JP4884846B2 - Liquid crystal display - Google Patents

Liquid crystal display Download PDF

Info

Publication number
JP4884846B2
JP4884846B2 JP2006151681A JP2006151681A JP4884846B2 JP 4884846 B2 JP4884846 B2 JP 4884846B2 JP 2006151681 A JP2006151681 A JP 2006151681A JP 2006151681 A JP2006151681 A JP 2006151681A JP 4884846 B2 JP4884846 B2 JP 4884846B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
line
signal line
liquid crystal
bus line
crystal display
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Active
Application number
JP2006151681A
Other languages
Japanese (ja)
Other versions
JP2007322640A (en
Inventor
宏明 岩戸
勝美 市原
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Panasonic Liquid Crystal Display Co Ltd
Original Assignee
Panasonic Liquid Crystal Display Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Panasonic Liquid Crystal Display Co Ltd filed Critical Panasonic Liquid Crystal Display Co Ltd
Priority to JP2006151681A priority Critical patent/JP4884846B2/en
Priority to TW096117441A priority patent/TW200813540A/en
Priority to US11/752,323 priority patent/US7800727B2/en
Priority to KR1020070052659A priority patent/KR100841999B1/en
Priority to CN2007101054390A priority patent/CN101082706B/en
Publication of JP2007322640A publication Critical patent/JP2007322640A/en
Application granted granted Critical
Publication of JP4884846B2 publication Critical patent/JP4884846B2/en
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Images

Classifications

    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02FOPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F1/00Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
    • G02F1/01Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
    • G02F1/13Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
    • G02F1/133Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
    • G02F1/1333Constructional arrangements; Manufacturing methods
    • G02F1/1345Conductors connecting electrodes to cell terminals
    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02FOPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F1/00Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
    • G02F1/01Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
    • G02F1/13Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
    • G02F1/1306Details
    • G02F1/1309Repairing; Testing
    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02FOPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F1/00Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
    • G02F1/01Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
    • G02F1/13Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
    • G02F1/133Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
    • G02F1/1333Constructional arrangements; Manufacturing methods
    • G02F1/1343Electrodes

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Nonlinear Science (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • Mathematical Physics (AREA)
  • Liquid Crystal (AREA)
  • Devices For Indicating Variable Information By Combining Individual Elements (AREA)

Description

本発明は、液晶表示装置に関し、特に、表示領域の外側にバスラインが設けられた液晶表示装置に適用して有効な技術に関するものである。   The present invention relates to a liquid crystal display device, and more particularly to a technique effective when applied to a liquid crystal display device in which a bus line is provided outside a display region.

従来、液晶表示装置は、テレビ、パーソナル・コンピュータ(PC)向けのディスプレイ、携帯電話端末や携帯情報端末(PDA)などのディスプレイなどに幅広く用いられている。   Conventionally, liquid crystal display devices are widely used for televisions, displays for personal computers (PCs), displays for mobile phone terminals and personal digital assistants (PDAs), and the like.

前記液晶表示装置は、一対の基板の間に液晶材料を封入した液晶表示パネルを有する表示装置である。このとき、前記一対の基板のうちの一方の基板は、たとえば、複数本の走査信号線と、絶縁層を介して前記複数本の走査信号線と立体的に交差する映像信号線と、2本の隣接する走査信号線および2本の隣接する映像信号線で囲まれた画素領域に対して配置されるTFT素子および画素電極を有する。前記TFT素子および前記画素電極を有する基板は、一般に、TFT基板と呼ばれる。   The liquid crystal display device is a display device having a liquid crystal display panel in which a liquid crystal material is sealed between a pair of substrates. At this time, one of the pair of substrates includes, for example, a plurality of scanning signal lines, a video signal line sterically intersecting with the plurality of scanning signal lines via an insulating layer, and two lines. TFT elements and pixel electrodes arranged for a pixel region surrounded by adjacent scanning signal lines and two adjacent video signal lines. The substrate having the TFT element and the pixel electrode is generally called a TFT substrate.

また、前記TFT基板には、たとえば、複数の前記画素領域で構成される表示領域の外側にバスラインと呼ばれる導電層が設けられていることがある(たとえば、特許文献1を参照)。   In addition, the TFT substrate may be provided with a conductive layer called a bus line outside a display area constituted by a plurality of the pixel areas (see, for example, Patent Document 1).

前記液晶表示パネルが、たとえば、IPS(In−Plane Switching)方式のような横電界駆動方式のものである場合、前記TFT基板には対向電極(共通電極とも呼ばれる)も設けられている。このとき、前記TFT基板は、表示領域の外側に前記対向電極と電気的に接続されているバスラインを有する。   When the liquid crystal display panel is of a lateral electric field driving method such as an IPS (In-Plane Switching) method, a counter electrode (also called a common electrode) is also provided on the TFT substrate. At this time, the TFT substrate has a bus line that is electrically connected to the counter electrode outside the display region.

また、前記液晶表示パネルが、たとえば、TN方式やVA方式のような縦電界駆動方式のものである場合、TFT基板に保持容量(蓄積容量とも呼ばれる)を形成するための保持容量線が設けられていることがある。このとき、前記TFT基板は、表示領域の外側に前記保持容量線と電気的に接続されているバスラインを有する。
特開2003−156763号公報
In addition, when the liquid crystal display panel is of a vertical electric field drive system such as a TN system or a VA system, a storage capacitor line for forming a storage capacitor (also referred to as a storage capacitor) is provided on the TFT substrate. May have. At this time, the TFT substrate has a bus line that is electrically connected to the storage capacitor line outside the display region.
JP 2003-156663 A

TFT基板の表示領域の外側にバスラインを設ける場合、表示領域を囲むように環状に設けるのが一般的である。そのため、前記走査信号線や前記映像信号線は、表示領域の外側において、バスラインと立体的に交差する。   When a bus line is provided outside the display area of the TFT substrate, it is generally provided in an annular shape so as to surround the display area. Therefore, the scanning signal line and the video signal line three-dimensionally intersect with the bus line outside the display area.

このとき、各信号線とバスラインが交差する交差領域には、たとえば、窒化シリコン(SiN)膜などの絶縁層と、TFT素子のチャネル層と同時に形成した半導体層を介在させて、各信号線とバスラインの短絡を防いでいる。   At this time, in each crossing region where each signal line intersects with the bus line, for example, an insulating layer such as a silicon nitride (SiN) film and a semiconductor layer formed simultaneously with the channel layer of the TFT element are interposed. And prevents short circuit of the bus line.

しかしながら、前記絶縁層や前記半導体層を形成する工程において欠陥が生じ、たとえば、ある映像信号線とバスラインが短絡してしまうことがある。   However, defects may occur in the process of forming the insulating layer and the semiconductor layer, and for example, a certain video signal line and a bus line may be short-circuited.

従来のTFT基板においてバスラインを設ける場合、そのバスラインの幅は、走査信号線や映像信号線の幅に比べて非常に広い。そのため、たとえば、ある映像信号線とバスラインが短絡した場合、その修復(リペア)は非常に困難であるという問題があった。また、その結果として、TFT基板の製造歩留まりが低下するという問題があった。   When a bus line is provided on a conventional TFT substrate, the width of the bus line is much wider than the width of a scanning signal line or a video signal line. Therefore, for example, when a certain video signal line and a bus line are short-circuited, there is a problem that the repair (repair) is very difficult. As a result, there is a problem that the manufacturing yield of the TFT substrate decreases.

本発明の目的は、表示領域の外側に、走査信号線や映像信号線と絶縁層を介して立体的に交差するバスラインが設けられた基板において、各信号線とバスラインが短絡したときの修復を容易にすることが可能な技術を提供することにある。   An object of the present invention is that when each signal line and the bus line are short-circuited on a substrate provided with a bus line that three-dimensionally intersects with a scanning signal line or a video signal line via an insulating layer outside the display area. The object is to provide a technique capable of facilitating the repair.

