JPH08111585A - Manufacture of multilayer printed wiring board - Google Patents

Manufacture of multilayer printed wiring board

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JPH08111585A
JPH08111585A JP7798795A JP7798795A JPH08111585A JP H08111585 A JPH08111585 A JP H08111585A JP 7798795 A JP7798795 A JP 7798795A JP 7798795 A JP7798795 A JP 7798795A JP H08111585 A JPH08111585 A JP H08111585A
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copper foil
wiring board
printed wiring
multilayer printed
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聖 中道
Tomomi Honjiyouya
共美 本庄谷
Takeshi Hozumi
猛 八月朔日
Chiyuu Hayai
宙 早井
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Sumitomo Bakelite Co Ltd
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Abstract

PURPOSE: To smooth the surface of a multilayer printed wiring board and to control the wiring board in thickness independent of a residual rate of an inner copper foil by a method wherein photo/thermosetting undercoat is applied onto an inner circuit board and turned into a B stage by light irradiation, then a copper foil possessed of a thermosetting insulating adhesive agent layer is laminated thereon, and the inner circuit board and the copper foil are formed into one piece by heating. CONSTITUTION: Liquid undercoat 3 is applied onto an inner circuit board 1 thick enough to cover an inner circuit 2 by a coating equipment such as a screen printing device. Thereafter, the inner circuit board 1 is exposed to light by a light exposure device such as a UV irradiation conveyer or the like to set the liquid undercoat 3 into a B stage. Then, a copper foil 5 where thermosetting insulating adhesive agent 4 is applied is laminated on the undercoat 3 with a hard roll 6. By using the hard roll 6, the surface of a multilayer printed wiring board of this constitution is turned smooth, and an interlayer thickness between the inner circuit 2 and the copper foil 5 is determined by the thickness of the thermosetting insulating adhesive agent. Then, a concurrently integrating curing reaction is made to take place by heating to form the undercoat 3 and the thermosetting insulating adhesive agent 4 into one piece, and thus a multilayer printed wiring board 7 is manufactured.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は、熱盤プレスを使用しな
いでも表面平滑性と板厚精度に優れた多層プリント配線
板を製造する方法に関するものである。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a method for producing a multilayer printed wiring board excellent in surface smoothness and plate thickness accuracy without using a hot platen press.

【0002】[0002]

【従来の技術】従来、多層プリント配線板を製造する場
合、回路作成された内層回路基板上にガラスクロス基材
にエポキシ樹脂を含浸してBステージ化させたプリプレ
グシートを1枚以上重ね、更にその上に銅箔を重ね熱盤
プレスにて加熱一体成形するという工程を経ている。し
かし、この工程では含浸樹脂を熱により再流動させ一定
圧力下で硬化させるため、均一に硬化成形するには1〜
1.5時間は必要である。このように製造工程が長くか
かる上に、多層積層のための熱盤プレス及びガラスクロ
スプリプレグのコスト等により高コストとなっている。
加えてガラスクロスに樹脂を含浸させる方法のため層間
厚の極薄化も困難であった。
2. Description of the Related Art Conventionally, in the case of manufacturing a multilayer printed wiring board, one or more prepreg sheets obtained by impregnating a glass cloth base material with an epoxy resin and forming a B stage on an inner layer circuit board on which a circuit is formed are further stacked. The process of stacking copper foil on it and heating and integrally molding it with a hot platen press is performed. However, in this process, the impregnated resin is reflowed by heat and cured under a constant pressure.
1.5 hours is required. In addition to the long manufacturing process, the cost of the hot platen press for stacking multiple layers and the cost of the glass cloth prepreg are high.
In addition, it is difficult to make the interlayer thickness extremely thin because the glass cloth is impregnated with the resin.

【0003】近年、これらの問題を解決するため、熱盤
プレスによる加熱加圧成形を行わず、層間絶縁材料にガ
ラスクロスを用いない、ビルドアップ方式による多層プ
リント配線板の技術が改めて注目されている。
In recent years, in order to solve these problems, the technology of a multilayer printed wiring board by a build-up method, which does not perform heat and pressure molding by a hot platen press and does not use glass cloth as an interlayer insulating material, has been renewed attention. There is.

【0004】[0004]

【発明が解決しようとする課題】ビルドアップ方式によ
る多層プリント配線板の製造方法において、フィルム状
の層間絶縁樹脂層を用いた場合、プリプレグで層間絶縁
樹脂層を形成する方法と比べて作業効率が著しく向上す
る。しかし、内層回路板の絶縁基板と回路との段差部分
にある空気を巻き込むことが予想され、それを防止する
ためは、減圧の環境下でラミネートを行わねばならず、
特殊な設備が必要になってくる。また、ラミネートした
絶縁層が内層回路板の絶縁基板と回路との段差に追従す
るため、表面平滑性が得られず、部品実装時に半田付け
不良等が発生したり、エッチングレジスト形成工程でレ
ジストの剥離、パターン現像度低下が発生して安定した
レジスト形成ができない等の問題がある。
In the method for manufacturing a multilayer printed wiring board by the build-up method, when a film-shaped interlayer insulating resin layer is used, the work efficiency is higher than that of the method of forming the interlayer insulating resin layer with prepreg. Remarkably improved. However, it is expected that air will be entrained in the stepped portion between the insulating substrate of the inner layer circuit board and the circuit, and in order to prevent that, lamination must be performed under a reduced pressure environment,
Special equipment is needed. In addition, since the laminated insulating layer follows the step between the insulating substrate of the inner layer circuit board and the circuit, surface smoothness cannot be obtained, and soldering failure etc. may occur during component mounting, or resist There are problems such as peeling and deterioration of pattern development, which makes it impossible to form a stable resist.

