JPH08148547A - Wafer transfer method in semiconductor manufacture device - Google Patents

Wafer transfer method in semiconductor manufacture device

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JPH08148547A
JPH08148547A JP30834494A JP30834494A JPH08148547A JP H08148547 A JPH08148547 A JP H08148547A JP 30834494 A JP30834494 A JP 30834494A JP 30834494 A JP30834494 A JP 30834494A JP H08148547 A JPH08148547 A JP H08148547A
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JP
Japan
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groove
wafer
boat
cassette
carrier stage
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JP30834494A
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Japanese (ja)
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Takashi Yamashita
隆士 山下
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Shinko Electric Co Ltd
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Shinko Electric Co Ltd
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Abstract

PURPOSE: To precisely transfer a wafer even if misregistration is generated in a groove of a cassette and a boat by modifying only independent address numbers requiring modification separately and by transferring a wafer on the basin of position data of more accurate supporting part. CONSTITUTION: Position data of a groove at a cassette side of a carrier stage and the side of a boat 7 obtained by a palletizing method is substituted separately for each independent address number wherein data obtained by a palletizing method is stored. In this example, a groove P7 is out of position below by ΔL (0.2mm); therefore, a setting position of the groove P7 is modified to place a wafer in a position 0.2mm below from a value of a groove position obtained by a palletizing method. Furthermore, since a groove P5 at the side of the boat 7 is missing, an operation is performed to place a wafer in the next P6 by skipping the groove P5 .

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は半導体製造装置における
ロボットによるウェーハの移載方法の改良に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to improvement of a wafer transfer method by a robot in a semiconductor manufacturing apparatus.

【0002】[0002]