本発明の他の目的は、表示領域の外側に、走査信号線や映像信号線と絶縁層を介して立体的に交差するバスラインが設けられた基板の製造歩留まりを向上させることが可能な技術を提供することにある。   Another object of the present invention is a technique capable of improving the manufacturing yield of a substrate provided with bus lines that three-dimensionally intersect with scanning signal lines and video signal lines via an insulating layer outside the display area. Is to provide.

本発明の前記ならびにその他の目的と新規な特徴は、本明細書の記述および添付図面によって明らかになるであろう。   The above and other objects and novel features of the present invention will be apparent from the description of this specification and the accompanying drawings.

本願において開示される発明のうち、代表的なものの概略を説明すれば、以下の通りである。   The outline of typical inventions among the inventions disclosed in the present application will be described as follows.

(1)一対の基板の間に液晶材料が封入された液晶表示パネルを有する液晶表示装置であって、前記一対の基板のうちの一方の基板は、複数本の走査信号線と、絶縁層を介して前記複数本の走査信号線と立体的に交差する映像信号線と、絶縁層を介して前記走査信号線或いは前記映像信号線と立体的に交差する共通信号線を有し、表示領域の外側に配置され、かつ、前記共通信号線に電気信号を供給するバスラインを有し、前記走査信号線または前記映像信号線は、絶縁層を介して前記バスラインと立体的に交差する交差領域を形成し、前記バスラインは、平面でみて前記交差領域以外の領域に複数の開口部を有し、前記開口部によって前記バスラインが複数に分岐され、前記各交差領域の間に、前記走査信号線あるいは前記映像信号線と重複しない位置であり且つ前記バスラインと重畳する位置に、絶縁層を介して導電膜が形成され、当該導電膜は、前記絶縁膜に形成された複数のスルーホールを介して分岐された複数の前記バスラインと電気的に接続される液晶表示装置。 (1) A liquid crystal display device having a liquid crystal display panel in which a liquid crystal material is sealed between a pair of substrates, wherein one of the pair of substrates includes a plurality of scanning signal lines and an insulating layer. A video signal line that three-dimensionally intersects with the plurality of scanning signal lines, and a common signal line that three-dimensionally intersects the scanning signal line or the video signal line via an insulating layer. An intersection region that is disposed outside and has a bus line that supplies an electric signal to the common signal line, and the scanning signal line or the video signal line intersects the bus line in three dimensions through an insulating layer The bus line has a plurality of openings in a region other than the intersecting region when viewed in plan, and the bus line is branched into a plurality by the opening, and the scanning is performed between the intersecting regions. Signal line or video signal line A conductive film is formed through an insulating layer at a position that does not overlap and overlaps with the bus line, and the conductive film is divided into a plurality of the branched through a plurality of through holes formed in the insulating film. A liquid crystal display device electrically connected to the bus line .

(2)前記(1)の液晶表示装置において、前記開口部は、矩形状である液晶表示装置。 (2) The liquid crystal display device according to (1), wherein the opening has a rectangular shape .

(3)前記(1)の液晶表示装置において、前記開口部間のバスラインの線幅のうちの、前記スルーホールが形成されている部分の線幅は、他の部分の線幅よりも太い液晶表示装置。 (3) In the liquid crystal display device according to (1 ), the line width of the portion where the through hole is formed out of the line width of the bus line between the openings is thicker than the line width of the other portion. Liquid crystal display device.

(4)前記(1)の液晶表示装置において、2本の隣接する前記走査信号線および2本の隣接する前記映像信号線で定義される画素領域のそれぞれは、TFT素子、画素電極、および対向電極を有し、前記対向電極は、前記走査信号線および前記映像信号線とともに前記一方の基板に形成されており、前記導電膜は、前記対向電極に電気的に接続されている液晶表示装置。 (4) In the liquid crystal display device of (1 ) , each of the pixel regions defined by the two adjacent scanning signal lines and the two adjacent video signal lines includes a TFT element, a pixel electrode, and a counter electrode A liquid crystal display device having electrodes, wherein the counter electrode is formed on the one substrate together with the scanning signal line and the video signal line, and the conductive film is electrically connected to the counter electrode .

(5)前記(1)の液晶表示装置において、2本の隣接する前記走査信号線および2本の隣接する前記映像信号線で定義される画素領域のそれぞれは、TFT素子、画素電極、および対向電極を有し、前記対向電極は、前記一対の基板のうちの前記走査信号線および前記映像信号線を有する前記一方の基板とは異なる基板に形成されており、前記一方の基板は、保持容量線を有し、前記導電膜は、前記保持容量線に電気的に接続されている液晶表示装置。 (5) In the liquid crystal display device according to (1 ) , each of the pixel regions defined by two adjacent scanning signal lines and two adjacent video signal lines includes a TFT element, a pixel electrode, and a counter electrode The counter electrode is formed on a substrate different from the one substrate having the scanning signal line and the video signal line in the pair of substrates, and the one substrate has a storage capacitor A liquid crystal display device having a line, wherein the conductive film is electrically connected to the storage capacitor line .

本発明の液晶表示装置は、液晶表示パネルの一対の基板のうちの一方の基板に、バスラインと、絶縁層を介して前記バスラインと立体的に交差する複数本の信号線が設けられていることを前提とする。そして、前記バスラインは、平面でみて前記信号線と重なる交差領域の外側に開口部を有し、その開口部は、各交差領域の両側に設けられていることを特徴とする。このようにすると、バスラインの幅(両端の距離)が広くても、開口部を設けた部分は、その開口部の幅の分だけ幅が狭くなる。そのため、たとえば、ある映像信号線とバスラインが短絡した場合、その映像信号線の交差領域の両側でバスラインを容易に切断でき、容易に修復することができる。   In the liquid crystal display device of the present invention, one of the pair of substrates of the liquid crystal display panel is provided with a bus line and a plurality of signal lines that three-dimensionally intersect the bus line via an insulating layer. It is assumed that The bus line has an opening on the outside of the intersecting region that overlaps with the signal line when viewed in plan, and the opening is provided on both sides of each intersecting region. In this way, even if the width of the bus line (distance between both ends) is wide, the portion provided with the opening is narrowed by the width of the opening. Therefore, for example, when a video signal line and a bus line are short-circuited, the bus line can be easily cut off on both sides of the intersection region of the video signal line, and can be easily repaired.

このとき、バスラインの開口部は、たとえば、2つの隣接する前記交差領域で挟まれた領域に、該交差領域における前記信号線の延在方向に、2つ以上の開口部を並べて配置すれば、バスラインの電気的な特性を維持しながらバスラインを切断しやすくすることができる。   At this time, for example, the opening of the bus line may be formed by arranging two or more openings in a region sandwiched between two adjacent intersecting regions in the extending direction of the signal line in the intersecting region. The bus line can be easily cut while maintaining the electrical characteristics of the bus line.

なお、前記バスラインの、2つの隣接する前記交差領域で挟まれた領域に、前記信号線の延在方向に2つ以上の開口部を並べる場合、一方の交差領域の近傍から他方の交差領域の近傍まで延びる開口部を並べてもよいし、一方の交差領域の近傍に複数個の開口部を並べ、他方の交差領域の近傍に別の複数個の開口部を並べてもよい。   When arranging two or more openings in the extending direction of the signal line in a region sandwiched between two adjacent intersecting regions of the bus line, the vicinity of one intersecting region to the other intersecting region An opening extending to the vicinity of the crossing area may be arranged, a plurality of opening parts may be arranged in the vicinity of one crossing area, and a plurality of opening parts may be arranged in the vicinity of the other crossing area.

また、前記バスラインを有する基板は、平面でみて前記バスラインと重なる領域に、絶縁層を介して設けられた第2の導電層を有し、前記バスラインと前記第2の導電層とがスルーホールで電気的に接続されていてもよい。   Further, the substrate having the bus line has a second conductive layer provided via an insulating layer in a region overlapping the bus line as viewed in plan, and the bus line and the second conductive layer are It may be electrically connected through a through hole.

