JP2001290167A - Liquid crystal display device - Google Patents

Liquid crystal display device

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JP2001290167A
JP2001290167A JP2000102920A JP2000102920A JP2001290167A JP 2001290167 A JP2001290167 A JP 2001290167A JP 2000102920 A JP2000102920 A JP 2000102920A JP 2000102920 A JP2000102920 A JP 2000102920A JP 2001290167 A JP2001290167 A JP 2001290167A
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JP
Japan
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signal line
liquid crystal
voltage signal
pixel
counter
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Application number
JP2000102920A
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Japanese (ja)
Inventor
Tetsuya Kawamura
徹也 川村
Hikari Ito
光 伊藤
Takanori Nakayama
貴徳 中山
Keiichiro Ashizawa
啓一郎 芦沢
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Hitachi Ltd
Original Assignee
Hitachi Ltd
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Publication date
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To enable working out a countermeasure even when the short circuit at a crossing part between a counter voltage signal line and other signal line is generated. SOLUTION: This liquid crystal display device is provided with a display region which comprises the assembly of respective pixel regions where pixel electrodes and counter electrodes are formed on the liquid crystal side surface of one substrate between substrates placed opposite to each other via liquid crystal. Therein, the counter voltage signal lines connected to the counter electrodes of the respective pixel regions are extendedly prolonged outside the display regions and have the crossing parts via shielding films with other signal lines which supply signals to the respective pixel regions, and at least one slit which intersects the prolonging direction of the other signal lines is formed on the signal lines of at least one side between the counter voltage signal lines and the other signal lines on the superposition parts.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は液晶表示装置に係
り、特に、横電界方式と称される液晶表示装置に関す
る。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a liquid crystal display, and more particularly, to a liquid crystal display called a horizontal electric field type.

【0002】[0002]

【従来の技術】横電界方式の液晶表示装置は、液晶を介
して対向配置される基板のうち一方の基板の液晶側の面
の各画素領域に画素電極と対向電極とが形成され、これ
ら各電極の間に発生する基板と平行な成分をもつ電界に
よって液晶の光透過率を制御するようになっている。
2. Description of the Related Art In a horizontal electric field type liquid crystal display device, a pixel electrode and a counter electrode are formed in each pixel region on a liquid crystal side surface of one of the substrates disposed to face each other with a liquid crystal interposed therebetween. The light transmittance of the liquid crystal is controlled by an electric field generated between the electrodes and having a component parallel to the substrate.

【0003】そして、該液晶表示装置がアクティブ・マ
トリックス方式の場合、対向電極には基準信号(電圧)
が供給され、画素電極にはゲート信号線からの走査信号
によって駆動されるスイッチング素子を介してドレイン
信号線からの映像信号(電圧)が供給されるようになっ
ている。
When the liquid crystal display device is of an active matrix type, a reference signal (voltage) is applied to a counter electrode.
And a video signal (voltage) from the drain signal line is supplied to the pixel electrode via a switching element driven by a scanning signal from the gate signal line.

【0004】この場合、表示領域に対して、ゲート信号
線はx方向に延在されy方向に並設されて表示領域外か
ら走査信号が供給されるとともに、ドレイン信号線はy
方向に延在されx方向に並設されて表示領域外から映像
信号が供給されるのが通常となっている。
In this case, the gate signal lines extend in the x-direction and are arranged in the y-direction with respect to the display area, and a scanning signal is supplied from outside the display area.
In general, video signals are supplied from outside the display area while extending in the direction and juxtaposed in the x direction.

【0005】このため、各画素領域の対向電極に基準電
圧信号を供給する対向電圧信号線は、表示領域外におい
てゲート信号線あるいはドレイン信号線と交差して配置
せざるを得ない構成となっていた。
For this reason, a counter voltage signal line for supplying a reference voltage signal to a counter electrode in each pixel region must be arranged outside the display region so as to intersect with the gate signal line or the drain signal line. Was.

【0006】[0006]

【発明が解決しようとする課題】ドレイン信号線とゲー
ト信号線あるいはドレイン信号線との交差部はそれらの
間に層間絶縁膜が介在されているが、耐圧が充分にとれ
ない等の種々の理由でこれら各信号線の間に短絡が生じ
てしまう不都合が生じることが指摘されるに到った。
At the intersection of the drain signal line and the gate signal line or the drain signal line, an interlayer insulating film is interposed between them, but there are various reasons such as insufficient withstand voltage. It has been pointed out that there is a disadvantage that a short circuit occurs between these signal lines.

【0007】このような短絡の発生は、液晶表示装置の
高精細化にともない、ゲート信号線あるいはドレイン信
号線の数が増大することから、その確率が大きくなり、
早期の対策が要望されるようになった。
The occurrence of such a short circuit increases the number of gate signal lines or drain signal lines as the definition of a liquid crystal display device increases, and the probability of occurrence of the short circuit increases.
Early measures have been requested.

【0008】本発明は、このような事情に基づいてなさ
れたもので、その目的は、対向電圧信号線と他の信号線
との交差部における短絡が生じてもその対策を行うこと
のできる液晶表示装置を提供することにある。
The present invention has been made in view of the above circumstances, and an object of the present invention is to provide a liquid crystal device capable of taking measures even if a short circuit occurs at the intersection between an opposite voltage signal line and another signal line. A display device is provided.

【0009】[0009]

【課題を解決するための手段】本願において開示さる発
明のうち、代表的なものの概要を簡単に説明すれば、以
下のとおりである。
SUMMARY OF THE INVENTION Among the inventions disclosed in the present application, typical ones will be briefly described as follows.

