JPH08131859A

JPH08131859A - 粉体処理装置及びそのためのスリット部材の製造方法

Info

Publication number: JPH08131859A
Application number: JP30431594A
Authority: JP
Inventors: Saburo Yashima; 三郎八嶋; Manabu Abe; 学阿部; Katsumi Ueda; 勝己上田; Kantaro Kaneko; 貫太郎金子
Original assignee: FUAIMATETSUKU KK; Kurimoto Ltd; Fimatec Ltd
Current assignee: FUAIMATETSUKU KK; Kurimoto Ltd; Fimatec Ltd
Priority date: 1994-11-14
Filing date: 1994-11-14
Publication date: 1996-05-28

Abstract

(57)【要約】【目的】粉砕媒体の摩耗及び割れが少なく、長時間連
続運転が可能であり、またスリット部材や粉砕媒体の摩
耗片や破片が処理物中に混入することがなく、効率的に
かつ均一に粉砕処理が可能な粉体処理装置を提供するこ
と。【構成】軸線を垂直にして配置された円筒ハウジング
と、粉砕媒体が通過しない大きさのスリットを設け該円
筒ハウジングの底部に配置されたスリット部材と、該円
筒ハウジングの軸線上に配置された回転軸と、該回転軸
に複数段をなして取り付けられた撹拌羽根とを有する粉
体処理装置において、上記スリットを平面円板に設け、
該スリットの放射方向の幅が上記粉砕媒体が通過しない
寸法であり、円周方向の幅が上記放射方向の幅より大き
い粉体処理装置。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、粉体処理装置及びその
ためのスリット部材の製造方法に係り、超微粉砕、粉体
の複合化、粉体の改質、粉体の混合、粉体の形状制御等
を行うことによって、粉体に各種の機能を賦与し、新素
材を精製するために使用する粉体処理装置に関する。

【０００２】

【従来の技術】従来の粉体処理技術においては、乾式に
よっても湿式によっても、超微粉の製造と粉体の複合
化、改質、混合、形状制御等の操作は、エネルギー消費
量が過多であり、生産量が少なく、製造コストが高く
て、工業的規模の生産には適しておらず、僅かに実験室
規模で生産されるのみであった。この問題を解決するた
めに、特開平５−２５３５０９号において開示された流
通式媒体撹拌超微粉砕機等においては、本発明のスリッ
ト部材に対応する網部材としてウエッジワイヤステンレ
ススクリーンを使用していた。このウエッジワイヤステ
ンレススクリーンは、断面が楔形のステンレスワイヤー
を、ワイヤー間に形成される空間が下側が広くなるよう
な向きで格子状に重ねられて溶接されて形成される。し
かし、この流通式媒体撹拌超微粉砕機おいては、網部材
の表面が平面でなく、また網部材の目が矩形であること
から、長時間の使用において粉砕媒体の摩耗および割れ
が生じ、長時間連続運転ができず、摩耗片および破片が
処理物中に混入すると、処理物の品質を悪化させるとい
う問題が生じた。

【０００３】

【発明が解決しようとする課題】本発明は、従来の粉体
処理装置の上述した問題点に鑑みてなされたものであっ
て、粉砕媒体の摩耗及び割れが少なく、長時間連続運転
が可能であり、またスリット部材や粉砕媒体の摩耗片や
破片が処理物中に混入することがなく、効率的にかつ均
一に粉砕処理が可能な粉体処理装置を提供することを目
的とする。

【０００４】

【発明の構成】本発明は、垂直に配置された円筒ハウジ
ングと、粉砕媒体が通過しない大きさのスリットを設け
該円筒ハウジングの底部に配置されたスリット部材と、
該円筒ハウジングの軸線上に配置された回転軸と、該回
転軸に複数段をなして取り付けられた撹拌羽根とを有す
る粉体処理装置において、上記スリットを平面円板に設
け、該スリットの放射方向の幅が上記粉砕媒体が通過し
ない寸法であり、円周方向の幅が上記放射方向の幅より
大きいことを特徴とする粉体処理装置である。本発明の
実施態様は、上記スリット部材のスリットが、円周方向
の幅をほぼ３６０°に及ぶように構成したことを特徴と
する。本発明の他の実施態様は、上記スリット部材のス
リットが、複数の同心円を形成していることを特徴とす
る。本発明の他の実施態様は、上記スリット部材のスリ
ットが、螺旋溝を形成していることを特徴とする。本発
明の他の実施態様は、上記スリット部材のスリットが、
断面を下側が拡大した台形となるようにしたことを特徴
とする。本発明の他の実施態様は、上記スリット部材
が、下面に放射方向に延びた補強部材を有することを特
徴とする。

