JP3582193B2 - Liquid crystal display device - Google Patents
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Description
【0001】
【発明の属する技術分野】
この発明は、液晶表示素子に関し、特に画素部に容量の蓄積量を補うための補助容量を備えた液晶表示素子に係る。
【0002】
【従来の技術】
従来、この種の液晶表示素子としては、図7に示すような画素部の構造および図8に示すような配線配置構造を有するものが知られている。この液晶表示素子は、図7(A)および(B)に示すように、対向する補助容量配線1と画素電極2との間に容量が蓄積されるようになっている。この補助容量配線1は、各画素列に沿って(図中の左右方向に)延在されている。図7(B)は、図7(A)のY−Y断面図である。同図(B)に示すように、対向する補助容量配線1と画素電極2との間には、ゲート絶縁膜3が積層されて介在されており、補助容量が形成されるようになっている。また、同図中、符号5は各画素行毎に形成されたデータ信号配線、6は薄膜トランジスタ、7は選択信号線(走査線)を示している。図8(A)は液晶表示領域の全域に亙って配置された補助容量配線1の平面説明図であり、図8(B)は同図(A)のZ−Z断面図である。同図(A)に示すように、補助容量配線1の両端は、液晶表示領域の両側に、行方向(図中上下方向)に沿って形成された第1リング配線8、8にコンタクトホール8Aを介して接続されている。また、第1リング配線8、8どうしは、液晶表示領域の上下に列方向に沿って形成された第2リング配線9、9にコンタクトホール9Aを介して接続されている。これらすべての補助容量配線1〜1は第1、第2リング配線8、9に接続され、一定の電圧が印加されるようになっている。このように補助容量配線1を備えることにより、選択信号線の選択時から次の選択時まで液晶の状態を保持して、コントラストの良好な液晶表示を可能としている。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、上記した液晶表示素子においては、1本の補助容量配線1に断線が生じている場合、液晶表示素子内の1列の画素全体に悪影響が及ぶという問題があった。
【0004】
この発明の課題は、補助容量配線の断線に伴う悪影響を防止できる、歩留まりの良い液晶表示素子を得るにはどのような手段を講じればよいかという点にある。
【0005】
【課題を解決するための手段】
請求項1記載の発明は、列方向及び行方向に配列された画素電極及び前記画素電極に接続された薄膜トランジスタが設けられた一方の基板と、前記画素電極に対向して共通電極が設けられた他方の基板との間に液晶が介在する液晶表示素子において、
前記薄膜トランジスタのゲート電極或いはドレイン電極の一方と同一材料膜からなり、各々が、前記画素電極の列方向に延在される第1容量配線と、前記画素電極の行方向に延在されるとともに前記第1容量配線に接続される第2容量配線と、を有する複数の補助容量配線ユニットと、
前記薄膜トランジスタのゲート電極或いはドレイン電極の他方と同一材料膜からなり、各々が、前記画素電極の行方向に延在されるとともに前記行方向に隣接された前記画素電極に対応する前記補助容量配線ユニットどうしを接続する複数の接続配線部と、
液晶表示領域の周縁で前記複数の補助容量配線ユニットと接続された行方向リング配線と、
液晶表示領域の周縁で前記複数の補助容量配線ユニットと接続されるとともに前記行方向リング配線と接続された列方向リング配線と、
を備えることを特徴としている。
【0006】
請求項1記載の発明においては、補助容量配線が複数の方向に接続されているため、部分的に補助容量配線ユニットに断線が生じても、接続配線部を介して他の補助容量配線ユニットと接続しているので画素電極どうしを等電位にすることができ、表示特性の劣化を低減することができる。また、補助容量配線ユニット及び接続配線部がそれぞれ薄膜トランジスタの各電極と同一面で形成されているので、これら電極と同一部材を用い、一括して形成することができる。
【0007】