【0010】すなわち、本願による液晶表示装置は、基
本的には、液晶を介して対向配置される基板のうち一方
の基板の液晶側の面に画素電極と対向電極が形成されて
いる各画素領域の集合からなる表示領域を備え、各画素
領域の対向電極に接続された対向電圧信号線が前記表示
領域の外側に延在されているとともに、各画素領域に信
号を供給する他の信号線との間に絶縁膜を介した交差部
を有し、かつ、その重畳部において対向電圧信号線およ
び前記他の信号線のうち少なくともいずれか一方の信号
線に他方の信号線の延在方向と交差する少なくとも一つ
のスリットが形成されていることを特徴とするものであ
る。
That is, in the liquid crystal display device according to the present invention, basically, each of the pixel regions in which a pixel electrode and a counter electrode are formed on a liquid crystal side surface of one of the substrates disposed to face each other with the liquid crystal therebetween. And a counter voltage signal line connected to a counter electrode of each pixel region extends outside the display region, and another signal line that supplies a signal to each pixel region. And an intersecting portion with an insulating film interposed therebetween, and at the overlapping portion, intersects at least one of the counter voltage signal line and the other signal line with the extending direction of the other signal line. At least one slit is formed.

【0011】このように構成された液晶表示装置は、重
畳部における対向電圧信号線と他の信号線との短絡が生
じた場合、前記スリットによって分岐された複数の信号
線のうちの一つである場合が通常となる。
In the liquid crystal display device configured as described above, when a short circuit occurs between the opposite voltage signal line and another signal line in the superimposed portion, one of the plurality of signal lines branched by the slit is used. In some cases, this is normal.

【0012】このため、短絡が生じている部分の信号線
を該短絡部を間にした二つの個所を切断して本来の信号
線から切り離すことによって、本来の信号線の機能を害
することなく他方の信号線との短絡を回避できるように
なる。
For this reason, the signal line at the short-circuited portion is cut off from the original signal line by cutting two portions between the short-circuited portions so that the function of the original signal line is not impaired. Short circuit with the signal line can be avoided.

【0013】[0013]

〔実施例1〕[Example 1]

《全体構成図》図2は、本発明による横電界方式の液晶
表示装置の液晶を介して互いに対向配置される各透明基
板のうち一方の透明基板の液晶側の面の構成を示す平面
図である。
<< Overall Configuration >> FIG. 2 is a plan view showing a configuration of a liquid crystal side surface of one of the transparent substrates disposed opposite to each other via a liquid crystal in the in-plane switching mode liquid crystal display device according to the present invention. is there.

【0014】透明基板SUB1の表面に、図中x方向に
延在するゲート信号線GLと対向電圧信号線CLとが交
互にy方向に並設されている。
On the surface of the transparent substrate SUB1, gate signal lines GL and counter voltage signal lines CL extending in the x direction in the figure are alternately arranged in the y direction.

【0015】この実施例では、並設されるゲート信号線
GLのほぼ真中に対向電圧信号線CLが配置されるよう
になっている。
In this embodiment, the counter voltage signal line CL is arranged substantially at the center of the gate signal lines GL arranged in parallel.

【0016】また、これらゲート信号線GLと対向電圧
信号線CLと絶縁されて図中y方向に延在されx方向に
並設されるドレイン信号線DLが配置されている。
A drain signal line DL is provided which is insulated from the gate signal line GL and the counter voltage signal line CL, extends in the y direction in the drawing, and is juxtaposed in the x direction.

【0017】なお、ゲート信号線GLと対向電圧信号線
CLに対するドレイン信号線DLとの絶縁はそれらの間
に透明基板SUB1の全域にわたって形成される層間絶
縁膜によってなされている。
The insulation between the gate signal line GL and the drain signal line DL with respect to the counter voltage signal line CL is provided by an interlayer insulating film formed over the entire area of the transparent substrate SUB1.

【0018】ここで、各画素領域は、対向電圧信号線C
Lを間にして隣接されるゲート信号線GLと互いに隣接
されるドレイン信号線DLとで囲まれた領域(図中、点
線枠Aに示す)で構成されるようになっている。なお、
この画素領域の詳細な構成は後に説明する。
Here, each pixel region is provided with a counter voltage signal line C
A region surrounded by a gate signal line GL adjacent to L and a drain signal line DL adjacent to each other (shown by a dotted frame A in the figure) is configured. In addition,
The detailed configuration of this pixel region will be described later.

【0019】そして、これら各画素領域の集合は表示領
域(図中点線枠Bに示す)を構成するようになってい
る。
A set of these pixel regions constitutes a display region (shown by a dotted frame B in the figure).

【0020】なお、この表示領域は、この明細書では、
透明基板SUB1とこれに対向配置される他の透明基板
との固着を図りかつ液晶の封入領域を画するシール材の
形成領域(図中点線枠Cに示す)内と区別して表現して
いる。
Note that this display area is defined as
The transparent substrate SUB1 is fixed to the other transparent substrate facing the transparent substrate SUB1 and is distinguished from a sealing material forming region (shown by a dotted frame C in the figure) defining a liquid crystal sealing region.

【0021】前記各ドレイン信号線DLは、その一端
(図中上側)が前記シール材を超えて延在され、その延
在端は映像信号が入力される端子が形成されている。
Each of the drain signal lines DL has one end (upper side in the drawing) extending beyond the sealing material, and the extending end is formed with a terminal for inputting a video signal.

【0022】同様に、前記各ゲート信号線GLも、その
一端(図中左側)が前記シール材を超えて延在され、そ
の延在端は走査信号が入力される端子が形成されてい
る。
Similarly, each of the gate signal lines GL has one end (the left side in the figure) extending beyond the sealing material, and the extended end is formed with a terminal to which a scanning signal is input.

【0023】一方、前記各対向電圧信号線CLは、表示
領域を超えた個所でその一端(図中左側)が、図中y方
向に延在する対向電圧信号線CLB(以下の明細書で対
向電圧信号基線と称する場合がある)に共通接続され、
該対向電圧信号基線CLBの一端はシール材を超えて延
在され、その延在端は対向電圧が入力される端子が形成
されている。
On the other hand, each of the opposed voltage signal lines CL has one end (the left side in the figure) at a location beyond the display area, and has an opposed voltage signal line CLB extending in the y direction in the figure (opposed in the following description). Voltage signal baseline).
One end of the counter voltage signal base line CLB extends beyond the sealing material, and the extending end is formed with a terminal to which a counter voltage is input.