【0005】さらに、プリプレグを使用した場合も同様
であるが、内層回路パターンの銅箔残存率によって埋め
込む樹脂量が変化することから同じフィルムを使用して
も成形後の板厚が同じにならない。つまり、銅箔残存率
が大きく埋め込むべき部分が少ない場合は板厚が厚くな
り、銅箔残存率が小さく埋め込むべき部分が多い場合は
板厚が薄くなることから、銅箔残存率によってフィルム
厚も変えなければ同じ板厚を達成することができない。
また、一枚の内層回路板でも場所により銅箔残存率に差
がある場合には得られた多層プリント配線板の板厚が均
一にならない欠点が生じることになる。
Further, the same applies to the case of using a prepreg, but since the amount of resin to be embedded changes depending on the copper foil remaining rate of the inner layer circuit pattern, the same film does not have the same plate thickness after molding. In other words, if the copper foil residual rate is large and the portion to be embedded is small, the plate thickness will be thick, and if the copper foil residual rate is small and the portion to be embedded is large, the plate thickness will be thin. Unless changed, the same plate thickness cannot be achieved.
In addition, even if one inner layer circuit board has a different copper foil residual rate depending on the location, the resulting multilayer printed wiring board may have a non-uniform thickness.

【0006】[0006]

【課題を解決するための手段】本発明は、内層回路板に
光・熱硬化型アンダーコート剤を塗工し、光照射により
Bステージ化させた後、熱硬化型絶縁性接着剤層を有す
る銅箔をラミネートし、次いで、加熱により一体硬化さ
せることを特徴とする多層プリント配線板の製造方法で
ある。そして、特にファインパターンが要求される場
合、ラミネート後の表面平滑性を良好にするために、前
記銅箔として、外層回路となる厚さ1〜50μmの銅箔
の層とラミネート後除去する厚さ10〜200μmの金
属層を有した全厚11〜250μmの2層構造の銅箔を
使用する。
According to the present invention, an inner layer circuit board is coated with a light / thermosetting undercoat agent, and after being irradiated with light to be B-staged, it has a thermosetting insulating adhesive layer. This is a method for manufacturing a multilayer printed wiring board, which comprises laminating a copper foil and then integrally curing it by heating. And when a fine pattern is particularly required, in order to improve the surface smoothness after lamination, as the copper foil, a layer of the copper foil having a thickness of 1 to 50 μm to be an outer layer circuit and a thickness to be removed after lamination are formed. A two-layer copper foil having a total thickness of 11 to 250 μm with a metal layer of 10 to 200 μm is used.

【0007】即ち、スクリーン印刷、ローラーコータ
ー、カーテンコーターなどで液状のアンダーコート剤を
塗工して、内層回路板の銅箔回路間凹部を充填し、UV
照射コンベア等の露光機によって光照射してアンダーコ
ート剤をBステージ化させる。Bステージ化されたアン
ダーコート剤は一時的に形状を保持することができ、そ
の後、熱硬化型絶縁性接着剤付き銅箔を接着させる際に
加熱された硬質ロール等を使用することにより、該アン
ダーコート剤を再溶融させ内層回路板の絶縁基板と回路
との段差部分にある空気を巻き込むことなく、また表面
平滑性よくラミネートすることができる。そのとき、銅
箔にコートされた熱硬化型絶縁接着剤は重量平均分子量
10000以上のエポキシ樹脂成分により形状を維持し
たまま、すなわち層間厚みを保った状態で接着されるた
め、内層銅箔残存率に依存することなく板厚精度に優れ
た多層プリント配線板を作製することができる。そし
て、ラミネート後加熱して同時一体硬化反応させること
によりアンダーコート剤と熱硬化型絶縁性接着剤付き銅
箔とを一体成形させる。
That is, a liquid undercoating agent is applied by screen printing, a roller coater, a curtain coater or the like to fill the recesses between the copper foil circuits of the inner layer circuit board, and UV.
The undercoating agent is converted to the B stage by irradiating light with an exposure machine such as an irradiation conveyor. The B-staged undercoating agent can temporarily retain its shape, and thereafter, by using a heated hard roll or the like when adhering the copper foil with a thermosetting insulating adhesive, The undercoating agent can be laminated again with good surface smoothness without re-melting and entraining air in the step portion between the insulating substrate of the inner layer circuit board and the circuit. At that time, since the thermosetting insulating adhesive coated on the copper foil is bonded by the epoxy resin component having a weight average molecular weight of 10,000 or more while maintaining its shape, that is, while maintaining the interlayer thickness, the inner layer copper foil residual rate It is possible to produce a multilayer printed wiring board having excellent board thickness accuracy without depending on Then, the undercoat agent and the thermosetting insulating adhesive-attached copper foil are integrally molded by heating after laminating to cause simultaneous integral curing reaction.

