JP3003922B2 - 4-layer printed wiring board - Google Patents
4-layer printed wiring boardInfo
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Description
【0001】[0001]
【発明の属する技術分野】本発明は、アンダーコート層
及び層間絶縁接着剤層を有する銅箔を使用した難燃性4
層プリント配線板に関するものである。[0001] The present invention relates to a flame-retardant 4 using a copper foil having an undercoat layer and an interlayer insulating adhesive layer.
The present invention relates to a layer printed wiring board.
【0002】[0002]
【従来の技術】多層プリント配線板は、電子機器の小型
化、多機能化が進み、更に高密度化の方向に移行してい
る。即ち、回路の細線化、高多層化、バイアホールの小
径化、薄型化等の方向に進んでいる。従来、多層プリン
ト配線板を製造する場合、回路作成された内層回路基板
上にガラスクロス基材にエポキシ樹脂を含浸して半硬化
させたプリプレグシートを1枚以上重ね、更にその上に
銅箔を重ね熱板プレスにて加熱一体成形するという工程
を経ている。しかし、この工程では含浸樹脂を熱により
再流動させ一定圧力下で硬化させるため、均一に硬化成
形するには1〜1.5時間は必要である。このように製
造工程が長くかかる上に、多層積層プレス及びガラスク
ロスプリプレグのコスト等により高コストとなってい
る。加えてガラスクロスに樹脂を含浸させる方法のため
層間厚の極薄化も困難であった。2. Description of the Related Art In multilayer printed wiring boards, the miniaturization and multifunctionality of electronic devices have been progressing, and the direction of higher density has been shifted. That is, the circuit is becoming thinner, more multilayered, the diameter of the via hole smaller, thinner, and the like. Conventionally, when manufacturing a multilayer printed wiring board, one or more prepreg sheets obtained by impregnating a glass cloth base material with an epoxy resin and semi-curing are stacked on an inner circuit board on which a circuit is formed, and a copper foil is further placed thereon. It has undergone a process of integrally forming by heating with a lap hot plate press. However, in this step, since the impregnated resin is reflowed by heat and cured under a constant pressure, it takes 1 to 1.5 hours to uniformly cure and mold. As described above, the manufacturing process takes a long time, and the cost is high due to the costs of the multilayer laminating press and the glass cloth prepreg. In addition, the method of impregnating the glass cloth with a resin has made it difficult to make the interlayer thickness extremely thin.
【0003】近年、これらの問題を解決するため、熱板
プレスによる加熱加圧成形を行わず、層間絶縁材料にガ
ラスクロスを用いない、ビルドアップ方式による多層プ
リント配線板の技術が改めて注目されている。一般に層
間絶縁層である接着剤のフィルム化や巻物化の手法とし
てはゴム系化合物やポリビニルブチラール、フェノキシ
樹脂、ポリエステル樹脂などを配合しているが、これら
の成分は多層プリント配線板としての熱的性能を著しく
低下させる。ビルドアップ方式による多層プリント配線
板において、銅箔の粗面化面に絶縁樹脂層を形成した銅
張絶縁シートを用いたり、ガラスクロス基材にエポキシ
樹脂を含浸して半硬化させたプリプレグシートの代わり
にフィルム状の層間絶縁樹脂層を用いた場合、プリプレ
グで層間絶縁樹脂層を形成する方法と比べて作業効率が
著しく向上する。しかし、内層回路板の絶縁基板と回路
との段差部分にある空気を完全に除去することができ
ず、空気が残り、気泡が発生し、絶縁不良や半田耐熱性
が悪くなり、また層間剥離が生じることがあり問題とな
っている。それを防止するためには、減圧の環境下でラ
ミネートを行わねばならず、特殊な設備が必要になって
くる。また、ラミネートした絶縁層が内層回路板の絶縁
基板と回路との段差に追従するため、表面平滑性が得ら
れず、部品実装時に半田付け不良等が発生したり、エッ
チングレジスト形成工程でレジストの剥離、パターン現
像度低下が発生して安定したレジスト形成ができない等
の問題がある。In recent years, in order to solve these problems, a technique of a multilayer printed wiring board by a build-up system which does not perform hot press molding by a hot plate press and does not use a glass cloth as an interlayer insulating material has been renewed. I have. Generally, rubber-based compounds, polyvinyl butyral, phenoxy resin, polyester resin, etc. are compounded as a method of forming a film or a roll of the adhesive which is an interlayer insulating layer, but these components are used for thermal processing as a multilayer printed wiring board. Significantly degrade performance. In a multilayer printed wiring board by the build-up method, use a copper-clad insulating sheet in which an insulating resin layer is formed on the roughened surface of copper foil, or a prepreg sheet in which a glass cloth base material is impregnated with epoxy resin and semi-cured. When a film-like interlayer insulating resin layer is used instead, the working efficiency is significantly improved as compared with the method of forming the interlayer insulating resin layer using a prepreg. However, air at the step between the insulating substrate of the inner circuit board and the circuit cannot be completely removed, air remains, bubbles are generated, insulation failure and solder heat resistance deteriorate, and delamination occurs. This can be a problem. In order to prevent this, lamination must be performed under a reduced pressure environment, and special equipment is required. In addition, since the laminated insulating layer follows the step between the insulating substrate of the inner circuit board and the circuit, surface smoothness cannot be obtained, soldering failure or the like may occur at the time of component mounting, or the resist may not be formed in the etching resist forming step. There are problems such as peeling and a decrease in the pattern development degree, which makes it impossible to form a stable resist.
【0004】さらに、プリプレグを使用した場合も同様
であるが、内層回路パターンの銅箔残存率によって埋め
込む樹脂量が変化することから同じ銅張絶縁シートある
いはフィルム状の層間絶縁樹脂層を使用しても成形後の
板厚が同じにならない。つまり、銅箔残存率が大きく埋
め込むべき部分が少ない場合は板厚が厚くなり、銅箔残
存率が小さく埋め込むべき部分が多い場合は板厚が薄く
なることから、銅箔残存率によってフィルム厚も変えな
ければ同じ板厚を達成することができない。また、一枚
の内層回路板でも場所により銅箔残存率に差がある場合
には得られた多層プリント配線板の板厚が均一にならな
い等欠点が生じ問題とされていた。このようなプロセス
において、銅箔にコートされた層間絶縁接着剤がその保
存時に硬化反応が進行して、アンダーコート剤が塗布さ
れた内層回路板にラミネートしたとき一体硬化が良好に
行われないという問題が生じている。更に層間絶縁接着
剤にガラス繊維基材が使用されていないため、難燃化が
困難という問題があった。The same applies to the case where a prepreg is used. However, since the amount of resin to be embedded varies depending on the residual ratio of copper foil in the inner circuit pattern, the same copper-clad insulating sheet or film-like interlayer insulating resin layer is used. Also, the sheet thickness after molding does not become the same. In other words, when the copper foil residual ratio is large and the portion to be embedded is small, the plate thickness is large, and when the copper foil residual ratio is small and the portion to be embedded is large, the plate thickness is small. If you do not change, you cannot achieve the same thickness. In addition, when the residual ratio of copper foil is different depending on the location even in one inner layer circuit board, there is a problem that the obtained multilayer printed wiring board does not have a uniform plate thickness and the like. In such a process, the curing reaction of the interlayer insulating adhesive coated on the copper foil proceeds during its storage, and the integral curing is not performed well when laminated on the inner circuit board coated with the undercoat agent. There is a problem. Furthermore, since a glass fiber base material is not used for the interlayer insulating adhesive, there is a problem that flame retardation is difficult.
【0005】[0005]
【発明が解決しようとする課題】本発明は、薄型で、厚
みのバラツキも小さい、表面が平滑な高密度実装に適し
た難燃性4層プリント配線板を提供するものである。SUMMARY OF THE INVENTION An object of the present invention is to provide a flame-retardant four-layer printed wiring board which is thin, has small thickness variation, and has a smooth surface and is suitable for high-density mounting.
