JPH08148546A - ウェハ配列検出装置 - Google Patents

ウェハ配列検出装置

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JPH08148546A
JPH08148546A JP28835894A JP28835894A JPH08148546A JP H08148546 A JPH08148546 A JP H08148546A JP 28835894 A JP28835894 A JP 28835894A JP 28835894 A JP28835894 A JP 28835894A JP H08148546 A JPH08148546 A JP H08148546A
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JP
Japan
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wafer
cassette
detecting
detector
photoelectric sensor
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JP28835894A
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English (en)
Inventor
Nobuyasu Tanaka
延安 田仲
Koji Kotani
光司 小谷
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Nippon Steel Corp
Original Assignee
Sumitomo Metal Industries Ltd
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Abstract

(57)【要約】 【目的】 複数のカセットを並列的に使用する場合であ
ってもコストが低くコンパクトであるウェハ配列検出装
置を提供する。 【構成】 ウェハ搬送装置のフィンガ21上には検出器10
の基板1が吸着ポート21a によって吸着固定されてお
り、基台1はフィンガ21によってカセット8の装入口18
近傍に移動され、カセット8の上端から下端へ走査され
るようになっている。基板1には、限定反射式のウェハ
検出用光電センサ2a,2bがウェハ7の周面に対して光軸
が直角になるように、またウェハ検出用光電センサ2aの
外側にはカセット8の装入溝9,9,…を検出する装入
溝検出用光電センサ3が取付けてある。また、ウェハ検
出用光電センサ2a,2bの略中間にはカセット8から突出
したウェハ7を検出する突出ウェハ検出用光電センサ4
が突設してある。一方、ウェハ搬送装置の近傍には検出
器10を載置する待機台が設けてある。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、複数のウェハが装填さ
れたカセット内のウェハの有無及び装填状態等,ウェハ
の配列を検出する装置に関する。
【0002】
【従来の技術】図7は実開平 2−79035 号公報に記載さ
れた従来のウェハ配列検出装置の実施態様を示す斜視図
であり、図中8は略直方体殻状のカセットである。カセ
ット8は、その一面にウェハ7を装入する装入口18が、
またそれと対向する面には開口19が長手方向にそれぞれ
開設してあり、その内部には複数のウェハ7,7,…が
長手方向に所定距離を隔てて装填されるようになってい
る。カセット8は装入口18を上にして移送され、ステー
ジ31上の所定の位置に起立されるようになっている。ス
テージ31は支持棒32によって支持されており、該支持棒
32は昇降装置(図示せず)に連結してある。そして、ス
テージ31上にカセット8が載置されると、ステージ31は
支持棒32によってその最上位まで上昇され、ウェハ7,
7間の距離を1ステップとしてステップ状に降下され
る。
【0003】ステージ31の近傍にはウェハ搬送装置のフ
ィンガ41が進退及び回転可能に設けられている。フィン
ガ41はステージ31上に載置されたカセット8のウェハ
7,7,…の間隙に進入し、少し上昇してウェハ7を載
置し、その状態で後退して、ウェハ7をカセット8から
取り出す。
【0004】ステージ31上に載置されたカセット8の周
囲にはコ字状のセンサ支持枠35が前記フィンガ41より略
1ステップ上方となるように配置してあり、センサ支持
枠35の両腕部35a ,35a には2対の発光部36,36及び受
光部37,37がそれぞれ対峙して設けてある。
【0005】このようなウェハ配列検出装置にあって
は、複数のウェハ7,7…が装填されたカセット8がス
テージ31上の所定位置に載置されると、ステージ31は支
