JP3056676B2 - Method for manufacturing four-layer printed wiring board - Google Patents

Method for manufacturing four-layer printed wiring board

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JP3056676B2
JP3056676B2 JP26516295A JP26516295A JP3056676B2 JP 3056676 B2 JP3056676 B2 JP 3056676B2 JP 26516295 A JP26516295 A JP 26516295A JP 26516295 A JP26516295 A JP 26516295A JP 3056676 B2 JP3056676 B2 JP 3056676B2
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printed wiring
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copper foil
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猛 八月朔日
豊昭 岸
聖 中道
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Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、エポキシ樹脂含浸
ガラスクロスクロス基板に光・熱硬化型アンダーコート
層及び熱硬化型絶縁性接着剤層を有する銅箔を積層した
4層プリント配線板に関するものである。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a four-layer printed wiring board in which a copper foil having a light / thermosetting undercoat layer and a thermosetting insulating adhesive layer is laminated on an epoxy resin impregnated glass cloth cloth substrate. It is.

【0002】[0002]

【従来の技術】多層プリント配線板は、電子機器の小型
化、多機能化が進み、更に高密度化の方向に移行してい
る。即ち、回路の細線化、高多層化、バイアホールの小
径化、薄型化等の方向に進んでいる。従来、多層プリン
ト配線板を製造する場合、回路作成された内層回路基板
上にガラスクロス基材にエポキシ樹脂を含浸して半硬化
させたプリプレグシートを1枚以上重ね、更にその上に
銅箔を重ね熱板プレスにて加熱一体成形するという工程
を経ている。しかし、この工程では含浸樹脂を熱により
再流動させ一定圧力下で硬化させるため、均一に硬化成
形するには1〜1.5時間は必要である。このように製
造工程が長くかかる上に、多層積層プレス及びガラスク
ロスプリプレグのコスト等により高コストとなってい
る。加えてガラスクロスに樹脂を含浸させる方法のため
層間厚の極薄化も困難であった。
2. Description of the Related Art In multilayer printed wiring boards, the miniaturization and multifunctionality of electronic devices have been progressing, and the direction of higher density has been shifted. That is, the circuit is becoming thinner, more multilayered, the diameter of the via hole smaller, thinner, and the like. Conventionally, when manufacturing a multilayer printed wiring board, one or more prepreg sheets obtained by impregnating a glass cloth base material with an epoxy resin and semi-curing are stacked on an inner circuit board on which a circuit is formed, and a copper foil is further placed thereon. It has undergone a process of integrally forming by heating with a lap hot plate press. However, in this step, since the impregnated resin is reflowed by heat and cured under a constant pressure, it takes 1 to 1.5 hours to uniformly cure and mold. As described above, the manufacturing process takes a long time, and the cost is high due to the costs of the multilayer laminating press and the glass cloth prepreg. In addition, the method of impregnating the glass cloth with a resin has made it difficult to make the interlayer thickness extremely thin.

【0003】近年、これらの問題を解決するため、熱板
プレスによる加熱加圧成形を行わず、層間絶縁材料にガ
ラスクロスを用いない、ビルドアップ方式による多層プ
リント配線板の技術が改めて注目されている。ビルドア
ップ方式による多層プリント配線板において、銅箔の粗
面化面に絶縁樹脂層を形成した銅張絶縁シートを用いた
り、ガラスクロス基材にエポキシ樹脂を含浸して半硬化
させたプリプレグシートの代わりにフィルム状の層間絶
縁樹脂層を用いた場合、プリプレグで層間絶縁樹脂層を
形成する方法と比べて作業効率が著しく向上する。しか
し、内層回路板の絶縁基板と回路との段差部分にある空
気を完全に除去することができず、空気が残り、気泡が
発生し、絶縁不良やハンダ耐熱性が悪くなり、また層間
剥離が生じることがあり問題となっている。それを防止
するためは、減圧の環境下でラミネートを行わねばなら
ず、特殊な設備が必要になってくる。また、ラミネート
した絶縁層が内層回路板の絶縁基板と回路との段差に追
従するため、表面平滑性が得られず、部品実装時に半田
付け不良等が発生したり、エッチングレジスト形成工程
でレジストの剥離、パターン現像度低下が発生して安定
したレジスト形成ができない等の問題がある。
In recent years, in order to solve these problems, a technique of a multilayer printed wiring board by a build-up system which does not perform hot press molding by a hot plate press and does not use a glass cloth as an interlayer insulating material has been renewed. I have. In a multilayer printed wiring board by the build-up method, use a copper-clad insulating sheet in which an insulating resin layer is formed on the roughened surface of copper foil, or a prepreg sheet in which a glass cloth base material is impregnated with epoxy resin and semi-cured. When a film-like interlayer insulating resin layer is used instead, the working efficiency is significantly improved as compared with the method of forming the interlayer insulating resin layer using a prepreg. However, air at the step between the insulating substrate of the inner circuit board and the circuit cannot be completely removed, air remains, bubbles are generated, poor insulation and poor solder heat resistance, and delamination occurs. This can be a problem. In order to prevent this, lamination must be performed under a reduced pressure environment, and special equipment is required. In addition, since the laminated insulating layer follows the step between the insulating substrate of the inner circuit board and the circuit, surface smoothness cannot be obtained, soldering failure or the like may occur at the time of component mounting, or the resist may not be formed in the etching resist forming step. There are problems such as peeling and a decrease in the pattern development degree, which makes it impossible to form a stable resist.

