JPH08118378A - セルローストリアセテートフィルム及びその製造方法 - Google Patents
セルローストリアセテートフィルム及びその製造方法Info
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- JPH08118378A JPH08118378A JP25554494A JP25554494A JPH08118378A JP H08118378 A JPH08118378 A JP H08118378A JP 25554494 A JP25554494 A JP 25554494A JP 25554494 A JP25554494 A JP 25554494A JP H08118378 A JPH08118378 A JP H08118378A
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- cellulose triacetate
- drying
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08J—WORKING-UP; GENERAL PROCESSES OF COMPOUNDING; AFTER-TREATMENT NOT COVERED BY SUBCLASSES C08B, C08C, C08F, C08G or C08H
- C08J5/00—Manufacture of articles or shaped materials containing macromolecular substances
- C08J5/18—Manufacture of films or sheets
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08J—WORKING-UP; GENERAL PROCESSES OF COMPOUNDING; AFTER-TREATMENT NOT COVERED BY SUBCLASSES C08B, C08C, C08F, C08G or C08H
- C08J2301/00—Characterised by the use of cellulose, modified cellulose or cellulose derivatives
- C08J2301/08—Cellulose derivatives
- C08J2301/10—Esters of organic acids
- C08J2301/12—Cellulose acetate
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Abstract
(57)【要約】 （修正有）
【目的】 低温下で破壊を起こしにくいフィルムを提供
する。 【構成】 −２０℃から＋２３℃間の引裂強度を温度に
対してプロットし、その傾きをＺ（ｇ／℃）としたと
き、Ｚの値が０．３以下であり、膜厚が１１５〜１３５
μｍであるセルローストリアセテートフィルム。このフ
ィルムはセルローストリアセテートとその他の乾燥後固
体となる成分との和の濃度が１５〜３５重量％であるド
ープを無端支持体上に流延する流延工程と、支持体上に
流延されたフィルムをはぎ取って乾燥する乾燥工程とを
有するセルローストリアセテートフィルムの製造方法に
おいて、任意の揮発分領域での乾燥風温度（℃）をＴと
し、温度Ｔでの乾燥後引裂強度をＷとしたとき、Ｔに対
してＷをプロットして得られた変曲点における温度Ｔ0
に対して Ｔ0−１５＜Ｔ＜Ｔ0 なる乾燥風温度で乾燥させることによって得られる。
する。 【構成】 −２０℃から＋２３℃間の引裂強度を温度に
対してプロットし、その傾きをＺ（ｇ／℃）としたと
き、Ｚの値が０．３以下であり、膜厚が１１５〜１３５
μｍであるセルローストリアセテートフィルム。このフ
ィルムはセルローストリアセテートとその他の乾燥後固
体となる成分との和の濃度が１５〜３５重量％であるド
ープを無端支持体上に流延する流延工程と、支持体上に
流延されたフィルムをはぎ取って乾燥する乾燥工程とを
有するセルローストリアセテートフィルムの製造方法に
おいて、任意の揮発分領域での乾燥風温度（℃）をＴと
し、温度Ｔでの乾燥後引裂強度をＷとしたとき、Ｔに対
してＷをプロットして得られた変曲点における温度Ｔ0
に対して Ｔ0−１５＜Ｔ＜Ｔ0 なる乾燥風温度で乾燥させることによって得られる。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、フィルム強度、特に低
温下での実技強度が改良されたセルローストリアセテー
トフィルム及びその製造方法に関するものである。
温下での実技強度が改良されたセルローストリアセテー