また、本発明は、たとえば、IPS方式の液晶表示パネルに適用される。このとき、前記バスラインを有する基板は、複数本の走査信号線と、絶縁層を介して前記複数本の走査信号線と立体的に交差する映像信号線と、2本の隣接する走査信号線および2本の隣接する映像信号線で囲まれた領域に対して配置されるTFT素子および画素電極と、対向電極とを有し、前記第1の導電層は、前記対向電極である。   The present invention is applied to, for example, an IPS liquid crystal display panel. At this time, the substrate having the bus line includes a plurality of scanning signal lines, a video signal line three-dimensionally intersecting with the plurality of scanning signal lines through an insulating layer, and two adjacent scanning signal lines. And a TFT element and a pixel electrode arranged for a region surrounded by two adjacent video signal lines, and a counter electrode, and the first conductive layer is the counter electrode.

以下、本発明について、図面を参照して実施の形態(実施例)とともに詳細に説明する。
なお、実施例を説明するための全図において、同一機能を有するものは、同一符号を付け、その繰り返しの説明は省略する。
Hereinafter, the present invention will be described in detail together with embodiments (examples) with reference to the drawings.
In all the drawings for explaining the embodiments, parts having the same function are given the same reference numerals and their repeated explanation is omitted.

図1および図2は、本発明による一実施例の液晶表示パネルの概略構成を示す模式図である。
図1は、液晶表示パネルを観察者側からみた模式平面図である。図2は、図1のA−A’線における模式断面図である。
1 and 2 are schematic views showing a schematic configuration of a liquid crystal display panel according to an embodiment of the present invention.
FIG. 1 is a schematic plan view of a liquid crystal display panel as viewed from the observer side. FIG. 2 is a schematic cross-sectional view taken along line AA ′ of FIG.

本発明は、表示領域の外側にバスラインが設けられており、かつ、複数本の信号線が、絶縁層を介して前記バスラインと立体的に交差している基板を有する表示パネルを備える表示装置に関するものである。このような表示パネルの1つとして、液晶表示パネルがある。本実施例では、IPS方式のような横電界駆動方式の液晶表示パネルを例に挙げ、本発明を適用した場合の構成および作用効果について説明する。   According to the present invention, there is provided a display including a display panel having a bus line provided outside the display area and having a substrate in which a plurality of signal lines three-dimensionally intersect the bus line through an insulating layer. It relates to the device. One such display panel is a liquid crystal display panel. In this embodiment, a horizontal electric field drive type liquid crystal display panel such as the IPS mode is taken as an example, and a configuration and an operation effect when the present invention is applied will be described.

液晶表示パネルは、たとえば、図1および図2に示すように、一対の基板1,2の間に液晶材料3を封入した表示パネルである。このとき、一対の基板1,2は、表示領域DAの外側に環状に配置されたシール材4で接着されており、液晶材料3は、一対の基板1,2およびシール材4で囲まれた空間に封入されている。   For example, as shown in FIGS. 1 and 2, the liquid crystal display panel is a display panel in which a liquid crystal material 3 is sealed between a pair of substrates 1 and 2. At this time, the pair of substrates 1 and 2 are bonded to each other with a sealing material 4 arranged in an annular shape outside the display area DA, and the liquid crystal material 3 is surrounded by the pair of substrates 1 and 2 and the sealing material 4. Enclosed in space.

一対の基板1,2のうち、観察者側からみた外形寸法が大きい方の基板1は、一般に、TFT基板と呼ばれる。図1および図2では省略しているが、TFT基板1は、ガラス基板などの透明な基板の表面の上に、複数本の走査信号線と、絶縁層を介して前記複数本の走査信号線と立体的に交差する複数本の映像信号線が形成されている。そして、2本の隣接する走査信号線と2本の隣接する映像信号線で囲まれた領域が1つの画素領域に相当し、各画素領域に対してTFT素子や画素電極などが配置されている。また、TFT基板1と対をなす他方の基板2は、一般に、対向基板と呼ばれる。   Of the pair of substrates 1 and 2, the substrate 1 having a larger outer dimension as viewed from the observer side is generally called a TFT substrate. Although omitted in FIGS. 1 and 2, the TFT substrate 1 has a plurality of scanning signal lines on a surface of a transparent substrate such as a glass substrate and the plurality of scanning signal lines via an insulating layer. A plurality of video signal lines intersecting three-dimensionally are formed. A region surrounded by two adjacent scanning signal lines and two adjacent video signal lines corresponds to one pixel region, and a TFT element, a pixel electrode, or the like is arranged in each pixel region. . The other substrate 2 that forms a pair with the TFT substrate 1 is generally called a counter substrate.

また、前記液晶表示パネルが、たとえば、IPS方式のような横電界駆動方式の場合、TFT基板1の画素電極と対向する対向電極(共通電極とも呼ばれる)は、TFT基板1に設けられる。このとき、対向電極は、たとえば、表示領域DAの外側に環状に設けられたコモンバスライン(図示しない)に接続されている。   Further, when the liquid crystal display panel is a lateral electric field driving method such as an IPS method, a counter electrode (also referred to as a common electrode) facing the pixel electrode of the TFT substrate 1 is provided on the TFT substrate 1. At this time, the counter electrode is connected to, for example, a common bus line (not shown) provided in a ring shape outside the display area DA.

次に、横電界駆動方式の液晶表示パネルにおける表示領域DAの1画素の構成例について、図3乃至図5を参照して簡単に説明する。   Next, a configuration example of one pixel in the display area DA in the horizontal electric field drive type liquid crystal display panel will be briefly described with reference to FIGS.

図3は、本実施例の液晶表示パネルのTFT基板における1画素の構成例を示す模式平面図である。図4は、図3のB−B'線における模式断面図である。図5は、図3のC−C'線における模式断面図である。   FIG. 3 is a schematic plan view showing a configuration example of one pixel in the TFT substrate of the liquid crystal display panel of this embodiment. 4 is a schematic cross-sectional view taken along line BB ′ of FIG. FIG. 5 is a schematic cross-sectional view taken along the line CC ′ of FIG.

横電界駆動方式の液晶表示パネルの場合、画素電極および対向電極(共通電極)は、TFT基板1側に設けられる。このとき、TFT基板1は、たとえば、図3乃至図5に示すように、ガラス基板SUBの表面に、x方向に延在する複数本の走査信号線GLが設けられており、走査信号線GLの上には、第1の絶縁層PAS1を介してy方向に延在し、複数本の走査信号線GLと立体的に交差する複数本の映像信号線DLが設けられている。そして、2本の隣接する走査信号線GLと2本の隣接する映像信号線DLによって囲まれた領域が1つの画素領域に相当する。   In the case of a horizontal electric field drive type liquid crystal display panel, the pixel electrode and the counter electrode (common electrode) are provided on the TFT substrate 1 side. At this time, the TFT substrate 1 is provided with a plurality of scanning signal lines GL extending in the x direction on the surface of the glass substrate SUB as shown in FIGS. 3 to 5, for example. There are provided a plurality of video signal lines DL extending in the y direction via the first insulating layer PAS1 and three-dimensionally intersecting with the plurality of scanning signal lines GL. A region surrounded by two adjacent scanning signal lines GL and two adjacent video signal lines DL corresponds to one pixel region.

また、ガラス基板SUBの表面には、たとえば、画素領域毎に、平板状の対向電極CTが設けられている。このとき、走査信号線GLの延在方向(x方向)に並んだ各画素領域の対向電極CTは、走査信号線GLと並行した共通信号線CLによって電気的に接続されている。またこのとき、各共通信号線CLは、表示領域DAの外側において、コモンバスラインに電気的に接続されている。また、走査信号線GLからみて、共通信号線CLが設けられている方向と反対側には、対向電極CTと電気的に接続されている共通接続パッドCPが設けられている。   Further, on the surface of the glass substrate SUB, for example, a flat counter electrode CT is provided for each pixel region. At this time, the counter electrode CT of each pixel region arranged in the extending direction (x direction) of the scanning signal line GL is electrically connected by a common signal line CL parallel to the scanning signal line GL. At this time, each common signal line CL is electrically connected to the common bus line outside the display area DA. A common connection pad CP electrically connected to the counter electrode CT is provided on the side opposite to the direction in which the common signal line CL is provided when viewed from the scanning signal line GL.