【0004】さらに、プリプレグを使用した場合も同様
であるが、内層回路パターンの銅箔残存率によって埋め
込む樹脂量が変化することから同じ銅張絶縁シートある
いはフィルム状の層間絶縁樹脂層を使用しても成形後の
板厚が同じにならない。つまり、銅箔残存率が大きく埋
め込むべき部分が少ない場合は板厚が厚くなり、銅箔残
存率が小さく埋め込むべき部分が多い場合は板厚が薄く
なることから、銅箔残存率によってフィルム厚も変えな
ければ同じ板厚を達成することができない。また、一枚
の内層回路板でも場所により銅箔残存率に差がある場合
には得られた多層プリント配線板の板厚が均一にならな
い等欠点が生じ問題とされていた。
The same applies to the case where a prepreg is used. However, since the amount of resin to be embedded varies depending on the residual ratio of copper foil in the inner circuit pattern, the same copper-clad insulating sheet or film-like interlayer insulating resin layer is used. Also, the sheet thickness after molding does not become the same. In other words, when the copper foil residual ratio is large and the portion to be embedded is small, the plate thickness is large, and when the copper foil residual ratio is small and the portion to be embedded is large, the plate thickness is small. If you do not change, you cannot achieve the same thickness. In addition, when the residual ratio of copper foil is different depending on the location even in one inner layer circuit board, there is a problem that the obtained multilayer printed wiring board does not have a uniform plate thickness and the like.

【0005】[0005]

【発明が解決しようとする課題】本発明は、上記熱板プ
レスで成形する方式や従来のビルトアップ方式で得られ
る多層プリント配線板に対して、薄型で、厚みのバラツ
キも小さい、表面が平滑な高密度実装に適した4層プリ
ント配線板を提供するものである。
SUMMARY OF THE INVENTION The present invention is thinner, has less variation in thickness, and has a smoother surface than a multilayer printed wiring board obtained by the above-mentioned hot plate press forming method or a conventional built-up method. It is intended to provide a four-layer printed wiring board suitable for high-density mounting.

【0006】[0006]

【課題を解決するための手段】本発明は、回路パターン
を有するエポキシ樹脂含浸ガラスクロス基板の両面に光
・熱硬化型アンダーコートを塗布し、活性エネルギー線
を照射した後、熱硬化型絶縁性接着剤層が塗布された
を積層することを特徴とする4層プリント配線板の製
造方法であって、光・熱硬化型アンダーコート層が、 (イ)常温固形状態にあるエポキシ樹脂、 (ロ)エポキシ樹脂硬化剤、 (ハ)グリシジルアクリレート又はグリシジルメタクリ
レート、 (ニ)ヒドロキシエチルアクリレート又はヒドロキシエ
チルメタクリレート、 (ホ)光重合開始剤 からなることを特徴とする4層プリント配線板の製造方
法である。好ましくは、 熱硬化型絶縁性接着剤が、エポ
キシ樹脂及びその硬化剤からなり、エポキシ樹脂の主成
分が、重量平均分子量10000以上のビスフェノール
型エポキシ樹脂、及びエポキシ当量500以下のビスフ
ェノール型エポキシ樹脂からなる4層プリント配線板
製造方法である。
According to the present invention, an epoxy resin impregnated glass cloth substrate having a circuit pattern is coated with a light / thermosetting undercoat on both sides, and an active energy ray is applied.
And then laminating a copper foil coated with a thermosetting insulating adhesive layer to produce a four-layer printed wiring board.
A photo-thermosetting undercoat layer, wherein (a) an epoxy resin in a solid state at room temperature, (b) an epoxy resin curing agent, (c) glycidyl acrylate or glycidyl methacrylate.
Rate, (d) hydroxyethyl acrylate or hydroxy et
A method for producing a four-layer printed wiring board, comprising chill methacrylate and (e) a photopolymerization initiator.
Is the law. Preferably, the thermosetting insulating adhesive comprises an epoxy resin and a curing agent thereof, and the main component of the epoxy resin is a bisphenol type epoxy resin having a weight average molecular weight of 10,000 or more, and a bisphenol type epoxy resin having an epoxy equivalent of 500 or less. It becomes four-layer printed wiring board
It is a manufacturing method .

【0007】即ち本発明は、エポキシ樹脂含浸ガラスク
ロス基板からなる内層回路板にスクリーン印刷、ローラ
ーコーター、カーテンコーターなどで液状のアンダーコ
ート剤を塗工して、内層回路板の銅箔回路間隙を充填
し、UV照射コンベア等の露光機によって活性エネルギ
ー線照射により該アンダーコート剤をタックフリー化さ
せる。その後、未硬化又は半硬化の熱硬化型絶縁性接着
剤付き銅箔をアンダーコート剤をコートした内層回路板
に加熱されたロール等で片面づつ又は両面同時にラミネ
ートし接着させる。そして、ラミネート後加熱して光・
熱硬化型アンダーコート剤と熱硬化型絶縁性接着剤付き
銅箔とを同時一体硬化反応させることにより多層プリン
ト配線板を作成することができる。ラミネートする際、
アンダーコート剤もロールで加熱されることによりを再
溶融され、ロール圧により厚みが平均化されるため、銅
箔面の表面平滑性を得ることができる。またそのとき、
銅箔にコートされた熱硬化型絶縁接着剤は重量平均分子
量10000以上のエポキシ樹脂成分により形状を維持
したまま、すなわち層間厚みを保った状態で接着される
ため、内層銅箔残存率に依存することなく多層プリント
配線板の厚みもバラツキもなく平均化され、板厚精度に
優れた4層プリント配線板を作製することができる。
That is, according to the present invention, a liquid undercoat agent is applied to an inner layer circuit board made of an epoxy resin impregnated glass cloth substrate by screen printing, a roller coater, a curtain coater, or the like, so that a copper foil circuit gap of the inner layer circuit board is formed. After filling, the undercoat agent is made tack-free by irradiation with active energy rays using an exposure machine such as a UV irradiation conveyor. Thereafter, the uncured or semi-cured copper foil with a thermosetting insulating adhesive is laminated on an inner circuit board coated with an undercoat agent by a heated roll or the like one by one or both sides simultaneously and adhered. Then, after lamination, heat and light
A multilayer printed wiring board can be produced by simultaneously and integrally curing reaction of a thermosetting undercoat agent and a copper foil with a thermosetting insulating adhesive. When laminating,
The undercoat agent is also re-melted by being heated by the roll, and the thickness is averaged by the roll pressure, so that the surface smoothness of the copper foil surface can be obtained. At that time,
The thermosetting insulating adhesive coated on the copper foil is bonded with the epoxy resin component having a weight-average molecular weight of 10,000 or more while maintaining its shape, that is, while maintaining the interlayer thickness, and thus depends on the residual ratio of the inner layer copper foil. Thus, the thickness of the multilayer printed wiring board is averaged without variation, and a four-layer printed wiring board having excellent board thickness accuracy can be manufactured.

