JPH08109185A - オキサ−又はチア−脂肪族架橋キノキサリン−２，３−ジオン - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 （修正有） 【課題】 オキサ−又はチア脂肪族架橋キノキサリン−
２，３−ジオンを提供する。 【解決手段】 式（Ｉ′）で表わされる化合物を代表例
とするチア−脂肪族架橋キノキサリン−２，３−ジオン
ならびに対応するオキサ−脂肪族架橋キノキサリン−
２，３−ジオン又はそれらの塩、および、当該化合物又
はその医薬として許容し得る塩を含む医薬組成物。 〔式中、Ｒ₁ Ｒ₂ は水素、ハロゲン、Ｃ₁ −Ｃ₄ アルキ
ル、ＣＦ₃ ；Ｒ₃ は水素；Ｒ₄ は水素、カルボキシ、Ｃ
₁ −Ｃ₄ アルコキシカルボニル、（置換）ベンゾイルオ
キシ−Ｃ₁ −Ｃ₄ アルコキシカルボニル、Ｎ−（置換）
フェニルカルバモイル、５−テトラゾリル等；である〕 【効果】 これらの化合物は、興奮性アミノ酸に関し拮
抗作用を有しそして鎮痙性および抗神経変性医薬活性成
分として使用できる。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明はオキサ−又はチア脂
肪族架橋キノキサリン−２，３−ジオンに関する。

【０００２】

【課題を解決するための手段】本発明は、次式Ｉ：

【０００３】

【化３】

【０００４】（式中、Ａは低級アルキリデン又は式＞Ｃ
Ｈ−Ａ₄ −Ｒ₄ （Ｉａ）の基であり、Ａ₂ は低級アルキ
リデン又は式＞ＣＨ−Ａ₄ −Ｒ₄ （Ｉａ），＞Ｃ＝０
（Ｉｂ）又は＞ＣＨ（ＯＨ）−Ａ₅ −Ｒ₄ （Ｉｃ）の基
であり、Ａ₃ はオキシ、所望により酸化されたチオ又は
基＞Ｃ＝０（Ｉｂ）であり、Ａ₄ は低級アルキレンであ
り、Ａ₅ は低級アルキレン又は直接結合であり、ｎは０
又は１であり、Ｒ₁ およびＲ₂ は互いに独立に水素、未
置換又は低級アルキル−および／又は低級アルカノイル
−置換アミノ、ニトロ、低級アルカノイル、遊離又はエ
ーテル化又はエステル化ヒドロキシ、遊離又はエステル
化又はアミド化カルボキシ、シアノ、所望によりハロゲ
ン化された低級アルキル又はハロゲンであり、Ｒ₃ は水
素又はヒドロキシであり、そしてＲ₄ は水素、シアノ、
遊離又はエステル化又はアミド化カルボキシ、遊離又は
エステル化ホスホノ又は５−テトラゾリルである）で表
わされる新規オキサ−又はチア−脂肪族架橋キノキサリ
ン−２，３−ジオン又はその塩、新規化合物を含んでな
る医薬組成物および医薬有効成分としてその使用に関す
る。

【０００５】所望により酸化されたチオは、チオ、スル
フィニル又はスルホニルである。未置換又は低級アルキ
ル−および／又は低級アルカノイル−置換アミノは、例
えばアミノ、低級アルキルアミノ、低級アルカノイルア
ミノ、ジ−低級アルキルアミノ又はＮ−低級アルカノイ
ル−Ｎ−低級アルキルアミノである。遊離又はエステル
化ヒドロキシは、例えば遊離ヒドロキシ又は低級アルカ
ノールによりエーテル化されたヒドロキシ又は低級アル
カン酸によりエステル化されたヒドロキシ、特にヒドロ
キシ、低級アルカノイルオキシ又は低級アルコキシであ
るが、低級アルケニルオキシ又は低級アルキニルオキシ
であってもよい。

【０００６】所望によりハロゲン化された低級アルキル
は、例えば低級アルキル又はポリハロ−低級アルキル、
特にトリフルオロメチルである。未置換又は低級アルカ
ノイル−置換アミノは、例えばアミノ又は低級アルカノ
イルアミノである。遊離又はエステル化又はアミド化カ
ルボキシは、例えばカルボキシ、低級アルコキシカルボ
ニル、カルボキシ−低級アルコキシカルボニル、低級ア
ルコキシカルボニル−低級アルコキシカルボニル、低級
アルカノイルオキシ−低級アルコキシカルボニル；フェ
ニルオキシカルボニル、ベンゾイルオキシ−低級アルコ
キシ又はフェニル−低級アルコキシカルボニルであり、
これらの各々は未置換であるか又は低級アルキル、低級
アルコキシ、ヒドロキシ、ハロゲンおよび／又はトリフ
ルオロメチルにより置換される；カルバモイル、低級ア
ルキルカルバモイル、低級アルケニルカルバモイル、ジ
−低級アルキルカルバモイル、ジ−低級アルキルアミノ
−低級アルキルカルバモイル、アミノ−低級アルキルア
ミノ−低級アルキルカルバモイル、２−オキソイミダゾ
リジン−１−イル−低級アルキルカルバモイル、未置換
又はアミノ−低級アルキルアミノ−又は２−オキソイミ
ダゾリジン−１−イル−置換低級アルキレンアミノ−低
級アルキルカルバモイル、例えばアミノ−低級アルキル
アミノ−低級アルキレン−カルバモイル又は２−オキソ
イミダゾリジン−１−イル−低級アルキレンカルバモイ
ル、オキサ−低級アルキレンアミノ−低級アルキルカル
バモイル、未置換又はカルボキシ−又は低級アルコキシ
カルボニル−置換シクロアルキルカルバモイル、シクロ
アルキル−低級アルキルカルバモイル、未置換又はオキ
ソ−置換アザシクロアルキルカルバモイル、所望により
ベンゾ縮合低級アルキレンカルボニル、未置換又は低級
アルキル−、低級アルコキシ−、ヒドロキシ、ハロ−お
よび／又はトリフルオロメチル−置換フェニル−低級ア
ルキルカルバモイル、未置換又は低級アルキル−、低級
アルコキシ、ヒドロキシ−、ハロ−、アミノ−、低級ア
ルコキシカルボニルアミノ−、ニトロ、カルボキシ−、
低級アルコキシカルボニル−フェニル、フェニルオキシ
−および／又はトリフルオロメチル−置換Ｎ−フェニル
−又はＮ−低級アルキル−Ｎ−フェニル−カルバモイ
ル、所望により部分ハロゲン化Ｎ−ナフチルカルバモイ
ル、Ｎ−インダニルカルバモイル、Ｎ−ヘテロアリール
又はＮ−ヘテロアリール−低級アルキル−カルバモイ
ル、モノ−又はジヒドロキシ−低級アルキルカルバモイ
ル、モノ−又はジ−低級アルコキシ−低級アルキルカル
バモイル、ポリハロケツ−低級アルキルカルバモイル、
遊離又はエステル化モノ−又はジ−カルボキシ−低級ア
ルキルカルバモイル、シアノ−低級アルキルカルバモイ
ル、遊離又はエステル化カルボキシ−低級アルケニルカ
ルバモイル又は遊離又はエーテル化Ｎ−ヒドロキシカル
バモイル、例えばＮ−ヒドロキシカルバモイル、Ｎ−低
級アルコキシカルバモイル、Ｎ−低級アルコキシ−Ｎ−
低級アルキルカルバモイル、Ｎ−低級アルケニルオキシ
カルバモイル又は未置換又は低級アルキル−、低級アル
コキシ−、ヒドロキシ、ハロ−、および／又はトリフル
オロメチル−置換Ｎ−フェニルオキシ−、Ｎ−フェニル
−低級アルコキシ−又はＮ−フェニル−低級アルケニル
オキシ−カルバモイルである。

【０００７】未置換又はカルボキシ−又は低級アルコキ
シ−置換シクロアルキルカルバモイルは、例えばＣ₃ −
Ｃ₇ シクロアルキルカルバモイル、カルボキシ−Ｃ₃ −
Ｃ₇シクロアルキルカルバモイル又はＣ₁ −Ｃ₄ アルコ
キシカルボニル−Ｃ₃ −Ｃ₇シクロアルキルカルバモイ
ル、例えば１−カルボキシ−、１−メトキシカルボニル
−又は１−エトキシカルボニル−シクロプロピルカルバ
モイルである。

【０００８】遊離又はエステル化ホスホノは、十分に又
は部分的にエステル化されていてもよくそして例えばホ
スホノ、低級アルキルホスホノ、ジ−低級アルキルホス
ホノ又はトリ−低級アルキルホスホノである。所望によ
りベンゾ縮合低級アルキレンカルバモイルは、例えばア
ザリジノ−又は２−メチル−アザリジノ−カルボニル、
２，３−ジヒドロインドイン−１−イルカルバモイル、
ピロリジノカルボニル、ピペリジノカルボニル、モルホ
リノカルボニル、トリモルホリノカルボニル、ピペラジ
ノカルボニル又はＮ′−低級アルキル−ピペラジノカル
ボニル例えばＮ′−メチルピペラジノカルボニルであ
る。

【０００９】未置換又はオキソ−置換アザシクロアルキ
ルカルバモイルは、例えば、３−アザ−２−オキソ−シ
クロヘプチルカルバモイルである。所望により部分ハロ
ゲン化されたナフチルカルバモイルは、例えばナフチル
カルバモイル又は５，６，７，８−テトラヒドロナフチ
ルカルバモイルである。遊離又はエステル化カルボキシ
−低級アルケニルカルバモイルは、例えばカルボキシ−
低級アルケニルカルバモイル又は低級アルコキシカルボ
ニル−低級アルケニルカルバモイルである。

【００１０】遊離又はエステル化モノ−又はジ−カルボ
キシ−低級アルキルカルバモイルは、例えばカルボキシ
−低級アルキルカルバモイル、低級アルコキシカルボニ
ル−低級アルキルカルバモイル、ジカルボキシ−低級ア
ルキルカルバモイル又はジ−低級アルコキシカルボニル
−低級アルキルカルバモイルである。以前および以後に
おいて、低級の基および化合物は例えば７個まで、特に
４個までの炭素原子を有するものと理解されるであろ
う。

【００１１】ジ−低級アルキルアミノは、例えばＮ，Ｎ
−ジ−Ｃ₁ −Ｃ₇ アルキルアミノ、好ましくはＮ，Ｎ−
ジＣ₁ −Ｃ₄ アルキルアミノ、例えば特にジメチルアミ
ノ、又は第二にはジエチルアミノ、ジプロピルアミノ、
ジイソプロピルアミノ又はジブチルアミノである。アミ
ノ−低級アルキルアミノ−低級アルキルカルバモイル
は、例えばＮ−（アミノ−Ｃ₂ −Ｃ₄ アルキルアミノ−
Ｃ₁ −Ｃ₄ アルキル）カルバモイル、例えばＮ−〔２−
（２−アミノエチルアミノ）エチル〕カルバモイルであ
る。

【００１２】アミノ−低級アルコキシカルボニルは、例
えばカルボキシ−Ｃ₁ −Ｃ₄ −アルコキシカルボニル、
例えばカルボキシメトキシカルボニル、２−カルボキシ
エトキシカルボニル、３−カルボキシプロピルオキシカ
ルボニル又は４−カルボキシブチルオキシカルボニルで
ある。カルボキシ−低級アルケニルカルバモイルは、例
えばカルボキシ−Ｃ₂ −Ｃ₄アルケニルカルバモイル、
例えばカルボキシビニルカルバモイル、３−カルボキシ
プロプ−２−エン−２−イルカルバモイル又は３−カル
ボキシプロプ−２−エン−１−イル−カルバモイルであ
る。

【００１３】カルボキシ−低級アルキルカルバモイル
は、例えばカルボキシ−Ｃ₁ −Ｃ₄ アルキルカルバモイ
ル、例えばカルボキシメチルカルバモイル、２−カルボ
キシエチルカルバモイル又は１−カルボキシ２，２−ジ
メチル−プロピルカルバモイルである。シアノ−低級ア
ルキルカルバモイルは、例えばシアノ−Ｃ₁ −Ｃ₄ アル
キルカルバモイル、特にシアノ−メチルカルバモイルで
ある。

【００１４】シクロアルキルカルバモイルは、例えばＮ
−Ｃ₃ −Ｃ₆ シクロアルキルカルバモイル、例えばシク
ロプロピルカルバモイル、シクロブチルカルバモイル、
シクロペンチルカルバモイル又はシクロヘキシルカルバ
モイルであるが、多環式シクロアルキルカルバモイル、
例えばビシクロ〔２．２．１〕ヘプチル−、ビシクロ
〔２．２．０〕オクチル−又はアダマンチル−カルバモ
イルである。

【００１５】シクロアルキル−低級アルキルカルバモイ
ルは、例えばＮ−（Ｃ₃ −Ｃ₆ シクロアルキル）−Ｃ₁
−Ｃ₄ アルキルカルバモイル、例えばＮ−（シクロプロ
ピルメチル）カルバモイル、Ｎ−（シクロブチルメチ
ル）カルバモイル、Ｎ−（シクロペンチルメチル）カル
バモイル又はＮ−（シクロヘキシルメチル）カルバモイ
ルである。

【００１６】ジヒドロキシ−低級アルキルは、例えば
β，γ−ジヒドロキシ−Ｃ₃ −Ｃ₄ アルキル、例えば
２，３−ジヒドロキシプロピルである。ジヒドロキシ−
低級アルキルカルバモイルは、例えばＮ，Ｎ−ジ（ヒド
ロキシ−Ｃ₂ −Ｃ₄ アルキル）カルバモイル、例えば
Ｎ，Ｎ−ジ（２−ヒドロキシメチル）カルバモイル、Ｎ
−（２−ヒドロキシエチル）−Ｎ−ヒドロキシメチル−
カルバモイル又はＮ，Ｎ−ジ（２−ヒドロキシエチル）
カルバモイルである。

【００１７】ジカルボキシ−低級アルキルカルバモイル
は、例えばジカルボキシ−Ｃ₁ −Ｃ ₄ アルキルカルバモ
イル、例えばジカルボキシメチルカルバモイルである。
ジ−低級アルコキシ−低級アルキルカルバモイルは、例
えばジ−Ｃ₁ −Ｃ₄ アルコキシ−Ｃ₁ −Ｃ₄ −アルキル
カルバモイル、例えばジメトキシジメトキシカルボニル
又はジエトキシメトキシカルボニルである。

【００１８】ジ−低級アルキルアミノ−低級アルキルカ
ルバモイルは、例えばＮ，Ｎ−ジ−Ｃ₁ −Ｃ₄ アルキル
アミノ−Ｃ₂ −Ｃ₄ アルキルカルバモイル、例えばＮ−
（２−ジメチルアミノエチル）カルバモイルである。ジ
−低級アルキルカルバモイルは、例えばＮ，Ｎ−ジ−Ｃ
₁ −Ｃ₇ アルキルカルバモイル、好ましくはＮ，Ｎ−ジ
−Ｃ₁ −Ｃ₄ アルキルカルバモイル、例えば特にジメチ
ルカルバモイル、又は第二にはジエトキシカルバモイ
ル、ジプロピルカルバモイル又はジブチルカルバモイル
である。

【００１９】ジ−低級アルコキシカルボニル−低級アル
キルカルバモイルは、例えばジ−Ｃ ₁ −Ｃ₄ アルコキシ
カルボニル−Ｃ₁ −Ｃ₄ アルキルカルバモイル、例えば
ジメトキシカルボニルメチルカルバモイル又はジエトキ
シカルボニルメチルである。ジ−低級アルキルホスホノ
は、例えばジ−Ｃ₁ −Ｃ₇ アルキルホスホノ、好ましく
はジ−Ｃ₁ −Ｃ₄ アルキルホスホノ、例えば特にジメチ
ルホスホノ、又は第二にはジエチルホスホノ、ジプロピ
ルホスホノ、ジイソプロピルホスホノ又はジブチルホス
ホノである。

【００２０】ハロゲンは、例えば３５までの原子番号を
有するハロゲン、例えば塩素又はフッ素、更に臭素であ
る。ヒドロキシ−低級アルキルカルバモイルは、例えば
Ｎ−（ヒドロキシ−Ｃ₂ −Ｃ₄ アルキル）カルバモイ
ル、例えばヒドロキシメチルカルバモイル又は２−ヒド
ロキシエチルカルバモイルである。

【００２１】ヘテロアリールカルバモイルは、例えばフ
ル−２−イルカルバモイル、チエン−２−イルカルバモ
イル、チアゾール−２−イル−カルバモイル又はＮ−ベ
ンゾチアゾール−２−イルカルバモイルである。ヘテロ
アリール−低級アルキルカルバモイルは、例えばフル−
２−イル−Ｃ₁−Ｃ₄ アルキルカルバモイル、チエン−
２−イル−Ｃ₁ −Ｃ₄ アルキルカルバモイル又はチアゾ
ール−２−イル−Ｃ₁ −Ｃ₄ アルキルカルバモイル、例
えばフル−２−イルメチルカルバモイル、チエン−２−
イルメチルカルバモイル、チアゾール−２−イルメチル
カルバモイル又はＮ−（３−オキソ−２，３−ジヒドロ
−４Ｈ−１，４−ベンゾオキサジン−７−イル）メチル
カルバモイルである。

【００２２】Ｎ−低級アルカノイル−Ｎ−低級アルキル
−アミノは、例えばＮ−Ｃ₁ −Ｃ₇アルカノイル−Ｎ−
Ｃ₁ −Ｃ₄ アルキルアミノ、特にＮ−Ｃ₁ −Ｃ₄ アルカ
ノイル−Ｎ−Ｃ₁ −Ｃ₄ アルキルアミノ、例えばＮ−ホ
ルミル−Ｎ−メチルアミノ、Ｎ−アセチル−Ｎ−メチル
−アミノ、Ｎ−アセチル−Ｎ−エチルアミノ、Ｎ−エチ
ル−Ｎ−プロピオニル−アミノ、Ｎ−メチル−Ｎ−プロ
ピオニル−アミノ、Ｎ−ブチリル−Ｎ−メチル−アミノ
又はＮ−イソブチリル−Ｎ−メチル−アミノである。

【００２３】低級アルカノイルは、例えばＮ−Ｃ₁ −Ｃ
₇ アルカノイル、特にＮ−Ｃ₁ −Ｃ ₄ アルカノイル、例
えばホルミル、アセチル、プロピオニル、ブチリル又は
イソブチリルであるが、Ｃ₅ −Ｃ₇ アルカノイル、例え
ばピバロイルであってもよい。低級アルカノイルアミノ
は、例えばＮ−Ｃ₁ −Ｃ₇ アルカノイルアミノ、例えば
ホルミルアミノ、アセチルアミノ、プロピオニルアミ
ノ、ブチリルアミノ又はイソブチリルアミノであるが、
Ｃ₅ −Ｃ₇ アルカノイルアミノ、例えばピバロイルアミ
ノであってよい。

【００２４】低級アルカノイルオキシは、例えばＮ−Ｃ
₁ −Ｃ₇ アルカノイルオキシ、特にＮ−Ｃ₁ −Ｃ₄ アル
カノイルオキシ、例えばホルミルオキシ、アセトキシ、
プロピオニルオキシ、ブチリルオキシ、又はイソブチリ
ルオキシであるがＣ₅ −Ｃ₇アルカノイルオキシ、例え
ばピバロイルオキシであってもよい。低級アルカノイル
オキシ−低級アルコキシカルボニルは、例えばＮ−Ｃ₁
−Ｃ ₄ アルカノイルオキシ−Ｃ₁ −Ｃ₄ アルコキシカル
ボニル、例えばアセトキシメトキシカルボニル、プロピ
オニルオキシメトキシカルボニル、第三ブチリルオキシ
メトキシカルボニル又はピバロイルオキシカルボニルで
ある。

【００２５】低級アルケニルカルボニルは、例えばＣ₂
−Ｃ₄ アルケニルカルバモイル、例えばアリルカルバモ
イルである。低級アルコキシカルボニル−低級アルコキ
シカルボニルは、例えばＣ₁ −Ｃ₄アルコキシカルボニ
ル−Ｃ₁ −Ｃ₄ アルコキシカルボニル、例えばメトキシ
カルボニルメトキシカルボニル、エトキシカルボニルメ
トキシカルボニル又は２−メトキシカルボニルエトキシ
カルボニルである。

【００２６】低級アルコキシカルボニル−低級アルケニ
ルカルバモイルは、例えばＣ₁ −Ｃ ₄ アルコキシカルボ
ニル−Ｃ₂ −Ｃ₄ アルケニルカルバモイル、例えばメト
キシカルボニルビニルカルバモイル、エトキシカルボニ
ルビニルカルバモイル、３−メトキシカルボニルプロプ
−２−エン−２−イルカルバモイル、３−エトキシカル
ボニルプロプ−２−エン−２−イルカルバモイル、３−
メトキシカルボニルプロプ−２−エン−１−イルカルバ
モイル又は３−エトキシカルボニルプロプ−２−エン−
１−イルカルバモイルである。

【００２７】低級アルコキシカルボニル−低級アルキル
カルバモイルは、例えばＣ₁ −Ｃ₄アルコキシカルボニ
ル−Ｃ₁ −Ｃ₄ アルキルカルバモイル、例えばメトキシ
カルボニルメチルカルバモイル、エトキシカルボニルメ
チルカルバモイル、２−メトキシカルボニルエチルカル
バモイル又は１−メトキシカルボニル−２，２−ジメチ
ル−プロピルカルバモイルである。

【００２８】低級アルコキシ−低級アルキルカルバモイ
ルは、例えばメトキシメチルカルバモイル、２−メトキ
シエチルカルバモイル又はエトキシメチルカルバモイル
である。低級アルケニルオキシは例えばＣ₃ −Ｃ₄ アル
ケニルオキシ、例えばアリルオキシ又はメタリルオキシ
である。

【００２９】Ｎ−低級アルケニルオキシカルボニルは、
例えばＮ−Ｃ₂ −Ｃ₄ アルケニルオキシカルバモイル、
例えばＮ−ビニルオキシカルバモイル、Ｎ−アリルオキ
シカルバモイル又はＮ−メタリルオキシカルバモイルで
ある。低級アルキニルオキシは、例えばＣ₃ −Ｃ₄ アル
キニルオキシ、例えばパロパルギルオキシである。

【００３０】低級アルコキシは、例えばＣ₁ −Ｃ₇ アル
コキシ、好ましくはＣ₁ −Ｃ₄ アルコキシ、例えばメト
キシ、エトキシ、プロピルオキシ、イソプロピルオキシ
又はブチルオキシであるが、イソブチルオキシ、第二ブ
チルオキシ、第三ブチルオキシ又はＣ₅ −Ｃ₇ アルコキ
シ基、例えばペンチルオキシ、ヘキシルオキシ、又はヘ
プチルオキシであってもよい。

【００３１】Ｎ−低級アルケニルオキシカルバモイル
は、例えばＮ−Ｃ₂ −Ｃ₄ アルケニルオキシカルバモイ
ル、例えばＮ−ビニルオキシカルバモイル、Ｎ−アリル
オキシカルバモイル又はＮ−メタリルオキシカルボニル
である。低級アルキルは、例えばＣ₁ −Ｃ₇ アルキル、
好ましくはＣ₁ −Ｃ₄ アルキル、例えば特にメチル、又
は第二にはエチル、プロピル又はブチルであるが、イソ
ブチル、第二ブチル、第三ブチル又はＣ₅ −Ｃ₇ アルキ
ル基、例えばペンチル、ヘキシル又はヘプチル基であっ
てもよい。

【００３２】低級アルキルアミノは、例えばＮ−Ｃ₁ −
Ｃ₇ アルキルアミノ、好ましくはＮ−Ｃ₁ −Ｃ₄ アルキ
ルアミノ、例えば特にメチルアミノ又は第二には、エチ
ルアミノ、プロピルアミノ、イソプロピルアミノ又はブ
チルアミノであるが、イソブチルアミノ、第二ブチルア
ミノ、第三ブチルアミノ又はＣ₅ −Ｃ₇ アルキルアミノ
基、例えばペンチルアミノ、ヘキシルアミノ又はヘプチ
ルアミノ基であってもよい。

【００３３】低級アルキルカルバモイルは、例えば、Ｎ
−Ｃ₁ −Ｃ₇ アルキルカルバモイル、好ましくはＮ−Ｃ
₁ −Ｃ₄ −アルキルカルバモイル、例えば特にメチルカ
ルバモイル、又は第二にはエチルカルバモイル、プロピ
ルカルバモイル、イソプロピルカルバモイル、又はブチ
ルカルバモイル又はＣ₅ −Ｃ₇ アルキルカルバモイル
基、例えばペンチルカルバモイル、ヘキシルカルバモイ
ル、又はヘプチルカルバモイル基であってよい。

【００３４】低級アルキレンは直鎖でも枝分れ鎖でもよ
くそして任意の位置で結合しておりそして、例えば直鎖
又は枝分れ鎖Ｃ₁ −Ｃ₇ アルキレン、好ましくはＣ₁ −
Ｃ₄−アルキレン、例えばメチレン、１，２−エチレ
ン、１，３−又は１，２−プロピレン、１，４−，１，
３−、又は２，３−ブチレン又は第二には１，５−，
１，４−又は２，５−ペンチレンである。

【００３５】低級アルキリデンは直鎖又は枝分れ鎖であ
ってよくそして所望の位置でジエミナルに結合しており
そして、例えば直鎖又は枝分れ鎖Ｃ₁ −Ｃ₇ −アルキレ
ン、好ましくはＣ₁ −Ｃ₄ アルキレン、例えば、メチレ
ン、１，１−エチレン、１，１−又は２，２−プロピリ
デン、１，１−又は２，２−ブチリデン又は第二には
１，１−又は、２，２−ペンチリデンである。

【００３６】Ｎ−低級アルキル−Ｎ−フェニル−カルバ
モイルは、例えば、Ｎ−Ｃ₁ −Ｃ₄アルキル−Ｎ−フェ
ニル−カルバモイル、例えば特にＮ−メチル−Ｎ−フェ
ニル−カルバモイル又は第二にはＮ−エチル−Ｎ−フェ
ニル−カルバモイル、Ｎ−プロピル−Ｎ−フェニル−カ
ルバモイル、Ｎ−イソプロピル−Ｎ−フェニル−カルバ
モイル又はＮ−ブチル−Ｎ−フェニル−カルバモイルで
あるが、Ｎ−イソブチル−Ｎ−フェニル−カルバモイ
ル、Ｎ−第二ブチル−Ｎ−フェニル−カルバモイル又は
Ｎ−第三ブチル−Ｎ−フェニル−カルバモイルであって
もよい。

【００３７】低級アルキルホスホノは、例えばＣ₁ −Ｃ
₇ アルキルホスホノ、好ましくはＣ ₁ −Ｃ₄ アルキルホ
スホノ、例えば特にメチルホスホノ又は第二にはエチル
ホスホノ、プロピルホスホノ、イソプロピルホスホノ、
又はブチルホスホノであるが、イソブチルホスホノ、第
二ブチルホスホノ、第三ブチルホスホノ又はＣ₅ −Ｃ ₇
アルキルホスホノ基、例えばペンチルホスホノ、ヘキシ
ルホスホノ又はヘプチルホスホノ基であってもよい。

