JPH0812923B2 - Pixel drive transistor - Google Patents

Pixel drive transistor

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JPH0812923B2
JPH0812923B2 JP60235414A JP23541485A JPH0812923B2 JP H0812923 B2 JPH0812923 B2 JP H0812923B2 JP 60235414 A JP60235414 A JP 60235414A JP 23541485 A JP23541485 A JP 23541485A JP H0812923 B2 JPH0812923 B2 JP H0812923B2
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electrode
source
electrodes
drain
gate
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勝 安居
太輔 宮津
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    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L27/00Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate
    • H01L27/02Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate including semiconductor components specially adapted for rectifying, oscillating, amplifying or switching and having potential barriers; including integrated passive circuit elements having potential barriers
    • H01L27/12Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate including semiconductor components specially adapted for rectifying, oscillating, amplifying or switching and having potential barriers; including integrated passive circuit elements having potential barriers the substrate being other than a semiconductor body, e.g. an insulating body

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Description

【発明の詳細な説明】 「産業上の利用分野」 この発明は例えばアクテイブフラツトパネルデイスプ
レイに用いられ、そのピクセル(画素)を駆動するため
のトランジスタに関する。
The present invention relates to a transistor used for, for example, an active flat panel display and driving a pixel thereof.

「従来の技術」 従来のアクテイブ液晶表示素子は例えば第8図に示す
ようにガラスのような透明基板11及び12が近接対向して
設けられ、その周縁部にはスペーサ13が介在され、これ
ら透明基板11,12間に液晶14が封入されている。一方の
透明基板11の内面に表示電極15が複数形成され、これら
各表示電極15に接してそれぞれスイツチング素子とし薄
膜トランジスタ16が形成され、その薄膜トランジスタ16
のドレインは表示電極15に接続されている。これら複数
の表示電極15と対向して他方の透明基板12の内面に透明
な共通電極17が形成されている。
"Prior Art" In a conventional active liquid crystal display device, transparent substrates 11 and 12 such as glass are provided in close proximity to each other, as shown in FIG. A liquid crystal 14 is sealed between the substrates 11 and 12. A plurality of display electrodes 15 are formed on the inner surface of one transparent substrate 11, and a thin film transistor 16 is formed in contact with each display electrode 15 as a switching element.
The drain of is connected to the display electrode 15. A transparent common electrode 17 is formed on the inner surface of the other transparent substrate 12 so as to face the plurality of display electrodes 15.

表示電極15は例えば画素電極であつて第9図に示すよ
うに、透明基板11上に正方形のものが行及び列に、つま
りマトリクス状に近接配列されており、表示電極15の各
行配列と近接し、かつこれに沿つてそれぞれゲートバス
18が形成され、また表示電極15の各列配列と近接してそ
れに沿つてソースバス(データ線)19がそれぞれ形成さ
れている。これら各ゲートバス18及びソースバス19の交
差点において薄膜トランジスタ16が設けられ、各薄膜ト
ランジスタ16のゲートは両バスの交差点位置においてゲ
ートバス18に接続され、各ソースはソースバス19にそれ
ぞれ接続され、更に各ドレインは表示電極15に接続され
ている。
The display electrodes 15 are, for example, pixel electrodes, and as shown in FIG. 9, square ones are arranged on the transparent substrate 11 in rows and columns, that is, in a matrix form. And, along with this, each gate bus
18 are formed, and a source bus (data line) 19 is formed in the vicinity of each column array of the display electrodes 15 along the array. A thin film transistor 16 is provided at the intersection of each gate bus 18 and source bus 19, a gate of each thin film transistor 16 is connected to the gate bus 18 at an intersection position of both buses, and each source is connected to a source bus 19 respectively. The drain is connected to the display electrode 15.

これらゲートバス18とソースバス19との各一つを選択
してそれら間に電圧を印加し、その電圧が印加された薄
膜トランジスタ16のみが導通し、その導通した薄膜トラ
ンジスタ16のドレインに接続された表示電極15に電荷を
蓄積して表示電極15と共通電極17との間の部分の液晶14
のみに電圧を印加し、これによつてその表示電極15の部
分のみが光透明或は光遮断となり、選択的な表示が行な
れる。この表示電極15に蓄積した電荷を放電されること
によつて表示を消去させることができる。
Each of the gate bus 18 and the source bus 19 is selected and a voltage is applied between them, and only the thin film transistor 16 to which the voltage is applied becomes conductive, and a display connected to the drain of the conductive thin film transistor 16 is displayed. The charge is accumulated in the electrode 15 and the liquid crystal 14 in the portion between the display electrode 15 and the common electrode 17
A voltage is applied to only the display electrode 15 so that only the portion of the display electrode 15 is transparent or light-shielded, and selective display is performed. The display can be erased by discharging the charges accumulated in the display electrode 15.

