JPH08143688A - Modified polyimide film and laminate - Google Patents

Modified polyimide film and laminate

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JPH08143688A
JPH08143688A JP7205733A JP20573395A JPH08143688A JP H08143688 A JPH08143688 A JP H08143688A JP 7205733 A JP7205733 A JP 7205733A JP 20573395 A JP20573395 A JP 20573395A JP H08143688 A JPH08143688 A JP H08143688A
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film
polyimide film
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aromatic
modified polyimide
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Hiroshi Inoue
浩 井上
Seiichiro Takabayashi
誠一郎 高林
Takeyuki Matsubara
健之 松原
Takashi Kono
敬 河野
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    • H05K1/02Details
    • H05K1/03Use of materials for the substrate
    • H05K1/0313Organic insulating material
    • H05K1/032Organic insulating material consisting of one material
    • H05K1/0346Organic insulating material consisting of one material containing N

Abstract

PURPOSE: To obtain the subject film having the film surface with a specific element weight ratio, a P content in the film in a specific range, excellent in adhesiveness, chemical resistance and modulus of elasticity, comprising a polymer composed of an aromatic tetracarboxylic acid component and an aromatic diamine. CONSTITUTION: This film comprises a polymer composed of an aromatic tetracarboxylic acid component (composed of preferably >=30mol% of a biphenyltetracarboxylic acid component) and an aromatic diamine (composed of preferably >=50mol% phenylenediamine component) and has a weight ratio of elements C/O of 2.4-3.9 and O/N of 2.9-4.2 at least on one film surface and a content of P of 5-500ppm in the whole film.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】この発明は、改質されたポリ
イミドフィルムに関するものである。更に詳しくは、高
い接着性が付与され、耐薬品性に優れ、弾性率が高く、
他の材料と張り合わせても接着強度が大きく、種々の製
造工程におけるアルカリなどの薬品に対して耐性があ
り、剛性が高いので製造工程での寸法精度も高く、他部
品を実装する際の位置合わせの良好な改質されたポリイ
ミドフィルムに関するものである。
TECHNICAL FIELD The present invention relates to a modified polyimide film. More specifically, high adhesiveness is imparted, excellent chemical resistance, high elastic modulus,
It has high adhesive strength even when laminated with other materials, has resistance to chemicals such as alkalis in various manufacturing processes, and has high rigidity, so dimensional accuracy in the manufacturing process is also high, and alignment when mounting other parts The present invention relates to a good modified polyimide film.

【0002】[0002]

【従来の技術】従来、ビフェニルテトラカルボン酸成分
を主成分とする芳香族テトラカルボン酸成分とフェニレ
ンジアミン類を主成分とする芳香族ジアミン成分とから
なる耐熱性の優れたポリイミドフィルムについては、例
えば特公昭60−42817号公報などに記載されてい
る。このビフェニルテトラカルボン酸系のポリイミドは
極めて優れた耐熱性、機械的強度、寸法安定性などを有
しているところから、フレキシブルプリント配線銅張基
板(FPC基板)やTAB用キャリアテ−プなどの製造
に用いる支持体として適している。しかしこのポリイミ
ドフィルムは、エポキシ系や熱可塑性ポリイミド系接着
剤を介して銅箔などと接合する際に両者の接着を充分に
高くすることが出来ないという問題点がある。
2. Description of the Related Art Conventionally, a polyimide film having an excellent heat resistance, which is composed of an aromatic tetracarboxylic acid component containing a biphenyltetracarboxylic acid component as a main component and an aromatic diamine component containing a phenylenediamine as a main component, has been known, for example. It is described in Japanese Patent Publication No. 60-42817. Since this biphenyltetracarboxylic acid-based polyimide has extremely excellent heat resistance, mechanical strength, dimensional stability, etc., it can be used in flexible printed wiring copper clad boards (FPC boards) and carrier tapes for TAB. Suitable as a support used for manufacturing. However, this polyimide film has a problem that it is not possible to sufficiently enhance the adhesion between the two when it is bonded to a copper foil or the like via an epoxy-based or thermoplastic polyimide-based adhesive.

【0003】このため、特開昭62−267330号公
報に記載されているように、シランカップリング剤をポ
リアミック酸フィルムに塗布し加熱することによってポ
リイミドフィルムの接着性を改良することも知られてい
る。また、特開昭62−60416号公報に記載されて
いるように、ポリアミック酸フィルムのベルト等の基体
からの剥離性を良くする目的でリン酸エステルのアミン
塩等を添加する方法も知られている。
Therefore, as described in JP-A-62-267330, it is also known to improve the adhesiveness of a polyimide film by applying a silane coupling agent to a polyamic acid film and heating it. There is. Further, as described in JP-A-62-60416, a method of adding an amine salt of a phosphoric acid ester for the purpose of improving the releasability of a polyamic acid film from a substrate such as a belt is also known. There is.

【0004】しかし、これらの公知技術では、他の材料
と張り合わせた場合の接着強度が大きく、種々の製造工
程におけるアルカリのような薬品に対して耐性があり、
剛性が大きく製造工程での寸法精度も高く、他部品を実
装する際の位置合わせも良好である、という実用上求め
られる種々の性能をバランス良く満足するポリイミドフ
ィルムは得ることは困難であったり、高コスト化を招く
ため、エレクトロニクス業界における高品質・高精度・
高生産性といったニ−ズを満足することは困難になって
きている。
However, these known techniques have a large adhesive strength when laminated with other materials, and have resistance to chemicals such as alkali in various manufacturing processes,
It is difficult to obtain a polyimide film that has a large balance of the various performances required for practical use that the rigidity is large and the dimensional accuracy in the manufacturing process is high, and the alignment when mounting other parts is also good, High quality, high accuracy, and
It is becoming difficult to satisfy the needs of high productivity.

【0005】[0005]

【発明が解決しようとする課題】この発明の目的は、芳
香族ポリイミドフィルムが本来有している優れた物性、
耐熱性などを高いレベルで保持したまま、引張弾性率が
大きく、耐薬品性が優れており、他の材料と張り合わせ
ても接着強度が大きく、種々の製造工程を経ても変化が
殆どなく、寸法精度が高く、他部品を実装する際の位置
合わせの良好な改質されたポリイミドフィルム及びその
積層体を提供することである。
An object of the present invention is to provide the aromatic polyimide film with the excellent physical properties originally possessed by the aromatic polyimide film.
It has a large tensile modulus and excellent chemical resistance while maintaining a high level of heat resistance and the like, has a large adhesive strength even when laminated with other materials, and has little change even after undergoing various manufacturing processes. (EN) Provided are a modified polyimide film having high accuracy and good alignment when mounting other parts, and a laminate thereof.

【0006】[0006]

【課題を解決するための手段】すなわちこの発明は、ポ
リマ−が芳香族テトラカルボン酸成分と芳香族ジアミン
成分とからなるフィルムであって、少なくとも一方のフ
ィルム表面における各元素の重量割合がC(炭素)/O
(酸素)が2.4〜3.9で、O(酸素)/N(窒素)
が2.9〜4.2であり、かつ全フィルム中のP(リ
ン)の含有率が5〜500ppmであることを特徴とす
る改質されたポリイミドフィルムに関するものである。
That is, the present invention is a film in which a polymer is composed of an aromatic tetracarboxylic acid component and an aromatic diamine component, and the weight ratio of each element on at least one film surface is C ( Carbon) / O
(Oxygen) is 2.4 to 3.9, O (oxygen) / N (nitrogen)
Is 2.9 to 4.2, and the content of P (phosphorus) in the whole film is 5 to 500 ppm.

【0007】またこの発明は、ポリマ−が芳香族テトラ
カルボン酸成分と芳香族ジアミン成分とからなるフィル
ムであって、少なくともフィルム表面のC(炭素)/O
(酸素)が重量比で2.4〜3.9で、O(酸素)/N
(窒素)が2.9〜4.2であり、かつ該全フィルム中
のP(リン)の含有率が5〜500ppmである改質ポ
リイミドフィルムに直接あるいは接着剤を介して同種あ
るいは異種の基材が積層されている積層体に関するもの
である。
The present invention also provides a film in which the polymer is composed of an aromatic tetracarboxylic acid component and an aromatic diamine component, and at least C (carbon) / O on the film surface.
(Oxygen) is 2.4 to 3.9 in weight ratio, and O (oxygen) / N
(Nitrogen) is 2.9 to 4.2, and the content of P (phosphorus) in the total film is 5 to 500 ppm. A modified polyimide film of the same kind or different kinds directly or through an adhesive. The present invention relates to a laminated body in which materials are laminated.