【従来の技術】従来、半導体の単結晶を材料ウェーハの
上に形成する半導体製造装置は、図3のような構成にな
っている。同図において、1は半導体製造装置であって
無塵室を形成している。2は移載装置であるロボット
で、このロボット2のアーム3の先端に設けられたペン
シル4によって、材料であるウェーハ5をキャリアステ
ージのカセット6内の支柱に設けられた溝に収納されて
いるウェーハを取り出し、ボート7内の支柱に設けられ
るウェーハ収納用の支持部としての溝8に移載・装填
し、ウェーハ5の装填を完了したボート7は図示しない
昇降手段によって上昇して、その材料ウェーハ5を反応
装置9に収納し、所要の熱処理を行うようになってい
る。また、10は、この半導体製造装置の制御装置、1
1はその操作盤で無塵室外に置かれる。ところで、ボー
ト7内の支柱に設けられるウェーハ収納用の溝8は通常
100〜150個設けられている。このように、ウェー
ハ5の移載に対し、ウェーハが収納されている溝や移載
する側の溝が多数存在する場合、これらの個々の溝の位
置を全てロボット2に教えることは、大変な作業になり
困難である。そのため、より少ない点(溝の位置)をロ
ボット2に教え、他の溝の位置は計算によって求める、
いわゆるパレタイジング法が用いられている。ここで、
パレタイジング法とは基準となる任意の位置を2点以上
入力し、その2点間をある値(溝数)で割ることによ
り、2点間の溝の位置を全て計算で求める方法である。
従来のものでは、図4に示すように、ウェーハの移載に
おけるキャリアステージのカセット6内の溝の位置と、
ボート7の溝8の下面の溝の位置は(以下、各溝の下面
の位置を単に溝の位置という。)次のように、パレタイ
ジング法を用いて計算している。例えば、ボート内のウ
ェーハの収納枚数が125枚であるとし、キャリアステ
ージには5個のカセットを設け、各カセット6には25
枚ずつのウェーハを収納して合計で125枚のウェーハ
がキャリアステージ上のカセット内に収納されるように
しているものとする。この場合、基準となる位置として
ボート7の溝8の最上段の溝の位置cと最下段の溝の位
置dを入力し、合計の溝数125で割り夫々の溝につい
て計算すれば、平均的な溝の位置が全て求まることにな
る。同様の計算をキャリアステージの各カセット6の最
上段の溝の位置a及び最下段の溝の位置bにおいても行
えば、カセット6中の溝の位置が全て算出できる。従っ
て、キャリアステージのカセット6の溝からボート7の
溝に対してロボット2によりウェーハを移載する場合、
求められたキャリアステージの各カセット6内の溝の位
置に順番にウェーハを取りに行き、移載するボート7側
の溝8の求められた位置に順番にウェーハを置いてくる
という作業を行っている。このようなロボット2の動作
を図5のフローチャートによって示した。同図におい
て、各ステップをST11〜ST18で表示し、また、
nは溝のアドレス番号を示すものである。ST11から
始まり、ST12でキャリアステージのカセット6内の
溝及びボート7の溝8の夫々最上段と最下段の溝の位置
を入力する。ST13で夫々の溝の位置を計算し、その
計算値をキャリアステージのカセット側は合計で125
のアドレス番号により、またボート7側も合計で125
のアドレス番号により書き込む。そしてST14〜ST
18まで125枚のウェーハを順番にキャリアステージ
のカセット6からボート7に移載する。従来のもので
は、上述のような方法を用いて半導体製造装置における
ウェーハの移載を行っていた。
2. Description of the Related Art Conventionally, a semiconductor manufacturing apparatus for forming a semiconductor single crystal on a material wafer has a structure as shown in FIG. In the figure, reference numeral 1 is a semiconductor manufacturing apparatus which forms a dust-free chamber. A robot 2 is a transfer device, and a pencil 4 provided at the tip of an arm 3 of the robot 2 stores a wafer 5 as a material in a groove provided in a column in a cassette 6 of a carrier stage. The wafer is taken out, transferred and loaded into a groove 8 as a support portion for storing a wafer provided on a column in the boat 7, and the boat 7 having the wafer 5 loaded therein is lifted by a lifting means (not shown), The wafer 5 is housed in the reactor 9 and the required heat treatment is performed. Further, 10 is a control device of this semiconductor manufacturing apparatus, 1
The operation panel 1 is placed outside the dust-free room. By the way, usually 100 to 150 grooves 8 for storing wafers, which are provided on the support columns in the boat 7, are provided. As described above, when the wafer 5 is transferred and there are a large number of grooves in which the wafers are stored and grooves on the transfer side, it is difficult to teach the robot 2 all the positions of these individual grooves. It is difficult to work. Therefore, the robot 2 is taught less points (the positions of the grooves), and the positions of the other grooves are calculated.
The so-called palletizing method is used. here,
The palletizing method is a method in which two or more reference arbitrary positions are input and the distance between the two points is divided by a certain value (the number of grooves) to obtain all the groove positions between the two points by calculation.
In the conventional case, as shown in FIG. 4, the position of the groove in the cassette 6 of the carrier stage in transferring the wafer,
The position of the groove on the lower surface of the groove 8 of the boat 7 (hereinafter, the position of the lower surface of each groove is simply referred to as the groove position) is calculated by using the palletizing method as follows. For example, assuming that the number of wafers stored in the boat is 125, five cassettes are provided on the carrier stage, and each cassette 6 has 25 cassettes.
It is assumed that the wafers are stored one by one and a total of 125 wafers are stored in the cassette on the carrier stage. In this case, if the position c of the uppermost groove and the position d of the lowermost groove of the groove 8 of the boat 7 are input as the reference position and divided by the total number of grooves 125 to calculate each groove, an average value is obtained. All the positions of the groove will be found. If the same calculation is performed at the uppermost groove position a and the lowermost groove position b of each cassette 6 of the carrier stage, all the groove positions in the cassette 6 can be calculated. Therefore, when the wafer is transferred by the robot 2 from the groove of the cassette 6 on the carrier stage to the groove of the boat 7,
The wafers are sequentially picked up at the determined groove positions in each cassette 6 of the carrier stage, and the wafers are sequentially placed at the required positions in the groove 8 on the boat 7 side to be transferred. There is. The operation of such a robot 2 is shown by the flowchart of FIG. In the figure, each step is displayed in ST11 to ST18, and
n indicates the address number of the groove. Starting from ST11, in ST12, the positions of the uppermost groove and the lowermost groove of the groove in the cassette 6 of the carrier stage and the groove 8 of the boat 7 are input. The position of each groove is calculated in ST13, and the calculated value is 125 in total on the cassette side of the carrier stage.
Depending on the address number of the boat, the boat 7 side also has a total of 125
Write with the address number of. And ST14-ST
Up to 18, 125 wafers are sequentially transferred from the cassette 6 on the carrier stage to the boat 7. Conventionally, wafers are transferred in a semiconductor manufacturing apparatus using the method described above.