【００３８】オキサ−低級アルキレンアミン−低級アル
キルカルバモイルは、例えばＮ−（モルホリノ−Ｃ₂ −
Ｃ₄ アルキル）カルバモイル、例えば特にＮ−（２−モ
ルホリノエチル）エチルカルバモイルである。２−オキ
サイミダゾリジン−１−低級アルキレンカルバモイル
は、例えばＮ−（２−オキサイミダゾリジン−１−イル
−Ｃ₄ −Ｃ₅ アルキレン）カルバモイル、例えばＮ−
〔４−（２−オキサイミダゾリジン−１−イル）ピペリ
ジノカルボニルである。

【００３９】２−オキサイミダゾリジン−１−イル−低
級アルキルカルバモイルは、例えばＮ−（２−オキソイ
ミダゾリジン−１−イル−Ｃ₂ −Ｃ₅ アルキル）カルバ
モイル、例えばＮ−（２−オキソイミダゾリジン−１−
イル）エチルカルバモイルである。フェニル−低級アル
コキシカルバモイルは、例えば未置換又はＣ₁ −Ｃ₄ ア
ルキル−、Ｃ₁ −Ｃ₄ アルコキシ−、ヒドロキシ−、ハ
ロ−および／又はトリフルオロメチル−置換フェニル−
Ｃ₁ −Ｃ₄ アルコキシカルバモイル、例えばベンジルオ
キシカルバモイル又は１−フェニルエトキシカルバモイ
ルである。

【００４０】フェニル−低級アルコキシカルボニルは、
例えば未置換又はＣ₁ −Ｃ₄ −，Ｃ ₁ −Ｃ₄ アルコキシ
−、ヒドロキシ−、ハロ−および／又はトリフルオロメ
チル−置換フェニルオキシ−Ｃ₁ −Ｃ₄ アルコキシカル
ボニル、例えばフェニルオキシメトキシカルボニル又は
２−フェニルオキシエトキシカルボニルである。Ｎ−フ
ェニル−低級アルケニルオキシカルバモイルは、例えば
Ｎ−フェニル−Ｃ₂ −Ｃ₄ アルケニルオキシカルバモイ
ル、例えばＮ−フェニルビニルオキシカルバモイル又は
Ｎ−（３−フェニルプロプ−２−エニルオキシ）カルボ
モイルである。

【００４１】フェニル−低級アルコキシカルボニルは、
例えば未置換又はＣ₁ −Ｃ₄ アルキル−、Ｃ₁ −Ｃ₄ ア
ルコキシ−、ヒドロキシ−、ハロ−および／又はトリフ
ルオロメチル−置換フェニル−Ｃ₁ −Ｃ₄ アルコキシカ
ルボニル、例えばベンジルオキシカルボニル又は１−フ
ェニルエトキシカルボニルである。フェニル−低級アル
コキシカルバモイルは、例えば未置換又はＣ₁ −Ｃ
₄ −，Ｃ₁ −Ｃ₄ −アルコキシ−、ヒドロキシ−、ハロ
−および／又はトリフルオロメチル−置換フェニル−Ｃ
₁ −Ｃ₄ アルキルカルバモイル例えばベンジルカルバモ
イル又は２−フェニルカルバモイルである。

【００４２】トリ−低級アルキルホスホノは、例えばト
リ−Ｃ₁ −Ｃ₇ アルキルホスホノ、好ましくはトリ−Ｃ
₁ −Ｃ₄ アルキルホスホノ、例えば特にトリメチルホス
ホノ、又は第二にはトリエチルホスホノ、トリプロプル
ホスホノ、トリイソプロピルホスホノ、又はトリブチル
ホスホノである。酸性基を有する式Ｉの化合物は、例え
ば基Ｒ₁ ，Ｒ₂ 、およびＲ₄ の少なくとも１種がカルボ
キシ、ホスホノ又はテトラゾリルであるか又はそれらを
含有し、塩基との塩を形成できる。式Ｉの化合物は又は
酸付加塩を形成してもよい。

【００４３】塩基を式Ｉの化合物の塩は、例えば医薬と
して許容し得る塩基とそれらの塩、例えば属Ｉａ，Ｉ
ｂ、およびIIｂの金属から由来する非毒性の金属塩、例
えばアルカリ金属塩、特にナトリウム又はカリウム塩、
アルカル土類金属塩、特にカルシウム又はマグネシウム
塩および又アンモニア又は有機アミン又は四級アンモニ
ウム塩基、例えば所望によりＣ−末端脂肪族アミン、特
にモノ−、ジ−又はトリ−低級アルキルアミン、例えば
メチル−、エチル−又はジエチル−アミン、モノ−、ジ
−又はトリ−（ヒドロキシ−低級アルキル）アミン、例
えばエタノール−、ジエタノール−又はトリエタノール
−アミン、トリス（ヒドロキシメチル）メチルアミン又
は２−ヒドロキシ−第三ブチルアミン、又はＮ−（ヒド
ロキシ−低級アルキル）、−Ｎ，Ｎ−ジ−低級アルキル
アミン又はＮ−（ポリヒドロキシ−低級アルキル）−Ｎ
−低級アルキルアミン、例えば２−（ジメチルアミン）
エタノール又はＤ−グルカミン又はコリン又は四級脂肪
族水酸化アンモニウム、例えば水酸化テトラブチルアン
モニウムとのアンモニウム塩である。

【００４４】式Ｉの化合物の酸付加塩は、例えば適当な
鉱酸、例えばハロゲン化水素酸、硫酸又はリン酸例えば
塩化水素、臭化水素、スルフェート、硫酸水素塩又はホ
スフェートとそれらの医薬として許容し得る塩、又は適
当な脂肪族又は芳香族スルホン酸又はＮ−置換スルファ
ミン酸例えばメタンスルホネート、ベンゼンスルホネー
ト、ｐ−トリエンスルホネート又はＮ−シクロヘキシル
スルファメート（サイクラメート）との塩である。

【００４５】全塩又は部分塩も含まれ、すなわち式Ｉの
酸の１モル当たり１，２又は３、好ましくは２当量を有
する塩、又は式Ｉの塩基の１モル当たり、酸の１，２、
又は３当量、好ましくは１当量を有する塩である。単離
又は精製の目的に達し、医薬として許容し得ない塩も使
用できる。ただ医薬として許容し得る、非毒性塩は治療
的に用いられるがしかし、それらは従って好ましい。

【００４６】式Ｉの化合物は価値ある薬理作用を有す
る。式Ｉの化合物は温血動物のＮ−メチル−Ｄ−アスパ
ラギン酸−感受性（ＮＭＤＡ−感受性）興奮性アミノ酸
レセプターに関して選択的非競合的拮抗作用を示す。特
に式Ｉの化合物はＮＭＤＡ−レセプターのストリキニー
ネー非感受性グリシンモジュレーターに結合することが
できる。本発明に従って得られる化合物およびその塩の
ＮＭＤＡレセプターのストリキニーネー非感受性グリシ
ン結合部位に対する結合能力は例えばボロン等、Ｊ．Ｐ
ｈａｒｍａｃｏｌ．Ｍｏｌｅｃ．Ｐｈａｒｍａｃｏｌ．
Ｓｅｃｔｉｏｎ２０６，１４９〜１５４頁（１９９１）
およびカントン等、Ｊ．Ｐｈｏｒｍ．Ｐｈａｒｍａｃｏ
ｌ．４４，８１２〜８１６頁（１９９２）に従って実験
手順においてラットの皮質膜およびラットの海馬につい
て試験管内で測定できる。これらの実験手順において ³
（Ｈ）−５，７−ジクロロキヌル酸（ ³Ｈ−ＤＣＫＡ）
がどの程度置き代えられているかが測定され、抑制％が
測定され、所望により、濃度数を測定することにより５
０％置換に対する要求（ＩＣ₅₀）が測定される。５０％
置換に対して要求される濃度（ＩＣ₅₀）はナノモルとよ
り小さいミリモルの範囲内にあり、すなわち数０．０１
〜１０μmol の濃度である。

【００４７】式Ｉの化合物およびその医薬として許容し
うる塩は、以下の疾患の如きＮＭＤＡ感受性レセプター
のグリシン−拮抗遮断に応答する病的症状の予防および
治療に対して極めて秀れて適している；発作、低血糖、
無酸素又は大脳麻すいの症状から由来する神経変性疾
患、虚血疾患、例えば虚血疾患大脳虚血、心臓手術又は
心臓停止における大脳虚血、周産期の仮死、てんかん性
発作、ハンチントン舞踏病、アルツハイマー損傷および
パーキンソン病、筋萎縮性測素硬化症、脊椎および大脳
損傷および神経毒又は薬物乱用による中毒症状および
眼、血管および筋痙縮の虚血性疾患、片頭痛又は局所も
しくは全体的痙性、けいれん、てんかん、および不安お
よび痛み例えば三叉神経痛。

【００４８】本発明に係る化合物の鎮痙作用は、電気シ
ョックにより又はメトラゾールにより誘発された痙攣に
関してそれらの高められた保護作用について、生体内例
えばマウスにおいて測定できる。例えばシコムズ等、Ｎ
ａｕｎｙｎ−Ｓｃｈｍｉｌｄｅｂｅｒｇ’ｓ Ａｒｃ
ｈ．Ｐｈａｒｍａｃｏｌ．３４２，６１〜６６（１９９
０）に従い、マトラゾール誘発痙攣に対しのマウスモデ
ル、又は確立された電気ショックマウスモデルを用いる
ことができる。

【００４９】本発明は、例えば式Ｉ（式中、Ａ₁ はメチ
レン又は式＞ＣＨ−Ａ₄ −Ｒ₄ （Ｉａ）の基であり、Ａ
₂ は低級アルキリデンでありそしてＡ₃ はオキシ、チ
オ、スルフィニル、スルホニル又はカルボニルである
か、又はＡ₂ はカルボニルであり、そしてＡ₃ はオキ
シ、チオ、スルフィニル又はスルホニルであり、Ａ₄ は
低級アルキレンであり、ｎは０又は１であり、Ｒ₁ およ
びＲ₂ は各々互いに独立に水素、アミノ、低級アルキル
アミノ、低級アルカノイルアミノ、ジ−低級アルキルア
ミノ、Ｎ−低級アルカノイル−Ｎ−低級アルキルアミ
ノ、ヒドロキシ、低級アルコキシ、低級アルケニルオキ
シ、低級アルキニル、低級アルキル、ポリハロ−低級ア
ルキル又はハロゲンであり、Ｒ₃ は水素でありそしてＲ
₄ は水素、カルボキシ、低級アルコキシカルボニル、未
置換又は低級アルキル−、低級アルコキシ−、ヒドロキ
シ−、ハロ−および／又はトリフルオロメチル−置換フ
ェニル−低級アルコキシカルボニル、カルバモイル、シ
アノ又は低級アルキルカルバモイル、未置換又は低級ア
ルキル−、低級アルコキシ−、ヒドロキシ−、ハロ−お
よび／又はトリフルオロメチル−置換フェニルカルバモ
イル又はジ−低級アルキルカルバモイルである）の化合
物およびその塩に関する。

【００５０】本発明は、例えば式Ｉ（式中、Ａ₁ は低級
アルキリデン又は式＞ＣＨ−Ａ₄ −Ｒ₄ （Ｉａ）の基で
あり、Ａ₂ は低級アルキリデン又は式＞ＣＨ−Ａ₄ −Ｒ
₄ （Ｉａ）の基又は＞Ｃ＝０（Ｉｂ）であり、Ａ₃ はオ
キシ又は所望により酸化されたチオであり、Ａ₄ は低級
アルキレンであり、ｎは０又は１であり、Ｒ₁ およびＲ
₂ は各々互いに独立に水素、未置換又は低級アルキルお
よび／又は低級アルカノイル−置換アミノ、遊離ヒドロ
キシ又は低級アルカノールによりエーテル化されたヒド
ロキシ、所望によりハロゲン化された低級アルキル又は
ハロゲンであり、Ｒ₃ は水素、ヒドロキシ又は未置換又
は低級アルカノイル−置換アミノであり、そしてＲ₄ は
水素、シアノ、テトラゾリル又は遊離又はエステル化も
しくはアミド化カルボキシである）の化合物およびその
塩に関し、例えば式Ｉ（式中、Ａ ₁ は式＞ＣＨ−Ａ₄ −
Ｒ₄ （Ｉａ）の基であり、Ａ₂ は低級アルキリデンであ
り、Ａ₃ はオキシ、所望により置換されたチオ又はカル
ボニルであり、Ａ₄ は低級アルキレンであり、Ｒ₁ およ
びＲ₂ は各々互いに独立に水素、未置換又は低級アルキ
ル−および／又は低級アルカノイル−置換アミノ、遊離
ヒドロキシ又は低級アルカノールによりエーテル化され
たヒドロキシ、所望によりハロゲン化された低級アルキ
ル又はハロゲンであり、Ｒ₃ は水素又はヒドロキシであ
り、そしてＲ ₄ は水素、シアノ又は遊離又はエステル化
もしくはアミド化カルボキシである）の化合物およびそ
の塩である。

【００５１】本発明は、特に式Ｉ（式中、Ａは低級アル
キリデン又は式＞ＣＨ−Ａ₄ −Ｒ₄（Ｉａ）の基であ
り、Ａ₂ は低級アルキリデン又は式＞ＣＨ−Ａ₄ −Ｒ₄
（Ｉａ）、＞Ｃ＝０（Ｉｂ）又は＞ＣＨ（ＯＨ）−Ａ₅
−Ｒ₄ （Ｉｃ）の基であり、Ａ₃ はオキシ、チオ、スル
フィニル又はスルホニル又は基＞Ｃ＝０（Ｉｂ）であ
り、Ａ₄ は低級アルキレンであり、Ａ₅ は低級アルキレ
ン又は直接結合であり、ｎは０又は１であり、Ｒ₁ およ
びＲ₂ は各々互いに独立に水素、アミノ、低級アルキル
アミノ、低級アルカノイルアミノ、ジ−低級アルキルア
ミノ、Ｎ−低級アルカノイル−Ｎ−低級アルキル−アミ
ノ、ニトロ、低級アルカノイル、ヒドロキシ、低級アル
カノイルオキシ、低級アルコキシ、低級アルケニルオキ
シ、低級アルキニルオキシ、カルボキシ、低級アルコキ
シカルボニル、カルバモイル、シアノ、低級アルキル、
ポリハロ−低級アルキル又はハロゲンであり、Ｒ₃ は水
素又はヒドロキシであり、そしてＲ₄ は水素、シアノ、
カルボキシ、低級アルコキシカルボニル、カルボキシ−
低級アルコキシカルボニル、低級アルコキシカルボニル
−低級アルコキシカルボニル、低級アルコキシカルボニ
ル、未置換又は低級アルキル−、低級アルコキシ−、ヒ
ドロキシ−、ハロ−および／又はトリフルオロメチル−
置換フェニルオキシカルボニル、ベンゾイルオキシ−低
級アルコキシカルボニル又はフェニル−低級アルコキシ
カルボニル、カルバモイル、低級アルキルカルバモイ
ル、低級アルケニルカルバモイル、ジ−低級アルキルカ
ルバモイル、ジ−低級アルキルアミノ低級アルキルカル
バモイル、アミノ−低級アルキルアミノ−低級アルキル
カルバモイル、２−オキソイミダゾリジン−１−イル−
低級アルキルカルバモイル、アミノ−低級アルキルアミ
ノ−低級アルキレンカルバモイル、２−オキソイミダゾ
リジン−１−イル−低級アルキレンカルバモイル、オキ
サ−低級アルキレンアミノ−低級アルキルカルバモイ
ル、３〜７員シクロアルキルカルバモイル、３〜７員カ
ルボキシシクロアルキルカルバモイル、３〜７員低級ア
ルコキシカルボニルシクロアルキルカルバモイル、３〜
７員シクロアルキル−低級アルキルカルバモイル、３−
アザ−２−オキソ−シクヘプチルカルバモイル、アザリ
ジノカルボニル、２−メチルアザリジノカルボニル、
２，３−ジヒドロインドリン−１−イルカルバモイル、
ピロリジノカルボニル、ピペリジノカルボニル、モルホ
リノカルボニル、チオモルホリノカルボニル、ピペラジ
ノカルボニル、Ｎ′−低級アルキルピペラジノカルボニ
ル、未置換又は低級アルキル−低級アルコキシ−ヒドロ
キシ−、ハロ−および／又はトリフルオロメチル−置換
フェニル−低級アルキルカルバモイル、未置換又は低級
アルキル−低級アルコキシ−、ヒドロキシ−、ハロ−、
アミノ、低級−アルコキシカルボニルアミノ−、ニトロ
−、カルボキシ−、低級アルコキシカルボニル−、フェ
ニル−、フェニルオキシ−および／又はトリフルオロメ
チル−置換Ｎ−フェニルカルバモイル又はＮ−低級アル
キル−Ｎフェニルカルバモイル、ナフチルカルバモイ
ル、５，６，７，８−テトラヒドロナフチルカルバモイ
ル、Ｎ−インダニルカルバモイル、フリル−２−カルバ
モイル、チエン−２−イルカルバモイル、チアゾール−
２−イルカルバモイル、Ｎ−ベンゾチアゾール−２−イ
ルカルバモイル、フル−２−イルメチルカルバモイル、
チエン−２−イルメチルカルバモイル又はチアゾール−
２−イルメチルカルバモイル、Ｎ−（３−オキソ−２，
３−ジヒドロ−４Ｈ−１，４−ベンゾオキサジン−７−
イル）メチルカルバモイル、モノ−又はジヒドロ−低級
アルキルカルバモイル、モノ−又はジ−低級アルコキシ
アルキルカルバモイル、ポリハロ−低級アルキルカルバ
モイル、カルボキシ低級アルキルカルバモイル、低級ア
ルコキシカルボニル−低級アルキルカルバモイル、ジカ
ルボキシ−低級アルキルカルバモイル、ジ−低級アルコ
キシカルボニル−低級アルキルカルバモイル、シアノ−
低級アルキルカルバモイル、カルボキシ−低級アルケニ
ルカルバモイル又は低級アルコキシカルボニル−低級ア
ルケニルカルバモイル、Ｎ−ヒドロキシカルバモイル、
Ｎ−低級アルコキシカルバモイル、Ｎ−低級アルコキシ
−Ｎ−低級アルキルカルバモイル、Ｎ−低級アルケニル
オキシカルバモイル又は未置換又は低級アルキル−、低
級アルコキシ−、ヒドロキシ−、ハロ−および／又はト
リフルオロメチル−置換Ｎ−フェニルオキシカルバモイ
ル、Ｎ−フェニル−低級アルコキシカルボニル又はＮ−
フェニル−低級アルケニルオキシカルバモイル、ホスホ
ノ、低級アルキルホスホノ、ジ−低級アルキルホスホノ
又はトリ−低級アルキルホスホノ又は５−テトラゾリル
である）の化合物又はその塩に関する。

【００５２】本発明は、とりわけ式Ｉ（式中、Ａ₁ は直
鎖又は分枝Ｃ₁ −Ｃ₄ アルキレン、例えばメチレン、
１，１−エチレン又は２，２−プロピレン、１，１−又
は２，２−ブチリデン、又は式＞ＣＨ−Ａ₄ −Ｒ₄ （Ｉ
ａ）の基であり、Ａ₂ は直鎖又は分枝Ｃ₁ −Ｃ₇ アルキ
レン、好ましくはＣ₁ −Ｃ₄ アルキレン、例えばメチレ
ン、１，１−エチリデン、１，１−又は２，２−プロピ
リデン、１，１−又は２，２−ブチリデン、又は式＞Ｃ
Ｈ−Ａ₄ −Ｒ₄ （Ｉａ）又は＞ＣＨ（ＯＨ）−Ａ ₅ −Ｒ
₄ （Ｉｃ）であり、Ａ₃ はオキシ、チオ、スルフィニル
又はスルホニルであり、Ａ₄ は直鎖又は分枝Ｃ₁ −Ｃ₇
アルキレン、好ましくはＣ₁ −Ｃ₄ アルキレン、例えば
メチレン、１，１−エチリデン、１，１−又は２，２−
プロピリデン又は１，１−又は２，２−ブチリデンであ
り、Ａ₅ はＣ₁ −Ｃ₄ アルキレン、例えばメチレン、
１，１−エチリデン、１，１−又は２，２−プロピリデ
ン、１，１−又は２，２−ブチリデン又は直接結合であ
り、ｎは０又は１であり、Ｒ₁およびＲ₂ は各々互いに
独立に水素、アミノ、Ｎ−Ｃ₁ −Ｃ₄ アルキルアミノ、
例えばメチルアミノ、エチルアミノ、プロピルアミノ、
イソプロピルアミノ又はブチルアミノ、Ｎ−Ｃ₁ −Ｃ₇
アルカノイルアミノ、例えばホルミルアミノ、アセチル
アミノ、プロピオニルアミノ、ブチリルアミノ又はイソ
ブチリルアミノ、Ｎ，Ｎ−ジ−Ｃ₁ −Ｃ₄ アルキルアミ
ノ、例えばジメチルアミノ、ジエチルアミノ、ジプロピ
ルアミノ、ジイソプロピルアミノ又はジブチルアミノ、
Ｎ−Ｃ₁ −Ｃ₇ アルカノイル−Ｎ−Ｃ₁ −Ｃ₄ アルキル
アミノ、例えばＮ−ホルミル−Ｎ−メチル−アミノ、Ｎ
−アセチル−Ｎ−メチル−アミノ、Ｎ−アセチル−Ｎ−
エチル−アミノ、Ｎ−エチル−Ｎ−プロピオニル−アミ
ノ、Ｎ−メチル−Ｎ−プロピオニル−アミノ、Ｎ−ブチ
リル−Ｎ−メチル−アミノ、又はＮ−イソブチリル−Ｎ
−Ｎ−メチル−アミノ、ニトロ、Ｎ−Ｃ₁ −Ｃ₄ アルカ
ノイル、例えばホルミル、アセチル、プロピオニル、ブ
チリル又はイソブチリル、ピバロイル、ヒドロキシ、Ｎ
−Ｃ₁ −Ｃ₄ アルカノイルオキシ、例えばホルミルオキ
シ、アセトキシ、プロピオニルオキシ、ブチリルオキシ
又はイソブチリルオキシ、ピバロイルオキシ、Ｃ₁ −Ｃ
₄ アルコキシ、例えばメトキシ、エトキシ、プロピルオ
キシ、イソプロピルオキシ、ブチルオキシ、イソブチル
オキシ、第二ブチルオキシ、又は第三ブチルオキシ、Ｃ
₃ −Ｃ₄ アルケニルオキシ、例えばアリルオキシ又はメ
タリルオキシ、Ｃ₃ −Ｃ₄ アルキニルオキシ、例えばプ
ロパルギルオキシ、カルボキシ、Ｃ₁ −Ｃ₄ アルコキシ
カルボニル、例えばメトキシカルボニル、エトキシカル
ボニル、プロピルオキシカルボニル、イソプロピルオキ
シカルボニル、ブチルオキシカルボニル、イソブチルオ
キシカルボニル、第二ブチルオキシカルボニル又は第三
ブチルオキシカルボニル、カルバモイル、シアノ、Ｃ₁
−Ｃ₄ アルキル、例えばメチル、エチル、プロピル、イ
ソプロピル、ブチル、イソブチル第二ブチル又は第三ブ
チル、ハロゲン又はトリフルオロメチル又はハロゲンで
あり、Ｒ₃ は水素又はヒドロキシであり、そしてＲ₄ は
水素、シアノ、カルボキシ、Ｃ ₁ −Ｃ₇ アルコキシカル
ボニル、例えばメトキシカルボニル、エトキシカルボニ
ル、プロピルオキシカルボニル、イソプロピルオキシカ
ルボニル、ブチルオキシカルボニル、イソブチルオキシ
カルボニル、第二ブチルオキシカルボニル、又は第三ブ
チルオキシカルボニル、カルボキシ−Ｃ₁ −Ｃ₄ アルコ
キシカルボニル、例えばカルボキシメトキシカルボニ
ル、２−カルボキシエトキシカルボニル、３−カルボキ
シプロピルオキシカルボニル又は４〜カルボキシブチル
オキシカルボニル、Ｃ₁ −Ｃ₄ アルコキシカルボニル−
Ｃ₁ −Ｃ₄ アルコキシカルボニル、例えばメトキシカル
ボニルメトキシカルボニル、エトキシカルボニルメトキ
シカルボニル又は２−メトキシカルボニルエトキシカル
ボニル、Ｎ−Ｃ₁ −Ｃ₄ アルカノイルオキシ−Ｃ₁ −Ｃ
₄ アルコキシカルボニル、例えばアセトキシメトキシカ
ルボニル、プロピオニルオキシメトキシカルボニル、第
三ブチルオキシメトキシカルボニル又はピバロイルオキ
シメトキシカルボニル、未置換又はＣ₁ −Ｃ₄ アルキル
−、Ｃ₁ −Ｃ₄ アルコキシ−、ヒドロキシ−、ハロ−お
よび／又はトリフルオロメチル−置換フェニルオキシカ
ルボニル、ベンゾイルオキシ−Ｃ₁ −Ｃ₄アルコキシカ
ルボニル又はフェニル−Ｃ₁ −Ｃ₄ アルコキシカルボニ
ル、例えばベンジルオキシカルボニル又はベンゾイルオ
キシメトキシカルボニル、カルバモイル、Ｎ−Ｃ₁ −Ｃ
₄ カルボニル、例えばベンジルオキシカルボニル又はベ
ンゾイルオキシメトキシカルボニル、カルバモイル、Ｎ
−Ｃ₁ −Ｃ₄ アルキルカルバモイル、例えばメチルカル
バモイル、エチルカルバモイル、プロピルカルバモイ
ル、イソプロピルカルバモイル、ブチルカルバモイル、
イソブチルカルバモイル、第二ブチルカルバモイル又は
第三カルバモイル、Ｃ₂ −Ｃ₄ アルケニルカルバモイ
ル、例えばアリルカルバモイル、Ｎ，Ｎ−ジ−Ｃ₁ −Ｃ
₄ アルキルカルバモイル、例えばジメチルカルバモイ
ル、又は、第二には、ジエチルカルバモイル、ジプロピ
ルカルバモイル、ジイソプロピルカルバモイル又はジブ
チルカルバモイル、Ｃ₃ −Ｃ₇ シクロアルキルカルバモ
イル、例えばシクロプロピル−又はシクロヘキシル−カ
ルバモイル、カルボキシ−Ｃ₃ −Ｃ₇ シクロアルキルカ
ルバモイル、例えば１−カルボキシカルバモイル、Ｃ₁
−Ｃ₄ アルコシカルボニル−Ｃ₃−Ｃ₇ シクロアルキル
カルバモイル、例えば１−メトキシカルボニル−又は１
−エトキシカルボニル−シクロプロピルカルバモイル、
３〜７員Ｎ−（Ｃ₃ −Ｃ₆シクロアルキル）−Ｃ₁ −Ｃ
₄ アルキルカルバモイル、例えばＮ−（シクロプロピル
メチル）カルバモイル、Ｎ−（シクロブチルメチル）カ
ルバモイル、Ｎ−（シクロペンチルメチル）カルバモイ
ル又はＮ−（シクロヘキシルメチル）カルバモイル、３
−アザ−２−オキソ−シクロヘプチルカルバモイル、Ｎ
−（シクロペンチルメチル）カルバモイル、又はＮ−
（シクロヘキシルメチル）カルバモイル、３−アザ−２
−オキソ−シクロヘプチルカルバモイル、アザリジノカ
ルボニル、２−メチルアザリジノカルボニル、２，３−
ジヒドロインドリン−１−イルカルバモイル、プロピリ
ジノカルボニル、ピペリジノカルボニル、モルホリノカ
ルボニル、チオモルホリノカルボニル、ピペラジノカル
ボニル、Ｎ′−Ｃ₁ −Ｃ₄アルキル−、例えばＮ′−メ
チル−ピペラジノカルボニル、不飽和又はＣ₁ −Ｃ ₄ ア
ルキル−、Ｃ₁ −Ｃ₄ アルコキシ−、ヒドロキシ−、ハ
ロ−および／又はトリフルオロメチル−置換フェニル−
Ｃ₁ −Ｃ₄ アルキルカルバモイル、例えばベンジルカル
バモイル又は２−フェニルエチルカルバモイル、不飽和
又はＣ₁ −Ｃ ₄ −、Ｃ₁ −Ｃ₄ アルコキシ、ヒドロキシ
−、ハロ−、トリフルオロメチル−、アミノ、Ｃ₁ −Ｃ
₄ アルコキシカルボニルアミノ、例えばメトキシ−又は
エトキシカルボニルアミノ、ニトロ−、カルボキシ−、
Ｃ₁ −Ｃ₄ アルコキシカルボニル−、例えばメトキシ−
又はエトキシ−カルボニル−、フェニル−、フェニルオ
キシ−および／又はトリフルオロメチル−置換Ｎフェニ
ルカルバモイル、又はＮ−Ｃ₁ −Ｃ₄ アルキル−Ｎ−フ
ェニルカルバモイル、例えばＮ−メチル−Ｎ−フェニル
カルバモイル、ナフチルカルバモイル、５，６，７，８
−テトラヒドロナフチルカルバモイル、インダニルカル
バモイル、フリル−２−カルバモイル、チエン−２−イ
ルカルバモイル、チアゾール−２−イルカルバモイル、
Ｎ−ベンゾチアゾール−２−イルカルバモイル、フル−
２−イルメチルカルバモイル、チエン−２−イルメチル
カルバモイル又はチアゾール−２−イルメチルカルバモ
イル、Ｎ−（３−オキソ−２，３−ジヒドロ−４Ｈ−
１，４−ベンゾオキサジン−７−イル）メチルカルバモ
イル、Ｎ−（ヒドロキシ−Ｃ₂ −Ｃ₄ アルキル）カルバ
モイル、例えばヒドロキシメチルカルバモイル又は２−
ヒドロキシエチルカルバモイル、Ｎ，Ｎ−ジ（ヒドロキ
シ−Ｃ₂ −Ｃ₄ アルキル）カルバモイル、例えばＮ，Ｎ
−ジ（２−ヒドロキシメチル）カルバモイル、Ｃ₁ −Ｃ
₄ アルコキシ−Ｃ ₁ −Ｃ₄ アルキルカルバモイル、例え
ばメトキシメチルカルバモイル、２−メトキシエチルカ
ルバモイル又はエトキシメチルカルバモイル、ジ−Ｃ₁
−Ｃ₄ アルコキシ−Ｃ₁ −Ｃ₄ アルキルカルバモイル、
例えばジメトキシメトキシカルボニル又はジエトキシメ
トキシカルバモイル、ポリハロ−Ｃ₂ −Ｃ₄ アルキルカ
ルバモイル、例えば２，２，２−トリフルオロエチルカ
ルバモイル、カルボキシ−Ｃ ₁ −Ｃ₄ アルキルカルバモ
イル、例えばカルボキシメチルカルバモイル、２−カル
ボキシエチルカルバモイル又は１−カルボキシ−２，２
−ジメチル−プロピルカルバモイル、Ｃ₁ −Ｃ₄ アルコ
キシカルボニル−Ｃ₁ −Ｃ₄ アルキルカルバモイル、例
えばメトキシカルボニルメチルカルバモイル、エトキシ
カルボニルメチルカルバモイル、２−メトキシカルボニ
ルエチルカルバモイル又は１−メトキシカルボニル−
２，２−ジメチルプロピルカルバモイル、ジカルボキシ
−Ｃ₁ −Ｃ ₄ アルキルカルバモイル、例えばジカルボキ
シメチルカルバモイル、又はジ−Ｃ ₁ −Ｃ₄ アルコキシ
カルボニル−Ｃ₁ −Ｃ₄ アルキルカルバモイル、例えば
ジメトキシカルボニルメチルカルバモイル又はジエトキ
シカルボニルメチルカルバモイル、シアノ−Ｃ₁ −Ｃ₄
アルキルカルバモイル、特にシアノメチルカルバモイ
ル、カルボキシ−Ｃ₂ −Ｃ₄ −アルケニルカルバモイ
ル、例えばカルボキシビニルカルバモイル、３−カルボ
キシプロプ−２−エン−２−イルカルバモイル又は３−
カルボキシプロプ−２−エン−１−イルカルバモイル、
Ｃ₁ −Ｃ₄ アルコキシカルボニル−Ｃ₂ −Ｃ₄ アルケニ
ルカルバモイル、例えばメトキシカルボニルビニルカル
バモイル、エトキシカルボニルビニルカルバモイル、３
−メトキシカルボニルプロプ−２−エン−２−イルカル
バモイル、３−エトキシカルボニルプロプ−２−エン−
１−イルカルバモイル、Ｎ−ヒドロキシカルバモイル、
Ｎ−Ｃ ₁ −Ｃ₄ アルコキシカルバモイル、例えばメトキ
シカルバモイル、エトキシカルバモイル、プロピルオキ
シカルバモイル、イソプロピルオキシカルバモイル、ブ
チルオキシカルバモイル又は特に第三ブチルオキシカル
バモイル、Ｎ−Ｃ₂ −Ｃ ₄ アルケニルオキシカルバモイ
ル、例えばＮ−ビニルオキシカルバモイル、Ｎ−アリル
オキシカルバモイル、又はＮ−メタリルオキシカルバモ
イル、又は不飽和又はＣ₁ −Ｃ₄ −アルキル−、Ｃ₁ −
Ｃ₄ アルコキシ−、ヒドロキシ−、ハロ−および／又は
トリフルオロメチル−置換Ｎ−フェニルオキシカルバモ
イル、Ｎ−フェニル−Ｃ₁ −Ｃ₄ −アルコキシカルバモ
イル、例えばベンジルオキシカルバモイル又は１−フェ
ニルエトキシカルバモイル又はＮ−フェニル−Ｃ₂ −Ｃ
₄ アルケニルオキシカルバモイル、例えばＮ−フェニル
ビニルオキシカルバモイル、又はＮ−（３−フェニル−
プロプ−２−エニルオキシ）カルバモイル、ホスホノ、
例えばメチルホスホノ、エチルホスホノ、プロピルホス
ホノ、イソプロピルホスホノ、又はブチルホスホノ、ジ
−Ｃ₁ −Ｃ₄ アルキルホスホノ例えば特にジメチルホス
ホノ、ジエチルホスホノ、ジプロピルホスホノ、ジイソ
プロピルホスホノ又はジブチルホスホノ、トリ−Ｃ₁ −
Ｃ₄ アルキルホスホノ、例えば特にトリメチルホスホ
ノ、又は第二にはトリエチルホスホノ、トリプロピルホ
スホノ、トリイソプロピルホスホノ又はトリブチルホス
ホノ、又は５−テトラゾリルである）の化合物およびそ
の塩に関する。