薄膜トランジスタ16は従来においては例えば第10図及
び第11図に示すように構成されていた。即ち透明基板11
上に表示電極15とソースバス19とがITOのような透明導
通膜によつて形成され、表示電極15及びソースバス19の
互に平行近接した部分間にまたがつてアモルフアスシリ
コンのような半導体層21が形成され、更にその上に窒化
シリコンなどのゲート絶縁膜22が形成される。このゲー
ト絶縁膜22上において半導体層21を介して表示電極15及
びソースバス19とそれぞれ一部重なつてゲート電極23が
形成される。ゲート電極23の一端はゲートバス18に接続
される。このようにしてゲート電極23とそれぞれ対向し
た表示電極15、ソースバス19はそれぞれドレイン電極15
a、ソース電極19aを構成し、これら電極15a,19a、半導
体層21、ゲート絶縁膜22、ゲート電極23によつて薄膜ト
ランジスタ16が構成される。ゲート電極23及びゲートバ
ス18は同時に形成され、例えばアルミニウムによつて構
成される。
The thin film transistor 16 has been conventionally configured as shown in FIGS. 10 and 11, for example. That is, the transparent substrate 11
A display electrode 15 and a source bus 19 are formed on the top by a transparent conductive film such as ITO, and a semiconductor such as amorphous silicon is spread over the portions of the display electrode 15 and the source bus 19 which are in parallel and close to each other. A layer 21 is formed, and a gate insulating film 22 such as silicon nitride is further formed thereon. A gate electrode 23 is formed on the gate insulating film 22 so as to partially overlap the display electrode 15 and the source bus 19 via the semiconductor layer 21. One end of the gate electrode 23 is connected to the gate bus 18. In this way, the display electrode 15 and the source bus 19 that face the gate electrode 23 are respectively the drain electrode 15
a, the source electrode 19a is formed, and the thin film transistor 16 is composed of the electrodes 15a and 19a, the semiconductor layer 21, the gate insulating film 22, and the gate electrode 23. The gate electrode 23 and the gate bus 18 are formed at the same time and are made of, for example, aluminum.

「発明が解決しようとする問題点」 この従来の液晶表示素子において、各薄膜トランジス
タ16のゲート電極23とドレイン電極15a及びソース電極1
9aとの間にそれぞれ静電(寄生)容量Cgd及びCsgが存在
している、またこれらゲート電極23とドレイン電極15
a、ソース電極19aとの各対向部分間における半導体層21
の面積により抵抗値が変化する寄生抵抗Rsがある。これ
ら静電容量Cgd,Csg、寄生抵抗Rsは薄膜トランジスタ16
の特性に大きく影響を与えるが、ゲート電極23を作る際
にその位置が僅かずれると、静電容量Cgdなどが直接変
化し、このため薄膜トランジスタ16の特性にバラつきが
生じる。例えばこれら電極の重なる部分の幅の設計値を
3ミクロンとした場合に、そのチヤネル幅をwとすると
設計値通りならば静電容量Cgd,Csgはそれぞれ3倍のw
に比例したものであるが、1ミクロンだけゲート電極23
がソース電極19a側にずれると、Cgd及びCsgはそれぞれ
2倍のw及び4倍のwに比例したものとなり、ゲート電
極23がソース電極19a側に2ミクロンずれると、Cgd,Csg
はそれぞれ1倍のw、5倍のwに比例したものとなる。
従つてゲート電極23のずれは薄膜トランジスタ16の特性
に大きな影響を与える。液晶表示素子において薄膜トラ
ンジスタ16の特性にバラつきが生じると表示むらが発生
する。
"Problems to be Solved by the Invention" In this conventional liquid crystal display element, the gate electrode 23, the drain electrode 15a, and the source electrode 1 of each thin film transistor 16 are
Electrostatic (parasitic) capacitances Cgd and Csg exist between the gate electrode 23 and the drain electrode 15, respectively.
a, the semiconductor layer 21 between the opposing portions of the source electrode 19a
There is a parasitic resistance Rs whose resistance value changes depending on the area of. These capacitances Cgd, Csg and parasitic resistance Rs are
However, if the position of the gate electrode 23 is slightly deviated when the gate electrode 23 is formed, the capacitance Cgd or the like directly changes, which causes variations in the characteristics of the thin film transistor 16. For example, if the design value of the overlapping width of these electrodes is 3 microns and the channel width is w, then the capacitances Cgd and Csg are each three times w if they are as designed.
Although it is proportional to
Is shifted to the source electrode 19a side, Cgd and Csg are proportional to w of 2 times and w of 4 times respectively, and when the gate electrode 23 is shifted to the source electrode 19a side by 2 microns, Cgd, Csg
Are proportional to 1 times w and 5 times w, respectively.
Therefore, the displacement of the gate electrode 23 has a great influence on the characteristics of the thin film transistor 16. When the characteristics of the thin film transistors 16 in the liquid crystal display element vary, display unevenness occurs.

このような点より各表示電極に、これと接続された薄
膜トランジスタと反対側の位置において第2の薄膜トラ
ンジスタをそれぞれ接続し、これら両薄膜トランジスタ
を互に並列に接続することを考えた。
From this point of view, it was considered that the second thin film transistor is connected to each display electrode at a position opposite to the thin film transistor connected thereto, and these two thin film transistors are connected in parallel with each other.

