JP3046201B2 - Method for manufacturing multilayer printed wiring board - Google Patents

Method for manufacturing multilayer printed wiring board

Info

Publication number
JP3046201B2
JP3046201B2 JP8634794A JP8634794A JP3046201B2 JP 3046201 B2 JP3046201 B2 JP 3046201B2 JP 8634794 A JP8634794 A JP 8634794A JP 8634794 A JP8634794 A JP 8634794A JP 3046201 B2 JP3046201 B2 JP 3046201B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
weight
parts
resin
interlayer insulating
printed wiring
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Fee Related
Application number
JP8634794A
Other languages
Japanese (ja)
Other versions
JPH07307576A (en
Inventor
宙 早井
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Sumitomo Bakelite Co Ltd
Original Assignee
Sumitomo Bakelite Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Sumitomo Bakelite Co Ltd filed Critical Sumitomo Bakelite Co Ltd
Priority to JP8634794A priority Critical patent/JP3046201B2/en
Publication of JPH07307576A publication Critical patent/JPH07307576A/en
Application granted granted Critical
Publication of JP3046201B2 publication Critical patent/JP3046201B2/en
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Fee Related legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Production Of Multi-Layered Print Wiring Board (AREA)
  • Manufacturing Of Printed Wiring (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は、光と熱の二段階硬化が
可能な、新しい光・熱硬化型層間絶縁樹脂材料を用いた
多層プリント配線用基板の製造方法に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a method for manufacturing a multilayer printed wiring board using a new photo-thermosetting type interlayer insulating resin material capable of two-step curing of light and heat.

【0002】[0002]

【従来の技術】これまでの多層プリント配線用基板の製
造方法としては、まずエッチングにより両面銅張板に回
路を形成し、回路表面を粗化し、その上にガラスクロス
基材にエポキシ樹脂を含浸して半硬化させたプリプレグ
シートを1枚以上重ね、更にその上に銅箔又は片面銅張
板を積層し、加熱プレスにて加熱一体化する工程であっ
た。この工程では、プリプレグシートをつくるためガラ
スクロス基材にエポキシ樹脂を含浸して一度半硬化させ
なければならず、またプレスにて加熱加圧成形を行うた
め、膨大な設備と長い時間が必要であった。また、パタ
ーニングされた内層材の銅箔残存率がそれぞれ異なるた
め、層間厚さの調整のために樹脂量、溶融挙動の違う多
種類のプリプレグを用意しなければならず、しかもプリ
プレグシートにガラスクロス基材を用いるため、層間厚
さの極薄化が困難かつ高コストであり、電気特性につい
ても、ガラスクロスのために誘電率が高くなってしまう
問題があった。
2. Description of the Related Art As a conventional method of manufacturing a multilayer printed wiring board, a circuit is first formed on a double-sided copper-clad board by etching, the circuit surface is roughened, and a glass cloth base material is impregnated with epoxy resin. This was a process in which one or more prepreg sheets that had been semi-cured were stacked, and a copper foil or a single-sided copper-clad board was further laminated thereon, followed by heat integration by a hot press. In this process, a glass cloth base material must be impregnated with epoxy resin and semi-cured once to make a prepreg sheet. there were. In addition, since the residual copper foil ratio of the patterned inner layer material differs, it is necessary to prepare various types of prepregs with different amounts of resin and melting behavior in order to adjust the interlayer thickness. Since the base material is used, it is difficult and extremely costly to reduce the thickness of the interlayer, and there is a problem in terms of electric characteristics that the dielectric constant is increased due to the glass cloth.

【0003】これらの問題を解決するため、近年、層間
絶縁層にガラスクロス基材を用いない技術が数々報告さ
れている。例えば熱硬化性のエポキシ樹脂コーティング
剤又はフィルムやポリイミド樹脂コーティング剤又はフ
ィルム、熱可塑性耐熱樹脂フィルム、光硬化型のエポキ
シ層間絶縁フィルムを用いた方法などがある。
[0003] In order to solve these problems, in recent years, various techniques have been reported in which a glass cloth substrate is not used for an interlayer insulating layer. For example, there is a method using a thermosetting epoxy resin coating or film, a polyimide resin coating or film, a thermoplastic heat-resistant resin film, or a photocurable epoxy interlayer insulating film.

