素及び炭素を主成分とする焼
結体を得る工程、及び(d)前記(c)工程で形成した
焼結体を、不活性雰囲気または真空下、溶融シリコンで
処理して炭化珪素−シリコン複合材料とする工程から構
成されることを特徴とする炭化珪素−シリコン複合材料
の製造方法。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は炭化珪素−炭素焼結体及
び炭化珪素−シリコン複合材料の製造方法に関し、更に
詳しくは、焼結体及び複合材料の結合剤及び炭素源とし
て熱重合性または熱架橋反応性を有する熱硬化性樹脂を
用いて、赤外線を熱源として所定形状に炭化珪素硬化体
を形成し焼成する炭化珪素及び炭素を主成分とする炭化
珪素−炭素焼結体の製造方法に関し、更に、その後、炭
化珪素−炭素焼結体をシリコン含浸処理する耐熱性、耐
薬品性、耐酸化性等の優れた特性を有する炭化珪素−シ
リコン複合材料の製造方法に関する。
【0002】
【従来の技術】炭化珪素は、高硬度で機械的強度が大き
く、耐酸化性、耐熱衝撃性にも優れ、各種工具や高熱処
理が繰り返される各種装置の部材に広く用いられてお
り、その複合材料も種々提案されている。炭化珪素−シ
リコン複合材料は、通常、炭化珪素の焼結体を形成し、
その焼結体にシリコンを含浸等して製造する。炭化珪素
焼結体は、一般に、炭化珪素粉末を成形し、成形体を焼
成して製造される。この場合、焼結体の特性は、炭化珪
素成形体に依存し、成形体物性が大きく影響する。従
来、炭化珪素−シリコン複合材料の原料材となる炭化珪
素粉末の成形体は、原料炭化珪素粉末と共に、その結合
剤及び/または炭素源としての炭素粉末や炭化度の高い
フェノ−ル樹脂、フラン樹脂等を混合して用い成形され
ている。成形方法としては、特定の型を用いるCIP
(冷間等方加圧)成形法や石膏型のような吸水性型を用
いる鋳込み成形法等が主に採用されている。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、従来の
炭化珪素成形体の製造は、上記したように、炭化珪素粉
末を用い特定の成形型を用いる必要があるため、成形し
得る形状に自ずと限界があった。即ち、複雑な特別な形
状を有する成形体等は成形が難しく、その上、得られる
成形体は均質性に難点があることが多いため、ひびや割
れ等の欠陥が生じ易く成形歩留りが低い等の問題点があ
った。また、一般に、成形に用いる金型等成形型は高価
であり、また長期使用により摩耗するため定期的な型交
換が必要となる等により製品のコストアップの一因とな
っているため、工業的にはより安価で、且つ、成形歩留
よく成形体を得ると共に、炭化珪素−シリコン複合材料
の前駆体である炭化珪素−炭素焼結体を効率的に得るこ
とができる方法が要望されている。発明者らは、上記炭
化珪素−シリコン複合材料及びその前駆体の炭化珪素−
炭素焼結体を効果的に得ることを目的として、先ず、そ
れらの原材料である炭化珪素セラミック成形体を効率よ
く製造する成形方法を検討することにした。即ち、上記
従来のセラミックスの成形方法の問題を鑑み、高価な成
形型を用いることなく、複雑な形状や特殊な形状の成形
体等の各種立体的形状の炭化珪素成形体を容易に、且
つ、均質な成形体を歩留りよく成形できる成形方法を確
立するため、従来のセラミック成形方法について全般的
に再検討すると共に、セラミックス成形材料等の各種セ
ラミックス技術についても再検討し、更に、異なる技術
分野での各種成形技術について検討した。特に、成形技
術での進展の著しいプラスチック分野について再検討し
た。その結果、例えば、特開昭56−144478号公