【0008】使用される銅箔はラミネート時に内層回路
板の絶縁基板と回路との段差に追従しないようにするた
めには厚い方がよい。しかし、その後の回路形成時にエ
ッチングする際、銅箔が厚いと時間が長くなる上に幅方
向のエッチングが多くなるために十分なファインパター
ンが作成しにくいという欠点が生じる。そこで、特にフ
ァインパターンが必要な場合、外層回路となる厚さ1〜
50μmの銅箔の層とラミネート後除去する厚さ10〜
200μmの金属層(キャリア)を有した全厚11〜2
50μmの2層構造の銅箔を使用することにより、ラミ
ネート時には段差に追従しないで表面平滑性を得ること
ができ、キャリアを除去した後の回路形成時には、エッ
チング時間を短縮しファインパターンを作成することが
可能となる。金属層としてはアルミニウム、銅等が用い
られ、厚みは10μmより薄いと段差に追従してしま
い、200μmより厚いとラミネート時にロールからの
熱が伝わり難く好ましくない。銅箔の厚さは50μmよ
り厚いと段差に追従し難くなり、ラミネート後除去する
キャリア層の必要がなくなる。
The copper foil used is preferably thick so as not to follow the step between the insulating substrate of the inner layer circuit board and the circuit during lamination. However, when etching is performed at the time of subsequent circuit formation, if the copper foil is thick, the time becomes long and the etching in the width direction is increased, so that it is difficult to form a sufficient fine pattern. Therefore, especially when a fine pattern is required, the thickness of the outer layer circuit 1 to
50 μm copper foil layer and thickness to be removed after lamination 10
Total thickness 11 to 2 having a metal layer (carrier) of 200 μm
By using a copper foil having a two-layer structure of 50 μm, surface smoothness can be obtained without following a step during lamination, and etching time is shortened to form a fine pattern when a circuit is formed after the carrier is removed. It becomes possible. Aluminum, copper or the like is used as the metal layer, and if the thickness is thinner than 10 μm, it follows the step, and if it is thicker than 200 μm, heat from the roll is difficult to be transferred during lamination, which is not preferable. If the thickness of the copper foil is thicker than 50 μm, it becomes difficult to follow the steps, and the carrier layer that is removed after lamination is unnecessary.

【0009】本発明において、アンダーコート剤は内層
回路板の銅箔回路間凹部を充填し、内層回路表面を平滑
化するものであるが、エポキシ樹脂、エポキシ樹脂硬化
剤、光硬化型樹脂及び光重合開始剤からなる。ラミネー
ト時に内層回路を完全に埋め込むことが必要であるた
め、エポキシ樹脂及び光硬化型樹脂は液状の樹脂を用い
るのが好ましい。具体的には、エポキシ樹脂としてビス
フェノールA型エポキシ樹脂、ビスフェノールF型エポ
キシ樹脂、ビスフェノールS型エポキシ樹脂、フェノー
ルノボラック型エポキシ樹脂、クレゾールノボラック型
エポキシ樹脂等の多価フェノール類のエポキシ樹脂の
他、多価アルコールのエポキシ化合物、脂環族エポキシ
樹脂等を用いることができる。さらには耐燃性を付与す
るために臭素化したエポキシ樹脂をも用いることができ
る。
In the present invention, the undercoating agent fills the recesses between the copper foil circuits of the inner layer circuit board and smoothes the surface of the inner layer circuit. The epoxy resin, the epoxy resin curing agent, the photocurable resin and the photocurable resin are used. It consists of a polymerization initiator. Since it is necessary to completely embed the inner layer circuit at the time of lamination, it is preferable to use a liquid resin as the epoxy resin and the photocurable resin. Specifically, epoxy resins such as bisphenol A type epoxy resin, bisphenol F type epoxy resin, bisphenol S type epoxy resin, phenol novolac type epoxy resin, cresol novolac type epoxy resin, and other polyphenol phenolic epoxy resins are available. An epoxy compound of a polyhydric alcohol, an alicyclic epoxy resin, or the like can be used. Furthermore, a brominated epoxy resin may be used to impart flame resistance.

【0010】エポキシ樹脂硬化剤としては、アミン系硬
化剤、アミド系硬化剤、イミダゾール系硬化剤またはこ
れらをエポキシアダクト化したものやマイクロカプセル
化したものなどが選択される。例えば、ジエチレントリ
アミン等の脂肪族アミン、イソホロンジアミン等の脂環
族ポリアミン、ジシアンジアミド又はその誘導体、2−
メチルイミダゾール、2−エチル−4−メチルイミダゾ
ール、2−フェニル−4−メチルイミダゾール、1−ブ
チルイミダゾール、2−アリルイミダゾール、2−フェ
ニル−4−メチル−5−ヒドロキシイミダゾール、2−
フェニル−4,5−ジヒドロキシメチルイミダゾール又
はこれらのシアノエチル化物、さらにイミダゾール環中
の第3級窒素をトリメリット酸で造塩したものなどが用
いられる。このような硬化剤の中で、ジシアンジアミド
やイミダゾール系化合物あるいはマイクロカプセル化し
たイミダゾール系化合物が好ましい。かかる硬化剤の配
合量はエポキシ樹脂100重量部に対して1〜30重量
部である。1重量部より少ないと硬化が十分進まず実用
的でない。30重量部より多いと架橋密度が高くなり過
ぎアンダーコート剤として硬く脆くなることがある。ま
た、必要に応じて硬化促進剤を添加してもよい。
As the epoxy resin curing agent, an amine-based curing agent, an amide-based curing agent, an imidazole-based curing agent, or an epoxy adduct or microencapsulated product of these is selected. For example, aliphatic amines such as diethylenetriamine, alicyclic polyamines such as isophoronediamine, dicyandiamide or derivatives thereof, 2-
Methyl imidazole, 2-ethyl-4-methyl imidazole, 2-phenyl-4-methyl imidazole, 1-butyl imidazole, 2-allyl imidazole, 2-phenyl-4-methyl-5-hydroxy imidazole, 2-
Phenyl-4,5-dihydroxymethylimidazole or a cyanoethylated product thereof, or a salt obtained by forming a tertiary nitrogen atom in the imidazole ring with trimellitic acid is used. Among such curing agents, dicyandiamide, an imidazole compound or a microencapsulated imidazole compound is preferable. The compounding amount of such a curing agent is 1 to 30 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the epoxy resin. If it is less than 1 part by weight, curing will not proceed sufficiently and it will not be practical. If the amount is more than 30 parts by weight, the crosslinking density becomes too high and the undercoating agent may become hard and brittle. Moreover, you may add a hardening accelerator as needed.