【0004】[0004]

【発明が解決しようとする課題】まず上記方法におい
て、層間絶縁材料にフィルムタイプのものを用いた場
合、内層回路板にはパターン加工された回路の凹凸が存
在するため、気泡の残存を皆無にするためには、フィル
ムラミネートを減圧の環境下で行わなければならず、大
がかりな設備が必要となってくる。また、フィルムが回
路の凹凸に追従するため、表面平滑が得られず、パター
ン加工時のエッチングドライフィルムの剥離や部品実装
時の半田付け不良などの原因となる。
First, in the above method, when a film type is used as the interlayer insulating material, the inner layer circuit board has irregularities of the patterned circuit, so that no bubbles remain. In order to do so, the film lamination must be performed in a reduced pressure environment, which requires extensive equipment. Further, since the film follows the unevenness of the circuit, surface smoothness cannot be obtained, which causes peeling of the etching dry film at the time of pattern processing and poor soldering at the time of component mounting.

【0005】次に層間絶縁材料に熱硬化性樹脂コーティ
ング剤を用いた場合、スクリーン印刷などの場合は片面
ずつの処理となるため、樹脂の硬化収縮により基板に反
りが生じ、極薄板などの加工は困難となる。また、ディ
ップ方式のような両面同時処理においては、ある程度反
りを抑えることは可能となるが、いずれの場合も加熱硬
化に長時間を要す。
[0005] Next, when a thermosetting resin coating agent is used as an interlayer insulating material, since screen printing and the like are performed on one side at a time, the substrate is warped due to curing shrinkage of the resin, and processing of an extremely thin plate or the like is performed. Will be difficult. Further, in simultaneous double-sided processing such as a dipping method, it is possible to suppress warpage to some extent, but in any case, a long time is required for heat curing.

【0006】本発明は液状の光・熱硬化型の層間絶縁樹
脂材料を用いるため、コア材の銅箔回路間隙に気泡を残
すことなく簡単に充填することができ、いったん光照射
により仮硬化させて基板の反りを抑えることができ、そ
の後アディティブ接着剤シートを加熱されたロール又は
熱盤でラミネートないしプレスして層間絶縁樹脂材料を
再溶融させて、表面を平滑にすることができる。しかも
その後、加熱硬化させることにより、仮硬化状態であっ
た層間絶縁樹脂材料とアディティブ接着剤との密着力を
高めることが可能となる。
In the present invention, since a liquid photo-thermosetting type interlayer insulating resin material is used, it can be easily filled without leaving air bubbles in the copper foil circuit gap of the core material. Then, the additive adhesive sheet can be laminated or pressed with a heated roll or hot plate to re-melt the interlayer insulating resin material, thereby smoothing the surface. In addition, by subsequently heating and curing, it becomes possible to increase the adhesion between the temporarily cured interlayer insulating resin material and the additive adhesive.

【0007】特にアディティブ接着剤シートをラミネー
ト又はプレスする場合、仮硬化された層間絶縁樹脂材料
を流動化させて、回路の凹部のみに充填させるようにす
れば、板厚精度はアディティブ接着剤シートの接着剤層
の厚さだけで正確に容易にコントロールすることがで
き、そのため層間厚さも極薄にすることができる。
[0007] In particular, when laminating or pressing an additive adhesive sheet, if the temporarily cured interlayer insulating resin material is fluidized and filled only in the recesses of the circuit, the thickness accuracy of the additive adhesive sheet is reduced. It can be easily and precisely controlled only by the thickness of the adhesive layer, and therefore, the interlayer thickness can be made extremely thin.

