JPH08124820A

JPH08124820A - 露光量制御方法および装置

Info

Publication number: JPH08124820A
Application number: JP6253854A
Authority: JP
Inventors: Yoshihiro Kajiki; 善裕梶木
Original assignee: NEC Corp
Current assignee: NEC Corp
Priority date: 1994-10-19
Filing date: 1994-10-19
Publication date: 1996-05-17
Anticipated expiration: 2013-10-08
Also published as: JP2809118B2

Abstract

(57)【要約】【目的】ランニングコストを上げることなく、露光量
の誤差を低減させる。【構成】一回の露光に所望の総エネルギから現在まで
に前記パルス光源から出力された光パルスの露光エネル
ギを引いた残りのエネルギを、総パルス数から現在まで
に出力されたパルス数を引いた残りのパルス数で割った
値を次回に前記パルス光源から出力される光パルスのエ
ネルギとする。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、エキシマレーザ等のパ
ルス光源を用いた露光プロセスにおける露光量制御方法
および装置に関する。

【０００２】

【従来の技術】一般に、露光装置では、パルス光源から
の出射光をレチクルに照射することによって、そのレチ
クル上のパターンを基板上に塗られたレジストに縮小転
写する等の露光プロセスが行われる。そして、この露光
プロセスでは、一回の露光ごとのパルス光源から照射さ
れる露光用光の総エネルギを正確に制御する必要があ
る。特に、近年、超ＬＳＩ等の分野で回路パターンの微
細化が進むにつれ、正確な形状を基板上に転写するため
に、パルス光源から照射される露光用光の総エネルギを
極めて正確に制御することが必要不可欠となっている。
ここで、一回の露光とは、基板全面に対して露光を行う
場合には、この基板全面露光を行うのに必要な総露光エ
ネルギがパルス光源により照射される露光プロセスのこ
とを示し、また、基板の各チップごとに露光を行う場
合、所謂、ステップ・アンド・リピート方式の場合に
は、その一チップを露光するのに十分なエネルギがパル
ス光源により照射される露光プロセスのことを示す。

【０００３】水銀ランプ等の連続発光光源により露光を
行う場合には、露光エネルギをモニタしながらシャッタ
の開閉を行うことにより露光用光の総エネルギを正確に
制御することができる。しかしながら、基板上に転写さ
れる回路パターンの解像線幅は照射光源の波長に比例す
るため、この水銀ランプ等の連続発光光源では、近年の
回路パターンの微細化傾向に対処できない。そこで、近
年、遠紫外領域の波長の光源、つまり、エキシマレーザ
等のパルス光源が露光用の光源として用いられるように
なった。

【０００４】ここで、エキシマレーザの基本的な構成お
よび動作について図５を参照して説明しておく。

【０００５】レーザ管９内にはハロゲンガスおよび希ガ
ス等のレーザガスがガス供給部１１から注入されてお
り、そして、このレーザガスをレーザ管９内に備えられ
るフラッシュランプ等の励起手段に励起回路１０からの
出力を印加することによって励起させる。そして、レー
ザガスが励起されることにより、レーザ管９からパルス
レーザが出力される。ここで、励起回路１０は、コンデ
ンサバンクに充電される電圧を高速スイッチの切替によ
り出力を制御しながら励起手段に電圧を印加するもので
ある。また、レーザ管９内に注入されたレーザガスはパ
ルスレーザが出力されるにつれて徐々に劣化していき、
レーザ出力を低下させていく。そこで、通常、所定のパ
ルス出力がなされると、ガス供給部１１から新たにレー
ザガスを注入することによってレーザ管９内のレーザガ
スを交換するようにしている。

【０００６】このエキシマレーザ等のパルスレーザをパ
ルス光源として用いる場合には、原理的にはパルス出力
のエネルギを極めて正確に制御することができる光源が
あればそれに越したことはないが、現実にはパルス出力
エネルギの正確な制御は非常に困難である。