トフィルム及びその製造方法に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】一般に、セルローストリアセテートフィ
ルムは溶液流延法で製造されている。この溶液流延法
は、一般に、メチレンクロライドを主溶媒とし、若干の
セルローストリアセテートに対する貧溶媒(以下、貧溶
媒という)を加えた混合溶媒に、セルローストリアセテ
ート及び可塑剤を溶解したドープを、ダイから連続的に
回転する無端支持体上に均一に流延し、その支持体上で
溶媒を蒸発させる。そして、ドープが固化した後支持体
から剥離させ、さらに乾燥を行ってフィルムを得るもの
である。
ルムは溶液流延法で製造されている。この溶液流延法
は、一般に、メチレンクロライドを主溶媒とし、若干の
セルローストリアセテートに対する貧溶媒(以下、貧溶
媒という)を加えた混合溶媒に、セルローストリアセテ
ート及び可塑剤を溶解したドープを、ダイから連続的に
回転する無端支持体上に均一に流延し、その支持体上で
溶媒を蒸発させる。そして、ドープが固化した後支持体
から剥離させ、さらに乾燥を行ってフィルムを得るもの
である。
【０００３】上述したような方法で得られるセルロース
トリアセテートフィルムは、光学的及び力学的性質が優
れ、かつ、耐湿性及び寸法安定性も良好であるので、写
真用フィルムベースとして広く用いられている。
トリアセテートフィルムは、光学的及び力学的性質が優
れ、かつ、耐湿性及び寸法安定性も良好であるので、写
真用フィルムベースとして広く用いられている。
【０００４】しかし、引裂強度、耐折強度、耐衝撃性、
柔軟性等の力学的強度が充分でないので、フィルム製造
工程、現像処理工程等において、裂け、折れ、欠け等に
よる故障が生じたり、製造加工工程、特に穿孔加工工程
において、切り屑が発生したり、加工刃の磨耗が大きく
なったりする場合がある。
柔軟性等の力学的強度が充分でないので、フィルム製造
工程、現像処理工程等において、裂け、折れ、欠け等に
よる故障が生じたり、製造加工工程、特に穿孔加工工程
において、切り屑が発生したり、加工刃の磨耗が大きく
なったりする場合がある。
【０００５】セルローストリアセテートフィルムの力学
的強度を改善する方法としては、溶液流延法の乾燥過程
で３〜２０％の範囲で収縮させる方法（特公昭４９−５
６１４号公報）、同様に２０％以上収縮させる方法（特
公昭４９−４５５４号公報）、メチレンクロライドの他
に貧溶媒を加えたドープをバンド表面に流延し、流延後
３分以内にドープ流延層を３０〜４２℃の温度範囲とな
るように加熱し、かつ、少なくとも１５秒間ドープ流延
層をこの温度範囲に保つことにより、フィルム強度、特
に引裂強度を向上させる方法（特公昭６１−３９８９０
号公報）が提案されている。
的強度を改善する方法としては、溶液流延法の乾燥過程
で３〜２０％の範囲で収縮させる方法（特公昭４９−５
６１４号公報）、同様に２０％以上収縮させる方法（特
公昭４９−４５５４号公報）、メチレンクロライドの他
に貧溶媒を加えたドープをバンド表面に流延し、流延後
３分以内にドープ流延層を３０〜４２℃の温度範囲とな
るように加熱し、かつ、少なくとも１５秒間ドープ流延
層をこの温度範囲に保つことにより、フィルム強度、特
に引裂強度を向上させる方法（特公昭６１−３９８９０
号公報）が提案されている。
【０００６】また、フィルム表面温度、収縮率を特定の
範囲に保って製造し、面配向度及び結晶化度を共に抑え
る方法（特開平４−１００９号公報）も提案されてい
る。
範囲に保って製造し、面配向度及び結晶化度を共に抑え
る方法（特開平４−１００９号公報）も提案されてい
る。
【０００７】
【発明が解決しようとする課題】セルローストリアセテ
ートフィルムは、写真用として広く用いられているが、
特に低温雰囲気下で脆性的になり、フィルム巻き上げ時
のトルクによりパーフォレーションの破断等が起こるこ
とがある。従来の技術はすべて、常温での強度向上を目
的としたものであり、常温での強度向上は低温でのフィ
ルム破壊の防止に必ずしも寄与しない。
ートフィルムは、写真用として広く用いられているが、
特に低温雰囲気下で脆性的になり、フィルム巻き上げ時
のトルクによりパーフォレーションの破断等が起こるこ
とがある。従来の技術はすべて、常温での強度向上を目
的としたものであり、常温での強度向上は低温でのフィ
ルム破壊の防止に必ずしも寄与しない。
【０００８】本発明の目的は、低温下でこのような破壊
を起こしにくいフィルムを提供することにある。
を起こしにくいフィルムを提供することにある。
【０００９】
【課題を解決するための手段】本発明者らは上記目的を
達成するべく種々検討の結果、流延後の乾燥条件によっ
てセルローストリアセテートフィルムの引裂強度の温度
変化が異なることを見出した。そして、さらに検討を進