第12図にその場合の液晶表示素子の一例を略線的に示
す。表示電極15はマトリクス状に配列され、第9図、第
10図の場合と同様に表示電極15の各列と対応して一方の
側においてソースバス19aがそれぞれ形成されており、
そのソースバス19aとその列の表示電極15とは薄膜トラ
ンジスタ16でそれぞれ接続される。更に各表示電極15に
ついて、薄膜トランジスタ16が接続された側と反対側
に、図において左側に薄膜トランジスタ25がそれぞれ表
示電極15に接続される。その薄膜トランジスタ25は各表
示電極15の配列ごとに対応するものがそれぞれソースバ
ス26にそのソース電極が接続され、表示電極15の列配列
ごとにその対応する一対のソースバス19,26の両端が互
に接続され、つまりループ状に接続される。また図に示
してないが薄膜トランジスタ25のゲート電極はその表示
電極15と接続された薄膜トランジスタ16のゲート電極が
接続されたゲートバス18に接続される。従つて各表示電
極についてその両薄膜トランジスタ16,25は互に並列に
接続される。
FIG. 12 schematically shows an example of the liquid crystal display element in that case. The display electrodes 15 are arranged in a matrix and are shown in FIG.
Similar to the case of FIG. 10, source buses 19a are formed on one side corresponding to each column of the display electrodes 15,
The source bus 19a and the display electrode 15 in that column are connected by a thin film transistor 16. Further, for each display electrode 15, a thin film transistor 25 is connected to the display electrode 15 on the side opposite to the side to which the thin film transistor 16 is connected, and on the left side in the drawing. The thin film transistor 25, which corresponds to each array of the display electrodes 15, has its source electrode connected to the source bus 26, and each column array of the display electrodes 15 has both ends of the corresponding pair of source buses 19 and 26 connected to each other. Connected in a loop. Although not shown, the gate electrode of the thin film transistor 25 is connected to the gate bus 18 to which the gate electrode of the thin film transistor 16 connected to the display electrode 15 is connected. Therefore, for each display electrode, both thin film transistors 16 and 25 are connected in parallel with each other.

第13図、第14図に第8図、第10図、第11図と対応する
部分に同一符号を付けて示すように、各表示電極15のソ
ースバス19と反対側においてソースバス26が形成され、
そのソースバス26と表示電極15との間にアモルフアスシ
リコンのような半導体層27が形成され、更に半導体層27
上にゲート絶縁膜22が形成され、その上にゲート電極28
が形成されて薄膜トランジスタ25が構成される。ゲート
電極28はゲートバス18に接続される。
As shown in FIGS. 13 and 14 corresponding to FIGS. 8, 10, and 11 with the same reference numerals, a source bus 26 is formed on the side opposite to the source bus 19 of each display electrode 15. Is
A semiconductor layer 27 such as amorphous silicon is formed between the source bus 26 and the display electrode 15, and the semiconductor layer 27 is further formed.
A gate insulating film 22 is formed on the gate electrode 28, and a gate electrode 28 is formed on the gate insulating film 22.
Are formed to form the thin film transistor 25. The gate electrode 28 is connected to the gate bus 18.

この構成の薄膜トランジスタ25においても第15図に示
すようにゲート電極28と表示電極15との重なり部分、つ
まりドレイン電極15bとの間に静電容量Cgd2が、またソ
ースバス26との重なる部分、つまりソース電極26aとの
間に静電容量Csg2がそれぞれ存在している。しかしこの
ように一つの表示電極15の両側に二つの薄膜トランジス
タ16,25がそれぞれ形成されており、しかもこれらは互
に並列に接続されているため、ゲート電極23と表示電極
15、ソースバス19との静電容量をCgd1,Csg1とすると、
静電容量Cgd1とCgd2、またCsg1とCsg2はそれぞれ並列に
接続される。
Also in the thin film transistor 25 of this configuration, as shown in FIG. 15, the overlapping portion of the gate electrode 28 and the display electrode 15, that is, the electrostatic capacitance Cgd 2 between the drain electrode 15b, the overlapping portion with the source bus 26, That is, the capacitance Csg 2 exists between the source electrode 26a and the source electrode 26a. However, since the two thin film transistors 16 and 25 are formed on both sides of one display electrode 15 respectively and these are connected in parallel with each other, the gate electrode 23 and the display electrode are
15, the capacitance with the source bus 19 is Cgd 1 , Csg 1 ,
Capacitances Cgd 1 and Cgd 2 , and Csg 1 and Csg 2 are connected in parallel, respectively.