【００５３】本発明は、とりわけ例えば式Ｉ（式中、Ａ
₁ はメチレン、又は式＞ＣＨ−Ａ₄−Ｒ₄ （Ｉａ）の基
であり、Ａ₂ は直鎖又は分枝Ｃ₁ −Ｃ₇ アルキレン、例
えばメチレン、１，１−エチリデン、１，１−又は２，
２−プロピリデン、１，１−又は２，２−ブチリデン、
又は第二には１，１−又は２，２−ペンチリデンであ
り、Ａ₃ はオキシ、チオ、スルフィニル又はスルホニル
であり、Ａ₄ は直鎖又は分枝Ｃ₁ −Ｃ₇ アルキレン、メ
チレン、１，２−エチレン、１，３−又は１，２−プロ
ピレン１，４−，１，３−又は２，３−ブチレン又は
１，５−，１，４−又は２，５−ペンチレレンであり、
ｎは０又は１であり、Ｒ₁ およびＲ₂ は各々互いに独立
に水素、アミノ、Ｎ−Ｃ₁ −Ｃ₄ アルキルアミノ、例え
ばメチルアミノ、エチルアミノ、プロピルアミノ、イソ
プロピル又イソブチルアミノ、第二ブチルアミノ、第三
ブチルアミノ又はＣ₅ −Ｃ₇ アルキルアミノ基、例えば
ペンチルアミノ、ヘキシルアミノ又はヘプチルアミノ
基、Ｎ−Ｃ₁ −Ｃ₇ アルカノイルアミノ、例えばホルミ
ルアミノ、アセチルアミノ、プロピオニルアミノ、ブチ
リルアミノ又はイソブチリルアミノ、又、Ｃ₅ −Ｃ₇ ア
ルカノイルアミノ、例えばピバロイルアミノ、Ｎ，Ｎ−
ジ−Ｃ₁ −Ｃ₇ アルキルアミノ、例えばジメチルアミ
ノ、ジエチルアミノ、ジプロピルアミノ、ジイソプロピ
ルアミノ又はジブチルアミノ、Ｎ−Ｃ₁ −Ｃ₇ アルカノ
イル−Ｎ−Ｃ₁ −Ｃ₄ アルキルアミノ、例えばＮ−ホル
ミル−Ｎ−メチル−アミノ、Ｎ−アセチル−Ｎ−メチル
−アミノ、Ｎ−アセチル−Ｎ−エチル−アミノ、Ｎ−エ
チル−Ｎ−プロピオニル−アミノ、Ｎ−メチル−Ｎ−プ
ロピオニル−アミノ、Ｎ−ブチリル−Ｎ−メチル−アミ
ノ、又はＮ−イソブチリル−Ｎ−メチル−アミノ、ヒド
ロキシ、Ｃ₁ −Ｃ₇ アルコキシ、例えばメトキシ、エト
キシ、プロピルオキシ、イソプロピルオキシ、ブチルオ
キシ、又イソブチルオキシ、第二ブチルオキシ、又は第
三ブチルオキシ、Ｃ₃ −Ｃ ₄ アルケニルオキシ、例えば
アリルオキシ又はメタリルオキシ、Ｃ₃ −Ｃ₄ アルキニ
ルオキシ、例えばプロパルギルオキシ、Ｃ₁ −Ｃ₇ アル
キル、例えばメチル、エチル、プロピル、イソプロピ
ル、ブチル、又イソブチル第二ブチル又は第三ブチル、
又はＣ₅ −Ｃ₇ アルキル基、例えばペンチル、ヘキシル
又はヘプチル基、トリフルオロメチル又はハロゲンであ
りＲ₃ は水素又はヒドロキシであり、そしてＲ₄ は水
素、カルボキシ、Ｃ₁ −Ｃ₇ アルコキシカルボニル、例
えばメトキシカルボニル、エトキシカルボニル、プロピ
ルオキシカルボニル、イソプロピルオキシカルボニル、
ブチルオキシカルボニルであるが、イソブチルオキシカ
ルボニル、第二ブチルオキシカルボニル、又はペンチル
オキシカルボニル、ヘキシルオキシカルボニル又はヘプ
チルオキシカルボニル基、未置換、又はＣ₁ −Ｃ₄ −ア
ルキル−、Ｃ₁ −Ｃ₄ アルコキシ−、ヒドロキシ−、ハ
ロ−および／又はトリフルオロメチル−置換フェニルＣ
₁ −Ｃ₄ アルコキシカルボニル、カルバモイル、テトラ
ゾリル、シアノ、Ｃ₁ −Ｃ₄ アルキルカルバモイル、未
置換又はＣ₁ −Ｃ₄ アルキル−、Ｃ₁ −Ｃ₄ アルコキシ
−、ヒドロキシ−、ハロ−、および／又はトリフルオロ
メチル−置換フェニルカルバモイル又はＮ，Ｎ−ジＣ₁
−Ｃ₇ アルキルカルバモイル、例えばジメチルカルバモ
イル、ジエチルカルバモイル、ジプロピルカルバモイ
ル、ジイソプロピルカルバモイル又はジブチルカルバモ
イルである）の化合物およびその塩に関する。

【００５４】本発明は特に式Ｉ（式中、基Ａ₁ およびＡ
₂ の一方が式＞ＣＨ−Ａ₄ −Ｒ₄ （Ｉａ）の基でありそ
して他方が直鎖又は分枝Ｃ₁ −Ｃ₄ アルキレン、例えば
メチレン、１，１，−又エリデン、１，１−又は２，２
−プロピリデン、１，１−又は２，２−ブチリデンであ
り、Ａ₃ はオキシ、チオ、スルフィニル又はスルホニル
であり、Ａ₄ は直鎖又は分枝Ｃ₁ −Ｃ₄ アルキレン、メ
チレン、１，１−エチリデン、１，１−又は２，２−プ
ロピリデン又は１，１−又は２，２−ブチリデンであ
り、ｎは０であり、Ｒ₁ およびＲ₂ は各々互いに独立に
水素、ニトロ、Ｎ−Ｃ₁ −Ｃ₄ アルカノイル、例えばホ
ルミル、アセチル、プロピオニル、ブチリル又はイソブ
チリル、ピバロイル、ヒドロキシ、Ｃ₁ −Ｃ₄ アルコキ
シ、例えばメトキシ、カルボキシ、Ｃ₁ −Ｃ₄ アルコキ
シカルボニル、例えばメトキシカルボニル又はエトキシ
カルボニル、カルバモイル、シアノ、Ｃ₁ −Ｃ₄ アルキ
ル例えばメチル又はエチル、ハロゲン、トリフルオロメ
チル又はハロゲンであり、Ｒ ₃ は水素でありそしてＲ₄
は水素、カルボキシ、Ｃ₁ −Ｃ₇ アルコキシカルボニ
ル、例えばメトキシカルボニル又はエトキシカルボニ
ル、Ｃ₁ −Ｃ₄ アルコキシカルボニル−Ｃ₁ −Ｃ₄ アル
コキシカルボニル、例えばメトキシカルボニルメトキシ
カルボニル、１−エトキシカルボニルメトキシカルボニ
ル又は２−メトキシカルボニルエトキシカルボニル、Ｎ
−Ｃ₁ −Ｃ₄ アルカノイルオキシ−Ｃ₁ −Ｃ ₄ アルコキ
シカルボニル、例えば第三ブチルオキシメトキシカルボ
ニル；フェニルオキシカルボニル、ベンゾイルオキシ−
Ｃ₁ −Ｃ₄ アルコキシカルボニル又はフェニル−Ｃ₁ −
Ｃ₄ アルコキシカルボニル、例えばベンジルオキシカル
ボニル又はベンゾイルオキシメトキシカルボニル、これ
らの各々は未置換であるか又はＣ₁ −Ｃ₄ アルキル、Ｃ
₁ −Ｃ₄ アルコキシ、ヒドロキシ、ハロゲンおよび／又
はトリフルオロメチルにより置換されている；カルバモ
イル、Ｎ−Ｃ₁ −Ｃ₄ アルキルカルバモイル、例えばメ
チルカルバモイル、ブチルカルバモイル、又は第三カル
バモイル、Ｃ₂ −Ｃ₄ アルケニルカルバモイル、例えば
アリルカルバモイル、Ｎ，Ｎ−ジ−Ｃ₁ −Ｃ₄ アルキル
カルバモイル、例えばジメチルカルバモイル、ジエチル
カルバモイル、又はジブチルカルバモイル、Ｃ₃ −Ｃ₇
シクロアルキルカルバモイル、例えばシクロプロピルカ
ルバモイル、Ｃ₁ −Ｃ₄ アルコシカルボニル−Ｃ₃ −Ｃ
₇ シクロアルキルカルバモイル、例えば１−メトキシカ
ルボニル−又は１−エトキシカルボニル−シクロプロピ
ルカルバモイル、３〜７員Ｎ−（Ｃ₃ −Ｃ₆ シクロアル
キル）−Ｃ₁ −Ｃ₄ アルキルカルバモイル、例えばＮ−
（シクロプロピルメチル）カルバモイル、３−アザ−２
−オキソ−シクロヘプチルカルバモイル、アザリジノカ
ルボニル、２−メチルアザリジノカルボニル、２，３−
ジヒドロインドリン−１−イルカルバモイル、プロピリ
ジノカルボニル、ピペリジノカルボニル、不飽和又はＣ
₁ −Ｃ₄ アルキル−、Ｃ₁ −Ｃ₄ アルコキシ−、ヒドロ
キシ−、ハロ−および／又はトリフルオロメチル−置換
フェニル−Ｃ₁ −Ｃ₄ アルキルカルバモイル、例えばベ
ンジルカルバモイル不飽和又はＣ ₁ −Ｃ₄ −、Ｃ₁ −Ｃ
₄ アルコキシ、ヒドロキシ−、ハロ−、トリフルオロメ
チル−、ニトロ−、カルボキシ−、Ｃ₁ −Ｃ₄ アルコキ
シカルボニル−、例えばメトキシ−又はエトキシカルボ
ニル−、フェニル−、フェニルオキシ−および／又はト
リフルオロメチル−置換Ｎフェニルカルバモイル、又は
Ｎ−Ｃ₁ −Ｃ₄ アルキル−Ｎ−フェニルカルバモイル、
例えばＮ−メチル−Ｎ−フェニルカルバモイル、ナフチ
ルカルバモイル、５，６，７，８−テトラヒドロナフチ
ルカルバモイル、インダニルカルバモイル、フリル−２
−カルバモイル、チエン−２−イルカルバモイル、チア
ゾール−２−イルカルバモイル、フル−２−イルメチル
カルバモイル、チエン−２−イルメチルカルバモイル又
はチアゾール−２−イルメチルカルバモイル、Ｃ₁ −Ｃ
₄ アルコキシ−Ｃ₁ −Ｃ₄ アルキルカルバモイル、例え
ばメトキシメチルカルバモイル、２−メトキシエチルカ
ルバモイル又はエトキシメチルカルバモイル、ジ−Ｃ₁
−Ｃ₄ アルコキシ−Ｃ₁ −Ｃ₄ アルキルカルバモイル、
例えばジメトキシメトキシカルボニル又はジエトキシメ
トキシカルバモイル、カルボキシ−Ｃ₁ −Ｃ₄ アルキル
カルバモイル、例えばカルボキシメチルカルバモイル、
２−カルボキシエチルカルバモイル又は１−カルボキシ
−２，２−ジメチル−プロピルカルバモイル、Ｃ₁ −Ｃ
₄ アルコキシカルボニル−Ｃ₁ −Ｃ ₄ アルキルカルバモ
イル、例えばメトキシカルボニルメチルカルバモイル、
エトキシカルボニルメチルカルバモイル、２−メトキシ
カルボニルエチルカルバモイル又は１−メトキシカルボ
ニル−２，２−ジメチルプロピルカルバモイル、ジカル
ボキシ−Ｃ₁ −Ｃ₄ アルキルカルバモイル、例えばジカ
ルボキシメチルカルバモイル、又はジ−Ｃ₁ −Ｃ₄ アル
コキシカルボニル−Ｃ₁ −Ｃ₄ アルキルカルバモイル、
例えばジメトキシカルボニルメチルカルバモイル、カル
ボキシ−Ｃ₂ −Ｃ₄ −アルケニルカルバモイル、例えば
カルボキシビニルカルバモイル、３−カルボキシプロプ
又は３−カルボキシプロプ−２−エン−１−イルカルバ
モイル、Ｃ₁ −Ｃ₄ アルコキシカルボニル−Ｃ₂ −Ｃ₄
アルケニルカルバモイル、例えば３−メトキシカルボニ
ルプロプ−２−エン−２−イルカルバモイル、３−エト
キシカルボニルプロプ−２−エン−１−イルカルバモイ
ル、３−メトキシカルボニル−２−エン−１−イルカル
バモイル又は３−エトキシカルボニルプロプ−２−エン
−１−イルカルバモイル、Ｎ−ヒドロキシカルバモイ
ル、Ｎ−Ｃ₁ −Ｃ₄ −アルコキシカルバモイル、例えば
メトキシカルバモイル、エトキシカルバモイル、プロピ
ルカルバモイル、イソプロピルカルバモイル、ブチルオ
キシカルバモイル又は特に第三ブチルオキシカルバモイ
ル、Ｎ−Ｃ₂ −Ｃ₄ アルケニルオキシカルバモイル、例
えばＮ−ビニルオキシカルバモイル、Ｎ−アリルオキシ
カルバモイル又はＮ−メタリルオキシカルバモイル、又
は未置換又はＣ₁ −Ｃ₄ アルケニル−、Ｃ₁ −Ｃ₄ アル
コキシ−、ヒドロキシ−、ハロ−および／又はトリフル
オロメチル−置換Ｎ−フェニル−Ｃ₁ −Ｃ₄ アルコキシ
カルバモイル、例えばベンジルオキシカルバモイル又は
１−フェニルエトキシカルバモイル、Ｎ−フェニル−Ｃ
₂ −Ｃ₄ アルケニルオキシカルバモイル、例えばＮ−フ
ェニルビニルオキシカルバモイル又はＮ−（３−フェニ
ルプロプ−２−エニルオキシ）カルバモイル、ホスホノ
又は５−テトラゾリルである）の化合物およびその塩に
関する。

【００５５】本発明は、特に例えば式Ｉ（式中、Ａ₁ は
メチレン又は式＞ＣＨ−Ａ₄ −Ｒ₄（Ｉａ）の基であ
り、Ａ₂ は式＞ＣＨ−Ａ₄ −Ｒ₄ （Ｉａ）の基である
か、又はＡ₁ が式＞ＣＨ−Ａ₄ −Ｒ₄ （Ｉａ）の基であ
るとき、Ａ₂ は直鎖又は分枝Ｃ₁−Ｃ₄ アルキレン、例
えばメチレン、１，１−エチリデン、１，１−又は２，
２−プロピリデン、１，１−又は２，２−ブチリデンで
あり、Ａ₃ はオキシ、チオ、スルフィニル又はスルホニ
ルであり、Ａ₄ は直鎖又は分枝Ｃ₁ −Ｃ₄ アルキレン、
例えばメチレン、１，２−エチレン、１，３−又は１，
２−プロピレン又は１，４−，１，３−又は２，３−ブ
チレンであり、ｎは０であり、Ｒ₁ およびＲ ₂ は各々互
いに独立に水素、ヒドロキシ、Ｃ₁ −Ｃ₄ アルコキシ、
例えばメトキシ、Ｃ₁ −Ｃ₄ アルキル、例えばメチル又
はエチル、トリフルオロメチル又はハロゲンであり、Ｒ
₃ は水素又はヒドロキシであり、Ｒ₄ は水素、カルボキ
シ、Ｃ ₁ −Ｃ₄ アルコキシカルボニル、例えばメトキシ
カルボニル、エトキシカルボニル、プロピルオキシカル
ボニル、イソプロピルオキシカルボニル又はブチルオキ
シカルボニル、又イソブチルオキシカルボニル、第二ブ
チルオキシカルボニル又は第三ブチルオキシカルボニ
ル、未置換又はＣ₁ −Ｃ₄ アルキル−、Ｃ₁ −Ｃ₄アル
コキシ−、ヒドロキシ−、ハロ−および／又はトリフル
オロメチル−置換フェニル−Ｃ₁ −Ｃ₄ アルコキシカル
ボニル、カルバモイル、Ｃ₁ −Ｃ₄ アルキルカルバモイ
ル、未置換又はＣ₁ −Ｃ₄ アルコキシ−、ヒドロキシ
−、ハロ−および／又はトリフルオロメチル−置換フェ
ニルカルバモイル、Ｎ，Ｎ−ジ−Ｃ₁ −Ｃ₄ アルキルカ
ルバモイル、例えばジメチルカルバモイル、ジエチルカ
ルバモイル、ジプロピルカルバモイル、ジイソプロピル
カルバモイル、又はジブチルカルバモイル又は５−テト
ラゾリルである）の化合物およびその塩に関する。

【００５６】本発明は、好ましくは式Ｉ（式中、基Ａ₁
およびＡ₂ の一方は式＞ＣＨ−Ａ₄−Ｒ₄ （Ｉａ）の基
でありそして他方はメチレンであり、Ａ₃ はチオであ
り、Ａ ₄ はメチレンであり、ｎは０であり、Ｒ₁ および
Ｒ₂ は各々互いに独立に水素、Ｃ₁ −Ｃ₄ アルキル、例
えばメチル又はエチル、トリフルオロメチル又はハロゲ
ンであり、Ｒ₃ は水素であり、そしてＲ₄ は水素、カル
ボキシ、Ｃ₁ −Ｃ₄ アルコキシカルボニル、例えばメト
キシカルボニル、エトキシカルボニル、プロピルオキシ
カルボニル、イソプロピルオキシカルボニル又はブチル
オキシカルボニル、未置換又はＣ₁ −Ｃ₄ アルキル−、
Ｃ₁ −Ｃ₄ アルコキシ−、ヒドロキシ−、ハロ−および
／又はトリフルオロメチル−置換ベンゾイルオキシ−Ｃ
₁ −Ｃ₄ アルコキシカルボニル、例えばベンゾイルオキ
シメチルオキシカルボニル、未置換又はＣ₁ −Ｃ₄ アル
キル−、Ｃ₁ −Ｃ₄ −アルコキシ−、ヒドロキシ、ハロ
−および／又はトリフルオロメチル−、ニトロ、カルボ
キシ、Ｃ₁ −Ｃ₄ アルコキシカルボニル−、例えばメト
キシ又はエトキシ−カルボニル−、および／又はトリフ
ルオロメチル−置換Ｎ−フェニルカルバモイル、ナフチ
ルカルバモイル、５，６，７，８−テトラヒドロナフチ
ルカルバモイル、フリル−２−カルバモイル、チエン−
２−イル−カルバモイル、チアゾール−２−イルカルバ
モイル、ビシクロ〔２．２．１〕ヘプチル−、ビシクロ
〔２．２．２〕オクチル−又はアダマンチルカルバモイ
ル、３−アザ−２−オキソ−シクロヘプチルカルバモイ
ル、Ｎ−Ｃ₁ −Ｃ₄ アルコキシカルバモイル、例えばメ
トキシ−カルバモイル又は第三ブチルオキシカルバモイ
ル、Ｎ−Ｃ₂ −Ｃ₄ アルケニルオキシカルバモイル、例
えばＮ−アリルオキシカルバモイル又はＮ−メタリルカ
ルバモイル、又は未置換又はＣ₁ −Ｃ₄ アルキル−、Ｃ
₁ −Ｃ₄ アルコキシ−、Ｎ−ヒドロキシ−、ハロ−およ
び／又はトリフルオロメチル−置換Ｎ−フェニル−Ｃ₁
−Ｃ₄ アルコキシカルバモイル、例えばベンジルオキシ
カルバモイル又は１−フェニルエトキシカルバモイル、
Ｎ−フェニル−Ｃ₂ −Ｃ₄ アルケニルオキシカルバモイ
ル、例えばＮ−フェニルビニルオキシカルバモイル又は
Ｎ−（３−フェニルプロプ−２−エニルオキシ）カルバ
モイル、又は５−テトラゾリルである）の化合物および
その塩に関する。