【0008】[0008]

【発明の実施の形態】本発明においてアンダーコート層
に用いられるアンダーコート剤は、内層回路板の銅箔回
路間隙を充填し、内層回路表面を平滑化するもので、下
記の成分(イ)、(ロ)、(ハ)及び(ニ)からなるこ
とを特徴とするものである。 (イ)常温で固形状態にあるエポキシ樹脂、(ロ)エポ
キシ樹脂硬化剤、(ハ)グリシジルアクリレート又はグ
リシジルメタクリレート、(ニ)ヒドロキシエチルアク
リレート又はヒドロキシエチルメタクリレート、(ホ)
光重合開始剤。
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION The undercoat agent used in the undercoat layer in the present invention fills the gap between the copper foil circuits of the inner layer circuit board and smoothes the inner layer circuit surface. (B), (c) and (d). (A) epoxy resin in a solid state at normal temperature, (b) epoxy resin curing agent, (c) glycidyl acrylate or glycidyl methacrylate, (d) hydroxyethyl acrylate or hydroxyethyl methacrylate, (e)
Photopolymerization initiator.

【0009】本発明に用いられる(イ)成分の常温で固
形状態のエポキシ樹脂は、ビスフェノール型エポキシ樹
脂、ノボラック型エポキシ樹脂、または、これらの混合
物であり、常温で固形状のものである。融点は、通常、
50〜100℃の範囲にあれば良い。ビスフェノール型
エポキシ樹脂としては、A型またはF型等が使用され、
特にA型のものが好ましい。ノボラック型エポキシ樹脂
としては、フェノールノボラック型やクレゾールノボラ
ック型、ビスフェノールAノボラック型等が使用され
る。
The epoxy resin in the solid state at room temperature of the component (a) used in the present invention is a bisphenol-type epoxy resin, a novolak-type epoxy resin, or a mixture thereof, and is a solid at room temperature. The melting point is usually
What is necessary is just to be in the range of 50-100 degreeC. As the bisphenol type epoxy resin, A type or F type is used,
Particularly, the A type is preferable. As the novolak type epoxy resin, phenol novolak type, cresol novolak type, bisphenol A novolak type and the like are used.

【0010】(ロ)成分のエポキシ樹脂硬化剤として
は、一般に用いられる各種硬化剤が使用できる。例え
ば、4,4’−ジアミノジフェニルメタン、4,4’−
ジアミノジフェニルスルホン、m−フェニレンジアミ
ン、p−フェニレンジアミン等の芳香族ジアミン;ジエ
チレントリアミン、トリエチレンテトラミン、テトラエ
チレンペンタミン、ヘキサメチレントリアミン、メンセ
ンジアミン、イソホロンジアミン等の脂肪族ポリアミ
ン;無水フタル酸、無水テトラヒドロフタル酸、無水メ
チルテトラヒドロフタル酸、無水メチルエンドメチレン
テトラヒドロフタル酸、無水メチルブテニルテトラヒド
ロフタル酸、無水ヘキサヒドロフタル酸、無水メチルヘ
キサヒドロフタル酸、無水ヘキサヒドロフタル酸、無水
トリメリット酸、無水ピロメリット酸、無水ベンゾフェ
ノンテトラカルボン酸等の酸無水物等が挙げられ、エポ
キシ樹脂硬化剤量としては、硬化剤の種類によって異な
るが、通常グリシジル基に対して0.1〜1.0当量で
ある。
As the epoxy resin curing agent of the component (b), various commonly used curing agents can be used. For example, 4,4'-diaminodiphenylmethane, 4,4'-
Aromatic diamines such as diaminodiphenyl sulfone, m-phenylenediamine and p-phenylenediamine; aliphatic polyamines such as diethylenetriamine, triethylenetetramine, tetraethylenepentamine, hexamethylenetriamine, mensendiamine and isophoronediamine; phthalic anhydride; Tetrahydrophthalic anhydride, methyltetrahydrophthalic anhydride, methylendomethylenetetrahydrophthalic anhydride, methylbutenyltetrahydrophthalic anhydride, hexahydrophthalic anhydride, methylhexahydrophthalic anhydride, hexahydrophthalic anhydride, trimellitic anhydride , Pyromellitic anhydride, acid anhydrides such as benzophenonetetracarboxylic acid anhydride, and the like. The amount of epoxy resin curing agent varies depending on the type of curing agent, but is usually glycidyl. 0.1 to 1.0 equivalents relative.

【0011】また他のエポキシ樹脂硬化剤としてはイミ
ダゾール、2−メチルイミダゾール、2−エチル−4−
メチルイミダゾール、2−フェニルイミダゾール、1−
ベンジル−2−メチルイミダゾール、2−ウンデシルイ
ミダゾール、2−フェニル−4−メチルイミダゾール、
ビス(2−エチル−4−メチル−イミダゾール)、2−
フェニル−4−メチル−5−ヒドロキシメチルイミダゾ
ール、2−フェニル−4,5−ジヒドロキシメチルイミ
ダゾール、あるいはトリアジン付加型イミダゾール等の
イミダゾール類;三フッ化ホウ素のアミン錯体、ジシア
ンジアミド又はその誘導体などが挙げられ、これらのエ
ポキシ樹脂硬化剤量としては、硬化剤の種類によって異
なるが、エポキシ樹脂樹脂100重量部に対して、0.
1〜10重量部である。これらをエポキシアダクト化し
たものやマイクロカプセル化したものも使用できる。
Other epoxy resin curing agents include imidazole, 2-methylimidazole, 2-ethyl-4-
Methylimidazole, 2-phenylimidazole, 1-
Benzyl-2-methylimidazole, 2-undecylimidazole, 2-phenyl-4-methylimidazole,
Bis (2-ethyl-4-methyl-imidazole), 2-
Imidazoles such as phenyl-4-methyl-5-hydroxymethylimidazole, 2-phenyl-4,5-dihydroxymethylimidazole or triazine-added imidazole; amine complexes of boron trifluoride, dicyandiamide or derivatives thereof; The amount of the epoxy resin curing agent varies depending on the type of the curing agent, but the amount is 0.1 to 100 parts by weight of the epoxy resin resin.
It is 1 to 10 parts by weight. Epoxy adducts or microcapsules of these can also be used.