【0024】この対向電圧信号基線CLBは、各ゲート
信号線GLと交差するようにして配置されることから、
該各ゲート信号線GLとの間には層間絶縁膜が介在され
ている。
Since the counter voltage signal base line CLB is arranged to cross each gate signal line GL,
An interlayer insulating film is interposed between each gate signal line GL.

【0025】ゲート信号線GLは対向電圧信号線CLと
同層に形成される場合があり、この場合、対向電圧信号
基線CLBはたとえばドレイン信号線DLの形成と同時
に形成されて前記層間絶縁膜のコンタクト孔を通して各
対向電圧信号線CLに接続されるようになっている。
In some cases, the gate signal line GL is formed in the same layer as the counter voltage signal line CL. In this case, the counter voltage signal base line CLB is formed, for example, simultaneously with the formation of the drain signal line DL to form the interlayer insulating film. Each of the counter voltage signal lines CL is connected through a contact hole.

【0026】そして、前記各ゲート信号線GLはその対
向電圧信号基線CLBとの交差部においてたとえば二俣
形状となっており、これにより分岐された信号線が2個
形成されるようになっている。
Each of the gate signal lines GL has, for example, a Futamata shape at the intersection with the counter voltage signal base line CLB, so that two branched signal lines are formed.

【0027】このようにした理由は、層間絶縁膜の欠陥
等により、ゲート信号線GLと対向電圧信号基線CLB
との間に短絡が生じた場合(一方の分岐信号線において
短絡が生じる確率が大きい)、短絡が生じている側の分
岐信号線を該短絡部を間にした二つの個所を切断して本
来のゲート信号線GLから切り離すことによって、本来
のゲート信号線GLの機能を害することなく対向電圧信
号基線CLBとの短絡を回避するためである。
The reason for this is that the gate signal line GL and the counter voltage signal base line CLB due to a defect in the interlayer insulating film or the like.
If there is a short circuit between the two (there is a high probability that a short circuit will occur in one of the branch signal lines), the branch signal line on the side where the short circuit has occurred is cut at the two places between the short circuits, and Is separated from the gate signal line GL to avoid a short circuit with the counter voltage signal base line CLB without impairing the function of the original gate signal line GL.

【0028】《画素の構成》図3は、各画素の一実施例
を示す平面図で、図2の点線枠A内の領域における図を
示している。
<< Configuration of Pixel >> FIG. 3 is a plan view showing one embodiment of each pixel, and shows a view in a region within a dotted frame A in FIG.

【0029】まず、図中x方向に延在するゲート信号線
GLがたとえばクロム層によって形成されている。この
ゲート信号線GLは、図中に示すように、たとえば画素
領域の下側に形成され、実質的に画素として機能する領
域をできるだけ大きくとるようになっている。
First, a gate signal line GL extending in the x direction in the drawing is formed of, for example, a chromium layer. The gate signal line GL is formed, for example, below the pixel region, as shown in the drawing, so that a region which substantially functions as a pixel is made as large as possible.

【0030】そして、このゲート信号線GLは表示部外
から走査信号が供給されるようになっており、後述の薄
膜トランジスタTFTを駆動させるようになっている。
The gate signal line GL is supplied with a scanning signal from outside the display unit, and drives a thin film transistor TFT described later.

【0031】また、画素領域のほぼ中央には図中x方向
に延在する対向電圧信号線CLがたとえばゲート信号線
GLと同じ材料によって形成されている。
At substantially the center of the pixel region, a counter voltage signal line CL extending in the x direction in the figure is formed of, for example, the same material as the gate signal line GL.

【0032】対向電圧信号線GLには対向電極CTが一
体的に形成され、この対向電極CTは画素領域内で該対
向電圧信号線CLとともにほぼ’H’字状のパターンで
形成されている。
The common electrode CT is formed integrally with the common voltage signal line GL, and the common electrode CT is formed in a substantially “H” -shaped pattern together with the common voltage signal line CL in the pixel area.

【0033】この対向電極CTは、後述する画素電極P
Xに供給される映像信号に対して基準となる信号が該対
向電圧信号線CLを介して供給されるようになってお
り、該画素電極PXとの間に前記映像信号に対応した強
度の電界を発生せしめるようになっている。
The counter electrode CT is connected to a pixel electrode P described later.
A signal serving as a reference for a video signal supplied to X is supplied via the counter voltage signal line CL, and an electric field having an intensity corresponding to the video signal is provided between the pixel electrode PX and the pixel electrode PX. Is caused to occur.

【0034】この電界は透明基板SUB1面に対して平
行な成分をもち、この成分からなる電界によって液晶の
光透過率を制御するようになっている。この実施例で説
明する液晶表示装置がいわゆる横電界方式と称される所
以となっている。なお、対向電圧信号線CLには表示部
外から基準信号が供給されるようになっている。
This electric field has a component parallel to the surface of the transparent substrate SUB1, and the light transmittance of the liquid crystal is controlled by the electric field composed of this component. This is the reason why the liquid crystal display device described in this embodiment is called a so-called horizontal electric field method. Note that a reference signal is supplied to the counter voltage signal line CL from outside the display unit.

【0035】そして、このようにゲート信号線GLおよ
び対向電圧信号線CLが形成された透明基板SUB1面
には、該ゲート信号線GLおよび対向電圧信号線CLを
も含んでたとえばシリコン窒化膜からなる絶縁膜(図示
せず)が形成されている。
The surface of the transparent substrate SUB1 on which the gate signal lines GL and the counter voltage signal lines CL are formed is made of, for example, a silicon nitride film including the gate signal lines GL and the counter voltage signal lines CL. An insulating film (not shown) is formed.