請求項2記載の発明は、前記補助容量配線ユニットと前記接続配線部とは、前記薄膜トランジスタのゲート絶縁膜に設けられたコンタクトホールを介して互いに接続されることを特徴している。請求項2記載の発明においては、ゲート絶縁膜を用いて容量を形成することができるので、容量用の絶縁膜を新たに作る必要がない。
【0009】
請求項3記載の発明は、前記補助容量配線ユニットの第1容量配線は、前記列方向の画素電極の互いに隣接された二列の間に、前記薄膜トランジスタのゲート絶縁膜を介して前記二列の画素電極に重なるように延在されることを特徴としている。請求項3記載の発明においては、補助容量配線ユニットの数が少なくなるので、配線形成における歩留まりを向上することができる。
【0010】
請求項4記載の発明は、前記薄膜トランジスタは、その半導体層上にブロッキング絶縁層を有し、前記画素電極と前記補助容量配線ユニットとの間に、前記ゲート絶縁膜と、前記ブロッキング絶縁層と同一の膜をパターニングして得た絶縁層とを介在していることを特徴としている。請求項4記載の発明においては、ゲート絶縁膜の他にブロッキング絶縁層と一括して形成された絶縁層を用いることができるので、薄膜トランジスタのオン、オフ特性に応じたゲート絶縁膜の膜厚を設定し、容量として十分な厚さを得るために絶縁層の厚さを設定することができる。
【0011】
【発明の実施の形態】
以下、この発明に係る液晶表示素子の詳細を図面に示す実施形態に基づいて説明する。
(実施形態1)
図1〜図3はこの発明の実施形態1を示している。図1(A)は本実施形態の1画素部分を示す平面図、図1(B)は図1(A)のX−X断面図、図1(C)は図1(A)のW−W断面図、図2は画素部分の補助容量電極部と列方向のリング配線との接続構造を示す平面図、図3は補助容量配線ユニットと行方向のリング配線との接続構造、および行方向のリング配線と列方向のリング配線との接続構造を示す平面図である。
【0012】
本実施形態は、薄膜トランジスタ(TFT)をスイッチング素子として用い、特に画素がストライプ配列の液晶表示素子に本発明を適用したものである。図1〜図3は、本実施形態に係る液晶表示素子のTFT基板側の構造を示している。なお、本実施形態を説明するに当たり、このTFT基板に対向する共通電極基板、およびTFT基板と共通電極基板との間隙に介在される液晶、配向膜などの構成は周知のものであるため、その説明を省略する。
【0013】
まず、本実施形態に係る液晶表示素子におけるTFT基板には、図1(A)に示すように、選択信号線としての複数のゲートライン11が、互いに平行をなすように、画素列方向(図中左右方向)に延在されている。そして、ゲートライン11は、側方に(ゲートラインに直角をなす方向)に延びるように形成されたゲート電極部11Aを有している。このゲートライン11は、例えばアルミニウム又はタンタルなどの金属材料膜をパターニングしてなるが、このパターニングの際に同一材料膜で補助容量配線ユニット12も同時に形成されている。この補助容量配線ユニット12は、ゲートライン11と同様に全体としては列方向に延在されたものであるが、部分的には図中下方向に向けて補助容量電極部12Aが複数、所定間隔毎に形成されている。図1(A)において符号13は、ITO(インジウム酸化物)でなる画素電極である。この画素電極13は、その周縁が補助容量電極部12Aと対向するように形成されている。なお、画素電極13と補助容量電極部12Aとの間には、図1(A)には示してないが、図1(B)に示すゲート絶縁膜14とシリコン窒化膜15とが積層して介在されて、図1(A)において斜線で示す領域で補助容量を形成するようになっている。なお、画素電極13には、図1(A)に示すように、ゲート電極部11Aに重ならないように切り欠き部13Aが形成されている。また、補助容量電極部12Aの先端部の上方および基端部の上方にも、画素電極13に切り欠き13B、13Cがそれぞれ形成されている。
【0014】