【0008】この発明における芳香族テトラカルボン酸
成分として、例えば2,3,3' ,4' −ビフェニルテ
トラカルボン酸成分、3,3' ,4,4' −ビフェニル
テトラカルボン酸成分などのビフェニルテトラカルボン
酸類成分を、全テトラカルボン酸成分に対して30モル
%以上、特に50モル%以上、そのなかでも特に60モ
ル%以上含有する芳香族テトラカルボン酸成分が好適に
挙げられる。また、芳香族テトラカルボン酸成分とし
て、3,3' ,4,4' −ベンゾフェノンテトラカルボ
ン酸成分、ピロメリット酸成分、ビス(3,4−ジカル
ボキシフェニル)メタン成分、2,2,−ビス(3,4
−ジカルボキシフェニル)プロパン成分、ビス(3,4
−ジカルボキシフェニル)スルホンなどをビフェニルテ
トラカルボン酸類成分と組み合わせてもよい。例えば、
3,3' ,4,4' −ビフェニルテトラカルボン酸成分
とピロメリット酸成分との組合せが好適である。全芳香
族テトラカルボン酸成分中のビフェニルテトラカルボン
酸類成分の割合が多くなると、ポリイミドフィルムの弾
性率、耐薬品などの点において優れているので最適であ
る。逆に全芳香族テトラカルボン酸成分中のビフェニル
テトラカルボン酸類成分の割合が少なくなると、ポリイ
ミドフィルムの弾性率、耐薬品などの点が低下する傾向
にある。
[0008] As the aromatic tetracarboxylic acid component in the present invention, for example 2,3,3 ', 4' - biphenyl tetracarboxylic acid component, 3,3 ', 4,4' - biphenyl and biphenyl tetracarboxylic acid component tetra An aromatic tetracarboxylic acid component containing a carboxylic acid component in an amount of 30 mol% or more, particularly 50 mol% or more, and especially 60 mol% or more based on the total tetracarboxylic acid component is preferable. Further, as the aromatic tetracarboxylic acid component, 3,3 ', 4,4' - benzophenone tetracarboxylic acid component include pyromellitic acid component, bis (3,4-carboxyphenyl) methane component, 2,2, - bis (3,4
-Dicarboxyphenyl) propane component, bis (3,4)
-Dicarboxyphenyl) sulfone and the like may be combined with the biphenyltetracarboxylic acid component. For example,
3,3 ', 4,4' - a combination of biphenyl tetracarboxylic acid component and pyromellitic acid component are preferred. When the proportion of the biphenyltetracarboxylic acid component in the wholly aromatic tetracarboxylic acid component is large, the polyimide film is optimal in terms of elasticity, chemical resistance and the like. On the other hand, when the proportion of the biphenyltetracarboxylic acid component in the wholly aromatic tetracarboxylic acid component decreases, the polyimide film tends to have reduced elastic modulus and chemical resistance.

【0009】この発明における芳香族ジアミン成分とし
て、例えばm−またはp−フェニレンジアミン成分、
3,5−ジアミノトルエン成分、2,5−ジアミノトル
エン成分などのフェニレンジアミン類成分を、全芳香族
ジアミン成分に対して、50モル%以上、特に60モル
%以上、そのなかでも特に70モル%以上含有する芳香
族ジアミン成分が好適に挙げられる。この発明では、芳
香族ジアミン成分として、p−フェニレンジアミン成分
を60モル%以上、特に70モル%以上含有する芳香族
ジアミン成分が好適に挙げられる。芳香族ジアミン類成
分として4,4'−ジアミノジフェニルエ−テル成分、
3,4' −ジアミノジフェニルエ−テル成分、3,3'
−ジアミノジフェニルエ−テル成分などのジアミノジフ
ェニルエ−テル類成分、4,4' −ジアミノジフェニル
メタン成分、4,4' −ジアミノジフェニルプロパン成
分、4,4' −ジアミノジフェニルスルホン成分、4,
'−ジアミノジフェニルスルフィド成分などをフェニ
レンジアミン類成分と組み合わせてもよい。これらの組
合せの中でも、4,4' −ジアミノジフェニルエ−テル
成分などのジアミノジフェニルエ−テル類成分とフェニ
レンジアミン類成分が好適である。特に、2種類の芳香
族ジアミン成分の組合せでは、p−フェニレンジアミン
成分と4,4' −ジアミノジフェニルエ−テルとの組合
せが好適である。この組合せの場合も各成分の割合はp
−フェニレンジアミンが50モル%以上であることが特
に好ましい。全芳香族ジアミン成分中のフェニレンジア
ミン類成分の割合が多くなるとポリイミドフィルムの耐
熱性、前記機械的物性が優れているので好適である。逆
にこの割合が少なくなると、ポリイミドフィルムの耐熱
性、機械的物性が低下する傾向にある。
As the aromatic diamine component in the present invention, for example, m- or p-phenylenediamine component,
A phenylenediamine component such as a 3,5-diaminotoluene component or a 2,5-diaminotoluene component is contained in an amount of 50 mol% or more, particularly 60 mol% or more, and particularly 70 mol% of the total aromatic diamine component. The aromatic diamine component contained above is mentioned suitably. In the present invention, as the aromatic diamine component, an aromatic diamine component containing a p-phenylenediamine component in an amount of 60 mol% or more, and particularly 70 mol% or more is preferably mentioned. 4,4 As aromatic diamine components' - diamino diphenyl ether - ether component,
3,4 '- diaminodiphenyl et - ether component, 3,3'
- diamino diphenyl ether - diamino diphenyl ether, such as ether components - ethers component, 4,4 '- diaminodiphenylmethane component, 4,4' - diaminodiphenyl propane component, 4,4 '- diaminodiphenyl sulfone component, 4,
4 '- such as diaminodiphenyl sulfide component may be combined with phenylenediamines component. Among these combinations, 4,4 '- diaminodiphenyl et - diamino diphenyl ether, such as ether components - ethers component and phenylenediamines component are preferred. In particular, the combination of two aromatic diamine component, p- phenylenediamine component and 4,4 '- diaminodiphenyl et - are preferred combination of ether. Also in the case of this combination, the ratio of each component is p
-It is particularly preferred that the phenylenediamine content is 50 mol% or more. When the proportion of the phenylenediamine component in the wholly aromatic diamine component is large, the heat resistance of the polyimide film and the mechanical properties are excellent, which is preferable. On the contrary, when this ratio is low, the heat resistance and mechanical properties of the polyimide film tend to be deteriorated.

【0010】この発明におけるポリイミドフィルムは、
芳香族テトラカルボン酸成分の30モル%以上、特に5
0モル%以上、その中でも特に60モル%以上がビフェ
ニルテトラカルボン酸成分であり、芳香族ジアミン成分
の50モル%以上、特に60モル%以上がフェニレンジ
アミン成分であるポリイミドが好ましい。また、このよ
うなポリイミドフィルムは各元素の重量割合がC(炭
素)/O(酸素)(Oに対するCの割合、以下同じ)が
4.0〜 5.7特に4.1〜5.6であり、O/N
(Nに対するOの割合)が1.8〜2.6、特に1.9
〜2.5となり、この範囲内で適宜選択することが好ま
しい。なお、このポリイミドフィルムの上記各元素の重
量割合は全フィルム中の各元素の重量割合と実質的に等
しい。
The polyimide film in this invention is
30 mol% or more of the aromatic tetracarboxylic acid component, especially 5
A polyimide in which 0 mol% or more, especially 60 mol% or more is a biphenyltetracarboxylic acid component, and 50 mol% or more, particularly 60 mol% or more of a aromatic diamine component is a phenylenediamine component is preferable. In such a polyimide film, the weight ratio of each element is C (carbon) / O (oxygen) (the ratio of C to O, the same applies hereinafter) is 4.0 to 5.7, and particularly 4.1 to 5.6. Yes, O / N
(Ratio of O to N) is 1.8 to 2.6, especially 1.9.
It becomes -2.5, and it is preferable to select appropriately within this range. The weight ratio of each element in the polyimide film is substantially equal to the weight ratio of each element in the entire film.

【0011】前記のC/Oが前記下限より小さいとポリ
イミドフイルムの引張弾性率が小さくなり、C/Oが前
記上限より大きいとポリイミドフィルムの柔軟性が低下
する傾向があり好ましくない。また前記のO/Nが前記
下限より小さいとポリイミドフィルムの柔軟性が低下
し、O/Nが前記上限より大きいとポリイミドフィルム
の引張弾性率が小さくなるので好ましくない。
If the C / O is smaller than the lower limit, the tensile modulus of the polyimide film tends to be small, and if the C / O is larger than the upper limit, the flexibility of the polyimide film tends to be lowered, which is not preferable. If the O / N is less than the lower limit, the flexibility of the polyimide film is lowered, and if the O / N is more than the upper limit, the tensile elastic modulus of the polyimide film is reduced, which is not preferable.