【0036】この絶縁膜は、後述の薄膜トランジスタT
FTの形成領域においてはそのゲート絶縁膜としての機
能、後述のドレイン信号線DLの形成領域においてはゲ
ート信号線GLおよび対向電圧信号線CLに対する層間
絶縁膜としての機能、後述の容量素子Caddの形成領
域においてはその誘電体膜としての機能を有するように
なっている。
This insulating film is formed of a thin film transistor T described later.
In the region where the FT is formed, it functions as a gate insulating film. In the region where a drain signal line DL described later is formed, it functions as an interlayer insulating film for the gate signal line GL and the counter voltage signal line CL. The region has a function as a dielectric film.

【0037】このような絶縁膜において、ゲート信号線
GLと重畳して薄膜トランジスタTFTが形成され、そ
の部分にはたとえばアモルファスSiからなる半導体層
ASが形成されている。
In such an insulating film, a thin film transistor TFT is formed so as to overlap the gate signal line GL, and a semiconductor layer AS made of, for example, amorphous Si is formed in that portion.

【0038】そして、半導体層ASの上面にドレイン電
極SD2およびソース電極SD1が形成されることによ
って、前記ゲート信号線GLの一部をゲート電極とする
いわゆる逆スタガ構造の薄膜トランジスタが構成され
る。
Then, by forming the drain electrode SD2 and the source electrode SD1 on the upper surface of the semiconductor layer AS, a so-called inverted staggered thin film transistor having a part of the gate signal line GL as a gate electrode is formed.

【0039】ここで、半導体層AS上のドレイン電極S
D2およびソース電極SD1は、たとえばドレイン信号
線DLの形成時に画素電極PXとともに同時に形成され
るようになっている。
Here, the drain electrode S on the semiconductor layer AS
D2 and the source electrode SD1 are formed simultaneously with the pixel electrode PX, for example, when the drain signal line DL is formed.

【0040】すなわち、図中y方向に延在するドレイン
信号線DLが形成され、このドレイン信号線DLに一体
的に形成されるドレイン電極SD2が半導体層AS上に
形成されている。
That is, a drain signal line DL extending in the y direction in the drawing is formed, and a drain electrode SD2 integrally formed with the drain signal line DL is formed on the semiconductor layer AS.

【0041】ここで、ドレイン信号線DLは、図中に示
すように、たとえば画素領域の左側に形成され、実質的
に画素として機能する領域をできるだけ大きくとるよう
になっている。
Here, as shown in the figure, the drain signal line DL is formed, for example, on the left side of the pixel region, and has a region which substantially functions as a pixel as large as possible.

【0042】また、ソース電極SD1は、ドレイン信号
線DLと同時に形成され、この際、画素電極PXと一体
的に形成されるようになっている。
The source electrode SD1 is formed simultaneously with the drain signal line DL, and at this time, is formed integrally with the pixel electrode PX.

【0043】この画素電極PXは、前述した対向電極C
Tの間を走行するようにして図中y方向に延在するよう
にして形成されている。換言すれば、画素電極PXの両
脇にほぼ等間隔に対向電極CTが配置されるようになっ
ており、該画素電極PXと対向電極CTとの間に電界を
発生せしめるようになっている。
The pixel electrode PX is connected to the counter electrode C described above.
It is formed so as to run between T and extend in the y direction in the figure. In other words, the counter electrodes CT are arranged at substantially equal intervals on both sides of the pixel electrode PX, and an electric field is generated between the pixel electrode PX and the counter electrode CT.

【0044】ここで、図中からも明らかとなるように、
画素電極PXは、対向電圧信号線CLを境にして屈曲さ
れたたとえば逆’く’字状のパターンに構成され、これ
にともない、該画素電極PXと対向する各対向電極CT
も画素電極PXに対して平行に離間されるようにその幅
が変化するように構成されている。
Here, as will be apparent from the figure,
The pixel electrode PX is formed in, for example, an inverted 'C'-shaped pattern bent at the counter voltage signal line CL, and accordingly, each counter electrode CT facing the pixel electrode PX is formed.
Also, the width is changed so as to be separated in parallel with the pixel electrode PX.

【0045】すなわち、屈曲された画素電極PXがその
長手方向において、同図に示すように均一な幅を有して
いる場合、その両脇に位置づけられる対向電極CTは、
そのドレイン信号線DL側の辺においては該ドレイン信
号線DLと平行に、また、画素電極PX側の辺において
は該画素電極PXと平行になって形成されている。
That is, when the bent pixel electrode PX has a uniform width in the longitudinal direction as shown in the figure, the counter electrodes CT located on both sides of the bent pixel electrode PX are:
The side on the drain signal line DL side is formed in parallel with the drain signal line DL, and the side on the pixel electrode PX side is formed in parallel with the pixel electrode PX.

【0046】これにより、画素電極PXと対向電極CT
との間に発生する電界Eの方向は、対向電圧共通線CL
を境として、図中、その下側の画素領域においては該対
向電圧共通線CLに対して(−)θとなっており、上側
の画素領域においては該対向電圧共通線CLに対して
(+)θとなっている。
As a result, the pixel electrode PX and the counter electrode CT
The direction of the electric field E generated between the counter voltage common line CL
In the figure, (−) θ is provided for the counter voltage common line CL in the lower pixel region, and (+) is provided for the counter voltage common line CL in the upper pixel region. ) Θ.

【0047】このように、一画素の領域内(必ずしも一
画素の領域内に限らず、他の画素との関係であってもよ
い)において、電界Eの方向を異ならしめているのは、
一定の初期配向方向に対して液晶分子をそれぞれ逆方向
へ回転させて光透過率を変化させることにある。
As described above, the direction of the electric field E is different in the area of one pixel (not necessarily in the area of one pixel, but may be in relation to other pixels).
The object is to change the light transmittance by rotating liquid crystal molecules in opposite directions with respect to a certain initial alignment direction.

【0048】このようにすることによって、液晶表示パ
ネルの主視角方向に対して視点を斜めに傾けると輝度の
逆転現象を引き起こすという液晶表示パネルの視角依存
性による不都合を解消した構成となっている。
In this manner, the inconvenience due to the viewing angle dependency of the liquid crystal display panel, which causes the luminance to be inverted when the viewpoint is inclined at an angle to the main viewing angle direction of the liquid crystal display panel, is eliminated. .