持棒32の上昇によって最上位まで上昇される。このと
き、センサ支持枠35はカセット8に装填された最下段の
ウェハ7に対向する位置にあり、両発光部36,36からの
光が受光部37,37によって受光されなかった場合、ウェ
ハ7は正常に装填されていると判断され、一方の発光部
36からの光が受光された場合、ウェハ7は斜めに装填さ
れていると判断され、両発光部36,36からの光が受光部
37,37によってそれぞれ受光された場合、ウェハ7は装
填されていないと判断される。
【0006】ステージ31が1ステップ降下されると、セ
ンサ支持枠35は次のウェハ7に対向する位置になり、フ
ィンガ41は最下段のウェハ7の下に進入し得る位置にな
る。そして、センサ支持枠35の発光部36,36及び受光部
37,37は次のウェハ7の配列を検出する。一方、最下段
のウェハ7はそれが正常に装填されていると判断された
場合、フィンガ41によってカセット8から取り出され
る。
【0007】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら従来のウ
ェハ配列検出システムにあっては、複数のカセットを並
列的に使用する場合、昇降装置及びセンサ支持枠をカセ
ットの使用台数ぶん設置しなければならず、コストが高
いという問題があった。また、カセットがステージ上に
起立されるときにカセットの装入口からウェハが飛び出
ることがあるが、そのようなウェハの配列を検出するこ
とは出来ない。更に、そのようなウェハとセンサ支持枠
との衝突を防止するため、センサ支持枠の幅はカセット
の幅より十分広くしなければならず、センサ支持枠が占
めるスペースが大きいという問題があった。
【0008】本発明はかかる事情に鑑みてなされたもの
であって、その目的とするところはカセットの溝及びウ
ェハを検出する検出器を移動装置が着脱可能に保持し、
カセットを走査すべくそれを移動することによって、複
数のカセットを並列的に使用する場合であってもコスト
が低くコンパクトであるウェハ配列検出装置を提供する
ことにある。
【0009】
【課題を解決するための手段】第1発明に係るウェハ配
列検出装置は、カセット内に形成された複数の溝にそれ
ぞれ装填されたウェハの配列を検出する装置において、
前記溝及びウェハを光学的に検出する検出器と、該検出
器を載置する載置台と、前記検出器を着脱可能に保持
し、前記カセットを走査すべくそれを移動する移動装置
とを備えることを特徴とする。
【0010】第2発明に係るウェハ配列検出装置は、第
1発明において、前記検出器は、前記溝を検出するセン
サと、該溝内のウェハを検出するセンサと、前記カセッ
トから突出したウェハを検出するセンサと、これらのセ
ンサが装着された基板とを備えることを特徴とする。
【0011】第3発明に係るウェハ配列検出装置は、第
1発明において、前記検出器は、前記溝を検出するセン
サと、該溝内のウェハを検出するセンサと、前記カセッ
トから突出したウェハを検出するセンサと、これらのセ
ンサが装着された基板とを備え、該基板には複数の穴が
開設してあり、前記載置台には前記各穴に内嵌し、前記
検出器を支持する複数のピンが立設してあることを特徴
とする。
【0012】
【作用】第1発明のウェハ配列検出装置にあっては、載
置台には検出器が載置してあり、移動装置はその検出器
を着脱可能に保持する。移動装置は、カセットを走査す
べく保持した検出器を移動し、移動された検出器は光電
センサ等によって光学的に、カセットに形成された複数
の溝、該溝内のウェハの有無,前記溝にウェハが正しく
装填されているか否か等を検出する。検出が終了する
と、移動装置は検出器を載置台に載置する。一方、複数
のカセットが並列的に使用された場合、移動装置は検出
器を保持したまま連続して各カセットを走査し、前述し
た如く溝及びウェハを検出し、それが完了すると検出器
を載置台に載置する。
【0013】第2発明のウェハ配列検出装置にあって
は、検出器の基板が移動装置に着脱可能に保持され、移
動装置によってカセットの溝を走査すべく移動される
と、光電センサ等のセンサによって溝が検出され、当該
溝が何段目であるかを判断する。また、別のセンサは、
当該溝内のウェハの有無,該溝にウェハが正しく装填さ
れているか否かを検出する。一方、検出器が走査移動さ
れているとき、その移動域にカセットから突出したウェ
ハがあると、センサはこれを検出して移動装置に衝突を
回避させる。
【0014】第3発明のウェハ配列検出装置にあって
は、検出器の基板には複数の穴が開設してあり、載置台
には前記各穴に内嵌すると共に、前記検出器を支持する
複数のピンが立設してあるため、検出器は位置決めされ
て載置台に載置される。これによって検出器は移動装置
に位置ずれすることなく保持される。また、移動装置に