また、第1の絶縁層PAS1の上には、映像信号線DLの他に、半導体層、ドレイン電極SD1、およびソース電極SD2が設けられている。このとき、半導体層は、たとえば、アモルファスシリコン(a−Si)を用いて形成されており、各画素領域に対して配置されるTFT素子のチャネル層SCとしての機能を持つものの他に、たとえば、走査信号線GLと映像信号線DLが立体的に交差する領域における走査信号線GLと映像信号線DLの短絡を防ぐもの(図示しない)がある。このとき、TFT素子のチャネル層SCとしての機能を持つ半導体層は、映像信号線DLに接続しているドレイン電極SD1とソース電極SD2の両方が接続されている。   In addition to the video signal line DL, a semiconductor layer, a drain electrode SD1, and a source electrode SD2 are provided on the first insulating layer PAS1. At this time, the semiconductor layer is formed using, for example, amorphous silicon (a-Si), and has a function as the channel layer SC of the TFT element disposed for each pixel region. There is one (not shown) that prevents a short circuit between the scanning signal line GL and the video signal line DL in a region where the scanning signal line GL and the video signal line DL intersect three-dimensionally. At this time, in the semiconductor layer having a function as the channel layer SC of the TFT element, both the drain electrode SD1 and the source electrode SD2 connected to the video signal line DL are connected.

また、映像信号線DLなどが形成された面(層)の上には、第2の絶縁層PAS2を介して画素電極PXが設けられている。画素電極PXは、画素領域毎に独立した電極であり、第2の絶縁層PASに設けられた開口部(スルーホール)TH1においてソース電極SD2と電気的に接続されている。また、対向電極CTと画素電極PXが、図3乃至図5に示したように、第1の絶縁層PAS1および第2の絶縁層PAS2を介して積層配置されている場合、画素電極PXは、スリットSLが設けられたくし歯形状の電極になっている。   On the surface (layer) on which the video signal line DL and the like are formed, the pixel electrode PX is provided via the second insulating layer PAS2. The pixel electrode PX is an independent electrode for each pixel region, and is electrically connected to the source electrode SD2 in an opening (through hole) TH1 provided in the second insulating layer PAS. Further, when the counter electrode CT and the pixel electrode PX are stacked via the first insulating layer PAS1 and the second insulating layer PAS2 as shown in FIGS. 3 to 5, the pixel electrode PX It is a comb-shaped electrode provided with a slit SL.

また、第2の絶縁層PAS2の上には、画素電極PXの他に、たとえば、走査信号線GLを挟んで上下に配置された2つの対向電極CTを電気的に接続するためのブリッジ配線BRが設けられている。このとき、ブリッジ配線BRは、走査信号線GLを挟んで配置された共通信号線CLおよび共通接続パッドCPとスルーホールTH2,TH3によって接続される。   Further, on the second insulating layer PAS2, in addition to the pixel electrode PX, for example, a bridge wiring BR for electrically connecting two counter electrodes CT arranged above and below the scanning signal line GL. Is provided. At this time, the bridge wiring BR is connected to the common signal line CL and the common connection pad CP arranged across the scanning signal line GL by the through holes TH2 and TH3.

また、第2の絶縁層PAS2の上には、画素電極PXおよびブリッジ配線BRを覆うように配向膜ORIが設けられている。なお、図示は省略するが、対向基板2は、TFT基板1の配向膜ORIが設けられた面に対向するように配置される。   An alignment film ORI is provided on the second insulating layer PAS2 so as to cover the pixel electrode PX and the bridge wiring BR. Although not shown, the counter substrate 2 is disposed so as to face the surface of the TFT substrate 1 on which the alignment film ORI is provided.

以下、1画素の構成が、図3乃至図5に示したような構成である液晶表示パネル(TFT基板)に本発明を適用した場合の構成および作用効果を説明する。   Hereinafter, a configuration and an operation effect when the present invention is applied to a liquid crystal display panel (TFT substrate) having a configuration of one pixel as shown in FIGS. 3 to 5 will be described.

図6は、図1の領域AR1におけるTFT基板の一構成例を示す模式平面図である。図7は、図6のD−D’線における模式断面図である。図8は、図6のE−E’線における模式断面図である。   FIG. 6 is a schematic plan view showing a configuration example of the TFT substrate in the area AR1 of FIG. FIG. 7 is a schematic cross-sectional view taken along the line D-D ′ of FIG. 6. FIG. 8 is a schematic cross-sectional view taken along line E-E ′ of FIG. 6.

本実施例の液晶表示パネルにおいて、図1に示した領域AR1のTFT基板1の構成は、たとえば、図6乃至図8に示すようになっている。図6の平面図において、走査信号線GLは、複数本の走査信号線のうちの最外側に配置された信号線であり、表示領域DAの外周に相当する。そして、表示領域DAから見て走査信号線GLの外側には、共通信号線CLなどを介して対向電極CTに接続されるコモンバスライン5が設けられている。 In the liquid crystal display panel of this embodiment, the configuration of the TFT substrate 1 in the region AR1 shown in FIG. 1 is as shown in FIGS. 6 to 8, for example. In the plan view of FIG. 6, the scanning signal lines GL 1 is a signal line disposed on the outermost side among the plurality of scanning signal lines, corresponding to the periphery of the display area DA. And, on the outside of the scanning signal lines GL 1 as viewed from the display area DA, the common bus line 5 connected to the counter electrode CT is provided via a common signal line CL.

このとき、コモンバスライン5は、たとえば、走査信号線GLと同時に形成される。そのため、コモンバスライン5は、たとえば、図6および図7に示すように、複数本の映像信号線と立体的に交差している。このとき、コモンバスライン5と映像信号線DLが立体的に交差する交差領域には第1の絶縁層PAS1および半導体層6が介在している。またこのとき、コモンバスライン5と映像信号線DLの交差領域において、コモンバスライン5は、一方の端5aから他方の端5bまで欠けることなく延在している。   At this time, the common bus line 5 is formed simultaneously with the scanning signal line GL, for example. Therefore, the common bus line 5 intersects a plurality of video signal lines in a three-dimensional manner, for example, as shown in FIGS. At this time, the first insulating layer PAS1 and the semiconductor layer 6 are interposed in an intersecting region where the common bus line 5 and the video signal line DL intersect three-dimensionally. At this time, in the intersection region of the common bus line 5 and the video signal line DL, the common bus line 5 extends from one end 5a to the other end 5b without being missing.

また、コモンバスライン5は、たとえば、図6および図8に示すように、映像信号線DLとの交差領域の外側に、開口部5cを有する。この開口部5cは、たとえば、図6に示したように、コモンバスライン5の、2つの隣接する交差領域に挟まれた領域毎に、映像信号線DLの延在方向に2つの開口部5cを並べて設ける。   Moreover, the common bus line 5 has an opening 5c outside the intersection region with the video signal line DL as shown in FIGS. 6 and 8, for example. For example, as illustrated in FIG. 6, the opening 5 c includes two openings 5 c in the extending direction of the video signal line DL for each region sandwiched between two adjacent intersecting regions of the common bus line 5. Are provided side by side.