【0008】[0008]

【課題を解決するための手段】本発明は、層間絶縁樹脂
材料として、エポキシ樹脂100重量部、エポキシ樹脂
硬化剤1〜30重量部、光硬化型樹脂1〜100重量
部、及び光硬化型樹脂100重量部に対して光重合開始
剤1〜10重量部からなる光・熱硬化型層間絶縁樹脂材
を内層回路基板に塗布した後、光照射して硬化させ、
この層間絶縁樹脂材料上に、アディティブ接着剤シート
加熱下でラミネートないしプレスし、加熱硬化して一
体化することを特徴とする多層プリント配線用基板の製
造方法に関するものである。前記層間絶縁材料におい
て、光硬化型樹脂がエポキシ系であるものは、エポキシ
樹脂との相溶性が優れており、かつエポキシ樹脂と光硬
化型樹脂がともに液状である場合は、溶剤を必要とせ
ず、簡単に短時間で混合することができ、プリント配線
基板としての信頼性も高いので、本発明において好まし
いものである。また、無溶剤系にすることにより、加熱
後の硬化収縮量を抑え、コア材の銅箔回路パターンに依
存することなく、表面平滑性を保つことが極めて容易と
なる。
According to the present invention, as an interlayer insulating resin material, 100 parts by weight of an epoxy resin, 1 to 30 parts by weight of an epoxy resin curing agent, 1 to 100 parts by weight of a photocurable resin, and a photocurable resin After applying a photo-thermosetting type interlayer insulating resin material comprising 1 to 10 parts by weight of a photopolymerization initiator to 100 parts by weight on an inner circuit board, it is cured by light irradiation,
The present invention relates to a method for manufacturing a multilayer printed wiring board, which comprises laminating or pressing an additive adhesive sheet on this interlayer insulating resin material under heating, and heat-curing to integrate it. In the interlayer insulating material, those in which the photocurable resin is an epoxy resin have excellent compatibility with the epoxy resin, and when the epoxy resin and the photocurable resin are both liquid, do not require a solvent. It can be easily mixed in a short time, and has high reliability as a printed wiring board. Further, by using a solvent-free system, the amount of curing shrinkage after heating is suppressed, and it becomes extremely easy to maintain the surface smoothness without depending on the copper foil circuit pattern of the core material.

【0009】従って、使用するエポキシ樹脂は、平均分
子量300〜500のビスフェノールA型エポキシ樹脂
が好ましく、平均分子量が500より大きくなると高粘
度化、又は固形化するため取扱いの上で好ましくない。
また光硬化型樹脂は、液状のアクリレート樹脂が好まし
いものであり、中でも、ビスフェノールA型エポキシア
クリレート、ビスフェノールF型エポキシアクリレー
ト、ノボラック型エポキシアクリレート、又はウレタン
アクリレート類などがより好ましく、エポキシ樹脂10
0重量部に対して1〜100重量部で構成される。アク
リレート樹脂の平均分子量は500〜1500が好まし
く、分子量がそれ以上になるとエポキシ樹脂と同じよう
に、高粘度化、固形化してしまう。光硬化後の樹脂表面
のタック性、硬度などはアクリレートの量で調整し、ア
クリレート樹脂の量が100重量部より多くなると、機
械的特性、耐熱性、耐薬品性が劣化し、好ましくない。
Therefore, the epoxy resin to be used is preferably a bisphenol A type epoxy resin having an average molecular weight of 300 to 500. If the average molecular weight is more than 500, the viscosity increases or the solidification occurs, which is not preferable in terms of handling.
The photocurable resin is preferably a liquid acrylate resin, and among them, bisphenol A epoxy acrylate, bisphenol F epoxy acrylate, novolak epoxy acrylate, or urethane acrylate is more preferable.
It is composed of 1 to 100 parts by weight per 0 parts by weight. The average molecular weight of the acrylate resin is preferably from 500 to 1500, and if the molecular weight is higher than that, the acrylate resin becomes high in viscosity and solidified, similarly to the epoxy resin. The tackiness, hardness, and the like of the resin surface after photocuring are adjusted by the amount of the acrylate. If the amount of the acrylate resin exceeds 100 parts by weight, the mechanical properties, heat resistance, and chemical resistance deteriorate, which is not preferable.