【0012】この発明においては、前記ポリイミドフィ
ルムの片面あるいは両面における各元素の重量割合がC
(炭素)/O(酸素)が2.4〜3.9、好ましくは
2.5〜3.8、特に好ましくは2.6〜3.7であ
り、O(酸素)/N(窒素)が2.9〜4.2、好まし
くは3.0〜4.1、特に好ましくは3.1〜4.0で
あり、全フィルム中のP(リン)の含有率が5〜500
ppm(重量割合)、好ましくは10〜400ppm、
特に好ましくは15〜300ppmであることが必要で
ある。
In the present invention, the weight ratio of each element on one side or both sides of the polyimide film is C
(Carbon) / O (oxygen) is 2.4 to 3.9, preferably 2.5 to 3.8, particularly preferably 2.6 to 3.7, and O (oxygen) / N (nitrogen) is 2.9 to 4.2, preferably 3.0 to 4.1, particularly preferably 3.1 to 4.0, and the P (phosphorus) content in the entire film is 5 to 500.
ppm (weight ratio), preferably 10 to 400 ppm,
Particularly preferably, it should be 15 to 300 ppm.

【0013】前記のC/Oが前記下限より小さいとポリ
イミドフイルムの引張弾性率が小さくなり、C/Oが前
記上限より大きいとポリイミドフィルムの伸びが小さく
なるので適当ではない。前記のO/Nが前記下限より小
さいとポリイミドフィルムの伸びが小さくなり、O/N
が前記上限より大きいとポリイミドフィルムの引張弾性
率が小さくなるので適当ではない。また全ポリイミドフ
ィルム中のPの含有率が前記下限より少ないと効果な
く、前記上限より多いとポリイミドフィルムの物性、特
に伸びが低下するので好ましくない。
If the C / O is smaller than the lower limit, the tensile modulus of the polyimide film is small, and if the C / O is larger than the upper limit, the elongation of the polyimide film is small, which is not suitable. When the above O / N is less than the lower limit, the elongation of the polyimide film becomes small, and the O / N
Is larger than the above upper limit, the tensile elastic modulus of the polyimide film becomes small, which is not suitable. Further, if the content of P in the total polyimide film is less than the lower limit, it is not effective, and if it is more than the upper limit, the physical properties of the polyimide film, particularly elongation is lowered, which is not preferable.

【0014】この発明においては、各成分を前記の範囲
内にすることが必要であり、これによって引張弾性率が
400kg/mm2 以上であり、接着性が実用的なレベ
ルで充分大きく、実用的なレベルで充分な成形性を有
し、耐薬品性が優れている改質されたポリイミドフイル
ムを得ることができるのである。
In the present invention, it is necessary that each component be within the above range, whereby the tensile modulus of elasticity is 400 kg / mm 2 or more, and the adhesiveness is sufficiently large at a practical level and practical. It is possible to obtain a modified polyimide film having sufficient moldability at various levels and excellent chemical resistance.

【0015】この発明のポリイミドフィルムは、例えば
有機極性溶媒中にリン含有化合物、好適にはリン酸エス
テルおよび/またはリン酸エステルのアミン塩と、芳香
族酸二無水物と芳香族ジアミンとから得られる芳香族ポ
リアミック酸とを含むポリアミック酸溶液から化学変換
の方法によって、あるいは熱変換の方法によってポリア
ミック酸をイミド化することによって得ることができ
る。好適には、前記芳香族ポリアミック酸(その20%
以下がイミド化されていてもよい)溶液を基体上にフィ
ルム状に流延し、加熱して自己支持性フィルムを形成
し、この自己支持性フィルムを加熱してイミド化と溶媒
除去とを完了させ、このフィルムの表面を、好適にはプ
ラズマ処理などにより放電処理してフィルム表面のC/
O、O/Nの含有率、全フイルム中のPの含有率を前記
の範囲内にすることによってこの発明の改質されたポリ
イミドフィルムを得ることができる。この発明の改質さ
れたポリイミドフィルムには無機充填剤などを添加する
ことができる。
The polyimide film of the present invention is obtained, for example, from a phosphorus-containing compound, preferably a phosphoric acid ester and / or an amine salt of a phosphoric acid ester, an aromatic dianhydride and an aromatic diamine in an organic polar solvent. It can be obtained by imidizing the polyamic acid from a polyamic acid solution containing the aromatic polyamic acid obtained by a chemical conversion method or a thermal conversion method. Preferably, the aromatic polyamic acid (20% thereof)
(The following may be imidized) The solution is cast on a substrate in a film form and heated to form a self-supporting film, and the self-supporting film is heated to complete imidization and solvent removal. Then, the surface of the film is subjected to an electric discharge treatment, preferably by a plasma treatment, to obtain C / C of the film surface.
The modified polyimide film of the present invention can be obtained by controlling the O, O / N content and the P content in the entire film within the above ranges. An inorganic filler or the like can be added to the modified polyimide film of the present invention.

【0016】前記の有機極性溶媒は、前記の芳香族ポリ
アミック酸(このポリアミック酸は20%以下がイミド
化されていてもよい)を約2〜50重量%、特に5〜4
0重量%程度の濃度で均一に溶解することができる有機
極性溶媒であればよく、例えば、N,N−ジメチルホル
ムアミド、N,N−ジメチルアセトアミド、N,N−ジ
メチルメトキシアセトアミドなどのN,N−ジ低級アル
キルカルボキシルアミド類、N−メチル−2−ピロリド
ン、ジメチルスルホキシド、ジメチルスルホンなどの有
機極性溶媒を挙げることができる。
The above-mentioned organic polar solvent contains about 2 to 50% by weight, particularly 5 to 4% by weight of the aromatic polyamic acid (this polyamic acid may be imidized to 20% or less).
Any organic polar solvent that can be uniformly dissolved at a concentration of about 0% by weight may be used, and examples thereof include N, N-dimethylformamide, N, N-dimethylacetamide, N, N-dimethylmethoxyacetamide and the like. There may be mentioned organic polar solvents such as di-lower alkylcarboxylamides, N-methyl-2-pyrrolidone, dimethyl sulfoxide and dimethyl sulfone.

【0017】前記のリン含有化合物としては、例えば、
モノカプロイルリン酸エステル、モノオクチルリン酸エ
ステル、モノラウリルリン酸エステル、モノミリスチル
リン酸エステル、モノセチルリン酸エステル、モノステ
アリルリン酸エステル、トリエチレングリコ−ルモノト
リデシルエ−テルのモノリン酸エステル、テトラエチレ
ングリコ−ルモノラウリルエ−テルのモノリン酸エステ
ル、ジエチレングリコ−ルモノステアリルエ−テルのモ
ノリン酸エステル、ジカプロイルリン酸エステル、ジオ
クチルリン酸エステル、ジカプリルリン酸エステル、ジ
ラウリルリン酸エステル、ジミリスチルリン酸エステ
ル、ジセチルリン酸エステル、ジステアリルリン酸エス
テル、テトラエチレングリコ−ルモノネオペンチルエ−
テルのジリン酸エステル、トリエチレングリコ−ルモノ
トリデシルエ−テルのジリン酸エステル、テトラエチレ
ングリコ−ルモノラウリルエ−テルのジリン酸エステ
ル、ジエチレングリコ−ルモノステアリルエ−テルのジ
リン酸エステル等のリン酸エステルやこれらリン酸エス
テルのアミン塩が挙げられる。前記アミンとしてはアン
モニア、モノメチルアミン、モノエチルアミン、モノプ
ロピルアミン、モノブチルアミン、ジメチルアミン、ジ
エチルアミン、ジプロピルアミン、ジブチルアミン、ト
リメチルアミン、トリエチルアミン、トリプロピルアミ
ン、トリブチルアミン、モノエタノ−ルアミン、ジエタ
ノ−ルアミン、トリエタノ−ルアミン等がある。
Examples of the phosphorus-containing compound include:
Monocaproyl phosphate, monooctyl phosphate, monolauryl phosphate, monomyristyl phosphate, monocetyl phosphate, monostearyl phosphate, monoethylene ester of triethylene glycol monotridecyl ether, tetra Ethylene glycol monolauryl ether monophosphate, diethylene glycol monostearyl ether monophosphate, dicaproyl phosphate, dioctyl phosphate, dicapryl phosphate, dilauryl phosphate, dimyristyl phosphate, dicetyl phosphorus Acid ester, distearyl phosphate ester, tetraethylene glycol mononeopentyl ester
Phosphoric acid esters such as ter diphosphoric acid ester, triethylene glycol monotridecyl ether diphosphoric acid ester, tetraethylene glycol monolauryl ether diphosphoric acid ester, diethylene glycol monostearyl ether diphosphoric acid ester And amine salts of these phosphoric acid esters. As the amine, ammonia, monomethylamine, monoethylamine, monopropylamine, monobutylamine, dimethylamine, diethylamine, dipropylamine, dibutylamine, trimethylamine, triethylamine, tripropylamine, tributylamine, monoethanolamine, diethylanol, There are triethanolamine and the like.