【０００７】そこで、一回の露光を複数のパルスで行う
ことによって露光の総エネルギを制御する露光量制御方
法が特開昭６１−１６２０５１号公報に開示されてい
る。この露光制御方法によれば、１回の露光を１パルス
出力で行う場合と比べて、露光の総エネルギの誤差を低
減させることができる。

【０００８】また、複数のパルスで露光したとしても、
依然として、露光総エネルギのバラツキが残るので、１
パルス当りのエネルギを減光フィルタ等で減少させ、誤
差の影響を少なくする露光量制御方法が特開昭６０−１
６９１３６号公報や特開昭６３−８１８８２号公報に開
示されている。

【０００９】また、一般に、露光用の光源としてパルス
レーザを用いた場合に、光パルスエネルギの制御は、レ
ーザ媒体を励起させるための励起回路への充電電圧を制
御することによって行われる。さらに、レーザ媒体内部
の温度変化や劣化等により、所望の光パルスエネルギを
得るための充電電圧が変化することもあるが、その充電
電圧を補正するために、実際に露光を行う前にパイロッ
ト露光と呼ばれる予備露光を行い、その予備露光におけ
る光パルスエネルギに基づいて励起回路への充電電圧を
補正している。そして、露光におけるエネルギの検出結
果に基づいて次の露光の際の励起回路への充電電圧を補
正するという方法が用いられる。

【００１０】

【発明が解決しようとする課題】このような従来の露光
量制御方法では、それぞれ以下に示すような問題点があ
るが、ここで、その問題点を明確化するために、光パル
スのエネルギの統計的な平均値をｍとし、１パルスのエ
ネルギは、平均値ｍを中心に標準偏差σの正規分布に従
った誤差を持つものと仮定する。また、１回の露光にお
ける総パルス数をｎ、所望の総エネルギをＤ、ｉパルス
目のエネルギをｅ（ｉ）として表すものとする。

【００１１】まず、特開昭６１−１６２０５１号公報に
開示されている露光量制御方法、つまり、ｎ回のパルス
出力で１回の露光を行う場合では、標準偏差σの事象が
ｎ回独立して発生することに相当する。したがって、総
露光量はｎ回の事象の重畳であり、露光エネルギの総和
は平均値ｎ×ｍを中心に標準偏差はσをｎの平方根で割
った値の誤差を有する。しかしながら、この露光量制御
方法であっても、例えば、平均１０ｍＪ／パルスで誤差
０．５ｍＪ（５％）のバラツキを持つパルス光源で２５
パルスの露光を行った場合、総露光エネルギは統計的に
２５０ｍＪを中心に２．５ｍＪ（１％）の誤差が生じて
しまい、依然として誤差の低減が不十分であるという問
題点があった。

【００１２】また、特開昭６０−１６９１３６号公報や
特開昭６３−８１８８２号公報に開示されている露光量
制御方法、つまり、１パルス当りのエネルギを減光フィ
ルタ等で減少させ、誤差の影響を少なくする露光量制御
方法では、１パルスあたりのエネルギを例えば、上記１
０ｍＪ／パルスの半分の平均５ｍＪ／パルスに減少させ
た場合、上記と同様の露光量を得るためには５０パルス
の露光が必要となる。このとき、総露光エネルギは統計
的に２５０ｍＪを中心とし、誤差が１．７７ｍＪ（０．
７％）に減少している。しかし、この方法では光源のエ
ネルギの半分を無駄にするために、ランニングコストが
増加するという問題点があった。

【００１３】また、上記の統計的な考察においては次回
に照射するパルスのエネルギを平均値ｍに制御できると
いうことを前提にした。しかしながら、露光用光源がパ
ルスレーザの場合には前述の従来技術の欄で説明したよ
うに、基本的には励起回路への充電電圧を一定に保ち、
事前の露光結果を統計的に処理してパルスエネルギの平
均値を求め、充電電圧を補正するという平均出力の安定
化しか行われていない。したがって、パルス毎にパルス
エネルギを任意の値に制御することはできないという問
題点があった。