め、この引裂強度の温度変化の勾配が特定数値以下のも
のが低温強度が大きいこと、このようなフィルムは特定
の乾燥条件下でのみ得られることを見出した。その特定
乾燥条件のひとつは、乾燥風温度と引裂強度との関係に
は変曲点があり、その変曲点よりやや低い温度で乾燥さ
せることである。
達成するべく種々検討の結果、流延後の乾燥条件によっ
てセルローストリアセテートフィルムの引裂強度の温度
変化が異なることを見出した。そして、さらに検討を進
め、この引裂強度の温度変化の勾配が特定数値以下のも
のが低温強度が大きいこと、このようなフィルムは特定
の乾燥条件下でのみ得られることを見出した。その特定
乾燥条件のひとつは、乾燥風温度と引裂強度との関係に
は変曲点があり、その変曲点よりやや低い温度で乾燥さ
せることである。
【００１０】すなわち、本発明は、−２０℃から＋２３
℃間の引裂強度を温度に対してプロットし、その傾きを
Ｚ（ｇ／℃）としたとき、Ｚの値が０．３以下であり、
膜厚が１１５〜１３５μｍであることを特徴とするセル
ローストリアセテートフィルム、セルローストリアセテ
ートとその他の乾燥後固体となる成分との和の濃度が１
５〜３５重量％であるドープを無端支持体上に流延する
流延工程と、支持体上に流延されたフィルムをはぎ取っ
て乾燥する乾燥工程とを有するセルローストリアセテー
トフィルムの製造方法において、任意の揮発分領域での
乾燥風温度（℃）をＴとし、温度Ｔでの乾燥後引裂強度
をＷとしたとき、Ｔに対してＷをプロットして得られた
変曲点における温度Ｔ0に対して Ｔ0−１５＜Ｔ＜Ｔ0 なる乾燥風温度で乾燥することを特徴とするセルロース
トリアセテートフィルムの製造方法、に関するものであ
る。
℃間の引裂強度を温度に対してプロットし、その傾きを
Ｚ（ｇ／℃）としたとき、Ｚの値が０．３以下であり、
膜厚が１１５〜１３５μｍであることを特徴とするセル
ローストリアセテートフィルム、セルローストリアセテ
ートとその他の乾燥後固体となる成分との和の濃度が１
５〜３５重量％であるドープを無端支持体上に流延する
流延工程と、支持体上に流延されたフィルムをはぎ取っ
て乾燥する乾燥工程とを有するセルローストリアセテー
トフィルムの製造方法において、任意の揮発分領域での
乾燥風温度（℃）をＴとし、温度Ｔでの乾燥後引裂強度
をＷとしたとき、Ｔに対してＷをプロットして得られた
変曲点における温度Ｔ0に対して Ｔ0−１５＜Ｔ＜Ｔ0 なる乾燥風温度で乾燥することを特徴とするセルロース
トリアセテートフィルムの製造方法、に関するものであ
る。
【００１１】本発明のフィルムの上記引裂強度の傾きＺ
（ｇ／℃）は０．３以下であるが、好ましくは０．２８
以下であり、特に好ましくは０．２５以下である。フィ
ルムの膜厚は１１５〜１３５μｍであり、１２０〜１３
０μｍが好ましい。
（ｇ／℃）は０．３以下であるが、好ましくは０．２８
以下であり、特に好ましくは０．２５以下である。フィ
ルムの膜厚は１１５〜１３５μｍであり、１２０〜１３
０μｍが好ましい。
【００１２】また、乾燥風を引裂強度の変曲点温度
(Ｔ0）以下に調整して乾燥する方法における乾燥風温度
Ｔ(℃）はＴ0−１５＜Ｔ＜Ｔ0であり、好ましくはＴ0−
１０＜Ｔ＜Ｔ0、さらに好ましくはＴ0−５＜Ｔ＜Ｔ0で
ある。この乾燥風で乾燥される時期はフィルムの揮発分
が好ましくは少なくとも６０％から１０％の間にある時
期であり、特に好ましくは５０％から２０％の間にある
時期である。
(Ｔ0）以下に調整して乾燥する方法における乾燥風温度
Ｔ(℃）はＴ0−１５＜Ｔ＜Ｔ0であり、好ましくはＴ0−
１０＜Ｔ＜Ｔ0、さらに好ましくはＴ0−５＜Ｔ＜Ｔ0で
ある。この乾燥風で乾燥される時期はフィルムの揮発分
が好ましくは少なくとも６０％から１０％の間にある時
期であり、特に好ましくは５０％から２０％の間にある
時期である。
【００１３】本発明に用いるセルローストリアセテート
フィルムは、セルロース単位あたり、約３ヶのアセチル
基が反応したものであり、その置換の程度は、通常、酢
化度によって表現されるが、本発明に用いるセルロース
トリアセテートとしては、酢化度56〜62％のものが好ま
しい。また、セルロース原料としては、パルプ、リンタ
ーなどが知られているが、本発明のためのセルロースト
リアセテートの原料セルロースとしてはいずれでもよ
い。
フィルムは、セルロース単位あたり、約３ヶのアセチル
基が反応したものであり、その置換の程度は、通常、酢
化度によって表現されるが、本発明に用いるセルロース
トリアセテートとしては、酢化度56〜62％のものが好ま
しい。また、セルロース原料としては、パルプ、リンタ
ーなどが知られているが、本発明のためのセルロースト
リアセテートの原料セルロースとしてはいずれでもよ
い。
【００１４】セルローストリアセテート以外の乾燥後固
体となる成分としては、可塑剤、剥ぎ取り促進剤など必