【0011】光硬化型樹脂は、液状のアクリレート樹脂
が好ましいものであり、中でも、ビスフェノールA型エ
ポキシアクリレート、ビスフェノールF型エポキシアク
リレート、ノボラック型エポキシアクリレート等の、エ
ポキシ樹脂をアクリレート化したエポキシアクリレート
樹脂、あるいはウレタンアクリレート類が好ましく使用
され、エポキシ樹脂100重量部に対して、1〜100
重量部配合される。アクリレート樹脂の平均分子量は5
00〜1500が好ましく、分子量がそれ以上になると
エポキシ樹脂と同じように、高粘度化、固形化してしま
う。光照射によるBステージ化後の樹脂表面のタック
性、硬度などはアクリレート樹脂の量で調整する。アク
リレート樹脂の量が1重量部より少ないとその配合効果
が殆どなく、100重量部より多くなると、機械的特
性、耐熱性、耐薬品性などが低下するので好ましくな
い。
The photo-curable resin is preferably a liquid acrylate resin, and among them, an epoxy acrylate resin obtained by acrylate conversion of an epoxy resin, such as bisphenol A type epoxy acrylate, bisphenol F type epoxy acrylate, novolac type epoxy acrylate, Alternatively, urethane acrylates are preferably used, and the amount is 1 to 100 relative to 100 parts by weight of the epoxy resin.
It is blended by weight. The average molecular weight of the acrylate resin is 5
It is preferably from 0 to 1500, and when the molecular weight is higher than that, the viscosity and the solidification are increased like the epoxy resin. The tackiness, hardness, etc. of the resin surface after the B stage is formed by light irradiation are adjusted by the amount of the acrylate resin. If the amount of the acrylate resin is less than 1 part by weight, the compounding effect is scarce, and if it exceeds 100 parts by weight, mechanical properties, heat resistance, chemical resistance and the like are deteriorated, which is not preferable.

【0012】光重合開始剤はラジカル重合開始剤であ
り、ベンゾインエーテル系、ベンゾフェノン系、ケター
ル系、アセトフェノン系、チオキサンソン系などが使用
でき、特に成形性、硬化物特性に優れた1−ヒドロキシ
シクロヘキシルアセトフェノンや2,2−ジメトキシ−
1,2−ジフェニルエタン−1−オンが好ましい。この
光重合開始剤の配合量は光硬化型樹脂100重量部に対
して1〜10重量部である。1重量部より少ないとその
配合効果が小さく、10重量部より多いと硬化後の特性
低下の原因となる。
The photopolymerization initiator is a radical polymerization initiator, and a benzoin ether type, a benzophenone type, a ketal type, an acetophenone type, a thioxanthone type or the like can be used, and particularly 1-hydroxycyclohexylacetophenone which is excellent in moldability and cured product characteristics. And 2,2-dimethoxy-
1,2-diphenylethan-1-one is preferred. The amount of the photopolymerization initiator compounded is 1 to 10 parts by weight based on 100 parts by weight of the photocurable resin. If it is less than 1 part by weight, the compounding effect will be small, and if it is more than 10 parts by weight, it will cause deterioration of properties after curing.

【0013】更に、必要に応じて、溶融シリカ、結晶性
シリカ、炭酸カルシウム、水酸化アルミニウム、アルミ
ナ、マイカ、タルク、ホワイトカーボン、Eガラス粉末
などの無機充填材を配合することができる。銅箔や内層
回路板との密着性や耐湿性を向上させるためのエポキシ
シランカップリング剤、ボイドを防止するための消泡
剤、あるいは液状又は粉末の難燃剤等を添加することも
できる。
Further, if necessary, an inorganic filler such as fused silica, crystalline silica, calcium carbonate, aluminum hydroxide, alumina, mica, talc, white carbon or E glass powder can be added. It is also possible to add an epoxysilane coupling agent for improving the adhesion and moisture resistance to the copper foil or the inner layer circuit board, a defoaming agent for preventing voids, a liquid or powder flame retardant, and the like.