【０００５】本発明はまた、粉砕媒体が通過しない大き
さのスリットを設け、粉砕ハウジングの底部に配置され
るスリット部材の製造方法において、平面板に、ウオー
タジェットでスリット加工することを特徴とするスリッ
ト部材の製造方法である。本発明の実施態様は、上記ウ
オータジェットは、液体あるいは液体と研磨剤の混合物
を噴射するノズルを包含することを特徴とする。本発明
の他の実施態様は、上記平面板が、連続回転させられて
螺旋状スリットが形成されることを特徴とする。本発明
の他の実施態様は、上記平面板が、回転させられて同心
円スリットが形成されることを特徴とする。

【０００６】

【発明の効果】本発明の粉体処理装置によれば、粉砕媒
体の摩耗及び割れが少なく、長時間連続運転が可能であ
り、またスリット部材や粉砕媒体の摩耗片や破片が処理
物中に混入することがなく、効率的にかつ均一に粉砕処
理が可能である効果を有する。

【０００７】

【実施例】以下、本発明の実施例の粉体処理装置を図に
基づいて説明する。〔装置の構成〕粉体処理装置１は、図１に示すように、
軸線を垂直にして配置された円筒ハウジング２の軸線位
置に回転軸４が設けられる。円筒ハウジング２の側壁は
二重構造であって、冷却用液体６または加熱用液体が入
口管８から供給され、壁間を循環し、出口管１０から排
出される。円筒ハウジング２の上部は、処理原料Ｍを供
給するための供給口１２を有する蓋部材１４によって蓋
されている。円筒ハウジング２の底部には、粉砕媒体２
１が通過しない大きさのスリットを設けたスリット部材
１６が取り付けられている。円筒ハウジング２内の回転
軸４には、複数の垂直撹拌羽根１８、傾斜撹拌羽根２０
が各々５段ずつ取り付けられている。垂直撹拌羽根１８
は、円筒ハウジング２の軸線と平行すなわち垂直に取り
付けられ、傾斜撹拌羽根２０は該軸線に対し傾斜して取
付けられている。上から第１段および第３段等の奇数段
目の撹拌羽根は、等間隔に放射方向に複数本例えば５本
の垂直撹拌羽根１８が取付けられ、また第２段および第
４段等の偶数段目の撹拌羽根は、等間隔に放射方向に複
数本例えば５本の傾斜撹拌羽根２０が取付けられてい
る。傾斜撹拌羽根２０の傾斜方向は、回転軸４の駆動回
転によって傾斜撹拌羽根２０が処理原料Ｍを掻き上げる
方向である。

【０００８】複数の垂直撹拌羽根１８、傾斜撹拌羽根２
０は、互いに入替えられて、すなわち、上から第１段お
よび第３段等の奇数段目の撹拌羽根が、等間隔に放射方
向に複数本例えば５本の傾斜撹拌羽根２０が取付けら
れ、また第２段および第４段等の偶数段目の撹拌羽根
は、等間隔に放射方向に複数本例えば５本の垂直撹拌羽
根１８が取付けられるように構成してもよい。撹拌羽根
１８、２０の先端と円筒ハウジング２の内壁との間隔
は、粉砕媒体２１がここに詰まることを防ぐため、室温
において粉砕媒体２１の直径の２倍ないし１６倍とす
る。最下段の撹拌羽根１８または２０の下端縁部とその
下端縁部がスリット部材１６の上面に対し室温において
粉砕媒体２１の直径の１．５倍ないし８倍の間隔を置く
ように定められる。すなわち、撹拌羽根１８または２０
の先端と円筒ハウジング２の内壁との間隔ｗ_hmm、及び
最下段の撹拌羽根１８、２０の下端縁部とスリット部材
１６の上面との間隔をｗ_bmm、粉砕媒体の直径をＤbmm
とするとき、ｗ_h／Ｄb 及びｗ_b／Ｄb を無次元クリア
ランス数と定義すると、無次元クリアランス数ｗ_h／Ｄ
b は２ないし１６、ｗ_b／Ｄb は１．５ないし８とす
る。後述する〔成果１〕によっても明らかなように、
無次元クリアランス数ｗ／Ｄb をこの範囲よりも小さく
すると、粉体処理装置１を長時間作動させた時、撹拌羽
根１８、２０の先端と円筒ハウジング２の内壁との間、
及び最下段の撹拌羽根１８、２０の下端縁部とスリット
部材１６との間に粉砕媒体２１を噛み込む頻度が高くな
り、逆に、無次元クリアランス数ｗ_h／Ｄb 及びｗ_b／
Ｄbをこの範囲よりも小さくすると粉砕効率が著しく低
下する問題がある。