要に応じて各種添加剤がある。
体となる成分としては、可塑剤、剥ぎ取り促進剤など必
要に応じて各種添加剤がある。
【００１５】可塑剤としては、トリフェニルフォスフェ
ート、トリグレシルフォスフェート、トリエチルフォス
フェート、ビフェニルジフェニルフォスフェート等、フ
タル酸エステル系では、ジメチルフタレート、ジエチル
フタレート、ジメトキシジエチルフタレート等、グリコ
ール酸エステル系では、メチルフタリルエチルグリコレ
ート、エチルフタリルエチルグリコレート等を単独又は
併用して用いることができる。
ート、トリグレシルフォスフェート、トリエチルフォス
フェート、ビフェニルジフェニルフォスフェート等、フ
タル酸エステル系では、ジメチルフタレート、ジエチル
フタレート、ジメトキシジエチルフタレート等、グリコ
ール酸エステル系では、メチルフタリルエチルグリコレ
ート、エチルフタリルエチルグリコレート等を単独又は
併用して用いることができる。
【００１６】また、可塑剤は、セルローストリアセテー
トに対して約５〜３０重量％の範囲で使用可能であり、
過剰に用いると乾燥時に可塑剤がフィルムから浸みだす
現象があるので、５〜２０重量％を用いるのが好まし
い。
トに対して約５〜３０重量％の範囲で使用可能であり、
過剰に用いると乾燥時に可塑剤がフィルムから浸みだす
現象があるので、５〜２０重量％を用いるのが好まし
い。
【００１７】剥ぎ取り促進剤は、ドープを流延後、無端
支持体上からフィルムを剥ぎ取るまでの時間を短縮する
ためのものである。この剥ぎ取り促進剤としては、各種
の金属せっけんなど知られているが、米国特許第２，２
７５，７１６号明細書、同第３，５２８，８３３号明細
書、同第３，７９３，０４３号明細書、同第４，３４
８，２３８号明細書、特開昭６１−２４３８３７号公報
などに示されているものを好ましく用いることができ
る。
支持体上からフィルムを剥ぎ取るまでの時間を短縮する
ためのものである。この剥ぎ取り促進剤としては、各種
の金属せっけんなど知られているが、米国特許第２，２
７５，７１６号明細書、同第３，５２８，８３３号明細
書、同第３，７９３，０４３号明細書、同第４，３４
８，２３８号明細書、特開昭６１−２４３８３７号公報
などに示されているものを好ましく用いることができ
る。
【００１８】溶媒としては、メチレンクロライドの他
に、αアミド類、ジエチレングリコールなどの多価アル
コール類、モノクロルベンゼン、ベンゼン、トルエンな
どの芳香族化合物、酢酸エチル、酢酸プロピレンなどの
エステル類、テトラヒドロフラン、メチルセルソルブ、
エチレングリコールモノメチルエーテルなどのエーテル
類などを混合して用いる。
に、αアミド類、ジエチレングリコールなどの多価アル
コール類、モノクロルベンゼン、ベンゼン、トルエンな
どの芳香族化合物、酢酸エチル、酢酸プロピレンなどの
エステル類、テトラヒドロフラン、メチルセルソルブ、
エチレングリコールモノメチルエーテルなどのエーテル
類などを混合して用いる。
【００１９】本発明のセルローストリアセテートフィル
ムの製造方法を実施する製造装置の一態様を図２に基づ
いて説明する。
ムの製造方法を実施する製造装置の一態様を図２に基づ
いて説明する。
【００２０】図２において、符号１はドープが流延され
る冷却ドラム、符号２は冷却ドラム１からはぎ取られた
フィルム３を乾燥させる乾燥室である。冷却ドラム１の
上部には、ドープを流延させるための流延ダイ４が設け
られ、冷却ドラム１と乾燥室２との間には、冷却ドラム
１からフィルム２をはぎ取るための剥取ロール５が設け
られている。また、乾燥室２の内部には、フィルム３を
搬送するための搬送ローラー６が設けられるとともに、
フィルム３の幅を規制する幅規制部材７が設けられ、走
行中のフィルム３に熱風を吹き掛ける熱風吹き掛け手段
（図示せず）が設けられている。本発明の方法で乾燥さ
せる場合、冷却ドラムは１０℃以下に冷却されているこ
とが好ましいが、本発明は上記した態様に限定されるも
のではない。
る冷却ドラム、符号２は冷却ドラム１からはぎ取られた
フィルム３を乾燥させる乾燥室である。冷却ドラム１の
上部には、ドープを流延させるための流延ダイ４が設け
られ、冷却ドラム１と乾燥室２との間には、冷却ドラム
１からフィルム２をはぎ取るための剥取ロール５が設け
られている。また、乾燥室２の内部には、フィルム３を
搬送するための搬送ローラー６が設けられるとともに、
フィルム３の幅を規制する幅規制部材７が設けられ、走
行中のフィルム３に熱風を吹き掛ける熱風吹き掛け手段
（図示せず）が設けられている。本発明の方法で乾燥さ
せる場合、冷却ドラムは１０℃以下に冷却されているこ
とが好ましいが、本発明は上記した態様に限定されるも
のではない。
【００２１】
【作用】本発明では、引裂強度の温度変化を一定以下に