よる移動中に検出器が位置ずれした場合、前記ピンによ
って前記位置ずれが修正される。
【0015】
【実施例】以下本発明をその実施例を示す図面に基づい
て具体的に説明する。図1は本発明に係るウェハ配列検
出装置の実施態様を示す斜視図であり、図中8は略直方
体殻形状のカセットである。カセット8の一面には円板
状のウェハ7の装入口18が開設してあり、カセット8の
内部にはウェハ7が装入される複数の装入溝9,9,…
が長手方向に所定距離を隔てて形成してある。
【0016】カセット8は装入口18を上にして後述する
ウェハ搬送装置の近傍の所定位置に移送され、そこで起
立されるようになっている。前記ウェハ搬送装置のフィ
ンガ21には吸引吸着を行う吸着ポート21a が設けられて
おり、フィンガ21上には検出器10の基板1が前記吸着ポ
ート21a によって吸着固定されている。そして、基台1
はフィンガ21によってカセット8の装入口18近傍に移動
され、カセット8の上端から下端へ走査されるようにな
っている。
【0017】基板1はその幅がカセット8の幅と略同じ
であり、その先端中央にはウェハ7に倣う円弧が形成し
てある。基板1の円弧が形成された部分の両端近傍には
限定反射式のウェハ検出用光電センサ2a,2bがウェハ7
の周面に対して光軸が直角になるようにそれぞれ取付け
てあり、ウェハ検出用光電センサ2aの外側にはカセット
8の装入溝9,9,…を検出する装入溝検出用光電セン
サ3が取付けてある。また、ウェハ検出用光電センサ2
a,2bの略中間にはカセット8から突出したウェハ7を
検出する突出ウェハ検出用光電センサ4が突設してあ
り、前述した如くカセット8の上端から下端へ走査する
場合、突出ウェハ検出用光電センサ4の光軸は鉛直方向
である。
【0018】基板1の後端付近には演算処理器5が設け
てあり、該演算処理器5には前述したウェハ検出用光電
センサ2a,2b、装入溝検出用光電センサ3及び突出ウェ
ハ検出用光電センサ4からの信号が与えられるようにな
っている。演算処理器5は、与えられた信号に基づい
て、ウェハ7の有無及び装入状態(斜めに装入されてい
るか、正常に装入されているか)、装入溝9,9,…の
段数、並びにカセット8から突出したウェハ7の有無を
判断し、それらの情報はフィンガ21を介してウェハ搬出
装置に与えられて記憶されるようになっている。
【0019】また、基板1には逆テーパ状の穴6a,6b,
6cが三角形の各頂点となるように開設してある。カセッ
ト8に装填されたウェハ7の配列の検出が完了すると基
板1は、フィンガ21によってウェハ搬送装置の近傍に設
けられた待機台に搬送され、該待機台上に載置される。
【0020】図2は待機台を示す斜視図であり、図3は
待機台に検出器が載置されている状態を示す側面図であ
る。円板状の本体11の上面には側面視が凸状であり、そ
の上端部が尖っている3本のピン11a ,11b ,11c が三
角形の各頂点となるように形成してあり、これらのピン
11a ,11b ,11c の配置は基板1に開設された穴6a,6
b,6cの配置に対応させてある。そして、基板1はその
穴6a,6b,6cが待機台のピン11a ,11b ,11c に嵌合す
るように待機台上に載置され、これによって基板1は待
機台上で位置決めして待機される。
【0021】図4はウェハ搬送装置を示す側面図であ
り、図中22は支持棒である。支持棒22は昇降及び回転自
在であり、該支持棒22の上端には第1アーム23の一端が
取付けてある。第1アーム23の他端には第2アーム24の
一端が回転可能に取付けてあり、また第2アーム24の他
端には第3アーム25の一端が回転可能に取付けてある。
この、第3アーム25の他端には前述したフィンガ21が取
付けてある。そして、第2アーム24及び第3アーム25を
回転させることによって、フィンガ21を進退させ、支持
棒22が回転,昇降することによって、フィンガ21上に吸
着保持した基板1を移動する。
【0022】ウェハ搬送装置にはカセットが設置される
位置,カセットのサイズ、待機台の位置等が予め設定し
てあり、ウェハ搬送装置はフィンガ21上に吸着保持した
基板1を移動してカセットを走査し、走査が完了すると
それを待機台上に載置する。一方、走査中、カセットか
らウェハが突出していた場合、基板1に装着された突出
ウェハ検出用光電センサによってそれが検出され、ウェ
ハ搬送装置は検出器による走査を一時停止し、所定の回
避動作を行った後、再び走査を開始する。
【0023】図5は図1に示したカセット8を示す正面
図であり、図中12a ,12b は図1に示したウェハ検出用
光電センサのビーム、また13は装入溝検出用光電センサ
のビームである。ウェハ検出用光電センサのビーム12a
,12b は装入口18の間に水平方向に所定距離を隔てて
照射されるようになっており、装入溝検出用光電センサ