報、特公昭63−40650号公報、特開平2−252
765及び特開平3−104626号公報等において、
感光性等光学的な反応性もしくは熱反応性を有するプラ
スチック組成物を用いて光造形により立体成形し、従来
の成形型を用いる概念と異なる方法が提案されているこ
とを知見した。
【0004】上記提案の方法は、いずれもプラスチック
の成形に関するものであり、勿論プラスチックそのもの
では各種機械装置用構造部材等に使用することはできな
い。また、特公昭63−40650号公報にはプラスチ
ックの改質用材料としてセラミックス粉末の混入が開示
されているが、セラミックス粉末を主成分として光学的
手法を用いるセラミックスの成形方法については未だ検
討もされていず、特にセラミックス製品は、通常、最終
的に約800℃以上の高温で焼結するため、添加する光
学的反応成分の影響等も未知であり、そのままセラミッ
クス粉末に適用し、実用的なセラミック成形体を得るこ
とはできない。発明者らは、上記提案の光学的プラスチ
ック成形技術を炭化珪素−シリコン複合材料の原材料の
炭化珪素成形体の製造へ応用するために、更に種々の検
討をした。その結果、熱硬化性樹脂を結合剤として用
い、その樹脂に炭化珪素粉末を分散させた樹脂スラリー
を所定形状に赤外線照射することにより、炭化珪素分散
樹脂スラリーを所望の形状に硬化させることができるこ
と、更に、その硬化体を焼成し、主に炭化珪素粉末と炭
素とからなる炭化珪素−炭素焼結体を得て、得られる炭
化珪素−炭素焼結体を更に溶融シリコンで処理すること
により緻密な炭化珪素−シリコン複合材料が得られるこ
とを見出し、本発明を完成した。
【0005】
【課題を解決するための手段】本発明によれば(a)炭
化珪素粉末及び熱硬化性樹脂を含有し、要すれば更に溶
媒を含有してなるスラリーを調製する工程、(b)前記
(a)工程で調製したスラリーに赤外線を照射して所定
形状に硬化成形する工程、及び(c)前記(b)工程で
成形した炭化珪素硬化体を不活性雰囲気下で加熱焼成し
て炭化珪素及び炭素を主成分とする焼結体を得る工程を
有して構成されてなることを特徴とする炭化珪素−炭素
焼結体の製造方法が提供される。
【0006】また、本発明は(a)炭化珪素粉末及び熱
硬化性樹脂を含有し、要すれば更に溶媒を含有してなる
スラリーを調製する工程、(b)前記(a)工程で調製
したスラリーに赤外線を照射して所定形状に硬化成形す
る工程、(c)前記(b)工程で成形した炭化珪素硬化
体を、不活性雰囲気下で加熱焼成して炭化珪素及び炭素
を主成分とする焼結体を形成する工程、及び(d)前記
(c)工程で形成した焼結体を、不活性雰囲気または真
空下、溶融シリコンで処理して炭化珪素−シリコン複合
材料とする工程を有して構成されてなることを特徴とす
る炭化珪素−シリコン複合材料の製造方法を提供する。
【0007】上記本発明の炭化珪素−炭素焼結体または
炭化珪素−シリコン複合材料の製造方法において、上記
(b)工程における硬化成形が、薄層状スラリーを形成
し硬化し薄層硬化層として成形した後、該薄層硬化層を
複数積層して所定形状とすることが好ましい。また、前
記薄層状スラリー及び薄層硬化層が、スラリー内で形成
されると共に硬化成形され、成形された薄層硬化層の上
部及び/または下部に再度スラリーを導入して薄層状ス
ラリーを形成して硬化して薄層硬化層を成形することが
好ましい。更に、溶融シリコン処理が、前記焼結体を溶
融シリコンに浸漬または接触させて行うことが好まし
い。
【0008】
【作用】本発明は上記のように構成され、要すれば溶剤
と共に原料炭化珪素粉末が熱硬化性樹脂に分散した熱硬
化性スラリーを用い、その熱硬化特性を活用して赤外線