【0014】次に、銅箔にコートする熱硬化型絶縁性接
着剤について説明する。一般に層間絶縁層である接着剤
のフィルム化や巻物化の手法としてはゴム系化合物やポ
リビニルブチラール、フェノキシ樹脂、ポリエステル樹
脂などを配合しているが、これらの成分は多層プリント
配線板としての熱的性能を低下させる。このため、本発
明に用いる接着剤は前記アンダーコート剤と一体硬化さ
せる際に流動性を小さく抑えて層間厚みを保ち、且つフ
ィルム成形性を持たせるために重量平均分子量1000
0以上のビスフェノールA型エポキシ樹脂又はビスフェ
ノールF型エポキシ樹脂を配合している。かかるエポキ
シ樹脂の配合割合は全エポキシ樹脂中30〜90重量
%、好ましくは50〜90重量%である。硬化剤として
は前述のアンダーコート剤に用いたものを使用すること
ができる。
Next, the thermosetting insulating adhesive coating the copper foil will be described. Generally, rubber compounds, polyvinyl butyral, phenoxy resin, polyester resin, etc. are compounded as a method for forming an adhesive film, which is an interlayer insulating layer, into a film or a roll, but these components are thermally mixed as a multilayer printed wiring board. Reduce performance. For this reason, the adhesive used in the present invention has a weight average molecular weight of 1000 in order to keep the fluidity small and maintain the interlayer thickness when it is integrally cured with the undercoat agent, and to have film formability.
0 or more bisphenol A type epoxy resin or bisphenol F type epoxy resin is blended. The compounding ratio of such an epoxy resin is 30 to 90% by weight, preferably 50 to 90% by weight, based on the whole epoxy resin. As the curing agent, the one used for the undercoat agent described above can be used.

【0015】本発明の目的を達成するための、アンダー
コート剤の塗工及び熱硬化型絶縁性接着剤付き銅箔をラ
ミネートし硬化する方法について、概要をまず図1を用
いて説明する。
A method of applying an undercoating agent and laminating and curing a copper foil with a thermosetting insulating adhesive to achieve the object of the present invention will be outlined with reference to FIG.

【0016】(A) 内層回路板(1)上に液状のアンダ
ーコート剤(3)をスクリーン印刷、ローラーコータ
ー、カーテンコーター等の従来のコーティング設備を使
用して内層回路(2)を覆う厚さまで塗工する。埋め込
み量が不十分であると、この後のラミネートで空気を巻
き込むことになる。その後、UV照射コンベア等の露光
機で露光しBステージ化する。
(A) The inner layer circuit board (1) is coated with a liquid undercoat agent (3) on the inner layer circuit (2) using a conventional coating equipment such as screen printing, roller coater or curtain coater. To apply. If the filling amount is insufficient, air will be trapped in the subsequent laminate. After that, exposure is performed by an exposure device such as a UV irradiation conveyor to form a B stage.

【0017】(B) 表面に熱硬化型絶縁性接着剤(4)
を塗工した銅箔(5)にラミネートする。ラミネーター
は表面平滑性を達成するために硬質ロール(6)を使用
するのが望ましい。ラミネート条件は、内層回路のパタ
ーンによって異なるが、通常圧力は0.5〜6kgf/
cm2程度、表面温度は常温から100℃程度、ラミネ
ートスピードは 0.1〜6m/分程度で行う。このよう
な条件ではBステージ状態のアンダーコート剤の粘度は
1〜300ポイズとなり、硬質ロール等を用いることで
表面平滑性を達成することができる。このとき内層回路
(2)と銅箔(5)との層間厚は熱硬化型絶縁性接着剤
の厚みで達成することができる。
(B) Thermosetting insulating adhesive (4) on the surface
Is laminated on the coated copper foil (5). The laminator preferably uses hard rolls (6) to achieve surface smoothness. Lamination conditions differ depending on the pattern of the inner layer circuit, but the normal pressure is 0.5 to 6 kgf /
cm 2, the surface temperature of 100 ° C. of about from room temperature, the laminate speed performed at the degree 0.1~6M / min. Under such conditions, the viscosity of the undercoating agent in the B stage state is 1 to 300 poise, and surface smoothness can be achieved by using a hard roll or the like. At this time, the interlayer thickness between the inner layer circuit (2) and the copper foil (5) can be achieved by the thickness of the thermosetting insulating adhesive.

【0018】(C) 次いで、加熱して同時一体硬化反応
を行うことによりアンダーコート剤(3)と銅箔にコー
トされた熱硬化型絶縁接着剤(4)とを一体成形した多
層プリント配線板(7)を作製することができる。
(C) Then, the undercoat agent (3) and the thermosetting insulating adhesive (4) coated on the copper foil are integrally molded by heating and simultaneously performing an integral curing reaction to form a multilayer printed wiring board. (7) can be produced.

【0019】次に、図2は、銅箔として外層回路となる
銅箔の層とラミネート後除去される金属層(キャリア)
とを有した2層構造の銅箔を用いた場合である。この場
合、前記(A)及び(B)の工程を経た後、(C)工程
において、アンダーコート剤(13)と2層構造の銅箔
(15)にコートされた熱硬化型絶縁接着剤(4)とを
一体成形させた後、2層構造の銅箔のうち外層回路を形
成しない外側のキャリアである金属箔(17)を除去す
ることにより外層回路となる銅箔層(16)を有する多
層プリント配線板(19)を作製することができる。
Next, FIG. 2 shows a metal layer (carrier) which is removed after lamination with a layer of copper foil which will be an outer layer circuit as a copper foil.
This is a case of using a copper foil having a two-layer structure having and. In this case, after passing through the steps (A) and (B), in the step (C), the undercoat agent (13) and the thermosetting insulating adhesive ((2) -coated copper foil (15) coated ( 4) is integrally molded and then a copper foil layer (16) is formed as an outer layer circuit by removing a metal foil (17) which is an outer carrier that does not form an outer layer circuit in the two-layer structure copper foil. A multilayer printed wiring board (19) can be produced.

【0020】[0020]

【実施例】以下、実施例により本発明を説明する。EXAMPLES The present invention will be described below with reference to examples.