【００１４】

【課題を解決するための手段】上記問題点を解決するた
めに、本発明は、パルス光源から出力される複数の光パ
ルスによって露光プロセスを行う露光装置において、前
記パルス光源から出力される光パルスのエネルギを検出
するエネルギ検出手段と、前記エネルギ検出手段によっ
て検出される光パルスのエネルギを積算する積算手段
と、予め設定される前記露光プロセスに必要な総露光エ
ネルギと前記積算手段で算出される光パルスエネルギの
積算値との差に基づいて、次回に出力される光パルスの
エネルギを規定する手段とを備えている。

【００１５】そして、前記露光プロセスに必要な露光総
エネルギから現在までに出力された光パルスのエネルギ
を引いた残りのエネルギに応じて、次回に出力される光
パルスのエネルギを規定している。

【００１６】さらに、本発明では、パルスレーザから出
力される複数の光パルスによって行われる露光の露光量
を制御する方法において、前記パルスレーザの励起回路
への充電電圧とそのパルスレーザから出力される光パル
スのエネルギとを所望の近似式によって関係づけ、所定
のパルスエネルギが与えられるときに、前記近似式を逆
算することによって、対応する前記励起回路への充電電
圧を算出し、そして、前記励起回路への充電電圧を算出
された前記充電電圧になるように制御することによって
１パルスごとのパルスエネルギを制御し、結果として、
露光総エネルギを高精度に制御している。

【００１７】

【実施例】次に、本発明の一実施例について図面を参照
して詳細に説明する。

【００１８】図１は、本発明による露光量制御方法によ
り露光プロセスを行う露光装置の一実施例の構成を示す
模式図である。光源２はＣＰＵ１から出力される制御信
号にしたがって出力制御されて光パルスを出射する。光
源から出射される光パルスは照明光学系３を経てレチク
ル４を照射する。縮小光学系５は光パルスによって照射
されたレチクルの像をウェハ６に結像し、レチクル４上
のパターンをウェハ６上に塗られたレジストに縮小転写
する。ここで、ウェハ６に露光されたパルスエネルギは
レチクル４の端に設けられたエネルギモニタ７によって
検出することができ、ＣＰＵはエネルギモニタにおいて
測定されたパルスエネルギ量に基づいて光源の出力を可
変する帰還制御を行う。ウェハ６上の露光領域はウェハ
ステージ８によって移動することができ、装置全体とし
て１つの露光領域に複数パルス（数十〜百パルス程度）
の露光を行っては次の露光領域に移動するというステッ
プ＆リピート動作を行う。以下の実施例においては、こ
の露光装置の上でエネルギモニタの信号に基づいてＣＰ
Ｕが光源の出力を制御することによる露光量制御方法で
ある。

【００１９】次に、本発明の露光量制御方法の第１の実
施例について図２を参照して説明する。

【００２０】本実施例における露光量制御方法では、ま
ず、１パルス目の照射時には、パルスエネルギが、一回
の露光における所望の総露光エネルギを総パルス数で割
った値となるように制御する。そして、２回目以降の光
パルス照射時には、パルスエネルギが、前述の所望の総
露光エネルギと１パルス目から現在までの露光エネルギ
の積算値との差を残りのパルス数で割った値となるよう
に逐次制御するというものである。

【００２１】図２は、本実施例の露光量制御方法の制御
手順を示すフローチャートであり、以下の説明中、一回
の露光における所望の総露光エネルギをＤ、光源から照
射する総パルス数をＮ、パルス数を積算したカウント値
をｎ、カウント値ｎがｉの時に露光すべきパルスエネル
ギの期待値をｍ（ｉ）、実際に露光されたパルスエネル
ギの測定値をｄ（ｉ）とする。

【００２２】まず、カウント値ｎを０に初期化し（Ｓ２
０１）、１パルス目に露光すべきパルスエネルギの期待
値ｍ（０）を、次式から求める（Ｓ２０２）。

【００２３】

【００２４】この式は、パルス光源から照射される光パ
ルスの１パルス目のエネルギの期待値ｍ（０）を、一回
の露光における所望の総エネルギＤを前記パルス光源か
ら照射される総パルス数Ｎで割ったエネルギとして算出
するものである。