照射することにより、炭化珪素及び炭素を主成分とする
焼結体または炭化珪素−シリコン複合材料の構成原料材
である炭化珪素成形体を成形することができる。従っ
て、従来の経費の嵩む特定の成形型を用いることなく所
定形状に成形することができ、且つ、成形型を用いる方
法では成形不可能であった複雑形状等の成形体の成形も
可能となる。また、成形体が乾燥等において収縮のおそ
れがある場合でも、従来法と異なり型による収縮障害が
なく自由に収縮できるため、クラックの発生等が抑制さ
れ成形歩留りの向上が著しい。また、成形体全体が均質
となると同時に、予め設計した所望の成形体を得ること
ができ、ニアネット成形が可能である。更に、炭化珪素
分散スラリーに熱硬化特性を付与する熱硬化性樹脂は、
成形体の結合剤として作用すると同時に、硬化成形体を
不活性雰囲気下で加熱焼成することにより炭化されるた
め、炭化珪素及び炭素を主成分とする焼結体を形成でき
ると共に、炭化珪素−シリコン複合材料を形成するため
に必須な結合剤及び炭素源として機能する。即ち、形成
される炭化珪素及び炭素を主成分とする焼結体を溶融シ
リコンで所定に処理することにより、炭化珪素粉末粒子
間の炭素が炭化珪素化され、最終的に炭化珪素と余剰の
シリコンとから構成される緻密な炭化珪素−シリコン複
合材料を得ることができる。
【0009】以下、本発明について詳細に説明する。本
発明の原料炭化珪素粉末は、特に制限されるものでな
く、通常の合成方法で製造され市販されているものを適
宜使用することができる。また、本発明の炭化珪素粉末
の平均粒径は100μm以下が好ましく、より好ましく
は50μm以下のものが使用される。本発明において、
炭化珪素粉末は下記する熱硬化樹脂と共にスラリーを形
成するため、粒径が100μmより大きいと分散安定性
が低下するため、最終的に均質な成形体を得ることがで
きない。一方、粒径が小さ過ぎると形成されるスラリー
粘性が高くなる傾向にあり、硬化成形が困難となるおそ
れがある。このため、通常、平均粒子径が0.5〜50
μmの範囲の炭化珪素粉末を用いるのが好ましい。
【0010】本発明において、熱硬化性樹脂は上記炭化
珪素粉末と共にスラリーを構成すると共に、得られる炭
化珪素成形体、炭化珪素−炭素焼結体及び炭化珪素−シ
リコン複合材料における結合剤として機能するものであ
り、炭化珪素粉末を分散保持でき、熱により重合または
架橋して硬化するいわゆる熱硬化性成樹脂であれば、特
に制限されるものでない。例えば、メラミン樹脂、フェ
ノール樹脂、エポキシ樹脂等を用いることができる。上
記熱硬化性樹脂と炭化珪素粉末とによりスラリーを形成
する場合、スラリー粘度は、一般に、用いる樹脂粘度よ
りも高くなる。そのため、粘度の高い熱硬化性樹脂を用
いた場合は、スラリー粘度が高くなり過ぎ成形が困難に
なるおそれがあり、低粘性の熱硬化性樹脂を用いること
が好ましい。本発明のスラリーは、上記のように主に炭
化珪素粉末と熱硬化性樹脂とから形成され、硬化成分と
して上記熱硬化性成樹脂のみを含有する場合でも熱源の
赤外線を照射により硬化される硬化性を有するが、硬化
促進剤(触媒)を添加して硬化速度を高めることもでき
る。硬化促進剤としては、酸、ルイス酸、塩基、トリア
リールスルフォニウム塩等の光プロトン発生剤等を挙げ
ることができる。一般に、光造形による成形法において
は、比較的長時間の樹脂安定性が求められる場合が多い
ため、極めて活性の高い触媒は好ましくない。本発明に
おいて、スラリーにおける熱硬化性樹脂の添加量は、炭
化珪素粉末100重量部に対して5〜100重量部、好
ましくは10〜60重量部である。熱硬化性樹脂の添加