【0010】エポキシ樹脂硬化剤には、熱速硬化性に優
れたイミダゾール系が好ましく、具体的には液状の2−
エチル−4−メチルイミダゾールやマイクロカプセル化
2−メチルイミダゾールなどが使用できる。かかるエポ
キシ樹脂硬化剤の使用量はエポキシ樹脂100重量部に
対して1〜30重量部である。1重量部以下ではその配
合効果が殆どなく、30重量部以上では樹脂材料の保存
性が低下し、硬化後の特性が低下するようになり好まし
くない。光重合開始剤はラジカル重合開始剤であり、ベ
ンゾインエーテル系、ベンゾフェノン系、ケタール系、
アセトフェノン系、チオキサンソン系などが使用でき、
特に成形性、硬化物特性に優れた1−ヒドロキシシクロ
ヘキシルアセトフェノンや2,2−ジメトキシ−1,2
−ジフェニルエタン−1−オンが好ましい。この光重合
開始剤の配合量は光硬化型樹脂100重量部に対して1
〜10重量部である。1重量部以下であるとその配合効
果が小さく、10重量部以上では硬化が速すぎ均一な硬
化が妨げられ硬化特性の低下の原因となる。
[0010] The epoxy resin curing agent is preferably an imidazole-based compound having excellent heat-curing properties.
Ethyl-4-methylimidazole and microencapsulated 2-methylimidazole can be used. The amount of the epoxy resin curing agent used is 1 to 30 parts by weight based on 100 parts by weight of the epoxy resin. If the amount is less than 1 part by weight, there is almost no compounding effect. If the amount is more than 30 parts by weight, the preservability of the resin material is reduced, and the properties after curing are undesirably reduced. Photopolymerization initiator is a radical polymerization initiator, benzoin ether type, benzophenone type, ketal type,
Acetophenone type, thioxanthone type, etc. can be used,
In particular, 1-hydroxycyclohexyl acetophenone and 2,2-dimethoxy-1,2 which are excellent in moldability and cured product characteristics.
-Diphenylethan-1-one is preferred. The amount of the photopolymerization initiator is 1 to 100 parts by weight of the photocurable resin.
To 10 parts by weight. When the amount is less than 1 part by weight, the effect of the compounding is small, and when the amount is more than 10 parts by weight, the curing is too fast and uniform curing is hindered, resulting in a deterioration in curing characteristics.

【0011】以上のエポキシ樹脂、アクリレート樹脂、
エポキシ樹脂硬化剤、光開始剤からなる光・熱硬化型層
間絶縁樹脂を粗化処理された内層回路表面に塗布する
際、スクリーン印刷、ローラーコーター、カーテンコー
ターなどを使用し、片面あるいは両面にコートした後、
UV照射コンベアなどの露光機にていったん光硬化させ
る。その後、その表面にアディティブ接着剤シートを接
着させるが、この時加熱された硬質ロール等でラミネー
トすることにより、樹脂を再溶融させ、表面平滑性を得
ることができる。光硬化させた樹脂は、その後の熱硬化
にて完全硬化され、アディティブ接着剤と強固に接着す
る。続いて、通常の工程により無電解めっきを行い表面
回路層を形成する。なお、アディティブ接着剤シート
は、一般的にはエポキシ樹脂、フェノール樹脂などの熱
硬化性樹脂にアルカリ性酸化剤に可溶性の有機又は無機
成分を配合した接着剤を可塑性樹脂フィルム又は金属箔
にコーティングしドライフイルムとしたものである。
The above epoxy resin, acrylate resin,
When applying photo- and thermosetting interlayer insulating resin consisting of epoxy resin curing agent and photo-initiator to the roughened inner layer circuit surface, use screen printing, roller coater, curtain coater, etc. to coat one or both sides After doing
Light curing is performed once with an exposure machine such as a UV irradiation conveyor. After that, an additive adhesive sheet is adhered to the surface. By laminating with a hard roll or the like heated at this time, the resin can be re-melted and surface smoothness can be obtained. The light-cured resin is completely cured by subsequent thermal curing, and firmly adheres to the additive adhesive. Subsequently, electroless plating is performed by a normal process to form a surface circuit layer. The additive adhesive sheet is generally formed by coating a plastic resin film or a metal foil with an adhesive obtained by mixing an organic or inorganic component soluble in an alkaline oxidizing agent with a thermosetting resin such as an epoxy resin or a phenol resin. It is a film.