従つていまゲート電極23,28が設計通りの重なりとな
つた時の静電容量Cgd1+Cgd2,Csg1+Csg2がそれぞれ3
倍のwであるとする。つまり各ゲート電極とドレイン電
極、ソース電極との重なりの幅が各3ミクロン、チヤネ
ル幅をw/2とする。この時例えば第13図、第14図、第15
図においてゲート電極23が図において右側にずれる場合
はゲート電極23と薄膜トランジスタ25のゲート電極28と
は同一マスクによつて作られるため、ゲート電極28も右
側へ同一量ずれ、このため薄膜トランジスタ16のソース
ゲート間の静電容量Csg1が増加するが、その増加量と同
量だけ薄膜トランジスタ25のソースゲート間の静電容量
Csg2が減少し、両薄膜トランジスタ16,25のソースゲー
ト間容量は3倍のwとなつて設計値と変りない。このこ
とは薄膜トランジスタ16のゲートドレイン間の静電容量
Cgd1と薄膜トランジスタ25のゲートドレイン間の静電容
量Cgd2との間においても同様であり、一方が増加すると
他方が減少してその和は常に一定である。このためマス
クずれがあつても常に設計通りの静電容量となる。従つ
て液晶表示素子の表示面の各部におけるゲート電極の形
成時のマスクずれが一様にならない場合でも各薄膜トラ
ンジスタの特性の等しいものが得られる。寄生抵抗Rsに
ついても薄膜トランジスタ16側が増加すれば薄膜トラン
ジスタ25側が減少し、常にその和が一定となる。
Therefore, when the gate electrodes 23 and 28 are overlapped as designed, the electrostatic capacitances Cgd 1 + Cgd 2 and Csg 1 + Csg 2 are 3 respectively.
It is assumed to be double w. That is, the overlapping width of each gate electrode, the drain electrode, and the source electrode is 3 μm, and the channel width is w / 2. At this time, for example, FIG. 13, FIG. 14, and FIG.
When the gate electrode 23 is displaced to the right side in the figure, the gate electrode 23 and the gate electrode 28 of the thin film transistor 25 are formed by the same mask, so that the gate electrode 28 is also displaced to the right side by the same amount, so that the source of the thin film transistor 16 is shifted. The capacitance Csg 1 between the gates increases, but the capacitance between the source and gate of the thin film transistor 25 is increased by the same amount as the increase.
Csg 2 is reduced, and the capacitance between the source and gate of both thin film transistors 16 and 25 is three times w, which is the same as the design value. This is the capacitance between the gate and drain of the thin film transistor 16.
The same is true between Cgd 1 and the electrostatic capacitance Cgd 2 between the gate and drain of the thin film transistor 25. When one increases, the other decreases and the sum is always constant. Therefore, the capacitance is always as designed even if there is a mask shift. Therefore, even if the mask shift at the time of forming the gate electrode in each part of the display surface of the liquid crystal display element is not uniform, the thin film transistors having the same characteristics can be obtained. As for the parasitic resistance Rs, if the thin-film transistor 16 side increases, the parasitic-resistor 25 side decreases, and the sum is always constant.

しかしこの2個の薄膜トランジスタを並列に接続する
表示素子においては、その互に並列に接続される2個の
薄膜トランジスタが互に隔つて設けられるため、そのソ
ース又はゲート信号を供給するためのバス長が長くな
り、ほゞ2倍の距離の引き廻しを必要とし、かつ互に隣
り合うソースバス又はゲートバス同志の間隔が狭くなり
製造上、断線、短絡などの不良が発生する率が高く、歩
留りが悪いものとなる。
However, in the display element in which the two thin film transistors are connected in parallel, since the two thin film transistors connected in parallel to each other are provided separately from each other, the bus length for supplying the source or gate signal is increased. It becomes longer, requires a distance of about twice, and the distance between source buses or gate buses adjacent to each other is narrower, which causes a high rate of defects such as disconnection and short circuit in manufacturing, and the yield is high. It will be bad.

従つてこの発明の目的は製造時のマスクずれの影響を
受け難く、トランジスタの特性が揃つた、またソースバ
ス又ゲートバスを特に長くする必要がなく、製造が容易
なピクセル駆動用トランジスタを提供することにある。
Therefore, an object of the present invention is to provide a pixel driving transistor which is not easily affected by mask misalignment during manufacturing, has uniform transistor characteristics, and does not require a particularly long source bus or gate bus, and is easy to manufacture. Especially.

「問題点を解決するため手段」 この発明によれば、ソース電極及びドレイン電極の2
組が設けられ、これら2組はソース電極からドレイン電
極を見た方向が互いに逆向きとされ、かつこれら2組
は、その1組のソース電極及びドレイン電極の配列方向
とほゞ直角方向に配列されてあり、この2組のソース電
極同士、またドレイン電極同士はそれぞれ互いに接続さ
れ、これらすべてのソース電極及びドレイン電極に対し
共通のゲート絶縁膜及び共通のゲート電極が設けられ、
各組におけるソース電極及びドレイン電極と共通のゲー
ト電極とでそれぞれ構成される各チャネルの幅は、互い
にほゞ等しくされている。
[Means for Solving Problems] According to the present invention, the source electrode and the drain electrode are
Sets are provided, and these two sets are arranged such that the directions of the source electrode and the drain electrode viewed from each other are opposite to each other, and these two sets are arranged substantially at right angles to the arrangement direction of the one set of source and drain electrodes. The two sets of source electrodes and the drain electrodes are connected to each other, and a common gate insulating film and a common gate electrode are provided for all the source electrodes and the drain electrodes,
The widths of the respective channels formed by the source electrode and the drain electrode and the common gate electrode in each set are almost equal to each other.