上記したゲート電極部11Aの上には、ゲート絶縁膜14が形成され、このゲート絶縁膜14の上に例えばアモルファスシリコンでなる半導体層16がパターニングされている。そして、この半導体層16の上には、画素電極13に接続するソース電極17と、信号線としてのドレインライン18と一体をなすドレイン電極18Aと、が分離して設けられている。なお、ドレインライン18は、行方向に延在されたものであり、画素電極13の行方向の列の側方を走っている。図1(C)に示すように、TFT(薄膜トランジスタ)19は、逆スタガー型構造であり、補助容量電極部12Aと一括して形成されたゲート電極部11Aと、窒化シリコンまたは酸化シリコンからなるゲート絶縁膜14と、ゲート絶縁膜14上に形成されたa−Siからなる半導体層16と、ソース・ドレイン電極のパターニング時のエッチングから半導体層16を保護するブロッキング層4と、ソース電極17と、ドレイン電極18Aと、から構成されている。ブロッキング層4は、シリコン窒化膜15と同一の膜をパターニングして得ている。
【0015】
上記した補助容量配線ユニット12は、側方に位置する1列の画素電極13とそれぞれ対向する補助容量電極部12Aで補助容量を形成するように形成されたものであるが、行方向の相隣接する補助容量配線ユニット12どうしは、図1(A)に示すように接続配線部20を介して電気的に接続されている。即ち、同図に示すように、相隣接する補助容量配線ユニット12どうしは、一方の補助容量電極部12Aの先端部と接続配線部20の一端部とがコンタクトホール20Aを介して接続され、この接続配線部20の他端部と、補助容量配線ユニット12の補助容量電極部12Aの基端部と、がコンタクトホール20Bを介して接続されている。図1(B)は、この接続配線部20が形成された部分の断面を示すものであり、補助容量配線ユニット12どうしがゲートライン11を跨いで接続されていることを示している。なお、図1(B)中、接続配線部20は、ソース電極17、ドレイン電極18Aと同一材料膜を一括してパターニングしてなり、また符号21はガラスなどでなる透明基板を示している。
【0016】
図2は、上記した補助容量配線ユニット12と、液晶表示領域の周縁に形成された列方向リング配線22と、の接続構造を示している。同図中、23は、液晶表示領域に存在する画素電極13のうち最も外側に位置する画素電極13の補助容量配線ユニット12とを接続する接続配線部を示している。列方向リング配線22は、ゲートライン11や補助容量配線ユニット12と同一材料膜で同時に形成されたものである。この列方向リング配線22と、最も外側の補助容量配線ユニット12の補助容量電極部12Aの先端部と、は接続配線部23を介して接続されているが、この接続配線部23と補助容量電極部12Aの先端部とは、コンタクトホール23Aを介して接続されている。また、列方向リング配線22と、接続配線部23とは、コンタクトホール23Bを介して接続されている。なお、コンタクトホール23A、23Bは、ゲート絶縁膜14およびシリコン窒化膜15を貫通して形成されている。
【0017】
図3は、上記した補助容量配線ユニット12と、液晶表示領域の周縁に形成された行方向リング配線24と、列方向リング配線22と、の接続構造を示す平面説明図である。なお、図3においては画素電極、ゲートライン、TFTなどを省略して示している。同図に示すように、行方向リング配線24は、列方向リング配線22の端部とコンタクトホール24Aを介して接続されている。これら行方向リング配線24と列方向リング配線22とは、図1(B)に示したゲート絶縁膜14およびシリコン窒化膜15が介在されている。このためコンタクトホール24Aは、これらの膜を貫通して形成されている。なお、行方向リング配線24の端部は、液晶表示領域におけるコーナ部に位置する補助容量配線ユニット12との接続配線部25と一体的に設けられている。また、列方向リング配線24と、それぞれの補助容量配線ユニット12の端部とは、コンタクトホール24Bを介して接続されている。
【0018】
本実施形態は、このような構成としたことにより、補助容量配線ユニット12に対して行方向リング配線24からだけでなく、列方向リング配線22から接続配線部23、20、25を介して電圧印加が行えるため電気抵抗値を下げることができる。これに伴い、補助容量電極部12Aどうしの間での電位差を小さくすることが可能となる。さらに、本実施形態では、補助容量配線ユニット12に断線が発生した場合でも、補助容量配線全体が網目状(または格子状)に形成されているため、断線の悪影響を最小限に抑えることができる。