【0049】なお、液晶分子(正の誘電率異方性を有す
る)の初期配向方向はたとえばドレイン信号線DLの延
在方向とほぼ一致づけられており、後述する配向膜にお
けるラビング方向はドレイン信号線DLに沿ってなされ
るようになっている。
The initial alignment direction of the liquid crystal molecules (having a positive dielectric anisotropy) is substantially coincident with, for example, the direction in which the drain signal line DL extends. This is performed along the line DL.

【0050】このため、上述した電界方向θは、該初期
配向方向との関係で適切な値が設定されるようになって
いる。一般的には、このθは、電界Eのゲート信号線G
Lに対する角度の絶対値が電界Eのドレイン信号線DL
に対する角度の絶対値より小さくなっている。
For this reason, the electric field direction θ is set to an appropriate value in relation to the initial orientation direction. In general, θ is the gate signal line G of the electric field E.
The absolute value of the angle with respect to L is the drain signal line DL of the electric field E.
Is smaller than the absolute value of the angle with respect to.

【0051】そして、前記画素電極PXにおいて、その
対向電圧信号線CLに重畳する部分はその面積を大なら
しめるように形成され、該対向電圧信号線CLとの間に
容量素子Caddが形成されている。この場合の誘電体
膜は前述した絶縁膜となっている。
In the pixel electrode PX, a portion overlapping the counter voltage signal line CL is formed so as to increase the area thereof, and a capacitor Cadd is formed between the pixel electrode PX and the counter voltage signal line CL. I have. The dielectric film in this case is the above-mentioned insulating film.

【0052】この容量素子Caddはたとえば画素電極
PXに供給される映像信号を比較的長く蓄積させるため
に形成されるようになっている。すなわち、ゲート信号
線GLから走査信号が供給されることによって薄膜トラ
ンジスタTFTがオンし、ドレイン信号線DLからの映
像信号がこの薄膜トランジスタTFTを介して画素電極
PXに供給される。その後、薄膜トランジスタTFTが
オフした場合でも、画素電極PXに供給された映像信号
は該容量素子Caddによって蓄積されるようになって
いる。
The capacitive element Cadd is formed to accumulate a video signal supplied to the pixel electrode PX for a relatively long time, for example. That is, when the scanning signal is supplied from the gate signal line GL, the thin film transistor TFT is turned on, and the video signal from the drain signal line DL is supplied to the pixel electrode PX via the thin film transistor TFT. Thereafter, even when the thin film transistor TFT is turned off, the video signal supplied to the pixel electrode PX is accumulated by the capacitor Cadd.

【0053】そして、このように形成された透明基板S
UB1の表面の全域には、たとえばシリコン窒化膜から
なる保護膜(図示せず)が形成され、たとえば薄膜トラ
ンジスタTFTの液晶への直接の接触を回避できるよう
になっている。
Then, the thus formed transparent substrate S
A protective film (not shown) made of, for example, a silicon nitride film is formed on the entire surface of the UB1 so that, for example, direct contact of the thin film transistor TFT with the liquid crystal can be avoided.

【0054】さらに、この保護膜の上面には、液晶の初
期配向方向を決定づける配向膜(図示せず)が形成され
ている。この配向膜は、たとえば合成樹脂膜を被服し、
その表面に前述したようにドレイン線あの延在方向に沿
ったラビング処理がなされることによって形成されてい
る。
Further, an alignment film (not shown) for determining the initial alignment direction of the liquid crystal is formed on the upper surface of the protective film. This alignment film is coated, for example, with a synthetic resin film,
As described above, the surface is formed by performing a rubbing process along the extending direction of the drain line.

【0055】《対向電圧信号線と他の信号線との交差
部》図1は、対向電圧信号線CLのうち、ゲート信号線
と交差する部分(図中CLBと称す)を拡大して示した
平面図である。
<< Intersection of Counter Voltage Signal Line with Other Signal Lines >> FIG. 1 is an enlarged view of a portion of the counter voltage signal line CL that intersects with the gate signal line (referred to as CLB in the figure). It is a top view.

【0056】同図において、図中y方向に延在する対向
電圧信号基線CLBがある。この対向電圧信号線CLB
は表示領域内に走行する各対向電圧信号線CLとたとえ
ば一体に形成され、この対向電圧信号基線CLBを通し
て前記各対向電圧信号線CLに基準電圧信号を供給する
ようになっている。
In the figure, there is a counter voltage signal base line CLB extending in the y direction in the figure. This counter voltage signal line CLB
Is formed, for example, integrally with each of the opposed voltage signal lines CL running in the display area, and supplies a reference voltage signal to each of the opposed voltage signal lines CL through the opposed voltage signal base line CLB.

【0057】この対向電圧信号基線CLBは、前記各対
向電圧信号線CLと比較してその幅が大きく形成され、
これにより対向電圧信号線の全体的な抵抗値が低くな
り、供給される基準電圧信号の波形歪みが減少されるよ
うになっている。
The common voltage signal base line CLB is formed to have a larger width than each of the common voltage signal lines CL.
Thus, the overall resistance value of the common voltage signal line is reduced, and the waveform distortion of the supplied reference voltage signal is reduced.

【0058】この対向電圧信号基線CLBは、表示領域
(画素の集合体の外側の輪郭内と定義する)の外側に形
成されることから、表示領域内とは異なりスペース的に
余裕があり、表示領域内の各対向電圧信号線CLと比較
するとその幅が極めて大きく形成されている。
Since the counter voltage signal base line CLB is formed outside the display area (defined as the outline outside the group of pixels), there is a margin in space unlike the display area, and The width is formed to be extremely large as compared with each counter voltage signal line CL in the region.