【0006】[0006]
【課題を解決するための手段】本発明は、難燃性エポキ
シ樹脂含浸ガラスクロス基板からなる内層回路板の両面
にアンダーコート層、層間絶縁接着剤層及び銅箔が順次
ラミネートされている4層プリント配線板であって、光
・熱硬化型アンダーコート層が、(イ)臭素化率20%
以上で、分子量500〜4000のノボラック型エポキ
シ樹脂、(ロ)分子量500〜2000のビスフェノー
ル型エポキシ樹脂、(ハ)分子量500以下のビスフェ
ノール型エポキシ樹脂、(ニ)グリシジルアクリレート
又はグリシジルメタクリレート、(ホ)ヒドロキシエチ
ルアクリレート又はヒドロキシエチルメタクリレート、
(ヘ)光重合開始剤、(ト)融点が130℃以上のイミ
ダゾール化合物、及び(チ)低温硬化型イミダゾール化
合物からなり、層間絶縁接着剤層が、(リ)臭素化率2
0%以上及び重量平均分子量10000以上の臭素化ビ
スフェノール型エポキシ樹脂又は臭素化フェノキシ樹
脂、(ヌ)エポキシ当量500以下のビスフェノール型
エポキシ樹脂、及び(ル)融点が130℃以上のイミダ
ゾール化合物からなることを特徴とする4層プリント配
線板である。According to the present invention, there is provided a four-layer structure in which an undercoat layer, an interlayer insulating adhesive layer and a copper foil are sequentially laminated on both surfaces of an inner circuit board made of a flame-retardant epoxy resin impregnated glass cloth substrate. The printed wiring board, wherein the light / thermosetting undercoat layer has (a) a bromination ratio of 20%.
Novolak type epoxy resin having a molecular weight of 500 to 4000, (b) bisphenol type epoxy resin having a molecular weight of 500 to 2,000, (c) bisphenol type epoxy resin having a molecular weight of 500 or less, (d) glycidyl acrylate or glycidyl methacrylate, (e) Hydroxyethyl acrylate or hydroxyethyl methacrylate,
(F) a photopolymerization initiator, (g) an imidazole compound having a melting point of 130 ° C. or more, and (h) a low-temperature curing type imidazole compound, wherein the interlayer insulating adhesive layer has a (li) bromination ratio of 2
A brominated bisphenol-type epoxy resin or a brominated phenoxy resin having a weight average molecular weight of 10,000 or more, a bisphenol-type epoxy resin having an epoxy equivalent of 500 or less, and an imidazole compound having a melting point of 130 ° C or more. A four-layer printed wiring board characterized by the following.
【0007】即ち本発明は、難燃性エポキシ樹脂含浸ガ
ラスクロス基材からなる内層回路板にスクリーン印刷、
ローラーコーター、カーテンコーターなどで液状のアン
ダーコート剤を塗工して、内層回路板の銅箔回路間隙を
充填し、UVコンベア等によって活性エネルギー線照射
により該アンダーコート剤をタックフリー化させる。そ
の後、未硬化又は半硬化の層間絶縁接着剤付き銅箔をア
ンダーコート剤をコートした内層回路板に加熱されたロ
ール等で片面づつ又は両面同時にラミネートし接着させ
る。そして、ラミネート後加熱して光・熱硬化型アンダ
ーコート層と層間絶縁接着剤付き銅箔とを同時一体硬化
反応させることにより4層プリント配線板を作成するこ
とができる。ラミネートする際、アンダーコート剤もロ
ールで加熱されることにより軟化し、ロール圧により厚
みが平均化されるため、銅箔面の表面平滑性を得ること
ができる。またそのとき、銅箔にコートされた層間絶縁
接着剤は重量平均分子量10000以上のエポキシ樹脂
成分により形状を維持したまま、すなわち層間厚みを保
った状態で接着されるため、内層銅箔残存率に依存する
ことなく4層プリント配線板の厚みもバラツキもなく平
均化されて作製することができる板厚精度に優れた4層
プリント配線板である。That is, the present invention provides screen printing on an inner circuit board made of a glass cloth substrate impregnated with a flame-retardant epoxy resin,
A liquid undercoat agent is applied using a roller coater, a curtain coater, or the like to fill the copper circuit gap of the inner circuit board, and the undercoat agent is tack-free by irradiating active energy rays with a UV conveyor or the like. Thereafter, the uncured or semi-cured copper foil with an interlayer insulating adhesive is laminated on an inner circuit board coated with an undercoat agent by a heated roll or the like one by one or simultaneously on both sides and adhered. Then, after laminating and heating, the light / thermosetting undercoat layer and the copper foil with interlayer insulating adhesive are simultaneously and integrally cured, whereby a four-layer printed wiring board can be produced. When laminating, the undercoat agent is also softened by being heated by the roll, and the thickness is averaged by the roll pressure, so that the surface smoothness of the copper foil surface can be obtained. At that time, the interlayer insulating adhesive coated on the copper foil is bonded while maintaining its shape by the epoxy resin component having a weight average molecular weight of 10,000 or more, that is, while maintaining the interlayer thickness. This is a four-layer printed wiring board with excellent board thickness accuracy that can be manufactured without depending on the thickness of the four-layer printed wiring board without variation.
【0008】本発明において、アンダーコート層に用い
られるアンダーコート剤は内層回路板の銅箔回路間隙を
充填し、内層回路表面を平滑化するもので、下記の成分
(イ)〜(チ)からなることを特徴とするものである。 (イ)臭素化率20%以上で、分子量500〜4000
のノボラック型エポキシ樹脂、(ロ)分子量500〜2
000のビスフェノール型エポキシ樹脂、(ハ)分子量
500以下のビスフェノール型エポキシ樹脂、(ニ)グ
リシジルアクリレート又はグリシジルメタクリレート、
(ホ)ヒドロキシエチルアクリレート又はヒドロキシエ
チルメタクリレート、(ヘ)光重合開始剤、(ト)融点
が130℃以上のイミダゾール化合物、及び(チ)低温
硬化型イミダゾール化合物In the present invention, the undercoat agent used in the undercoat layer fills the gap between the copper foil circuits of the inner circuit board and smoothes the surface of the inner circuit, and comprises the following components (a) to (h): It is characterized by becoming. (A) a bromination ratio of 20% or more and a molecular weight of 500 to 4000;
Novolak type epoxy resin, (b) molecular weight 500-2
000 bisphenol type epoxy resin, (c) bisphenol type epoxy resin having a molecular weight of 500 or less, (d) glycidyl acrylate or glycidyl methacrylate,
(E) hydroxyethyl acrylate or hydroxyethyl methacrylate, (f) a photopolymerization initiator, (g) an imidazole compound having a melting point of 130 ° C. or more, and (h) a low-temperature-curable imidazole compound
【0009】本発明に用いられる(イ)成分の臭素化率
20%以上で、分子量500〜4000であるエポキシ
樹脂は、耐熱性及び難燃性を向上するために使用される
ものであり、フェノールノボラック型やクレゾールノボ
ラック型のノボラック型エポキシ樹脂で、常温で固形状
のものである。融点は、通常50℃以上であれば良い。
臭素化率が20%未満のものでは得られた4層プリント
配線板がUL規格による難燃性V−0を達成することが
できない。また臭素化率の上限はエポキシ樹脂のベンゼ
ン核のうち臭素化が可能な部分を全て臭素化した場合で
あり、これにより臭素化の上限は決定される。The epoxy resin having a bromination ratio of component (a) of 20% or more and a molecular weight of 500 to 4000 used in the present invention is used for improving heat resistance and flame retardancy. A novolak type epoxy resin of novolak type or cresol novolak type, which is solid at normal temperature. The melting point may be usually 50 ° C. or higher.
When the bromination ratio is less than 20%, the obtained four-layer printed wiring board cannot achieve the flame retardancy V-0 according to UL standard. Further, the upper limit of the bromination ratio is a case where all the brominated portions of the benzene nucleus of the epoxy resin are brominated, and the upper limit of the bromination is determined by this.