【0003】[0003]

【発明が解決しようとする課題】従来の半導体製造装置
におけるウェーハの移載方法では、前述のようにキャリ
アステージのカセットの溝の位置とボート中の溝の位置
をパレタイジング法を用いて算出していた。しかし、こ
のようなパレタイジング法のみに頼るウェーハの移載方
法は、次のような問題点があった。 計算によってウェーハの溝の位置割り出しを行うた
め、個々のウェーハの位置を自由に設定できない。 また、ボートの最上段の溝の位置と最下段の溝の位置
を入力する際、入力値に誤差が生じている場合やキャリ
アステージのカセットやボートにおける溝の製作誤差や
使用中の損傷により溝の位置にずれを生じた場合、また
溝が1つ欠落した場合などのとき、適切な溝の位置の算
出ができなくなる。なお、このような問題は、ウェーハ
を収納する支持部が溝でなく、支柱に溝に代えて棚を設
けた場合でも、同様に生じるため、この対策が求められ
ていた。 本発明は従来のものの上記課題(問題点)を解決するよ
うにした半導体製造装置におけるウェーハの移載方法を
提供することを目的とする。
In the conventional wafer transfer method in the semiconductor manufacturing apparatus, the position of the groove of the cassette of the carrier stage and the position of the groove in the boat are calculated by using the palletizing method as described above. It was However, the wafer transfer method relying only on the palletizing method has the following problems. Since the position of the groove of the wafer is calculated by calculation, the position of each wafer cannot be set freely. In addition, when inputting the position of the uppermost groove and the position of the lowermost groove of the boat, if there is an error in the input value, the groove of the carrier stage cassette or the boat due to manufacturing error or damage during use, If there is a deviation in the position, or if one groove is missing, it becomes impossible to calculate the appropriate groove position. Incidentally, such a problem similarly occurs even when the supporting portion for accommodating the wafer is not the groove but the shelf is provided in place of the groove on the supporting column, and therefore, a countermeasure for this has been required. It is an object of the present invention to provide a wafer transfer method in a semiconductor manufacturing apparatus, which solves the above-mentioned problems (problems) of conventional ones.

【0004】[0004]

【課題を解決するための手段】本発明の半導体製造装置
におけるロボットによるウェーハの移載方法では、半導
体製造装置におけるキャリアステージのカセット及びボ
ートにおけるウェーハ収納用の溝等の支持部であって、
これらの各支持部における基準となる位置の所定の2つ
の座標に基づいてパレタイジング法を用いて求めた中間
部の各支持部の位置のアドレス番号を、さらに別の独立
したアドレス番号に置換することにより独立アドレス番
号とし、その独立したアドレス番号に対して修正が必要
なもののみ個々の修正を加えてより正しい支持部の位置
データを求め、このデータに基づいてウェーハの移載を
行うようにした。
According to a method of transferring a wafer by a robot in a semiconductor manufacturing apparatus of the present invention, a supporting unit such as a cassette of a carrier stage in a semiconductor manufacturing apparatus and a groove for storing a wafer in a boat,
Replacing the address number of the position of each support part in the middle part obtained by using the palletizing method based on two predetermined coordinates of the reference position in each of these support parts with another independent address number. Independent address numbers are set according to the above, and only the ones that need to be corrected are added to the individual address numbers to obtain more accurate position data of the support part, and wafers are transferred based on this data. .