【0019】
また、本実施形態では、補助容量配線ユニット12の配線部を、TFT19のゲートライン11(ゲート電極部11Aを含む)やソース・ドレイン電極17、18Aをフォトリソグラフィー工程でパターン形成する際に、露光マスクを変えるだけで同時に形成することができるため、工程数を増加させることがない。
【0020】
(実施形態2)
上記した実施形態1は、ストライプ配列の画素配置を有する液晶表示素子に本発明を適用して説明したが、次に、デルタ配列の画素配置を有する液晶表示素子に本発明を適用した実施形態2について説明する。図4は、本実施形態に係る液晶表示素子のTFT基板に形成された画素電極部の平面図である。
【0021】
本実施形態では、同図に示すように、画素電極31がデルタ配列をとり、それぞれの画素電極31の列に沿って、補助容量配線ユニット32が形成されている。この補助容量配線ユニット32は、同図に示すように、画素電極31と斜線で示す領域で対向して補助容量を形成している。なお、補助容量配線ユニット32と画素電極31との間には、上記した実施形態1と同様にゲート絶縁膜およびシリコン窒化膜が介在されている。
【0022】
補助容量配線ユニット32の補助容量電極部32Aは、画素電極31の行方向に延びる一辺に沿って、隣の画素列に向けて延在されている。補助容量電極部32Aの端部は、図4に示すように、画素電極31と対向しないようになっている。そして、補助容量電極部32Aの端部と、隣接する補助容量配線ユニット32とは、接続配線部34で接続されている。この接続配線部34は、上記した実施形態1と同様にTFT33のソース電極35とドレイン電極36Aと同一の材料膜で一括したパターニングで形成されている。そして、この接続配線部34と補助容量電極部32Aの端部とは、コンタクトホール34Aで接続され、接続配線部34と隣接する補助容量配線ユニット32とは、コンタクトホール34Bで接続されている。なお、画素電極31における、この一辺の先端部に位置するコーナ部は、TFT33を配置するために矩形状に切り欠かれている。また、相隣接する画素列では、画素電極31に形成される切り欠きが列方向で逆の方向のコーナに形成されている。なお、図中36はドレインラインであり、画素電極31の間を行方向に向けてジグザグに走っている。
【0023】
本実施形態においても、補助容量配線ユニット32および接続配線部34は、ゲートラインやソース・ドレイン電極などの金属材料を用いて一括パターニングにより同時に形成できるため、製造工程数を増加させることがない。なお、本実施形態では、補助容量配線ユニット32が、画素電極31に対してほぼ二辺に沿って対向するように形成したものであるが、図5に示す変形例のように、三辺に沿って対向するような構造としてもよく、また四辺に沿って対向するような構造としてもよい。
【0024】
(実施形態3)
図6は、本発明の実施形態3を示す平面図である。本実施形態では、補助容量配線ユニットが二列の画素に対して一つの割合で形成されている。即ち、同図に示すように、所定の画素列である画素電極41Aの列と、その画素列に隣接する画素列である画素電極41Bの列と、の間に、補助容量配線ユニット42の主配線部42Aが両側の画素電極41A、41Bの縁部に対向するような幅で形成され、この主配線部42Aより、その両側の各画素電極41A、41Bの行方向の一辺に沿って補助容量電極部42Bがそれぞれ形成されている。そして、相隣接する補助容量配線ユニット42どうしは、図6に示すように、補助容量電極部42Bの先端部どうしが接続配線部43で接続されている。これら相隣接する補助容量配線ユニット42の補助容量電極部42Bどうしと、接続配線部43と、はそれぞれコンタクトホール43Aを介して接続されている。この結果、液晶表示領域全域では、補助容量配線が網目状に形成されている。なお、同図中、44はTFT、45はドレインラインを示している。本実施形態では、補助容量配線ユニット42の数が画素列の数に比べて少なくてよいため、より開口率を大きくすることが可能となる。なお、本実施形態では、画素がストライプ配列の液晶表示素子に本発明を適用したが、画素がデルタ配列の液晶表示素子にも勿論適用することができる。
【0025】