【0012】また、本発明においては、必要に応じてエ
ポキシ樹脂の硬化促進剤を添加しても良い。硬化促進剤
としては、一般に用いられる各種硬化促進剤が使用で
き、例えば、トリブチルアミン、ベンジルメチルアミ
ン、2,4,6−トリス(ジメチルアミノメチル)フェ
ノール等の第三級アミン類、2−エチル−4−メチルイ
ミダゾール、N−ベンジルイミダゾール等のイミダゾー
ル類、尿素類、ホスフィン類、金属塩類等が挙げられ、
これらは単独で使用しても2種以上を併用しても良い。
In the present invention, a curing accelerator for the epoxy resin may be added as required. As the curing accelerator, various commonly used curing accelerators can be used, for example, tertiary amines such as tributylamine, benzylmethylamine, 2,4,6-tris (dimethylaminomethyl) phenol, 2-ethyl Imidazoles such as -4-methylimidazole and N-benzylimidazole, ureas, phosphines, metal salts and the like;
These may be used alone or in combination of two or more.

【0013】光・熱硬化型アンダーコート剤に使用され
る光重合及び熱反応性モノマーとしては、(ハ)活性エ
ネルギー線照射によるタックフリー化後、熱硬化性に優
れているグリシジルアクリレート又はグリシジルメタク
リレートであり、また(ニ)ヒドロキシル基の活性が高
いヒドロキシエチルアクリレート又はヒドロキシエチル
メタクリレートである。通常、(ハ)及び(ニ)成分で
あるモノマーの合計量は、(イ)成分のエポキシ樹脂1
00重量部に対し、20〜100重量部、好ましくは3
0〜70重量部の割合である。このようにして、光重合
及び熱反応性モノマーとして、1分子中に1個以上のア
クリロイル基又はメタクリロイル基及び1個以上のグリ
シジル基を有する化合物、及び1分子中に1個以上のア
クリロイル基又はメタクリロイル基及び1個以上のヒド
ロキシル基を有する化合物を併用使用することにより、
光照射によるアンダーコート剤のタックフリー化、及び
熱硬化型絶縁接着剤付き銅箔とのラミネート後の一体硬
化が良好に行われ、良好な4層プリント配線板を得るこ
とができる。
The photopolymerizable and thermoreactive monomers used in the photo-thermosetting type undercoat agent include (c) glycidyl acrylate or glycidyl methacrylate which is excellent in thermosetting after tack-free by irradiation with active energy rays. And (d) hydroxyethyl acrylate or hydroxyethyl methacrylate having high hydroxyl group activity. Usually, the total amount of the monomers (c) and (d) is the amount of the epoxy resin 1 (a).
20 to 100 parts by weight, preferably 3 to 100 parts by weight
0 to 70 parts by weight. Thus, as a photopolymerizable and thermally reactive monomer, a compound having one or more acryloyl groups or methacryloyl groups and one or more glycidyl groups in one molecule, and one or more acryloyl groups or By using a compound having a methacryloyl group and one or more hydroxyl groups in combination,
Tack-free of the undercoat agent by light irradiation, and integral curing after lamination with a copper foil with a thermosetting insulating adhesive are performed well, and a good four-layer printed wiring board can be obtained.

【0014】(ニ)光重合開始剤としては、ベンゾフェ
ノン、ベンゾイル安息香酸、4−フェニルベンゾフェノ
ン、ヒドロキシベンゾフェノンなどのベンゾフェノン
類、ベンゾイン、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾイ
ンイソプロピルエーテル、ベンゾインブチルエーテル、
ベンゾインイソブチルエーテルなどのベンゾインアルキ
ルエーテル類、4―フェノキシジクロロアセトフェノ
ン、4−t−ブチル−ジクロロアセトフェノン、4−t
−ブチル−トリクロロアセトフェノン、ジエトキシアセ
トフェノンなどのアセトフェノン類、チオキサンソン、
2-クロルチオキサンソン、2−メチルチオキサンソン、
2,4−ジメチルチオキサンソンなどのチオキサンソン
類、エチルアントラキノン、ブチルアントラキノンなど
のアルキルアントラキノン類などを挙げることができ
る。これらは単独、あるいは2種以上の混合物として用
いられる。この光重合開始剤の添加量は、光重合及び熱
反応性モノマー100重量部に対して通常 0.1〜10
重量部の範囲で用いられる。
(D) Examples of the photopolymerization initiator include benzophenones such as benzophenone, benzoylbenzoic acid, 4-phenylbenzophenone and hydroxybenzophenone, benzoin, benzoin ethyl ether, benzoin isopropyl ether, benzoin butyl ether,
Benzoin alkyl ethers such as benzoin isobutyl ether, 4-phenoxydichloroacetophenone, 4-t-butyl-dichloroacetophenone, 4-t
-Butyl-trichloroacetophenone, acetophenones such as diethoxyacetophenone, thioxanthone,
2-chlorothioxanthone, 2-methylthioxanthone,
Thioxansones such as 2,4-dimethylthioxanthone and alkylanthraquinones such as ethylanthraquinone and butylanthraquinone can be mentioned. These may be used alone or as a mixture of two or more. The amount of the photopolymerization initiator is usually 0.1 to 10 parts by weight per 100 parts by weight of the photopolymerization and heat-reactive monomer.
Used in parts by weight.