またこのとき、コモンバスライン5の、2つの隣接する交差領域に挟まれた領域には、たとえば、第1の絶縁層PAS1および第2の絶縁層PAS2を介して導電層7が設けられている。そして、導電層7は、第1の絶縁層PAS1および第2の絶縁層PAS2を開口して形成されたスルーホールTH4においてコモンバスラインに接続されている。また、導電層7のうちのいくつかは、走査信号線GLをまたいで画素領域にある共通接続パッドCP電気的に接続されている。この導電層7は、たとえば、画素電極PXと同時に形成される
At this time, the conductive layer 7 is provided, for example, via a first insulating layer PAS1 and a second insulating layer PAS2 in a region sandwiched between two adjacent intersecting regions of the common bus line 5. . The conductive layer 7 is connected to a common bus line in a through hole TH4 formed by opening the first insulating layer PAS1 and the second insulating layer PAS2. Also, some of the conductive layer 7 is electrically connected to the common connection pad CP in the pixel region across the scanning signal lines GL 1. The conductive layer 7 is formed simultaneously with the pixel electrode PX, for example .

図9は、本実施例のTFT基板の作用効果を説明するための模式平面図である。   FIG. 9 is a schematic plan view for explaining the function and effect of the TFT substrate of this embodiment.

本実施例のTFT基板のように、表示領域DAの外側にコモンバスライン5が設けられており、コモンバスライン5と映像信号線DLが立体的に交差する場合、その交差領域には、図6乃至図8に示したように、第1の絶縁層PAS1および半導体層6が介在している。また、コモンバスライン5と映像信号線DLが交差する領域では、コモンバスライン5は、一方の端5aから他方の端5bまで欠けることなく延在しており、ほぼ平坦な面の上で映像信号線DLが交差している。そのため、通常は、映像信号線DLがコモンバスライン5と接触して短絡することはない。   As in the TFT substrate of this embodiment, the common bus line 5 is provided outside the display area DA, and when the common bus line 5 and the video signal line DL intersect three-dimensionally, As shown in FIGS. 6 to 8, the first insulating layer PAS1 and the semiconductor layer 6 are interposed. Further, in the region where the common bus line 5 and the video signal line DL intersect, the common bus line 5 extends from one end 5a to the other end 5b without being chipped, and the video is displayed on a substantially flat surface. The signal lines DL intersect. Therefore, normally, the video signal line DL does not come into contact with the common bus line 5 and is short-circuited.

しかしながら、第1の絶縁層PAS1や半導体層6を形成する工程において、成膜時の膜厚異常やパターニング時のエッチング不良などによって、映像信号線DLがコモンバスライン5と接触して短絡することがある。そして、従来の開口部5cがないコモンバスラインの場合、その幅が広いので、たとえば、コモンバスラインを切断して短絡した部分を分離することが困難であった。   However, in the process of forming the first insulating layer PAS1 and the semiconductor layer 6, the video signal line DL is brought into contact with the common bus line 5 and short-circuited due to an abnormal film thickness at the time of film formation or an etching failure at the time of patterning. There is. And in the case of the common bus line without the conventional opening part 5c, since the width | variety is wide, it was difficult to isolate | separate the part which cut | disconnected the common bus line, for example.

一方、本実施例のTFT基板において、コモンバスライン5は、たとえば、図6に示した映像信号線DLの両側で、開口部5cにより、映像信号線DLの延在方向に沿って3つに分離されており、それぞれの幅は、たとえば、走査信号線GLの幅とほぼ等しい。そのため、たとえば、映像信号線DLがコモンバスライン5と短絡した場合は、図9に示すように、映像信号線DLの両側にある、開口部5cにより分離されて幅が細くなっている箇所を切断することで、コモンバスライン5の短絡した部分を容易に切り離すことができる。コモンバスライン5を切断するときには、たとえば、レーザーを照射すればよい。 On the other hand, in the TFT substrate of this embodiment, the common bus line 5, for example, on both sides of the video signal line DL n shown in FIG. 6, the opening 5c, along the extending direction of the video signal line DL n 3 One has been separated, each of width, for example, approximately equal to the width of the scanning signal lines GL 1. Therefore, for example, if the video signal line DL n is shorted to the common bus line 5, as shown in FIG. 9, on both sides of the video signal line DL n, width separated are thinner by an opening 5c By cutting the location, the shorted portion of the common bus line 5 can be easily separated. When the common bus line 5 is cut, for example, a laser may be irradiated.

またこのとき、コモンバスライン5は、表示領域DAを囲むように環状に設けられているので、図9において、映像信号線DLの右側にあるコモンバスライン5と、左側にあるコモンバスライン5は、電気的に接続された状態になっている。 At this time, the common bus line 5, since provided annularly so as to surround the display area DA, in FIG. 9, the common bus line 5 on the right side of the video signal line DL n, the common bus line on the left 5 is in an electrically connected state.

このように、本実施例のTFT基板1によれば、表示領域DAの外側に設けられたコモンバスライン5と映像信号線DLが短絡したときに、コモンバスライン5の短絡した部分のみを容易に分離することができる。そのため、コモンバスライン5と映像信号線DLの短絡不良の修復が容易になる。また、その結果、TFT基板1(液晶表示パネル)の製造歩留まりが向上する。   As described above, according to the TFT substrate 1 of the present embodiment, when the common bus line 5 provided outside the display area DA and the video signal line DL are short-circuited, only the short-circuited portion of the common bus line 5 is easily obtained. Can be separated. Therefore, it becomes easy to repair a short circuit failure between the common bus line 5 and the video signal line DL. As a result, the manufacturing yield of the TFT substrate 1 (liquid crystal display panel) is improved.

図10は、本実施例の第1の変形例を説明するための模式平面図である。図11は、本実施例の第2の変形例を説明するための模式平面図である。なお、図10および図11はそれぞれ、図1の領域AR1におけるコモンバスライン5の周辺のみを取り出して示した平面図である。   FIG. 10 is a schematic plan view for explaining a first modification of the present embodiment. FIG. 11 is a schematic plan view for explaining a second modification of the present embodiment. 10 and 11 are plan views showing only the periphery of the common bus line 5 in the area AR1 of FIG.

本実施例では、コモンバスライン5の映像信号線DLと立体的に交差する交差領域の外側に開口部5cを設け、映像信号線DLと短絡した部分を容易に分離できるようにしている。このとき、コモンバスライン5に設ける開口部5cの開口端の平面形状は、図6に示したような矩形状に限らず、種々の形状を適用できることはもちろんである。つまり、開口部5cの開口端の平面形状は、たとえば、図10に示すように、導電層7とコモンバスライン5を接続するスルーホールTH4を形成する領域およびその周辺のみで分離されたコモンバスラインの幅が広くなるような形状であってもよい。この場合、スルーホールTH4を形成する領域の外側では、開口部5cにより分離された各コモンバスラインの幅を狭くすることができるので、短時間で容易に切断することができる。   In the present embodiment, an opening 5c is provided outside the crossing region that three-dimensionally intersects with the video signal line DL of the common bus line 5, so that a portion short-circuited with the video signal line DL can be easily separated. At this time, the planar shape of the opening end of the opening 5c provided in the common bus line 5 is not limited to the rectangular shape as shown in FIG. That is, the planar shape of the opening end of the opening 5c is, for example, as shown in FIG. 10, a common bus separated only in the region where the through hole TH4 connecting the conductive layer 7 and the common bus line 5 is formed and its periphery. The shape may be such that the line width is wide. In this case, since the width of each common bus line separated by the opening 5c can be reduced outside the region where the through hole TH4 is formed, it can be easily cut in a short time.

また、図6および図10に示した例では、2本の隣接する映像信号線DLの間に、一方の映像信号線の近傍から他方の映像信号線の近傍まで延びる開口部5cを、映像信号線の延在方向に2つ並べている。しかしながら、コモンバスライン5の開口部5cは、このような配置に限らず、たとえば、図11に示すように、一方の映像信号線の近傍に2つの開口部5cを並べ、他方の映像信号線の近傍に別の2つの開口部5cを並べてもよいことはもちろんである。このようにすれば、スルーホールTH4において接続される導電層7とコモンバスライン5の接触面積を広くすることができる。   In the example shown in FIGS. 6 and 10, an opening 5c extending from the vicinity of one video signal line to the vicinity of the other video signal line is provided between two adjacent video signal lines DL. Two are arranged in the extending direction of the line. However, the opening 5c of the common bus line 5 is not limited to such an arrangement. For example, as shown in FIG. 11, two openings 5c are arranged in the vicinity of one video signal line, and the other video signal line is arranged. Of course, another two openings 5c may be arranged in the vicinity of. In this way, the contact area between the conductive layer 7 connected to the through hole TH4 and the common bus line 5 can be increased.