【0021】《実施例1》ビスフェノールA型エポキシ
樹脂(エポキシ当量6400、重量平均分子量3000
0)100重量部とビスフェノールF型エポキシ樹脂
(エポキシ当量175、大日本インキ化学工業(株)製エ
ピクロン830)80重量部をMEKに撹拌しながら溶
解し、そこへ硬化剤としてジシアンジアミド15重量部
及び硬化促進剤としてマイクロカプセル化した2−イミ
ダゾール10重量部、及びシランカップリング剤(日本
ユニカー(株)製 A-187)5重量部を添加して熱硬化
型絶縁性接着剤ワニスを作製した。このワニスを厚さ1
8μmの銅箔のアンカー面に乾燥後の樹脂厚さが35μ
mとなるようにローラーコーターにて塗布、乾燥し熱硬
化型絶縁性接着剤付き銅箔を作製した。
Example 1 Bisphenol A type epoxy resin (epoxy equivalent 6400, weight average molecular weight 3000)
0) 100 parts by weight and 80 parts by weight of a bisphenol F type epoxy resin (epoxy equivalent 175, Epicron 830 manufactured by Dainippon Ink and Chemicals, Inc.) were dissolved in MEK while stirring, and 15 parts by weight of dicyandiamide as a curing agent and A thermosetting insulating adhesive varnish was prepared by adding 10 parts by weight of micro-encapsulated 2-imidazole as a curing accelerator and 5 parts by weight of a silane coupling agent (A-187 manufactured by Nippon Unicar Co., Ltd.). This varnish has a thickness of 1
The resin thickness after drying is 35μ on the anchor surface of the 8μm copper foil.
m was coated with a roller coater and dried to prepare a thermosetting type copper foil with an insulating adhesive.

【0022】次に、ビスフェノールA型エポキシ樹脂
(油化シェルエポキシ(株)製エピコート828)100
重量部、ビスフェノールA型エポキシアクリレート樹脂
(昭和高分子製 リポキシSP-1507)10重量部、
エポキシ樹脂硬化剤としてマイクロカプセル化した2−
メチルイミダゾール10重量部、光重合開始剤(チバガ
イギー製イルガキュア184)0.5重量部の組成をホ
モミキサーにて十分撹拌してアンダーコート剤とした。
Next, bisphenol A type epoxy resin (Epicote 828 manufactured by Yuka Shell Epoxy Co., Ltd.) 100
Parts by weight, 10 parts by weight of bisphenol A type epoxy acrylate resin (lipoxy SP-1507 manufactured by Showa High Polymer),
2-Encapsulated as epoxy resin curing agent
A composition of 10 parts by weight of methylimidazole and 0.5 parts by weight of a photopolymerization initiator (Irgacure 184 manufactured by Ciba-Geigy) was sufficiently stirred with a homomixer to prepare an undercoating agent.

【0023】一方、基材厚 0.1mm、銅箔厚35μm
のガラスエポキシ両面銅張積層板をパターン加工して内
層回路板を得た。銅箔表面を黒化処理した後、上記アン
ダーコート剤をカーテンコーターにより樹脂厚さ約40
μmに塗工した。その後、UVコンベア機にて80W/
cm高圧水銀灯2本で約2J/cm2 の条件で紫外線照
射した。Bステージ化したアンダーコート剤上に温度1
00℃、圧力2kgf/cm2 、ラミネートスピード
0.8m/分の条件により、硬質ロールを用いて上記熱
硬化型絶縁性接着剤付き銅箔をラミネートし、180
℃、20分間加熱硬化させ、多層プリント配線板を作製
した。
On the other hand, the substrate thickness is 0.1 mm and the copper foil thickness is 35 μm.
The glass-epoxy double-sided copper-clad laminate was processed by patterning to obtain an inner layer circuit board. After blackening the copper foil surface, apply the above undercoat agent with a curtain coater to a resin thickness of about 40
It was applied to a thickness of μm. After that, 80W / with UV conveyor machine
Ultraviolet irradiation was carried out with two cm high pressure mercury lamps under the condition of about 2 J / cm 2 . Temperature 1 on the B-staged undercoat agent
00 ℃, pressure 2kgf / cm 2 , laminating speed
The copper foil with the thermosetting insulating adhesive was laminated using a hard roll under the condition of 0.8 m / min.
The mixture was heated and cured at ℃ for 20 minutes to produce a multilayer printed wiring board.

【0024】《実施例2》銅箔として、厚さ70μmの
銅キャリアと厚さ9μmの銅箔層とからなる2層構造の
銅箔を使用すること、及び熱硬化型絶縁性接着剤付き2
層構造銅箔をアンダーコート剤を塗工された内層回路板
にラミネートし、加熱硬化させた後、銅キャリアを引き
剥すこと以外は実施例1と同様にして9μm外層回路用
銅箔を有する多層プリント配線板を作製した。
Example 2 As the copper foil, a copper foil having a two-layer structure composed of a copper carrier having a thickness of 70 μm and a copper foil layer having a thickness of 9 μm was used, and a thermosetting insulating adhesive was used.
A multilayer structure having a copper foil for an outer layer circuit having a thickness of 9 μm in the same manner as in Example 1 except that a layered copper foil is laminated on an inner layer circuit board coated with an undercoating agent, heat-cured, and then the copper carrier is peeled off. A printed wiring board was produced.