【0012】[0012]

【作用】本発明においては、前記の光・熱硬化型の層間
絶縁樹脂材料を用いることにより、従来のコーティング
設備を使用して、気泡を残存させることなく、加熱下で
ラミネート又はプレスすることによって、表面平滑性を
向上させた層間絶縁層を形成することができる。これ
は、液状のエポキシ樹脂とアクリレート樹脂を無溶剤で
用いることにより、回路間の充填性を高め同時に熱硬化
後の収縮量を極小化させたためである。更にアディティ
ブ接着剤を強固に接着することができるのは、光硬化が
半硬化処理であり、その後の熱硬化により二層間を完全
に一体化させることができるためである。
According to the present invention, by using the above-mentioned photo-thermosetting type interlayer insulating resin material, it is possible to laminate or heat under heating without leaving bubbles by using a conventional coating equipment. By pressing, an interlayer insulating layer with improved surface smoothness can be formed. This is because by using liquid epoxy resin and acrylate resin without solvent, the filling property between circuits is enhanced, and at the same time, the amount of shrinkage after thermosetting is minimized. The reason why the additive adhesive can be firmly bonded is that photo-curing is a semi-curing treatment, and the two layers can be completely integrated by subsequent heat curing.

【0013】[0013]

【実施例】以下、本発明を実施例に基づき詳細に説明す
る。 (実施例1)ビスフェノールA型エポキシ樹脂(油化シ
ェルエポキシ製:エピコート828)100重量部、ビ
スフェノールA型エポキシアクリレート樹脂(昭和高分
子製:リポキシSP−1507)10重量部、エポキシ
樹脂硬化剤(油化シェルエポキシ製:EMI−24−C
N)10重量部及び光重合開始剤(チバガイギー製:イ
ルガキュア184)0.5重量部からなる組成をホモミ
キサーにて充分撹拌し、50℃で真空脱泡した。
DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS The present invention will be described below in detail based on embodiments. (Example 1) 100 parts by weight of bisphenol A type epoxy resin (manufactured by Yuka Shell Epoxy: Epicoat 828), 10 parts by weight of bisphenol A type epoxy acrylate resin (manufactured by Showa Polymer: Lipoxy SP-1507), epoxy resin curing agent ( Yuka Shell Epoxy: EMI-24-C
N) A composition comprising 10 parts by weight and 0.5 part by weight of a photopolymerization initiator (manufactured by Ciba-Geigy: Irgacure 184) was thoroughly stirred with a homomixer, and vacuum degassed at 50 ° C.