【0018】前記の芳香族ポリアミック酸は、例えば前
述の芳香族テトラカルボン酸成分と芳香族ジアミン成分
とから低温での重合で得られたイミド化率が20%以下
のビフェニルテトラカルボン酸系のポリイミド前駆体で
あると共に、対数粘度(測定温度:30℃、濃度:0.
5g/100ml溶液、溶媒:N−メチル−2−ピロリ
ドン)が0.1〜7、特に0.2〜5程度であり、有機
極性溶媒に約2〜50重量%の濃度、特に5〜40重量
%にまで均一に溶解できるポリマ−であることが好まし
い。前記の対数粘度は次式によって算出された値であ
る。 対数粘度=自然対数(溶液粘度/溶媒粘度)/溶液の濃
The above-mentioned aromatic polyamic acid is, for example, a biphenyltetracarboxylic acid type polyimide having an imidization ratio of 20% or less obtained by polymerization at low temperature from the above-mentioned aromatic tetracarboxylic acid component and aromatic diamine component. In addition to being a precursor, logarithmic viscosity (measurement temperature: 30 ° C., concentration: 0.
5 g / 100 ml solution, solvent: N-methyl-2-pyrrolidone) is about 0.1 to 7, especially about 0.2 to 5 and the organic polar solvent has a concentration of about 2 to 50% by weight, particularly 5 to 40% by weight. It is preferably a polymer that can be uniformly dissolved up to%. The logarithmic viscosity is a value calculated by the following equation. Logarithmic viscosity = natural logarithm (solution viscosity / solvent viscosity) / solution concentration

【0019】前記のポリアミック酸の自己支持性フィル
ム(70%以下がイミド化していても良い)は、前記芳
香族ポリアミック酸100重量部と、有機極性溶媒5〜
150重量部、好ましくは10〜120重量部、特に好
ましくは20〜100重量部と、ポリアミック酸重合体
100重量部に対して好ましくは0.01〜1重量部、
特に0.02〜0.8重量部のリン酸エステルおよび/
またはリン酸エステルのアミン塩とを含有している芳香
族ポリアミック酸組成物からなる柔軟で自己支持性フィ
ルムであり、特に長尺の固化フィルムであることが好ま
しい。
The polyamic acid self-supporting film (70% or less may be imidized) contains 100 parts by weight of the aromatic polyamic acid and 5 to 100 parts of an organic polar solvent.
150 parts by weight, preferably 10 to 120 parts by weight, particularly preferably 20 to 100 parts by weight, and preferably 0.01 to 1 part by weight with respect to 100 parts by weight of the polyamic acid polymer.
In particular 0.02-0.8 parts by weight of phosphate and /
Alternatively, it is a flexible and self-supporting film made of an aromatic polyamic acid composition containing a phosphate ester amine salt, and particularly preferably a long solidified film.

【0020】前記のポリアミック酸の自己支持性フィル
ムは、例えば、前述の芳香族テトラカルボン酸成分と芳
香族ジアミン成分との略等モル(各成分の添加順序には
特に制限はなく、最初から略等モルを添加してもよく、
何段階かに分けて添加してもよい。)を、前記有機極性
溶媒中、約100℃以下の低い温度で、特に好ましくは
0〜80℃の温度で約0.1〜10時間、重合して得ら
れた高分子量の芳香族ポリアミック酸(芳香族ポリイミ
ド前駆体)が、有機極性溶媒に約2〜50重量%の濃度
で均一に溶解している芳香族ポリアミック酸溶液に、前
述のリン含有化合物を加えて溶解させて得られた組成物
を、製膜用ド−プ液として使用して好ましくは約150
℃以下の流延温度、特に好ましくは0〜120℃程度の
流延温度で支持体面上に液状の薄膜を形成し、その薄膜
を支持体上で好ましくは約150℃以下の乾燥温度、特
に好ましくは20〜140℃程度の乾燥温度で、好まし
くは約0.1〜1時間乾燥する溶液流延法などの製膜法
で形成される自己支持性の固化フィルムが好適に使用で
きる。
The self-supporting film of the polyamic acid is, for example, approximately equimolar to the above-mentioned aromatic tetracarboxylic acid component and aromatic diamine component (the addition order of each component is not particularly limited, You may add equimolar,
You may add in several steps. In the organic polar solvent at a low temperature of about 100 ° C. or lower, particularly preferably at a temperature of 0 to 80 ° C. for about 0.1 to 10 hours to obtain a high molecular weight aromatic polyamic acid (). Composition obtained by adding the phosphorus-containing compound to an aromatic polyamic acid solution in which an aromatic polyimide precursor) is uniformly dissolved in an organic polar solvent at a concentration of about 2 to 50% by weight and dissolving the solution. Is preferably used as a film forming dope solution, preferably about 150
A liquid thin film is formed on the surface of the support at a casting temperature of not higher than 0 ° C., particularly preferably at a casting temperature of about 0 to 120 ° C., and the thin film is preferably dried at a temperature of not higher than about 150 ° C., particularly preferably. Is preferably a self-supporting solidified film formed by a film-forming method such as a solution casting method in which the film is dried at a drying temperature of about 20 to 140 ° C., preferably for about 0.1 to 1 hour.

【0021】また、前記のポリアミック酸の自己支持性
フィルムは、例えば、前述の高分子量の芳香族ポリアミ
ック酸(芳香族ポリイミド前駆体)が、有機極性溶媒に
約2〜50重量%の濃度で均一に溶解している芳香族ポ
リアミック酸溶液に、ピリジン、ベ−タピコリンなどの
第3アミン化合物や無水酢酸のような酸無水物などの化
学変換剤、および前述のリン含有化合物を加えて溶解さ
せて得られた(これら各成分の添加順序には特に制限は
なく、組成物の安定性等から適宜選択すればよい)組成
物を、製膜用ド−プ液として使用して好ましくは約0〜
150℃の流延温度、特に好ましくは5〜120℃程度
の流延温度で支持体面上に液状の薄膜を形成し、その薄
膜を支持体上で好ましくは約150℃以下の乾燥温度、
特に好ましくは20〜140℃程度の乾燥温度で、好ま
しくは約0.1〜1時間乾燥する溶液流延法などの製膜
法で形成される自己支持性の固化フィルムが好適に使用
できる。
In the self-supporting film of polyamic acid, for example, the above-mentioned high molecular weight aromatic polyamic acid (aromatic polyimide precursor) is uniformly dispersed in the organic polar solvent at a concentration of about 2 to 50% by weight. In the aromatic polyamic acid solution dissolved in, the chemical conversion agent such as a tertiary amine compound such as pyridine and betapicoline, an acid anhydride such as acetic anhydride, and the above-mentioned phosphorus-containing compound are dissolved. The obtained composition (the order of addition of each of these components is not particularly limited and may be appropriately selected depending on the stability of the composition) is used as a film-forming dope solution, and preferably about 0 to
A liquid thin film is formed on the surface of the support at a casting temperature of 150 ° C., particularly preferably at a casting temperature of about 5 to 120 ° C., and the thin film is preferably dried at a temperature of about 150 ° C. or lower on the support.
Particularly preferred is a self-supporting solidified film formed by a film-forming method such as a solution casting method, which is preferably dried at a drying temperature of about 20 to 140 ° C., preferably for about 0.1 to 1 hour.

【0022】前記自己支持性フィルム(ポリアミック
酸、あるいはその一部がイミド化されたポリアミック
酸)を加熱してフィルムを形成しているポリアミック酸
をイミド化する。前記自己支持性フィルムはポリアミッ
ク酸をイミド化率90%以上に、特に実質的にアミド−
酸結合の存在しないように加熱処理してイミド化すると
ともに、該フィルムから前記溶媒などの揮発成分を蒸発
し除去する乾燥を行うことによってポリイミドフィルム
とすることが好ましい。
The self-supporting film (polyamic acid or a polyamic acid partially imidized) is heated to imidize the polyamic acid forming the film. The self-supporting film contains polyamic acid at an imidization ratio of 90% or more, and is substantially substantially amide-containing.
It is preferable to obtain a polyimide film by heating the film so that it does not have an acid bond, imidizing it, and drying to evaporate and remove volatile components such as the solvent from the film.