【０００９】スリット部材１６の下方には、砕成物シュ
ート２４が取付けられている。粉砕処理産物すなわち砕
成物３２はこの砕成物シュート２４を通じて装置外に排
出される。スリット部材１６は、図２に示すように、厚
さ８mmのステンレススチール製円板に螺旋状スリット５
０を設けてなる。スリット５０は、スリット部材１６の
中心寄りの始点５２から、円周寄りの終点５４まで、回
転軸４の回転方向と同一方向へ進む螺旋状をなす。スリ
ット５０の断面は、図３に示す形状であり、上側スリッ
ト幅Ｗｔ（mm）、下側スリット幅Ｗl （mm）の値を下表
に示す。スリット部材１６を補強するため、その裏面に
十字状のステンレススチール製補強材６０を溶接する。
スリット５０の始点５２及び終点５４は、補強材６０上
にあることが強度の点で好ましい。スリット部材１６
は、裏面からウオータジェットでスリット加工し、その
後に補強材６０を溶接する。ウオータジェットは、圧力
が数百ないし数千kgf/cm² の細い水噴流（ウオータージ
ェット）を所定角度で加工表面に向けて噴射し、その衝
撃によって加工物を開孔及び切断する工作機械である。

【００１０】粉体処理装置１を包含しこれを有効に作動
させる粉体処理システム１００は、図４に示すように、
処理原料Ｍを収容する処理原料容器１０５の底部にロー
タリバルブ１０２を取付け、そこから排出される処理原
料Ｍを計量機能を有するフィーダ１０３で貯留し、定量
供給するように構成される。フィーダ１０３は、上述し
た粉体処理装置１に連結される。粉体処理装置１の砕成
物シュート２４は、第１空気搬送部１０４を介して乾式
強制渦流式空気分級機１０６に接続される。乾式強制渦
流式空気分級機１０６の微粉排出口１０８は、第２空気
搬送部１１０を介してバグフイルター１１２に連結され
る。バグフイルター１１２においては、空気搬送された
砕成物３２中の微粉が採取され、清浄空気がブロア１１
３によって大気に放出される。乾式強制渦流式空気分級
機１０６の粗粉排出口１２０は、第３空気搬送部１２２
を介して処理原料容器１０５に連結される。粉体処理装
置１の構成データは次のとうりである。 (1)円筒ハウジング２の寸法内径：２００mm 内側深さ：７７０mm (2)スリット５０の寸法上側スリット幅Ｗｔ：０．５mm 下側スリット幅Ｗl ：１．０mm (3)撹拌羽根１８、２０の寸法垂直方向の幅（高さ）：垂直撹拌羽根１８・・・４２mm 傾斜撹拌羽根２０・・・３７mm 隣接段の撹拌羽根の中心間隔：６５mm (4)撹拌羽根１８、２０の回転速度７０〜７００ｒｐｍ (5)粉砕媒体アルミナ小径ボール、直径１mm、２mm、３mm、１０mmの
アルミナ小径ボールアルミナ小径ボールの真比重：３．６０〔作動〕上述した粉体処理装置１は、水道水を冷却用液
体６として入口管８から供給して円筒ハウジング２の壁
間を循環させ、出口管１０から排出させることによっ
て、円筒ハウジング２内の温度制御を行う。一方、粉砕
媒体２１を供給口１２から供給した後、処理原料Ｍを同
じく供給口１２から供給し、回転軸４を連続的に回転さ
せる。処理原料Ｍと粉砕媒体２１は、円筒ハウジング２
内で撹拌されながら、処理原料Ｍは粉砕媒体２１によっ
て粉砕され、砕成物３２だけがスリット部材１６のスリ
ット５０を通過して砕成物シュート２４を通じて装置外
に排出される。必要により、円筒ハウジング２内の温度
を制御するため冷却用液体６の代わりに加熱用液体を使
用する。より効果的に温度制御を行うために、円筒ハウ
ジング２内に冷却ガスまたは加熱ガスを圧入又は吸引す
ることもある。〔成果１〕上述した粉体処理装置１の一般的特性を調べ
るため、５００回の試験を行った。処理原料Ｍと処理産
物すなわち砕成物の粒度分布測定は、粒度が粗い場合は
乾式フルイを使用し、粒度が細かい場合はレーザ回折式
粒度分布測定装置すなわち株式会社日機装製のマイクロ
トラックＳＲＡまたはＳＰＡを使用した。処理原料Ｍ
は、８号けい砂と石灰石の２種類である。処理原料Ｍの
供給速度は、８号けい砂と石灰石ともに６ｋｇ／ｈであ
る。