【0025】《実施例3及び4》内層回路板の回路銅厚
が70μm、アンダーコート剤の厚さが80μmとする
こと以外は実施例1及び2と同様にして多層プリント配
線板を作製した。
<Examples 3 and 4> Multilayer printed wiring boards were produced in the same manner as in Examples 1 and 2 except that the inner layer circuit board had a circuit copper thickness of 70 µm and the undercoating agent had a thickness of 80 µm.

【0026】《比較例1》アンダーコート剤を塗工しな
い以外は実施例1と同様にして多層プリント配線板を作
製した。
Comparative Example 1 A multilayer printed wiring board was prepared in the same manner as in Example 1 except that the undercoating agent was not applied.

【0027】《比較例2及び3》内層回路板の上に塗布
したアンダーコート剤を180℃、60分間加熱して完
全硬化させる以外は実施例1及び2と全く同様にして多
層プリント配線板を作製した。得られた多層プリント配
線板は表1に示すような特性を有している。
Comparative Examples 2 and 3 A multilayer printed wiring board was prepared in exactly the same manner as in Examples 1 and 2 except that the undercoating agent applied on the inner layer circuit board was heated at 180 ° C. for 60 minutes to be completely cured. It was made. The obtained multilayer printed wiring board has the characteristics shown in Table 1.

【0028】 表 1 ───────────────────────────────── 表面平滑性 吸湿半田耐熱性 埋込み性 層間絶縁層厚さ ───────────────────────────────── 実施例1 6μm ○ ○ 35μm 実施例2 3 ○ ○ 35 実施例3 6 ○ ○ 35 実施例4 3 ○ ○ 35 比較例1 12 × × 30 比較例2 15 ○ ○ 40 比較例3 15 ○ ○ 40 ─────────────────────────────────Table 1 ───────────────────────────────── Surface smoothness Moisture absorption Solder heat resistance Implantability Interlayer insulation layer Thickness ───────────────────────────────── Example 1 6 μm ○ ○ 35 μm Example 2 3 ○ ○ 35 Implemented Example 3 6 ○ ○ 35 Example 4 3 ○ ○ 35 Comparative Example 1 12 × × 30 Comparative Example 2 15 ○ ○ 40 Comparative Example 3 15 ○ ○ 40 ──────────────── ─────────────────

【0029】(試験方法) 内層回路板試験片:線間150μmピッチ、クリアラン
スホール1.0mmφ 1.表面平滑性:JIS B 0601 R(max) 2.吸湿半田耐熱試験 吸湿条件:プレッシャークッカー処理、125℃、2.
3気圧、30分間 試験条件:n=5で、全ての試験片が280℃、120
秒間で膨れが無かった場合を○とした。 3.埋込み性:外層銅箔を剥離後、内層回路が埋め込ま
れているか否かを光学顕微鏡を用い目視によって判断
し、埋め込まれているものを○とした。 4.層間絶縁層厚さ:多層プリント配線板を切断し、そ
の断面を光学顕微鏡で観察し、内層回路と表面銅箔との
層間絶縁層厚さを測定した。
(Test Method) Inner layer circuit board test piece: 150 μm pitch between lines, clearance hole 1.0 mmφ 1. 1. Surface smoothness: JIS B 0601 R (max) Moisture absorption solder heat resistance test Moisture absorption conditions: Pressure cooker treatment, 125 ° C, 2.
3 atmospheres, 30 minutes Test condition: n = 5, all test pieces at 280 ° C., 120
The case where there was no blistering in a second was marked with ◯. 3. Embedding property: After peeling off the outer layer copper foil, it was visually judged using an optical microscope whether or not the inner layer circuit was embedded, and the one embedded was rated as ◯. 4. Interlayer insulating layer thickness: The multilayer printed wiring board was cut, the cross section was observed with an optical microscope, and the interlayer insulating layer thickness between the inner layer circuit and the surface copper foil was measured.

【0030】[0030]

【発明の効果】本発明の方法に従うと、熱硬化型絶縁接
着剤付き銅箔を硬質ロール等でラミネートすることによ
り、内層回路に塗工後光照射によりBステージ化したア
ンダーコート剤が再溶融して表面が平滑化し、銅箔にコ
ートされた熱硬化型絶縁接着剤が厚さを維持しているた
め、内層銅箔残存率に依存することなく板厚制御に優れ
た多層プリント配線板を作製することができる。更に、
ラミネート後加熱して同時一体硬化反応を行うことによ
りアンダーコート剤と銅箔にコートされた熱硬化型絶縁
接着剤とを一体成形することができる。
According to the method of the present invention, by laminating a copper foil with a thermosetting insulating adhesive on a hard roll or the like, the undercoat agent which has been B-staged by being irradiated with light after being applied to the inner layer circuit is remelted. Since the surface is smoothed and the thermosetting insulating adhesive coated on the copper foil maintains its thickness, a multilayer printed wiring board with excellent board thickness control without depending on the residual rate of the inner copper foil Can be made. Furthermore,
The undercoating agent and the thermosetting insulating adhesive coated on the copper foil can be integrally molded by heating after laminating and performing simultaneous integral curing reaction.

【0031】更に、銅箔としてキャリアとなる金属層を
有する2層構造の銅箔を使用することにより、熱硬化型
絶縁接着剤付き銅箔を硬質ロール等でラミネートする際
に、ラミネート後除去する金属層を有するため厚くなっ
ている2層構造銅箔が内層回路の段差に追従しにくく、
多層プリント回路板の表面平滑性が更に向上し、よりフ
ァインパターンの回路を形成することができる。
Furthermore, by using a copper foil having a two-layer structure having a metal layer serving as a carrier as the copper foil, when the copper foil with a thermosetting insulating adhesive is laminated with a hard roll or the like, it is removed after the lamination. The double-layered copper foil, which is thicker because it has a metal layer, does not easily follow the steps of the inner layer circuit,
The surface smoothness of the multilayer printed circuit board is further improved, and a finer pattern circuit can be formed.