またソース電極と、これを挟んで2つのドレイン電極
が設けられ、これらソース電極及び2つのドレイン電極
に対し共通のゲート絶縁膜及び共通のゲート電極が設け
られており、そのソース電極及び2つのドレイン電極と
共通のゲート電極とでそれぞれ構成される各チャネルの
幅は、互いにほゞ等しくされている。
A source electrode and two drain electrodes sandwiching the source electrode are provided, and a common gate insulating film and a common gate electrode are provided for the source electrode and the two drain electrodes. The source electrode and the two drains are provided. The widths of the respective channels formed by the electrodes and the common gate electrode are substantially equal to each other.

またソース電極と、これを挟んだ2つのドレイン電極
との組が複数設けられ、これら各組のドレイン電極の配
列方向は互いに平行とされ、複数のソース電極同士、ま
たドレイン電極同士はそれぞれ互いに接続され、その複
数の組のソース電極及び2つのドレイン電極に対し共通
のゲート絶縁膜及び共通のゲート電極が設けられてお
り、各組において、そのソース電極及び2つのドレイン
電極と共通のゲート電極とでそれぞれ構成される各チャ
ネルの幅は、互いにほゞ等しくされている。更にドレイ
ン電極と、これを挟んだ2つのソース電極との組が複数
設けられ、これら各組のソース電極の配列方向は互いに
ほゞ平行とされ、複数のソース電極同士、またドレイン
電極同士はそれぞれ互いに接続され、複数組のドレイン
電極及び2つのソース電極に対し共通のゲート絶縁膜及
び共通のゲート電極が設けられており、各組において、
そのドレイン電極及び2つのソース電極と共通のゲート
電極とでそれぞれ構成される各チャネルの幅は、互いに
ほゞ等しくされている。このような構成であるため、例
えば製造時においてマスクずれが生じても全体としては
ゲート、ソース間静電容量は常に一定であり、またゲー
ト、ドレイン間静電容量も常に一定である。また複数の
ソース電極、ドレイン電極に対しゲート電極は共通であ
るためソースバスやゲートバスを長く引き廻す必要はな
く、かつソースバス又はゲートバスの数を増加する必要
もなく、隣接バス間が短絡したり、バスが断線する事故
も少ないものとすることができる。
Further, a plurality of sets of a source electrode and two drain electrodes sandwiching the source electrode are provided, and the arrangement directions of the drain electrodes of these sets are parallel to each other, and the plurality of source electrodes and the drain electrodes are connected to each other. A common gate insulating film and a common gate electrode are provided for the source electrode and the two drain electrodes of the plurality of sets, and in each set, the source electrode and the two drain electrodes and the common gate electrode are provided. The widths of the channels respectively constituted by are substantially equal to each other. Further, a plurality of sets of drain electrodes and two source electrodes sandwiching the drain electrodes are provided, and the source electrodes of each set are arranged in substantially parallel to each other, and the plurality of source electrodes are connected to each other and the drain electrodes are connected to each other. Connected to each other, a common gate insulating film and a common gate electrode are provided for a plurality of sets of drain electrodes and two source electrodes.
The widths of the respective channels formed by the drain electrode and the two source electrodes and the common gate electrode are substantially equal to each other. With such a configuration, the gate-source capacitance is always constant and the gate-drain capacitance is always constant as a whole even if a mask shift occurs during manufacturing. Further, since the gate electrode is common to a plurality of source electrodes and drain electrodes, it is not necessary to extend the source bus or gate bus for a long time, and it is not necessary to increase the number of source buses or gate buses, and a short circuit occurs between adjacent buses. It is also possible to reduce the number of accidents in which the bus is disconnected.

「実施例」 第1図はこの発明の特許請求の範囲第1項の構成によ
るピクセル駆動用薄膜トランジスタをアクテイブマトリ
ツクス液晶表示素子に適用した場合の第10図、第13図と
対応する図であり、対応する部分には同一符号を付けて
ある。この例では各表示電極15のソースバス19と直角な
一側縁に近接し、これに沿って分岐パターン31がソース
バス19に連結されて形成され、表示電極15のその側縁は
一半部がずらされて形成され、その引込んだ側縁に分岐
パターン31が折曲げ延長されると共にその折曲げ延長部
32を囲い挾むように表示電極15から延長パターン33とし
て延長されている。表示電極15及び分岐パターン31のそ
れぞれ一部と対向し、また延長部32及び延長パターン33
のそれぞれ一部と対向して、ゲート絶縁膜22を介してゲ
ートバス18が形成されている。表示電極15、延長パター
ン33のゲートバス18との対向した部分はそれぞれドレイ
ン電極15a,15bとして作用し、分岐パターン31、延長部3
2のゲートバス18と対向した部分はそれぞれソース電極1
9a,19bとして作用する。つまりドレイン電極15a,ソース
電極19aの配列方向と、ドレイン電極15b、ソース電極19
bの配列方向とは平行だが逆向きであり、かつこれら電
極15a,15b,19a,19bは共通のゲート電極(ゲートバス1
8)と対向している。電極15a,19a間のチヤネル長、チヤ
ネル幅と電極15b,19b間のチヤネル長、チヤネル幅とを
それぞれ等しくする。
"Embodiment" FIG. 1 is a view corresponding to FIG. 10 and FIG. 13 when a pixel driving thin film transistor according to the constitution of claim 1 of the present invention is applied to an active matrix liquid crystal display device. , The corresponding parts are designated by the same reference numerals. In this example, each display electrode 15 is formed adjacent to one side edge that is perpendicular to the source bus 19, along which a branch pattern 31 is formed by being connected to the source bus 19, and one half of the side edge of the display electrode 15 is formed. The branch pattern 31 is formed by being shifted, and the branch pattern 31 is bent and extended on the retracted side edge and the bent extension portion.
An extension pattern 33 is extended from the display electrode 15 so as to surround and surround 32. The display electrode 15 and the branch pattern 31 are partially opposed to each other, and the extension 32 and the extension pattern 33 are provided.
A gate bus 18 is formed so as to face a part of each of them via a gate insulating film 22. The portions of the display electrode 15 and the extension pattern 33 that face the gate bus 18 act as drain electrodes 15a and 15b, respectively, and the branch pattern 31 and the extension 3
2 is the source electrode 1 in the part facing the gate bus 18
Acts as 9a, 19b. That is, the arrangement direction of the drain electrode 15a and the source electrode 19a, and the drain electrode 15b and the source electrode 19a.
The electrodes 15a, 15b, 19a, and 19b are parallel to but opposite to the array direction of b, and these electrodes 15a, 15b, 19a, and 19b have a common gate electrode (gate bus 1
8) is facing. The channel length and channel width between the electrodes 15a and 19a are made equal to the channel length and channel width between the electrodes 15b and 19b, respectively.