【００５７】本発明は、好ましくは、例えば式Ｉ（式
中、基Ａ₁ およびＡ₂ 一方はメチレン又は式＞ＣＨ−Ａ
₄ −Ｒ₄ （Ｉａ）の基でありそして他方はメチレンであ
り、Ａ ₃ はチオであり、ｎは０であり、Ｒ₁ およびＲ₂
は各々互いに独立に水素、Ｃ₁−Ｃ₄ アルキル、例えば
メチル又はエチル、トリフルオロメチル又はハロゲンで
あり、Ｒ₃ は水素であり、そしてＲ₄ はカルボキシ、Ｃ
₁ −Ｃ₄ アルコキシカルボニル、例えばメトキシカルボ
ニル、エトキシカルボニル、プロピルオキシカルボニ
ル、イソプロピルオキシカルボニル又はブチルオキシカ
ルボニル又は未置換又はＣ₁ −Ｃ₄ アルキル−、Ｃ₁ −
Ｃ₄ アルコキシ−、ヒドロキシ−、ハロ−および／又は
トリフルオロメチル−置換フェニルカルバモイルであ
る）の化合物およびその塩に関する。

【００５８】本発明はとりわけ式Ｉ′

【００５９】

【化４】

【００６０】（式中、Ｒ₁ およびＲ₂ は各々互いに独立
に水素、Ｃ₁ −Ｃ₄ アルキル、例えばメチル又はエチ
ル、トリフルオロメチル又はハロゲンであり、Ｒ₃ は水
素でありそしてＲ₄ は水素、カルボキシ、Ｃ₁ −Ｃ₄ ア
ルコキシカルボニル、例えばメトキシカルボニル、エト
キシカルボニル、プロピルオキシカルボニル、イソプロ
ピルオキシカルボニル又はブチルオキシカルボニル、未
置換又はＣ₁ −Ｃ₄ アルキル−、Ｃ₁ −Ｃ₄ アルコキシ
−、ヒドロキシ−、ハロ−および／又はトリフルオロメ
チル−置換ベンゾイルオキシ−Ｃ₁ −Ｃ₄ アルコキシ−
カルボニル、例えばベンゾイルオキシメチルオキシカル
ボニル、ビシクロ〔２．２．１〕ヘプチル−、ビシクロ
〔２．２．２〕オクチル−又はアダマンチル−カルバモ
イル、３−アザ−２−オキソ−シクロヘプチルカルバモ
イル、未置換又はＣ₁ −Ｃ₄ アルキル−、Ｃ₁ −Ｃ₄ ア
ルコキシ−、ハロ−および／又はトリフルオロメチル
−、ニトロ−、カルボキシ−、Ｃ₁ −Ｃ₄ アルコキシカ
ルボニル、例えばメトキシ−又はエトキシ−カルボニル
−および／又はトリフルオロメチル−置換Ｎ−フェニル
カルバモイル、ナフチルカルバモイル、５，６，７，８
−テトラヒドロナフチルカルバモイル、フリル−２−カ
ルバモイル、チエン−２−イル−カルバモイル、チアゾ
ール−２−イルカルバモイル、ビシクロ〔２．２．１〕
ヘプチル、ビシクロ〔２．２．２〕オクチル−又はアダ
マンチル−カルバモイル、３−アザ−２−オキソ−シク
ロヘプチルカルバモイル、Ｎ−Ｃ₁ −Ｃ₄ アルコキシカ
ルバモイル、例えばメトキシカルバモイル又は第三ブチ
ルオキシカルバモイル、Ｎ−Ｃ₂ −Ｃ ₄ アルケニルオキ
シカルバモイル、例えばＮ−アリルオキシカルバモイル
又はＮ−メタリルオキシカルバモイル、又は未置換又は
Ｃ₁ −Ｃ₄ アルキル−、Ｃ₁ −Ｃ₄ −アルコキシ−、ヒ
ドロキシ−、ハロ−および／又はトリフルオロメチル−
置換Ｎ−フェニル−Ｃ₁ −Ｃ₄ アルコキシカルバモイ
ル、例えばベンジルオキシカルバモイル又は１−フェニ
ルエトキシカルバモイル、Ｎ−フェニル−Ｃ₂ −Ｃ ₄ ア
ルケニルオキシカルバモイル、例えばＮ−フェニルビニ
ルオキシカルバモイル又はＮ−（３−フェニルプロプ−
２−エニルオキシ）カルバモイル、又は５−テトラゾリ
ルである）の化合物およびその塩に関する。

【００６１】本発明は特有に実施例で言及される式Ｉの
化合物および該化合物の塩、特にその医薬として許容し
得る塩に関する。式Ｉの新規化合物の製造方法は、自体
公知の方法に基づいておりそして例えば次の如く行なわ
れる： ａ）次式II：

【００６２】

【化５】

【００６３】（式中、基Ｙ₁ およびＹ₂ の一方は式−Ｃ
（＝０）−Ｙ₃ （IIａ）（式中、Ｙ ₃ は官能的に変形さ
れたカルボキシ基である）の基であり、そして他方は水
素である）の化合物又は各々の場合その塩を分子内的に
環化するか、又は ｂ）次式III ：

【００６４】

【化６】

【００６５】（式中、Ｘ₁ は式−Ａ₂ −（ＣＨ₂ ）_n −
ＣＨ（Ｙ₃ ）−Ａ₄ −Ｒ₄ （III ａ）又は−Ａ₂ −（Ｃ
Ｈ₂ ）_n −ＣＨ＝Ａ₄ ′−Ｒ₄ （III ｂ）（式中、Ｙ₃
は離核性脱離基であり、そしてＡ₄ ′は基Ａ₄ に対応す
る低級アルカニリデン基であり、Ｘ₂ は水素でありそし
てＲ₁ ，Ｒ₂ ，Ｒ₃ ，Ａ₁ ，Ａ₂ ，Ａ₃ およびＡ₄ は定
義した意味である）の化合物を分子内的に環化するか、
又は ｃ）次式IV：

【００６６】

【化７】

【００６７】（式中、Ａ₁ ′は式＞Ｃ＝Ａ₄ ′−Ｒ
₄ （III ａ）（式中、Ａ₄ ′は低級アルカニリデンであ
る）の基である）の化合物において、環外二重結合を単
結合に還元し、そして各々の場合、所望により、得られ
た化合物を式Ｉの異なる化合物に変換し、プロセスに従
って得ることのできる異性体の混合物を成分に分離し次
いで好ましい異性体を単離し、および／又はプロセスに
従って得ることのできる遊離化合物を塩に変換するか、
又はプロセスに従って得ることのできる塩を対応する遊
離化合物に変換する。

【００６８】変法ａ）に従った式IIの化合物の分子内環
化は、常法により、必要により不活性有機溶剤、例えば
アセトン、テトラヒドロフラン、ジオキサン又はジメチ
ルホルムアミド中、適当な場合水との混合物中、および
／又は塩基性縮合剤、例えば第三級脂肪族アミン、例え
ばトリエチルアミノ、又は第三級芳香族窒素塩基、例え
ばピリジン、又は金属塩基、例えばアルカリ金属水酸化
物、アルカリ金属炭酸塩又はアルカリ金属アミド、例え
ば水酸化ナトリウムもしくはカリウム、炭酸ナトリウム
もしくはカリウム又はカリウムアミドの存在下、好都合
には加熱しながら、例えば約２５°〜１２６°の温度範
囲内で、好ましくは５０°〜１００°の温度範囲内で加
熱することによって行なわれる。

【００６９】式IIの出発物質は、好ましくは同一反応系
内で製造されそして単離することなく分子内環化され
る。例えば、式II（式中、Ｙ₁ は式−Ｃ（＝０）−Ｙ₃
（IIａ）の基でありそしてＹ₂ はアミノである）の化合
物は、式IIｂ：

【００７０】

【化８】

【００７１】の化合物を、常法により、例えば第三アミ
ン、例えばトリエチルアミンの存在下、ジクロロメンン
中、反応性シュウ酸誘導体と、例えば式Ｙ₃ −Ｃ（＝
０）−Ｃ（＝０）−Ｙ₃ ′（IIｃ）（式中、Ｙ₃ および
Ｙ₃ ′は同一の又は異なる離核性脱離基でありそしてＹ
₃ は好ましくはハロゲンでありそしてＹ₃ ′は好ましく
はエーテル化ヒドロキシ、例えば低級アルコキシであ
る）の化合物と縮合させ、次式IIｄ：

【００７２】

【化９】

【００７３】の反応生成物を常法により、例えば硝酸お
よび硫酸を用いニトロ化し、次いでニトロ化の生成物を
還元することによって得られる。中間体として式IIｅ：

【００７４】

【化１０】

【００７５】の化合物が形成され、これはその形成条件
のもと同一反応系内で本発明に従って環化される。式II
ｂ（式中、Ａ₁ は式＞ＣＨ−Ａ₄ −Ｒ₄ （Ｉａ）の基で
あり、Ａ₂ およびＡ₄ はメチレンであり、Ａ₃ は好まし
くはチオであり、Ｒ₁ およびＲ₂ は定義されｈ意味であ
り、Ｒ₃ は水素であり、Ｒ₄ はエステル化カルボキシ基
でありそしてｎは０である）の中間体は、例えば次式II
ｅ：

【００７６】

【化１１】

【００７７】の化合物を常法により式Ｈａｌ−Ａ₂ −Ｃ
（＝０）−ＣＨ₂ −Ｒ₄ （IIｆ）のω−ハロアセト酢酸
エステルと縮合させることにより、又は次式IIｇ：

【００７８】

【化１２】

【００７９】の化合物において、カルボニル基を常法に
より、例えばラウェソン（Ｌａｗｅｓｓｏｎ）に従いチ
オカルボニル基に変換し、次式IIｈ：

【００８０】

【化１３】

【００８１】の反応生成物を、式Ｈａｌ−ＣＨ₂ −ＣＯ
ＯＲ（IIｉ；Ｒは低級アルキルである）のハロ酢酸エス
テルと縮合させ、次式IIｊ：

【００８２】

【化１４】

【００８３】の反応生成物をトリフェニルホスフィンで
処理し、次いで各々の場合において次式IIｋ：

【００８４】

【化１５】

【００８５】の反応生成物において、環外二重結合を常
法により、例えばナトリウムシアノホウ素水素化物と又
は立体選択性均質ロジウム触媒との反応により、単結合
に還元することにより製造される。択一的手順に従い、
式IIｅの中間体を３−ハロプロプ−２−エン酸と反応し
て対応する式IIｂの化合物を直接形成することができ
る。

【００８６】このプロセスの別の態様において、式IIｅ
の化合物は自体公知の方法で、例えばテトラヒドロフラ
ン中、（Ｓ）エピクロロヒドリンと反応して次式IIｖ：

【００８７】

【化１６】

【００８８】の化合物を生成し、次いでこれを自身公知
の方法で、例えばエタノール中水酸化カリウムで処理す
ることにより環化し次式IIｗ：

【００８９】

【化１７】

【００９０】の対応する化合物とし、次いでこのヒドロ
キシ基を公知方法に従い、基Ｒ₄ の一種により、例えば
シアノ、所望によりエステル化又はアミド化したカルボ
キシ、テトラゾリル、又は所望によりエステル化された
ホスホノにより置換される。式IIｅの化合物は一方例え
ば次式IIｈ：

【００９１】

【化１８】

【００９２】の対応する化合物を加水分解することによ
り、又は例えばチオ硫酸ナトリウムを用い次式IIｎ：

【００９３】

【化１９】

【００９４】の対応するジスルフィドに還元することに
より得られる。同様の方法で式IIｂ（式中、Ａ₁ および
Ａ₂ はメチレンでありそしてＡ₃ はチオである）の中間
体を式IIｅの化合物を水性ハロ酢酸例えばクロロ酢酸と
反応させることにより得ることが可能である。式II（式
中、Ａは基＞ＣＨ−Ａ₄ −Ｒ₄ （Ｉａ）であり、Ａ₂ は
メチレンであり、Ａ酸はオキシであり、Ａ₄ はメチレン
であり、ｎは０であり、Ｙ₁ は式−Ｃ（＝０）−Ｙ
₃ （IIａ）の基でありそしてＹ₂ はアミノである）の化
合物は、常法により式IIｏ：

【００９５】

【化２０】

【００９６】の化合物を式Ｈａｌ−ＣＨ₂ −Ｃ（＝０）
−ＣＨ₂ −Ｒ₄ （IIｐ，Ｈａｌ＝ハロゲン）のω−ハロ
アセト酢酸エステルと縮合させ次いで次式IIｑ：

【００９７】

【化２１】

【００９８】の反応生成物から、常法により、例えばテ
トラヒドロフラン中水素化ナトリウムで処理することに
より除去し、環を拡大し、次式IIｒ：

【００９９】

【化２２】

【０１００】の生成物中のニトロ基、常法により、例え
ばエタノール中ラネーニッケルにより接触水素添化によ
りアミノに還元し次いで環外二重結合を例えばナトリウ
ムシアノボロ水素化物を用いて単結合に還元し次いで式
IIｓ：

【０１０１】

【化２３】

【０１０２】の生成物を常法により、例えば第三アミ
ン、例えばトリエチルアミンの存在下、クロロホルム
中、反応性シュウサン誘導体、例えば式Ｙ₃ −Ｃ（＝
０）−Ｃ（＝０）−Ｙ₃ ′（IIｃ）（式中、Ｙ₃ および
Ｙ₃ ′は同一又は異なる求核性脱離基でありそして好ま
しくはハロゲンでありそしてＹ₃ ′は好ましくはエーテ
ル化ヒドロキシ、例えば低級アルコキシである）の化合
物と縮合させることによって好都合に製造される。式II
の対応する化合物は中間体として形成され、そして形成
の条件下同一反応系で本発明に従って環化される。

【０１０３】同様の方法で式II（式中Ａ₁ はメチレン又
は基＞Ｃ（＝０）（Ｉｂ）であり、Ａ₂ はメチレンであ
り、Ａ₃ はオキソであり、ｎは０であり、Ｙ₁ は式−Ｃ
（＝０）−Ｙ₃ （IIａ）の基でありそしてＹ₂ アミノで
ある）の化合物は、好都合には次式IIｔ：

【０１０４】

【化２４】

【０１０５】の化合物を水性ハロ酢酸、例えばクロロ酢
酸と反応させることにより調製され；次式IIｕ：

【０１０６】

【化２５】

【０１０７】の生成化合物において、常法によりニトロ
基をアミノに還元し次いで所望によりカルボニル基をメ
チレンに還元し次いで反応生成物を、反応性シュウ酸誘
導体、例えば式Ｙ₃ −Ｃ（＝０）−Ｃ（＝０）−Ｙ₃ ′
（IIｃ）（式中、Ｙ₃ およびＹ ³ は同一又は異なる求核
性脱離基でありそしてＹ₃ は好ましくはハロゲンであり
およびＹ₃ ′は好ましくはエーテル化ヒドロキシ、例え
ば低級アルコキシである）の化合物と縮合させる。式II
の対応する化合物は中間体して形成されそしてその形成
条件のもとで同一反応系で本発明に従って環化される。

【０１０８】式II（式中、Ａ₃ は酸化されたチオ、すな
わちスルフィニル又はスルホニルである）の化合物の調
製のため、前記中間体（ここでＡ₃ はチオである）の一
種におけるチオ基は常法で、好都合により、IIｂ→IIｅ
に従い各ニトロ化合物の製造の段階で酸化される。式II
（式中、Ｒ₁ およびＲ₂ は水素以外でありそしてＲ₁ は
例えばＡ₃ 基に関し３位において結合されたハロゲンで
あり、これらの置換基は、式IIｂ，IIｎ、又はIIｓの中
間体の段階で好ましく導入される。

【０１０９】変法ｂ）に係る式III の出発物質におい
て、求核性脱離基は、例えば反応性エステル化エドロキ
シ基、例えば鉱酸又はスルホン酸によりエステル化され
るヒドロキシ基、特にハロゲン原子、例えば塩素、臭素
又はヨウ素、又は脂肪族又は未置換もしくは置換スルホ
ン酸によりエステル化されたヒドロキシ、例えば低級ア
ルカンスルホニルオキシ、例えばメタンスルホニルオキ
シ、又は未置換もしくは置換ベンゼンスルホニルオキ
シ、例えばベンゼンスルホニルオキシ、ブロモベンゼン
スルホニルオキシ又はトルエンスルホニルオキシ、又第
三アミノ基、例えばジ−低級アルキルアミノ、又は低級
アルキレンアミノ（これは所望により酸素、イオン又は
窒素により中断される、例えばピロリジノ、ピペリジノ
モルホリノ又はチオモルホリノ）である。

【０１１０】官能的に変性されたカルボキシは、例えば
遊離又はエステル化もしくは無水カルボキシ基、例えば
カルボキシ、低級アルコキシカルボニル、特にメトキシ
−又はエトキシ−カルボニル、イソプロピルオキシカル
ボニル、又は第三ブチルオキシカルボニル、未置換又は
低級アルキル−、低級アルコキシ−、ハロ−および／又
はニトロ−置換フェノキシカルボニル、ハロカルボニ
ル、例えば、クロロカルボニル、又は低級アルカノイル
オキシカルボニル、特にホルミルオキシカルボニル、ア
セトキシカルボニル又はピバロイルオキシカルボニルで
ある。

【０１１１】式III の化合物の分子内環化は、常法によ
り、必要に応じ不活性有機溶剤、例えばテトラヒドロフ
ラン、ジオキサン又はジメチルホルムアミド中、および
／又は塩基性縮合剤、例えば第三脂肪族アミン、例えば
トリエチルアミン、又は第三芳香族窒素塩基例えばピリ
ジン、又は金属塩基、例えば水酸化アルカリ金属、アル
カリ金属炭酸塩又はアルカリ金属アミド、例えば水酸化
ナトリウム又はカリウム、炭酸ナトリウム又はカリウム
又はナトリウムもしくはカリウムアミドの存在下、好都
合には加熱により例えば約２０°〜１２０°の温度範囲
内で、好ましくは５０°〜１００°への温度範囲で加熱
することにより行なわれる。

【０１１２】式III の出発物質は、自体公知の方法で製
造できる。例えば式III （式中、ｎは０であり、Ａ₂ は
低級アルキリデンでありそしてＡ ₃ はオキソ又はチオで
ある）の化合物は、次式III ａ：

【０１１３】

【化２６】

【０１１４】（式中、Ｈａｌはハロゲン原子、例えば塩
素又は臭素原子である）の化合物をカルボン酸の反応性
誘導体、例えば式Ｈａｌ−Ｃ（＝０）−ＣＯＯＲ（III
ｂ；Ｒは未置換又置換フェニルである）のハロギ酸低級
アルキルエステルと縮合させ、次式III ｃ：

【０１１５】

【化２７】

【０１１６】の反応生成物をＨａｌおよびアミノ基に関
しｏ−位で常法により、例えば硝酸ナトリウムおよび硫
酸を用いニトロ化し、次式III ｄ：

【０１１７】

【化２８】

【０１１８】の反応生成物を式Ｈ−Ａ₃ −Ａ₂ −（ＣＨ
₂ ）_n −Ｃ（Ｈ）＝Ａ₄ ′−Ｒ₄ の化合物と縮合させ次
いで次式III ｅ：

【０１１９】

【化２９】

【０１２０】の生成化合物においてニトロ基を常法によ
り、例えば塩化スズ（II）を用いてアミノに還元するこ
とにより得られ；反応生成物は対応する式III のキノキ
サリンジオンのその形成条件下自発的に環化する。変法
ｃ）に従い式IVの化合物における環外二重結合の還元
は、常法により例えば二−軽金属水素化物例えばナトリ
ウムシアノホウ素水素化との反応により、又は接触水素
添加により、例えばラネーニッケルの存在下により行な
われる。

【０１２１】式IVの出発物質は、例えば次式IIｅ：

【０１２２】

【化３０】

【０１２３】の化合物を式Ｈａｌ−Ａ₂ −Ｃ（＝０）−
ＣＨ₂ −Ｒ₄ （IIｆ）のω−ハロアセト酢酸エステルと
常法で縮合させ、次式IVａ：

【０１２４】

【化３１】

【０１２５】の反応生成物を常法により例えば第三アミ
ン例えばトリエチルアミンの存在下、ジクロロメタン中
反応性シュウ酸誘導体、例えばＹ₃ −Ｃ（＝０）−Ｃ
（＝０）−Ｙ₃ ′（式中、Ｙ₃ およびＹ₃ ′は同一であ
るか又は異なる求核性脱離基でありそしてＹ₃ は好まし
くはハロゲンでありそしてＹ₃ ′は好ましくはエーテル
化ヒドロキシ、例えば低級アルコキシである）の化合物
と縮合させ、式IVｂの化合物を常法で、例えば硝酸およ
び硫酸でニトロ化し次いでニトロ化生成物を還元するこ
とによって得られる。次式IVｃ：

【０１２６】

【化３２】

【０１２７】の化合物は中間体として形成されそして式
IV（式中、ｎは０でありそしてＡ₄ ′はメチンである）
の対応する化合物を形成するためその形成の条件下同一
反応系内で環化される。式IIｅの化合物は一方、次式II
ｈ：

【０１２８】

【化３３】

【０１２９】の対応する化合物を加水分解することによ
り又は次式IIｉ：

【０１３０】

【化３４】

【０１３１】の対応するジスルフィドを例えばチオ硫酸
ナトリウムで還元することにより得られる。式IV（式
中、Ａ₃ はオキシであり、Ａ₂ はメチレンであり、
Ａ₄ ′はメチンでありそしてｎは０である）の化合物の
製造のため、次式IIｊ：

【０１３２】

【化３５】

【０１３３】の化合物を式Ｈａｌ−ＣＨ₂ −Ｃ（＝０）
−ＣＨ₂ −Ｒ₄ （IIｋ，Ｈａｌ＝ハロゲン）のω−ハロ
アセト酢酸エステルと縮合させること、次式IIｋ：

【０１３４】

【化３６】

【０１３５】の反応生成物から常法により、例えばテト
ラヒドロフラン中水素化ナトリウムで処理することによ
り基Ｈａｌを除去すること、環を拡大しながら、次式II
ｍ：

【０１３６】

【化３７】

【０１３７】の生成化合物中のニトロ基を常法により例
えばエタノール中ラネーニッケルを用いた接触水素化に
よりアミノに還元すること、次いで反応生成物を常法に
より、例えば第三アミン、例えばトリエチルアミンの存
在下、ジクロロメタン中、反応性シュウ酸誘導体、例え
ば式Ｙ₃ −Ｃ（＝０）−Ｃ（＝０）−Ｙ₃ ′（IIｃ）
（式中、Ｙ₃ およびＹ₃ ′は同一又は異なる求核性脱離
基でありそしてＹ₃ は好ましくはハロゲンでありそして
Ｙ₃ ′は好ましくはエーテル化ヒドロキシ、例えば低級
アルコキシである）の化合物と縮合させることが可能で
あり、同様に中間体として式IVｃの化合物が形成されこ
れは式IV（式中ｎは０でありそしてＡ₄ ′はメチンであ
る）の対応する化合物を形成するためのその形成条件下
同一反応系内で環化する。

【０１３８】式IV（式中、Ａ₃ はオキシ又は特にチオで
ありＡ₄ ′はメチンでありそしてｎは０である）の化合
物の調製のため、次式IIｇ：

【０１３９】

【化３８】

【０１４０】の化合物中のカルボニル基を、常法によ
り、例えばラウェソン（Ｌａｗｅｓｓｏｎ）に従いチオ
カルボニルに変換すること、次式IIｈ：

【０１４１】

【化３９】

【０１４２】の反応生成物を式Ｈａｌ−ＣＨ₂ −ＣＯＯ
Ｒ（IIｉ；Ｒは低級アルキルである）のハロ酢酸エステ
ルで処理することおよび次式IIｊ：

【０１４３】

【化４０】

【０１４４】の反応生成物をトリフェニルホスフィンで
処理することも可能である。プロセスに従って得ること
のできる化合物は、常法により式Ｉの異なる化合物に変
換できる。例えば式Ｉ（式中、Ｒ₄ はカルボキシであ
る）の化合物は式Ｉ（式中、Ｒ₄ はエステル化カルボキ
シである）の対応する化合物にエステル化できる。同様
に、式Ｉ（式中、Ｒ₄ は遊離又はエステル化カルボキシ
である）の化合物は、式Ｉ（式中、Ｒ₄ はアミド化カル
ボキシである）の対応する化合物を形成するためアミド
化され得る。逆に式Ｉ（式中、Ｒ₄ はシアノ又はエステ
ル化もしくはアミド化カルボキシである）の化合物は加
水分解され式Ｉ（式中、Ｒ₄ および所望によりＲ_f はカ
ルボキシである）の対応する化合物を形成する。

【０１４５】更に式Ｉ（式中、Ａ₃ はチオである）の得
ることのできる化合物において、チオ基は常法により、
例えば適当なペルオキシ化合物、例えばｍ−クロロ過安
息香酸又はモノ過フタル酸との反応によりスルフィニル
又はスルホニルに酸化できる。更に式Ｉ（式中、Ｒ₁ お
よび／又はＲ₂ である）の化合物において、水素原子は
水素以外である基Ｒ₁ および／又はＲ₂ によって置換で
きる。

【０１４６】例えば、低級アルカノイルは常法により、
例えば反応性低級アルカン酸誘導体、例えば低級アルカ
ン酸クロリド又は低級アルカン酸ニトリルとの反応によ
り、三塩化アルミニウムの存在下、および低級アルカン
酸ニトリルとの反応の場合、必要により三塩化ホウ素の
存在下、好ましくはハロゲン化炭化水素中、必要により
沸点で導入できる。

【０１４７】生成塩は、自体公知の方法により、例えば
塩基例えばアルカリ金属水酸化物、金属炭酸塩又は金属
水素炭酸塩、又は当初に述べた他の塩形成塩基を用い、
又は酸、例えば鉱酸例えば塩酸又は当初述べた他の塩形
成酸を用いて処理することにより遊離化合物に変換でき
る。生成塩は自体公知の方法で異なる塩に変換でき；例
えば酸付加塩は、形成される無機塩が不溶性であり従っ
て反応の平衡から排除される適当な溶媒中、異なる酸の
適当な金属塩、例えばナトリウム、バリウム又は銀塩を
用いて処理することにより、そして塩基性塩は遊離酸へ
の遊離化および再たび塩に変換することにより別種の塩
に変換できる。

【０１４８】それらの塩を含む式Ｉの化合物は又、それ
らの水和物の形態で得ることができあるいは結晶化に対
し使用される他の溶剤を含有することもできる。本発明
において遊離形態およびその塩の形態にある新規化合物
との間に密接な関係がある事を考慮すれば、遊離化合物
又はその塩は、同様に更に好都合には対応する塩又は遊
離化合物をも意味するものと理解されるべきである。