以上、実施形態1〜実施形態3について説明したが、本発明はこれらに限定されるものではなく、構成の要旨に付随する各種の設計変更が可能である。例えば、上記各実施形態では、スイッチング素子として逆スタガ型の薄膜トランジスタを用いて工程数の増加を抑制する構成としたが、スタガ型など他の構造の薄膜トランジスタを用いてもよく、この場合、ソース・ドレイン電極材料膜を用いて補助容量配線ユニットを設け、ゲート電極材料膜を用いて接続配線部を設ける。さらにはMIMなどの他のスイッチング素子を用いても勿論よい。また、上記した各実施形態では、補助容量配線ユニットと画素電極との間にゲート絶縁膜とシリコン窒化膜とが介在された構成としたが、ゲート絶縁膜だけの構成としても勿論よい。
【0026】
【発明の効果】
以上の説明から明らかなように、この発明によれば、液晶表示素子における補助容量配線の断線に伴う悪影響を防止できる。さらに、工程数を増加させることなく製造を容易にできるため歩留まりの良い、液晶表示素子の製造を可能にする効果を有する。
【図面の簡単な説明】
【図1】(A)はこの発明の実施形態1の画素部の平面図、(B)は(A)のX−X断面図、(C)は(A)のW−W断面図。
【図2】実施形態1における補助容量配線ユニットと列方向リング配線との接続構造を示す平面図。
【図3】実施形態1における補助容量配線ユニットと列方向リング配線と行方向リング配線との接続構造を示す平面図。
【図4】この発明の実施形態2の平面図。
【図5】実施形態2の変形例を示す平面図。
【図6】この発明の実施形態3の平面図。
【図7】(A)は従来例の平面図、(B)は(A)のY−Y断面図。
【図8】(A)は従来例の平面図、(B)は(A)のZ−Z断面図。
【符号の説明】
11 ゲートライン
12 補助容量配線ユニット
12A 補助容量電極部
13 画素電極
14 ゲート絶縁膜
18 ドレインライン
19 TFT
20 接続配線部
20A、20B コンタクトホール[0001]
TECHNICAL FIELD OF THE INVENTION
The present invention relates to a liquid crystal display device, and more particularly, to a liquid crystal display device having an auxiliary capacitance for compensating a storage amount of capacitance in a pixel portion.
[0002]
[Prior art]
Conventionally, as this type of liquid crystal display device, one having a structure of a pixel portion as shown in FIG. 7 and a wiring arrangement structure as shown in FIG. 8 is known. In this liquid crystal display element, as shown in FIGS. 7A and 7B, a capacitance is accumulated between the opposing
[0003]
[Problems to be solved by the invention]
However, in the above-described liquid crystal display element, there is a problem that when a disconnection occurs in one
[0004]
An object of the present invention is to take what measures should be taken to obtain a liquid crystal display element with a high yield, which can prevent the adverse effect caused by the disconnection of the auxiliary capacitance wiring.