量が5重量部より少ないと、硬化後、成形体の形態維持
力が弱く成形体が壊れ易い。一方、結合剤が100重量
部を超えて多いと、得られた成形体を加熱焼成して熱硬
化性樹脂等有機化合物成分を炭化する工程において、収
縮率が大きくなり寸法精度が低下するため好ましくな
い。
【0011】本発明において、上記熱硬化性樹脂が結合
剤として機能し、それのみでも成形体の形態を維持する
ために十分な強度を有するが、必要であれば、通常のセ
ラミックスの成形に用いられている結合剤を添加併用す
ることができる。また、本発明のスラリーには、上記熱
硬化性樹脂及び炭化珪素粉末、また、上記硬化促進剤や
結合剤のほか、分散剤、潤滑剤等の通常のセラミックス
の成形助剤を、必要に応じて適宜添加することができ
る。分散剤は炭化珪素スラリーで使用する熱硬化性樹
脂、及び、要すれば添加される結合剤の種類により添加
の要否を選択することができる。通常、スラリー中に炭
化珪素粒子を長時間安定的に分散させるために添加する
のが好ましい。添加する分散剤としては、使用する熱硬
化性樹脂や結合剤との相溶性の良いものであれば特に制
限されるものでなく、例えば、界面活性剤等の通常の分
散剤を用いることができる。
【0012】本発明において、熱硬化性スラリーを上記
のように炭化珪素粉末と熱硬化性樹脂とから形成した場
合、熱硬化性成樹脂の粘度が高く、形成されるスラリー
粘度が極めて高くなる場合には、更に溶媒を添加してス
ラリーの粘度を調節することができる。即ち、前記の通
り、熱硬化樹脂の粘度が低く、且つ、炭化珪素粉末の粒
径が比較的大きい場合は、形成されるスラリーの粘度は
比較的低くなるため、溶媒を更に添加すること無く造形
が可能である。しかし、一般的には、熱硬化性樹脂の粘
性は高く、炭化珪素粉末を分散させることにより更に高
粘性となるため、適宜溶媒を添加してスラリーの粘度を
低下させることができ、光造形の作業性が向上し好まし
い。使用する溶媒としては、上記熱硬化性樹脂、炭化珪
素粉末、硬化促進剤、分散剤等の他のスラリー含有成分
と反応することなく、相溶性が高く、揮発性が低く、且
つ粘性の低いものが好ましい。例えば、n−ペンタノー
ル、n−ヘキサノール等のアルコール類、シュウ酸ジエ
チル、シュウ酸ジブチル、酢酸2−(2−エトキシエト
キシ)エチル等のエステル類を用いることができる。ま
た、揮発性が低く、且つ、低粘性のものであれば、重合
性化合物、即ち重合性希釈剤を用いることもできる。例
えば、オクチレンオキサイド、ドデセンオキサイド、ブ
チルグリシジルエーテル、フェニルグリシジルエーテ
ル、アルキレングリコールジグリシジルエーテル、ポリ
エチレングリコールジグリシジルエーテル等が用いられ
る。本発明のスラリーにおいて、上記溶媒の添加量は、
目的とするスラリー粘度、炭化珪素粉末粒径、炭化珪素
粉末に対する熱硬化性樹脂の添加量及び使用する熱硬化
性樹脂粘度により、適宜選択することができる。
【0013】本発明において、炭化珪素成形体は、上記
した各構成成分を撹拌混合して所定のスラリーを調製
し、その調製されたスラリーを所定形状に赤外線照射し
て硬化体として成形することできる。また、スラリーの
薄層を形成して、そのスラリー薄層を同様に赤外線照射
により硬化させ薄層硬化層を形成させ、得られる薄層硬
化層の上部及び/または下部に、順次、同様に薄層硬化
層を形成して複数積層し、所望の立体形状の炭化珪素成
形体を成形することもできる。上記の薄層硬化層の積層
成形は、各赤外線照射操作毎にスラリー層を形成して硬
化させ得た炭化珪素の薄層硬化層を複数積層してもよい
し、また、炭化珪素スラリーを所定容器内に所定量保持