【０１４９】得られたラセミの混合物およびジアステレ
オ異性体の混合物は、成分間の物理化学的相違を基礎に
して、例えばクロマトグラフィーおよび／又は分別結晶
により公知の方法で純粋なジアステレオ異性体もしくは
ラセミ体に分離することができる。得られたラセミ体は
更に公知の方法により、例えば光学的に活性な溶剤から
再結晶法により、適当な微生物により、生成したジアス
テレオ異性体混合物又はラセミ体と、例えば式Ｉ中に存
在する酸性、塩基性又は官能的変性し得る基に応じ、光
学的に活性な補助化合物との反応により、ジアステレオ
異性体塩又は官能性誘導体例えばエステルの混合物を形
成するため光学活性酸、塩基又は光学活性アルコールと
反応することにより光学対掌体に分離できそしてそれを
ジアステレオ異性体に分離しその異性体から所望のエナ
ンチオマーが適当な常法で遊離化される。その同位に適
当な塩基、酸およびアルコールは、例えば光学活性アル
カロイド塩基、例えばストリキニン、シンコニン又はブ
ルシン又はＤ−もしくはＬ−（１−フェニル）エチルア
ミン、３−ピペコリン、エフェドリン、アンフェタミン
および同様に合成可能な塩基、光学的に活性なカルボン
酸又はスルホン酸、例えばキナ酸又はＤ−もしくはＬ−
酒石酸、Ｄ−もしくはＬ−ジ−ｏ−トルイル酒石酸、Ｄ
−又はＬ−リンゴ酸、Ｄ−又はＬ−マンデル酸又はＤ−
又はＬ−カンファースルホン酸および光学活性アルコー
ル、ボルネオール又はＤ−又はＬ−（１−フェニル）エ
タノールである。

【０１５０】本発明は又、本発明プロセスのこれらの態
様にも関するものであり、この方法によれば、プロセス
の任意の工程で中間体として得ることのできる化合物が
出発物質として用いられ更に残りの工程が行なわれるか
又は出発物質が塩の形で用いられるか又は特に反応条件
下で形成される。本発明は、本発明に係る化合物の製造
のため特に開発された新規出発物質、特に当初において
好ましいものとして式Ｉの化合物を生成する一群の出発
物質、これらの製法および中間体としてのそれらの使用
に関する。

【０１５１】本発明は本発明に係る化合物又はその医薬
として許容し得る塩を有効成分として含んでなる医薬組
成物およびその製法に関する。本発明に係る化合物又は
その医薬として許容され得る塩を含有する医薬製剤は、
温血動物に対する経腸、例えば経口、更に直腸並びに非
経口投与用の製剤であり、組成物は薬理的活性な成分単
独で、あるいは又医薬的に許容し得る担体物質と共に含
有する。有効成分の日用量は、年齢および各々の条件並
びに投与方法に依存する。

【０１５２】新規医薬製剤は、例えば約１０％〜約８０
％、好ましくは約２０％〜約６０％の有効成分を含有す
る。経腸もしくは非経口投与用の本発明に係る医薬製剤
は、例えば日用量の形態にあり、例えば糖被錠剤、錠
剤、カプセル剤もしくは坐剤更にアンプル剤である。こ
れらの製剤は、自体公知の方法により、例えば通常混
合、造粒、糖被、溶解もしくは凍結乾燥方法により製造
できる。例えば、経口用の医薬製剤は、有効成分と固体
担体を一緒にすることにより、所望により得られた混合
物を造粒することにより次いで所望によりもしくは必要
により、錠剤又は糖被錠剤をコアを得るため適当な補助
剤を添加した後に混合剤又は顆粒を加工することによっ
て製造される。

【０１５３】適当な担体は、特に充てん剤、例えばラク
トース、スクロース、マニトールもしくはソルビトー
ル、セルロース製品および／又はリン酸カルシウム、例
えばリン酸三カルシウムもしくはリン酸水素カルシウ
ム、更に結合剤、例えばとうもろこし、小麦、米を用い
たデンプンペーストもしくはポテトペースト、ゼラチ
ン、トラガカント、メチルセルロースおよび／又はポリ
ビニルピロリドン、所望により、崩壊剤、例えば上述の
デンプン、更にカルボキシメチルデンプン、架橋ポリビ
ニルピロリドン、寒天、アルギン酸もしくはその塩、例
えばアルギン酸ナトリウムである。補助剤は、特に流動
化剤、流動調整剤および滑沢剤、例えばケイ酸、タル
ク、ステアリン酸、もしくはその塩、例えばステアリン
酸マグネシウムもしくはカルボキシおよび／又はポリエ
チレングリコールである。糖被錠剤コアには、特に所望
によりアラビアゴム、タルク、ポリビニルピロリドン、
ポリエチレングリコールおよび／又は酸化チタンを含有
する濃厚糖液、適当な有機溶剤もしくは溶剤混合物のラ
ッカー溶液を用いて適当な腸溶皮が設けられ、あるいは
又適当な有機溶剤又は溶剤混合物中のコーティング溶液
が用いられ、又は腸溶皮の製造に対し、適当なセルロー
ス製品例えばアセチルセルロースフタレート又はヒドロ
キシプロピルメチルセルロースフタレートの溶液が用い
られる。例えば異なる用量の有効成分を同一視もしくは
示すための着色剤もしくは顔料が、更に錠剤もしくは糖
皮、錠剤コーチングに添加される。

【０１５４】他の経口投与医薬製剤は、硬ゼラチンカプ
セル剤であり、更に又ゼチチンおよび可塑剤、例えばグ
リセロールもしくはソルビトールから造られる軟密閉カ
プセルである。硬カプセル剤は、顆粒の形態で、例えば
充てん剤、例えばラクトース、結合剤、例えばデンプン
および／又は潤滑剤例えばタルク又はステアリン酸マグ
ネシウムおよび所望により安定化剤との混合物中に有効
成分を含有しうる。軟カプセル剤中に、有効成分は好ま
しくは適当な液体、例えば脂肪油、パラフィン油もしく
は液体ポリエチレングリコール中に懸濁もしくは溶解さ
れ、又安定剤を加えることもできる。

【０１５５】可能な直腸医薬製剤は、例えば坐剤であ
り、これは有効成分と坐剤基材との結合わせからなる。
適当な坐剤基材は、例えば中性もしくは合成トリグリセ
リド、パラフィン炭化水素、ポリエチレングリコールも
しくは高級アルカノールである。更に有効成分と基材物
質の組合せを含有するゼラチン直腸カプセル剤も使用で
きる。適当な、基材物質は、例えば液体トリグリセリ
ド、ポリエチレングリコール又はパラフィン系炭化水素
である。

【０１５６】非経口投与用の適当な製剤は、第一に水溶
性の形態、例えば水溶性塩中に有効成分を溶解した水性
溶液であり、更に又は適当な親油性溶剤もしくはビヒク
ル、例えば脂肪油、例えばゴマ油、又は合成脂肪酸エス
テル、例えばオレイン酸エチルもしくはトリグリセリ
ド、又は粘度増加物質、例えばカルボキシメチルセルロ
ースナトリウム、ソルビトールおよび／又はデキストラ
ンおよび所望により安定剤を含有する水性注入懸濁液を
用いた例えば適当な油性注入懸濁液の如き有効成分の懸
濁液である。

【０１５７】有効成分の用量は、温血動物の種、年齢、
および個々の条件および投与方法に依存する。通常の場
合、適当な日用量は、約７５kgの患者に対する経口投与
の場合、約１０mg〜約５００mgと推定される。以下の実
施例は更に本発明を説明する；温度は、摂氏で示され
る。圧力はミリバール（mbar）で示される。本発明に係
る４，５−ジオキソ−２，３，５，６−テトラヒドロ−
４Ｈ−１−ｘ−３ａ，ｂ−ジアザフェナレンの環原子は
次式：

【０１５８】

【化４１】

【０１５９】に従って番号付けされる。

【０１６０】

【実施例】

例１：３，３−ジヒドロ−６Ｈ−１−オキサ−３ａ，６
−ジアザ−フェナレン−４，５−ジオン １．０３ｇ（６．８６mmol）の３，４−ジヒドロ−２Ｈ
−ベンゾ〔１，４〕オキサジン−５−イルアミンを２３
ml（１６７．７mmol）のシュウ酸ジエチルに溶解し次い
で溶液を回転蒸発器を８０°でかつ２０mbarで２２時間
回転させた。生成懸濁液を濾過し次いで残留物をエーテ
ルで洗いそして減圧下６０°で乾燥した。１．０５ｇ
（５．１４mmol＝７５％）の表題化合物を褐色結晶を得
た；２００°および０．１３mbarで昇華後ｍ．ｐ．２８
８°¹ Ｈ−ＮＭＲ（Ｄ₆ −ＤＭＳＯ，３００ＭＨｚ）：４．
０３（ｔ，Ｊ＝４．８Ｈｚ，２Ｈ，Ｈ₂ Ｃ−Ｎ）；４．
３２（ｔ，Ｊ＝５．０Ｈｚ，２Ｈ，Ｈ₂ Ｃ−Ｏ）；４．
０３（ｔ，Ｊ＝４．８Ｈｚ，２Ｈ，Ｈ₂ Ｃ−Ｎ）；６．
６９−６．７７（ｍ，２Ｈ，Ｈ（ａｒｏｍ．）Ｃ（４，
６））；７．００−７．０５（ｍ，１Ｈ，Ｈ（ａｒｏ
ｍ．）Ｃ（５））；１２．０２（ｓｂｒ，１Ｈ，Ｈ
Ｎ）；¹³Ｃ−ＮＭＲ（Ｄ₆ −ＤＭＳＯ，７４ＭＨｚ）：
４０．３５（Ｈ₂ Ｃ−Ｎ）；６３．６１（Ｈ₂ Ｃ−
Ｏ）；１０８．０８（ＨＣ）；１１０．６６（ＨＣ）；
１１４．０６（Ｃ）；１２３．９７（ＨＣ）；１２６．
６２（Ｃ）；１４３．８８（Ｃ（１））；１５３．２９
（Ｃ＝Ｏ）；１５４．２２（Ｃ＝Ｏ）。例２ ：例１で記載した方法および記載と同様の方法で式
Ｉの次の化合物を製造することが可能である：８−クロロ−４，５−ジオキソ−２，３，５，６−テト
ラヒドロ−４Ｈ−１−チア−３ａ，６−ジアザ−フェナ
レン−３−イル酢酸エチルエステル；８−クロロ−４，
５−ジオキソ−２，３，５，６−テトラヒドロ−４Ｈ−
１−チア−３ａ，６−ジアザ−フェナレン−３−イル酢
酸；８−クロロ−４，５−ジオキソ−２，３，５，６−
テトラヒドロ−４Ｈ−１−チア−３ａ，６−ジアザ−フ
ェナレン−３−イル−（Ｎ−フェニル）−アセトアミ
ド；８−クロロ−６Ｈ−１−チア−３ａ，６−ジアザ−
フェナレン−３，４，５−トリオン；８−クロロ−１，
４，５−トリオキソ−２，３，５，６−テトラヒドロ−
１Ｈ，４Ｈ−１−チア−３ａ，６−ジアザ−フェナレン
−３−イル酢酸エチルエステル；８−ブロモ−１，４，
５−トリオキソ−２，３，５，６−テトラヒドロ−１
Ｈ，４Ｈ−１−チア−３ａ，６−ジアザ−フェナレン−
３−イル酢酸エチルエステル；８−クロロ−１，４，５
−トリオキソ−２，３，５，６−テトラヒドロ−１Ｈ，
４Ｈ−１−チア−３ａ，６−ジアザ−フェナレン−３−
イル酢酸；８−ブロモ−１，４，５−トリオキソ−２，
３，５，６−テトラヒドロ−１Ｈ，４Ｈ−１−チア−３
ａ，６−ジアザ−フェナレン−３−イル酢酸；８−クロ
ロ−１，４，５−トリオキソ−２，３，５，６−テトラ
ヒドロ−１Ｈ，４Ｈ−１−チア−３ａ，６−ジアザ−フ
ェナレン−３−イル−（Ｎ−フェニル）−アセトアミ
ド；８−ブロモ−１，４，５−トリオキソ−２，３，
５，６−テトラヒドロ−１Ｈ，４Ｈ−１−チア−３ａ，
６−ジアザ−フェナレン−３−イル−（Ｎ−フェニル）
−アセトアミド；４，５−ジオキソ−２，３，５，６−
テトラヒドロ−４Ｈ−１−オキサ−３ａ，６−ジアザ−
フェナレン−３−イル酢酸エチルエステル；４，５−ジ
オキソ−２，３，５，６−テトラヒドロ−４Ｈ−１−オ
キサ−３ａ，６−ジアザ−フェナレン−３−イル酢酸；
４，５−ジオキソ−２，３，５，６−テトラヒドロ−４
Ｈ−１−オキサ−３ａ，６−ジアザ−フェナレン−３−
イル−（Ｎ−フェニル）アセトアミド；８−ブロモ−
４，５−ジオキソ−２，３，５，６−テトラヒドロ−４
Ｈ−１−オキサ−３ａ，６−ジアザ−フェナレン−３−
イル酢酸エチルエステル；８−ブロモ−４，５−ジオキ
ソ−２，３，５，６−テトラヒドロ−４Ｈ−１−オキサ
−３ａ，６−ジアザ−フェナレン−３−イル酢酸 および
８−ブロモ−４，５−ジオキソ−２，３，５，６−テト
ラヒドロ−４Ｈ−１−オキサ−３ａ，６−ジアザ−フェ
ナレン−３−イル−（Ｎ−フェニル）−アセトアミド。 例３：例１で記載された方法および例１を記載したと同
様の方法で式Ｉの次の化合物を製造できる：８−ブロモ−４，５−ジオキソ−２，３，５，６−テト
ラヒドロ−４Ｈ−１−チア−３ａ，６−ジアザ−フェナ
レン−２−イル酢酸エチルエステル；８−ブロモ−４，
５−ジオキソ−２，３，５，６−テトラヒドロ−４Ｈ−
１−チア−３ａ，６−ジアザ−フェナレン−２−イル酢
酸；８−ブロモ−４，５−ジオキソ−２，３，５，６−
テトラヒドロ−４Ｈ−１−チア−３ａ，６−ジアザ−フ
ェナレン−２−イル酢酸Ｎ−フェニルアミド；８−ブロ
モ−４，５−ジオキソ−２，３，５，６−テトラヒドロ
−４Ｈ−１−チア−３ａ，６−ジアザ−フェナレン−２
−イルアセトアミド；８−ブロモ−４，５−ジオキソ−
２，３，５，６−テトラヒドロ−４Ｈ−１−チア−３
ａ，６−ジアザ−フェナレン−２−イルアセトニトリ
ル；８−ブロモ−２（１Ｈ−テトラゾール−５−イルメ
チル）−２，３−ジヒドロ−６Ｈ−１−チア−３ａ，６
−ジアザ−フェナレン−４，５−ジオン。 例４ ：８−ブロモ−４，５−ジオキソ−２，３，５，６
−テトラヒドロ−４Ｈ−１−チア−３ａ，６−ジアザ−
フェナレン−３−イル−酢酸エチルエステル：１２mlの
濃硫酸に溶解した４．５８ｇ（１１mmol）の７−ブロモ
−３，４−ジヒドロ−２Ｈ−ベンゾ〔１，４〕チアジン
−３−イル−酢酸エチルエステルを１２mlの発煙硝酸を
用い−１０°でニトロ化する。混合物を０°で一夜撹拌
し反応を完結し、氷水中に注ぎそして酢酸エチルで３回
抽出し、次いで有機相を水、飽和炭酸水素ナトリウム溶
液および飽和塩化ナトリウム溶液で洗い次いで硫酸マグ
ネシウムで乾燥し、そして溶剤を除去する。粗製のニト
ロ化中間体を５０mlのアセトンに溶解し次いで約１０％
塩酸中の１５％ ＴｉＣｌ₃ １４０ml，７５mlの水お
よび１１０mlのアセトンの混合物中に０°でゆっくり滴
下し次いで混合物を０°で１８時間撹拌する。生成白色
沈殿物を濾別し、大量の水で中性になるまで洗いそして
６０°で高真空下で乾燥する。２．５１ｇ（６．５２mm
ol）（＝５９％）の８ブロモ−４，５−ジオキソ−２，
３，５，６−テトラヒドロ−４Ｈ−１−チア−３ａ，６
−ジアザ−フェナレン−３−イル酢酸エチルエステルを
ベージュ色粉末の形で得る。 ¹Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣ
ｌ₃ ，３００ＭＨｚ）：１．２５（ｔ，３Ｈ）；２．６
９（ｄｄ，１Ｈ）；２．９９（ｄｄ，１Ｈ）；３．２６
（ｄｄ，１Ｈ）；３．３８（ｄｄ，１Ｈ）；４．１１
（ｑ，２Ｈ）；５．７０（ｍ，１Ｈ）；７．１１（ｄ，
１Ｈ）；７．２２（ｄ，１Ｈ）；１１．７８（ｓｂｒ，
１Ｈ）；¹³Ｃ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃ ，７５ＭＨｚ，ＡＰ
Ｔ）：１５．２（ＣＨ ₃ ）；２８．７（ＣＨ₂ ）；３
６．６（ＣＨ₂ ）；４８．１（Ｃ）；６２．２（Ｃ
Ｈ₂ ）；１１７．８（Ｃ）；１１７．９（ＣＨ）；１２
１．２（Ｃ）；１２４．０（Ｃ）；１２６．５（Ｃ
Ｈ）；１２７．９（Ｃ）；１５５．０（ＮＣ＝Ｏ）；１
５５．６（ＮＣ＝Ｏ）；１７１．０（Ｃ＝Ｏ）；ＦＤ−
ＭＳ：２８４，２８６（Ｍ⁺ ）；分析：Ｃ４３．９８％
（４３．６５）；Ｈ３．７２％（３．４０）；Ｎ７．１
３％（７．２７）；ＴＬＣ：（ジクロロメタン／メタノ
ール＝９：１）Ｒ_f ＝０．５３。

【０１６１】出発物質の製造を以下に記載する： ａ）３，４−ジヒドロ−２Ｈ−ベンゾ〔１，４〕チアジ
ン−３−イル−酢酸エチルエステル ８ｇ（３４mmol）の（４Ｈ−ベンゾ〔１，４〕チアジン
−３−イリデン）−酢酸エチルエステルを５０mlのエタ
ノールに溶解し、次いで０．５mlの０．１％エタノール
性ブロモクレゾールグリーン溶液および０．５mlの５Ｎ
ＨＣｌ／エタノールを加える。２．１４ｇ（３４mmo
l）のナトリウムシアノホウ素水素化物を室温で４回に
分けて加え次いで反応混合物をＨＣｌ／エタノールを滴
下して酸性に保つ。反応を完結するため室温で２時間撹
拌後、溶剤を回転蒸発器で除去し次いで残留物を酢酸エ
チルに吸収させ水および飽和塩化ナトリウムで洗う。有
機相を硫酸マグネシウムで乾燥し、濃縮しそしてシリカ
ゲルによるカラムで精製する（溶離液：石油エーテル／
酢酸エチル＝８：２）。６．１ｇ（２５．６mmol（＝７
５％）の（３，４−ジヒドロ−２Ｈ−ベンゾ−〔１，
４〕チアジン−３−イル）−酢酸エチルエステルを黄色
オイルの形で得る； ¹Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃ ，２００
ＭＨｚ）：１．２８（ｔ，３Ｈ）；２．５１−２．８９
（ｍ，３Ｈ）；３．０５（ｄｄ，１Ｈ）；４．０７
（ｍ，１Ｈ）；４．１７（ｑ，２Ｈ）；４．６０（ｓｂ
ｒ，１Ｈ，ＮＨ）；６．４８（ｄｄ，１Ｈ）；６．６２
（ｍ，１Ｈ）；６．８５−７．０２（ｍ，２Ｈ）；¹³Ｃ
−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃ ，５０ＭＨｚ）：１５．３；３
１．４；４１．６；４８．４；６１．８；１１６．７
（２ｘ）；１１９．１；１２６．９；１２８．６；１４
２．１；１７２．８；ＦＤ−ＭＳ：２３７（Ｍ⁺ ）；Ｔ
ＬＣ：（石油エーテル／酢酸エチル＝９：１）Ｒ_f ＝
０．２４。 ｂ）７−ブロモ−３，４−ジヒドロ−２Ｈ−ベンゾ
〔１，４〕チアジン−３−イル−酢酸エチルエステル ４５mlのジメチルホルムアミドに溶解した３．７ｇ（２
０．６mmol）のＮ−ブロモスクシンの溶液を、４５mlの
ジメチルホルムアミドに溶解した４．９ｇ（２０．６mm
ol）の（３，４−ジヒドロ−２Ｈ−ベンゾ〔１，４〕チ
アジン−３−イル）−酢酸エチルエステルに０°で滴下
し次いで混合物を室温で１８時間撹拌し、次いで５０°
で高真空下溶剤を除去する得られたオイルをジクロロメ
タンに吸収させ、水および飽和塩化ナトリウムで洗い、
次いで有機相を硫酸マグネシウムで乾燥し、濃縮しそし
てシリカゲルでクロマトグラフィー処理する（石油エー
テル／酢酸エチル＝９：１）。６．３ｇ（９７％）の７
−ブロモ−３，４−ジヒドロ−２Ｈ−ベンゾ〔１，４〕
チアジン−３−イル−酢酸エチルエステルを黄色オイル
の形で得る； ¹Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃ ，３００ＭＨ
ｚ）：１．２８（ｔ，３Ｈ）；２．５４−２．８４
（ｍ，３Ｈ）；３．００（ｄｄ，１Ｈ）；４．０６
（ｍ，１Ｈ）；４．１８（ｑ，２Ｈ）；４．６８（ｓｂ
ｒ，１Ｈ，ＮＨ）；６．３６（ｄ，１Ｈ）；６．９７
（ｄｄ，１Ｈ）；７．１１（ｄ，１Ｈ）；¹³Ｃ−ＮＭＲ
（ＣＤＣｌ₃ ，７５ＭＨｚ）：１５．２；３１．１；４
１．５；４８．３；６１．９；１１０．３；１１７．
９；１１８．４；１２９．６；１３０．６；１４１．
１；１７２．７；ＦＤ−ＭＳ：３１５，３１７
（Ｍ⁺ ）；ＴＬＣ：（石油エーテル／酢酸エチル＝９：
１）Ｒ_f ＝０．０９。 ｃ）２−（７−ブロモ−３−エトキシカルボニルメチル
−２，３−ジヒドロ−ベンゾ〔１，４〕チアジン−４−
イル）−２−オキソ−酢酸エチルエステル ２．８ml（２５．２７mmol）の塩化シュウ酸モノエチル
エステルをアルゴン下、６．６６ｇ（２１．０６mmol）
の（７−ブロモ−３，４−ジヒドロ−２Ｈ−ベンゾ
〔１，４〕チアジン−３−イル−酢酸エチルエステルお
よび５mlのジクロロメタンに溶解した５．９ml（４２．
１２mmol）に０°で加え次いで混合物を室温で２時間撹
拌し、次いで４０mlのジクロロメタンで希釈し次いで飽
和塩化ナトリウム溶液、２Ｎ塩酸、水そして再び飽和塩
化ナトリウム溶液で洗う。有機相を硫酸マグネシウムで
乾燥し、濃縮し次いでシリカゲルでクロマトグラフィー
処理する（石油エーテル／酢酸エチル＝１７：３）。
８．１ｇ（１９．５mmol）（９６．４％）の（７−ブロ
モ−３−エトキシカルボニルメチル−２，３−ジヒドロ
−−ベンゾ〔１，４〕チアジン−４−イル）−オキソ−
酢酸エチルエステルを黄色−オレンジオイルの形で得
る； ¹Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃ ，２００ＭＨｚ）：恐ら
く回転異性体の混合物：１．１０−１．３０（２ｘｔ，
３Ｈ）；２．５５（ｄｂｒ，２Ｈ）：３．００（ｄｄｂ
ｒ，１Ｈ）；３．４９（ｄｄｂｒ，１Ｈ）；４．０２−
４．１８（ｑｕａｒｔ，ｍ，４Ｈ）；５．４９（ｍ，１
Ｈ）；６．８９（ｄ，１Ｈ）；７．１８（ｄｄ，１
Ｈ）；７．４０（ｄ，１Ｈ）。ＦＤ−ＭＳ：４１５，４
１７（Ｍ⁺ ）；ＴＬＣ：（石油エーテル／酢酸エチル＝
７：３）Ｒ_f ＝０．２８。例５ ：８−ブロモ−４，５−ジオキソ−２，３，５，６
−テトラヒドロ−４Ｈ−１−チア−３ａ，６−ジアザ−
フェナレン−３−イル−酢酸 ４．１ｇ（１０．６４mmol）の８−ブロモ−４，５−ジ
オキソ−２，３，５，６−テトラヒドロ−４Ｈ−１−チ
ア−３ａ，６−ジアザ−フェナレン−３−イル酢酸エチ
ルエステルを、１８０mlのメタノール中２６．６mlの２
Ｎ水性水酸化ナトリウム溶液と共に室温で４時間撹拌
し、次いで４８mlの２Ｎ塩酸で酸性にする。得られた沈
殿物を濾別し、大量の水で中性になるまで洗い次いで高
真空下（６０°）で乾燥する。３．６２ｇ（１０．１２
mmol（＝９５％）の８−ブロモ−４，５−ジオキソ−
２，３，５，６−テトラヒドロ−４Ｈ−１−チア−３
ａ，６−ジアザ−フェナレン−３−イル−酢酸を白色粉
末の形で得る；融点＞３６０°； ¹Ｈ−ＮＭＲ（ｄ₆ −
ＤＭＳＯ，３００ＭＨｚ）：２．５５（ｄｄ，１Ｈ）；
２．７６（ｄｄ，１Ｈ）；３．２７（ｍ，２Ｈ）；５．
４８（ｍ，１Ｈ）；７．０６（ｄ，１Ｈ）；７．２２
（ｄ，１Ｈ）；１２．１１（ｓｂｒ，１Ｈ）；１２．５
９（ｓｂｒ，１Ｈ）；¹³Ｃ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃ ，７５
ＭＨｚ，ＡＰＴ）：２８．０（ＣＨ₂ ）；３６．５（Ｃ
Ｈ₂ ）；４６．９（Ｃ）；６２．２（ＣＨ₂ ）；１１
５．６（Ｃ）；１１５．７（ＣＨ）；１２１．６
（Ｃ）；１２３．４（Ｃ）；１２４．１（ＣＨ）；１２
９．０（Ｃ）；１５４．１（ＮＣ＝Ｏ）；１５４．９
（ＮＣ＝Ｏ）；１７２．４（Ｃ＝Ｏ）；ＦＤ−ＭＳ：３
５６，３５８（Ｍ⁺）；分析：Ｃ４０．６９％（４０．
３５）；Ｈ２．６７％（２．５４）；Ｎ７．８８％
（７．８４）。例６ ：８−ブロモ−４，５−ジオキソ−２，３，５，６
−テトラヒドロ−４Ｈ−１−チア−３ａ，６−ジアザ−
フェナレン−３−イル−酢酸ナトリウム塩 ５．６mlの０．１Ｎ炭酸水素ナトリウム溶液を、４０ml
の水に懸濁させた２００mg（５６０mmol）の８−ブロモ
−４，５−ジオキソ−２，３，５，６−テトラヒドロ−
４Ｈ−１−チア−３ａ，６−ジアザ−フェナレン−３−
イル−酢酸の懸濁液に添加し次いで混合物を１時間加熱
還流し、濾過し次いで凍結乾燥する。例７ ：８−ブロモ−４，５−ジオキソ−２，３，５，６
−テトラヒドロ−４Ｈ−１−チア−３ａ，６−ジアザ−
フェナレン−３−イル−酢酸カリウム塩 例６に類似して調製する。例８ ：８−ブロモ−４，５−ジオキソ−２，３，５，６
−テトラヒドロ−４Ｈ−１−チア−３ａ，６−ジアザ−
フェナレン−３−イル−酢酸トリメチルアンモニウム塩 ４０mlの１Ｎ炭酸水素トリエチルアンモニウム中に懸濁
させた８−ブロモ−４，５−ジオキソ−２，３，５，６
−テトラヒドロ−４Ｈ−１−チア−３ａ，６−ジアザ−
フェナレン−３−イル−酢酸の懸濁液を６０°で１時間
加熱し、濾過し、高真空下回転蒸発器により濃縮し次い
で８mlの水から凍結乾燥する。例９ ：２−（８−ブロモ−４，５−ジオキソ−２，３，
５，６−テトラヒドロ−４Ｈ−１−チア−３ａ，６−ジ
アザ−フェナレン−３−イル）−Ｎ−フェニル−アセト
アミド ２７４μｌ（３mmol）のアニリンをアルゴン下、１０ml
のジメチルホルムアミドに溶解した７１４．４mg（２mm
ol）の８−ブロモ−４，５−ジオキソ−２，３，５，６
−テトラヒドロ−４Ｈ−１−チア−３ａ，６−ジアザ−
フェナレン−３−イル−酢酸、５４０．５mg（４mmol）
の１−ヒドロキシベンゾトリアゾールおよび７６６．８
mg（４mmol）のＮ−エチル−Ｎ′−（３−ジメチルアミ
ノプロピル）−カルボジイミド塩酸塩（ＥＤＣ）の溶液
に室温で添加する。混合物を氷水中に注ぎ、次いで沈殿
物を濾別し、多量の水で洗い次いで高真空下で乾燥する
（６０°）。７４１．５mg（１．７２mmol）（＝８６
％）の２−（８−ブロモ−４，５−ジオキソ−２，３，
５，６−テトラヒドロ−４Ｈ−１−チア−３ａ，６−ジ
アザ−フェナレン−３−イル）−Ｎ−フェニルアセトア
ミドをベージュ粉末の形で得る； ¹Ｈ−ＮＭＲ（ｄ₆ −
ＤＭＳＯ，２００ＭＨｚ）：２．６２（ｄｄ，１Ｈ）；
２．９０（ｄｄ，１Ｈ）；３．３０（ｍ，２Ｈ）；５．
６８（ｍ，１Ｈ）；７．０６（ｍ，２Ｈ）；７．３０
（ｍ，３Ｈ）；７．５５（ｍ，２Ｈ）；１０．００（ｓ
ｂｒ，１Ｈ）；１２．１０（ｓｂｒ，１Ｈ）；ＥＩ−Ｍ
Ｓ：４３３，４３１（Ｍ⁺ ）；３１３，３１１；２９
９，２９７；分析：ｃｏｎｔａｉｎｓ０．４１％ ｗａ
ｔｅｒ：Ｃ５０．００％（４９．８０）；Ｈ３．３５％
（３．３０）；Ｎ９．４９％（９．６８）。例１０ ：例９で記載した方法と類似の方法でカップリン
グパートナーとして対応する遊離アミン（第一、第二、
アニリン）を用い次のアミドを製造することも可能であ
る。