[0005]
[Means for Solving the Problems]
In the invention according to
The thin film transistor is formed of the same material film as one of a gate electrode and a drain electrode, and each of the first capacitance wiring extends in a column direction of the pixel electrode, and extends in a row direction of the pixel electrode. A plurality of auxiliary capacitance wiring units having a second capacitance wiring connected to the first capacitance wiring;
The auxiliary capacitance wiring unit, which is formed of the same material film as the other of the gate electrode and the drain electrode of the thin film transistor, each extending in the row direction of the pixel electrode and corresponding to the pixel electrode adjacent in the row direction A plurality of connection wiring parts for connecting each other,
A row-direction ring wiring connected to the plurality of auxiliary capacitance wiring units at a periphery of a liquid crystal display area;
A column direction ring wiring connected to the plurality of auxiliary capacitance wiring units at the periphery of a liquid crystal display area and connected to the row direction ring wiring;
It is characterized by having.
[0006]
According to the first aspect of the present invention, since the auxiliary capacitance wiring is connected in a plurality of directions, even if the auxiliary capacitance wiring unit is partially disconnected, the auxiliary capacitance wiring unit is connected to another auxiliary capacitance wiring unit via the connection wiring part. Since the pixel electrodes are connected, the pixel electrodes can have the same potential, so that deterioration of display characteristics can be reduced. Further, since the auxiliary capacitance wiring unit and the connection wiring portion are formed on the same surface as the respective electrodes of the thin film transistor, they can be formed collectively using the same members as those electrodes.
[0007]
The invention according to
[0009]
According to a third aspect of the present invention, the first capacitance line of the auxiliary capacitance line unit is arranged between the two adjacent columns of the pixel electrodes in the column direction via the gate insulating film of the thin film transistor. It is characterized by being extended so as to overlap the pixel electrode. According to the third aspect of the present invention, since the number of auxiliary capacitance wiring units is reduced, the yield in wiring formation can be improved.
[0010]
The invention according to
[0011]
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION
Hereinafter, details of a liquid crystal display device according to the present invention will be described based on embodiments shown in the drawings.
(Embodiment 1)
1 to 3 show a first embodiment of the present invention. 1A is a plan view showing one pixel portion of this embodiment, FIG. 1B is a cross-sectional view taken along line XX of FIG. 1A, and FIG. FIG. 2 is a plan view showing a connection structure between a storage capacitor electrode portion in a pixel portion and a ring wiring in a column direction, and FIG. 3 is a connection structure between a storage capacitor wiring unit and a ring wiring in a row direction and a row direction. FIG. 6 is a plan view showing a connection structure between the ring wiring of FIG.
[0012]
In the present embodiment, a thin film transistor (TFT) is used as a switching element, and the present invention is applied to a liquid crystal display element in which pixels are arranged in stripes. 1 to 3 show the structure on the TFT substrate side of the liquid crystal display element according to the present embodiment. In describing the present embodiment, the configurations of the common electrode substrate facing the TFT substrate, and the liquid crystal and the alignment film interposed in the gap between the TFT substrate and the common electrode substrate are well-known. Description is omitted.
[0013]
First, on the TFT substrate in the liquid crystal display element according to the present embodiment, as shown in FIG. 1A, a plurality of
[0014]
A
[0015]
The above-described auxiliary
[0016]
FIG. 2 shows a connection structure between the above-described auxiliary
[0017]
FIG. 3 is an explanatory plan view showing a connection structure between the above-described auxiliary
[0018]
In the present embodiment, with such a configuration, the voltage of the auxiliary
[0019]
Further, in the present embodiment, the wiring portion of the auxiliary
[0020]
(Embodiment 2)
In the first embodiment described above, the present invention is applied to a liquid crystal display element having a pixel arrangement in a stripe arrangement. Next, a second embodiment in which the present invention is applied to a liquid crystal display element having a pixel arrangement in a delta arrangement. Will be described. FIG. 4 is a plan view of a pixel electrode portion formed on the TFT substrate of the liquid crystal display element according to the present embodiment.