【００１１】横軸に上述した撹拌羽根１８、２０の先端
と円筒ハウジング２の内壁との間の無次元クリアランス
数ｗ_h／Ｄb を取り、縦軸に砕成物３２の平均粒子径Ｘ
₅₀及び比粉砕エネルギーＥ（ｋＷｈ／ｋｇ）を取って、
これら上記三者の関係を図５に示す。ここで、比粉砕エ
ネルギーＥ（ｋＷｈ／ｋｇ）は、処理原料Ｍ１ｋｇを所
定の平均粒子径Ｘ₅₀に粉砕するために必要な粉体処理装
置の１時間当たりに消費する動力（ｋＷｈ／ｋｇ）と定
義される。図５から明らかなように、ｗ_h／Ｄb ＝１０
付近までは、砕成物の平均径Ｘ₅₀＝１．９５μｍであ
る。ｗ_h／Ｄb がこれ以上に大きくなると、砕成物の平
均径Ｘ₅₀も次第に粗くなる。この傾向は比粉砕エネルギ
ーＥについても見られるところで、ｗ_h／Ｄb ＝１０付
近まではＥ＝０．９５ｋＷｈ／ｋｇの値を保つ。すなわ
ち、粉砕処理のことのみを考えれば、ｗ_h／Ｄb ＝１６
以下が好ましい。また、それほど平均径Ｘ₅₀の値の小さ
な製品を必要としない場合には、言うまでもなく比粉砕
エネルギーＥの値が低い状態で運転を行っても十分に目
的を達する。また、横軸に無次元クリアランス数ｗ_h／
Ｄb を取り、縦軸に撹拌羽根回転完全度ε（無次元）を
取って、両者の関係を図６に示す。ここで、撹拌羽根回
転完全度εは、攪拌羽根の先端と円筒ハウジングの内面
との間に粉砕媒体が噛み込み、攪拌羽根がまったく回転
しない場合を０とし、噛み込みがなく円滑に回転する場
合を１．０とする。図６から明らかなように、なお、無
次元クリアランス数ｗ_h／Ｄb がおおよそ０．８〜２の
範囲では、粉砕媒体が撹拌羽根先端と円筒ハウジング内
壁との間に噛み込まれて回転が不完全になる場合があ
る。ｗ_h／Ｄb が約４以上になると回転も完全になる。
すなわち、粉体処理装置１の作動のみを考慮すれば、ｗ
_h／Ｄb ＝２以上である。無次元クリアランス数ｗ_h／
Ｄb ＝４０．３では、撹拌羽根の長さが零である。