抑えるので、低温下の強度が改善できる。
抑えるので、低温下の強度が改善できる。
【００２２】
〔実施例１〕セルローストリアセテート２０重量％、ト
リフェニルフォスフェート２重量％、ビフェニルジフェ
ニルフォスフェート１重量％、メチレンクロライド６３
重量％、メタノール１１重量％、ブタノール２重量％か
らなるドープを用い、図３に示す装置でフィルム製造し
た。冷却ドラムは−３〜−５℃に保った。引裂強度はサ
ンプルを２５℃、６５％ＲＨで３時間以上調湿し、その
条件下で、カミソリで切り目を入れ、上下に引き裂く時
の抵抗力（ｇ）をを軽荷重引裂き試験機（東洋精機製）
を用いて測定した。引裂き長さは、６０ｍｍであった。
引裂強度の温度に対する傾き（Ｚ）は、東洋精機製軽荷
重引裂試験機を用いて２３．０，−２０℃で測定、最小
自乗法で求めた。乾燥風温風と引裂強度（常温測定）の
関係は図１に実線で示し、乾燥風温度と引裂強度の温度
に対する傾きＺ（ｇ／℃）の関係は図１に破線で示すと
おりであった。実線の変曲点Ｔ0までは、Ｔの上昇につ
れ傾きＺ（ｇ／℃）は減少し（好ましい方向）、Ｔ0以
上では急激に上昇した（好ましくない方向）。
リフェニルフォスフェート２重量％、ビフェニルジフェ
ニルフォスフェート１重量％、メチレンクロライド６３
重量％、メタノール１１重量％、ブタノール２重量％か
らなるドープを用い、図３に示す装置でフィルム製造し
た。冷却ドラムは−３〜−５℃に保った。引裂強度はサ
ンプルを２５℃、６５％ＲＨで３時間以上調湿し、その
条件下で、カミソリで切り目を入れ、上下に引き裂く時
の抵抗力（ｇ）をを軽荷重引裂き試験機（東洋精機製）
を用いて測定した。引裂き長さは、６０ｍｍであった。
引裂強度の温度に対する傾き（Ｚ）は、東洋精機製軽荷
重引裂試験機を用いて２３．０，−２０℃で測定、最小
自乗法で求めた。乾燥風温風と引裂強度（常温測定）の
関係は図１に実線で示し、乾燥風温度と引裂強度の温度
に対する傾きＺ（ｇ／℃）の関係は図１に破線で示すと
おりであった。実線の変曲点Ｔ0までは、Ｔの上昇につ
れ傾きＺ（ｇ／℃）は減少し（好ましい方向）、Ｔ0以
上では急激に上昇した（好ましくない方向）。
【００２３】異なる条件で製膜した１２０〜１２９μの
フィルムに写真用乳剤を塗布し、３５ｍｍフィルム形態
に裁断、穿孔、パトローネへの巻き込み加工を行った。
−２０℃雰囲気下でこのフィルムをモータドライブ付き
カメラ（ニコン Ｆ３ ＭＤ−４，モータ電圧：１６．
８Ｖ）に装填、フィルム終了まで自動巻き上げを行っ
た。取り出したフィルムの穿孔部分を目視観察し、穿孔
部の破断を×、破断に至らない亀裂を△として判定し
た。
フィルムに写真用乳剤を塗布し、３５ｍｍフィルム形態
に裁断、穿孔、パトローネへの巻き込み加工を行った。
−２０℃雰囲気下でこのフィルムをモータドライブ付き
カメラ（ニコン Ｆ３ ＭＤ−４，モータ電圧：１６．
８Ｖ）に装填、フィルム終了まで自動巻き上げを行っ
た。取り出したフィルムの穿孔部分を目視観察し、穿孔
部の破断を×、破断に至らない亀裂を△として判定し
た。
【００２４】
【表１】
【００２５】低温でのカメラテストによる破壊強度が、
必ずしも常温での強度によらず、温度に対する傾きと相
関していることがわかる。
必ずしも常温での強度によらず、温度に対する傾きと相
関していることがわかる。
【００２６】
【発明の効果】温度に対する引き裂き強度の勾配を下げ
ることで、低温での写真フィルム穿孔部の破断等の故障
を予防している。乾燥風の温度を引き裂き強度の変曲点
以下−１５℃以内に保つことで、該条件、処方内で最適
の低温物性を得ることができる。また、ベース残留揮発
分とベース表面温度を所定の関係に保つことにより、低
温での写真フィルム穿孔部の破断等の故障を予防してい
る。セルローストリアセテートフィルムの低温物性を改
善するため、乾燥温度に最適範囲が存在することは、本
発明者らが初めて見出したものである。また、実施例１
に示すように、常温での強度が必ずしも低温でのフィル
ム破壊現象とは相関がなく、温度に対する傾きと相関が
あることも、発明者らが初めて見出したものである。
ることで、低温での写真フィルム穿孔部の破断等の故障
を予防している。乾燥風の温度を引き裂き強度の変曲点
以下−１５℃以内に保つことで、該条件、処方内で最適
の低温物性を得ることができる。また、ベース残留揮発
分とベース表面温度を所定の関係に保つことにより、低
温での写真フィルム穿孔部の破断等の故障を予防してい
る。セルローストリアセテートフィルムの低温物性を改
善するため、乾燥温度に最適範囲が存在することは、本
発明者らが初めて見出したものである。また、実施例１
に示すように、常温での強度が必ずしも低温でのフィル
ム破壊現象とは相関がなく、温度に対する傾きと相関が
あることも、発明者らが初めて見出したものである。