【０１６２】２−（８−ブロモ−４，５−ジオキソ−
２，３，５，６−テトラヒドロ−４Ｈ−１−チア−３
ａ，６−ジアザ−フェナレン−３−イル）−Ｎ−メチル
−Ｎ−フェニル−アセトアミド；ｍ．ｐ．：１４８−１
５２°； ¹Ｈ−ＮＭＲ（ｄ₆ −ＤＭＳＯ，２００ＭＨ
ｚ）：２．２７−２．８５（ｍ，約２Ｈ）；３．１０−
３．４０（ｍ，約２Ｈ）；３．１８（ｓ，３Ｈ）；５．
５５（ｍ，１Ｈ）；７．００−７．４８（ｍ，７Ｈ）；
１２．０５（ｓｂｒ，１Ｈ）；ＦＤ−ＭＳ：４４５，４
４７（Ｍ⁺ ）；分析：Ｃ４９．６９％（５１．１３）；
Ｈ３．７８％（３．６１）；Ｎ１０．４３％（９．４
１）；２−（８−ブロモ−４，５−ジオキソ−２，３，５，６
−テトラヒドロ−４Ｈ−１−チア−３ａ，６−ジアザ−
フェナレン−３−イル）−Ｎ−チアゾール−２−イル−
アセトアミド ；収率：９２％；ｍ．ｐ．：２６０−２６
１°； ¹Ｈ−ＮＭＲ（ｄ₆ −ＤＭＳＯ，３００ＭＨ
ｚ）：２．７２（ｄｄ，１Ｈ）；３．０５（ｄｄ，１
Ｈ）；３．２７（ｓ，２Ｈ）；５．６７（ｍ，１Ｈ）；
７．０９（ｄ，１Ｈ）；７．２２（ｄ，１Ｈ）；７．２
８（ｄ，１Ｈ）；７．４６（ｄ，１Ｈ）；１２．１４
（ｓｂｒ，１Ｈ）１２．２６（ｓｂｒ，１Ｈ）；ＦＡＢ
−ＭＳ：４３９，４１４（Ｍ⁺ ）；分析：Ｃ３９．０３
％（４１．０１）；Ｈ３．１９％（２．５２）；Ｎ１
２．００％（１２．７５）；２−（８−ブロモ−４，５−ジオキソ−２，３，５，６
−テトラヒドロ−４Ｈ−１−チア−３ａ，６−ジアザ−
フェナレン−３−イル）−Ｎ−シクロプロピル−メチル
−アセトアミド ；収率：８２％；ｍ．ｐ．：２５０−２
５３°； ¹Ｈ−ＮＭＲ（ｄ₆ −ＤＭＳＯ，３００ＭＨ
ｚ）：０．１２−０．１４（ｍ，２Ｈ）；０．３６−
０．４０（ｍ，２Ｈ）；０．８４−０．８９（ｍ，１
Ｈ）；２．３５−２．６８（ｍ，２Ｈ）；２．８９−
２．９５（ｍ，２Ｈ）；３．１９−３．２９（ｍ，２
Ｈ）；５．５５（ｍ，１Ｈ）；７．０７（ｄ，１Ｈ）；
７．２５（ｄ，１Ｈ）；８．０４−８．０８（ｍ，１
Ｈ）；１２．１１（ｓｂｒ，１Ｈ）；ＦＤ−ＭＳ：４０
９，４１１（Ｍ⁺ ）；分析：Ｃ４５．１９％（４６．８
４）；Ｈ４．００％（３．９３）；Ｎ９．７８％（１
０．２４）；２−（８−ブロモ−４，５−ジオキソ−２，３，５，６
−テトラヒドロ−４Ｈ−１−チア−３ａ，６−ジアザ−
フェナレン−３−イル）−Ｎ−シクロプロピル−アセト
アミド ；収率：６０％；ｍ．ｐ．：１８０−１８５°；
¹Ｈ−ＮＭＲ（ｄ₆ −ＤＭＳＯ，３００ＭＨｚ）：０．
３４−０．３９（ｍ，２Ｈ）；０．５５−０．６１
（ｍ，２Ｈ）；０．８４−０．８９（ｍ，１Ｈ）；２．
２９−２．６１（ｍ，約３Ｈ）；３．２０（ｓｂｒ，２
Ｈ）；５．５３（ｍ，１Ｈ）；７．０７（ｄ，１Ｈ）；
７．２４（ｄ，１Ｈ）；８．０４（ｄ，１Ｈ）１２．０
１（ｓｂｒ，１Ｈ）；ＦＤ−ＭＳ：３９５，３９７（Ｍ
⁺ ）；２−〔２−（８−ブロモ−４，５−ジオキソ−２，３，
５，６−テトラヒドロ−４Ｈ−１−チア−３ａ，６−ジ
アザ−フェナレン−３−イル）−アセチル−アミノ〕−
３，３−ジメチル−酪酸第三ブチルエステル ；収率：９
６％；ｍ．ｐ．：１４９−１５４°； ¹Ｈ−ＮＭＲ（ｄ
₆ −ＤＭＳＯ，３００ＭＨｚ）：０．９２（ｄ，９
Ｈ）；１．４０（ｄ，９Ｈ）；２．８０−２．９２
（ｍ，１Ｈ）；３．１３−３．２０（ｍ，２Ｈ）；４．
０１（ｄｄ，１Ｈ）；５．５５（ｍ，１Ｈ）；７．０７
（ｍ，１Ｈ）；７．２６（ｍ，１Ｈ）；８．０８（ｄ
ｄ，１Ｈ）；１２．０９（ｓｂｒ，１Ｈ）；ＦＡＢ−Ｍ
Ｓ：５２７，５２９（Ｍ⁺ ＋１）；４９２，４９４（Ｍ
−ｔＢｕ）；分析：Ｃ５０．１９％（４９．３２）；Ｈ
３．３５％（５．３６）；Ｎ７．３６％（７．９８）；
ＴＬＣ：（ジクロメタン／メタノール＝９：１）Ｒ_f ＝
０．２６；Ｎ−アダマンタン−１−イル−２−（８−ブロモ−４，
５−ジオキソ−２，３，５，６−テトラヒドロ−４Ｈ−
１−チア−３ａ，６−ジアザ−フェナレン−３−イル）
−アセトアミド ；ｍ．ｐ．：２１０−２１５°＞；ＦＤ
−ＭＳ：４８９，４９１（Ｍ⁺ ）；分析：Ｃ５３．５１
％（５３．８８）；Ｈ５．７７％（４．９３）；Ｎ１
０．００％（８．５７）。

【０１６３】２−（８−ブロモ−４，５−ジオキソ−
２，３，５，６−テトラヒドロ−４Ｈ−１−チア−３
ａ，６−ジアザ−フェナレン−３−イル）−Ｎ，Ｎ−ジ
ブチル−アセトアミド；収率：７７％； ¹Ｈ−ＮＭＲ
（ｄ₆ −ＤＭＳＯ，３００ＭＨｚ）：０．８１−０．９
１（ｍ，６Ｈ）；１．１７−１．２７（ｍ，４Ｈ）；
１．３９−１．４３（ｍ，４Ｈ）；２．４４−２．８６
（ｍ，２Ｈ）；３．１５−３．３０（ｍ，６Ｈ）；５．
５０（ｍ，１Ｈ）；７．０８（ｍ，１Ｈ）；７．２５
（ｍ，１Ｈ）；１２．１３（ｓｂｒ，１Ｈ）；ＦＡＢ−
ＭＳ：４６８，４７０（Ｍ ⁺ ＋１）：分析：Ｃ５０．６
７％（５１．２８）；Ｈ５．４４％（５．５９）；Ｎ
９．０７％（８．９７）。

【０１６４】２−（８−ブロモ−４，５−ジオキソ−
２，３，５，６−テトラヒドロ−４Ｈ−１−チア−３
ａ，６−ジアザ−フェナレン−３−イル）−Ｎ−（２−
オキソ−アゼパン−３−イル）−アセトアミド；収率：
４５％；ｍ．ｐ．：３０５−３０７°； ¹Ｈ−ＮＭＲ
（ｄ₆ −ＤＭＳＯ，３００ＭＨｚ）：１．１７−１．８
９（ｍ，６Ｈ）；２．１８−３．３０（ｍ，６Ｈ）；
４．３８（ｍ，１Ｈ）；５．５３（ｍ，１Ｈ）；７．０
７（ｍ，１Ｈ）；７．２５（ｍ，１Ｈ）；７．７７
（ｍ，１Ｈ）；７．９７（ｍ，１Ｈ）；１２．１１（ｓ
ｂｒ，１Ｈ）；ＦＡＢ−ＭＳ：４６７，４６９（Ｍ⁺ ＋
１）：分析：Ｃ５０．２６％（５０．６７）；Ｈ４．６
２％（４．４８）；Ｎ９．８６％（９．３３）；Ｎ−アリル−２−（８−ブロモ−４，５−ジオキソ−
２，３，５，６−テトラヒドロ−４Ｈ−１−チア−３
ａ，６−ジアザ−フェナレン−３−イル）−アセトアミ
ド ；収率：４９％；ｍ．ｐ．：１５０−１５３°； ¹Ｈ
−ＮＭＲ（ｄ₆ −ＤＭＳＯ，３００ＭＨｚ）：２．４２
（ｄｄ，１Ｈ）；２．５８（ｄｄ，１Ｈ）；３．２１
（ｄ，２Ｈ）；３．６９（ｍ，２Ｈ）；５．０３−５．
１５（ｍ，２Ｈ）；５．５６（ｍ，１Ｈ）；５．７４−
５．８４（ｍ，１Ｈ）；７．０７（ｍ，１Ｈ）；７．２
４（ｍ，１Ｈ）；７．７７（ｍ，１Ｈ）；８．１６
（ｔ，１Ｈ）；１２．１１（ｓｂｒ，１Ｈ）．；ＥＩ−
ＭＳ：３９５，３９７（Ｍ⁺ ）；分析：Ｃ４４．８３％
（４５．４７）；Ｈ３．６９％（３．５６）；Ｎ１０．
３３％（１０．６０）；８−ブロモ−３−〔２−（２，３−ジヒドロ−インドー
ル−１−イル）−２−オキソ−エチル〕−２，３−ジヒ
ドロ−６Ｈ−１−チア−３ａ，６−ジアザ−フェナレン
−４，５−ジオン ；収率：９９％（ベージュ結晶）；
ｍ．ｐ．：２７０−２７３°； ¹Ｈ−ＮＭＲ（ｄ₆ −Ｄ
ＭＳＯ，３００ＭＨｚ）：３．００−３．６２（ｍ，約
６Ｈ）；４．０２（ｄ，２Ｈ）；５．６４（ｍ，１
Ｈ）；７．００−７．２８（ｍ，５Ｈ）；８．０８
（ｄ，１Ｈ）；１２．１５（ｓｂｒ，１Ｈ）；ＦＤ−Ｍ
Ｓ：４５７，４５９（Ｍ⁺ ）；分析：Ｃ５１．２０％
（５２．４１）；Ｈ４．１８％（３．５２）；Ｎ１０．
２０％（９．７１）；８−ブロモ−３−（２−オキソ−２−ピペリジン−１−
イル−エチル）−２，３−ジヒドロ−６Ｈ−１−チア−
３ａ，６−ジアザ−フェナレン−４，５−ジオン ；収
率：８９％ベージュ結晶；ｍ．ｐ．：１７０−１７２
°； ¹Ｈ−ＮＭＲ（ｄ₆ −ＤＭＳＯ，３００ＭＨｚ）：
１．４０−１．６０（ｍ，８Ｈ）；２．３０−３．６０
（ｍ，６Ｈ）；５．５２（ｍ，１Ｈ）；７．０７（ｄ，
１Ｈ）；７．２４（ｄ，１Ｈ）；１２．１０（ｓｂｒ，
１Ｈ）；ＦＤ−ＭＳ：４２３，４２５（Ｍ⁺ ）；分析：
Ｃ４７．６０％（４８．１２）；Ｈ４．３６％（４．２
８）；Ｎ９．８０％（９．９０）；８−ブロモ−３−〔２−（２−メチル−アジリジン−１
−イル）−２−オキソ−エチル〕−２，３−ジヒドロ−
６Ｈ−１−チア−３ａ，６−ジアザ−フェナレン−４，
５−ジオン ；収率：６２％（ベージュ結晶）；ｍ．
ｐ．：１９３−１９５°¹ Ｈ−ＮＭＲ（ｄ₆ −ＤＭＳＯ，３００ＭＨｚ）：１．
０８（ｍ，３Ｈ）；２．６２（ｍ，２Ｈ）；３．２１−
３．７２（ｍ，約５Ｈ）；３．９０−４．４１（ｍ，１
Ｈ）；５．５７（ｍ，１Ｈ）；７．０７（ｄ，１Ｈ）；
７．２４（ｄ，１Ｈ）；１２．１０（ｓｂｒ，１Ｈ）；
ＦＤ−ＭＳ：３９５，３９７（Ｍ⁺ ）；分析：Ｃ４３．
８１％（４５．４７）；Ｈ３．７７％（３．５６）；Ｎ
１１．６６％（１１．６０）。

【０１６５】２−（８−ブロモ−４，５−ジオキソ−
２，３，５，６−テトラヒドロ−４Ｈ−１−チア−３
ａ，６−ジアザ−フェナレン−３−イル）−Ｎ−（２，
２−ジ−メトキシ−エチル）−アセトアミド；収率：６
９％（ベージュ結晶）；ｍ．ｐ．：１９０−１９２°；
¹Ｈ−ＮＭＲ（ｄ₆ −ＤＭＳＯ，３００ＭＨｚ）：２．
２８−２．７２（ｍ，２Ｈ）；３．１０−３．２０
（ｍ，４Ｈ）；３．２１（２ｘｓ，６Ｈ）；４．３２
（ｔ，１Ｈ）；５．５８（ｍ，１Ｈ）；７．０７（ｄ，
１Ｈ）；７．２４（ｄ，１Ｈ）；８．０９（ｔ，１
Ｈ）；１２．１０（ｓｂｒ，１Ｈ）；ＦＤ−ＭＳ：４４
３，４４５（Ｍ⁺ ）；分析：Ｃ４１．７４％（４３．２
５）；Ｈ４．０６％（４．０８）；Ｎ９．１０％（９．
４６）；４−〔２−（８−ブロモ−４，５−ジオキソ−２，３，
５，６−テトラヒドロ−４Ｈ−１−チア−３ａ，６−ジ
アザ−フェナレン−３−イル）−アセチル−アミノ〕−
安息香酸メチルエステル ；収率：５９％ベージュ結晶；
ｍ．ｐ．：１４５−１４７°； ¹Ｈ−ＮＭＲ（ｄ₆ −Ｄ
ＭＳＯ，３００ＭＨｚ）：２．６０−２．９５（ｍ，２
Ｈ）；３．２２（ｍ，２Ｈ）；３．８０（ｓ，３Ｈ）；
５．６８（ｍ，１Ｈ）；７．０７（ｄ，１Ｈ）；７．２
３（ｄ，１Ｈ）；７．７０（ｄ，２Ｈ）；７．９１
（ｄ，２Ｈ）；１０．２０（ｓ，１Ｈ）；１２．１０
（ｓｂｒ，１Ｈ）；ＦＤ−ＭＳ：４８９，４９１
（Ｍ⁺ ）；２−（８−ブロモ−４，５−ジオキソ−２，３，５，６
−テトラヒドロ−４Ｈ−１−チア−３ａ，６−ジアザ−
フェナレン−３−イル）−Ｎ−（５，６，７，８−テト
ラヒドロ−ナフタレン−１−イル）−アセトアミド ；収
率：９７％ベージュ結晶；ｍ．ｐ．：３２３−３２５
°； ¹Ｈ−ＮＭＲ（ｄ₆ −ＤＭＳＯ，３００ＭＨｚ）：
１．６２−１．７３（ｍ，４Ｈ）；２．６０−２．９５
（ｍ，６Ｈ）；３．２２（ｍ，２Ｈ）；５．６５（ｍ，
１Ｈ）；６．９０−７．３０（ｍ，５Ｈ）；９．２５
（ｓ，１Ｈ）；１２．１５（ｓｂｒ，１Ｈ）；ＦＤ−Ｍ
Ｓ：４８５，４８７（Ｍ⁺ ）；分析：Ｃ５４．２８％
（５４．３３）；Ｈ４．１８％（４．１４）；Ｎ９．５
１％（８．６４）；２−（８−ブロモ−４，５−ジオキソ−２，３，５，６
−テトラヒドロ−４Ｈ−１−チア−３ａ，６−ジアザ−
フェナレン−３−イル）−Ｎ−フラン−２−イル−メチ
ル−アセトアミド ；収率：８２％ベージュ結晶；ｍ．
ｐ．：２０２−２０３°¹ Ｈ−ＮＭＲ（ｄ₆ −ＤＭＳＯ，３００ＭＨｚ）：２．
２０−２．７１（ｍ，２Ｈ）；３．２１（ｍ，２Ｈ）；
４．２３（ｍ，２Ｈ）；５．６８（ｍ，１Ｈ）；６．２
２（ｄ，１Ｈ）；６．３９（ｄ，１Ｈ）；７．０７
（ｄ，１Ｈ）；７．２２（ｄ，１Ｈ）；７．５８（ｄ，
１Ｈ）；８．４８（ｔ，１Ｈ）；１２．１０（ｓｂｒ，
１Ｈ）；ＦＤ−ＭＳ：４３５，４３７（Ｍ⁺ ）；分析：
Ｃ４６．３１％（４６．８０）；Ｈ３．３３％（３．２
３）；Ｎ９．６６％（９．６３）。

【０１６６】２−（８−ブロモ−４，５−ジオキソ−
２，３，５，６−テトラヒドロ−４Ｈ−１−チア−３
ａ，６−ジアザ−フェナレン−３−イル）−Ｎ−（２−
メトキシ−エチル）−アセトアミド；収率：３８％ベー
ジュ結晶；ｍ．ｐ．：１３５−１３７°¹ Ｈ−ＮＭＲ（ｄ₆ −ＤＭＳＯ，３００ＭＨｚ）：２．
２０−２．７１（ｍ，２Ｈ）；３．２１（ｍ，６Ｈ）；
３．２３（ｓ，３Ｈ）；５．６８（ｍ，１Ｈ）；７．０
７（ｄ，１Ｈ）；７．２２（ｄ，１Ｈ）；８．０８
（ｍ，１Ｈ）；１２．１２（ｓｂｒ，１Ｈ）；ＦＤ−Ｍ
Ｓ：４１３，４１５（Ｍ⁺ ）；分析：Ｃ４２．９６％
（４３．４９）；Ｈ３．９２％（３．８９）；Ｎ１０．
０１％（１０．１４）。例１１ ：１−〔２−（８−ブロモ−４，５−ジオキソ−
２，３，５，６−テトラヒドロ−４Ｈ−１−チア−３
ａ，６−ジアザ−フェナレン−３−イル）−アセチルア
ミノ〕−シクロプロパン−カルボン酸メチルエステル １６５．２mg（１０９０mmol）の１−アミノシクロプロ
パン−１−カルボン酸メチルエステル塩酸塩を、アルゴ
ン下室温で、１０mlのジメチルホルムアミドに溶解した
２５９．６mg（７２７mmol）の８−ブロモ−４，５−ジ
オキソ−２，３，５，６−テトラヒドロ−４Ｈ−１−チ
ア−３ａ，６−ジアザ−フェナレン−３−イル−酢酸、
１９６．４mg（１４５４mmol）の１−ヒドロキシベンゾ
トリアゾール、２７９mg（１４５４mmol）のＮ−エチル
−Ｎ′−（３−ジメチルアミノプロピル）−カルボジイ
ミド塩酸塩（ＥＤＣ）および１５３μｌ（１０９０mmo
l）のトリエチルアミンの溶液に加える。次いで混合物
を酸性氷水中に注加し次いで沈殿物を濾別し、大量の水
で洗い、高真空下（６０°）で乾燥する。２２０．３mg
（４８５mmol）（＝６７％）の１−〔２−（８−ブロモ
−４，５−ジオキソ−２，３，５，６−テトラヒドロ−
４Ｈ−１−チア−３ａ，６−ジアザ−フェナレン−３−
イル）−アセチルアミノ〕−シクロプロパン−カルボン
酸メチルエステルをベージュ−粉末の形で得る。ｍ．
ｐ．１８６−１８８°； ¹Ｈ−ＮＭＲ（ｄ₆ −ＤＭＳ
Ｏ，３００ＭＨｚ）：１．０２（ｍ，２Ｈ）；１．３４
（ｍ，２Ｈ）；２．３７−２．５９（ｍ，約３Ｈ）３．
２１（ｓｂｒ，２Ｈ）；３．５８（ｓ，３Ｈ）；５．５
４（ｍ，１Ｈ）；７．０７（ｍ，１Ｈ）；７．２４
（ｍ，１Ｈ）；８．６５（ｓ，１Ｈ）；１２．１１（ｓ
ｂｒ，１Ｈ）；ＦＡＢ−ＭＳ：４５４，４５６
（Ｍ⁺ ）；分析：Ｃ４４．９５％（４４．２３）；Ｈ
３．８２％（３．５５）；Ｎ９．２４％（９．２５）。例１２ ：例１１に類似した方法で、カップリングパート
ナーとしてアミン塩酸塩を用い次のアミドを製造するこ
とも可能である。

【０１６７】Ｎ−アダマンタン−２−イル−２−（８−
ブロモ−４，５−ジオキソ−２，３，５，６−テトラヒ
ドロ−４Ｈ−１−チア−３ａ，６−ジアザ−フェナレン
−３−イル）−アセトアミド；収率：９１％；ｍ．
ｐ．：１８３−１８５°； ¹Ｈ−ＮＭＲ（ｄ₆ −ＤＭＳ
Ｏ，３００ＭＨｚ）：１．４０−２．００（ｍ，約１５
Ｈ）；２．７４（ｍ，１Ｈ）；３．１９（ｍ，２Ｈ）；
３．８２（ｍ，１Ｈ）；５．５７（ｍ，１Ｈ）；７．０
７（ｄ，１Ｈ）；７．２６（ｄ，１Ｈ）；７．８４
（ｄ，１Ｈ）；１２．１０（ｓｂｒ，１Ｈ）；ＦＡＢ−
ＭＳ：４９０，４９２（Ｍ⁺ ＋１）。分析：Ｃ５３．５
８％（５３．８８）；Ｈ５．０８％（４．９３）；Ｎ
８．６７％（８．５７）；Ｎ−ビシクロ〔２．２．１〕ヘプト−２−イル−２−
（８−ブロモ−４，５−ジオキソ−２，３，５，６−テ
トラヒドロ−４Ｈ−１−チア−３ａ，６−ジアザ−フェ
ナレン−３−イル）−アセトアミド ；収率：８８％；
ｍ．ｐ．：２１５−２２２°； ¹Ｈ−ＮＭＲ（ｄ₆ −Ｄ
ＭＳＯ，３００ＭＨｚ）：０．８−１．８（ｍ，約７
Ｈ）；２．００−２．４０（ｍ，約３Ｈ）；２．６５
（ｍ，１Ｈ）；３．１６（ｍ，２Ｈ）；３．８７（ｍ，
１Ｈ）；５．５４（ｍ，１Ｈ）；７．０７（ｄ，１
Ｈ）；７．２５（ｄ，１Ｈ）；７．９１（ｍ，１Ｈ）；
１２．１０（ｓｂｒ，１Ｈ）；ＦＡＢ−ＭＳ：４５０，
４５２（Ｍ⁺ ＋１）；分析：Ｃ４５．５６％（４６．２
６）；Ｈ４．２６％（４．１０）；Ｎ１１．８８％（１
１．９９）；２−（８−ブロモ−４，５−ジオキソ−２，３，５，６
−テトラヒドロ−４Ｈ−１−チア−３ａ，６−ジアザ−
フェナレン−３−イル）−Ｎ−第三ブトキシ−アセトア
ミド ；収率：２９％；ｍ．ｐ．：１７５−１８０°； ¹
Ｈ−ＮＭＲ（ｄ ₆ −ＤＭＳＯ，３００ＭＨｚ）：１．１
４（ｓ，９Ｈ）；２．２５−３．４０（ｍ，４Ｈ）；
５．５５（ｍ，１Ｈ）；７．０７（ｍ，１Ｈ）；７．２
７（ｍ，１Ｈ）；１０．４５（ｓｂｒ，１Ｈ）；１２．
１１（ｓｂｒ，１Ｈ）；ＦＡＢ−ＭＳ：４２８，４３０
（Ｍ⁺ ＋１）；Ｎ−ベンジルオキシ−２−（８−ブロモ−４，５−ジオ
キソ−２，３，５，６−テトラヒドロ−４Ｈ−１−チア
−３ａ，６−ジアザ−フェナレン−３−イル）−アセト
アミド ；収率：９３％；ｍ．ｐ．：１４０−１４８°；
¹Ｈ−ＮＭＲ（ｄ₆ −ＤＭＳＯ，３００ＭＨｚ）：２．
２８−２．４５（ｍ，２Ｈ）；３．１２−３．２３
（ｍ，２Ｈ）；４．７７（ｑ，２Ｈ）；５．５５（ｍ，
１Ｈ）；７．０７（ｍ，１Ｈ）；７．２４（ｍ，１
Ｈ）；７．３８（ｓｂｒ，５Ｈ）；１１．１４（ｓｂ
ｒ，１Ｈ）１２．１２（ｓｂｒ，１Ｈ）；ＦＡＢ−Ｍ
Ｓ：４６２，４６４（Ｍ⁺ ＋１）；分析：Ｃ４９．１４
％（４９．３６）；Ｈ３．７７％（３．４９）；Ｎ９．
７２％（９．０９）。