【0059】そして、この対向電圧信号基線CLBにお
いて、ゲート信号線GLと交差する部分には、該ゲート
信号線GLと交差するようにしてスリットSLが形成さ
れている。
In the counter voltage signal base line CLB, a slit SL is formed at a portion crossing the gate signal line GL so as to cross the gate signal line GL.

【0060】このスリットSLを設けることにより、前
記対向電圧信号基線CLBはゲート信号線GLと交差す
る部分において2つの経路を有するようになり、たとえ
ば図4に示すように、その一方の経路においてゲート信
号線GLと短絡が生じたとしても(図中矢印×で示
す)、その経路を分断させることによって他方の経路で
対向電圧信号基線CLBとしても機能を保持させること
ができるようになる。
By providing this slit SL, the counter voltage signal base line CLB has two paths at a portion intersecting with the gate signal line GL. For example, as shown in FIG. Even if a short circuit occurs with the signal line GL (indicated by an arrow x in the figure), by dividing the path, the function can be maintained as the counter voltage signal base line CLB on the other path.

【0061】該経路の分断は、同図に示すように、短絡
が生じている部分の経路を該短絡部を間にした二つの個
所をたとえばレーザ光線の走査(図中LRで示す)によ
って切断して本来の対向電圧信号基線CLBから切り離
すようにする。
As shown in the figure, the path is cut by cutting the path of the short-circuited portion at two places between the short-circuited parts by, for example, scanning with a laser beam (indicated by LR in the figure). To separate from the original counter voltage signal base line CLB.

【0062】ここで、この実施例では、前記スリットS
Lを対向電圧信号基線CLB側に形成している。上述し
たように、この対向電圧信号基線CLBは比較的幅が大
きく形成されているために、上述のスリットSLの形成
によっても全体からみる抵抗値の増加が少ないからであ
る。
Here, in this embodiment, the slit S
L is formed on the counter voltage signal base line CLB side. As described above, since the opposed voltage signal base line CLB is formed to have a relatively large width, the formation of the slit SL described above causes a small increase in the resistance value as a whole.

【0063】しかし、この対向電圧信号基線CLBに限
定されることはなく、ゲート信号線GL側に該スリット
SLを設けるようにしてもよいことはいうまでもない。
However, the present invention is not limited to the counter voltage signal base line CLB, and it goes without saying that the slit SL may be provided on the gate signal line GL side.

【0064】また、上述した実施例では、対向電圧信号
基線CLBに形成するスリットSLは一つとして説明し
たものであるが、図5に示すように、たとえば3個等の
複数(2つ以上)設けるようにしてもよい。
In the above-described embodiment, the number of slits SL formed in the counter voltage signal base line CLB is one. However, as shown in FIG. 5, for example, three or more (two or more) slits are provided. It may be provided.

【0065】対向電圧信号基線CLBは上述したよう
に、その幅が比較的大きく形成されていることから、あ
る範囲内で多数のスリットSLを形成することができ、
また、それにより、対向電圧信号線の全体からみる抵抗
値の増加が少ないからである。
As described above, since the counter voltage signal base line CLB has a relatively large width, a large number of slits SL can be formed within a certain range.
Also, this is because the increase in the resistance value seen from the whole of the counter voltage signal line is small.

【0066】そして、このように複数のスリットSLを
形成することにより、短絡により分断された経路に対し
て他の残存されている経路が多く、換言すれば、切り離
す経路の幅は他の残存される経路の全体の幅よりも小さ
くでき、対向電圧信号基線CLBの抵抗値の増大を抑制
させることができる効果を有する。
By forming a plurality of slits SL in this manner, there are many other remaining paths with respect to the path divided by the short circuit, in other words, the width of the path to be separated is the other remaining path. The width of the path can be made smaller than the entire width of the path, and the effect of suppressing an increase in the resistance value of the counter voltage signal base line CLB is obtained.

【0067】〔実施例2〕図6は、対向電圧信号基線C
LBとゲート信号線GLとの交差部の他の実施例を示す
平面図で、図1と対応した図となっている。
[Embodiment 2] FIG. 6 shows a counter voltage signal base line C.
FIG. 13 is a plan view showing another embodiment of the intersection between the LB and the gate signal line GL, and corresponds to FIG. 1.

【0068】同図では、ゲート信号線GL側にスリット
を設けた構成となっている。この場合、該スリットSl
によって分岐された各経路はその一方の分岐点から他の
分岐点にかけて充分な幅を有するようにして形成されて
いる。
In the figure, a slit is provided on the gate signal line GL side. In this case, the slit Sl
Are formed so as to have a sufficient width from one branch point to the other branch point.

【0069】ゲート信号線GLはそれと交差する対向電
圧信号基線CLBに比較してその幅が小さく形成されて
いることから、上述のように構成することによって該ゲ
ート信号線GLの抵抗の増大を抑制させている。
Since the gate signal line GL is formed to have a smaller width than the counter voltage signal base line CLB crossing the gate signal line GL, an increase in the resistance of the gate signal line GL is suppressed by the above configuration. Let me.

【0070】図7に示すように、本来のゲート信号線G
Lの幅をW3、前記スリットSLによって分岐された各
経路の幅をW1、該本来のゲート信号線GLから各経路
に到るまでの部分における幅をW2とした場合、W2≧W
3、2W1≒W3の関係を有することによって、該ゲート
信号線GLの抵抗の増大を抑制させることができる。
As shown in FIG. 7, the original gate signal line G
If the width of L is W 3 , the width of each path branched by the slit SL is W 1 , and the width from the original gate signal line GL to each path is W 2 , W 2 ≧ W
By having the relationship of 3 , 2W 1 ≒ W 3 , an increase in the resistance of the gate signal line GL can be suppressed.

【0071】この場合、ゲート信号線GLは対向電圧信
号基線CLBとの交差部において、該対向電圧信号基線
CLBの延在方向に結果的に幅を広くした構成とせざる
を得なくなる。
In this case, the gate signal line GL has to be configured so as to be wider at the intersection with the counter voltage signal base line CLB in the extending direction of the counter voltage signal base line CLB.