【００１２】一方、最下段の攪拌羽根の下端縁部とスリ
ット部材１６上面との無次元クリアランス数ｗ_b／Ｄb
については、攪拌羽根の下端縁部とスリット部１６上面
との間の粉砕媒体が、攪拌羽根の回転とともに遠心効果
によって外周方向すなわち円筒ハウジング２の内壁側へ
移動し、従って粉砕媒体は、噛み込まれようとしても円
筒ハウジング２の内壁側へ逃げることができるため、粉
砕媒体が噛み込まれ難い。従って、無次元クリアランス
数ｗ_b／Ｄb ＝１．５以上になると円滑に回転するよう
になり、粉砕媒体もスリット部材上を活発に移動し、ス
リット部材の粉砕物による目詰まりを防止する。しか
し、無次元クリアランス数ｗ_b／Ｄb が８以上になる
と、スリット部材１６上面の摩擦抵抗及び攪拌羽根の回
転力が粉砕媒体に伝達され難くなり、スリット部材の上
面に接している粉砕媒体が殆ど移動しなくなり、スリッ
トが目詰まりし、作動不能となる。〔成果２〕８号けい砂を６ｋｇ／ｈで供給・粉砕した時
の砕成物の粒度は次のとおりであった。平均径Ｘ₅₀ ＝１．６１μｍ最大径Ｘ₁₀₀＝１０．５５μｍ〔成果３〕８号けい砂を超微粉砕後、乾式強制渦流式空
気分級機で分級し超微粉を生産した例として、８号けい
砂の砕成物を図４に示す乾式強制渦流式空気分級機１０
６によって分級した微粉製品の粒度は次のとおりであっ
た。

【００１３】平均径Ｘ₅₀ ＝０．６４μｍ最大径Ｘ₁₀₀＝２．６３μｍこの時の処理原料供給量は６ｋｇ／ｈで、微粉製品の生
産量は１．４ｋｇ／ｈであった。〔成果４〕ＪＳＭ−Ｔ１００（ＪＥＯＬ製）およびＳ−
２５００（日立製作所製）の走査式電子顕微鏡による微
粉砕前後の粒子の電子顕微鏡写真を図７に示す。微粉砕
前の粒子は角ばった形状であるが、本発明の粉体処理装
置により粉砕処理すると、図８に示すように、砕成物は
一般に角のない丸みを帯びた形状になり、このような粒
子形状を希望する粉体の生産に最適である。〔成果５〕本発明の装置は、粉体の複合化にも有効に適
用できる。 (1) 石灰石と二酸化チタンの複合化例石灰石を母粒子に、二酸化チタンを子粒子にした場合の
複合化は、母粒子…石灰石（粒度２μｍ以下）、配合率８０％子粒子…二酸化チタン（株式会社テイカの製品、製品
名ＪＡ−１、平均径Ｘ₅₀＝０．２〜０．３μｍ）、配合
率２０％複合化の状態…図９に複合化した粒子の走査式電子顕
微鏡の写真を示す。同図から母粒子の石灰石表面に子粒
子の二酸化チタンが均質に付着し、複合化していること
が分る。 (2) ８号けい砂と二酸化チタンの複合化例８号けい砂を母粒子に、二酸化チタンを子粒子にした場
合の複合化例は、母粒子…８号けい砂（平均粒子径Ｘ50＝８３μｍ）、
配合率８０％子粒子…二酸化チタン（株式会社テイカの製品、製品
名ＪＡ−１、平均粒子径Ｘ₅₀＝０．２〜０．３μｍ）、
配合率２０％複合化の状態…母粒子の８号けい砂表面に子粒子の二
酸化チタンが図９の場合と同様に均質に付着し、複合化
していた。〔成果６〕本発明の装置は、粉体の改質のためにも有効
に適用できる。カオリン粉を２ｋｇ／ｈで１パス（１回
通し）および２パス（２回通し）処理した時の処理産物
を、理学電気株式会社製のＸ線回折装置ＣＮ４０３７Ａ
１［２ｋＷ用］による回折の結果を図１０に示す。図１
０において、横軸は回折角度２θ〔°〕を示し、縦軸は
Ｘ線強度〔ＣＰＳ〕を示す。図１０に示すように、原料
のＸ線回折線には鋭いピークがあり、整った結晶構造で
あることを示している。一方、処理産物のＸ線回折線の
ピーク値が低くなり、非晶質（アモルファス）化が進行
している。この傾向は１パス（１回通し）より２パス
（２回通し）の処理産物の方が顕著で、パス回数が増加
するほど非晶質（アモルファス）化が進行している。