【００２５】そして、光源から照射される光パルスのパ
ルスエネルギがｍ（０）となるようにＣＰＵにより光源
を制御し（Ｓ２０３）、その後、実際に光パルスを照射
する。このレチクルに対して照射された光パルスのパル
スエネルギｄ（ｎ）（１パルス目の照射時にはｄ
（０））をエネルギモニタによって測定する（Ｓ２０
４）。

【００２６】次に、カウント値ｎを１加算して（Ｓ２０
５）、総パルス数Ｎとカウント値ｎとを比較する（Ｓ２
０６）。そして、総パルス数Ｎとカウント値ｎとが等し
くなければ、次のパルス出力にて照射すべきパルスエネ
ルギの期待値ｍ（ｎ）（１パルス目の照射後ではｍ
（１））を次式から求める。

【００２７】

【００２８】この式は、パルス光源から照射される光パ
ルスの２パルス目以降のエネルギの期待値ｍ（ｎ）を、
１パルス目の光パルスから現在の光パルスまでに照射さ
れた露光エネルギを前記総エネルギＤから引いた残りの
エネルギを、前記総パルス数Ｎから現在までに照射され
たパルス数ｎを引いた残りのパルス数Ｎ−ｎで割ったエ
ネルギとして算出するものである。

【００２９】パルスエネルギの期待値ｍ（ｎ）（１回目
のパルス照射後ではｍ（１））を求めた後に、前述のＳ
２０３に戻り、光源から照射される光パルスのパルスエ
ネルギが期待値ｍ（ｎ）（２回目のパルス照射時ではｍ
（１））となるようにＣＰＵにより光源を制御する（Ｓ
３）。以下、同様の手順により光パルス照射による露光
を繰り返し、前述のＳ２０６において総パルス数Ｎとカ
ウント値ｎとが等しくなった時点で一回の露光を終了す
る。

【００３０】このように、本実施例における露光量制御
方法では、各々のパルスの照射時に実際に照射されたパ
ルスエネルギに基づいて残りの露光量を算出し、その残
りの露光量から次のパルス出力におけるパルスエネルギ
を求めているために総露光エネルギの誤差は最終パルス
の期待値ｍ（Ｎ−１）に対する誤差のみとなる。

【００３１】例えば、平均エネルギ１０ｍＪ／パルスで
誤差０．５ｍＪ（５％）のバラツキを持つ光源を用い
て、２５回のパルスにより一回の露光を行う場合には、
総露光エネルギは統計的に２５０ｍＪを中心とし、誤差
は最終パルスの期待値に対する誤差と同様に０．５ｍＪ
（０．２％）となる。

【００３２】また、本実施例において、理論的には、総
パルス数の１パルス手前まで無制御で露光を行い、最終
パルス照射時に、その最終パルスにおけるパルスエネル
ギを上記と同様に残りの露光エネルギに近づくように制
御することにより同様の効果が得ることができる。しか
しながら、実際には、パルスエネルギを制御できる範囲
が狭く、また事前のパルスエネルギから大きく離れた値
に次のパルスエネルギを制御しようとすると制御誤差も
増大するので、本実施例のごとく各パルス毎にパルスエ
ネルギの制御を行った方が好ましい。

【００３３】次に、本発明の露光量制御方法の第２の実
施例について図１および図３を参照して説明する。

【００３４】前述の従来技術の欄で説明したように、光
源がパルスレーザの場合には、パルスエネルギを任意の
値に制御することが非常に困難であるため、パルス毎の
出力を制御することによって総露光量を制御する方法を
採用することができなかった。ここで、本実施例の露光
量制御方法は、光源にパルスレーザを用い、このパルス
レーザにおける励起回路への充電電圧と光パルスのエネ
ルギとを算術的に関係づけることにより、１パルス毎の
出力を制御することによって総露光量を制御するという
ものである。