【0015】その他、本発明の4層プリント配線板用光
・熱硬化型アンダーコート剤には必要に応じて、保存安
定性のために紫外線防止剤、熱重合防止剤、可塑剤など
が添加できる。また、粘度調整のためにアクリレートモ
ノマー、メタクリレートモノマー、ビニルモノマーなど
を添加してもよい。更には、溶融シリカ、結晶性シリ
カ、炭酸カルシウム、水酸化アルミニウム、アルミナ、
硫酸バリウム、マイカ、タルク、クレー、ホワイトカー
ボン、Eガラス粉末などの無機充填材を配合することが
でき、銅箔や内層回路板との密着性や耐湿性を向上させ
るためのエポキシシランカップリング剤、ボイドを防止
するための消泡剤、あるいは液状又は粉末の難燃剤等を
添加することもできる。
In addition, if necessary, the photo-thermosetting undercoat agent for a four-layer printed wiring board of the present invention may contain an ultraviolet inhibitor, a thermal polymerization inhibitor, a plasticizer, etc. for storage stability. . Further, an acrylate monomer, a methacrylate monomer, a vinyl monomer, or the like may be added for adjusting the viscosity. Furthermore, fused silica, crystalline silica, calcium carbonate, aluminum hydroxide, alumina,
An epoxy silane coupling agent that can contain inorganic fillers such as barium sulfate, mica, talc, clay, white carbon, and E glass powder to improve adhesion and moisture resistance to copper foil and inner circuit boards. An antifoaming agent for preventing voids or a liquid or powdered flame retardant may be added.

【0016】これらの成分からなる本発明の4層プリン
ト配線板用光・熱硬化型アンダーコート材は、実質的に
無溶剤系でありながら、内層回路板の銅箔回路間隙を充
填し、内層回路表面を平滑化する。また、活性エネルギ
ー線照射により容易に固形となりタックフリー化でき
る。特に、熱により乾燥・タックフリー化を行なう工程
が活性エネルギー線照射のみで可能であることについて
は、成分(イ)の常温で固形状態にあるエポキシ樹脂と
成分(ハ)の光重合及び熱反応性モノマーからなる希釈
剤とを用いることに特徴がある。調製された本発明のア
ンダーコート剤中の成分(ハ)及び(ニ)は、まず溶剤
として作用し、成分(イ)及びその他の成分を溶解して
内層回路板の銅箔回路間隙を充填、内層回路表面の平滑
化可能なワニス状態にしている。これに、活性エネルギ
ー線を照射して溶剤として作用している成分(ハ)及び
(ニ)を硬化させると、成分(ハ)及び(ニ)は硬化固
形化に伴い溶剤としての効果を失うため成分(イ)が析
出する。このとき、硬化した成分(ハ)及び(ニ)並び
にその他の成分は固形成分(イ)中に分散される。従っ
て、常温で適度なタックフリー固形状態にある成分
(イ)が選択されれば、本発明のアンダーコート剤は、
熱硬化反応することなくタックフリー化される。このよ
うなタックフリー化機構が本発明の最大の特徴である。
また、活性エネルギー線を照射することにより硬化した
本発明の成分(ハ)及び(ニ)は熱反応性の官能基も有
するため、後の加熱反応時に主剤のエポキシ樹脂または
硬化剤と硬化反応するので、その硬化物は、耐熱性、耐
薬品性等にも優れる。
The photo-thermosetting undercoat material for a four-layer printed wiring board of the present invention comprising these components, while being substantially solvent-free, fills the copper foil circuit gap of the inner layer circuit board, Smoothing the circuit surface. Further, it becomes easily solid by irradiation with active energy rays and can be made tack-free. In particular, the fact that the step of drying and tack-free by heat is possible only by irradiation with active energy rays is based on the photopolymerization and thermal reaction of the epoxy resin in the solid state at room temperature with the component (a) and the component (c). It is characterized by using a diluent composed of a reactive monomer. The components (c) and (d) in the prepared undercoat agent of the present invention first act as a solvent, dissolve the component (a) and other components, and fill the copper foil circuit gap of the inner circuit board, The surface of the inner layer circuit is in a varnish state capable of being smoothed. When the components (c) and (d) acting as a solvent are cured by irradiating an active energy ray thereto, the components (c) and (d) lose their effect as a solvent due to the solidification of the curing. Component (a) precipitates. At this time, the cured components (c) and (d) and other components are dispersed in the solid component (a). Therefore, if the component (a) which is in an appropriate tack-free solid state at room temperature is selected, the undercoat agent of the present invention
Tack-free without thermosetting reaction. Such a tack-free mechanism is the greatest feature of the present invention.
In addition, since the components (c) and (d) of the present invention which are cured by irradiating with active energy rays also have a heat-reactive functional group, they undergo a curing reaction with the epoxy resin or the curing agent as a main component during a subsequent heating reaction. Therefore, the cured product is excellent in heat resistance, chemical resistance and the like.

【0017】次に、銅箔にコートする熱硬化型絶縁性接
着剤について説明する。一般に層間絶縁層である接着剤
のフィルム化や巻物化の手法としてはゴム系化合物やポ
リビニルブチラール、フェノキシ樹脂、ポリエステル樹
脂などを配合しているが、これらの成分は多層プリント
配線板としての熱的性能を著しく低下させる。このた
め、本発明に用いる接着剤は前記アンダーコート剤との
一体化硬化させる際に流動性を小さく抑えて層間厚みを
保ち、且つフィルム成形性を持たせるために重量平均分
子量10000以上のビスフェノールA型エポキシ樹脂
又はビスフェノールF型エポキシ樹脂を配合している。
かかるエポキシ樹脂の配合割合は全エポキシ樹脂中30
〜90重量%、好ましくは50〜90重量%である。硬
化剤としては前述のアンダーコート剤に用いたものを使
用することができる。
Next, the thermosetting insulating adhesive to be coated on the copper foil will be described. Generally, rubber-based compounds, polyvinyl butyral, phenoxy resin, polyester resin, etc. are compounded as a method of forming a film or a roll of the adhesive which is an interlayer insulating layer, but these components are used for thermal processing as a multilayer printed wiring board. Significantly degrade performance. For this reason, the adhesive used in the present invention is a bisphenol A having a weight average molecular weight of 10,000 or more in order to keep the fluidity small and maintain the interlayer thickness when integrally curing with the undercoat agent, and to impart film formability. Type epoxy resin or bisphenol F type epoxy resin.
The mixing ratio of the epoxy resin is 30% of the total epoxy resin.
9090% by weight, preferably 50-90% by weight. As the curing agent, those used for the undercoat agent described above can be used.