【0010】(ロ)成分の分子量500〜2000のビ
スフェノール型エポキシ樹脂は、ビスフェノールA型、
ビスフェノールF型、ビスフェノールS型等が挙げら
れ、常温で固形であり、主として内層回路板及び層間絶
縁接着剤層との密着性と可撓性を上げるために用いられ
るものであり、(イ)成分又は(ハ)成分と相互作用に
より耐熱性、成形性(ボイドレス)、表面平滑性に影響
を与えるものである。分子量が2000を越えるとアン
ダーコート剤の粘度が上昇し、流動性、埋込性が低下し
たり、表面平滑性が悪くなり好ましくない。(ハ)成分
の分子量500以下のビスフェノール型エポキシ樹脂
は、ビスフェノールA型、ビスフェノールF型、ビスフ
ェノールS型等が挙げられ、特に硬化性を高め、ボイド
レス、表面平滑性を良好にするものである。分子量が5
00を越えるとこれらの硬化が薄れてくるので好ましく
ない。The bisphenol type epoxy resin having a molecular weight of 500 to 2,000 of component (b) is bisphenol A type,
Bisphenol F type, bisphenol S type, etc., which are solid at room temperature, are mainly used for improving the adhesion and flexibility with the inner circuit board and the interlayer insulating adhesive layer, and the component (a) Alternatively, it interacts with the component (c) to affect heat resistance, moldability (voidless), and surface smoothness. When the molecular weight exceeds 2,000, the viscosity of the undercoat agent increases, and the fluidity and the embedding property decrease, and the surface smoothness deteriorates, which is not preferable. The bisphenol type epoxy resin having a molecular weight of 500 or less as the component (c) includes bisphenol A type, bisphenol F type, bisphenol S type and the like, and particularly enhances curability and improves voidlessness and surface smoothness. Molecular weight 5
If it exceeds 00, these hardenings are undesirably weakened.
【0011】光・熱硬化型アンダーコート剤に使用され
る光重合及び熱反応性モノマーとしては、(ホ)成分の
ヒドロキシエチルアクリレート、ヒドロキシエチルメタ
クリレート及び(ニ)成分の熱硬化性に優れているグリ
シジルアクリレート又はグリシジルメタクリレートであ
る。これらの成分はエポキシ樹脂等の溶剤としての働き
もあり、いわゆる無溶剤型のアンダーコート剤として使
用される。(ニ)及び(ホ)成分は活性エネルギー線照
射により反応し、その硬化度合いにより、アンダーコー
ト層がタックフリー化される。その各配合割合は20〜
80重量%の間で適宜決められる。また(ニ)成分はイ
ミダゾールによってエポキシ硬化が行われるので、他の
エポキシ樹脂とも溶融混合され反応するので、耐熱性を
高め、ボイドの発生を抑止する。通常、(ニ)及び
(ホ)成分であるモノマーの合計量は、使用するエポキ
シ樹脂合計量100重量部に対し、20〜100重量
部、好ましくは30〜70重量部の割合である。The photopolymerizable and thermoreactive monomers used in the photo-thermosetting undercoat agent are excellent in the thermosetting properties of the component (e) hydroxyethyl acrylate and hydroxyethyl methacrylate and the component (d). Glycidyl acrylate or glycidyl methacrylate. These components also function as a solvent such as an epoxy resin, and are used as a so-called solventless undercoat agent. The components (d) and (e) react by the irradiation of active energy rays, and the undercoat layer is tack-free depending on the degree of curing. The ratio of each compound is 20 ~
It is appropriately determined between 80% by weight. Further, the component (d) is epoxy-cured by imidazole, so that it is melted and mixed with other epoxy resins and reacts, so that heat resistance is enhanced and generation of voids is suppressed. Usually, the total amount of the monomers (d) and (e) is 20 to 100 parts by weight, preferably 30 to 70 parts by weight, based on 100 parts by weight of the total amount of the epoxy resin used.
【0012】(ヘ)成分の光重合開始剤としては、ベン
ゾフェノン、ベンゾイル安息香酸、4−フェニルベンゾ
フェノン、ヒドロキシベンゾフェノンなどのベンゾフェ
ノン類、ベンゾイン、ベンゾインエチルエーテル、ベン
ゾインイソプロピルエーテル、ベンゾインブチルエーテ
ル、ベンゾインイソブチルエーテルなどのベンゾインア
ルキルエーテル類、4―フェノキシジクロロアセトフェ
ノン、4−t−ブチル−ジクロロアセトフェノン、4−
t−ブチル−トリクロロアセトフェノン、ジエトキシア
セトフェノンなどのアセトフェノン類、チオキサンソ
ン、2-クロルチオキサンソン、2−メチルチオキサンソ
ン、2,4−ジメチルチオキサンソンなどのチオキサン
ソン類、エチルアントラキノン、ブチルアントラキノン
などのアルキルアントラキノン類などを挙げることがで
きる。これらは単独、あるいは2種以上の混合物として
用いられる。この光重合開始剤の添加量は、光重合及び
熱反応性モノマー100重量部に対して通常 0.1〜1
0重量部の範囲で用いられる。Examples of the photopolymerization initiator (f) include benzophenones such as benzophenone, benzoylbenzoic acid, 4-phenylbenzophenone, and hydroxybenzophenone; benzoin, benzoin ethyl ether, benzoin isopropyl ether, benzoin butyl ether, and benzoin isobutyl ether. Benzoin alkyl ethers, 4-phenoxydichloroacetophenone, 4-t-butyl-dichloroacetophenone, 4-
t-butyl-trichloroacetophenone, acetophenones such as diethoxyacetophenone, thioxanthones such as thioxanthone, 2-chlorothioxanthone, 2-methylthioxanthone and 2,4-dimethylthioxanthone, ethylanthraquinone and butylanthraquinone; Alkyl anthraquinones and the like can be mentioned. These may be used alone or as a mixture of two or more. The addition amount of the photopolymerization initiator is usually 0.1 to 1 based on 100 parts by weight of the photopolymerization and heat-reactive monomer.
It is used in the range of 0 parts by weight.
【0013】(ト)成分のエポキシ樹脂硬化剤として
は、融点が130℃以上で常温で固形であり、エポキシ
樹脂への溶解性が小さく、150℃以上の高温になって
エポキシ樹脂と速やかに反応し、最終的にエポキシ樹脂
が硬化するために添加するものである。具体的には、2
−メチルイミダゾール、2−フェニルイミダゾール、2
−フェニル−4−メチルイミダゾール、ビス(2−エチ
ル−4−メチル−イミダゾール)、2−フェニル−4−
メチル−5−ヒドロキシメチルイミダゾール、2−フェ
ニル−4,5−ジヒドロキシメチルイミダゾール、ある
いはトリアジン付加型イミダゾール等がある。これらを
エポキシアダクト化したものやマイクロカプセル化した
ものも使用できる。これらは単独で使用しても2種以上
を併用しても良い。The epoxy resin curing agent (g) has a melting point of 130 ° C. or higher, is solid at room temperature, has low solubility in the epoxy resin, and rapidly reacts with the epoxy resin at a high temperature of 150 ° C. or higher. Then, it is added to finally cure the epoxy resin. Specifically, 2
-Methylimidazole, 2-phenylimidazole, 2
-Phenyl-4-methylimidazole, bis (2-ethyl-4-methyl-imidazole), 2-phenyl-4-
Examples thereof include methyl-5-hydroxymethylimidazole, 2-phenyl-4,5-dihydroxymethylimidazole, and triazine-added imidazole. Epoxy adducts or microcapsules of these can also be used. These may be used alone or in combination of two or more.
【0014】(チ)成分のエポキシ樹脂硬化剤として
は、低温硬化型であり、60〜120℃でエポキシ樹脂
が反応を開始するものであり、この硬化剤はエポキシ樹
脂が初期の反応を起こすために用いられる。アンダーコ
ート剤と層間絶縁接着剤とを一体硬化する際、アンダー
コート剤側から硬化反応を開始させることが成形性のた
めには重要となる。具体的に使用されるものは、イミダ
ゾール、2−エチル−4−メチルイミダゾール、2−ウ
ンデシルイミダゾール、1−シアノエチル−2−メチル
イミダゾール、1−シアノエチル−2−フェニルイミダ
ゾール、1−シアノエチル−2−エチル−4−メチルイ
ミダゾール、1−アミノエチル−2−メチルイミダゾー
ル、1−(シアノエチルアミノエチル)−2−メチルイ
ミダゾール、1−シアノエチル−2−フェニル−4,5
−ビス(シアノエトキシメチルイミダゾール)等が挙げ
られ、これらをエポキシアダクト化したものやマイクロ
カプセル化したものも使用できる。これらは単独で使用
しても2種以上を併用しても良い。エポキシ樹脂硬化剤
量としては、硬化剤の種類によって異なるが、エポキシ
樹脂100重量部に対して(ト)成分及び(チ)成分を
合わせての1〜10重量部であり、(チ)成分の割合は
アンダーコート剤のタックフリー化の度合いによって適
宜決定される。The epoxy resin curing agent of component (h) is a low-temperature curing type, in which the epoxy resin starts to react at 60 to 120 ° C. This curing agent is used because the epoxy resin causes an initial reaction. Used for When integrally curing the undercoat agent and the interlayer insulating adhesive, it is important for moldability to start a curing reaction from the undercoat agent side. Those specifically used are imidazole, 2-ethyl-4-methylimidazole, 2-undecylimidazole, 1-cyanoethyl-2-methylimidazole, 1-cyanoethyl-2-phenylimidazole, 1-cyanoethyl-2-. Ethyl-4-methylimidazole, 1-aminoethyl-2-methylimidazole, 1- (cyanoethylaminoethyl) -2-methylimidazole, 1-cyanoethyl-2-phenyl-4,5
-Bis (cyanoethoxymethylimidazole) and the like, and those obtained by epoxy adduct or microencapsulation thereof can also be used. These may be used alone or in combination of two or more. The amount of the epoxy resin curing agent varies depending on the type of the curing agent, but is 1 to 10 parts by weight in total of the component (g) and the component (h) with respect to 100 parts by weight of the epoxy resin. The ratio is appropriately determined depending on the tack-free degree of the undercoat agent.