【図１】 実施例で得られた乾燥風温度と引裂強度及び
引裂強度／温度の関係を示すグラフである。
引裂強度／温度の関係を示すグラフである。
【図２】 本発明のセルローストリアセテートフィルム
の製造に使用するドラム流延装置の概略の構成を示す図
である。
の製造に使用するドラム流延装置の概略の構成を示す図
である。
１…冷却ドラム ２…乾燥室 ３…フィルム ４…流延ダイ ５…剥取りロール ７…幅規制部材
【手続補正書】
【提出日】平成７年２月９日
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００４
【補正方法】変更
【補正内容】
【０００４】しかし、引裂強度、耐折強度、耐衝撃性、
柔軟性等の力学的強度が充分でないので、フィルム製造
工程、現像処理工程等において、裂け、折れ、欠け等に
よる故障が生じる場合がある。
柔軟性等の力学的強度が充分でないので、フィルム製造
工程、現像処理工程等において、裂け、折れ、欠け等に
よる故障が生じる場合がある。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１５
【補正方法】変更
【補正内容】
【００１５】可塑剤としては、トリフェニルフォスフェ
ート、トリクレジルフォスフェート、トリエチルフォス
フェート、ビフェニルジフェニルフォスフェート等、フ
タル酸エステル系では、ジメチルフタレート、ジエチル
フタレート、ジメトキシジエチルフタレート等、グリコ
ール酸エステル系では、メチルフタリルエチルグリコレ
ート、エチルフタリルエチルグリコレート等を単独又は
併用して用いることができる。
ート、トリクレジルフォスフェート、トリエチルフォス
フェート、ビフェニルジフェニルフォスフェート等、フ
タル酸エステル系では、ジメチルフタレート、ジエチル
フタレート、ジメトキシジエチルフタレート等、グリコ
ール酸エステル系では、メチルフタリルエチルグリコレ
ート、エチルフタリルエチルグリコレート等を単独又は
併用して用いることができる。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１８
【補正方法】変更
【補正内容】
【００１８】溶媒としては、メチレンクロライドの他
に、αアミド類、アルコール類、モノクロルベンゼン、
ベンゼン、トルエンなどの芳香族化合物、酢酸エチル、
酢酸プロピレンなどのエステル類、テトラヒドロフラ
ン、メチルセルソルブ、エチレングリコールモノメチル
エーテルなどのエーテル類などを混合して用いる。
に、αアミド類、アルコール類、モノクロルベンゼン、
ベンゼン、トルエンなどの芳香族化合物、酢酸エチル、
酢酸プロピレンなどのエステル類、テトラヒドロフラ
ン、メチルセルソルブ、エチレングリコールモノメチル
エーテルなどのエーテル類などを混合して用いる。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２２
【補正方法】変更
【補正内容】
【００２２】
【実施例】 〔実施例１〕セルローストリアセテート２０重量％、ト
リフェニルフォスフェート２重量％、ビフェニルジフェ
ニルフォスフェート１重量％、メチレンクロライド６３
重量％、メタノール１１重量％、ブタノール２重量％か
らなるドープを用い、図３に示す装置でフィルム製造し
た。冷却ドラムは−３〜−５℃に保った。引裂強度はサ
ンプルを２５℃、６５％ＲＨで３時間以上調湿し、その
条件下で、カミソリで切り目を入れ、上下に引き裂く時
の抵抗力（ｇ）を軽荷重引裂き試験機（東洋精機製）を
用いて測定した。引裂き長さは、６０ｍｍであった。引
裂強度の温度に対する傾き（Ｚ）は、東洋精機製軽荷重
引裂試験機を用いて２３．０，−２０℃で測定、最小自
乗法で求めた。乾燥風温風と引裂強度（常温測定）の関
係は図１に実線で示し、乾燥風温度と引裂強度の温度に
対する傾きＺ（ｇ／℃）の関係は図１に破線で示すとお
りであった。実線の変曲点Ｔ0までは、Ｔの上昇につれ
傾きＺ（ｇ／℃）は減少し（好ましい方向）、Ｔ0以上
では急激に上昇した（好ましくない方向）。 ─────────────────────────────────────────────────────
リフェニルフォスフェート２重量％、ビフェニルジフェ
ニルフォスフェート１重量％、メチレンクロライド６３
重量％、メタノール１１重量％、ブタノール２重量％か
らなるドープを用い、図３に示す装置でフィルム製造し
た。冷却ドラムは−３〜−５℃に保った。引裂強度はサ
ンプルを２５℃、６５％ＲＨで３時間以上調湿し、その
条件下で、カミソリで切り目を入れ、上下に引き裂く時
の抵抗力（ｇ）を軽荷重引裂き試験機（東洋精機製）を
用いて測定した。引裂き長さは、６０ｍｍであった。引
裂強度の温度に対する傾き（Ｚ）は、東洋精機製軽荷重
引裂試験機を用いて２３．０，−２０℃で測定、最小自