して、適宜板状体上に所定の厚さにスラリーを導入して
所望形状に板状体上のスラリーを赤外線照射して硬化
し、薄層の炭化珪素硬化層を形成した後、板状体を降下
してスラリーをその硬化層上部及び/または下部に順次
導入し、赤外線照射の操作を繰り返し行い炭化珪素硬化
層を順次積層することもできる。上記したスラリーの成
形方式は、目的とする成形体の形状やスラリー特性等の
各成形条件に応じて適宜選択することができる。
【0014】本発明において、スラリーを照射して硬化
させ炭化珪素成形体を得るための熱源となる赤外線とし
ては、赤外線ランプまたは赤外線レーザーを用いること
ができる。赤外線ランプを用いた場合には所定形状のマ
スクを通して照射する方法が好適に用いられ、また、赤
外線レーザ光等を用いる場合は所定のスラリー表面をX
−Y軸制御等を行いながらレーザ光走査する等の方法が
適用できる。また、照射光の強度や照射時間もしくは走
査速度、走査間隔はセラミックス粉末の種類、粒径分
布、熱硬化性結合剤の種類、触媒の種類と量、セラミッ
クスラリーの濃度、及び1回の照射で硬化形成するセラ
ミック硬化層の厚さ等により適宜選択することができ
る。
【0015】本発明において、上記のようにして得た炭
化珪素硬化成形体は、メタノ−ル、エタノ−ル、アセト
ンなど低沸点の溶媒にて洗浄し、洗浄溶媒を乾燥した
後、次いで、加熱焼成して有機化合物成分を炭化する工
程に供し、炭化珪素及び炭素を主成分とする炭化珪素−
炭素焼結体とすることができる。加熱焼成は、アルゴ
ン、窒素などの不活性ガス雰囲気下、約1400〜18
00℃にて行うことができる。本発明のスラリーの構成
成分の熱硬化性樹脂の炭化は、約600〜900℃の焼
成温度範囲にて完了させることができるが、1400〜
1800℃に昇温し焼成を完結させることが好ましい。
また、加熱焼成工程において、200〜600℃の範囲
は熱硬化樹脂の分解温度であり、成形体の破損を防ぐた
め緩やかに昇温することが好ましい。
【0016】上記のようにして加熱焼成により得られる
炭化珪素−炭素焼結体は、炭化珪素−シリコン複合材料
の前駆体として好適に用いることができる。本発明の炭
化珪素−シリコン複合材料は、前記したように本発明の
スラリーを赤外線照射により硬化成形して得た炭化珪素
成形体を、上記の不活性雰囲気下の加熱焼成により炭化
されて得られた炭化珪素−炭素焼結体を、更に、アルゴ
ン等不活性雰囲気下または真空下で溶融シリコンにて処
理して製造することができる。即ち、炭化珪素−炭素焼
結体にシリコンを含浸させることにより、炭素成分が含
浸シリコンと反応し炭化珪素に変換され、最終的に炭化
珪素と余剰のシリコンとからなる炭化珪素−シリコン複
合材料を得ることができる。本発明の溶融シリコンによ
る処理は、炭化珪素−炭素焼結体にシリコンを含浸でき
ればよく、例えば、溶融シリコンに炭化珪素−炭素焼結
体を浸漬させたり、または、接触させること等適宜選択
して行うことができる。
【0017】
【実施例】本発明の一実施例を図面に基づき説明する。
但し、本発明は、下記の実施例に制限されるものでな
い。図1は、本発明における炭化珪素の硬化性スラリー
を赤外線レーザー照射して薄層硬化層を積層して炭化珪
素成形体を成形するための一装置の概念的説明図であ
る。図1において、スラリー容器3に所定の炭化珪素ス
ラリー4を供給して保持し、赤外線レーザーを適宜のビ
ーム径にて炭化珪素スラリー4の表面にX−Y制御等の
方法により所定形状に照射する。炭化珪素スラリー4内
には予め支持台2を所定位置に設置し、支持台2上に赤
外線により炭化珪素スラリーを硬化させてセラミック硬