【0014】基材厚0.1mm、銅箔厚35μmのガラ
スエポキシ両面銅張積層板をパターン加工し内層回路板
を作成した。次いで、亜塩素酸ナトリウム31g/l,
水酸化ナトリウム15g/l,りん酸ナトリウム12g
/lからなるアルカリ水溶液で95℃2分間処理し、回
路表面を粗化し、その上に上記混合樹脂をカーテンコー
ターにより約50μm塗布し、UVコンベア機にて80
W/cm高圧水銀灯2本で約2J/cmの条件で紫外線
照射し、光硬化させた。次に、微粉末シリカを含有する
エポキシ樹脂系アディティブ接着剤シートを上述の内層
回路板表面の光硬化した樹脂の上に100℃でロールラ
ミネートし、140℃、20分間加熱硬化させ、多層プ
リント配線用基板を作製した。
An inner-layer circuit board was prepared by patterning a glass-epoxy double-sided copper-clad laminate having a substrate thickness of 0.1 mm and a copper foil thickness of 35 μm. Then, sodium chlorite 31 g / l,
Sodium hydroxide 15g / l, sodium phosphate 12g
/ L of an alkaline aqueous solution at 95 ° C for 2 minutes to roughen the circuit surface, apply the above mixed resin to a thickness of about 50 µm using a curtain coater, and apply 80 µm using a UV conveyor.
Ultraviolet irradiation was performed with two W / cm high-pressure mercury lamps under the condition of about 2 J / cm, and photocuring was performed. Next, an epoxy resin-based additive adhesive sheet containing fine powdered silica is roll-laminated at 100 ° C. on the above-mentioned photocured resin on the surface of the inner circuit board, and is heated and cured at 140 ° C. for 20 minutes to form a multilayer printed wiring. A substrate was prepared.

【0015】(実施例2)内層回路板を作成するための
基材厚0.1mmのガラスエポキシ両面銅張積層板とし
て、予め両面粗化された厚さ35μmの銅箔を用いた両
面粗化銅張積層板を使用した以外は、実施例1と同様に
して、層間絶縁樹脂を塗布し光硬化させ、その上にアデ
ィティブ接着剤シートをラミネートし、加熱硬化させ
た。
(Example 2) A double-sided roughening using a 35-μm-thick copper foil previously roughened on both sides as a glass-epoxy double-sided copper-clad laminate having a substrate thickness of 0.1 mm for forming an inner circuit board. An interlayer insulating resin was applied and light-cured in the same manner as in Example 1 except that a copper-clad laminate was used, and an additive adhesive sheet was laminated thereon and heat-cured.

【0016】(比較例)溶剤系のアンダーコート用ポリ
イミド樹脂(樹脂分70%)を実施例1と同様にして内
層回路板の上に塗布し、180℃、60分間加熱硬化さ
せ、その上に実施例1と同じアディティブ接着剤シート
をラミネートし、180℃、20分間更に加熱硬化させ
た。
COMPARATIVE EXAMPLE A solvent-based polyimide resin for undercoat (resin content: 70%) was applied on the inner circuit board in the same manner as in Example 1, and cured by heating at 180 ° C. for 60 minutes. The same additive adhesive sheet as in Example 1 was laminated and further heated and cured at 180 ° C. for 20 minutes.

【0017】このようにして得られた各多層プリント配
線用基板は表1に示すような特性を有している。
Each multilayer printed wiring board thus obtained has the characteristics shown in Table 1.

【0018】 表 1 ─────────────────────────── 実施例1 実施例2 比較例 ─────────────────────────── 表面平滑性(μm) 3.0 3.0 25.0 吸湿半田耐熱性 ○ ○ ○ ───────────────────────────Table 1 Example 1 Example 2 Comparative Example ───────────────── Surface smoothness (μm) 3.0 3.0 25.0 Heat resistance to moisture absorption solder ○ ○ ○ ─────────── ────────────────

【0019】(測定方法) 1.表面平滑性:JIS B 0601 R(max) 2.吸湿半田耐熱試験 吸湿条件 プレッシャークッカー処理 125℃、30
分間 試験条件 n=5で、すべてが280℃120秒で膨れ
が無かったもの ○
(Measurement method) 1. Surface smoothness: JIS B 0601 R (max) Hygroscopic solder heat resistance test Hygroscopic conditions Pressure cooker treatment 125 ℃, 30
Min Test conditions n = 5, all without swelling at 280 ° C for 120 seconds ○

【0020】[0020]