乗法で求めた。乾燥風温風と引裂強度（常温測定）の関
係は図１に実線で示し、乾燥風温度と引裂強度の温度に
対する傾きＺ（ｇ／℃）の関係は図１に破線で示すとお
りであった。実線の変曲点Ｔ0までは、Ｔの上昇につれ
傾きＺ（ｇ／℃）は減少し（好ましい方向）、Ｔ0以上
では急激に上昇した（好ましくない方向）。 ─────────────────────────────────────────────────────
【手続補正書】
【提出日】平成７年５月２６日
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１５
【補正方法】変更
【補正内容】
【００１５】可塑剤としては、トリフェニルフォスフェ
ート、トリクレジルフォスフェート、トリエチルフォス
フェート、ビフェニルジフェニルフォスフェート等、フ
タル酸エステル系では、ジメチルフタレート、ジエチル
フタレート、ジメトキシエチルフタレート等、グリコー
ル酸エステル系では、メチルフタリルエチルグリコレー
ト、エチルフタリルエチルグリコレート等を単独又は併
用して用いることができる。
ート、トリクレジルフォスフェート、トリエチルフォス
フェート、ビフェニルジフェニルフォスフェート等、フ
タル酸エステル系では、ジメチルフタレート、ジエチル
フタレート、ジメトキシエチルフタレート等、グリコー
ル酸エステル系では、メチルフタリルエチルグリコレー
ト、エチルフタリルエチルグリコレート等を単独又は併
用して用いることができる。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 ＦＩ 技術表示箇所 // Ｂ２９Ｋ 1:00 Ｂ２９Ｌ 7:00 Ｃ０８Ｌ 1:12
Claims (2)
- 【請求項１】 −２０℃から＋２３℃間の引裂強度を温
度に対してプロットし、その傾きをＺ（ｇ／℃）とした
とき、Ｚの値が０．３以下であり、膜厚が１１５〜１３
５μｍであることを特徴とするセルローストリアセテー
トフィルム - 【請求項２】 セルローストリアセテートとその他の乾
燥後固体となる成分との和の濃度が１５〜３５重量％で
あるドープを無端支持体上に流延する流延工程と、支持
体上に流延されたフィルムをはぎ取って乾燥する乾燥工
程とを有するセルローストリアセテートフィルムの製造
方法において、任意の揮発分領域での乾燥風温度（℃）
をＴとし、温度Ｔでの乾燥後引裂強度をＷとしたとき、
Ｔに対してＷをプロットして得られた変曲点における温
度Ｔ0に対して Ｔ0−１５＜Ｔ＜Ｔ0 なる乾燥風温度で乾燥することを特徴とするセルロース
トリアセテートフィルムの製造方法
Priority Applications (4)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP25554494A JPH08118378A (ja) | 1994-10-20 | 1994-10-20 | セルローストリアセテートフィルム及びその製造方法 |
| EP19950116572 EP0708135B1 (en) | 1994-10-20 | 1995-10-20 | Cellulose triacetate film and process for producing the same |
| DE1995617121 DE69517121T2 (de) | 1994-10-20 | 1995-10-20 | Cellulosetriacetatfolie und Verfahren zu ihrer Herstellung |
| US09/664,438 US6599458B1 (en) | 1994-10-20 | 2000-09-18 | Cellulose triacetate film and process for producing the same |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP25554494A JPH08118378A (ja) | 1994-10-20 | 1994-10-20 | セルローストリアセテートフィルム及びその製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH08118378A true JPH08118378A (ja) | 1996-05-14 |
Family
ID=17280207
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP25554494A Pending JPH08118378A (ja) | 1994-10-20 | 1994-10-20 | セルローストリアセテートフィルム及びその製造方法 |
Country Status (3)