化層5を形成させる。炭化珪素スラリー4の表面からの
支持台2の上面までの深さは、前記したように炭化珪素
スラリー4の硬化性と照射強度、時間叉は走査速度によ
り予め設定する。次いで、Z軸精密位置制御装置(図示
せず)を用い支持台2を降下させて、支持台2上に形成
された炭化珪素硬化層5を炭化珪素スラリー4中を所定
距離降下させ、炭化珪素硬化層5の上に周囲の炭化珪素
スラリー4を導入する。図2は、2回目の赤外線照射に
より第2のセラミック硬化層が第1の炭化珪素硬化層上
に形成される状態を示した説明図である。即ち、図2に
おいて第2の炭化珪素硬化層6が第1の炭化珪素硬化層
5上に形成される以外は図1と同様である。上記のよう
な操作を繰り返して行い、炭化珪素スラリー層を熱硬化
して、硬化層を形成積層し立体形状の炭化珪素成形体を
得ることができる。
【0018】実施例1 (熱硬化性樹脂を含む溶液の調製)オニウム塩型の熱重
合開始剤を含む市販のエポキシ系から成る熱硬化性樹脂
160gに分散剤としてポリオキシエチレンソルビタン
モノステアレート6gを添加して混合した。
【0019】(炭化珪素スラリーの調製)γ−グリシド
キシプロピルトリメトキシシランで処理した平均粒径
1.5μmの炭化珪素(SiC)粉末300gを、上記
のように調製した分散剤を含む熱硬化性樹脂に添加し、
ナイロン製ボール及びポリエチレン製ポットを用い室温
下24時間攪拌混合した。得られた炭化珪素スラリーを
容器に移し、減圧下脱泡した。
【0020】(炭化珪素硬化性スラリーの赤外線レーザ
ー照射硬化積層成形)図1に示したものと同様な装置の
スラリー容器3に、上記で得た脱泡後の炭化珪素スラリ
ーを150g加え、支持台2をスラリー表面下300μ
mの位置にセットし、窒素雰囲気に保ちながら炭酸ガス
レーザー(最大出力12W、波長10.6μm)をスラ
リー面より100mmの位置に設定し、X−Y制御によ
り幅8mm、長さ40mmの面に走査速度6mm/秒、
走査間隔0.3mmで照射した。照射後、Z軸精密位置
制御装置により支持台2を下げて、支持台2上に形成さ
れた硬化層5を400μm下げ、同時に硬化層上にスラ
リーを導入し、再び赤外線レーザーを同様に照射し、硬
化層5上に硬化層6を形成積層した。その後、更に、支
持台2を同様に400μm下げ、硬化層6を400μm
下げ、赤外線レーザーを同様に照射した。上記の操作を
連続的に繰り返し、炭化珪素硬化性スラリーより板状の
成形体を取出し、得られた成形体をエタノールで洗浄し
未硬化のスラリーを除去した後、空気雰囲気下で乾燥
し、厚さ約8mm、縦横40mmの板状の炭化珪素成形
体を得た。得られた炭化珪素成形体の嵩密度を測定した
結果、1.8g/cm3 であった。
【0021】(焼成)上記のようにして得た炭化珪素成
形体を、アルゴン雰囲気下、600℃まで20時間を要
して昇温し、更に1700℃に昇温して2時間保持して
加熱焼成し、焼結体を得た。得られた焼結体は、燃焼容
量法等で分析した結果、主成分が炭化珪素及び炭素から
なる炭化珪素−炭素焼結体であった。
【0022】(浸漬)次いで、上記ようにして製造され
た炭化珪素−炭素焼結体をカーボン紐を用いて、真空
下、1500℃に加熱された炉内で、溶融したシリコン
中に浸漬し1時間保持した。シリコンが溶融した状態で
シリコンとの反応によって生じた炭化珪素−シリコン複
合材料を引き上げ、その後、炉を冷却した。冷却後、炭
化珪素−シリコン複合材料を炉外に取り出しカーボン紐
を取り除き、表面のシリコンを除去して、厚さ約8m
m、幅約37mm、長さ約38mmの炭化珪素−シリコ
ン複合材料を得た。得られた炭化珪素−シリコン複合材