【0015】銅箔にコートされた層間絶縁接着剤に、重
量平均分子量10000以上のエポキシ樹脂又はフェノ
キシ樹脂を使用することにより、形状を維持したまま、
すなわち、層間厚みを保った状態で接着されるため、内
層銅箔残存率に依存することなく多層プリント配線板の
厚みバラツキがない、板厚精度に優れた多層プリント配
線板を作製することが可能となる。しかし、このこと
は、層間絶縁接着剤付きの銅箔をラミネートする際、内
層回路板上にコートされたアンダーコート剤が熱ロール
加熱により軟化し、ロール圧により厚みが平均化される
ことなくしては実現できない。また、アンダーコート剤
の軟化は、層間絶縁接着剤との密着性の向上にも大きく
作用し、極界面では溶融一体化反応も可能となるため、
層間の信頼性にも関与することとなる。ところが、熱硬
化時にアンダーコート剤の硬化反応が層間絶縁接着剤の
硬化反応より遅れ、アンダーコート剤の溶融粘度が必要
以上に低下すると、層間絶縁接着剤の硬化収縮等の影響
を受け、皺、ボイド発生等の成形不良を起こすことがあ
る。これに対し、本発明で使用されるアンダーコート剤
は、(チ)成分により低温域の反応が促進され、必要以
上の溶融粘度の低下が抑制されるため、無圧下での熱硬
化成形においても、良好な平滑性、層間密着性等を達成
することが可能となる。By using an epoxy resin or a phenoxy resin having a weight-average molecular weight of 10,000 or more for the interlayer insulating adhesive coated on the copper foil, the shape can be maintained.
In other words, since the bonding is performed while maintaining the interlayer thickness, there is no variation in the thickness of the multilayer printed wiring board without depending on the residual ratio of the inner layer copper foil, and it is possible to manufacture a multilayer printed wiring board having excellent thickness accuracy. Becomes However, this means that when laminating a copper foil with an interlayer insulating adhesive, the undercoat agent coated on the inner layer circuit board is softened by heating the hot roll, and the thickness is not averaged by the roll pressure. Cannot be realized. In addition, the softening of the undercoat agent has a great effect on the improvement of the adhesiveness with the interlayer insulating adhesive, and a fusion integration reaction can be performed at the polar interface.
This also affects the reliability between layers. However, when the curing reaction of the undercoat agent is delayed from the curing reaction of the interlayer insulating adhesive at the time of thermal curing, and the melt viscosity of the undercoat agent is reduced more than necessary, the shrinkage of the interlayer insulating adhesive is affected by wrinkles, Molding defects such as voids may occur. On the other hand, the undercoat agent used in the present invention promotes the reaction in the low-temperature region by the component (h) and suppresses an unnecessarily low melt viscosity. , Good smoothness, interlayer adhesion and the like can be achieved.
【0016】その他、本発明の4層プリント配線板用光
・熱硬化型アンダーコート剤には必要に応じて、保存安
定性のために紫外線防止剤、熱重合防止剤、可塑剤など
が添加できる。また、粘度調整のためにアクリレートモ
ノマー、メタクリレートモノマー、ビニルモノマーなど
を添加してもよい。更には、溶融シリカ、結晶性シリ
カ、炭酸カルシウム、水酸化アルミニウム、アルミナ、
硫酸バリウム、マイカ、タルク、クレー、ホワイトカー
ボン、Eガラス粉末などの無機充填材を配合することが
でき、銅箔や内層回路板との密着性や耐湿性を向上させ
るためのエポキシシランカップリング剤、ボイドを防止
するための消泡剤、あるいは液状又は粉末の難燃剤等を
添加することもできる。In addition, the light / thermosetting undercoat agent for a four-layer printed wiring board of the present invention may optionally contain an ultraviolet ray inhibitor, a thermal polymerization inhibitor, a plasticizer, etc. for storage stability. . Further, an acrylate monomer, a methacrylate monomer, a vinyl monomer, or the like may be added for adjusting the viscosity. Furthermore, fused silica, crystalline silica, calcium carbonate, aluminum hydroxide, alumina,
An epoxy silane coupling agent that can contain inorganic fillers such as barium sulfate, mica, talc, clay, white carbon, and E glass powder to improve adhesion and moisture resistance to copper foil and inner circuit boards. An antifoaming agent for preventing voids or a liquid or powdered flame retardant may be added.
【0017】これらの成分からなる本発明の4層プリン
ト配線板用光・熱硬化型アンダーコート剤は、実質的に
無溶剤系でありながら、内層回路板の銅箔回路間隙を充
填し、内層回路表面を平滑化する。また、活性エネルギ
ー線照射により容易に固形となりタックフリー化でき
る。調製された本発明アンダーコート剤中の成分(ニ)
及び(ホ)は、まず溶剤として作用し、成分(イ)〜
(ハ)及びその他の成分を溶解して内層回路板の銅箔回
路間隙を充填、内層回路表面の平滑化可能なワニス状態
にしている。これに、活性エネルギー線を照射して溶剤
として作用している成分(ニ)及び(ホ)を硬化させる
と、成分(ニ)及び(ホ)は硬化固形化に伴い溶剤とし
ての効果を失うため成分(イ)及び(ロ)が析出する。
このとき、硬化した成分(ニ)、(ホ)及びその他の成
分は固形成分(イ)及び(ハ)中に分散される。従っ
て、常温で適度なタックフリー固形状態にある成分
(イ)及び(ロ)が選択されれば、本発明のアンダーコ
ート剤は、熱硬化反応することなくタックフリー化され
る。このようなタックフリー化機構が本発明の最大の特
徴である。また、活性エネルギー線を照射することによ
り硬化した本発明の成分(ニ)は熱反応性の官能基も有
するため、後の加熱反応時に主剤のエポキシ樹脂または
硬化剤と硬化反応するので、その硬化物は、耐熱性、耐
薬品性等にも優れる。The photo-thermosetting type undercoat agent for a four-layer printed wiring board of the present invention comprising these components, while being substantially solvent-free, fills the copper foil circuit gap of the inner layer circuit board, Smoothing the circuit surface. Further, it becomes easily solid by irradiation with active energy rays and can be made tack-free. Component (d) in prepared undercoat agent of the present invention
And (e) first act as a solvent, and the components (a) to
(C) and other components are dissolved to fill the gap between the copper foil circuits of the inner layer circuit board, thereby forming a varnish capable of smoothing the inner layer circuit surface. When the components (d) and (e) acting as a solvent are cured by irradiation with an active energy ray, the components (d) and (e) lose their effect as a solvent due to solidification of the cured product. Components (a) and (b) precipitate.
At this time, the cured components (d), (e) and other components are dispersed in the solid components (a) and (c). Therefore, if the components (a) and (b) which are in an appropriate tack-free solid state at room temperature are selected, the undercoat agent of the present invention is tack-free without a thermosetting reaction. Such a tack-free mechanism is the greatest feature of the present invention. In addition, the component (d) of the present invention which has been cured by irradiation with an active energy ray also has a heat-reactive functional group, and thus undergoes a curing reaction with the epoxy resin or the curing agent as a main component during a subsequent heating reaction. The material is also excellent in heat resistance, chemical resistance and the like.