【0005】[0005]

【作用】本発明の半導体製造装置におけるウェーハの移
載方法では、パレタイジング方法により算出したキャリ
アステージのカセットとボートにおける溝等の支持部の
位置のデータを、パレタイジング法より算出したデータ
の入ったアドレス番号とは独立したアドレス番号に置換
することにより、パレタイジング法より求めた値に個々
の支持部の状況に応じて修正を加えることが容易にで
き、支持部の位置データをより正しい値に修正すること
ができるので、ウェーハの移載をより的確に行うことが
できる。
In the wafer transfer method in the semiconductor manufacturing apparatus of the present invention, the data of the positions of the carrier stage cassette and the supporting portions such as the grooves in the boat calculated by the palletizing method is used as the address containing the data calculated by the palletizing method. By substituting an address number that is independent of the number, the value obtained by the palletizing method can be easily modified according to the situation of each support part, and the position data of the support part can be corrected to a more correct value. Therefore, the transfer of the wafer can be performed more accurately.

【0006】[0006]

【実施例】以下図1及び図2に示す一実施例によって本
発明を具体的に説明する。図1は本発明の一実施例のロ
ボットとボートとを示した縦断正面図である。同図にお
いて、P1〜P125は合計で125段のウェーハの支持部
としての溝を表わし、これらの溝はボートの各支柱に形
成されている。なお、図1では簡単のため1つの支柱の
みを示しているが、通常は3個等の複数個の支柱が対向
してボート内に設けられ、対向する溝間にウェーハを収
納・支持するようにしている。T1〜T125は溝P1〜P
125の下面の位置を示している。また、hは床面からボ
ート7の最下段の溝P1の下面T1までの高さを示してい
る。また、本実施例では、例えば下から5段目の溝P5
は破損により欠落しており、下から7段目の溝P7は通
常の位置よりも△L(0.2mm)だけ下方位置にずれ
て形成されていたものとする。このような場合、従来の
ようなパレタイジング法による溝の位置のデータ算出で
は、ウェーハの位置決めに誤差を生じるため、ウェーハ
の移載・装填を的確に行えず、装置自体も損傷させる可
能性があった。そこで本発明は、上述のような場合にも
対応できるようなウェーハの移載方法となるように改良
したもので、次に、本発明のロボット2の具体的な動作
の一例を図2のフローチャートによって説明する。な
お、nは溝のアドレス番号を示すものである。同図にお
いて、各ステップをST21〜ST32で表示してい
る。ST22でキャリアステージのカセット6及びボー
ト7の溝8の夫々最上段と最下段の溝の位置a,b,c
及びdを夫々入力する。ST23で夫々の溝の位置を計
算し、その計算値をキャリアステージのカセット6側は
合計で125のアドレス番号で、またボート側も合計で
125のアドレス番号で書き込む。ST24が本発明の
特徴とするステップであって、パレタイジング法により
求めたキャリアステージのカセット6側とボート7側の
溝の位置データを、パレタイジング法より求めたデータ
の入った各アドレス番号を独立したアドレス番号に(例
えば、k1→K1というように)夫々置換する。ST2
5はそのように置換されたデータに対し、操作者が修正
の必要を認めた溝に対してだけ位置データを修正するた
めのステップである。この例では、溝P7が△L(0.
2mm)だけ下方位置にずれているので、ウェーハをパ
レタイジング法により求めた溝位置の値から0.2mm
下がった位置に置くように溝P7の設定位置を修正して
いる。次に、ST26〜ST32では、ウェーハをキャ
リアステージの各カセット6からボート7に順次1枚ず
つ移載するための手順を示している。なお、ST28及
びST29では、ボート7側の溝P5が欠落しているた
め、溝P5を抜かして次の溝P6にウェーハを置くような
操作を施している。上述の例は、ボート7の溝8中に異
常がある場合のキャリアステージのカセット6からボー
ト7へウェーハを移載する過程だけを示したが、キャリ
アステージのカセットの溝に同様な損傷が生じている場
合も、上述の一例と同様にその溝についての判別を行う
プログラムとすることによって、ボート7からキャリア
ステージのカセット6ヘ処理を完了したウェーハを戻す
場合も本発明が適用できるものである。上記実施例で
は、カセット及びボートにおけるウェーハの支持部とし
て支柱に溝を形成した場合で説明したが、これに代え、
支柱に棚を形成し、この棚が支持部の役目を果たさせる
ようにしても良い。この場合は、上記実施例で説明した
溝の下面を、棚の上面で置き換えて基準となる棚の位置
や修正用の棚の位置を求めるようにすれば良い。
DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS The present invention will be described in detail below with reference to an embodiment shown in FIGS. FIG. 1 is a vertical sectional front view showing a robot and a boat according to an embodiment of the present invention. In the figure, P 1 to P 125 represent grooves as a supporting portion for a total of 125 wafers, and these grooves are formed in each column of the boat. Although only one support is shown in FIG. 1 for the sake of simplicity, a plurality of support, such as three, is usually provided in the boat so as to face each other so that the wafers are accommodated and supported between the opposing grooves. I have to. T 1 to T 125 are grooves P 1 to P
The position of the underside of 125 is shown. Further, h indicates the height from the floor surface to the lower surface T 1 of the groove P 1 at the bottom of the boat 7. In the present embodiment, for example, the groove P 5 in the fifth step from the bottom is