【発明の効果】以上述べたように、回路表面を粗化処理
された両面銅張板の両面に、絶縁樹脂層を形成し、その
上にアディティブ接着剤シートをラミネートする、多層
プリント配線用基板の製造方法において、層間絶縁樹脂
を光と熱の二段階硬化型にしたことにより、塗布した直
後、光による速硬化が可能となり、熱ストレスが無いた
め、極薄基板でも反りやねじれがない状態でアディティ
ブ接着剤シートをラミネートすることができる。また、
アディティブ接着剤シートをラミネートする際に、加熱
された硬質ロールやプレスで表面を平滑にすることがで
き、加熱によって完全硬化させるため、層間絶縁樹脂と
アディティブ接着剤との密着力を高めることが可能とな
る。
As described above, a multilayer printed wiring board in which an insulating resin layer is formed on both sides of a double-sided copper-clad board whose circuit surface has been roughened, and an additive adhesive sheet is laminated thereon. In the manufacturing method of (1), the two-step curing type of light and heat is used for the interlayer insulating resin, so that it can be quickly cured by light immediately after application, and there is no thermal stress. Can laminate the additive adhesive sheet. Also,
When laminating an additive adhesive sheet, the surface can be smoothed with a heated hard roll or press and completely cured by heating, so the adhesion between the interlayer insulating resin and the additive adhesive can be increased Becomes

Claims (4)

(57)【特許請求の範囲】(57) [Claims] 【請求項1】 下記の工程(A)〜(D)からなる多層
プリント配線用基板の製造方法。 (A)両面銅張板をエッチングし、内層回路を形成する
工程、 (B)内層回路表面を粗化する工程、 (C)得られた内層回路基板の両面又は片面に、エポキ
シ樹脂100重量部、エポキシ樹脂硬化剤1〜30重量
部、光硬化型樹脂1〜100重量部、及び光硬化型樹脂
100重量部に対して光重合開始剤1〜10重量部から
なる光・熱硬化型層間絶縁樹脂材料を塗布した後、光照
射して硬化する工程、 (D)前記層間絶縁樹脂材料上に、アディティブ接着剤
シートを加熱下でラミネ−トないしプレスし、加熱硬化
して一体化する工程、
1. A method of manufacturing a multilayer printed wiring board, comprising the following steps (A) to (D). (A) a step of etching the double-sided copper-clad board to form an inner layer circuit, (B) a step of roughening the surface of the inner layer circuit, (C) 100 parts by weight of epoxy resin on both or one side of the obtained inner layer circuit board 1 to 30 parts by weight of an epoxy resin curing agent, 1 to 100 parts by weight of a photocurable resin, and 1 to 10 parts by weight of a photopolymerization initiator with respect to 100 parts by weight of a photocurable resin. (D) laminating or pressing the additive adhesive sheet on the interlayer insulating resin material under heating, and heating and curing to integrate the resin onto the interlayer insulating resin material;
【請求項2】 下記の工程(A)〜(C)からなる多層
プリント配線用基板の製造方法。 (A)あらかじめ両面粗化された銅箔を用いて積層成形
して得られる両面粗化銅張板をエッチングし、内層回路
を形成する工程、 (B)得られた内層回路基板の両面又は片面に、エポキ
シ樹脂100重量部、エポキシ樹脂硬化剤1〜30重量
部、光硬化型樹脂1〜100重量部、及び光硬化型樹脂
100重量部に対して光重合開始剤1〜10重量部から
なる光・熱硬化型層間絶縁樹脂材料を塗布した後、光照
射して硬化する工程、 (C)前記層間絶縁樹脂材料上に、アディティブ接着剤
シートを加熱下でラミネートないしプレスし、加熱硬化
して一体化する工程、
2. A method for manufacturing a multilayer printed wiring board, comprising the following steps (A) to (C). (A) a step of forming an inner layer circuit by etching a double-sided roughened copper clad board obtained by laminating and molding using a copper foil previously roughened on both sides, and (B) a double-sided or single-sided obtained inner-layer circuit board. 100 parts by weight of an epoxy resin, 1 to 30 parts by weight of an epoxy resin curing agent, 1 to 100 parts by weight of a photocurable resin, and 1 to 10 parts by weight of a photopolymerization initiator based on 100 parts by weight of the photocurable resin. (C) laminating or pressing an additive adhesive sheet under heating on the interlayer insulating resin material after applying a light / thermosetting type interlayer insulating resin material, and curing by heating; Process of integrating,
【請求項3】 前記エポキシ樹脂が平均分子量300〜
500の液状ビスフェノールA型エポキシ樹脂からなる
請求項1又は2記載の多層プリント配線用基板の製造方
法。
3. The epoxy resin has an average molecular weight of 300 to 300.
3. The method for manufacturing a multilayer printed wiring board according to claim 1, comprising 500 liquid bisphenol A epoxy resins.
【請求項4】 前記光硬化型樹脂が平均分子量500〜
1500のアクリレート樹脂からなる請求項1又は2記
載の多層プリント配線用基板の製造方法。
4. The photocurable resin has an average molecular weight of 500 to 500.
The method for producing a multilayer printed wiring board according to claim 1, comprising a acrylate resin of 1500.
JP8634794A 1994-03-15 1994-04-25 Method for manufacturing multilayer printed wiring board Expired - Fee Related JP3046201B2 (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP8634794A JP3046201B2 (en) 1994-03-15 1994-04-25 Method for manufacturing multilayer printed wiring board