なお、本実施例では、コモンバスライン5と映像信号線DLが立体的に交差している領域を挙げているが、これに限らず、コモンバスライン5と走査信号線GLが立体的に交差している領域でも同様のことがいえるのはもちろんである。コモンバスライン5と走査信号線GLが立体的に交差している領域では、コモンバスライン5は、映像信号線DLなどと同時に形成されており、第1の絶縁層PAS1および半導体層6を介して複数本の走査信号線GLが立体的に交差している。そのため、コモンバスライン5と走査信号線GLが立体的に交差している領域についても、コモンバスライン5に、図6、図10、および図11に示したような開口部5cを設けておけば、走査信号線GLとコモンバスライン5が短絡したときに、コモンバスライン5の短絡した部分のみを容易に分離することができる。   In the present embodiment, the region where the common bus line 5 and the video signal line DL intersect three-dimensionally is mentioned, but not limited to this, the common bus line 5 and the scanning signal line GL intersect three-dimensionally. It goes without saying that the same can be said for the areas that are used. In the region where the common bus line 5 and the scanning signal line GL intersect three-dimensionally, the common bus line 5 is formed at the same time as the video signal line DL and the like, and the first insulating layer PAS1 and the semiconductor layer 6 are interposed therebetween. A plurality of scanning signal lines GL intersect three-dimensionally. Therefore, even in a region where the common bus line 5 and the scanning signal line GL intersect three-dimensionally, the common bus line 5 may be provided with an opening 5c as shown in FIGS. For example, when the scanning signal line GL and the common bus line 5 are short-circuited, only the short-circuited portion of the common bus line 5 can be easily separated.

図12および図13は、本実施例のTFT基板の別の作用効果を説明するための模式図である。
図12は、従来のコモンバスラインの形状を説明するための模式平面図である。図13は、本実施例のTFT基板におけるコモンバスラインのより望ましい構成を説明するための模式平面図である。
12 and 13 are schematic views for explaining another function and effect of the TFT substrate of this example.
FIG. 12 is a schematic plan view for explaining the shape of a conventional common bus line. FIG. 13 is a schematic plan view for explaining a more desirable configuration of the common bus line in the TFT substrate of this embodiment.

従来のTFT基板において、表示領域の外側にコモンバスラインを設けるときには、たとえば、図12に示すように、最外側に配置される走査信号線GLの近傍にコモンバスライン5が配置されている。このとき、基板上に成膜した導電膜をエッチングして、複数本の走査信号線GLとコモンバスライン5を同時に形成するのであれば、たとえば、走査信号線GLを形成する領域およびコモンバスライン5を形成する領域のそれぞれにエッチングレジスト(マスク)が形成される。 In the conventional TFT substrate, when the common bus line is provided outside the display region, for example, as shown in FIG. 12, the common bus line 5 is arranged in the vicinity of the scanning signal line GL 1 arranged at the outermost side. . At this time, if the conductive film formed on the substrate is etched to form a plurality of scanning signal lines GL and the common bus line 5 at the same time, for example, the region for forming the scanning signal line GL and the common bus line An etching resist (mask) is formed in each of the regions for forming 5.

しかしながら、図12に示したように、走査信号線GLの近傍に、走査信号線GLに比べて非常に面積が広いコモンバスライン5を形成する場合、走査信号線GLとして残す領域のレジストパターンを形成しにくくなり、走査信号線GLの幅が狭くなってしまうことがあった。 However, as shown in FIG. 12, in the vicinity of the scanning signal lines GL 1, if a very area than the scanning signal lines GL 1 to form a wide common bus line 5, a region to be left as the scanning signal lines GL 1 becomes difficult to form a resist pattern, there is a width of the scanning signal lines GL 1 is narrowed.

一方、本実施例のTFT基板では、コモンバスライン5に、たとえば、図6、図10、図11に示したような開口部を形成するので、コモンバスライン5として残す領域のレジストパターンの面積が、従来のものに比べて狭くなる。すなわち、本実施例のTFT基板1は、走査信号線GLとして残す領域のレジストパターンを形成しやすくし、走査信号線GLの幅が狭くなるのを防ぐという効果も期待できる。 On the other hand, in the TFT substrate of this embodiment, for example, openings as shown in FIGS. 6, 10, and 11 are formed in the common bus line 5. However, it becomes narrower than the conventional one. That, TFT substrate 1 of this embodiment is to easily form a resist pattern of a region to be left as the scanning signal lines GL 1, can be expected the effect of preventing the width of the scanning signal lines GL 1 is narrowed.

また、表示領域DAの外側に設けられるコモンバスライン5のうち、映像信号線DLの、映像信号が入力される端部の近傍に設けられるコモンバスラインには、図12に示すように、コモン入力用のベタパターン5dが設けられている。このベタパターン5dは、TFT基板1の端部まで延在している。このような巨大なベタパターン5dが設けられていると、その近傍では、走査信号線GLとして残す領域のレジストパターンをさらに形成しにくくなり、走査信号線GLの幅がさらに狭くなってしまうことがある。また、本実施例のようにコモンバスライン5に開口部5cを形成する場合、巨大なベタパターン5dの近傍では、レジストパターンに開口部を形成しにくく、開口部5cの開口端の形状にばらつきが生じる可能性がある。 Further, among the common bus lines 5 provided outside the display area DA, the common bus line provided near the end of the video signal line DL to which the video signal is input is common as shown in FIG. An input solid pattern 5d is provided. The solid pattern 5 d extends to the end of the TFT substrate 1. When such a huge solid pattern 5d is provided, in the vicinity thereof, further less likely to form a resist pattern of a region to be left as the scanning signal lines GL 1, the width of the scanning signal lines GL 1 becomes narrower Sometimes. Further, when the opening 5c is formed in the common bus line 5 as in the present embodiment, it is difficult to form the opening in the resist pattern near the huge solid pattern 5d, and the shape of the opening end of the opening 5c varies. May occur.

そこで、本実施例のTFT基板1において、走査信号線GLの幅が狭くなるのを防ぐ効果をより一層高くするには、たとえば、図13に示すように、ベタパターン5dにスリットSLを設けることが望ましい。なお、ベタパターン5dに設けるスリットSLのパターンは、図13に示したようなパターンに限らず、種々のパターンが適用可能であることはもちろんである。   Therefore, in order to further increase the effect of preventing the width of the scanning signal line GL from becoming narrower in the TFT substrate 1 of the present embodiment, for example, as shown in FIG. 13, a slit SL is provided in the solid pattern 5d. Is desirable. Of course, the pattern of the slit SL provided in the solid pattern 5d is not limited to the pattern shown in FIG. 13, and various patterns can be applied.

以上、本発明を、前記実施例に基づき具体的に説明したが、本発明は、前記実施例に限定されるものではなく、その要旨を逸脱しない範囲において、種々変更可能であることはもちろんである。   The present invention has been specifically described above based on the above-described embodiments. However, the present invention is not limited to the above-described embodiments, and various modifications can be made without departing from the scope of the present invention. is there.

たとえば、前記実施例では、1画素の構成が、図3乃至図5に示したような構成の横電界駆動方式の液晶表示パネル(TFT基板1)を例に挙げたが、これに限らず、TN方式やVA方式などの縦電界駆動方式の液晶表示パネルにも、本発明を適用できることはもちろんである。   For example, in the above-described embodiment, the horizontal electric field driving type liquid crystal display panel (TFT substrate 1) having a configuration of one pixel as shown in FIGS. 3 to 5 is taken as an example. Of course, the present invention can also be applied to a vertical electric field drive type liquid crystal display panel such as a TN type or a VA type.