【００３５】本実施例においては、図１に示す構成のう
ち、光源にエキシマレーザを用いるものとし、図３は、
エキシマレーザにおける励起回路への充電電圧と出力パ
ルスエネルギとの関係を示す特性図であり、白丸はレー
ザガスをレーザ管内に充填した直後における特性を示
し、黒丸は、レーザを所定時間発振させた後、つまり、
レーザガスが劣化した後の特性を示す。

【００３６】パルス充放電回路においては、レーザ媒質
への注入エネルギは充電電圧の二乗に比例するため、注
入した電気エネルギに対する光への変換効率が一定であ
れば、出力パルスエネルギも充電電圧の二乗に比例する
はずである。しかしながら、実際には、図３に示すよう
に全く異なる特性を示す。さらに、図３に示す黒丸およ
び白丸の相違のごとく、一旦測定して求めた充電電圧に
対する出力パルスエネルギの特性もレーザ管内の温度変
化やレーザガスの劣化にともなって徐々に変動してしま
う。つまり、これらが、１パルス毎に出力パルスエネル
ギを制御できない要因となっていた。

【００３７】そこで、本実施例では、まず、充電電圧と
出力パルスエネルギとの関係を所定範囲内で簡単な二次
関数にて近似する。つまり、図３で実線で示す曲線は、
白丸の測定点を二次関数に最小二乗法にて関数近似した
曲線であり、その近似式は、

【００３８】

【００３９】となる。ただし、ｅはパルスエネルギ、ｖ
は充電電圧である。理論的には容易に求められない充電
電圧と出力パルスエネルギとの関係も、図３に示すよう
な限られた範囲内では簡単な二次関数に近似することが
できる。

【００４０】そして、ある時刻において、例えば、１２
ｍＪの出力パルスエネルギのパルスを出力したい場合に
は、前述の近似式の逆関数、つまり、

【００４１】

【００４２】に基づいて、励起回路への充電電圧を１
４．３ｋＶに制御すればよいことになる。このように、
パルスレーザにおける励起回路への充電電圧と光パルス
のエネルギとを算術的に関係づけることにより、１パル
ス毎の出力エネルギを容易に制御することができる。

【００４３】ここで、式３では、測定点（白丸）を二次
関数に近似したが、他の多項式や指数関数、対数関数に
近似してもよく、また、スプライン補間法等を用いても
よい。さらに、式３から式４を解析的に逆算して求めた
が、解析的に解けない場合には、ニュートン法等の数値
解析により解を求めてもよい。

【００４４】次に、本発明の露光量制御方法の第３の実
施例について図３および図４を参照して説明する。

【００４５】本実施例においても、前述の第２の実施例
と同様に、光源にエキシマレーザを用いる。したがっ
て、図３に示すように、レーザ管内の温度変化やレーザ
ガスの劣化にともなって、一旦測定して求めた充電電圧
に対する出力パルスエネルギの特性も徐々に変動してし
まうことは先に述べたとおりである。そこで、本実施例
の露光量制御方法は、前述の第２の実施例におけるパル
スレーザの励起回路への充電電圧と光パルスエネルギと
の算術的な関係を実際の出力結果にしたがって補正する
というものである。

【００４６】図３に破線で示される曲線は、レーザガス
が劣化した後の励起回路への充電電圧に対する出力パル
スエネルギの測定値（黒丸）の関係を、所定の関数で近
似した曲線であり、その近似式は、

【００４７】

【００４８】によって表される。この近似式は、前述の
式３とは異なり、実測値から最小二乗法によって求めた
ものではなく、単に、式３の右辺に０．７３を乗じたも
のであるが、図３に示すような限られた範囲内では黒丸
の測定点を近似した曲線を表す式とみなすことができ
る。このように、レーザガスの劣化等による出力パルス
エネルギ特性の変動は、「式３の右辺に所定の較正係数
を乗じる」という簡単な演算により容易に補正すること
ができる。ただし、この際、統計的な処理によって、１
パルスごとの出力変動の影響を除去する必要がある。