【0018】本発明の目的を達成するための、アンダー
コート剤の塗工及び熱硬化型絶縁性接着剤付き銅箔をラ
ミネートし硬化する方法について概要を図1及び図2を
用いて説明する。 (A) 内層回路板(1)上に液状のアンダーコート剤を
スクリーン印刷、ローラーコーター、カーテンコーター
等の従来のコーティング設備を使用して内層回路(2)
を完全に覆う厚さまで塗工し、アンダーコート層(3)
とする。埋め込み量が不十分であると、この後のラミネ
ートで空気を巻き込むことになる。その後、UV照射コ
ンベア等の露光機で活性エネルギー線照射によりタック
フリー化する。 (B) 表面に熱硬化型絶縁性接着層(4)付き銅箔
(5)をラミネートする。ラミネーターは表面平滑性を
達成するためにロール(6)を使用するのがよく、この
2枚ロール(6)により両面に銅箔(5)がラミネート
される。ラミネート条件としては内層回路のパターンに
よって異なるが、圧力は 0.5〜6kgf/cm2程度、表面
温度は常温から100℃程度、ラミネートスピードは
0.1〜6m/分程度で行い、硬質ロールを用いること
で表面平滑性を達成することができる。このとき内層回
路(2)と銅箔(5)との層間厚は熱硬化型絶縁性接着
剤の厚みで達成することができる。 (C) 次いで、加熱して同時一体硬化反応を行うことに
よりアンダーコート剤(3)と銅箔にコートされた熱硬
化型絶縁接着剤(4)とを一体成形した多層プリント配
線板を形成することができ、更に通常の方法により、両
面に回路を作成して完成された4層プリント配線板
(7)が得られる。
An outline of a method of applying an undercoat agent and laminating and curing a copper foil with a thermosetting insulating adhesive to achieve the object of the present invention will be described with reference to FIGS. (A) A liquid undercoating agent is screen-printed on the inner layer circuit board (1), and the inner layer circuit (2) is formed by using a conventional coating equipment such as a roller coater or a curtain coater.
To a thickness that completely covers the undercoat layer (3)
And If the embedding amount is insufficient, air will be entrained in the subsequent laminate. After that, it is tack-free by irradiating active energy rays with an exposure machine such as a UV irradiation conveyor. (B) A copper foil (5) with a thermosetting insulating adhesive layer (4) is laminated on the surface. The laminator preferably uses a roll (6) to achieve surface smoothness, and the copper foil (5) is laminated on both sides by the two rolls (6). Lamination conditions vary depending on the pattern of the inner layer circuit, but the pressure is about 0.5 to 6 kgf / cm 2 , the surface temperature is from normal temperature to about 100 ° C., the lamination speed is about 0.1 to 6 m / min, By using this, surface smoothness can be achieved. At this time, the interlayer thickness between the inner layer circuit (2) and the copper foil (5) can be achieved by the thickness of the thermosetting insulating adhesive. (C) Next, a simultaneous integrated curing reaction is performed by heating to form a multilayer printed wiring board integrally molded with the undercoat agent (3) and the thermosetting insulating adhesive (4) coated on the copper foil. In addition, a circuit is formed on both sides by a usual method to obtain a completed four-layer printed wiring board (7).

【0019】[0019]