のビーム13はカセット8の装入口18が開設された壁面に
照射されるようになっている。ビーム12a ,12b が装入
溝18に正しく装入されたウェハ7に照射されていると
き、ビーム13はビーム12a ,12b より少し下のカセット
8の壁面に照射されている。そして、ビーム12a ,12b
はその反射光がウェハ検出用光電センサに受光されるこ
とによってウェハ7を検出し、ビーム13はその反射光が
装入溝検出用光電センサに受光されなくなり再び受光さ
れることによって装入溝9を検出する。
【0024】図6は装入溝検出用光電センサ及びウェハ
検出用光電センサの信号出力を示すタイミングチャート
であり、図中(a)は装入溝検出用光電センサからの信
号を、また(b)及び(c)はウェハ検出用光電センサ
からの信号をそれぞれ示している。図6(a)から明ら
かな如く、装入溝検出用光電センサからの信号がLレベ
ルであることによって装入溝の1段目が検出され、Hレ
ベルになった後に再びLレベルになることによって2段
目が検出される。以後同様に装入溝の全段数が検出され
る。
【0025】一方、図6(a),(b)及び(c)から
明らかな如く、装入溝検出用光電センサからの信号がH
レベルになった直後に、ウェハ検出用光電センサからの
信号が共にHレベルになった場合、1段目の溝にはウェ
ハが正常に装填されていると判断される。また、装入溝
検出用光電センサによって2段目の装入溝が検出され
て、その信号がHレベルになったにも拘らず、ウェハ検
出用光電センサからの信号が共にLレベルである場合、
2段目の装入溝にはウェハが存在しないと判断される。
【0026】ところで、例えば、装入溝検出用光電セン
サによって4段目の装入溝が検出されて、その信号がH
レベルになった後に、一方のウェハ検出用光電センサの
みHレベルになり、装入溝検出用光電センサの信号がL
レベルになった後に他方のウェハ検出用光電センサがH
レベルになった場合、ウェハは4段目と5段目の装入溝
にわたって斜めに装入されていると判断される。一方、
装入溝検出用光電センサによって6段目の装入溝が検出
されて、その信号がHレベルになった後に、一方のウェ
ハ検出用光電センサのみHレベルになり、装入溝検出用
光電センサの信号がLレベルになった後でも他方のウェ
ハ検出用光電センサがLレベルのままである場合、当該
ウェハ検出用光電センサの検出域にウェハのオリエンテ
ーションフラットが位置しているとし、ウェハは6段目
の溝に正常に装填されていると判断される。
【0027】なお、本実施例において演算処理器5は基
板1上に設けてあるが、本発明はこれに限らず、ウェハ
搬送装置に設けてもよいことはいうまでもない。
【0028】
【発明の効果】以上詳述した如く第1発明に係るウェハ
配列検出装置は、カセットの溝及びウェハを検出する検
出器を移動装置が着脱可能に保持し、カセットを走査す
べくそれを移動するため、複数のカセットを並列的に使
用する場合であっても、検出器及び移動装置によって全
てのカセットを走査することができ、ウェハ配列検出装
置のコストが低い。また、走査が完了すると検出器を載
置台に載置するため、載置後、移動装置はウェハを搬送
することが可能になる。つまり、移動装置としては従来
のウェハ搬送装置を用いることができ、ウェハ配列検出
装置のコストは更に低い。
【0029】第2発明に係るウェハ配列検出装置は、カ
セットの溝を検出するセンサと、該溝内のウェハを検出
するセンサと、前記カセットから突出したウェハを検出
するセンサとを基板に装着した検出器であるため、コン
パクトである。
【0030】第3発明に係るウェハ配列検出装置は、検
出器は移動装置に位置ずれすることなく保持され、ま
た、移動装置による移動中に検出器が位置ずれした場
合、載置台に立設したピンによって位置ずれが修正され
るため、ウェハ配列の検出が正確に行われる等、本発明
は優れた効果を奏する。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明に係るウェハ配列検出装置の実施態様を
示す斜視図である。
【図2】待機台を示す斜視図である。
【図3】待機台に検出器が載置されている状態を示す側
面図である。
【図4】ウェハ搬送装置を示す側面図である。
【図5】図1に示したカセットを示す正面図である。
【図6】装入溝検出用光電センサ及びウェハ検出用光電
センサの信号出力を示すタイミングチャートである。
【図7】従来のウェハ配列検出装置の実施態様を示す斜
視図である。
【符号の説明】
1 基板 2a ウェハ検出用光電センサ 2b ウェハ検出用光電センサ 3 装入溝検出用光電センサ 4 突出ウェハ検出用光電センサ 5 演算処理器 6a 穴 6b 穴 6c 穴 7 ウェハ 8 カセット 9 装入溝 10 検出器 11 本体 11a ピン 11b ピン 11c ピン 21 フィンガ