【００４９】ここで、本実施例における充電電圧と光パ
ルスエネルギとの間の算術的な関係を実際の出力結果に
したがって補正する処理手順を図に示すフローチャート
を参照して説明する。以下の説明において、パルス数の
カウント値をｊ、カウント値ｊがｉのときの励起回路へ
の充電電圧をＶ（ｉ）、実際に出力した光パルスエネル
ギの測定値をｄ（ｉ）、露光すべきパルスエネルギの期
待値をｍ（ｉ）、前述の式３の右辺に乗じる較正係数を
ｋ、１パルスごとの出力変動の平均化を行うべきパルス
数をＭパルスとすると、このときの式５の近似曲線は、

【００５０】

【００５１】と表すことができる。ただし、ｆ（Ｖ
（ｉ））は前述の式３の右辺を示す。

【００５２】そして、本実施例においては、パルスレー
ザが照射されるごとにＳ４０１に割り込み入力し、充電
電圧Ｖ（ｊ）とパルスエネルギｄ（ｊ）を保存する（Ｓ
４０１）。次いで、カウント値ｊを１加算し（Ｓ４０
２）、その後、カウント値ｊと平均化パルス数Ｍとを比
較する（Ｓ４０３）。ここで、カウント値ｊが平均化パ
ルス数Ｍよりも小さい場合には、この割り込み処理から
元のプロセスに復帰する。また、カウント値ｊが平均化
パルス数Ｍ以上であれば、次式にしたがって二乗誤差を
最小にする較正係数ｋを求める。

【００５３】

【００５４】次回のパルス出力からは、求められた較正
係数ｋを用い、式６にしたがって励起回路への充電電圧
を算出するように較正係数ｋの値を補正する（Ｓ４０
４）。その後、カウント値ｊを０にクリアして（Ｓ４０
５）、この割り込み処理から元のプロセスに復帰する。

【００５５】以上説明した較正係数ｋの補正方法を用い
てパルスエネルギの変動を補償する場合、まず、レーザ
ガス交換の直後に励起回路への充電電圧をパラメータに
してパイロット露光を行うことによって、式３の関数を
求めるとともに、較正係数ｋをｋ＝１に初期化する。そ
して、次のレーザガス交換時までの間は、例えば、平均
化パルス数Ｍ＝１６パルス程度の間隔で図のフローチャ
ートに示す手順で較正係数ｋの補正を繰り返すことによ
って、次のレーザガス交換までの間のパルス出力特性の
変動を補償する。

【００５６】このようなパルス出力特性の変動の補償を
行いながら、前述の第２の実施例による１パルスごとの
出力エネルギの制御を行えば、レーザガスの劣化等にか
かわらず、長時間、安定して露光量を制御することがで
きる。

【００５７】さらに、図２におけるＳ３のパルスエネル
ギが期待値ｍ（ｉ）となるように光源からの出力を制御
する過程で、式６の近似式の逆関数により光源の励起回
路への充電電圧Ｖ（ｉ）を制御することによって、１パ
ルスごとのパルスエネルギを制御しながら、かつ、１回
の総露光エネルギを制御することができる。

【００５８】なお、エキシマレーザの発振開始時の初期
段階ではレーザガスの温度等の関係で出力過多が生じる
が、その出力過多を抑えるように初期段階での励起回路
への充電電圧を低めに設定するという予測制御を本発明
に組み合わせることもできる。例えば、開始ｉパルス目
の実際の充電電圧Ｖｒ（ｉ）を次式により予測すること
ができる。

【００５９】

【００６０】ただし、本発明における露光量制御方法に
用いる励起回路への充電電圧としては、実際の充電電圧
Ｖｒ（ｉ）を用いるのではなく、予測制御前の充電電圧
Ｖ（ｉ）を用いなければ、例えば、式３等の近似が成り
立たなくたってしまう。