縦電界駆動方式の液晶表示パネルの場合、たとえば、TFT基板1に走査信号線GLと並行した保持容量線が設けられていることがある。このとき、各保持容量線は、たとえば、表示領域DAの外側でコモンバスラインに接続されている。そのため、コモンバスラインは、走査信号線や映像信号線と立体的に交差する。この場合も、コモンバスラインに、たとえば、図6、図10、図11に示したような開口部5cを形成することで、コモンバスラインの、信号線と短絡した部分を容易に分離することができる。   In the case of a vertical electric field drive type liquid crystal display panel, for example, the TFT substrate 1 may be provided with a storage capacitor line parallel to the scanning signal line GL. At this time, each storage capacitor line is connected to the common bus line, for example, outside the display area DA. Therefore, the common bus line three-dimensionally intersects with the scanning signal line and the video signal line. Also in this case, for example, by forming the opening 5c as shown in FIGS. 6, 10, and 11 in the common bus line, the portion of the common bus line that is short-circuited with the signal line can be easily separated. Can do.

また、前記実施例では、液晶表示パネルのTFT基板を例に挙げたが、これに限らず、表示領域の外側にバスラインが設けられており、かつ、複数本の信号線が、絶縁層を介して前記バスラインと立体的に交差している基板を有する表示パネルを備える表示装置であれば、本発明を適用できることはもちろんである。   In the above embodiment, the TFT substrate of the liquid crystal display panel is taken as an example. However, the present invention is not limited to this, and a bus line is provided outside the display region, and a plurality of signal lines include an insulating layer. Of course, the present invention can be applied to any display device including a display panel having a substrate that three-dimensionally intersects with the bus line.

液晶表示パネルを観察者側からみた模式平面図である。It is the model top view which looked at the liquid crystal display panel from the observer side. 図1のA−A’線における模式断面図である。It is a schematic cross section in the A-A 'line of FIG. 本実施例の液晶表示パネルのTFT基板における1画素の構成例を示す模式平面図である。It is a schematic plan view which shows the structural example of 1 pixel in the TFT substrate of the liquid crystal display panel of a present Example. 図3のB−B'線における模式断面図である。It is a schematic cross section in the BB 'line of FIG. 図3のC−C'線における模式断面図である。It is a schematic cross section in the CC 'line of FIG. 図1の領域AR1におけるTFT基板の一構成例を示す模式平面図である。FIG. 2 is a schematic plan view showing a configuration example of a TFT substrate in a region AR1 in FIG. 図6のD−D’線における模式断面図である。It is a schematic cross section in the D-D 'line of FIG. 図6のE−E’線における模式断面図である。It is a schematic cross section in the E-E 'line of FIG. 本実施例のTFT基板の作用効果を説明するための模式平面図である。It is a schematic plan view for demonstrating the effect of the TFT substrate of a present Example. 本実施例の第1の変形例を説明するための模式平面図である。It is a schematic plan view for demonstrating the 1st modification of a present Example. 本実施例の第2の変形例を説明するための模式平面図である。It is a schematic plan view for demonstrating the 2nd modification of a present Example. 従来のコモンバスラインの形状を説明するための模式平面図である。It is a schematic plan view for demonstrating the shape of the conventional common bus line. 本実施例のTFT基板におけるコモンバスラインのより望ましい構成を説明するための模式平面図である。It is a schematic top view for demonstrating the more desirable structure of the common bus line in the TFT substrate of a present Example.

符号の説明Explanation of symbols

1…TFT基板
SUB…ガラス基板
GL,GL…走査信号線
CL…共通信号線
CP…共通接続パッド
CT…対向電極
PAS1…第1の絶縁層
DL,DL…映像信号線
SD1…ドレイン電極
SD2…ソース電極
SC…TFT素子のチャネル層(半導体層)
PAS2…第2の絶縁層
PX…画素電極
SL…スリット
BR…ブリッジ配線
ORI…配向膜
2…対向基板
3…液晶材料
4…シール材
5…コモンバスライン
5c…開口部
5d…ベタパターン
6…半導体層
7…導電層
TH1,TH2,TH3,TH4,TH5…スルーホール
1 ... TFT substrate SUB ... glass substrate GL, GL 1 ... scanning signal lines CL ... common signal line CP ... common connection pads CT ... counter electrode PAS1 ... first insulating layer DL, DL n ... video signal lines SD1 ... drain electrode SD2 ... Source electrode SC ... TFT element channel layer (semiconductor layer)
PAS2 ... second insulating layer PX ... pixel electrode SL ... slit BR ... bridge wiring ORI ... alignment film 2 ... counter substrate 3 ... liquid crystal material 4 ... sealing material 5 ... common bus line 5c ... opening 5d ... solid pattern 6 ... semiconductor Layer 7: Conductive layer TH1, TH2, TH3, TH4, TH5 ... Through hole

Claims (5)

一対の基板の間に液晶材料が封入された液晶表示パネルを有する液晶表示装置であって、
前記一対の基板のうちの一方の基板は、複数本の走査信号線と、絶縁層を介して前記複数本の走査信号線と立体的に交差する映像信号線と、絶縁層を介して前記走査信号線或いは前記映像信号線と立体的に交差する共通信号線を有し
表示領域の外側に配置され、かつ、前記共通信号線に電気信号を供給するバスラインを有し、
前記走査信号線または前記映像信号線は、絶縁層を介して前記バスラインと立体的に交差する交差領域を形成し、
前記バスラインは、平面でみて前記交差領域以外の領域に複数の開口部を有し、前記開口部によって前記バスラインが複数に分岐され、
前記各交差領域の間に、前記走査信号線あるいは前記映像信号線と重複しない位置であり且つ前記バスラインと重畳する位置に、絶縁層を介して導電膜が形成され、当該導電膜は、前記絶縁膜に形成された複数のスルーホールを介して分岐された複数の前記バスラインと電気的に接続されることを特徴とする液晶表示装置。
A liquid crystal display device having a liquid crystal display panel in which a liquid crystal material is sealed between a pair of substrates,
One of the pair of substrates includes a plurality of scanning signal lines, a video signal line sterically intersecting with the plurality of scanning signal lines via an insulating layer, and the scanning via an insulating layer. signal line walking has a common signal line that intersects three-dimensionally and the video signal lines,
A bus line disposed outside the display area and supplying an electric signal to the common signal line;
The scanning signal line or the video signal line forms an intersecting region that three-dimensionally intersects with the bus line through an insulating layer,
The bus line, have a plurality of openings in a region other than the intersection region in a plan view, the bus line is branched into a plurality by the openings,
A conductive film is formed between the intersecting regions at a position that does not overlap the scanning signal line or the video signal line and overlaps the bus line via an insulating layer. A liquid crystal display device, wherein the liquid crystal display device is electrically connected to a plurality of the bus lines branched through a plurality of through holes formed in an insulating film .
前記開口部は、矩形状であることを特徴とする請求項に記載の液晶表示装置。 The liquid crystal display device according to claim 1 , wherein the opening has a rectangular shape. 前記開口部間のバスラインの線幅のうちの、前記スルーホールが形成されている部分の線幅は、他の部分の線幅よりも太いことを特徴とする請求項に記載の液晶表示装置。 Of the line width of the bus line between the opening and the line width of the portion through hole is formed, the liquid crystal display according to claim 1, wherein the thicker than the line width of the other portions apparatus. 2本の隣接する前記走査信号線および2本の隣接する前記映像信号線で定義される画素領域のそれぞれは、TFT素子、画素電極、および対向電極を有し、
前記対向電極は、前記走査信号線および前記映像信号線とともに前記一方の基板に形成されており、
前記導電膜は、前記対向電極に電気的に接続されていることを特徴とする請求項に記載の液晶表示装置。
Each of the pixel regions defined by two adjacent scanning signal lines and two adjacent video signal lines includes a TFT element, a pixel electrode, and a counter electrode,
The counter electrode is formed on the one substrate together with the scanning signal line and the video signal line,
The liquid crystal display device according to claim 1 , wherein the conductive film is electrically connected to the counter electrode.
2本の隣接する前記走査信号線および2本の隣接する前記映像信号線で定義される画素領域のそれぞれは、TFT素子、画素電極、および対向電極を有し、
前記対向電極は、前記一対の基板のうちの前記走査信号線および前記映像信号線を有する前記一方の基板とは異なる基板に形成されており、
前記一方の基板は、保持容量線を有し、
前記導電膜は、前記保持容量線に電気的に接続されていることを特徴とする請求項に記載の液晶表示装置。
Each of the pixel regions defined by two adjacent scanning signal lines and two adjacent video signal lines includes a TFT element, a pixel electrode, and a counter electrode,
The counter electrode is formed on a substrate different from the one substrate having the scanning signal line and the video signal line in the pair of substrates,
The one substrate has a storage capacitor line,
The liquid crystal display device according to claim 1 , wherein the conductive film is electrically connected to the storage capacitor line.
JP2006151681A 2006-05-31 2006-05-31 Liquid crystal display Active JP4884846B2 (en)