[0021]
In the present embodiment, as shown in the figure, the
[0022]
The auxiliary
[0023]
Also in the present embodiment, since the auxiliary
[0024]
(Embodiment 3)
FIG. 6 is a plan
[0025]
Although the first to third embodiments have been described above, the present invention is not limited to these, and various design changes accompanying the gist of the configuration are possible. For example, in each of the above embodiments, an inverse staggered thin film transistor is used as a switching element to suppress an increase in the number of steps. However, a thin film transistor having another structure such as a staggered type may be used. An auxiliary capacitance wiring unit is provided using a drain electrode material film, and a connection wiring portion is provided using a gate electrode material film. Further, other switching elements such as MIM may be used. In each of the above embodiments, the gate insulating film and the silicon nitride film are interposed between the auxiliary capacitance wiring unit and the pixel electrode. However, it is needless to say that only the gate insulating film may be used.
[0026]
【The invention's effect】
As is apparent from the above description, according to the present invention, it is possible to prevent the adverse effect caused by the disconnection of the auxiliary capacitance wiring in the liquid crystal display element. Further, since the manufacturing can be facilitated without increasing the number of steps, there is an effect that a liquid crystal display element can be manufactured with a good yield.
[Brief description of the drawings]
1A is a plan view of a pixel portion according to
FIG. 2 is a plan view showing a connection structure between an auxiliary capacitance wiring unit and a column-direction ring wiring according to the first embodiment.
FIG. 3 is a plan view showing a connection structure of an auxiliary capacitance wiring unit, a column direction ring wiring, and a row direction ring wiring in the first embodiment.
FIG. 4 is a plan view of a second embodiment of the present invention.
FIG. 5 is a plan view showing a modification of the second embodiment.
FIG. 6 is a plan view of a third embodiment of the present invention.
FIG. 7A is a plan view of a conventional example, and FIG. 7B is a cross-sectional view taken along the line Y-Y of FIG.
8A is a plan view of a conventional example, and FIG. 8B is a sectional view taken along the line Z-Z of FIG. 8A.
[Explanation of symbols]
DESCRIPTION OF
20
Claims (4)
前記薄膜トランジスタのゲート電極或いはドレイン電極の一方と同一材料膜からなり、各々が、前記画素電極の列方向に延在される第1容量配線と、前記画素電極の行方向に延在されるとともに前記第1容量配線に接続される第2容量配線と、を有する複数の補助容量配線ユニットと、
前記薄膜トランジスタのゲート電極或いはドレイン電極の他方と同一材料膜からなり、各々が、前記画素電極の行方向に延在されるとともに前記行方向に隣接された前記画素電極に対応する前記補助容量配線ユニットどうしを接続する複数の接続配線部と、
液晶表示領域の周縁で前記複数の補助容量配線ユニットと接続された行方向リング配線と、
液晶表示領域の周縁で前記複数の補助容量配線ユニットと接続されるとともに前記行方向リング配線と接続された列方向リング配線と、
を備えることを特徴とする液晶表示素子。A liquid crystal is interposed between one substrate provided with a pixel electrode arranged in a column direction and a row direction and a thin film transistor connected to the pixel electrode, and another substrate provided with a common electrode facing the pixel electrode. In the liquid crystal display element interposed,
The thin film transistor is formed of the same material film as one of a gate electrode and a drain electrode, and each of the first capacitance wiring extends in a column direction of the pixel electrode, and extends in a row direction of the pixel electrode. A plurality of auxiliary capacitance wiring units having a second capacitance wiring connected to the first capacitance wiring;
The auxiliary capacitance wiring unit, which is formed of the same material film as the other of the gate electrode and the drain electrode of the thin film transistor, each extending in the row direction of the pixel electrode and corresponding to the pixel electrode adjacent in the row direction A plurality of connection wiring parts for connecting each other,
A row-direction ring wiring connected to the plurality of auxiliary capacitance wiring units at a periphery of a liquid crystal display area;
A column direction ring wiring connected to the plurality of auxiliary capacitance wiring units at the periphery of a liquid crystal display area and connected to the row direction ring wiring;
A liquid crystal display device comprising:
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