Is missing due to breakage, and the groove P 7 in the seventh step from the bottom is formed so as to be shifted downward by ΔL (0.2 mm) from the normal position. In such a case, in the conventional calculation of the groove position data by the palletizing method, an error occurs in the wafer positioning, so that the transfer and loading of the wafer cannot be performed accurately and the device itself may be damaged. It was Therefore, the present invention has been improved to provide a wafer transfer method capable of coping with the above case. Next, an example of a specific operation of the robot 2 of the present invention will be described with reference to the flowchart of FIG. Explained by. Note that n indicates the address number of the groove. In the figure, each step is indicated by ST21 to ST32. At ST22, the positions a, b, and c of the uppermost and lowermost grooves of the cassette 6 of the carrier stage and the groove 8 of the boat 7, respectively.
And d respectively. In ST23, the position of each groove is calculated, and the calculated value is written with a total of 125 address numbers on the cassette 6 side of the carrier stage and with a total of 125 address numbers on the boat side. ST24 is a characteristic step of the present invention, in which the position data of the groove on the cassette 6 side and the boat 7 side of the carrier stage obtained by the palletizing method is independent of each address number containing the data obtained by the palletizing method. The address numbers are replaced (for example, k1 → K1). ST2
Reference numeral 5 is a step for correcting the position data only for the groove for which the operator recognizes that the data thus replaced needs to be corrected. In this example, the groove P 7 is ΔL (0.
2 mm), so the wafer is 0.2 mm away from the groove position value obtained by the palletizing method.
The setting position of the groove P 7 is corrected so as to place it in the lowered position. Next, in ST26 to ST32, a procedure for sequentially transferring wafers from the cassettes 6 on the carrier stage to the boat 7 one by one is shown. In ST28 and ST29, since the grooves P 5 of the boat 7 side is missing, by skipping a groove P 5 is subjected to operations such as placing the wafers to the next groove P 6. The above example shows only the process of transferring a wafer from the carrier stage cassette 6 to the boat 7 when there is an abnormality in the groove 8 of the boat 7, but similar damage occurs in the groove of the carrier stage cassette. In this case, the present invention can be applied to the case where the processed wafer is returned from the boat 7 to the carrier stage cassette 6 by using a program for determining the groove as in the above example. . In the above embodiment, the case where the groove is formed on the support as the wafer supporting portion in the cassette and the boat is described, but instead of this,
It is also possible to form a shelf on the column and make the shelf serve as a support portion. In this case, the lower surface of the groove described in the above embodiment may be replaced with the upper surface of the shelf to obtain the reference shelf position and the correction shelf position.