【０１６８】２−（８−ブロモ−４，５−ジオキソ−
２，３，５，６−テトラヒドロ−４Ｈ−１−チア−３
ａ，６−ジアザ−フェナレン−３−イル）−Ｎ−プロプ
−２−イニル−アセトアミド；収率：７３％；ｍ．
ｐ．：１８１−１８２°； ¹Ｈ−ＮＭＲ（ｄ₆ −ＤＭＳ
Ｏ，３００ＭＨｚ）：２．４０（ｄｄ，１Ｈ）；２．６
８（ｄｄ，１Ｈ）；３．１３（ｓ，１Ｈ）；３．２０
（ｄ，２Ｈ）；３．８５（ｍ，２Ｈ）；５．５４（ｍ，
１Ｈ）；７．０７（ｍ，１Ｈ）；７．２４（ｍ，１
Ｈ）；８．４６（ｍ，１Ｈ）；１２．１１（ｓｂｒ，１
Ｈ）；ＦＡＢ−ＭＳ：３９４，３９６（Ｍ⁺ ＋１）。分
析：Ｃ４４．９２％（４５．７０）；Ｈ３．３３％
（３．０７）；Ｎ１０．４３％（１０．６６）；２−〔２−（８−ブロモ−４，５−ジオキソ−２，３，
５，６−テトラヒドロ−４Ｈ−１−チア−３ａ，６−ジ
アザ−フェナレン−３−イル）−アセチル−アミノ〕−
マロン酸ジメチルエステル ；収率：５１％ベージュ結
晶；ｍ．ｐ．：１４３−１４５°； ¹Ｈ−ＮＭＲ（ｄ₆
−ＤＭＳＯ，３００ＭＨｚ）：２．３８（ｍ，１Ｈ）；
２．８０（ｍ，１Ｈ）；３．２０（ｍ，２Ｈ）；３．７
２（ｓ，６Ｈ）；５．１７（ｄ，１Ｈ）；５．５７
（ｍ，１Ｈ）；７．０７（ｍ，１Ｈ）；７．２４（ｍ，
１Ｈ）；９．０１（ｔ，１Ｈ）；１２．１１（ｓｂｒ，
１Ｈ）；ＦＤ−ＭＳ：４８５，４８７（Ｍ⁺ ）；分析：
Ｃ４０．６８％（４１．９９）；Ｈ３．４７％（３．３
２）；Ｎ８．６４％（８．６４）。

【０１６９】２−（８−ブロモ−４，５−ジオキソ−
２，３，５，６−テトラヒドロ−４Ｈ−１−チア−３
ａ，６−ジアザ−フェナレン−３−イル）−Ｎ−シアノ
−メチル−アセトアミド；収率：５４％ベージュ結晶；
ｍ．ｐ．：２１２−２１４°¹ Ｈ−ＮＭＲ（ｄ₆ −ＤＭＳＯ，３００ＭＨｚ）：２．
４０−２．５０（ｍ，１Ｈ）；２．７０（ｍ，１Ｈ）；
３．２０（ｍ，２Ｈ）；３．７２（ｓ，６Ｈ）；４．１
３（ｄ，１Ｈ）；５．５７（ｍ，１Ｈ）；７．０７
（ｍ，１Ｈ）；７．２４（ｍ，１Ｈ）；８．７５（ｔ，
１Ｈ）；１２．１１（ｓｂｒ，１Ｈ）；ＦＤ−ＭＳ：３
９４，３９６（Ｍ⁺ ）；３−〔２−（８−ブロモ−４，５−ジオキソ−２，３，
５，６−テトラヒドロ−４Ｈ−１−チア−３ａ，６−ジ
アザ−フェナレン−３−イル）−アセチル−アミノ〕−
プロピオン酸メチルエステル ；収率：４３％褐色結晶；
ｍ．ｐ．：２４０−２４２°； ¹Ｈ−ＮＭＲ（ｄ₆ −Ｄ
ＭＳＯ，３００ＭＨｚ）：２．２５−２．７５（ｍ，約
４Ｈ）；３．１８（ｓ，２Ｈ）；３．２８（ｔ，２
Ｈ）；３．６０（ｓ，３Ｈ）；５．５７（ｍ，１Ｈ）；
７．０７（ｍ，１Ｈ）；７．２３（ｍ，１Ｈ）；８．１
３（ｔ，１Ｈ）；１２．１１（ｓｂｒ，１Ｈ）。ＦＤ−
ＭＳ：４４１，４４３（Ｍ⁺ ）；Ｎ−アリルオキシ−２−（８−ブロモ−４，５−ジオキ
ソ−２，３，５，６−テトラヒドロ−４Ｈ−１−チア−
３ａ，６−ジアザ−フェナレン−３−イル）−アセトア
ミド ；収率：７７％ベージュ結晶；ｍ．ｐ．：１６２−
１６５°¹ Ｈ−ＮＭＲ（ｄ₆ −ＤＭＳＯ，３００ＭＨｚ）：２．
２３−２．４０（ｍ，２Ｈ）；３．１８（ｍ，２Ｈ）；
４．２３（ｍ，２Ｈ）；５．２５（２ｘｄ，２Ｈ）；
５．５７（ｍ，１Ｈ）；５．９０（ｍ，１Ｈ）；７．０
７（ｍ，１Ｈ）；７．２４（ｍ，１Ｈ）１１．０９（ｓ
ｂｒ，１Ｈ）；１２．１１（ｓｂｒ，１Ｈ）；ＦＤ−Ｍ
Ｓ：４１１，４１３（Ｍ⁺ ）；分析：Ｃ４３．５３％
（４３．７０）；Ｈ３．７２％（３．４２）；Ｎ１０．
４７％（１０．１９）；２−（８−ブロモ−４，５−ジオキソ−２，３，５，６
−テトラヒドロ−４Ｈ−１−チア−３ａ，６−ジアザ−
フェナレン−３−イル）−Ｎ−メトキシ−アセトアミ
ド ；収率：９０％ベージュ結晶；ｍ．ｐ．：１８２−１
８５°¹ Ｈ−ＮＭＲ（ｄ₆ −ＤＭＳＯ，３００ＭＨｚ）：２．
２３−２．４０（ｍ，２Ｈ）；３．１９（ｍ，２Ｈ）；
３．５８（ｓ，３Ｈ）；５．５７（ｍ，１Ｈ）；５．９
０（ｍ，１Ｈ）；７．０７（ｍ，１Ｈ）；７．２４
（ｍ，１Ｈ）１１．１４（ｓｂｒ，１Ｈ）；１２．１０
（ｓｂｒ，１Ｈ）；ＦＤ−ＭＳ：３８５，３８７
（Ｍ⁺ ）；分析：Ｃ３９．０３％（４０．４３）；Ｈ
３．５０％（３．１３）；Ｎ１０．２４％（１０．８
８）；例１３ ：２−〔２−（８−ブロモ−４，５−ジオキソ−
２，３，５，６−テトラヒドロ−４Ｈ−１−チア−３
ａ，６−ジアザ−フェナレン−３−イル）−アセチルア
ミノ〕−安息香酸メチルエステル １０mlのジメチルホルムアミドに溶解した７５４．５mg
（２．１１mmol）の８−ブロモ−４，５−ジオキソ−
２，３，５，６−テトラヒドロ−４Ｈ−１−チア−３
ａ，６−ジアザ−フェナレン−３−イル−酢酸、５９
０．６mg（２．３２mmol）のＮ，Ｎ−ビス（２−オキソ
−３−オキサゾリジニル）ホスフィン酸クロリド（ＢＯ
Ｐ−Ｃｌ）、７０５．３μｌのトリエチルアミンおよび
３００．５μｌのアントラニル酸メチルエステルを、ア
ルゴン下６０℃で３時間加熱し、次いで５９０．６mg
（２．３２mmol）のＢＯＰ−Ｃｌ（＝ビス（オキソ−３
−オキサゾリジニル）ホスフィン酸クロリド）および７
０５．３μｌのトリエチルアミンを加え次いで混合物を
６０°で更に２時間撹拌し次いで室温で１５時間撹拌す
る。次いで、混合物を酸性氷水中に注ぎそして得られた
沈殿物を濾過し、大量の水で中性になるまで洗いそして
高真空下（７０°）で乾燥する。９８７．２mg（２．０
１mmol）（＝９５％）の２−〔２−（８−ブロモ−４，
５−ジオキソ−２，３，５，６−テトラヒドロ−４Ｈ−
１−チア−３ａ，６−ジアザ−フェナレン−３−イル）
アセチルアミノ〕安息香酸メチルエステルをベェージュ
粉末の形で得る；ｍ．ｐ．：１６５−１７５°； ¹Ｈ−
ＮＭＲ（ｄ₆ −ＤＭＳＯ，３００ＭＨｚ）：２．７２−
２．９７（ｍ，２Ｈ）；３．２４−３．３３（ｍ，２
Ｈ）；３．８３（ｓ，３Ｈ）；５．６３（ｍ，１Ｈ）；
７．０９（ｄ，１Ｈ）；７．２２（ｔ，１Ｈ）；７．２
８（ｄ，１Ｈ）７．６１（ｔ，１Ｈ）；７．８９（ｄ，
１Ｈ）；８．１２（ｄ，１Ｈ）；１０．５８（ｓｂｒ，
１Ｈ）；１２．１３（ｓｂｒ，１Ｈ）；ＦＡＢ−ＭＳ：
４９０，４９２（Ｍ⁺ ＋１）；分析：Ｃ４６．９８％
（４８．９９）；Ｈ３．５１％（３．２９）；Ｎ８．７
０％（８．５７）。例１４ ：例１３に準じ、３−〔２−（８−ブロモ−４，
５−ジオキソ−２，３，５，６−テトラヒドロ−４Ｈ−
１−チア−３ａ，６−ジアザ−フェナレン−３−イル）
−アセチルアミノ〕−ブト−２−エン酸メチルエステル
を調製することができる；収率：４７％ベージュ結晶；
ｍ．ｐ．：１６０−１６７°；ＦＤ−ＭＳ：４５３，４
５５（Ｍ⁺ ）；分析：Ｃ４５．３８％（４４．９５）；
Ｈ３．８０％（３．５５）；Ｎ９．３５％（９．２
５）。例１５ ：２−〔２−（８−ブロモ−４，５−ジオキソ−
２，３，５，６−テトラヒドロ−４Ｈ−１−チア−３
ａ，６−ジアザ−フェナレン−３−イル）−アセチルア
ミノ〕−安息香酸 ５mlの２Ｎ水酸化ナトリウム溶液を、８０mlのエタノー
ルにスラリー化させた１４９mg（３０３．９mmol）の２
−〔２−（８−ブロモ−４，５−ジオキソ−２，３，
５，６−テトラヒドロ−４Ｈ−１−チア−３ａ，６−ジ
アザ−フェナレン−３−イル）アセチルアミノ〕安息香
酸メチルエステルのスラリーに加え、次いで反応混合物
を室温で４．５時間撹拌する。８mlの２Ｎ塩酸を加え、
メタノールを回転蒸発器で除去し、得られた沈殿物を濾
別し、大量の水で中性になるまで洗いそして高真空（６
０°）下で乾燥する。１０５mg（２２０mmol）（＝７３
％）の２−〔２−（８−ブロモ−４，５−ジオキソ−
２，３，５，６−テトラヒドロ−４Ｈ−１−チア−３
ａ，６−ジアザ−フェナレン−３−イル）−アセチルア
ミノ〕−安息香酸をベージュ粉末の形で得る； ¹Ｈ−Ｎ
ＭＲ（ｄ₆ −ＤＭＳＯ，３００ＭＨｚ）：２．７２−
２．９７（ｍ，２Ｈ）；３．２３−３．３３（ｍ，２
Ｈ）；５．６３（ｍ，１Ｈ）；７．０９（ｄ，１Ｈ）；
７．１７（ｔ，１Ｈ）；７．２７（ｄ，１Ｈ）７．６０
（ｔ，１Ｈ）；７．８６（ｄ，１Ｈ）；８．３９（ｄ，
１Ｈ）；１１．２１（ｓｂｒ，１Ｈ）；１２．１２（ｓ
ｂｒ，１Ｈ）；ＦＤ−ＭＳ：４７５，４７７（Ｍ⁺ ）；
分析：Ｃ４５．０４％（４７．９１）；Ｈ３．０３％
（２．９６）；Ｎ８．３５％（８．８２）。例１６ ：例１５に準じ、次の化合物を製造することが可
能である。

【０１７０】３−〔２−（８−ブロモ−４，５−ジオキ
ソ−２，３，５，６−テトラヒドロ−４Ｈ−１−チア−
３ａ，６−ジアザ−フェナレン−３−イル）−アセチル
−アミノ〕−プロピオン酸；収率：７９％ベージュ粉
末；ｍ．ｐ．：２８４−２８６°； ¹Ｈ−ＮＭＲ（ｄ₆
−ＤＭＳＯ，３００ＭＨｚ）：２．２５−２．７５
（ｍ，約４Ｈ）；３．１８−３．２８（ｍ，約４Ｈ）；
５．５９（ｍ，１Ｈ）；７．０７（ｄ，１Ｈ）；７．２
３（ｄ，１Ｈ）；８．０８（ｔ，１Ｈ）；１２．１５
（ｓｂｒ，２Ｈ）；ＦＤ−ＭＳ：４２７，４２９
（Ｍ ⁺ ）；〔２−（８−ブロモ−４，５−ジオキソ−２，３，５，
６−テトラヒドロ−４Ｈ−１−チア−３ａ，６−ジアザ
−フェナレン−３−イル）−アセチルアミノ〕−酢酸 ；
（膜カルボキシルを伴う）；収率：４２％白色結晶、
ｍ．ｐ．：１９３−１９５°； ¹Ｈ−ＮＭＲ（ｄ₆ −Ｄ
ＭＳＯ，３００ＭＨｚ）：２．２０−３．７５（ｍ，約
６Ｈ）；５．５７（ｍ，１Ｈ）；７．０７（ｄ，１
Ｈ）；７．２４（ｄ，１Ｈ）；８．１８（ｔ，０．５
Ｈ）；８．６７（ｄ，０．５Ｈ）；１２．１３（ｓｂ
ｒ，１Ｈ）。ＦＤ−ＭＳ：４１３，４１５（Ｍ⁺ ）；例１７ ：１−〔２−（８−ブロモ−４，５−ジオキソ−
２，３，５，６−テトラヒドロ−４Ｈ−１−チア−３
ａ，６−ジアザ−フェナレン−３−イル）−アセチルア
ミノ〕−シクロプロパン−カルボン酸 １０mlの２Ｎ塩酸を、４０mlのジオキサンに溶解した８
４．３mg（１８６mmol）の１−〔２−（８−ブロモ−
４，５−ジオキソ−２，３，５，６−テトラヒドロ−４
Ｈ−１−チア−３ａ，６−ジアザ−フェナレン−３−イ
ル）アセチルアミノ〕−シクロプロパン−カルボン酸メ
チルエステルの溶液に加え、次いで混合物を室温で１８
時間撹拌する。２０mlの塩酸を加え次いで混合物を室温
で２４時間撹拌しそして回転蒸発器で濃縮する。得られ
た沈殿物を大量の水で中性になるまで洗いそして高真空
下（６０°）で乾燥する。５３．２mg（１２１mmol）
（＝６５％）の１−〔２−（８−ブロモ−４，５−ジオ
キソ−２，３，５，６−テトラヒドロ−４Ｈ−１−チア
−３ａ，６−ジアザ−フェナレン−３−イル）−アセチ
ルアミノ〕−シクロプロパン−カルボン酸をベージュ粉
末の形で得る；ｍ．ｐ．：３００−３０２°； ¹Ｈ−Ｎ
ＭＲ（ｄ₆ −ＤＭＳＯ，３００ＭＨｚ）：０．９７
（ｍ，２Ｈ）；１．３０（ｍ，２Ｈ）；２．３６−２．
６３（ｍ，約３Ｈ）；３．２１（ｓｂｒ，２Ｈ）；５．
５２（ｍ，１Ｈ）；７．０７（ｍ，１Ｈ）；７．２４
（ｍ，１Ｈ）；８．５５（ｓ，１Ｈ）；１２．０９（ｓ
ｂｒ，１Ｈ）；１２．３６（ｓｂｒ，１Ｈ）；ＦＡＢ−
ＭＳ：４４０，４４２（Ｍ⁺ ）。例１８ ：２−〔２−（８−ブロモ−４，５−ジオキソ−
２，３，５，６−テトラヒドロ−４Ｈ−１−チア−３
ａ，６−ジアザ−フェナレン−３−イル）−アセチルア
ミノ〕−３，３−ジメチル−酪酸 ２mlの三フッ化酢酸を、５mlのジクロロメタンに溶解し
た１１３mg（２１４．６mmol）の２−〔２−（８−ブロ
モ−４，５−ジオキソ−２，３，５，６−テトラヒドロ
−４Ｈ−１−チア−３ａ，６−ジアザ−フェナレン−３
−イル）−アセチルアミノ〕−３，３−ジメチル酪酸第
三ブチルエステルの溶液に加え次いで混合物を室温で５
時間撹拌する。溶剤を回転蒸発器で除きそして残留物を
１mlのジメチルホルムアミドに溶解し次いで５０mlの氷
水中で撹拌する。沈殿生成物を濾別し、大量の水で洗い
高真空下（６０°）で乾燥する。３２．８mg（７０mmo
l）（＝３３％）の２−〔２−（８−ブロモ−４，５−
ジオキソ−２，３，５，６−テトラヒドロ−４Ｈ−１−
チア−３ａ，６−ジアザ−フェナレン−３−イル）−ア
セチルアミノ〕−３，３−ジメチル−酪酸を白色粉末の
形で得る；ｍ．ｐ．：１９５−１９８°； ¹Ｈ−ＮＭＲ
（ｄ₆ −ＤＭＳＯ，３００ＭＨｚ）：０．９３（ｄ，９
Ｈ）；２．８５−２．９６（ｍ，１Ｈ）；３．１５−
３．１９（ｍ，２Ｈ）；４．１０（ｄｄ，１Ｈ）；５．
５５（ｍ，１Ｈ）；７．０７（ｍ，１Ｈ）；７．２６
（ｍ，１Ｈ）；８．１０（ｄｄ，１Ｈ）；１２．１２
（ｓｂｒ，１Ｈ）；１２．５５（ｓｂｒ，１Ｈ）；ＦＡ
Ｂ−ＭＳ：４７０，４７２（Ｍ⁺ ＋１）；ＴＬＣ：（ジ
クロロエタノール／エタノール＝９：１）Ｒ_f ＝０．０
７。例１９ ：２，２−ジメチル−プロピオン酸（８−ブロモ
−４，５−ジオキソ−２，３，５，６−テトラヒドロ−
４Ｈ−１−チア−３ａ，６−ジアザ−フェナレン−３−
イル）−アセトキシメチルエステル ５mlのジメチルホルムアミド中の２０１．４mg（５６
３．９mmol）の８−ブロモ−４，５−ジオキソ−２，
３，５，６−テトラヒドロ−４Ｈ−１−チア−３ａ，６
−ジアザ−フェナレン−３−イル−酢酸、４２．９mg
（３１０．１mmol）のＫ₂ ＣＯ₃ および９８．３μｇ
（６７６．６mmol）のピバル酸クロロメチルエステルの
混合物を、室温で一夜撹拌する。混合物を氷水に注ぎそ
して５０°でわずかに濃縮し、次いで沈殿生成物を濾別
し、水で洗い高真空下（６０°）で乾燥する。５６．５
mg（１２０mmol）（＝２１％）の２，２−ジメチル−プ
ロピオン酸（８−ブロモ−４，５−ジオキソ−２，３，
５，６−テトラヒドロ−４Ｈ−１−チア−３ａ，６−ジ
アザ−フェナレン−３−イル）−アセトキシメチルエス
テルを白色粉末の形で得る；ｍ．ｐ．：１６３−１６７
°； ¹Ｈ−ＮＭＲ（ｄ₆ −ＤＭＳＯ，３００ＭＨｚ）：
１．０７−１．２４（ｍ，９Ｈ）；２．６５−２．９３
（ｍ，２Ｈ）；３．２０（ｍ，２Ｈ）；５．４８（ｍ，
１Ｈ）；５．７０（ｍ，２Ｈ）；７．０６（ｄ，１
Ｈ）；７．２５（ｄ，１Ｈ）；１２．１４（ｓｂｒ，１
Ｈ）；ＦＤ−ＭＳ：４７０，４７２（Ｍ⁺ ）。例２０ ：例１９に記載した方法と同様の方法により、安
息香酸（８−ブロモ−４，５−ジオキソ−２，３，５，
６−テトラヒドロ−４Ｈ−１−チア−３ａ，６−ジアザ
−フェナレン−３−イル）−アセトキシメチルエステル
を調製することができる；収率：７１％；ｍ．ｐ．：１
４０−１４８°； ¹Ｈ−ＮＭＲ（ｄ₆ −ＤＭＳＯ，３０
０ＭＨｚ）：２．６５−２．９８（ｍ，２Ｈ）；３．２
０（ｍ，２Ｈ）；５．５２（ｍ，１Ｈ）；５．９６
（ｍ，２Ｈ）；７．０７（ｄ，１Ｈ）；７．２４（ｍ，
１Ｈ）；７．５７（ｍ，２Ｈ）；７．７０（ｍ，１
Ｈ）；８．００（ｍ，２Ｈ）；１２．１１（ｓｂｒ，１
Ｈ）；ＦＤ−ＭＳ：４９０，４９２（Ｍ⁺ ）；分析：Ｃ
４８．８９％（４８．８９）；Ｈ３．２３％（３．０
８）；Ｎ５．９６％（５．７０）。例２１ ：例９に記載した方法と同様の方法により８−ブ
ロモ−４，５−ジオキソ−２，３，５，６−テトラヒド
ロ−４Ｈ−１−チア−３ａ，６−ジアザ−フェナレン−
３−イル−酢酸メトキシカルボニルメチルエステルを調
製することができる；収率：５６％；ｍ．ｐ．：１８５
−１９１°； ¹Ｈ−ＮＭＲ（ｄ₆ −ＤＭＳＯ，３００Ｍ
Ｈｚ）：２．６５−２．９８（ｍ，２Ｈ）；３．２４
（ｍ，２Ｈ）；３．６２（ｓ，３Ｈ）；４．７３（ｓ，
２Ｈ）；５．５３（ｍ，１Ｈ）；７．０８（ｄ，１
Ｈ）；７．２６（ｄ，１Ｈ）；１２．１３（ｓｂｒ，１
Ｈ）；ＦＤ−ＭＳ：４２８，４３０（Ｍ⁺ ）；分析：Ｃ
４１．１６％（４１．９７）；Ｈ．１４％（３．０
５）；Ｎ７．６９％（６．５３）。例２２ ：２−（８−ブロモ−４，５−ジオキソ−２，
３，５，６−テトラヒドロ−４Ｈ−１−チア−３ａ，６
−ジアザ−フェナレン−３−イル）−アセトアミド ねじ山型ボンベ管内で、３０mlの４Ｎメタノール性アン
モニア溶液中の１．０ｇ（２．６mmol）の８−ブロモ−
４，５−ジオキソ−２，３，５，６−テトラヒドロ−４
Ｈ−１−チア−３ａ，６−ジアザ−フェナレン−３−イ
ル酢酸エチルエステルを１００℃で８時間加熱する。沈
殿生成物を濾別し、エタノールで洗いそして高真空下
（６０°）で乾燥する。３７０mg（１．０４mmol）（＝
４０％）の２−（８−ブロモ−４，５−ジオキソ−２，
３，５，６−テトラヒドロ−４Ｈ−１−チア−３ａ，６
−ジアザ−フェナレン−３−イル）−アセトアミドを灰
色粉末の形で得る；ｍ．ｐ．＞３２０°； ¹Ｈ−ＮＭＲ
（ｄ₆ −ＤＭＳＯ，３００ＭＨｚ）：２．３２−２．７
０（ｍ，２Ｈ）；３．１７−３．３０（ｍ，２Ｈ）；
５．５２（ｍ，１Ｈ）；６．９９（ｓｂｒ）；７．０６
（ｄ，１Ｈ）；７．２４（ｄ，１Ｈ）；７．４５（ｓｂ
ｒ，１Ｈ）；１１．５８（ｓｂｒ，１Ｈ）；ＦＤ−Ｍ
Ｓ：３５５，３５７（Ｍ⁺ ）；分析：Ｃ４０．５５％
（４０．４６）；Ｈ３．１９％（２．８３）；Ｎ１１．
４０％（１１．８０）；ＴＬＣ：（ジクロロメタン／メ
タノール＝９：１）Ｒ_f ＝０．０７。例２３ ：８−ブロモ−４，５−ジオキソ−２，３，５，
６−テトラヒドロ−４Ｈ−１−チア−３ａ，６−ジアザ
−フェナレン−３−イル−アセトニトリル ３９６μｌ（４．３２mmol）のオキシ塩化リンを、アル
ゴン下、２０mlのジメチルホルムアミドに溶解した７７
０mg（２．１６mmol）の２−（８−ブロモ−４，５−ジ
オキソ−２，３，５，６−テトラヒドロ−４Ｈ−１−チ
ア−３ａ，６−ジアザ−フェナレン−３−イル）アセト
アミドの９０°に加熱された溶液に射出し、次いで混合
物を２時間撹拌する。次いで混合物を氷水に注ぎ次いで
生成沈殿物を濾別し、大量の水で洗い次いで高真空下
（６０°）で乾燥する。生成中間体（イミン塩化物）を
ジクロロメタンを用い少量のシリカゲルで濾過し、乾燥
し３０mlのジオキサンに溶解し次いで３．１６mlの１Ｎ
水酸化ナトリウム溶液を用い室温で２時間加水分解す
る。混合物を再び氷水内に注ぎそして少量の塩酸で酸性
化する。生成沈殿物を濾別し、水で洗いそして高真空下
（６０°）で乾燥する。４２１．５mg（１．２５mmol）
（＝５８％）の８−ブロモ−４，５−ジオキソ−２，
３，５，６−テトラヒドロ−４Ｈ−１−チア−３ａ，６
−ジアザ−フェナレン−３−イル−アセトニトリルを黄
色粉末の形で得る；ｍ．ｐ．：２３５−２５０°； ¹Ｈ
−ＮＭＲ（ｄ₆ −ＤＭＳＯ，３００ＭＨｚ）：２．９５
−２．９９（ｍ，２Ｈ）；３．２７（ｍ，２Ｈ）；５．
５５（ｍ，１Ｈ）；７．０９（ｄ，１Ｈ）；７．２９
（ｄ，１Ｈ）；１２．１９（ｓ，１Ｈ）；ＦＤ−ＭＳ：
３３７，３３９（Ｍ⁺ ）。分析：（約１当量の水を含
む）：Ｃ４０．５３％（４２．６２）；Ｈ２．６７％
（２．３８）；Ｎ１１．５２％（１２．４３）；ＴＬ
Ｃ：（ジクロロメタン／メタノール＝１９：１）Ｒ_f ＝
０．１１。例２４ ：８−ブロモ−３−（２Ｈ−テトラゾール−５−
イルメチル）−２，３−ジヒドロ−６Ｈ−１−チア−３
ａ，６−ジアザ−フェナレン−４，５−ジオン ５mlのＮ−メチル−２−ピロリドンに溶解した２００mg
（５９１mmol）の８−ブロモ−４，５−ジオキソ−２，
３，５，６−テトラヒドロ−４Ｈ−１−チア−３ａ，６
−ジアザ−フェナレン−３−イル−アセトニトリル、１
１５．３mg（１．７７４mmol）のナトリウムアジドおよ
び１２２．１mg（８８７mmol）のトリエチルアミン塩酸
塩の溶液を、Ｎ₂ 下１５０°で４時間加熱する。混合物
を放冷し、次いで１００mlの氷水に注ぎ、塩酸で酸性化
し次いで各々１５０mlの酢酸エチルで２回抽出する。次
いで有機相を飽和塩化ナトリウム溶液で洗い次いで硫酸
マグネシウムで乾燥する。溶剤を回転蒸発器で除去し次
いで残留物を高真空下（６０°）で乾燥する。生成オイ
ルを５mlのジメチルホルムアミドに吸収させ次いで生成
物を１００mlの酸性氷水内に撹拌することにより沈殿さ
せる。沈殿物を水で洗い次いで高真空下で乾燥する。１
０１．３mg（２６６．４mmol）（＝４５％）の８−ブロ
モ−３−（２Ｈ−テトラゾール−５−イルメチル）−
２，３−ジヒドロ−６Ｈ−１−チア−３ａ，６−ジアザ
−フェナレン−４，５−ジオンを褐色粉末の形で得る；
ｍ．ｐ．：２３８−２４２°； ¹Ｈ−ＮＭＲ（ｄ₆ −Ｄ
ＭＳＯ，３００ＭＨｚ）：３．２０−３．４０（ｍ，４
Ｈ）；５．５８（ｍ，１Ｈ）；７．１０（ｄ，１Ｈ）；
７．３０（ｄ，１Ｈ）；１２．１４（ｓ，１Ｈ）；１
６．２０（ｓｂｒ，１Ｈ）；ＦＤ−ＭＳ：３８０，３８
２（Ｍ⁺ ）。例２５ ：３（Ｓ）−８−ブロモ−４，５−ジオキソ−
２，３，５，６−テトラヒドロ−４Ｈ−１−チア−３
ａ，６−ジアザ−フェナレン−３−イル−酢酸エチルエ
ステル 鏡像異性的純粋な３（Ｓ）−８−ブロモ−４，５−ジオ
キソ−２，３，５，６−テトラヒドロ−４Ｈ−１−チア
−３ａ，６−ジアザ−フェナレン−３−イル−酢酸エチ
ルエステルを、ラセミ化合物のＨＰＬ−クロマトグラフ
ィー分離により得る。カラム：カイラセルＯＪ１０ｘ５
０cm；ヘキサン／エタノール＝７：３；１５０ml／分；
約４５バール；ｄｅｔ．：２２０nm。フラッシュカラム
クロマトグラフィー：シリカゲル、ジクロロメタン／メ
タノール＝９：１、により引き続き鏡像異性的に純粋な
分画を得る；〔α〕_D ＝＋１０４．４°（ｃ＝０．２
５、ジメチルホルムアミド）； ¹Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ
₃ ，３００ＭＨｚ）：ラセミ化合物と同一（例４）；Ｅ
Ｉ−ＭＳ：３８４，３８６（Ｍ⁺ ）；分析：Ｃ４４．４
２％（４３．６５）；Ｈ３．７３％（３．４０）；Ｎ
７．０６％（７．２７）。例２６ ：３（Ｒ）−８−ブロモ−４，５−ジオキソ−
２，３，５，６−テトラヒドロ−４Ｈ−１−チア−３
ａ，６−ジアザ−フェナレン−３−イル−酢酸エチルエ
ステル 例２５に従ってラセミ化合物の分割に類似した調製す
る；〔α〕_D ＝−１１１．２°（ｃ＝０．２５、ジメチ
ルホルムアミド）； ¹Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃ ，３００
ＭＨｚ）：ラセミ化合物に一致（例１）。ＥＩ−ＭＳ：
３８４，３８６（Ｍ⁺ ）；分析：Ｃ４３．６１％（４
３．６５）；Ｈ３．５９％（３．４０）；Ｎ６．９３％
（７．２７）。例２７ ：３（Ｓ）−８−ブロモ−４，５−ジオキソ−
２，３，５，６−テトラヒドロ−４Ｈ−１−チア−３
ａ，６−ジアザ−フェナレン−３−イル−酢酸 鏡像異性的に純粋な３（Ｓ）−８−ブロモ−４，５−ジ
オキソ−２，３，５，６−テトラヒドロ−４Ｈ−１−チ
ア−３ａ，６−ジアザ−フェナレン−３−イル−酢酸エ
チルエステルから例５に準じて調製する；〔α〕_D ＝＋
９４．４°（ｃ＝０．２５、ジメチルホルムアミド）；
¹Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃ ，３００ＭＨｚ）：ラセミ化
合物に一致（例２）；ＥＩ−ＭＳ：３５６，３５８（Ｍ
⁺ ）；分析：Ｃ４０．３８％（４０．３５）；Ｈ３．１
５％（２．５４）；Ｎ７．３６％（７．８４）。例２８ ：３（Ｒ）−８−ブロモ−４，５−ジオキソ−
２，３，５，６−テトラヒドロ−４Ｈ−１−チア−３
ａ，６−ジアザ−フェナレン−３−イル−酢酸 鏡像異性的に純粋な３（Ｒ）−８−ブロモ−４，５−ジ
オキソ−２，３，５，６−テトラヒドロ−４Ｈ−１−チ
ア−３ａ，６−ジアザ−フェナレン−３−イル−酢酸エ
チルエステルから例５に準じて調製する；〔α〕_D ＝−
８７．６°（ｃ＝０．２５、ジメチルホルムアミド）；
¹Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃ ，３００ＭＨｚ）：ラセミ化
合物に一致（例２）；ＥＩ−ＭＳ：３５６，３５８（Ｍ
⁺ ）；分析：Ｃ４０．３５％（４０．３５）；Ｈ３．０
９％（２．５４）；Ｎ７．２３％（７．８４）。例２９ ：２−（３（Ｓ）−８−ブロモ−４，５−ジオキ
ソ−２，３，５，６−テトラヒドロ−４Ｈ−１−チア−
３ａ，６−ジアザ−フェナレン−３−イル）−Ｎ−フェ
ニル−アセトアミド 鏡像異性的に純粋な３（Ｓ）−８−ブロモ−４，５−ジ
オキソ−２，３，５，６−テトラヒドロ−４Ｈ−１−チ
ア−３ａ，６−ジアザ−フェナレン−３−イル−酢酸か
ら例５に準じて調製する；〔α〕_D ＝＋１２８．０°
（ｃ＝０．２５、ジメチルホルムアミド）； ¹Ｈ−ＮＭ
Ｒ（ＣＤＣｌ₃ ，３００ＭＨｚ）：ラセミ化合物に一致
（例５）；ＥＩ−ＭＳ：４３１，４３３（Ｍ⁺ ）；分
析：Ｃ４９．９５％（５０．０１）；Ｈ３．６４％
（３．２６）；Ｎ９．１９％（９．７２）。例３０ ：２−（３（Ｒ）−８−ブロモ−４，５−ジオキ
ソ−２，３，５，６−テトラヒドロ−４Ｈ−１−チア−
３ａ，６−ジアザ−フェナレン−３−イル）−Ｎ−フェ
ニル−アセトアミド 鏡像異性的に純粋な３（Ｒ）−８−ブロモ−４，５−ジ
オキソ−２，３，５，６−テトラヒドロ−４Ｈ−１−チ
ア−３ａ，６−ジアザ−フェナレン−３−イル−酢酸か
ら例５に準じて調製する；〔α〕_D ＝−１２４．４°
（ｃ＝０．２５、ジメチルホルムアミド）； ¹Ｈ−ＮＭ
Ｒ（ＣＤＣｌ₃ ，３００ＭＨｚ）：ラセミ化合物に一致
（例５）；ＥＩ−ＭＳ：４３１，４３３（Ｍ⁺ ）；分
析：Ｃ４９．９６％（５０．０１）；Ｈ３．６９％
（３．２６）；Ｎ９．３６％（９．７２）。例３１ ：８−クロロ−２，３，５，６−ジヒドロ−６Ｈ
−１−チア−３ａ，６−ジアザ−フェナレン−４，５−
ジオン 例４に準じて（７−クロロ−２，３−ジヒドロ−ベンゾ
〔１，４〕チアジン−４−イル）−オキソ−酢酸エチル
エステルから調製した。３０mlの氷酢酸および２５mlの
３０％水に溶解した１．０ｇ（２．６mmol）の８−ブロ
モ−４，５−ジオキソ−２，３，５，６−テトラヒドロ
−４Ｈ−１−チア−３ａ，６−ジアザ−フェナレン−３
−イル酢酸エチルエステルを、１００℃で１８時間加熱
する。次いで溶液を殆ど濃縮乾固しそして３００mlの氷
水をそこへ加える。沈殿生成物を濾別し、水で中性にな
るまで洗いそして高真空下（６０°）で乾燥する。６７
０ml（１．６１mmol）（６２％）の８−ブロモ−１，
１，４，５−テトラオキソ−２，３，５，６−テトラヒ
ドロ−１Ｈ，４Ｈ−６−チア−３ａ，６−ジアザ−フェ
ナレン−３−イル−酢酸エチルエステルを白色粉末の形
で得る；ｍ．ｐ．：＞３３０°； ¹Ｈ−ＮＭＲ（ｄ₆ −
ＤＭＳＯ，３００ＭＨｚ）：３．２０−３．２３（ｍ，
２Ｈ）；４．２５−４．２９（ｍ，２Ｈ）；６．９３
（ｄ，１Ｈ）；７．１２（ｄ，１Ｈ）；１２．１１（ｓ
ｂｒ，１Ｈ）；ＥＩ−ＭＳ：２５４，２５６（Ｍ⁺ ＋
１）；分析：Ｃ４７．１５％（４７．１６）；Ｈ２．７
７％（２．８１）；Ｎ１０．９２％（１１．００）；Ｔ
ＬＣ：（ジクロロメタン／メタノール＝１９：１）Ｒ_f
＝０．３２。