料の密度は2.96g/cm3 であった。3×4×40
のテストピースに加工後、強度試験機にて測定した室温
曲げ強さは350MPaであった。
【0023】実施例2 実施例1と同様の硬化促進剤を含む市販のエポキシ系か
ら成る熱硬化性樹脂100gに、希釈剤としてネオペン
チルグリコールジグリシジルエーテル40g及び分散剤
としてポリオキシエチレンソルビタンモノステアレート
6gを添加して混合した。この溶液に平均粒径5.3μ
mの炭化珪素粉末30g、平均粒径1.5μmの炭化珪
素粉末210g及び平均粒径0.5μmの炭化珪素粉末
60gを加え実施例1と同様にして撹拌し、硬化性スラ
リーを得た。得られた硬化性スラリーを用い実施例1と
同様に炭化珪素成形体の成形、加熱焼成及びシリコン含
浸を行い、厚さ7mm、幅37mm、長さ38mmの炭
化珪素−シリコン複合材料を得た。得られた炭化珪素−
シリコン複合材料の嵩密度は2.93g/cm3 であっ
た。実施例1と同様にして曲げ強さを測定した結果、4
10MPaであった。
【0024】実施例3 実施例2と同様にして得た硬化性スラリーを用い、金型
を用いる加圧成形または吸収性の型を用いる鋳込み成形
では成形困難な例として仕切板を有する円筒体を、赤外
線レーザーを用いてX−Y−Z軸精密位置制御装置を用
いて硬化成形した。得られた炭化珪素成形体を実施例2
と同様に焼成し、シリコン含浸を行なった。その結果、
内径25mm、外径33mm、高さ50mmの円筒体
で、高さ方向の中央部に内径5mmの孔を有する厚さ3
mmの仕切板を備えた形状の炭化珪素−シリコン複合材
料を得ることができた。
【0025】比較例1 平均粒径13及び1.5μmの炭化珪素粉末を各50
g、一次粒子径30nmの炭素粉末10gを、分散剤と
してフミン酸アンモニウム0.2gを含む水30gに添
加し、実施例1と同様なポットミルを用いて24時間撹
拌した。得られたスラリーを石膏型に注入し硬化させ、
厚さ8mm、縦横50mmの成形体を得た。得られた成
形体を室温で乾燥後、実施例1と同様にして焼成及びシ
リコン含浸を行ない、厚さ8mm、縦横50mmの炭化
珪素−シリコン複合材料を得た。得られた炭化珪素−シ
リコン複合材料の嵩密度は2.95g/cm3 であっ
た。実施例1と同様にしてテストピ−スに加工して室温
曲げ強さを測定した結果、380MPaであった。
【0026】上記の実施例及び比較例とから明らかなよ
うに、熱硬化性樹脂と炭化珪素とを含有するスラリーか
ら赤外線照射して成形された炭化珪素硬化成形体を原材
料とし、それから加熱焼成により製造された炭化珪素−
炭素焼結体を用い、シリコン含浸させて製造された炭化
珪素−シリコン複合材料は、石膏型の鋳込成形により得
られる炭化珪素−シリコン複合材料に匹敵する嵩密度及
び曲げ強さを有し、高価な成形型を用いることなく従来
法と同等で、且つ、歩留よく炭化珪素−シリコン複合材
料を製造できることが分かる。また、複雑な形状の炭化
珪素−シリコン複合材料も得ることできることが分か
る。
【0027】
【発明の効果】本発明は、炭化珪素粉末と熱硬化性樹
脂、要すれば、更に溶媒を含有する硬化性スラリーを用
い、赤外線照射により炭化珪素成形体を成形するもので
あり、成形型を用いることなく各種形状のものを任意に
得ることができる。しかも、炭化珪素−シリコン複合材
料の前駆体である炭化珪素−炭素焼結体は、硬化性スラ
リーにより赤外線照射して硬化製造された炭化珪素成形
体を不活性雰囲気下に加熱焼成することにより得ること
ができ、そのため溶融シリコン処理することにより容易
に、高強度で耐熱衝撃性、耐薬品性、耐酸化性等に優れ