【0007】[0007]

【発明の効果】本発明の半導体製造装置におけるウェー
ハの移載方法は、上記のように行うものであるから、次
のような優れた効果を有する。 パレタイジング法を基礎としているので、初期のデー
タ入力操作が少なくてすむ。 さらに、パレタイジング法により求めたキャリアステ
ージのカセットとボート中の溝の位置のデータを、パレ
タイジング法より求めた計算値の入ったアドレス番号と
は独立したアドレス番号に一旦置換するようにしたの
で、個々のウェーハ支持部としての溝や棚の状況に応じ
て溝や棚の位置データをより正しい値に修正することが
容易となった。 修正過多で混乱が生じた場合、初期状態に戻すことも
容易にできるので混乱を防ぐことができる。
Since the wafer transfer method in the semiconductor manufacturing apparatus of the present invention is performed as described above, it has the following excellent effects. Since it is based on the palletizing method, the initial data input operation is small. Furthermore, the data of the position of the carrier stage cassette and the groove in the boat obtained by the palletizing method are temporarily replaced with the address numbers independent of the calculated address numbers obtained by the palletizing method. It became easy to correct the position data of the groove or the shelf to a more correct value according to the situation of the groove or the shelf as the wafer supporting part. In case of confusion caused by overcorrection, it is possible to easily return to the initial state and prevent confusion.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】本発明の一実施例の要部を示した縦断正面図で
ある。
FIG. 1 is a vertical sectional front view showing a main part of an embodiment of the present invention.

【図2】図1における本発明のロボットの動作を表わす
フローチャートである。
FIG. 2 is a flowchart showing the operation of the robot of the present invention in FIG.

【図3】本発明及び従来のものが適用される半導体製造
装置を示す正面図である。
FIG. 3 is a front view showing a semiconductor manufacturing apparatus to which the present invention and a conventional one are applied.

【図4】従来例の要部を示した縦断正面図である。FIG. 4 is a vertical sectional front view showing a main part of a conventional example.

【図5】従来例のロボットの動作を表わすフローチャー
トである。
FIG. 5 is a flowchart showing the operation of a conventional robot.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

2:ロボット 3a、3b:アーム 4:ペンシル 5:ウェーハ P1〜P125:ボート中の溝 T1〜T125:ボート中の溝の下面位置2: Robot 3a, 3b: Arm 4: Pencil 5: Wafer P 1 to P 125: groove in the boat T 1 through T 125: the lower surface position of the groove in the boat

Claims (1)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 半導体製造装置におけるキャリアステー
ジのカセット及びボートにおけるウェーハ収納用の溝等
の支持部であって、これらの各支持部における基準とな
る位置の所定の2つの座標に基づいてパレタイジング法
を用いて求めた中間部の各支持部の位置のアドレス番号
を、さらに別の独立したアドレス番号に置換することに
より独立アドレス番号とし、その独立したアドレス番号
に対して修正が必要なもののみ個々の修正を加えてより
正しい支持部の位置データを求め、このデータに基づい
てウェーハの移載を行うようにしたことを特徴とする半
導体製造装置におけるウェーハの移載方法。
1. A palletizing method based on two predetermined coordinates of a reference position in each of the supporting portions, such as a carrier stage cassette in a semiconductor manufacturing apparatus and a wafer storing groove in a boat. Independent address numbers are obtained by substituting the address numbers at the positions of the supporting parts in the middle part, which are obtained by using, with other independent address numbers. The method for transferring a wafer in a semiconductor manufacturing apparatus is characterized in that more accurate position data of the supporting portion is obtained by correcting the above, and the wafer is transferred based on this data.
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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2004003994A1 (en) * 2002-07-01 2004-01-08 Hirata Corporation Substrate sensor
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