【0032】また、従来のようにプリプレグと,熱盤プ
レスを用いず、またアディティブ法のようにメッキを施
すこともなく、ラミネート法により外層銅箔を有した多
層プリント配線板を製造することができるため、絶縁層
形成及び外層導電層形成に要する時間は非常に短縮化さ
れ、工程の単純化や低コスト化に貢献できる。更にガラ
スクロスを用いないため層間絶縁層を極薄にすることが
可能である。
Further, it is possible to manufacture a multilayer printed wiring board having an outer layer copper foil by a laminating method without using a prepreg and a hot platen press as in the prior art and without plating as in the additive method. Therefore, the time required to form the insulating layer and the outer conductive layer is significantly shortened, which can contribute to simplification of the process and cost reduction. Furthermore, since no glass cloth is used, the interlayer insulating layer can be made extremely thin.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】 本発明の多層プリント配線板(一例)を作製
する工程を示す概略断面図
FIG. 1 is a schematic cross-sectional view showing a process for producing a multilayer printed wiring board (one example) of the present invention.

【図2】 本発明の多層プリント配線板(他の例)を作
製する工程を示す概略断面図
FIG. 2 is a schematic cross-sectional view showing a process for producing a multilayer printed wiring board (another example) of the present invention.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 内層回路板 2 内層回路 3 アンダーコート剤 4 熱硬化型絶縁性接着剤 5 銅箔 6,18 硬質ロール 7,19 多層プリント配線板 15 2層硬質銅箔 16 銅箔層 17 金属層(キャリア) 1 Inner Layer Circuit Board 2 Inner Layer Circuit 3 Undercoat Agent 4 Thermosetting Insulating Adhesive 5 Copper Foil 6,18 Hard Roll 7,19 Multilayer Printed Wiring Board 15 2 Layer Hard Copper Foil 16 Copper Foil Layer 17 Metal Layer (Carrier)

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 早井 宙 東京都品川区東品川2丁目5番8号 住友 ベークライト株式会社内 ─────────────────────────────────────────────────── ─── Continuation of the front page (72) Inventor, Satoshi Hayai 2-5-8 Higashi-Shinagawa, Shinagawa-ku, Tokyo Sumitomo Bakelite Co., Ltd.

Claims (4)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 内層回路板に光・熱硬化型アンダーコー
ト剤を塗工し、光照射によりBステージ化させた後、熱
硬化型絶縁性接着剤層を有する銅箔をラミネートし、次
いで、加熱により一体硬化させることを特徴とする多層
プリント配線板の製造方法。
1. An inner-layer circuit board is coated with a light / thermosetting undercoat agent, and after being irradiated with light to be B-staged, a copper foil having a thermosetting insulating adhesive layer is laminated, and then, A method for manufacturing a multilayer printed wiring board, which comprises integrally curing by heating.
【請求項2】 請求項1において、前記銅箔として、外
層回路となる厚さ1〜50μmの銅箔の層とラミネート
後除去する厚さ10〜200μmの金属層とを有した全
厚11〜250μmの2層構造の銅箔を使用することを
特徴とする多層プリント配線板の製造方法。
2. The total thickness 11 according to claim 1, wherein the copper foil includes a copper foil layer having a thickness of 1 to 50 μm to be an outer layer circuit and a metal layer having a thickness of 10 to 200 μm to be removed after lamination. A method for manufacturing a multilayer printed wiring board, which comprises using a copper foil having a two-layer structure of 250 μm.
【請求項3】 前記熱硬化型絶縁性接着剤がエポキシ樹
脂及びその硬化剤からなり、エポキシ樹脂の一成分が重
量平均分子量10000以上のビスフェノールA型エポ
キシ樹脂又はビスフェノールF型エポキシ樹脂からなる
請求項1又は2記載の多層プリント配線板の製造方法。
3. The thermosetting insulating adhesive comprises an epoxy resin and its curing agent, and one component of the epoxy resin comprises a bisphenol A type epoxy resin or a bisphenol F type epoxy resin having a weight average molecular weight of 10,000 or more. 1. The method for manufacturing a multilayer printed wiring board according to 1 or 2.
【請求項4】 前記アンダーコート剤がエポキシ樹脂1
00重量部、エポキシ樹脂硬化剤1〜30重量部、光硬
化型樹脂1〜100重量部、及び光硬化型樹脂100重
量部に対して光重合開始剤1〜10重量部からなる請求
項1又は2記載の多層プリント配線板の製造方法。
4. The epoxy resin 1 is used as the undercoat agent.
1. 1 part by weight to 100 parts by weight of photocurable resin, 1 part by weight to 30 parts by weight of epoxy resin curing agent, 1 part by weight to 100 parts by weight of epoxy resin curing agent, 2. The method for manufacturing a multilayer printed wiring board according to 2.
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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WO1997016948A1 (en) * 1995-10-31 1997-05-09 Sumitomo Bakelite Company Limited Multilayer printed circuit board and process for producing the same

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* Cited by examiner, † Cited by third party
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WO1997016948A1 (en) * 1995-10-31 1997-05-09 Sumitomo Bakelite Company Limited Multilayer printed circuit board and process for producing the same

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