【００１４】カオリンの場合非晶質（アモルファス）化
が進行すると溶解性が高くなる、耐候性が良くなるなど
品質が向上する。この現象は非晶質（アモルファス）化
だけに依存するのではなく、処理中生じるメカノケミカ
ル効果も寄与していると考えられる。いずれにしても、
カオリン粉を本発明の粉体処理装置で処理することによ
って、品質が向上するなどの改質することができ、その
改質進行度合をＸ線回折結果で判断している。粉体処理
装置による粉体の改質例はカオリン粉だけに止まらず、
各種粉体を同様に処理し、パス回数は異なるが非晶質
（アモルファス）化が進行する、粉体の反応性が良くな
る、吸着性が向上するなど同様の効果を得ている。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の実施例の粉体処理装置の断面図であ
る。

【図２】本発明の実施例のスリット部材の平面図であ
る。

【図３】本発明の実施例のスリット部材の部分断面図で
ある。

【図４】本発明の実施例の粉体処理装置を包含する粉体
処理システムの構成図である。

【図５】本発明の粉体処理装置による粉砕の成果を示す
グラフ図である。

【図６】本発明の粉体処理装置における攪拌羽根回転完
全度を示すグラフ図である。

【図７】処理原料の８号けい砂の粒子形状を示す２００
倍の電子顕微鏡写真である。

【図８】本発明の粉体処理装置によって粉砕した８号け
い砂の粒子形状を示す２００００倍の電子顕微鏡写真で
ある。

【図９】石灰石を母粒子、二酸化チタンを子粒子として
本発明の粉体処理装置によって複合化した砕成物の構造
を示す１００００倍の電子顕微鏡写真である。

【図１０】カオリン粉を本発明の粉体処理装置によって
改質処理した砕成物のＸ線回折結果を示すグラフ図であ
る。

【符号の説明】

Ｍ処理原料１粉体処理装置２円筒ハウジング４回転軸６冷却用液体８入口管１０出口管１２供給口１４蓋部材１６スリット部材１８垂直撹拌羽根２０傾斜撹拌羽根２１粉砕媒体２４砕成物シュート３２砕成物５０螺旋状スリット５２始点５４終点６０ステンレススチール製補強材１００粉体処理システム１０６乾式強制渦流式空気分級機

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者阿部学東京都港区新橋３丁目４番５号新橋フロンティアビル５階株式会社ファイマテック内 (72)発明者上田勝己東京都港区新橋３丁目４番５号新橋フロンティアビル５階株式会社ファイマテック内 (72)発明者金子貫太郎大阪府大阪市西区北堀江１丁目12番19号株式会社栗本鉄工所内

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】軸線を垂直にして配置された円筒ハウジ
ングと、粉砕媒体が通過しない大きさのスリットを設け
該円筒ハウジングの底部に配置されたスリット部材と、
該円筒ハウジングの軸線上に配置された回転軸と、該回
転軸に複数段をなして取り付けられた撹拌羽根とを有す
る粉体処理装置において、上記スリットを平面円板に設け、該スリットの放射方向
の幅が上記粉砕媒体が通過しない寸法であり、円周方向
の幅が上記放射方向の幅より大きいことを特徴とする粉
体処理装置。
【請求項２】上記スリット部材のスリットが、円周方
向の幅をほぼ３６０°に及ぶように構成したことを特徴
とする請求項１記載の粉体処理装置。
【請求項３】上記スリット部材のスリットが、複数の
同心円を形成していることを特徴とする請求項１記載の
粉体処理装置。
【請求項４】上記スリット部材のスリットが、螺旋溝
を形成していることを特徴とする請求項１記載の粉体処
理装置。
【請求項５】上記スリット部材のスリットが、断面を
下側が拡大した台形となるようにしたことを特徴とする
請求項１記載の粉体処理装置。
【請求項６】上記スリット部材が、下面に放射方向に
延びた補強部材を有することを特徴とする請求項１記載
の粉体処理装置。
【請求項７】粉砕媒体が通過しない大きさのスリット
を設け、粉砕ハウジングの底部に配置されるスリット部
材の製造方法において、平面板に、ウオータジェットでスリット加工することを
特徴とするスリット部材の製造方法。
【請求項８】上記ウオータジェットは、液体あるいは
液体と研磨剤の混合物を噴射するノズルを包含すること
を特徴とする請求項７記載のスリット部材の製造方法。
【請求項９】上記平面板は、連続回転させられて螺旋
状スリットが形成されることを特徴とする請求項７記載
のスリット部材の製造方法。
【請求項１０】上記平面板は、回転させられて同心円
スリットを形成することを特徴とする請求項７記載のス
リット部材の製造方法。