この構成によればドレイン電極15a、ソース電極19a、
ゲートバス18により薄膜トランジスタ16が構成され、ド
レイン電極15b、ソース電極19b、ゲートバス18により薄
膜トランジスタ34が形成され、薄膜トランジスタ16,34
は並列に接続され、1個のトランジスタとして動作す
る。製造時にマスクずれによりドレイン電極15a、ソー
ス電極19aの配列方向においてゲートバス18がずれて
も、薄膜トランジスタ16,34の並列トランジスタとして
のゲート、ソース間静電容量、ゲート、ドレイン間静電
容量はそれぞれ一定の値となることは容易に理解されよ
う。
According to this configuration, the drain electrode 15a, the source electrode 19a,
The gate bus 18 constitutes the thin film transistor 16, and the drain electrode 15b, the source electrode 19b, and the gate bus 18 form the thin film transistor 34.
Are connected in parallel and operate as one transistor. Even if the gate bus 18 is displaced in the arrangement direction of the drain electrode 15a and the source electrode 19a due to a mask displacement during manufacturing, the gate and source capacitances, the gate and drain capacitances of the thin film transistors 16 and 34 as parallel transistors are respectively It will be easily understood that the value is a constant value.

更にこの場合はゲートバス18、ソースバス19は第10図
に示した場合とほゞ同一長さであり、長く引き廻す必要
がなく、かつ第13図の場合はソースバス19が表示電極間
に2本配されるが、この第1図では1本でよく、それだ
け製造時にソースバス19の断線が少なく、かつ短絡もな
いものとすることができる。
Further, in this case, the gate bus 18 and the source bus 19 have almost the same length as in the case shown in FIG. 10, and it is not necessary to extend them long, and in the case of FIG. 13, the source bus 19 is between the display electrodes. Although two lines are arranged, only one line is required in FIG. 1, and it is possible to reduce the number of disconnection of the source bus 19 and no short circuit in the manufacturing process.

第2図はこの発明の特許請求の範囲第2項の構成のも
のであり、図に示すように分岐パターン31を表示電極15
の一側縁のほゞ全長にわたつて設け、分岐パターン31を
挾むように表示電極15より延長パターン33を形成し、ゲ
ートバス18を分岐パターン31、表示電極15の一部、延長
パターン33の一部と対向するように設けてもよい。この
場合は分岐パターン31の一側縁部がソース電極19a、他
側縁部がソース電極19bとして作用する。
FIG. 2 shows the structure of the second aspect of the present invention. As shown in FIG.
The extension pattern 33 is formed over the entire length of one side edge of the display electrode 15 so as to sandwich the branch pattern 31, and the gate bus 18 is divided into the branch pattern 31, a part of the display electrode 15, and the extension pattern 33. It may be provided so as to face the section. In this case, one side edge of the branch pattern 31 acts as the source electrode 19a and the other side edge acts as the source electrode 19b.