Priority Applications (5)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2006151681A JP4884846B2 (en) 2006-05-31 2006-05-31 Liquid crystal display
TW096117441A TW200813540A (en) 2006-05-31 2007-05-16 Liquid crystal display
US11/752,323 US7800727B2 (en) 2006-05-31 2007-05-23 Liquid crystal display device having bus line with opening portions overlapped by conductive films
KR1020070052659A KR100841999B1 (en) 2006-05-31 2007-05-30 Liquid crystal display
CN2007101054390A CN101082706B (en) 2006-05-31 2007-05-30 Liquid crystal display device

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2006151681A JP4884846B2 (en) 2006-05-31 2006-05-31 Liquid crystal display

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2007322640A JP2007322640A (en) 2007-12-13
JP4884846B2 true JP4884846B2 (en) 2012-02-29

Family

ID=38789638

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2006151681A Active JP4884846B2 (en) 2006-05-31 2006-05-31 Liquid crystal display

Country Status (5)

Country Link
US (1) US7800727B2 (en)
JP (1) JP4884846B2 (en)
KR (1) KR100841999B1 (en)
CN (1) CN101082706B (en)
TW (1) TW200813540A (en)

Families Citing this family (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US7900127B2 (en) * 2005-01-10 2011-03-01 Broadcom Corporation LDPC (Low Density Parity Check) codes with corresponding parity check matrices selectively constructed with CSI (Cyclic Shifted Identity) and null sub-matrices
JP4449953B2 (en) 2006-07-27 2010-04-14 エプソンイメージングデバイス株式会社 Liquid crystal display
JP4952630B2 (en) * 2008-03-27 2012-06-13 ソニー株式会社 Liquid crystal device
KR101107315B1 (en) 2009-09-29 2012-01-20 한국과학기술연구원 A DNA sequencing method using novel nucleoside triphosphates with a fluorescent 3'-O-blocking group as reversible terminators
TWI453520B (en) * 2011-08-16 2014-09-21 Au Optronics Corp Flat display panel having multilayer structure with repairable conducting line and method of repairing the same
CN106526988B (en) * 2016-11-07 2019-12-03 惠科股份有限公司 Display array substrate pixel structure and display device applying same
CN113406804B (en) * 2021-07-15 2022-10-18 业成科技(成都)有限公司 Head-mounted display
US20240292688A1 (en) * 2022-06-21 2024-08-29 Hefei Xinsheng Optoelectronics Technology Co., Ltd. Display substrate, display backplane and display panel

Family Cites Families (14)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0660980B2 (en) * 1985-08-13 1994-08-10 セイコー電子工業株式会社 Matrix display
JP2589820B2 (en) * 1989-08-14 1997-03-12 シャープ株式会社 Active matrix display device
JP2959123B2 (en) * 1990-11-28 1999-10-06 セイコーエプソン株式会社 Liquid crystal display
JP3582193B2 (en) * 1995-12-08 2004-10-27 カシオ計算機株式会社 Liquid crystal display device
JP2001290167A (en) * 2000-04-05 2001-10-19 Hitachi Ltd Liquid crystal display device
JP2003114448A (en) * 2001-10-04 2003-04-18 Matsushita Electric Ind Co Ltd Liquid crystal display
KR100813019B1 (en) * 2001-10-19 2008-03-13 삼성전자주식회사 Displaying substrate and liquid crystal display device having the same
JP3977061B2 (en) * 2001-11-21 2007-09-19 シャープ株式会社 Liquid crystal display device and defect repair method thereof
JP4573258B2 (en) * 2004-01-27 2010-11-04 シャープ株式会社 Short-circuit defect correction method
JP2006030627A (en) * 2004-07-16 2006-02-02 Sharp Corp Substrate for display device, and liquid crystal display device using the same
TWI255384B (en) * 2004-10-29 2006-05-21 Innolux Display Corp An IPS liquid crystal display apparatus
JP2008002003A (en) * 2006-06-21 2008-01-10 Toray Ind Inc Ground fabric for airbag and method for producing the ground fabric
JP2008003009A (en) * 2006-06-23 2008-01-10 Toshiba Corp Lifetime diagnosis device for high-temperature equipment, and lifetime diagnosis method and program for high-temperature equipment
JP5023353B2 (en) * 2006-06-28 2012-09-12 コクヨ株式会社 Handle mounting structure

Also Published As

Publication number Publication date
TW200813540A (en) 2008-03-16
KR20070115713A (en) 2007-12-06
US20070279563A1 (en) 2007-12-06
CN101082706A (en) 2007-12-05
US7800727B2 (en) 2010-09-21
JP2007322640A (en) 2007-12-13
TWI361302B (en) 2012-04-01
CN101082706B (en) 2013-03-13
KR100841999B1 (en) 2008-06-30

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP4884846B2 (en) Liquid crystal display
JP5239368B2 (en) Array substrate and display device
JP4068518B2 (en) Display device substrate and manufacturing method thereof
US20200004090A1 (en) Wiring substrate and display device
EP3497515B1 (en) Display panel, methods of fabricating and repairing the same
US20180314098A1 (en) Display board and display device
JP2017083738A (en) Display device
JP2008064961A (en) Wiring structure, and display device
JP2008003194A (en) Substrate apparatus and method for manufacturing display element
JP5302101B2 (en) Display device
WO2018051878A1 (en) Mounting substrate and display panel
JP5004606B2 (en) Display device
JP5247615B2 (en) Horizontal electric field type liquid crystal display device
JP6587668B2 (en) Display device
JP2017076010A (en) Display device
JP4842709B2 (en) Manufacturing method of display device
JP4850589B2 (en) Display device
JP3648950B2 (en) Liquid crystal display
US8537321B2 (en) Liquid crystal display device comprising an electric power supply pad arranged at a corner portion of a substrate and a connection electrode having a slit that crosses signal lines
JP5243278B2 (en) Liquid crystal display
KR20110072434A (en) Method for fabricating liquid crystal display device
JP5519054B2 (en) Display device
KR101232145B1 (en) substrate for examine liquid crystal display device
JP2009015193A (en) Liquid crystal display panel, its manufacturing method and electronic apparatus
JP2019028215A (en) Display device

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20081107

A711 Notification of change in applicant

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A712

Effective date: 20110218

RD03 Notification of appointment of power of attorney

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7423

Effective date: 20110218

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20110714

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20110906

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20111027

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20111206

A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20111207

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20141216

Year of fee payment: 3

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Ref document number: 4884846

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

S531 Written request for registration of change of domicile

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313531

S533 Written request for registration of change of name

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313533

R350 Written notification of registration of transfer

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

S111 Request for change of ownership or part of ownership

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313117

R350 Written notification of registration of transfer

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250