【0023】前記の加熱処理は、最初に約100〜40
0℃での温度においてポリマ−のイミド化および溶媒の
蒸発・除去を約0.1〜5時間、特に0.2〜3時間で
徐々に行うことが好ましい。特に、加熱処理を約100
〜170℃の比較的低い温度で約1〜30分間第一次加
熱処理し、次いで170〜220℃の温度で約1〜30
分間第二次加熱処理し、そして220〜400℃の高温
で約1〜30分間第三次加熱処理するように段階的に行
うことが好ましい。また、自己支持性フィルムは加熱時
に、好適には自己支持体表面から剥離後、100g/mm
2 以下の低張力下に約80〜250℃で乾燥して溶媒及
び生成水を約5〜25重量%の範囲に含む固化フィルム
を形成後、フィルムの両端を固定して加熱してもよい。
250℃以上の連続加熱処理においては、ピンテンタ
−、クリップ、枠などで少なくとも長尺のフィルムの長
手方向に直角の方向の両端を固定して行うことが好まし
い。前記加熱に加えて400〜600℃の高い温度で第
四次高温加熱してもよい。
The above-mentioned heat treatment is initially about 100-40.
It is preferable to gradually perform imidization of the polymer and evaporation / removal of the solvent at a temperature of 0 ° C. for about 0.1 to 5 hours, particularly 0.2 to 3 hours. Especially, the heat treatment is about 100
Primary heat treatment at a relatively low temperature of ~ 170 ° C for about 1 to 30 minutes, then about 1 to 30 at a temperature of 170 to 220 ° C.
It is preferable to perform the stepwise secondary heat treatment for about 1 to about 30 minutes at a high temperature of 220 to 400 ° C. for 3 minutes. Further, the self-supporting film is preferably 100 g / mm after being peeled off from the surface of the self-supporting body during heating.
After drying at about 80 to 250 ° C under a low tension of 2 or less to form a solidified film containing a solvent and generated water in a range of about 5 to 25% by weight, both ends of the film may be fixed and heated.
The continuous heat treatment at 250 ° C. or higher is preferably carried out by fixing at least both ends of the long film at right angles to the longitudinal direction with a pin tenter, a clip, a frame or the like. In addition to the heating, the fourth high temperature heating may be performed at a high temperature of 400 to 600 ° C.

【0024】この発明の改質されたポリイミドフィルム
は、フィルムの少なくとも片面を、好適には、プラズマ
処理することによりC/O、O/Nを特定の範囲内にす
ることが必要である。前記プラズマ処理は、フィルム表
面を処理せずあるいはアセトン、イソプロピルアルコ−
ル、エチルアルコ−ルなどの有機溶媒で処理した後行っ
てもよい。
In the modified polyimide film of the present invention, at least one side of the film is preferably subjected to plasma treatment so that C / O and O / N are within a specific range. In the plasma treatment, the film surface is not treated, or acetone or isopropyl alcohol is used.
It may be carried out after treatment with an organic solvent such as ethyl alcohol or ethyl alcohol.

【0025】前記プラズマ処理を行う雰囲気の圧力は特
に限定されないが、0.1〜1000Torrの範囲が
好ましい。前記プラズマ処理を行う雰囲気のガス組成と
しては、特に限定されないが酸素を含有することが好ま
しい。また、希ガスを少なくとも20モル%含有してい
てもよい。希ガスとしてはHe、Ne、Ar、Xeなど
が挙げられるが、Arが好ましい。希ガスにCO2 、N
2 などを混合して使用してもよい。前記プラズマ処理を
行うプラズマ照射時間は1秒〜10分が好ましい。
The pressure of the atmosphere for performing the plasma treatment is not particularly limited, but is preferably in the range of 0.1 to 1000 Torr. The gas composition of the atmosphere in which the plasma treatment is performed is not particularly limited, but preferably contains oxygen. Further, it may contain at least 20 mol% of a rare gas. Examples of the rare gas include He, Ne, Ar, and Xe, and Ar is preferable. CO 2 , N in noble gas
Two or the like may be mixed and used. The plasma irradiation time for performing the plasma treatment is preferably 1 second to 10 minutes.

【0026】この発明の改質されたポリイミドフィルム
における各成分の分析は、例えば、フィルム表面の各元
素の重量割合は、X線光電子分光装置(VG社ESCA
LAB・200X型)でMg KaのX線源(300
W)を用い、2X3mmのフィルムの極く表面(〜数十
A)に存在する元素を調べることにより求めることがで
きる。全フィルム中のPは、ポリイミドフィルムを酸化
亜鉛と一緒に燃焼灰化させ、希硫酸で溶解後、モリブデ
ン酸アンモニウム、亜硫酸ソ−ダ、ハイドロキノンを加
え、分光光度計で吸光度(波長655nm)を測定する
方法によって行った。
The analysis of each component in the modified polyimide film of the present invention is carried out by, for example, measuring the weight ratio of each element on the film surface by using an X-ray photoelectron spectrometer (ESCA, VG).
LAB 200X type, Mg Ka X-ray source (300
It can be determined by using W) and examining the elements present on the very surface (up to several tens of A) of the 2 × 3 mm film. For P in all films, a polyimide film was burnt and ashed together with zinc oxide, dissolved in dilute sulfuric acid, ammonium molybdate, sodium sulfite, and hydroquinone were added, and the absorbance (wavelength 655 nm) was measured with a spectrophotometer. It was done by the method.

【0027】この発明の積層体は、例えば、前述のポリ
イミドフィルムにスパッタリングのような方法で直接あ
るいは接着剤を介してポリイミドフィルムの様な同種あ
るいは銅のような異種の基材を積層することによって得
ることができる。
The laminate of the present invention is obtained, for example, by laminating the above-mentioned polyimide film with a base material of the same kind as a polyimide film or a different kind of base material such as copper directly or through an adhesive. Obtainable.

【0028】この発明の積層体として、例えば、この発
明の改質されたポリイミドフィルムの上(前記特定のC
/O、O/Nの割合を有する表面上)に接着剤を塗布、
乾燥し、銅箔を張り合わせる方法、あるいは前記改質さ
れたポリイミドフィルムの片面あるいは両面(改質面)
に耐熱性接着剤、例えば熱可塑性ポリイミドの溶液、あ
るいはその前駆体であるポリアミック酸の溶液を塗布、
乾燥、加熱した耐熱性接着剤付きポリイミドフィルム
や、この改質されたポリイミドフィルムの改質面に直接
金属(銅、クロム、ニッケル等)を蒸着、スパッタで直
接付着し、その上にさらに金属(例えば銅)を電解また
は無電解メッキで付着させた2層基板にすることができ
る。
As the laminate of the present invention, for example, on the modified polyimide film of the present invention (the above-mentioned specific C
/ O, on the surface having a ratio of O / N),
Drying and laminating copper foil, or one or both sides of the modified polyimide film (modified surface)
A heat-resistant adhesive, for example, a solution of a thermoplastic polyimide, or a solution of a polyamic acid which is a precursor thereof,
A metal film (copper, chromium, nickel, etc.) is vapor-deposited or sputtered directly onto the polyimide film with heat-resistant adhesive that has been dried and heated, or onto the modified surface of this modified polyimide film. It can be a two-layer substrate, for example copper) deposited by electrolytic or electroless plating.

【0029】この発明の積層体は、例えば、FPC、T
AB、LOC(リ−ド・オン・チップ)等に好適に使用
することができる。
The laminated body of the present invention is, for example, FPC, T
It can be preferably used for AB, LOC (read-on-chip) and the like.

【0030】[0030]

【実施例】以下にこの発明の実施例を示す。以下の記載
において部は重量部を示す。
EXAMPLES Examples of the present invention will be shown below. In the following description, “part” means “part by weight”.

【0031】参考例1 N,N−ジメチルアセトアミド2470部中に3,
' ,4,4' −ビフェニルテトラカルボン酸二無水物
294.22部とP−フェニレンジアミン108.14
部を加え約10時間反応させてポリアミック酸溶液を得
た。このポリアミック酸の対数粘度は2.66であり、
溶液の30℃の粘度は3100ポイズであった。
Reference Example 1 3 in 2470 parts of N, N-dimethylacetamide
3 ', 4,4' - biphenyl tetracarboxylic acid and anhydrides 294.22 parts P- phenylenediamine 108.14
Parts were added and reacted for about 10 hours to obtain a polyamic acid solution. The logarithmic viscosity of this polyamic acid is 2.66,
The viscosity of the solution at 30 ° C. was 3100 poise.

【0032】参考例2 N,N−ジメチルアセトアミド3037部中に3,
' ,4,4' −ビフェニルテトラカルボン酸二無水物
294.22部と4,4' −ジアミノジフェニルエ−テ
ル200.24部を加え室温で約10時間反応させてポ
リアミック酸溶液を得た。このポリアミック酸溶液の対
数粘度は2.71はであり、溶液の30℃の粘度は26
00ポイズであった。
Reference Example 2 3,37 parts of N, N-dimethylacetamide was used.
3 ', 4,4' - biphenyltetracarboxylic acid dianhydride 294.22 parts of 4,4 '- diaminodiphenyl et - added 200.24 parts of ether is reacted at room temperature for about 10 hours to obtain a polyamic acid solution . The logarithmic viscosity of this polyamic acid solution is 2.71, and the viscosity of the solution at 30 ° C. is 26.
It was 00 poise.