【実施例】以下、実施例により本発明を説明する。
「部」は重量部を表す。 《実施例1》ビスフェノールA型エポキシ樹脂(エポキ
シ当量6400、重量平均分子量30000)150部
とビスフェノールF型エポキシ樹脂(エポキシ当量17
5、大日本インキ化学工業(株)製エピクロン830)3
0部をMEKに撹拌しながら溶解し、そこへ硬化剤とし
て2−フェニル−4−メチル−5−ヒドロキシメチルイ
ミダゾール5部とシランカップリング剤(日本ユニカー
(株)製 A-187)10部を添加して熱硬化型絶縁性接
着剤ワニスを作成した。このワニスを厚さ18μmの銅
箔のアンカー面に乾燥後の厚さが40μmとなるように
ローラーコーターにて塗布、乾燥し熱硬化型絶縁性接着
剤付き銅箔を作製した。次に、ビスフェノールA型エポ
キシ樹脂(エポキシ当量約470、重量平均分子量約9
00)100部をメタクリル酸グリシジル30部及びヒ
ドロキシエチルメタクリレート30部に溶解し、そこへ
硬化剤として、2−フェニルイミダゾール4部と光重合
開始剤(チバガイギー製イルガキュア651)3部を添
加し、ホモミキサーにて十分撹拌してアンダーコート剤
とした。更に、基材厚 0.1mm、銅箔厚35μmのガ
ラスエポキシ両面銅張積層板をパターン加工して内層回
路板を得た。銅箔表面を黒化処理した後、上記アンダー
コート剤をカーテンコーターにより厚さ約40μmに塗
工した。その後、UVコンベア機にて80W/cm高圧
水銀灯2本で約2J/cm2 の条件で紫外線照射し、活性
エネルギー線照射によりタックフリー化したアンダーコ
ート剤上に温度100℃、圧力2kg/cm2 、ラミネート
スピード 0.8m/分の条件により、硬質ロールを用い
て上記熱硬化型絶縁性接着剤付き銅箔をラミネートし、
150℃、30分間加熱硬化させ4層プリント配線板を
作製した。
The present invention will be described below with reference to examples.
"Parts" represents parts by weight. << Example 1 >> 150 parts of bisphenol A type epoxy resin (epoxy equivalent 6400, weight average molecular weight 30000) and bisphenol F type epoxy resin (epoxy equivalent 17
5. Epicron 830) 3, manufactured by Dainippon Ink and Chemicals, Inc.
0 parts were dissolved in MEK while stirring, and 5 parts of 2-phenyl-4-methyl-5-hydroxymethylimidazole as a curing agent and a silane coupling agent (Nihon Unicar
A-187) (10 parts) was added to prepare a thermosetting insulating adhesive varnish. The varnish was applied to an anchor surface of a copper foil having a thickness of 18 μm with a roller coater so that the thickness after drying became 40 μm, and dried to prepare a copper foil with a thermosetting insulating adhesive. Next, a bisphenol A type epoxy resin (epoxy equivalent of about 470, weight average molecular weight of about 9
100) was dissolved in 30 parts of glycidyl methacrylate and 30 parts of hydroxyethyl methacrylate, and as a curing agent, 4 parts of 2-phenylimidazole and 3 parts of a photopolymerization initiator (Irgacure 651 manufactured by Ciba Geigy) were added. The mixture was sufficiently stirred with a mixer to obtain an undercoat agent. Furthermore, a glass epoxy double-sided copper-clad laminate having a base material thickness of 0.1 mm and a copper foil thickness of 35 μm was patterned to obtain an inner layer circuit board. After the surface of the copper foil was blackened, the undercoat agent was applied to a thickness of about 40 μm using a curtain coater. Thereafter, UV irradiation was performed using a UV conveyer machine with two 80 W / cm high-pressure mercury lamps under the condition of about 2 J / cm 2 , and a temperature of 100 ° C. and a pressure of 2 kg / cm 2 were applied to the tack-free undercoat agent by irradiation with active energy rays. Laminating the above-mentioned copper foil with thermosetting insulating adhesive using a hard roll under the conditions of a laminating speed of 0.8 m / min,
The resultant was cured by heating at 150 ° C. for 30 minutes to produce a four-layer printed wiring board.

【0020】《実施例2》アンダーコート剤において、
エポキシ樹脂の硬化剤として、2−フェニルイミダゾー
ルの代わりに、2−メチルイミダゾール、2−フェニル
−4−メチルイミダゾール、ビス(2−エチル−4−メ
チル−イミダゾール)、2−フェニル−4−メチル−5
−ヒドロキシメチルイミダゾール、2−フェニル−4,
5−ジヒドロキシメチルイミダゾールをそれぞれ使用し
た以外は実施例1と同様にして4層プリント配線板を作
製した。その結果それぞれ同様の特性が得られた。
Example 2 In an undercoat agent,
As a curing agent for the epoxy resin, instead of 2-phenylimidazole, 2-methylimidazole, 2-phenyl-4-methylimidazole, bis (2-ethyl-4-methyl-imidazole), 2-phenyl-4-methyl- 5
-Hydroxymethylimidazole, 2-phenyl-4,
A four-layer printed wiring board was produced in the same manner as in Example 1 except that 5-dihydroxymethylimidazole was used. As a result, similar characteristics were obtained.

【0021】《比較例1》アンダーコート剤において、
メタクリル酸グリシジル及びヒドロキシエチルメタクリ
レートの代わりに、メタクリル酸グリシジル60部を使
用した以外は実施例1と全く同様にして4層プリント配
線板を作製した。 《比較例2》アンダーコート剤において、メタクリル酸
グリシジル及びヒドロキシエチルメタクリレートの代わ
りに、ヒドロキシエチルメタクリレート60部を使用し
た以外は実施例1と全く同様にして4層プリント配線板
を作製した。 《比較例3》アンダーコート剤を塗工しない以外は実施
例1と同様にして多層プリント配線板を作製した。得ら
れた4層プリント配線板は表1に示すような特性を有し
ている。
<< Comparative Example 1 >> In the undercoat agent,
A four-layer printed wiring board was produced in exactly the same manner as in Example 1 except that glycidyl methacrylate and 60 parts of glycidyl methacrylate were used instead of glycidyl methacrylate and hydroxyethyl methacrylate. << Comparative Example 2 >> A four-layer printed wiring board was produced in exactly the same manner as in Example 1, except that 60 parts of hydroxyethyl methacrylate was used instead of glycidyl methacrylate and hydroxyethyl methacrylate in the undercoat agent. << Comparative Example 3 >> A multilayer printed wiring board was produced in the same manner as in Example 1 except that the undercoat agent was not applied. The obtained four-layer printed wiring board has characteristics as shown in Table 1.

【0022】(試験方法) 内層回路板試験片:線間150μmピッチ、クリアラン
スホール 2.54mmφ 1.表面平滑性:JIS B 0601 R(max) 2.吸湿半田耐熱試験 吸湿条件:プレッシャークッカー処理、125℃、2.
3気圧、30分間 試験条件:n=5で、全てが280℃、120秒間で膨
れが無かったものを○とし、膨れたものを×とした。 3.埋込み性:外層銅箔を剥離後、内層回路への埋め込
み性を光学顕微鏡を用い目視によって判断し、完全に埋
め込まれているものを○とし、埋め込みが不完全のもの
を×とした。 4.層間絶縁層厚:多層プリント配線板を切断し、その
断面を光学顕微鏡で観察し、内層回路と表面銅箔との層
間絶縁層厚さを測定した。 5.成形ボイド残り:多層プリント配線板の表面を全部
エッチングし、ボイドの有無を目視により測定した。ボ
イド残りのないものを○とし、わずかボイド残りのある
ものを△とし、完全にボイドが認められるものを×とし
た。
(Test Method) Inner layer circuit board test piece: 150 μm pitch between lines, clearance hole 2.54 mmφ 1. Surface smoothness: JIS B 0601 R (max) 1. Moisture absorption heat resistance test Moisture absorption conditions: pressure cooker treatment, 125 ° C,
Test conditions: 3 atm, 30 min. Test conditions: n = 5, all were 280 ° C., no swelling for 120 sec. 3. Embedding property: After peeling the outer layer copper foil, the embedding property in the inner layer circuit was visually judged using an optical microscope, and the completely embedded one was evaluated as O, and the one with incomplete embedding was evaluated as X. 4. Interlayer insulation layer thickness: The multilayer printed wiring board was cut, and its cross section was observed with an optical microscope to measure the thickness of the interlayer insulation layer between the inner layer circuit and the surface copper foil. 5. Remaining molded voids: The entire surface of the multilayer printed wiring board was etched, and the presence or absence of voids was visually measured. Those with no void remaining were marked with ○, those with slight void remaining were marked with Δ, and those with completely voids were marked with x.