【0072】しかし、この部分は表示領域の外側の領域
であることから、隣接する他のゲート信号線GLと接触
しない範囲で充分に幅を大きくすることができる。
However, since this portion is a region outside the display region, the width can be made sufficiently large in a range where it does not come into contact with another adjacent gate signal line GL.

【0073】上述した実施例では、スリットSLを一つ
設けたものであるが、図8に示すように、2個あるいは
3個等複数であってもよいことはいうまでもない。
In the above-described embodiment, one slit SL is provided, but it goes without saying that a plurality of slits, such as two or three, may be provided as shown in FIG.

【0074】この場合においても、該スリットSLによ
って分岐された各経路の幅、本来のゲート信号線GLか
ら各経路に到るまでの部分における幅を上述したように
設定することにより、該ゲート信号線GLの抵抗を増大
させないで済むようになる。
Also in this case, by setting the width of each path branched by the slit SL and the width from the original gate signal line GL to each path as described above, the gate signal It is not necessary to increase the resistance of the line GL.

【0075】複数のスリットSLを形成することによ
り、切り離す経路の幅は他の残存される経路の全体の幅
よりも小さくでき、対向電圧信号線の抵抗値の増大を抑
制させることができる効果を奏する。
By forming a plurality of slits SL, the width of the path to be separated can be made smaller than the entire width of other remaining paths, and the effect of suppressing an increase in the resistance value of the counter voltage signal line can be suppressed. Play.

【0076】このことから、ゲート信号線GLのうち対
向電圧信号基線CLBと交差する部分を他の部分よりも
幅広に形成し、この幅広の部分において該対向電圧信号
基線CLBと交差するスリットを1個あるいは複数個設
ける構成とし、該ゲート信号線GLの全体の許容できる
抵抗値の範囲内で、対向電圧信号基線CLBと交差する
部分の幅、およびスリットSLの数を設定することがで
きるようになる。
Therefore, a portion of the gate signal line GL that intersects the counter voltage signal base line CLB is formed wider than the other portion, and a slit that intersects the counter voltage signal base line CLB in this wide portion is formed by one slit. One or a plurality of the gate signal lines GL may be provided so that the width of the portion intersecting the counter voltage signal base line CLB and the number of slits SL can be set within the range of the allowable resistance value of the entire gate signal line GL. Become.

【0077】〔実施例3〕上述した各実施例では、その
いずれも、対向電圧信号基線CLBとゲート信号線GL
との交差部における構成を示したものである。
[Embodiment 3] In each of the above-described embodiments, each of them has the counter voltage signal base line CLB and the gate signal line GL.
3 shows the configuration at the intersection with.

【0078】しかし、図9に示すように、各画素領域の
対向電圧信号線CLを図中y方向に、すなわちドレイン
信号線DLと平行に延在させる場合がある。
However, as shown in FIG. 9, the counter voltage signal line CL of each pixel region may extend in the y direction in the drawing, that is, in parallel with the drain signal line DL.

【0079】この場合において、前記各対向電圧信号線
CLを共通に接続させる対向電圧信号基線CLBは各ド
レイン信号線DLと交差するように構成される。
In this case, the counter voltage signal base line CLB for connecting the respective counter voltage signal lines CL in common is configured to cross each drain signal line DL.

【0080】したがって、このような場合、対向電圧信
号基線CLBと各ドレイン信号線DLと交差部におい
て、上述した各構成を適用できることはいうまでもな
い。
Therefore, in such a case, it goes without saying that each of the above-described configurations can be applied to the intersection between the counter voltage signal base line CLB and each drain signal line DL.

【0081】[0081]

【発明の効果】以上説明したことから明らかなように、
本発明による液晶表示装置によれば、対向電圧信号線と
他の信号線との交差部における短絡が生じてもその対策
を行うことができるようになる。
As is apparent from the above description,
According to the liquid crystal display device of the present invention, even if a short circuit occurs at the intersection of the opposite voltage signal line and another signal line, the countermeasure can be taken.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明による液晶表示装置の一実施例を示す要
部平面図である。
FIG. 1 is a plan view of an essential part showing one embodiment of a liquid crystal display device according to the present invention.

【図2】本発明による液晶表示装置の一実施例を示す全
体平面図である。
FIG. 2 is an overall plan view showing one embodiment of a liquid crystal display device according to the present invention.

【図3】本発明による液晶表示装置の画素の一実施例を
示す平面図である。
FIG. 3 is a plan view showing one embodiment of a pixel of the liquid crystal display device according to the present invention.

【図4】本発明による液晶表示装置の効果を示すための
説明図である。
FIG. 4 is an explanatory diagram showing an effect of the liquid crystal display device according to the present invention.

【図5】本発明による液晶表示装置の他の実施例を示す
要部平面図である。
FIG. 5 is a main part plan view showing another embodiment of the liquid crystal display device according to the present invention.

【図6】本発明による液晶表示装置の他の実施例を示す
要部平面図である。
FIG. 6 is a main part plan view showing another embodiment of the liquid crystal display device according to the present invention.

【図7】本発明による液晶表示装置の他の実施例を示す
要部平面図である。
FIG. 7 is a main part plan view showing another embodiment of the liquid crystal display device according to the present invention.

【図8】本発明による液晶表示装置の他の実施例を示す
要部平面図である。
FIG. 8 is a main part plan view showing another embodiment of the liquid crystal display device according to the present invention.

【図9】本発明による液晶表示装置の他の実施例を示す
全体平面図である。
FIG. 9 is an overall plan view showing another embodiment of the liquid crystal display device according to the present invention.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

CLB……対向電圧信号基線、CL……対向電圧信号
線、GL……ゲート信号線、DL……ドレイン信号線、
SL……スリット。
CLB: Counter voltage signal base line, CL: Counter voltage signal line, GL: Gate signal line, DL: Drain signal line,
SL ... Slit.