【0033】参考例3 N,N−ジメチルアセトアミド2570部中に4,4'
−ジアミノジフェニルエ−テル200.24部を添加
後、ピロメリット酸二無水物218.14部を加え約6
時間反応させてポリアミック酸溶液を得た。このポリア
ミック酸溶液の対数粘度は1.60であり、溶液の30
℃の粘度は300ポイズであった。
Reference Example 3 4,4 'in 2570 parts of N, N-dimethylacetamide
After adding 200.24 parts of diaminodiphenyl ether, 218.14 parts of pyromellitic dianhydride was added, and about 6 parts were added.
The reaction was carried out for a time to obtain a polyamic acid solution. The logarithmic viscosity of this polyamic acid solution is 1.60,
The viscosity at ° C was 300 poise.

【0034】参考例4 N−メチル−2−ピロリドン1980部中に3,3'
4,4' −ビフェニテトラカルボン酸二無水物147.
2部、ピロメリット酸二無水物100.1部、パラフェ
ニレンジアミン75.7部、4,4' −ジアミノジフェ
ニルエ−テル60.6部を加え約6時間反応させてポリ
アミック酸溶液を得た。このポリアミック酸溶液の対数
粘度(30℃、0.5g/100ml N−メチル−2
−ピロリドン)は2.51であり、溶液の30℃の粘度
は2900ポイズであった。
Reference Example 4 N-methyl-2-pyrrolidone 1980 parts of 3,3 ' ,
4,4 '- biphenylene dianhydride 147.
2 parts, dianhydrides 100.1 parts pyromellitic acid, 75.7 parts of p-phenylenediamine, 4,4 '- diaminodiphenyl et - to obtain a polyamic acid solution by reacting about 6 hours added 60.6 parts of ether . Logarithmic viscosity of this polyamic acid solution (30 ° C., 0.5 g / 100 ml N-methyl-2
-Pyrrolidone) was 2.51 and the viscosity of the solution at 30 ° C was 2900 poise.

【0035】実施例1 参考例1で調製したポリアミック酸溶液に、ポリアミッ
ク酸100部に対する割合でモノステアリルリン酸エス
テルトリエタノ−ルアミン塩0.1部を加え、室温で6
時間攪拌してポリアミック酸組成物を得た。この組成物
をステンレスベルト上に流延塗布し、120℃で20分
間乾燥したのち、ステンレスベルト面より剥がし自己支
持性フィルムを得た。剥離はスム−ズであった。
Example 1 To the polyamic acid solution prepared in Reference Example 1, 0.1 part of monostearyl phosphate ester triethanolamine salt was added at a ratio to 100 parts of polyamic acid, and the mixture was allowed to stand at room temperature for 6 minutes.
The mixture was stirred for a time to obtain a polyamic acid composition. This composition was cast-coated on a stainless belt and dried at 120 ° C. for 20 minutes, and then peeled from the surface of the stainless belt to obtain a self-supporting film. The peeling was smooth.

【0036】得られた自己支持性フィルムを150℃で
5分間加熱し、次いで200℃に昇温してその温度で7
分間加熱し、さらに250℃に昇温し、その温度で9分
間加熱し、最後に450℃にまで昇温し、その温度で7
分間熱処理して、ポリマ−のイミド化およびフィルムの
乾燥を行って厚さ75μmのポリイミドフィルムを製造
した。このフィルムのC/Oは5.5で、O/Nは2.
0であった(柳本製作所、元素分析計:MT−3型使
用)。
The resulting self-supporting film was heated at 150 ° C. for 5 minutes, then heated to 200 ° C. and heated at that temperature for 7 minutes.
After heating for 1 minute, the temperature is further raised to 250 ° C., heated at that temperature for 9 minutes, and finally raised to 450 ° C. for 7 minutes.
It was heat-treated for a minute to imidize the polymer and dry the film to produce a polyimide film having a thickness of 75 μm. The C / O of this film is 5.5 and the O / N is 2.
It was 0 (Yanagimoto Seisakusho, Elemental Analyzer: MT-3 type used).

【0037】得られたポリイミドフィルムをアセトンに
浸漬・乾燥後、プラズマ照射時間1分、マイクロ波発振
出力1kw、プラズマ発生真空度0.8Torr、プラ
ズマ処理ガスが酸素の条件でプラズマ処理を行って、改
質されたポリイミドフィルムを得た。上記改質されたポ
リイミドフィルムの表面のC/O、O/N、フィルム中
のPの含有率を表1に示す。また、この改質されたポリ
イミドフィルム全体のC/O、O/Nを測定したとこ
ろ、改質前のポリイミドフィルムのそれぞれの値と一致
した。
The obtained polyimide film was immersed in acetone and dried, and then plasma treatment was performed under the conditions of plasma irradiation time of 1 minute, microwave oscillation output of 1 kw, plasma generation vacuum degree of 0.8 Torr, and plasma treatment gas of oxygen. A modified polyimide film was obtained. Table 1 shows the C / O and O / N on the surface of the modified polyimide film and the P content in the film. Moreover, when the C / O and O / N of the entire modified polyimide film were measured, they were in agreement with the respective values of the polyimide film before modification.

【0038】エポキシ系接着剤(ハイソ−ルジャパン社
製、ハイソ−ル:LOL.No.OX−035)を厚さ
35μmの電解銅箔上に塗布し、120℃で30分間加
熱乾燥して接着剤層(厚さ200μm)を形成した。次
に、この電解銅箔上の接着剤層に上記芳香族ポリイミド
フィルムを、接着剤層とプラズマ処理した面とが接する
ように重合わせた後、170℃、40kg/cm2 で5
分間プレスして積層体を形成した。そして、この積層体
を180℃で60分間乾燥した後13時間放置して、銅
箔層とポリイミドフィルム層との間のT−剥離試験(A
STM−D−1876)と180度剥離試験(ASTM
−D−903)とを行って評価した。
An epoxy adhesive (Hisol Japan, Hisol: LOL. No. OX-035) was applied on an electrolytic copper foil having a thickness of 35 μm, and dried by heating at 120 ° C. for 30 minutes for adhesion. An agent layer (thickness 200 μm) was formed. Next, the aromatic polyimide film was superposed on the adhesive layer on the electrolytic copper foil so that the adhesive layer and the plasma-treated surface were in contact with each other, and then the mixture was heated at 170 ° C. and 40 kg / cm 2 for 5 minutes.
Pressed for minutes to form a laminate. Then, this laminate was dried at 180 ° C. for 60 minutes and then allowed to stand for 13 hours to allow a T-peeling test (A between the copper foil layer and the polyimide film layer).
STM-D-1876) and 180 degree peel test (ASTM
-D-903) was performed.

【0039】T−剥離強度は、B面(流延による自己支
持性フィルムの製造時にステンレスベルト面に接してい
た側の表面)が1.5kg/cm、F面(流延による自
己支持性フィルムの製造時にステンレスベルト面に接し
ていなかった側の表面)が1.3であり180度剥離強
度は、B面が3.5kg/cmでF面が2.9kg/c
mであった。また、このフィルムの引張弾性率が780
kg/mm2 、10%NaOH水溶液に60℃で1時間
浸漬してもほとんど変化なく形状を保持していた。
The T-peel strength was 1.5 kg / cm on the B side (the surface on the side which was in contact with the stainless belt surface during the production of the self-supporting film by casting) and the F side (the self-supporting film by casting). The surface which was not in contact with the stainless steel belt surface at the time of manufacturing was 1.3, and the 180 degree peel strength was 3.5 kg / cm for B side and 2.9 kg / c for F side.
It was m. The tensile modulus of elasticity of this film is 780.
Even when immersed in a 10% NaOH aqueous solution of kg / mm 2 at 60 ° C. for 1 hour, the shape was almost unchanged.

【0040】実施例2 参考例4で調製したポリアミック酸溶液に、ポリアミッ
ク酸100部に対する割合でモノステアリルリン酸エス
テルトリエタノ−ルアミン塩0.1部を加え、室温で6
時間攪拌してポリアミック酸組成物を得た。この組成物
をステンレスベルト上に流延塗布し、120℃で10分
間乾燥したのち、ステンレスベルト面より剥がし自己支
持性フィルムを得た。剥離はスム−ズであった。得られ
た自己支持性フィルムから実施例1と同様にして厚さ7
5μの改質されたポリイミドフィルムを製造した。この
フィルムのC/Oは4.1、O/Nは2.3であった。
Example 2 To the polyamic acid solution prepared in Reference Example 4, 0.1 part of monostearyl phosphate ester triethanolamine salt was added at a ratio to 100 parts of polyamic acid, and the mixture was allowed to stand at room temperature for 6 minutes.
The mixture was stirred for a time to obtain a polyamic acid composition. The composition was cast-coated on a stainless belt and dried at 120 ° C. for 10 minutes, and then peeled off from the surface of the stainless belt to obtain a self-supporting film. The peeling was smooth. A thickness of 7 was obtained from the obtained self-supporting film in the same manner as in Example 1.
A 5μ modified polyimide film was produced. The C / O of this film was 4.1 and the O / N was 2.3.