Claims (3)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 カセット内に形成された複数の溝にそれ
    ぞれ装填されたウェハの配列を検出する装置において、 前記溝及びウェハを光学的に検出する検出器と、該検出
    器を載置する載置台と、前記検出器を着脱可能に保持
    し、前記カセットを走査すべくそれを移動する移動装置
    とを備えることを特徴とするウェハ配列検出装置。
  2. 【請求項2】 前記検出器は、前記溝を検出するセンサ
    と、該溝内のウェハを検出するセンサと、前記カセット
    から突出したウェハを検出するセンサと、これらのセン
    サが装着された基板とを備える請求項1記載のウェハ配
    列検出装置。
  3. 【請求項3】 前記検出器は、前記溝を検出するセンサ
    と、該溝内のウェハを検出するセンサと、前記カセット
    から突出したウェハを検出するセンサと、これらのセン
    サが装着された基板とを備え、該基板には複数の穴が開
    設してあり、前記載置台には前記各穴に内嵌し、前記検
    出器を支持する複数のピンが立設してある請求項1記載
    のウェハ配列検出装置。
JP28835894A 1994-11-22 1994-11-22 ウェハ配列検出装置 Pending JPH08148546A (ja)

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Cited By (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100274598B1 (ko) * 1997-04-23 2001-01-15 윤종용 로드락챔버의웨이퍼감지장치
CN1306580C (zh) * 2003-08-20 2007-03-21 旺宏电子股份有限公司 检视晶舟盒中晶片的批号和刻号的机构及其检视方法
JP2010219209A (ja) * 2009-03-16 2010-09-30 Yaskawa Electric Corp 基板検出装置およびそれを備えた基板搬送装置
JP2012015530A (ja) * 2011-07-25 2012-01-19 Hitachi Kokusai Electric Inc 基板処理装置および基板検出方法
CN109866208A (zh) * 2017-12-05 2019-06-11 日本电产三协株式会社 机器人及机器人的示教方法
CN113555297A (zh) * 2020-04-23 2021-10-26 Tdk株式会社 板状对象物的排列检测装置和装载端口
CN116190278A (zh) * 2023-03-13 2023-05-30 上海果纳半导体技术有限公司 晶圆检测机构及晶圆装载装置

Cited By (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100274598B1 (ko) * 1997-04-23 2001-01-15 윤종용 로드락챔버의웨이퍼감지장치
CN1306580C (zh) * 2003-08-20 2007-03-21 旺宏电子股份有限公司 检视晶舟盒中晶片的批号和刻号的机构及其检视方法
JP2010219209A (ja) * 2009-03-16 2010-09-30 Yaskawa Electric Corp 基板検出装置およびそれを備えた基板搬送装置
JP2012015530A (ja) * 2011-07-25 2012-01-19 Hitachi Kokusai Electric Inc 基板処理装置および基板検出方法
CN109866208A (zh) * 2017-12-05 2019-06-11 日本电产三协株式会社 机器人及机器人的示教方法
JP2019102695A (ja) * 2017-12-05 2019-06-24 日本電産サンキョー株式会社 ロボット及びロボットの教示方法
CN113555297A (zh) * 2020-04-23 2021-10-26 Tdk株式会社 板状对象物的排列检测装置和装载端口
CN113555297B (zh) * 2020-04-23 2024-03-19 Tdk株式会社 板状对象物的排列检测装置和装载端口
CN116190278A (zh) * 2023-03-13 2023-05-30 上海果纳半导体技术有限公司 晶圆检测机构及晶圆装载装置
CN116190278B (zh) * 2023-03-13 2023-07-28 上海果纳半导体技术有限公司 晶圆检测机构及晶圆装载装置

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