【0018】次に、本発明に使用する銅箔にコートする
層間絶縁接着剤は、(リ)臭素化率20%以上及び重量
平均分子量10000以上の臭素化ビスフェノール型エ
ポキシ樹脂又は臭素化フェノキシ樹脂、(ヌ)エポキシ
当量500以下のビスフェノール型エポキシ樹脂及び
(ル)融点が130℃以上のイミダゾール化合物からな
るものであり、耐熱性及び難燃性を有する接着剤であ
る。(リ)成分の臭素化率20%以上及び重量平均分子
量10000以上の臭素化ビスフェノール型エポキシ樹
脂又は臭素化フェノキシ樹脂は、成形時の樹脂流れを小
さくし、絶縁層の厚みを維持すること及び組成物に可撓
性を付与すると共に、得られた4層プリント配線板の難
燃化を達成する目的で配合されている。上記の臭素化ビ
スフェノール型エポキシ樹脂としては、ビスフェノール
A型、ビスフェノールF型、ビスフェノールS型等が挙
げられる。また前記(リ)成分単独では硬化後の架橋密
度が低く、可撓性が大きくなりすぎ、及び銅箔にコート
するために溶剤に溶解して所定濃度のワニスとして使用
するときに、粘度が高くコート時の作業性が悪くなる。
これらの欠点を改善するために(ヌ)成分としてエポキ
シ当量が500以下のビスフェノール型のエポキシ樹脂
を配合している。これらのビスフェノール型エポキシ樹
脂としては、ビスフェノールA型、ビスフェノールF
型、ビスフェノールS型等が挙げられる。かかるエポキ
シ樹脂の配合割合は(リ)成分:(ヌ)成分=50〜7
0重量%:50〜30重量%である。(リ)成分が50
重量%より少ないと粘度が高くならず層間絶縁接着剤と
しての厚みを保つことができず、ラミネート後の外層回
路の平滑性が悪くなり、一方70重量%を越えると、逆
に粘度が高くなり、銅箔へのコートが容易でなくなり、
所定厚みを保つことが困難となり好ましくない。また臭
素化ビスフェノール型エポキシ樹脂又は臭素化フェノキ
シ樹脂の臭素化率が20%未満では得られた4層プリン
ト配線板が難燃性V−0を達成することができないの
で、20%以上が必要なのである。Next, the interlayer insulating adhesive to be coated on the copper foil used in the present invention includes (i) a brominated bisphenol type epoxy resin or a brominated phenoxy resin having a bromination ratio of 20% or more and a weight average molecular weight of 10,000 or more; (D) An adhesive having heat resistance and flame retardancy, comprising a bisphenol type epoxy resin having an epoxy equivalent of 500 or less and an imidazole compound having a melting point of 130 ° C. or more. (B) A brominated bisphenol-type epoxy resin or brominated phenoxy resin having a bromination ratio of 20% or more and a weight-average molecular weight of 10,000 or more reduces the resin flow during molding and maintains the thickness of the insulating layer. It is blended for the purpose of imparting flexibility to the product and achieving flame retardancy of the obtained four-layer printed wiring board. Examples of the brominated bisphenol type epoxy resin include bisphenol A type, bisphenol F type, and bisphenol S type. In addition, the component (i) alone has a low crosslinking density after curing, has too high flexibility, and has a high viscosity when dissolved in a solvent and used as a varnish of a predetermined concentration for coating a copper foil. Workability at the time of coating deteriorates.
In order to improve these drawbacks, a bisphenol-type epoxy resin having an epoxy equivalent of 500 or less is blended as a (nu) component. These bisphenol type epoxy resins include bisphenol A type, bisphenol F
And bisphenol S type. The mixing ratio of the epoxy resin is as follows: component (i): component (nu) = 50-7.
0% by weight: 50 to 30% by weight. (I) 50 components
If it is less than 10% by weight, the viscosity does not increase and the thickness as an interlayer insulating adhesive cannot be maintained, and the smoothness of the outer layer circuit after laminating deteriorates. On the other hand, if it exceeds 70% by weight, the viscosity increases. , Coating on copper foil is not easy,
It is difficult to maintain the predetermined thickness, which is not preferable. If the bromination ratio of the brominated bisphenol-type epoxy resin or brominated phenoxy resin is less than 20%, the obtained four-layer printed wiring board cannot achieve the flame retardancy V-0. is there.
【0019】(ル)成分の硬化剤としては前述のアンダ
ーコート剤に用いた(ト)成分と同種類のものを使用す
ることが好ましい。即ち融点が130℃以上で常温で固
形であり、エポキシ樹脂への溶解性が小さく、150℃
以上の高温になってエポキシ樹脂と速やかに反応し、最
終的にエポキシ樹脂が硬化するために添加するものであ
る。具体的には、2−メチルイミダゾール、2−フェニ
ルイミダゾール、2−フェニル−4−メチルイミダゾー
ル、ビス(2−エチル−4−メチル−イミダゾール)、
2−フェニル−4−メチル−5−ヒドロキシメチルイミ
ダゾール、2−フェニル−4,5−ジヒドロキシメチル
イミダゾール、あるいはトリアジン付加型イミダゾール
等がある。これらをエポキシアダクト化したものやマイ
クロカプセル化したものも使用できる。これらは単独で
使用しても2種以上を併用しても良い。これらのイミダ
ゾールは微粉末でエポキシ樹脂ワニス中に均一に分散さ
れる。エポキシ樹脂との相溶性が小さいので、100℃
以下では反応が進行せず、従って該ワニスの保存性を良
好に保つことができる。層間絶縁接着剤として銅箔に1
00℃以下でコートすればエポキシ樹脂は未硬化のまま
存在するので、該接着剤としての保存性も良好に保つこ
とができる。そしてアンダーコート層を設けた内層回路
板とラミネートし、その後硬化時に150℃以上に加熱
すると、アンダーコート剤とも接触面で一部溶融混合さ
れるので、エポキシ樹脂同士が反応して均一な硬化物が
得られる。As the curing agent of the component (L), it is preferable to use the same type as the component (G) used in the above-mentioned undercoat agent. That is, it has a melting point of 130 ° C. or more, is solid at room temperature, has low solubility in epoxy resin, and has a melting point of 150 ° C.
It is added because the above-mentioned high temperature causes rapid reaction with the epoxy resin and finally the epoxy resin is cured. Specifically, 2-methylimidazole, 2-phenylimidazole, 2-phenyl-4-methylimidazole, bis (2-ethyl-4-methyl-imidazole),
Examples include 2-phenyl-4-methyl-5-hydroxymethylimidazole, 2-phenyl-4,5-dihydroxymethylimidazole, and triazine-added imidazole. Epoxy adducts or microcapsules of these can also be used. These may be used alone or in combination of two or more. These imidazoles are finely divided and are uniformly dispersed in the epoxy resin varnish. 100 ° C due to low compatibility with epoxy resin
In the following, the reaction does not proceed, so that the varnish can maintain good storage stability. 1 for copper foil as interlayer insulating adhesive
If the coating is performed at a temperature of 00 ° C. or less, the epoxy resin remains uncured, so that the storability as the adhesive can be kept good. When laminated with an inner layer circuit board provided with an undercoat layer, and then heated to 150 ° C. or higher during curing, the epoxy resin reacts with the undercoat agent and partially melts and mixes on the contact surface. Is obtained.