【0041】この改質されたポリイミドフィルムを使用
して実施例1と同様にしてエポキシ系接着剤と張り合わ
せた。T−剥離強度は、B面が1.6kg/cm、F面
が1.5kg/cmであり、180度剥離強度は、B面
が3.1kg/cmでF面が3.0kg/cmであっ
た。上記改質されたポリイミドフィルムの表面のC/
O、O/N、フィルム中のPの含有率を表1に示す。ま
た、このフィルムの引張弾性率は580kg/mm
2 で,10%NaOH水溶液に60℃で1時間浸漬して
もほとんど変化なく形状保持していた。
The modified polyimide film was used and laminated with an epoxy adhesive in the same manner as in Example 1. The T-peel strength is 1.6 kg / cm on the B side and 1.5 kg / cm on the F side, and the 180 degree peel strength is 3.1 kg / cm on the B side and 3.0 kg / cm on the F side. there were. C / of the surface of the modified polyimide film
Table 1 shows the contents of O, O / N, and P in the film. The tensile elastic modulus of this film is 580 kg / mm.
In No. 2 , even when immersed in a 10% NaOH aqueous solution at 60 ° C. for 1 hour, the shape was maintained with almost no change.

【0042】比較例1 参考例1で調製したポリアミック酸溶液を使用し、プラ
ズマ処理を行わない他は実施例1と同様にしてポリイミ
ドフィルムを製造した。このポリイミドフィルムを使用
して実施例1と同様にしてエポキシ系接着剤と張り合わ
せた。接着性を評価した結果、T−剥離強度は、B面が
0.03kg/cm、F面が0.02kg/cmであ
り、180度剥離強度は、B面が0.3kg/cmでF
面が0.1kg/cmであった。上記改質されたポリイ
ミドフィルムの表面のC/O、O/N、フィルム中のP
の含有率を表1に示す。また、このフィルムの引張弾性
率は780kg/mm2 で,10%NaOH水溶液に6
0℃で1時間浸漬してもほとんど変化なく形状保持して
いた。
Comparative Example 1 A polyimide film was produced in the same manner as in Example 1 except that the polyamic acid solution prepared in Reference Example 1 was used and no plasma treatment was performed. This polyimide film was used and laminated in the same manner as in Example 1 with an epoxy adhesive. As a result of evaluating the adhesiveness, the T-peel strength was 0.03 kg / cm for the B side and 0.02 kg / cm for the F side, and the 180 degree peel strength was 0.3 kg / cm for the B side and F.
The surface was 0.1 kg / cm. C / O, O / N on the surface of the modified polyimide film, P in the film
Table 1 shows the content rate of. The tensile elastic modulus of this film was 780 kg / mm 2 , and it was 6% in 10% NaOH aqueous solution.
Even if it was immersed at 0 ° C. for 1 hour, the shape was maintained with almost no change.

【0043】比較例2 参考例2で調製したポリアミック酸溶液を使用した他は
実施例1と同様にしてポリイミドフィルムを製造した。
このフィルムのC/Oは4.2で、O/Nは2.9であ
った。このポリイミドフィルムから実施例1と同様にし
て改質されたポリイミドフィルムを得た。この改質され
たポリイミドフィルムを使用して実施例1と同様にして
エポキシ系接着剤と張り合わせた。接着性を評価した結
果、T−剥離強度は、B面が1.4kg/cm、F面が
1.5kgであり、180度剥離強度は、B面が2.2
kg/cmでF面が2.6kg/cmであった。上記改
質されたポリイミドフィルムの表面のC/O、O/N、
フィルム中のPの含有率を表1に示す。また、このフィ
ルムの引張弾性率は380kg/mm2 ,10%NaO
H水溶液に60℃で1時間浸漬してもほとんど変化なく
形状保持していた。
Comparative Example 2 A polyimide film was produced in the same manner as in Example 1 except that the polyamic acid solution prepared in Reference Example 2 was used.
The C / O of this film was 4.2 and the O / N was 2.9. A modified polyimide film was obtained from this polyimide film in the same manner as in Example 1. This modified polyimide film was used and laminated in the same manner as in Example 1 with an epoxy adhesive. As a result of evaluating the adhesiveness, the T-peel strength was 1.4 kg / cm on the B side and 1.5 kg on the F side, and the 180 degree peel strength was 2.2 on the B side.
The F-plane was 2.6 kg / cm at kg / cm. C / O, O / N on the surface of the modified polyimide film,
Table 1 shows the content ratio of P in the film. The tensile elastic modulus of this film was 380 kg / mm 2 , 10% NaO.
Even when immersed in the H aqueous solution at 60 ° C. for 1 hour, the shape was maintained with almost no change.

【0044】比較例3 参考例3で調製したポリアミック酸溶液を使用した他は
実施例1と同様にしてポリイミドフィルムを製造した。
このフィルムのC/Oは3.3で、O/Nは2.9であ
った。このポリイミドフィルムから実施例1と同様にし
て改質されたポリイミドフィルムを得た。この改質され
たポリイミドフィルムを使用して実施例1と同様にして
エポキ系接着剤と張り合わせた。接着性を評価した結
果、T−剥離強度は、B面が1.6 kg/cm、F面
が1.6kg/cmであり、180度剥離強度は、B面
が3.1kg/cmでF面が2.9kg/cmであっ
た。上記改質されたポリイミドフィルムの表面のC/
O、O/N、フィルム中のPの含有率を表1に示す。ま
た、このフィルムの引張弾性率は310kg/mm2
10%NaOH水溶液に60℃で1時間浸漬するとフィ
ルムは溶解していた。
Comparative Example 3 A polyimide film was produced in the same manner as in Example 1 except that the polyamic acid solution prepared in Reference Example 3 was used.
The C / O of this film was 3.3 and the O / N was 2.9. A modified polyimide film was obtained from this polyimide film in the same manner as in Example 1. This modified polyimide film was used and laminated with an epoxy adhesive in the same manner as in Example 1. As a result of evaluating the adhesiveness, the T-peel strength was 1.6 kg / cm on the B side and 1.6 kg / cm on the F side, and the 180 degree peel strength was 3.1 kg / cm on the B side and the F side was 3.1 kg / cm. The surface was 2.9 kg / cm. C / of the surface of the modified polyimide film
Table 1 shows the contents of O, O / N, and P in the film. The tensile modulus of elasticity of this film is 310 kg / mm 2 ,
When the film was immersed in a 10% NaOH aqueous solution at 60 ° C. for 1 hour, the film was dissolved.

【0045】比較例4 参考例3で調製したポリアミック酸溶液に対して、モノ
ステアリルリン酸エステルトリエタノ−ルアミン塩を添
加しないで、ステンレスベルト上に流延塗布して、12
0℃で10分間乾燥したのち、ステンレスベルト面より
剥がそうとしたが、剥離が困難でフィルムが切断した
り、剥離面にも剥離痕が付いたりし、良好なフィルムを
製造することができなかった。
Comparative Example 4 The polyamic acid solution prepared in Reference Example 3 was cast-coated on a stainless belt without adding monostearyl phosphate ester triethanolamine salt,
After drying at 0 ° C for 10 minutes, it tried to peel from the stainless belt surface, but peeling was difficult and the film was cut or peeling marks were left on the peeling surface, so that a good film could not be manufactured. It was

【0046】実施例3〜8 プラズマ処理の時間を1分間から15秒間(実施例3)
に、あるいは5分間(実施例4)に変えてC/O、O/
Nの割合を表1のように変えたか、モノステアリルリン
酸エステルトリエタノ−ルアミン塩を0.025部(実
施例5)に変えたか、モノステアリルリン酸エステルト
リエタノ−ルアミン塩を0.5部(実施例6)に変えた
か、モノステアリルリン酸エステルトリエタノ−ルアミ
ン塩に変えて、ジオクチルリン酸エステルモノエタノ−
ルアミン塩を0.1部用いた(実施例7)か、トリエチ
レングリコ−ルモノトリデシルエ−テルのモノリン酸エ
ステルを0.1部用いた(実施例8)他は実施例1と同
様に実施した。結果をまとめて表1に示す。
Examples 3 to 8 Plasma treatment time is from 1 minute to 15 seconds (Example 3)
Or 5 minutes (Example 4) instead of C / O, O /
Whether the ratio of N was changed as shown in Table 1, the monostearyl phosphate ester triethanolamine salt was changed to 0.025 part (Example 5), or the monostearyl phosphate ester triethanolamine salt was changed to 0.5. Part (Example 6) or changed to monostearyl phosphate ester triethanolamine salt to give dioctyl phosphate monoethanol salt.
The same procedure as in Example 1 was performed except that 0.1 part of the ruamine salt was used (Example 7) or 0.1 part of the monophosphate ester of triethylene glycol monotridecyl ether was used (Example 8). did. The results are summarized in Table 1.