【発明の効果】以上説明したように、本発明では、エキ
シマレーザ等のパルス光源を用いた露光装置において、
ランニングコストを増加させることなく、露光量の誤差
を大幅に減少させることができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明による露光量制御方法を適用する露光装
置の一実施例の構成を示す図である。

【図２】本発明の第１の実施例の制御手順を示すフロー
チャートである。

【図３】エキシマレーザの励起回路への充電電圧に対す
る出力パルスエネルギの特性図である。

【図４】本発明の第２の実施例の制御手順を示すフロー
チャートである。

【図５】一般的なエキシマレーザの構成を示す図であ
る。

【符号の説明】

１ＣＰＵ２光源３照明光学系４レチクル５縮小光学系６ウェハ７エネルギモニタ８ウェハステージ９レーザ管１０励起回路１１ガス供給部

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.⁶ 識別記号庁内整理番号ＦＩ技術表示箇所Ｈ０１Ｓ 3/225 Ｈ０１Ｓ 3/223 Ｅ

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】パルス光源からシーケンシャルに出力さ
れる複数の光パルスによって行われる露光プロセスの露
光量を制御する方法において、前記露光プロセスに必要な露光総エネルギから現在まで
に出力された光パルスのエネルギを引いた残りのエネル
ギに応じて、次回に出力される光パルスのエネルギを規
定することを特徴とする露光量制御方法。
【請求項２】前記露光プロセスに必要な露光総エネル
ギから現在までに出力された光パルスのエネルギを引い
た残りのエネルギを、前記露光プロセスに用いられる総
パルス数から現在までに出力されたパルス数を引いた残
りのパルス数で割った値を次回に出力される光パルスの
エネルギとすることを特徴とする前記請求項１に記載の
露光量制御方法。
【請求項３】パルスレーザから出力される複数の光パ
ルスによって行われる露光の露光量を制御する方法にお
いて、前記パルスレーザの励起回路への充電電圧とそのパルス
レーザから出力される光パルスのエネルギとを所望の近
似式によって関係づけ、所定のパルスエネルギが与えられるときに、前記近似式
にしたがって、対応する前記励起回路への充電電圧を算
出し、前記励起回路への充電電圧を算出された前記充電電圧に
なるように前記パルスレーザを制御することを特徴とす
る露光量制御方法。
【請求項４】前記近似式の逆演算により算出される充
電電圧で前記パルスレーザから出力されたパルスエネル
ギを測定し、測定されたパルスエネルギに対して統計処理によってパ
ルス毎の変動分を除去した後、その測定結果に基づいて
前記充電電圧と前記パルスエネルギとの間の前記近似式
による関係を補正することを特徴とする前記請求項２に
記載の露光量制御方法。
【請求項５】前記近似式は、前記パルスレーザの励起
回路への充電電圧とそのパルスレーザから出力される光
パルスのエネルギとを二次関数または多項式または指数
関数または対数関数に近似したものであることを特徴と
する前記請求項２に記載の露光量制御方法。
【請求項６】パルス光源から出力される複数の光パル
スによって露光プロセスを行う露光装置において、前記パルス光源から出力される光パルスのエネルギを検
出するエネルギ検出手段と、前記エネルギ検出手段によって検出される光パルスのエ
ネルギを積算する積算手段と、予め設定される前記露光プロセスに必要な総露光エネル
ギと前記積算手段で算出される光パルスエネルギの積算
値との差に基づいて、次回に出力される光パルスのエネ
ルギを規定する手段とを備えることを特徴とする露光装
置。
【請求項７】前記パルス光源から出力される光パルス
数を計数する計数手段と、予め設定される前記露光プロセスに必要な総露光エネル
ギと前記積算手段で算出される光パルスエネルギの積算
値との差を第１の値として算出するとともに、前記総パ
ルス数と前記計数手段で計数されたパルス数との差を第
２の値として算出し、前記第１の値を前記第２の値で割
った値を第３の値として算出する手段と、前記第３の値を次回に出力される光パルスのエネルギと
するように制御する手段とを備えることを特徴とする前
記請求項６に記載の露光装置。