ソース電極とドレイン電極との組はその配列方向の向
きが逆のものを同一数設ければよく、1組ずつに限らな
い。第3図はこの発明の特許請求の範囲第3項の構成の
ものであり、各2組ずつ設けた例である。つまりゲート
バス18と対向して、ドレイン電極15a、ソース電極19a、
ソース電極19b、ドレイン電極15bがゲートバス18の幅方
向に配列して設けられ、これらに対しゲートバス18の長
さ方向にずらされてドレイン電極15c、ソース電極19c、
ソース電極19d、ドレイン電極15dがゲートバス18の幅方
向に配列され、ゲートバス18と対向して形成され、ドレ
イン電極15a,15cは表示電極15の側縁部であり、この両
端にドレイン電極15b,15dが連結され、ソース電極19a〜
19dは表示電極15の一側縁に沿つたパターン32により構
成され、そのパターン32は中間部で分岐パターン31と連
結されている。
The source electrode and the drain electrode may be provided in the same number in which the arrangement directions are opposite to each other, and are not limited to one set each. FIG. 3 shows the configuration of the third aspect of the present invention, and is an example in which two sets are provided for each. That is, facing the gate bus 18, the drain electrode 15a, the source electrode 19a,
A source electrode 19b and a drain electrode 15b are arranged in the width direction of the gate bus 18, and are arranged in the length direction of the gate bus 18 with respect to them, and the drain electrode 15c, the source electrode 19c,
The source electrode 19d and the drain electrode 15d are arranged in the width direction of the gate bus 18 and formed so as to face the gate bus 18, and the drain electrodes 15a and 15c are side edge portions of the display electrode 15, and the drain electrodes 15b are provided at both ends thereof. , 15d are connected to each other, and source electrodes 19a to
19d is composed of a pattern 32 along one side edge of the display electrode 15, and the pattern 32 is connected to the branch pattern 31 at an intermediate portion.

第4図はこの発明の特許請求の範囲第4項の構成のも
のであり、第3図同様な電極パターン配置に対し、ゲー
トバス18を幅方向においてずらして形成した場合であ
る。第5図はこの発明の特許請求の範囲第3項による構
成のものであり、第3図における電極15b,15dと表示電
極15との連結は表示電極15の一側縁中間部で共通に行
い、ソース電極19a,19bを共通とし、またソース電極19
c,19dを各一端でソースバス31と連結した場合である。
第6図はこの発明の特許請求の範囲第4項による構成の
ものであり、第5図においてゲートバス18を幅方向にず
らして設けた場合である。第7図はこの発明の特許請求
の範囲第1項〜第4項による構成の1つに対応した、例
えば第3項に対応した構成を更に多くのソース電極、ド
レイン電極の組を設けた例である。
FIG. 4 shows the structure according to the fourth aspect of the present invention, and shows the case where the gate bus 18 is formed so as to be displaced in the width direction with respect to the electrode pattern arrangement similar to that of FIG. FIG. 5 shows a structure according to the third aspect of the present invention. The electrodes 15b and 15d in FIG. 3 and the display electrode 15 are commonly connected at an intermediate portion of one side edge of the display electrode 15. , The source electrodes 19a and 19b are common, and the source electrode 19a
This is the case where c and 19d are connected to the source bus 31 at each end.
FIG. 6 shows the structure according to the fourth aspect of the present invention, which is the case where the gate buses 18 are provided so as to be shifted in the width direction in FIG. FIG. 7 shows an example in which a larger number of sets of source electrodes and drain electrodes are provided in the structure corresponding to one of the structures according to claims 1 to 4 of the present invention, for example, the structure corresponding to item 3. Is.

「発明の効果」 以上述べたようにこの発明によれば複数のトランジス
タがゲート電極を共通に設けられ、しかもそのソース電
極からドレイン電極を見た方向が互に逆のものが少くと
も1組ずつあり、製造時のマスクずれがあつても、特性
の等しいトランジスタを得ることができる。
[Advantages of the Invention] As described above, according to the present invention, a plurality of transistors are provided with a common gate electrode, and the directions in which the drain electrodes are viewed from the source electrodes are mutually opposite at least one set at a time. Therefore, even if there is a mask shift at the time of manufacturing, transistors having the same characteristics can be obtained.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

第1図はこの発明によるピクセル駆動用トランジスタの
一例をアクテイブマトリクス液晶表示素子に適用した場
合のトランジスタ及び表示電極アレイを示す平面図、第
2図乃至第7図はそれぞれその他の例を示す平面図、第
8図は液晶表示素子の一般的構成の一部を示す断面図、
第9図はアクテイブマトリクス液晶表示素子の電気的回
路図、第10図は第8図の液晶表示素子の表示電極15及び
トランジスタ16の配列を示す平面図、第11図は第10図の
A−A線断面図、第12図は改良された液晶表示素子の表
示電極、トランジスタ、ソースバスの関係を示す図、第
13図は第12図に示した液晶表示素子の第10図と対応した
平面図、第14図は第13図のB−B線断面図、第15図は第
13図のゲート電極とソース電極及びドレイン電極との重
りを示す図である。 15a,15b,15c,15d:ドレイン電極、16,34:トランジスタ、
18:ゲートバス(ゲート電極)、19:ソースバス、19a,19
b,19c,19d:ソース電極、21,27:半導体層、22:ゲート絶
縁層。
FIG. 1 is a plan view showing a transistor and a display electrode array when an example of a pixel driving transistor according to the present invention is applied to an active matrix liquid crystal display element, and FIGS. 2 to 7 are plan views showing other examples. FIG. 8 is a cross-sectional view showing a part of a general structure of a liquid crystal display element,
FIG. 9 is an electric circuit diagram of the active matrix liquid crystal display device, FIG. 10 is a plan view showing the arrangement of the display electrodes 15 and the transistors 16 of the liquid crystal display device of FIG. 8, and FIG. 11 is A- of FIG. FIG. 12 is a cross-sectional view taken along the line A, and FIG.
13 is a plan view corresponding to FIG. 10 of the liquid crystal display device shown in FIG. 12, FIG. 14 is a sectional view taken along the line BB of FIG. 13, and FIG.
It is a figure which shows the weight of the gate electrode of FIG. 13, a source electrode, and a drain electrode. 15a, 15b, 15c, 15d: drain electrode, 16, 34: transistor,
18: Gate bus (gate electrode), 19: Source bus, 19a, 19
b, 19c, 19d: source electrode, 21, 27: semiconductor layer, 22: gate insulating layer.