Applications Claiming Priority (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP6-44356 1994-03-15
JP4435694 1994-03-15
JP8634794A JP3046201B2 (en) 1994-03-15 1994-04-25 Method for manufacturing multilayer printed wiring board

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPH07307576A JPH07307576A (en) 1995-11-21
JP3046201B2 true JP3046201B2 (en) 2000-05-29

Family

ID=26384213

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP8634794A Expired - Fee Related JP3046201B2 (en) 1994-03-15 1994-04-25 Method for manufacturing multilayer printed wiring board

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP3046201B2 (en)

Families Citing this family (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2830812B2 (en) * 1995-12-27 1998-12-02 日本電気株式会社 Manufacturing method of multilayer printed wiring board

Also Published As

Publication number Publication date
JPH07307576A (en) 1995-11-21

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US5806177A (en) Process for producing multilayer printed circuit board
JP2883029B2 (en) Undercoat agent for multilayer printed wiring boards
JP3046201B2 (en) Method for manufacturing multilayer printed wiring board
JP2000104033A (en) Inter layer insulation adhesive for multi-layer printed wiring board and preparation of multi-layer printed- wiring board
JP2908258B2 (en) Light / thermosetting undercoat material and method for manufacturing multilayer printed wiring board
JPH07336054A (en) Interlayer insulating resin material for multilayer board printed circuit board and manufacture of the same board
JP3046196B2 (en) Manufacturing method of multilayer printed wiring board
JP3003922B2 (en) 4-layer printed wiring board
JP3084351B2 (en) Interlayer insulating adhesive for multilayer printed wiring boards
JP3328122B2 (en) Manufacturing method of multilayer printed wiring board
JPH11186725A (en) Manufacturing multilayered printed wiring board
JP2911778B2 (en) Manufacturing method of multilayer printed wiring board
JP3095115B2 (en) Light / thermosetting undercoat agent for multilayer printed wiring board and method for manufacturing multilayer printed wiring board
JP3056676B2 (en) Method for manufacturing four-layer printed wiring board
JP3003921B2 (en) Manufacturing method of multilayer printed wiring board
JP3056666B2 (en) Manufacturing method of multilayer printed wiring board
JPH07245480A (en) Method of manufacturing multilayer printed interconnection board
JP2820648B2 (en) Manufacturing method of multilayer printed wiring board
JP3287746B2 (en) 4-layer printed wiring board
JPH11186724A (en) Manufacturing multilayered printed wiring board
JPH0553628B2 (en)
JPH11186723A (en) Manufacturing multilayered printed wiring board
JPH0864963A (en) Manufacturing for multilayer printed circuit board
JP2826091B2 (en) Insulating adhesive for multilayer printed wiring boards
JPH09130039A (en) Manufacture of multilayer printed circuit board

Legal Events

Date Code Title Description
LAPS Cancellation because of no payment of annual fees