【0020】層間絶縁接着剤は上記エポキシ樹脂及び硬
化剤の他に、エポキシ樹脂や硬化剤と反応する成分を配
合することができる。例えば、他のエポキシ樹脂、エポ
キシ反応性希釈剤(一官能型としてフェニルグリシジル
エーテルナド、二官能型としてレゾルシングリシジルエ
ーテル、エチレングリコールグリシジルエーテルなど、
三官能型としてグリセロールトリグリシジルエーテルな
ど)、レゾール型又はノボラック型フェノール系樹脂、
イソシアネート化合物等である。上記成分他に、線膨張
率、耐熱性、耐燃性等の向上のために、溶融シリカ、結
晶性シリカ、炭酸カルシウム、水酸化アルミニウム、ア
ルミナ、硫酸バリウム、マイカ、タルク、クレー、ホワ
イトカーボン、Eガラス粉末などの無機充填材をエポキ
シ樹脂に対して40重量%以下配合してもよい。40重
量%より多く配合すると、接着剤の粘性が高くなり、密
着性が低下する。また、銅箔との密着性や耐湿性を向上
させるためのエポキシシランカップリング剤、ボイドを
防止するための消泡剤、あるいは液状又は粉末の難燃剤
等を添加することもできる。In addition to the epoxy resin and the curing agent, a component that reacts with the epoxy resin and the curing agent can be mixed in the interlayer insulating adhesive. For example, other epoxy resins, epoxy-reactive diluents (phenyl glycidyl ether nad as monofunctional type, resolving ricidyl ether as bifunctional type, ethylene glycol glycidyl ether, etc.
Glycerol triglycidyl ether as trifunctional type), resol type or novolak type phenolic resin,
And isocyanate compounds. In addition to the above components, in order to improve the coefficient of linear expansion, heat resistance, flame resistance, etc., fused silica, crystalline silica, calcium carbonate, aluminum hydroxide, alumina, barium sulfate, mica, talc, clay, white carbon, E An inorganic filler such as glass powder may be blended in an amount of 40% by weight or less based on the epoxy resin. If the content is more than 40% by weight, the viscosity of the adhesive increases, and the adhesiveness decreases. Further, an epoxy silane coupling agent for improving the adhesion to the copper foil and moisture resistance, an antifoaming agent for preventing voids, or a liquid or powdered flame retardant may be added.
【0021】溶剤としては、接着剤を銅箔に塗布し80
〜130℃で乾燥した後において、接着剤中に残らない
ものを選択しなければならない。例えば、アセトン、メ
チルエチルケトン、トルエン、キシレン、n−ヘキサ
ン、メタノール、エタノール、メチルセルソルブ、シク
ロヘキサノン等がある。層間絶縁接着剤つき銅箔は、接
着剤成分を所定の溶剤に所定の濃度で溶解した接着剤ワ
ニスを銅箔のアンカー面に塗工し、その後80〜130
℃の乾燥を行って接着剤中に溶剤が残らないようにして
作成する。その接着剤層の厚みは15〜120μmが好
ましい。15μmより薄いと層間絶縁性が不十分となる
ことがあり、120μmより厚いと層間絶縁性は問題な
いが、作成が困難となり、また4層板の厚みを薄くする
という本発明の目的に合わなくなる。As a solvent, an adhesive is applied to a copper foil and
After drying at ~ 130 [deg.] C, one must choose what does not remain in the adhesive. For example, there are acetone, methyl ethyl ketone, toluene, xylene, n-hexane, methanol, ethanol, methyl cellosolve, cyclohexanone and the like. Copper foil with an interlayer insulating adhesive is coated with an adhesive varnish obtained by dissolving an adhesive component in a predetermined solvent at a predetermined concentration on the anchor surface of the copper foil, and then 80 to 130
It is prepared by drying at a temperature of ° C. so that no solvent remains in the adhesive. The thickness of the adhesive layer is preferably from 15 to 120 μm. If the thickness is less than 15 μm, the interlayer insulating property may be insufficient. If the thickness is more than 120 μm, there is no problem with the interlayer insulating property. .
【0022】このようにして、光重合及び熱反応性モノ
マーとして、1分子中に1個以上のアクリロイル基又は
メタクリロイル基及び1個以上のグリシジル基を有する
化合物、及び1分子中に1個以上のアクリロイル基又は
メタクリロイル基及び1個以上のヒドロキシル基を有す
る化合物を併用使用することにより、活性エネルギー線
照射によるアンダーコート剤のタックフリー化、及び層
間絶縁接着剤付き銅箔とのラミネート後の一体硬化が良
好に行われ、良好な4層プリント配線板を製造すること
ができる。Thus, as the photopolymerizable and heat-reactive monomer, a compound having one or more acryloyl or methacryloyl groups and one or more glycidyl groups in one molecule, and one or more compounds in one molecule By using a compound having an acryloyl group or a methacryloyl group and one or more hydroxyl groups in combination, the undercoat agent can be tack-free by irradiation with active energy rays, and can be integrally cured after lamination with a copper foil with an interlayer insulating adhesive. And a good four-layer printed wiring board can be manufactured.
【0023】本発明の目的を達成するための、アンダー
コート剤の塗工及び層間絶縁接着剤付き銅箔をラミネー
トし硬化する方法について概要を図1を用いて説明す
る。 (A) 内層回路板(1)上に液状のアンダーコート剤
(3)をスクリーン印刷、ローラーコーター、カーテン
コーター等の従来のコーティング設備を使用して内層回
路(2)の一方の面を完全に覆う厚さまで塗工する。埋
め込み量が不十分であると、この後のラミネートで空気
を巻き込むことになる。その後、UV照射コンベア等に
よる活性エネルギー線照射でタックフリー化する。次い
で内層回路板(2)の他方の面を同様の方法でアンダー
コート剤(3)を塗工する。 (B) 表面に層間絶縁接着剤(4)付き銅箔(5)をラ
ミネートする。ラミネーターは表面平滑性を達成するた
めに一対のシリコンゴム等を被覆したロール(6)を使
用し、内層回路板(2)の両面にラミネートする。ラミ
ネート条件として内層回路のパターンによって異なる
が、圧力は 0.5〜6kgf/cm2 程度、表面温度は常温
から100℃程度、ラミネートスピードは0.1〜6m
/分程度で行う。このような条件では光硬化状態のアン
ダーコート剤は、硬質ロールを用いることで表面平滑性
を達成することができる。このとき内層回路(2)と銅
箔(5)との層間厚は層間絶縁接着剤の厚みで達成する
ことができる。 (C) 次いで、加熱して同時一体硬化反応を行うことに
よりアンダーコート剤(3)と銅箔にコートされた層間
絶縁接着剤(4)とを一体成形した4層プリント配線板
を形成することができる。An outline of a method of applying an undercoat agent and laminating and curing a copper foil with an interlayer insulating adhesive to achieve the object of the present invention will be described with reference to FIG. (A) The liquid undercoating agent (3) is screen-printed on the inner circuit board (1), and one side of the inner circuit (2) is completely coated using a conventional coating equipment such as a roller coater or a curtain coater. Apply to the thickness to cover. If the embedding amount is insufficient, air will be entrained in the subsequent laminate. Then, it is made tack-free by irradiating active energy rays with a UV irradiation conveyor or the like. Next, the other surface of the inner circuit board (2) is coated with an undercoating agent (3) in the same manner. (B) Laminate a copper foil (5) with an interlayer insulating adhesive (4) on the surface. The laminator uses a roll (6) coated with a pair of silicon rubber or the like to achieve surface smoothness, and is laminated on both sides of the inner circuit board (2). The laminating conditions vary depending on the pattern of the inner layer circuit, but the pressure is about 0.5 to 6 kgf / cm 2 , the surface temperature is from normal temperature to about 100 ° C., and the laminating speed is 0.1 to 6 m.
Per minute. Under such conditions, the photocured undercoat agent can achieve surface smoothness by using a hard roll. At this time, the interlayer thickness between the inner layer circuit (2) and the copper foil (5) can be achieved by the thickness of the interlayer insulating adhesive. (C) Next, a four-layer printed wiring board is formed by integrally forming the undercoat agent (3) and the interlayer insulating adhesive (4) coated on the copper foil by performing simultaneous simultaneous curing reaction by heating. Can be.