─────────────────────────────────────────────────────
────────────────────────────────────────────────── ───

【手続補正書】[Procedure amendment]

【提出日】平成12年4月20日(2000.4.2
0)
[Submission date] April 20, 2000 (200.4.2
0)

【手続補正1】[Procedure amendment 1]

【補正対象書類名】図面[Document name to be amended] Drawing

【補正対象項目名】図7[Correction target item name] Fig. 7

【補正方法】変更[Correction method] Change

【補正内容】[Correction contents]

【図7】 FIG. 7

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 中山 貴徳 千葉県茂原市早野3300番地 株式会社日立 製作所ディスプレイグループ内 (72)発明者 芦沢 啓一郎 千葉県茂原市早野3300番地 株式会社日立 製作所ディスプレイグループ内 Fターム(参考) 2H092 GA14 JA26 JA28 JB31 JB35 JB38 KA05 NA16 5C094 AA31 AA32 AA41 AA42 AA43 BA03 BA43 CA19 DA15 DB04 EA03 EA04 EA07 EA10 FA04 5G435 AA19 BB12 CC09 KK10  ──────────────────────────────────────────────────続 き Continuing on the front page (72) Takanori Nakayama 3300 Hayano Mobara-shi, Chiba Prefecture Hitachi Display Group, Inc. Term (reference) 2H092 GA14 JA26 JA28 JB31 JB35 JB38 KA05 NA16 5C094 AA31 AA32 AA41 AA42 AA43 BA03 BA43 CA19 DA15 DB04 EA03 EA04 EA07 EA10 FA04 5G435 AA19 BB12 CC09 KK10

Claims (5)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 液晶を介して対向配置される基板のうち
一方の基板の液晶側の面に画素電極と対向電極が形成さ
れている各画素領域の集合からなる表示領域を備え、 各画素領域の対向電極に接続された対向電圧信号線が前
記表示領域の外側に延在されているとともに、各画素領
域に信号を供給する他の信号線との間に絶縁膜を介した
交差部を有し、 かつ、その重畳部において対向電圧信号線および前記他
の信号線のうち少なくともいずれか一方の信号線に他方
の信号線の延在方向と交差する少なくとも一つのスリッ
トが形成されていることを特徴とする液晶表示装置。
1. A display area comprising a set of pixel areas in which a pixel electrode and a counter electrode are formed on a liquid crystal side surface of one of substrates opposed to each other with a liquid crystal interposed therebetween. A common voltage signal line connected to the common electrode extends outside the display area, and has an intersection with another signal line for supplying a signal to each pixel area via an insulating film. And that at least one slit intersecting with the extending direction of the other signal line is formed in at least one of the counter voltage signal line and the other signal line in the superimposed portion. Characteristic liquid crystal display device.
【請求項2】 液晶を介して対向配置される基板のうち
一方の基板の液晶側の面に画素電極と対向電極が形成さ
れている各画素領域の集合からなる表示領域を備え、 各画素領域の対向電極に接続された対向電圧信号線が前
記表示領域の外側に延在されているとともに、各画素領
域に信号を供給する他の信号線との間に絶縁膜を介した
交差部を有し、 かつ、その重畳部において前記対向電圧信号線に他方の
信号線の延在方向と交差する少なくとも一つのスリット
が形成されていることを特徴とする液晶表示装置。
2. A display area comprising a set of pixel areas each having a pixel electrode and a counter electrode formed on a liquid crystal side surface of one of the substrates opposed to each other with a liquid crystal interposed therebetween. A common voltage signal line connected to the common electrode extends outside the display area, and has an intersection with another signal line for supplying a signal to each pixel area via an insulating film. A liquid crystal display device, wherein at least one slit that intersects the extending direction of the other signal line is formed in the counter voltage signal line in the overlapping portion.
【請求項3】 液晶を介して対向配置される基板のうち
一方の基板の液晶側の面に画素電極と対向電極が形成さ
れている各画素領域の集合からなる表示領域を備え、 各画素領域の対向電極に接続された対向電圧信号線が前
記表示領域の外側に延在されているとともに、各画素領
域に信号を供給する他の信号線との間に絶縁膜を介した
交差部を有し、 前記他の信号線のうち対向電圧信号線と交差する部分を
他の部分よりも幅広に形成され、この幅広の部分におい
て該対向電圧信号線と交差するスリットが少なくとも一
つ形成されていることを特徴とする液晶表示装置。
3. A display area comprising a set of pixel areas each having a pixel electrode and a counter electrode formed on a liquid crystal side surface of one of the substrates opposed to each other with a liquid crystal interposed therebetween. A common voltage signal line connected to the common electrode extends outside the display area, and has an intersection with another signal line for supplying a signal to each pixel area via an insulating film. A portion of the other signal line that intersects the opposing voltage signal line is formed wider than the other portion, and at least one slit that intersects the opposing voltage signal line is formed in the wide portion. A liquid crystal display device characterized by the above-mentioned.
【請求項4】 画素領域にスイッチング素子が形成さ
れ、前記他の信号線は該スイッチング素子を駆動させる
ためのゲート信号線であることを特徴とする請求項1な
いし3のうちいずれかに記載の液晶表示装置。
4. The switching device according to claim 1, wherein a switching element is formed in the pixel region, and the other signal line is a gate signal line for driving the switching element. Liquid crystal display.
【請求項5】 画素領域にスイッチング素子が形成さ
れ、前記他の信号線は該スイッチング素子を介して画素
領域に信号を供給するドレイン信号線であることを特徴
とする請求項1ないし3のうちいずれかに記載の液晶表
示装置。
5. A switching element is formed in a pixel area, and the other signal line is a drain signal line for supplying a signal to the pixel area through the switching element. The liquid crystal display device according to any one of the above.
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Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
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CN101082706A (en) * 2006-05-31 2007-12-05 株式会社日立显示器 Liquid crystal display device
US7352432B2 (en) 2003-11-28 2008-04-01 Nec Lcd Technologies, Ltd. Liquid crystal display device
CN101191928B (en) * 2006-11-29 2010-04-14 乐金显示有限公司 Liquid crystal display device

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