【0023】 表 1 ───────────────────────────────── 表面平滑性 吸湿半田 埋込み性 層間絶縁 成形ボイド (μm) 耐熱性 層厚(μm) 残り ───────────────────────────────── 実施例1 3 ○ ○ 35 ○ 実施例2 3 ○ ○ 35 ○ 比較例1 5 ○ ○ 40 △ 比較例2 5 × × 30 ○ 比較例3 30 × × 30 × ─────────────────────────────────Table 1 ───────────────────────────────── Surface Smoothness Moisture Absorbing Solder Embedding Interlayer Insulation Molding Void ( μm) Heat resistance Layer thickness (μm) Remaining ───────────────────────────────── Example 13 3 ○ ○ 35 ○ Example 2 3 ○ ○ 35 ○ Comparative Example 15 ○ ○ 40 △ Comparative Example 25 × × 30 ○ Comparative Example 3 30 × × 30 × ───────────────── ────────────────

【0024】[0024]

【発明の効果】本発明は、表面の平滑性が良好で、銅箔
にコートされた熱硬化型絶縁接着剤が厚さを維持してい
るため、内層銅箔残存率に依存することなく板厚が均一
で、吸湿半田耐熱性も良好で、埋め込み性が優れた4層
プリント配線板が得られた。
According to the present invention, the surface smoothness is good, and the thermosetting insulating adhesive coated on the copper foil maintains the thickness, so that the plate is not dependent on the residual ratio of the inner layer copper foil. A four-layer printed wiring board having a uniform thickness, good heat resistance to moisture absorption solder, and excellent embedding properties was obtained.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明の4層プリント配線板の層構成を示す断
面図
FIG. 1 is a cross-sectional view showing a layer configuration of a four-layer printed wiring board of the present invention.

【図2】本発明の4層プリント配線板を作製する工程の
1例を示す概略断面図
FIG. 2 is a schematic cross-sectional view showing one example of a process for producing a four-layer printed wiring board of the present invention.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 内層回路板 2 内層回路 3 アンダーコート層 4 熱硬化型絶縁性接着層 5 銅箔 6 硬質ロール 7 4層プリント配線板 REFERENCE SIGNS LIST 1 inner layer circuit board 2 inner layer circuit 3 undercoat layer 4 thermosetting insulating adhesive layer 5 copper foil 6 hard roll 7 4 layer printed wiring board

フロントページの続き (58)調査した分野(Int.Cl.7,DB名) H05K 3/46 B32B 15/08 Continuation of the front page (58) Field surveyed (Int.Cl. 7 , DB name) H05K 3/46 B32B 15/08

Claims (2)

(57)【特許請求の範囲】(57) [Claims] 【請求項1】 回路パターンを有するエポキシ樹脂含浸
ガラスクロス基板の両面に光・熱硬化型アンダーコート
を塗布し、活性エネルギー線を照射した後、熱硬化型絶
縁性接着剤層が塗布された銅箔を積層することを特徴と
する4層プリント配線板の製造方法であって、 光・熱硬化型アンダーコート層が、下記の成分(イ)、
(ロ)、(ハ)、(ニ)及び(ホ)からなることを特徴
とする4層プリント配線板の製造方法(イ)常温固形状態にあるエポキシ樹脂、 (ロ)エポキシ樹脂硬化剤、 (ハ)グリシジルアクリレート又はグリシジルメタクリ
レート、 (ニ)ヒドロキシエチルアクリレート又はヒドロキシエ
チルメタクリレート、 (ホ)光重合開始剤
1. A photo- and thermosetting undercoat on both sides of an epoxy resin impregnated glass cloth substrate having a circuit pattern.
After applying and irradiating with active energy rays, a copper foil coated with a thermosetting insulating adhesive layer is laminated.
The method for producing a four-layer printed wiring board according to claim 1, wherein the light / thermosetting undercoat layer comprises the following components (a):
(B), (c), (d) and (e)
A method for manufacturing a four-layer printed wiring board . (A) epoxy resin in a solid state at room temperature, (b) epoxy resin curing agent, (c) glycidyl acrylate or glycidyl methacrylate
Rate, (d) hydroxyethyl acrylate or hydroxy et
Tyl methacrylate, (e) photopolymerization initiator
【請求項2】 熱硬化型絶縁性接着剤が、エポキシ樹脂
及びその硬化剤からなり、エポキシ樹脂の主成分が、重
量平均分子量10000以上のビスフェノール型エポキ
シ樹脂、及びエポキシ当量500以下のビスフェノール
型エポキシ樹脂からなる請求項1記載の4層プリント配
線板の製造方法
2. A thermosetting insulating adhesive comprising an epoxy resin and a curing agent thereof, wherein a main component of the epoxy resin is a bisphenol epoxy resin having a weight average molecular weight of 10,000 or more, and a bisphenol epoxy resin having an epoxy equivalent of 500 or less. The method for manufacturing a four-layer printed wiring board according to claim 1, comprising a resin.
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