【0024】[0024]
【実施例】以下、実施例により本発明を説明する。
「部」は重量部を表す。 《実施例1》臭素化フェノキシ樹脂(臭素化25%、重
量平均分子量30000)100部とビスフェノールF
型エポキシ樹脂(エポキシ当量175、大日本インキ化
学工業(株)製エピクロン830)40部をMEK150
部に撹拌しながら溶解し、そこへ硬化剤として2−フェ
ニル−4−メチル−5−ヒドロキシメチルイミダゾール
3部とシランカップリング剤(日本ユニカー(株)製 A-
187)1部を添加して層間絶縁接着剤ワニスを作成し
た。このワニスを厚さ18μmの銅箔のアンカー面に乾
燥後の厚さが40μmとなるようにローラーコーターに
て塗布、乾燥し層間絶縁接着剤付き銅箔を作製した。次
に、臭素化クレゾールノボラックエポキシ樹脂(臭素化
35%、エポキシ当量280、重量平均分子量140
0)100部、ビスフェノールA型エポキシ樹脂(エポ
キシ当量950、重量平均分子量1600)100部と
ビスフェノールF型エポキシ樹脂(エポキシ当量17
5、大日本インキ化学工業(株)製エピクロン830)4
0部をメタクリル酸グリシジル80部及びヒドロキシエ
チルメタクリレート90部に溶解し、そこへ硬化剤とし
て、2−フェニル−4−メチル−5−ヒドロキシメチル
イミダゾール4部及び1−シアノエチル−2−エチル−
4−メチルイミダゾール8部と光重合開始剤(チバガイ
ギー製イルガキュア651)10部を添加し、ホモミキ
サーにて十分撹拌してアンダーコート剤とした。更に、
基材厚 0.2mm、銅箔厚35μmの難燃性ガラスエポ
キシ両面銅張積層板をパターン加工して内層回路板を得
た。銅箔表面を黒化処理した後、上記アンダーコート剤
を内層回路板の一方の面にカーテンコーターにより厚さ
約40μmに塗工した。その後、UVコンベア機にて8
0W/cm高圧水銀灯2本で約2J/cm2 の条件で紫外
線照射し、活性エネルギー線照射によりタックフリー化
したアンダーコート層を作成し、次いで内層回路板の他
方の面にも同様にしてアンダーコート層を作成した。そ
の後アンダーコート層上に温度100℃、圧力2kg/cm
2 、ラミネートスピード 0.8m/分の条件により、2
本ロールを用いて上記層間絶縁接着剤付き銅箔をラミネ
ートし、180℃、30分間加熱硬化させ4層プリント
配線板を作製した。The present invention will be described below with reference to examples.
"Parts" represents parts by weight. << Example 1 >> 100 parts of a brominated phenoxy resin (25% brominated, weight average molecular weight 30,000) and bisphenol F
40 parts of a type epoxy resin (epoxy equivalent: 175, Epicron 830 manufactured by Dainippon Ink and Chemicals, Inc.) was added to MEK150.
And dissolved therein with stirring, and 3 parts of 2-phenyl-4-methyl-5-hydroxymethylimidazole as a curing agent and a silane coupling agent (manufactured by Nippon Unicar Co., Ltd., A-
187) One part was added to prepare an interlayer insulating adhesive varnish. The varnish was applied to an anchor surface of a copper foil having a thickness of 18 μm by a roller coater so that the thickness after drying became 40 μm, and dried to prepare a copper foil with an interlayer insulating adhesive. Next, a brominated cresol novolak epoxy resin (35% brominated, epoxy equivalent 280, weight average molecular weight 140
0) 100 parts, bisphenol A type epoxy resin (epoxy equivalent 950, weight average molecular weight 1600) 100 parts and bisphenol F type epoxy resin (epoxy equivalent 17
5. Epicron 830) manufactured by Dainippon Ink and Chemicals, Inc.
0 parts were dissolved in 80 parts of glycidyl methacrylate and 90 parts of hydroxyethyl methacrylate, and as a curing agent, 4 parts of 2-phenyl-4-methyl-5-hydroxymethylimidazole and 1 part of 1-cyanoethyl-2-ethyl- were dissolved.
8 parts of 4-methylimidazole and 10 parts of a photopolymerization initiator (Irgacure 651 manufactured by Ciba Geigy) were added, and sufficiently stirred with a homomixer to obtain an undercoat agent. Furthermore,
An inner layer circuit board was obtained by patterning a flame-retardant glass epoxy double-sided copper-clad laminate having a base material thickness of 0.2 mm and a copper foil thickness of 35 μm. After the surface of the copper foil was blackened, the undercoat agent was applied to one surface of the inner circuit board to a thickness of about 40 μm using a curtain coater. After that, the UV conveyor machine 8
Irradiation with ultraviolet light is performed using two 0 W / cm high-pressure mercury lamps at about 2 J / cm 2 to form a tack-free undercoat layer by irradiating with active energy rays. Then, undercoat is formed on the other surface of the inner circuit board in the same manner. A coat layer was formed. Thereafter, a temperature of 100 ° C. and a pressure of 2 kg / cm are applied on the undercoat layer.
2. The laminating speed is 0.8m / min.
Using this roll, the above-mentioned copper foil with an interlayer insulating adhesive was laminated and heat-cured at 180 ° C. for 30 minutes to produce a four-layer printed wiring board.
【0025】《実施例2》アンダーコート剤及び層間絶
縁性接着剤において、エポキシ樹脂の硬化剤として、2
−フェニル−4−メチル−5−ヒドロキシメチルイミダ
ゾールの代わりに、2−フェニル−4−メチルイミダゾ
ールを使用した以外は実施例1と同様にして4層プリン
ト配線板を作製した。Example 2 In the undercoat agent and the interlayer insulating adhesive, the curing agent for epoxy resin was 2
A four-layer printed wiring board was produced in the same manner as in Example 1 except that 2-phenyl-4-methylimidazole was used instead of -phenyl-4-methyl-5-hydroxymethylimidazole.
【0026】《比較例1》アンダーコート剤において、
メタクリル酸グリシジル及びヒドロキシエチルメタクリ
レートの代わりに、メタクリル酸グリシジル160部を
使用した以外は実施例1と全く同様にして4層プリント
配線板を作製した。 《比較例2》アンダーコート剤において、メタクリル酸
グリシジル及びヒドロキシエチルメタクリレートの代わ
りに、ヒドロキシエチルメタクリレート180部を使用
した以外は実施例1と全く同様にして4層プリント配線
板を作製した。 《比較例3》アンダーコート剤のエポキシ樹脂の硬化剤
として、1−シアノエチル−2−エチル−4−メチルイ
ミダゾールを使用せず2−フェニル−4−メチルイミダ
ゾールのみ12部使用した以外は、実施例1と全く同様
にして4層プリント配線板を作製した。<< Comparative Example 1 >> In the undercoat agent,
A four-layer printed wiring board was produced in exactly the same manner as in Example 1 except that 160 parts of glycidyl methacrylate was used instead of glycidyl methacrylate and hydroxyethyl methacrylate. Comparative Example 2 A four-layer printed wiring board was produced in exactly the same manner as in Example 1, except that 180 parts of hydroxyethyl methacrylate was used in place of glycidyl methacrylate and hydroxyethyl methacrylate in the undercoat agent. << Comparative Example 3 >> Example 1 was repeated except that only 12 parts of 2-phenyl-4-methylimidazole was used without using 1-cyanoethyl-2-ethyl-4-methylimidazole as a curing agent for the epoxy resin of the undercoat agent. A four-layer printed wiring board was produced in exactly the same manner as in Example 1.
【0027】《比較例4》層間絶縁性接着剤のエポキシ
樹脂の硬化剤として、2−フェニル−4−メチル−5−
ヒドロキシメチルイミダゾールを使用せず1−シアノエ
チル−2−エチル−4−メチルイミダゾール12部を使
用した以外は、実施例1と全く同様にして4層プリント
配線板を作製した。 《比較例5》アンダーコート剤において、エポキシ樹脂
として臭素化クレゾールノボラックエポキシ樹脂(エポ
キシ当量280、重量平均分子量1400)100部を
使用せず、ビスフェノールA型エポキシ樹脂(エポキシ
当量950、重量平均分子量1600)200部とビス
フェノールF型エポキシ樹脂(エポキシ当量175、大
日本インキ化学工業(株)製エピクロン830)40部を
使用した以外は実施例1と同様にして4層プリント配線
板を作製した。 《比較例6》層間絶縁性接着剤の臭素化フェノキシ樹脂
の代わりに、ビスフェノールA型エポキシ樹脂(エポキ
シ当量6400、重量平均分子量30000)を使用し
た以外は、実施例1と全く同様にして4層プリント配線
板を作製した。得られた4層プリント配線板は表1に示
すような特性を有している。Comparative Example 4 As a curing agent for an epoxy resin as an interlayer insulating adhesive, 2-phenyl-4-methyl-5-
A four-layer printed wiring board was produced in exactly the same manner as in Example 1, except that 12 parts of 1-cyanoethyl-2-ethyl-4-methylimidazole was used without using hydroxymethylimidazole. Comparative Example 5 In the undercoat agent, bisphenol A type epoxy resin (epoxy equivalent 950, weight average molecular weight 1600) was used without using 100 parts of brominated cresol novolak epoxy resin (epoxy equivalent 280, weight average molecular weight 1400) as epoxy resin. A four-layer printed wiring board was prepared in the same manner as in Example 1 except that 200 parts) and 40 parts of a bisphenol F type epoxy resin (epoxy equivalent: 175, Epicron 830 manufactured by Dainippon Ink and Chemicals, Inc.) were used. << Comparative Example 6 >> Four layers were prepared in exactly the same manner as in Example 1 except that a bisphenol A type epoxy resin (epoxy equivalent: 6400, weight average molecular weight: 30,000) was used instead of the brominated phenoxy resin as the interlayer insulating adhesive. A printed wiring board was manufactured. The obtained four-layer printed wiring board has characteristics as shown in Table 1.