る特性を有する炭化珪素−シリコン複合材料を製造する
ことができる。また、本発明は、特定の成形体毎に型を
作製する必要もなく、型作製に要する時間、費用を軽減
できる上、従来法にほぼ匹敵する嵩密度や強度等の特性
をも有する炭化珪素−シリコン複合材料を製造すること
ができ、しかも、従来法においては困難な複雑形状の炭
化珪素−シリコン複合材料も製造することができる。ま
た、予め設計された寸法精度よくニアネットで炭化珪素
−炭素焼結体及び炭化珪素−シリコン複合材料を製造で
き、成形体から、その炭化珪素−炭素焼結体及び炭化珪
素−シリコン複合材料まで後加工の必要がなく工業上極
めて有用である。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明における炭化珪素の硬化性スラリーを赤
外線レーザー照射して薄層硬化層を積層して炭化珪素成
形体を成形するための一装置の概念的説明図である。
【図2】第2の炭化珪素硬化層が第1の炭化珪素硬化層
上に形成される状態を示した説明図である。
【符号の説明】
1 赤外線レーザー 2 支持台 3 スラリー容器 4 スラリー 5 セラミック硬化層(第1) 6 セラミック硬化層(第2)
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 大西 正俊 神奈川県秦野市曽屋30 東芝セラミックス 株式会社開発研究所内

Claims (4)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 (a)炭化珪素粉末及び熱硬化性樹脂を
    含有し、要すれば更に溶媒を含有してなるスラリーを調
    製する工程、(b)前記(a)工程で調製したスラリー
    に赤外線を照射して所定形状に硬化成形する工程、及び
    (c)前記(b)工程で成形した炭化珪素硬化体を不活
    性雰囲気下で加熱焼成して炭化珪素及び炭素を主成分と
    する焼結体を得る工程を有して構成されてなることを特
    徴とする炭化珪素−炭素焼結体の製造方法。
  2. 【請求項2】 (a)炭化珪素粉末及び熱硬化性樹脂を
    含有し、要すれば更に溶媒を含有してなるスラリーを調
    製する工程、(b)前記(a)工程で調製したスラリー
    に赤外線を照射して所定形状に硬化成形する工程、
    (c)前記(b)工程で成形した炭化珪素硬化体を、不
    活性雰囲気下で加熱焼成して炭化珪素及び炭素を主成分
    とする焼結体を得る工程、及び(d)前記(c)工程で
    形成した焼結体を、不活性雰囲気または真空下、溶融シ
    リコンで処理して炭化珪素−シリコン複合材料とする工
    程を有して構成されてなることを特徴とする炭化珪素−
    シリコン複合材料の製造方法。
  3. 【請求項3】 前記(b)工程における硬化成形が、薄
    層状スラリーを形成し硬化し薄層硬化層として成形した
    後、該薄層硬化層を複数積層して所定形状にしてなる請
    求項1または2記載の炭化珪素−炭素焼結体の製造方
    法。
  4. 【請求項4】 前記(d)工程において、溶融シリコン
    処理が前記焼結体を溶融シリコンに浸漬または接触させ
    る請求項2または3記載の炭化珪素−シリコン複合材料
    の製造方法。
JP6315982A 1994-11-25 1994-11-25 炭化珪素−炭素焼結体及び炭化珪素−シリコン複合材料の製造方法 Pending JPH08151267A (ja)

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