【0047】[0047]

【表1】 [Table 1]

【0048】実施例9 実施例1〜8で得られた改質されたポリイミドフィルム
をスリットし、35mm幅のテ−プを作製し、その上に
26mm幅のポリイミド系の接着剤テ−プ(宇部興産
(株)製、UPA−322)をポリイミドテ−プの改質
面上にその中心線が重なるようにラミネ−トして接着剤
付きテ−プ(厚さ95μm)を作製した。この接着剤付
きポリイミドテ−プのポリイミド上にスプロケット穴や
デバイスホ−ルをパンチングで開け、銅箔(35μ)を
130℃で張り合わせ、接着剤を硬化させた。その銅箔
に常法によるパタ−ンニング・エッチングによりIL
(インナ−リ−ド)やOL(アウタ−リ−ド)等の回路
を形成しTAB用キャリア−テ−プを作製した。このT
AB用キャリア−テ−プにICを実装した所、ICのパ
ッドとILの寸法精度にほとんど狂いがなく、正確にボ
ンディングすることができた。
Example 9 The modified polyimide films obtained in Examples 1 to 8 were slit to form a tape having a width of 35 mm, and a polyimide adhesive tape having a width of 26 mm ( UPA-322 manufactured by Ube Industries, Ltd. was laminated on the modified surface of the polyimide tape so that the center line of the polyimide tape was overlapped, to prepare a tape with an adhesive (thickness: 95 μm). A sprocket hole and a device hole were punched on the polyimide of the polyimide tape with the adhesive, and copper foil (35 μ) was stuck at 130 ° C. to cure the adhesive. IL is formed on the copper foil by patterning and etching by a conventional method.
Circuits such as (inner lead) and OL (outer lead) were formed to prepare a carrier tape for TAB. This T
When the IC was mounted on the AB carrier tape, the dimensional accuracy of the IC pad and IL was almost constant, and accurate bonding was possible.

【0049】さらにポッティング樹脂でICを封止後、
プリント基板の上に実装したところプリント基板の回路
とTABのOLとの寸法の狂いが小さく、正確にボンデ
ィングできた。
After sealing the IC with potting resin,
When mounted on a printed circuit board, the dimension of the circuit of the printed circuit board and the TAB OL was small, and accurate bonding was possible.

【0050】比較例5 比較例1〜3で得られた改質されたポリイミドフィルム
を用いた他は上記と同様にしてTAB用キャリア−テ−
プを作製した。このTAB用キャリア−テ−プにICを
実装した所、ICのパッドとILの寸法は大幅に狂い、
正確にボンディングすることができず使用不可であっ
た。
Comparative Example 5 A carrier tab for TAB was prepared in the same manner as above except that the modified polyimide films obtained in Comparative Examples 1 to 3 were used.
I made a cup. When the IC is mounted on this TAB carrier tape, the dimensions of the IC pad and the IL are greatly changed,
It could not be bonded accurately and could not be used.

【0051】[0051]

【発明の効果】この発明は以上説明したように構成され
ているので、以下に記載のような効果を奏する。
Since the present invention is configured as described above, it has the following effects.

【0052】この改質されたポリイミドフィルムは引張
弾性率が400kg/mm2 以上であり、耐薬品性に優
れ、他の材料と張り合わせても接着強度が大きく、種々
の製造工程を経ても変化なく、製造工程での寸法精度も
高く、他部品を実装する際の位置合わせが良好である。
This modified polyimide film has a tensile elastic modulus of 400 kg / mm 2 or more, is excellent in chemical resistance, has a large adhesive strength even when laminated with other materials, and does not change even after undergoing various manufacturing processes. The dimensional accuracy in the manufacturing process is also high, and the alignment is good when mounting other components.

【0053】この改質されたポリイミドフィルムとして
少なくとも一方のフィルム表面がプラズマ処理されてい
るものは、引張弾性率が400kg/mm2 以上であ
り、耐薬品性に優れ、他の材料と張り合わせても接着強
度が大きく、種々の製造工程を経ても変化なく、製造工
程での寸法精度も高く、他部品を実装する際の位置合わ
せが良好であり、安定的に一定した品質で得られる。
As this modified polyimide film, at least one of which has the surface of the plasma treated, has a tensile elastic modulus of 400 kg / mm 2 or more, is excellent in chemical resistance, and can be bonded to other materials. The adhesive strength is high, it does not change even after various manufacturing processes, the dimensional accuracy in the manufacturing process is high, the alignment when mounting other components is good, and stable and consistent quality can be obtained.

【0054】この改質されたポリイミドフィルムとして
ポリマ−成分が30モル%以上のビフェニルテトラカル
ボン酸成分と50モル%以上のフェニレンジアミン成分
とからなるものは、引張弾性率が400kg/mm2
上であり、耐薬品性に優れ、他の材料と張り合わせても
接着強度が大きく、種々の製造工程を経ても変化がな
く、製造工程での寸法精度も高く、他部品を実装する際
の位置合わせが良好であり、安定的に一定した品質で大
量に、工業的に得ることができる。
This modified polyimide film comprising a polymer component of 30 mol% or more of biphenyltetracarboxylic acid component and 50 mol% or more of phenylenediamine component has a tensile modulus of 400 kg / mm 2 or more. Yes, it has excellent chemical resistance, has high adhesive strength even when laminated with other materials, does not change even after various manufacturing processes, has high dimensional accuracy in the manufacturing process, and can be aligned when mounting other parts. It is good and can be obtained industrially in large quantities with stable and constant quality.

【0055】この改質されたポリイミドフィルムを用い
た積層体は、接着強度が大きく、種々の製造工程を経て
も変化なく、製造工程での寸法精度も高く、他部品を実
装する際の位置合わせが良好である。
The laminated body using this modified polyimide film has a high adhesive strength, does not change even after various manufacturing processes, has high dimensional accuracy in the manufacturing process, and is aligned when mounting other parts. Is good.

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 河野 敬 山口県宇部市大字小串1978番地の10 宇部 興産株式会社宇部ケミカル工場内 ─────────────────────────────────────────────────── ─── Continuation of the front page (72) Inventor Takashi Kono 10 1978, Koujigushi, Ube City, Yamaguchi Prefecture Ube Kosan Co., Ltd. Ube Chemical Factory

Claims (4)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】ポリマ−が芳香族テトラカルボン酸成分と
芳香族ジアミン成分とからなるフィルムであって、少な
くとも一方のフィルム表面における各元素の重量割合が
C/Oが2.4〜3.9で、O/Nが2.9〜4.2で
あり、かつ全フィルム中のPの含有率が5〜500pp
mであることを特徴とする改質されたポリイミドフィル
ム。
1. A film in which a polymer is composed of an aromatic tetracarboxylic acid component and an aromatic diamine component, and the weight ratio of each element on the surface of at least one film has a C / O ratio of 2.4 to 3.9. And O / N is 2.9 to 4.2, and the P content in the entire film is 5 to 500 pp.
A modified polyimide film characterized in that it is m.
【請求項2】少なくとも一方のフィルム表面がプラズマ
処理されていることを特徴とする請求項1記載の改質さ
れたポリイミドフィルム。
2. The modified polyimide film according to claim 1, wherein at least one film surface is plasma-treated.
【請求項3】芳香族テトラカルボン酸成分が30モル%
以上のビフェニルテトラカルボン酸成分からなり、芳香
族ジアミン成分が50モル%以上のフェニレンジアミン
成分からなることを特徴とする請求項1又は2記載の改
質されたポリイミドフィルム。
3. Aromatic tetracarboxylic acid component is 30 mol%
3. The modified polyimide film according to claim 1 or 2, comprising the above biphenyltetracarboxylic acid component and the aromatic diamine component comprising 50 mol% or more of the phenylenediamine component.
【請求項4】ポリマ−が芳香族テトラカルボン酸成分と
芳香族ジアミン成分とからなるフィルムであって、少な
くとも一方のフィルム表面における各元素の重量割合が
C/Oが2.4〜3.9で、O/Nが2.9〜4.2で
あり、かつ全フィルム中のPの含有率が5〜500pp
mであることを特徴とする改質されたポリイミドフィル
ムに、直接あるいは接着剤を介して同種あるいは異種の
基材が積層されていることを特徴とする積層体。
4. A film in which the polymer is composed of an aromatic tetracarboxylic acid component and an aromatic diamine component, and the weight ratio of each element on at least one film surface has a C / O of 2.4 to 3.9. And O / N is 2.9 to 4.2, and the P content in the entire film is 5 to 500 pp.
A laminated body comprising the modified polyimide film having a thickness of m and a base material of the same kind or different kinds laminated directly or through an adhesive.
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