【0028】(試験方法) 内層回路板試験片:線間150μmピッチ、クリアラン
スホール2.54mmφ 1.表面平滑性:JIS B 0601 R(max) 2.吸湿半田耐熱試験 吸湿条件:プレッシャークッカー処理、125℃、2.
3気圧、30分間 試験条件:n=5で、全てが280℃、120秒間膨れ
が無かったものを○とし、膨れたものを×とした。 3.層間絶縁層厚:4層プリント配線板を切断し、その
断面を光学顕微鏡で観察し、内層回路と表面銅箔との層
間絶縁層厚さを測定した。 4.難燃性:UL規格94による(Test Method) Inner layer circuit board test piece: 150 μm pitch between lines, clearance hole 2.54 mmφ 1. Surface smoothness: JIS B 0601 R (max) 1. Moisture absorption heat resistance test Moisture absorption conditions: pressure cooker treatment, 125 ° C,
Test conditions: 3 atm, 30 min. Test conditions: n = 5, all were not swelled at 280 ° C. for 120 seconds, and ○ were swelled. 3. Interlayer insulation layer thickness: A four-layer printed wiring board was cut, and its cross section was observed with an optical microscope to measure the thickness of the interlayer insulation layer between the inner layer circuit and the surface copper foil. 4. Flame retardancy: according to UL standard 94
【0029】 表 1 ─────────────────────────────────── 実施例 比 較 例 1 2 1 2 3 4 5 6 ─────────────────────────────────── 表面平滑性(μm) 3 3 8 3 5 20 15 35 吸湿半田耐熱性 ○ ○ ○ × × ○ ○ × 層間絶縁層厚(μm) 50 50 55 50 50 55 60 40 難燃性 V-0 V-0 V-0 V-0 V-0 V-0 V-1 V-1 ───────────────────────────────────Table 1 ─────────────────────────────────── Example Comparative Example 1 2 1 2 3 4 5 6 ─────────────────────────────────── Surface smoothness (μm) 3 3 8 3 5 20 15 35 Heat resistance of moisture absorption solder ○ ○ ○ × × ○ ○ × Interlayer insulation layer thickness (μm) 50 50 55 50 50 55 60 40 Flame retardant V-0 V-0 V-0 V-0 V-0 V-0 V-1 V-1 ───────────────────────────────────
【0030】[0030]
【発明の効果】本発明は、表面が平滑で、銅箔にコート
された熱硬化型絶縁接着剤が厚さを維持しているため、
内層銅箔残存率に依存することなく板厚制御に優れた4
層プリント配線板を得ることができた。According to the present invention, the surface is smooth and the thermosetting insulating adhesive coated on the copper foil maintains its thickness.
Excellent in thickness control without depending on the residual ratio of inner copper foil 4
A layer printed wiring board was obtained.
【図1】本発明の4層プリント配線板の層構成を示す概
略断面図FIG. 1 is a schematic sectional view showing a layer configuration of a four-layer printed wiring board of the present invention.
【図2】本発明の4層プリント配線板(一例)を作製す
る工程を示す概略断面図FIG. 2 is a schematic cross-sectional view showing a step of manufacturing a four-layer printed wiring board (one example) of the present invention.
1 内層回路板 2 内層回路 3 アンダーコート層 4 層間絶縁接着剤層 5 銅箔 6 硬質ロール 7 4層プリント配線板 REFERENCE SIGNS LIST 1 inner circuit board 2 inner circuit 3 undercoat layer 4 interlayer insulating adhesive layer 5 copper foil 6 hard roll 7 four-layer printed wiring board
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 FI H05K 3/38 H05K 3/38 E (56)参考文献 特開 平7−245485(JP,A) 特開 平7−202418(JP,A) 特開 平7−224149(JP,A) 特開 平5−235546(JP,A) 特開 平7−131182(JP,A) 特開 平7−283545(JP,A) 特開 平5−170949(JP,A) 特開 平5−136570(JP,A) 特開 昭57−15499(JP,A) 特開 平5−251866(JP,A) 特開 平3−55236(JP,A) (58)調査した分野(Int.Cl.7,DB名) H05K 3/46 H05K 3/38 C08G 59/40 C09D 163/00 C09J 163/00 ──────────────────────────────────────────────────続 き Continued on the front page (51) Int.Cl. 7 Identification symbol FI H05K3 / 38 H05K3 / 38E (56) References JP-A-7-245485 (JP, A) JP-A-7-202418 ( JP, A) JP-A-7-224149 (JP, A) JP-A-5-235546 (JP, A) JP-A-7-131182 (JP, A) JP-A-7-283545 (JP, A) JP JP-A-5-170949 (JP, A) JP-A-5-136570 (JP, A) JP-A-57-15499 (JP, A) JP-A-5-251866 (JP, A) JP-A-3-55236 (JP) , A) (58) Fields investigated (Int. Cl. 7 , DB name) H05K 3/46 H05K 3/38 C08G 59/40 C09D 163/00 C09J 163/00
Claims (1)
板からなる内層回路板の両面にアンダーコート層、層間
絶縁接着剤層及び銅箔が順次ラミネートされている4層
プリント配線板であって、光・熱硬化型アンダーコート
層が、(イ)臭素化率20%以上で、分子量500〜4
000のノボラック型エポキシ樹脂、(ロ)分子量50
0〜2000のビスフェノール型エポキシ樹脂、(ハ)
分子量500以下のビスフェノール型エポキシ樹脂、
(ニ)グリシジルアクリレート又はグリシジルメタクリ
レート、(ホ)ヒドロキシエチルアクリレート又はヒド
ロキシエチルメタクリレート、(ヘ)光重合開始剤、
(ト)融点が130℃以上のイミダゾール化合物、及び
(チ)低温硬化型イミダゾール化合物からなり、層間絶
縁接着剤層が、(リ)臭素化率20%以上及び重量平均
分子量10000以上の臭素化ビスフェノール型エポキ
シ樹脂又は臭素化フェノキシ樹脂、(ヌ)エポキシ当量
500以下のビスフェノール型エポキシ樹脂、及び
(ル)融点が130℃以上のイミダゾール化合物からな
ることを特徴とする4層プリント配線板。1. A four-layer printed wiring board in which an undercoat layer, an interlayer insulating adhesive layer and a copper foil are sequentially laminated on both sides of an inner circuit board made of a flame-retardant epoxy resin-impregnated glass cloth substrate, -The thermosetting undercoat layer has (a) a bromination ratio of 20% or more and a molecular weight of 500 to 4;
000 novolak epoxy resin, (b) molecular weight 50
0-2000 bisphenol type epoxy resin, (c)
Bisphenol type epoxy resin having a molecular weight of 500 or less,
(D) glycidyl acrylate or glycidyl methacrylate, (e) hydroxyethyl acrylate or hydroxyethyl methacrylate, (f) a photopolymerization initiator,
(G) An imidazole compound having a melting point of 130 ° C. or more, and (h) a low-temperature-curable imidazole compound, wherein the interlayer insulating adhesive layer has (ii) a brominated bisphenol having a bromination ratio of 20% or more and a weight average molecular weight of 10,000 or more. A four-layer printed wiring board comprising: a type epoxy resin or a brominated phenoxy resin; (nu) a bisphenol type epoxy resin having an epoxy equivalent of 500 or less; and (ii) an imidazole compound having a melting point of 130 ° C. or more.
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