Claims (4)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】ソース電極及びドレイン電極の2組が設け
られ、 これら2組はソース電極からドレイン電極を見た方向が
互いに逆向きとされ、 かつこれら2組は、その1組のソース電極及びドレイン
電極の配列方向とほゞ直角方向に配列され、 前記2組のソース電極同士、またドレイン電極同士はそ
れぞれ互いに接続され、 これらすべてのソース電極及びドレイン電極に対し共通
のゲート絶縁膜及び共通のゲート電極が設けられ、 前記各組におけるソース電極及びドレイン電極と前記共
通のゲート電極とでそれぞれ構成される各チャネルの幅
は、互いにほゞ等しくされていることを特徴とするピク
セル駆動用トランジスタ。
1. Two sets of a source electrode and a drain electrode are provided, and these two sets are opposite to each other when viewed from the source electrode to the drain electrode, and these two sets are one set of the source electrode and the drain electrode. The source electrodes and drain electrodes are arranged in a direction substantially perpendicular to the direction of arrangement of the drain electrodes, and the two sets of source electrodes are connected to each other, and the drain electrodes are connected to each other. A pixel driving transistor, wherein a gate electrode is provided, and widths of respective channels respectively constituted by the source electrode and the drain electrode in each set and the common gate electrode are substantially equal to each other.
【請求項2】ソース電極と、これを挟んで2つのドレイ
ン電極が設けられ、 これらドレイン電極は互いに接続され、 これらソース電極及び2つのドレイン電極に対し共通の
ゲート絶縁膜及び共通のゲート電極が設けられ、 前記ソース電極及び前記2つのドレイン電極と前記共通
のゲート電極とでそれぞれ構成される各チャネルの幅
は、互いにほゞ等しくされていることを特徴とするピク
セル駆動用トランジスタ。
2. A source electrode and two drain electrodes sandwiching the source electrode are provided, the drain electrodes are connected to each other, and a common gate insulating film and a common gate electrode are provided for the source electrode and the two drain electrodes. A pixel driving transistor, wherein the widths of the respective channels which are provided and are respectively constituted by the source electrode, the two drain electrodes, and the common gate electrode are substantially equal to each other.
【請求項3】ソース電極と、これを挟んだ2つのドレイ
ン電極との組が複数設けられ、 これら各組のドレイン電極の配列方向は互いにほゞ平行
とされ、 前記複数のソース電極同士、またドレイン電極同士はそ
れぞれ互いに接続され、 前記複数の組のソース電極及び2つのドレイン電極に対
し共通のゲート絶縁膜及び共通のゲート電極が設けら
れ、 前記各組において、そのソース電極及び前記2つのドレ
イン電極と前記共通のゲート電極とでそれぞれ構成され
る各チャネルの幅は、互いにほゞ等しくされていること
を特徴とするピクセル駆動用トランジスタ。
3. A plurality of sets of a source electrode and two drain electrodes sandwiching the source electrode are provided, and the arrangement directions of the drain electrodes of these sets are substantially parallel to each other, and the plurality of source electrodes are The drain electrodes are connected to each other, a common gate insulating film and a common gate electrode are provided for the plurality of sets of source electrodes and two drain electrodes, and in each of the sets, the source electrode and the two drains are provided. The pixel driving transistor is characterized in that the widths of the respective channels formed by the electrodes and the common gate electrode are substantially equal to each other.
【請求項4】ドレイン電極と、これを挟んだ2つのソー
ス電極との組が複数設けられ、 これら各組のソース電極の配列方向は互いにほゞ平行と
され、 前記複数のソース電極同士、またドレイン電極同士はそ
れぞれ互いに接続され、 前記複数組のドレイン電極及び2つのソース電極に対し
共通のゲート絶縁膜及び共通のゲート電極が設けられ、 前記各組において、そのドレイン電極及び前記2つのソ
ース電極と前記共通のゲート電極とでそれぞれ構成され
る各チャネルの幅は、互いにほゞ等しくされていること
を特徴とするピクセル駆動用トランジスタ。
4. A plurality of sets of drain electrodes and two source electrodes sandwiching the drain electrodes are provided, and the source electrodes of these sets are arranged substantially parallel to each other. The drain electrodes are connected to each other, a common gate insulating film and a common gate electrode are provided for the plurality of sets of drain electrodes and two source electrodes, and in each of the sets, the drain electrode and the two source electrodes are provided. The pixel driving transistor is characterized in that the widths of the respective channels constituted by the common gate electrode and the common gate electrode are substantially equal to each other.
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