| Country | Link |
|---|---|
| EP (1) | EP0708135B1 (ja) |
| JP (1) | JPH08118378A (ja) |
| DE (1) | DE69517121T2 (ja) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR102535788B1 (ko) | 2015-02-27 | 2023-05-23 | 아이슬란드 폴리머 인더스트리스 게엠베하 | 고투명성 다기능 광학 필름 및 이의 제조 방법 |
Family Cites Families (13)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US2275716A (en) | 1939-09-15 | 1942-03-10 | Eastman Kodak Co | Process of casting plastic sheeting |
| US3528833A (en) | 1967-02-24 | 1970-09-15 | Celanese Corp | Cast cellulose acetate film having high slip |
| US3793043A (en) | 1969-07-30 | 1974-02-19 | Eastman Kodak Co | Cellulose ester dope solution containing inorganic chromium salts |
| JPS5316697B2 (ja) | 1972-04-24 | 1978-06-02 | ||
| JPS5110975B2 (ja) | 1972-05-06 | 1976-04-08 | ||
| JPS5514201A (en) | 1977-12-28 | 1980-01-31 | Konishiroku Photo Ind Co Ltd | Method of manufacturing cellulose triacetate film |
| US4190446A (en) | 1978-09-06 | 1980-02-26 | Eastman Kodak Company | Photocrosslinkable, high-temperature-resistant polymers and their use in color imaging devices |
| US4348238A (en) | 1980-06-26 | 1982-09-07 | Eastman Kodak Company | Manufacture of cellulose ester film |
| JPS61243837A (ja) | 1985-04-22 | 1986-10-30 | Fuji Photo Film Co Ltd | セルロ−スエステルフイルム |
| JPS6246625A (ja) * | 1985-08-26 | 1987-02-28 | Fuji Photo Film Co Ltd | セルロ−ストリアセテ−トフイルムの乾燥方法 |
| JPS6455214A (en) * | 1987-08-27 | 1989-03-02 | Konishiroku Photo Ind | Manufacture of cellulose triacetate film |
| JP2559073B2 (ja) | 1990-04-19 | 1996-11-27 | 富士写真フイルム株式会社 | セルローストリアセテートフィルムの製造方法 |
| JP2630535B2 (ja) * | 1992-01-09 | 1997-07-16 | 富士写真フイルム株式会社 | 溶液製膜方法 |
-
1994
- 1994-10-20 JP JP25554494A patent/JPH08118378A/ja active Pending
-
1995
- 1995-10-20 DE DE1995617121 patent/DE69517121T2/de not_active Expired - Lifetime
- 1995-10-20 EP EP19950116572 patent/EP0708135B1/en not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| DE69517121T2 (de) | 2000-09-21 |
| EP0708135B1 (en) | 2000-05-24 |
| DE69517121D1 (de) | 2000-06-29 |
| EP0708135A1 (en) | 1996-04-24 |
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