【０１７１】出発物質の調製は次の通りである。 ａ）（７−クロロ−２，３−ジヒドロ−ベンゾ〔１，
４〕チアジン−４−イル）−オキソ−酢酸エチルエステ
ル 例４ｂに準じ、７−クロロ−３，４−ジヒドロ−２Ｈ−
ベンゾ〔１，４〕チアジン（ＣＡＮ：１０６０１６−８
４−６）から調製した； ¹Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃ ，３
００ＭＨｚ）：１．１４（ｔ，３Ｈ）；３．２１（ｔ，
２Ｈ）；４．０３（ｔ，２Ｈ）；４．１６（ｑｕａｒ
ｔ，２Ｈ）；６．９７（ｍ，２Ｈ）；７．２２（ｄ，１
Ｈ）；ＦＤ−ＭＳ：２８５，２８７（Ｍ⁺ ）；ＴＬＣ：
（ジクロロメタン／石油エーテル＝１：１）Ｒ_f ＝０．
１０。例３２ ：８−クロロ−４，５−ジオキソ−２，３，５，
６−テトラヒドロ−４Ｈ−１−チア−３ａ，６−ジアザ
−フェナレン−３−イル−酢酸エチルエステル 例４に準じて調製した；収率：３３％；ｍ．ｐ．：２２
２−２２６°； ¹Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃ ，２００ＭＨ
ｚ）：１．２５（ｔ，３Ｈ）；２．６９（ｄｄ，１
Ｈ）；３．００（ｄｄ，１Ｈ）；３．２６（ｄｄ，１
Ｈ）；３．９３（ｄｄ，１Ｈ）；４．１８（ｑ，２
Ｈ）；５．７８（ｍ，１Ｈ）；７．０８（ｄｄ，１
Ｈ）；７．１２（ｄｄ，１Ｈ）；１２．６５（ｓｂｒ，
１Ｈ）；ＦＤ−ＭＳ：３４０，３４２（Ｍ⁺ ）；ＴＬ
Ｃ：（ジクロロメタン／メタノール＝９：１）Ｒ_f＝
０．５６。

【０１７２】出発物質を次のように調製する： ａ）（７−クロロ−３，４−ジヒドロ−２Ｈ−ベンゾ
〔１，４〕チアジン−３−イル）−酢酸エチルエステル （７−クロロ−４Ｈ−ベンゾ〔１，４〕−３−イリデ
ン）−酢酸エチルエステルから出発し例４ａに準じて調
製した；収率：７８％； ¹Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ ₃ ，３
００ＭＨｚ）：１．２８（ｔ，３Ｈ）；２．５７（ｄ
ｄ，１Ｈ）；２．７０（ｄｄ，１Ｈ）；２．８１（ｄ
ｄ，１Ｈ）；３．０１（ｄｄ，１Ｈ）；４．０６（ｍ，
１Ｈ）；４．１８（ｑ，２Ｈ）；４．６７（ｓｂｒ，１
Ｈ，ＮＨ）；６．４０（ｄ，１Ｈ）；６．８４（ｄｄ，
１Ｈ）；６．９８（ｄｄ，２Ｈ）；¹³Ｃ−ＮＭＲ（ＣＤ
Ｃｌ₃ ，７５ＭＨｚ）：１５．２；３１．２；４１．
５；４８．３；６１．９；１１７．５，１１７．９；１
２３．４；１２６．７；１２７．８；１４０．６；１７
２．７；ＴＬＣ：（石油エーテル／酢酸エチル＝９：
１）Ｒ _f ＝０．１２。 ｂ）（７−クロロ−３−エトキシカルボニルメチル−
２，３−ジヒドロ−ベンゾ〔１，４〕チアジン−４−イ
ル）−オキソ酢酸エチルエステル 例４ｃに準じて調製した； ¹Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃ ，
３００ＭＨｚ）：恐らく回転異性体の混合物：１．０９
−１．２５（２ｘｔ，３Ｈ）；２．５６（ｍ，２Ｈ）；
３．００（ｄｄｂｒ，１Ｈ）；３．４８（ｄｄｂｒ，１
Ｈ）；４．１１（ｑｕａｒｔ，４Ｈ）；５．４９（ｍ，
１Ｈ）；６．９４（ｄ，１Ｈ）；７．０２（ｄｄ，１
Ｈ）；７．２５（ｄ，１Ｈ）；ＦＤ−ＭＳ：３７１，３
７３（Ｍ⁺）。ＴＬＣ：（ヘキサン／酢酸エチル＝４：
１）Ｒ_f ＝０．２１。例３３ ：８−クロロ−４，５−ジオキソ−２，３，５，
６−テトラヒドロ−４Ｈ−１−チア−３ａ，６−ジアザ
−フェナレン−３−イル−酢酸 例５に準じて調製した；収率：８２％；融点＞３００
°； ¹Ｈ−ＮＭＲ（ｄ₆−ＤＭＳＯ，３００ＭＨｚ）：
２．５６（ｄｄ，１Ｈ）；２．７７（ｄｄ，１Ｈ）；
３．２８（ｍ，２Ｈ）；５．５０（ｍ，１Ｈ）；６．９
５（ｄ，１Ｈ）；７．１５（ｄ，１Ｈ）；１２．１３
（ｓｂｒ，１Ｈ）；１２．５８（ｓｂｒ，１Ｈ）；ＦＤ
−ＭＳ：３１２，３１４（Ｍ⁺ ）。例３４ ：２−（８−クロロ−４，５−ジオキソ−２，
３，５，６−テトラヒドロ−４Ｈ−１−チア−３ａ，６
−ジアザ−フェナレン−３−イル）−Ｎ−フェニル−ア
セトアミド 例９に準じて調製した；収率：６４％；融点＞３００
°； ¹Ｈ−ＮＭＲ（ｄ₆−ＤＭＳＯ，３００ＭＨｚ）：
２．６２（ｄｄ，１Ｈ）；２．９０（ｄｄ，１Ｈ）；
３．２８（ｍ，２Ｈ）；５．６７（ｍ，１Ｈ）；６．９
６（ｄ，１Ｈ）；７．０４（ｍ，１Ｈ）；７．１７
（ｄ，１Ｈ）；７．３０（ｍ，２Ｈ）；７．５５（ｄ，
２Ｈ）；１０．０４（ｓ，１Ｈ）；１２．１５（ｓｂ
ｒ，１Ｈ）。ＦＤ−ＭＳ：３８７，３８９（Ｍ⁺ ）；分
析：Ｃ５５．６１％（５５．７４）；Ｈ３．９０％
（３．６４）；Ｎ１０．９４％（１０．８３）。例３５ ：８−ブロモ−１，１，４，５−テトラオキソ−
２，３，５，６−テトラヒドロ−１Ｈ，４Ｈ−６−チア
−３ａ，６−ジアザ−フェナレン−３−イル−酢酸エチ
ルエステル ３０mlの氷酢酸および２５mlの３０％水に溶解した１．
０ｇ（２．６mmol）の８−ブロモ−４，５−ジオキソ−
２，３，５，６−テトラヒドロ−４Ｈ−１−チア−３
ａ，６−ジアザ−フェナレン−３−イル酢酸エチルエス
テルの溶液を、１００°で１８時間加熱し次いで殆ど濃
縮乾固する。３００mlの氷水を加える。沈殿生成物を濾
別し、水で中性になるまで洗いそして高真空下（６０
°）で乾燥する。６７０mg（１．６１mmol）（＝６２
％）の８−ブロモ−１，１，４，５−テトラオキソ−
２，３，５，６−テトラヒドロ−１Ｈ，４Ｈ−６−チア
−３ａ，６−ジアザ−フェナレン−３−イル酢酸エチル
エステルを白色粉末の形で得る；ｍ．ｐ．：２５７−２
６１°； ¹Ｈ−ＮＭＲ（ｄ₆ −ＤＭＳＯ，３００ＭＨ
ｚ）：１．２０（ｔ，３Ｈ）；２．６８−２．９０
（ｍ，１Ｈ）；３．０８−３．２５（ｍ，１Ｈ）；４．
０５（ｍ，２Ｈ）；４．１１（ｑ，２Ｈ）；５．６２
（ｍ，１Ｈ）；７．５０（ｄ，１Ｈ）；７．７３（ｄ，
１Ｈ）；１２．５０（ｓｂｒ，１Ｈ）；ＦＤ−ＭＳ：４
１６，４１８（Ｍ⁺ ）；分析：Ｃ３８．５１％（４０．
３０）；Ｈ３．０９％（３．１４）；Ｎ６．８４％
（６．７１）；ＴＬＣ：（ジクロロメタン／ヘキサン／
メタノール＝６：３：１）Ｒ_f ＝０．２１。例３６ ：８−ブロモ−１，１，４，５−テトラオキソ−
２，３，５，６−テトラヒドロ−１Ｈ，４Ｈ−６−チア
−３ａ，６−ジアザ−フェナレン−３−イル−酢酸 例５に準じて調製した；収率：８３％；融点：２８１−
２８４°； ¹Ｈ−ＮＭＲ（ｄ₆ −ＤＭＳＯ，３００ＭＨ
ｚ）：２．５０（ｄｄ，１Ｈ）；３．１８（ｄｄ，１
Ｈ）；４．０５（ｍ，２Ｈ）；５．５８（ｍ，１Ｈ）；
７．５０（ｄ，１Ｈ）；７．７２（ｄ，１Ｈ）；１２．
５０（ｓｂｒ，２Ｈ）；ＦＤ−ＭＳ：３８８，３９０
（Ｍ⁺ ）；分析：Ｃ３７．２６％（３７．０３）；Ｈ
２．４９％（２．３３）；Ｎ７．１９％（７．２０）。例３７ ：２−（８−ブロモ−１，１，４，５−テトラオ
キソ−２，３，５，６−テトラヒドロ−１Ｈ，４Ｈ−６
−チア−３ａ，６−ジアザ−フェナレン−３−イル）−
Ｎ−フェニル−アセトアミド 例５に準じて調製した；収率：８８％；融点：１８５−
１９０°； ¹Ｈ−ＮＭＲ（ｄ₆ −ＤＭＳＯ，２００ＭＨ
ｚ）：２．７５−２．９０（ｍ，１Ｈ）；３．１５−
３．２５（ｍ，１Ｈ）；４．０５（ｍ，２Ｈ）；５．８
０（ｍ，１Ｈ）；７．０８（ｍ，１Ｈ）；７．３０
（ｍ，２Ｈ）；７．５６（ｍ，３Ｈ）；７．７７（ｍ，
１Ｈ）；１０．０９（ｓ，１Ｈ）；１２．５０（ｓｂ
ｒ，１Ｈ）；ＦＤ−ＭＳ：４６３，４６５（Ｍ⁺ ）；分
析：Ｃ４６．４８％（４６．５６）；Ｈ３．４７％
（３．０４）；Ｎ９．８７％（９．０５）；ＴＬＣ：
（ジクロロメタン／メタノール＝９：１）Ｒ_f ＝０．２
０。例３８ ：８−クロロ−４，５−ジオキソ−２，３，５，
６−テトラヒドロ−４Ｈ−１−オキサ−３ａ，６−ジア
ザ−フェナレン−３−イル−酢酸エチルエステル ５２mlのシュウ酸ジエチルエステルに溶解した５−アミ
ノ−７−クロロ−３，４−ジヒドロ−２Ｈ−ベンゾ
〔１，４〕オキサジン−３−イル酢酸エチルエステルの
溶液を、８０°および６０mbarで１８時間回転蒸発器上
で回転させる。生成固体をジエチルエーテルに懸濁さ
せ、濾過し、２５０mlのジエチルエーテルで洗いそして
高真空下（８０°）で乾燥させる。３．３５ｇ（１０．
３１mmol）（＝６６％）の８−クロロ−４，５−ジオキ
ソ−２，３，５，６−テトラヒドロ−４Ｈ−１−オキサ
−３ａ，６−ジアザ−フェナレン−３−イル−酢酸エチ
ルエステルを白色結晶の形で得る；ｍ．ｐ．：２６５
°； ¹Ｈ−ＮＭＲ（ｄ₆ −ＤＭＳＯ，３００ＭＨｚ）：
１．１６（ｔ，３Ｈ）；２．６２（ｍ，２Ｈ）；４．０
７（ｑ，２Ｈ）；４．１２（ｍ，１Ｈ）；４．４８
（ｄ，１Ｈ）；４．９７（ｍ，１Ｈ）；６．７９（ｄ，
１Ｈ）；６．８８（ｄ，１Ｈ）；１２．１４（ｓｂｒ，
１Ｈ）；ＦＤ−ＭＳ：３２４，３２６（Ｍ⁺ ）。

【０１７３】出発物質を次のように調製する。 ａ）２−（２−クロロメチル−４−ニトロ−２，３−ジ
ヒドロ−ベンゾ−オキサゾール−２−イル）−酢酸エチ
ルエステル １３０mlのベンゼン中の３０ｇ（１９４．６mmol）の２
−ヒドロキシ−６−ニトロアニリンおよび２６．５mlの
４−クロロ−アセト−酢酸エチルエステルの混合物を、
水分離器中で１２時間沸とうする。溶剤を除去し次いで
褐色の半結晶残留物をシリカゲルによるフラッシュクロ
マトグラフィー法（溶離液：石油エーテル／酢酸エチル
＝９：１）に委ねる。４９．７ｇ（１６５．３mmol）
（＝８５％）の（２−クロロメチル−４−ニトロ−２，
３−ジヒドロ−ベンゾ−オキサゾール−２−イル）−酢
酸エチルエステルを螢光−オレンジ色結晶の形で得る；
ｍ．ｐ．：９０−９１°； ¹Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃ ，
３００ＭＨｚ）：１．２４（ｔ，３Ｈ）；３．０９
（ｄ，１Ｈ）；３．２８（ｄ，１Ｈ）；３．９２（ｄ
ｄ，２Ｈ）；４．１９（ｑ，２Ｈ）；６．６３（ｔ，１
Ｈ）；６．８２（ｄ，１Ｈ）；７．０９（ｓｂｒ，１
Ｈ，ＮＨ）；７．４８（ｄ，１Ｈ）；¹³Ｃ−ＮＭＲ（Ｃ
ＤＣｌ₃ ，５０ＭＨｚ）：１４．５；４１．６；４８．
１；６２．１；１００．６；１１２．２；１１６．４；
１１８．７；１３５．８；１５１．５；１６９．２；Ｆ
Ｄ−ＭＳ：３００，３０２（Ｍ⁺ ）；ＴＬＣ：（石油エ
ーテル／酢酸エチル＝９：１）Ｒ_f ＝０．２３。 ｂ）２−（６−クロロ−２−クロロメチル−４−ニトロ
−２，３−ジヒドロ−ベンゾオキサゾール−２−イル）
−酢酸エチルエステル ５００mlのジメチルホルムアミドに溶解した４５ｇ（１
４９．７mmol）の（２−クロロメチル−４−ニトロ−
２，３−ジヒドロ−ベンゾオキサゾール−２−イル）−
酢酸エチルエステルおよび２４ｇ（１７９．６mmol）の
Ｎ−クロロスクシンイミドの溶液を６０°で１８時間加
熱する。溶液を高真空下、回転蒸発器上で濃縮し、そし
て褐色−オレンジ色残留物をジクロロメタンに吸収さ
せ、水で２回そして飽和塩化ナトリウム溶液で洗い、硫
酸マグネシウムで乾燥しそして回転蒸発器上で乾燥する
（５０°）。５８．２ｇ（＞１００％）の（６−クロロ
−２−クロロメチル−４−ニトロ−２，３−ジヒドロ−
ベンゾオキサゾール−２−イル）−酢酸エチルエステル
をＮＭＲに従って純粋である帯赤色−オレンジ色オイル
の形で得る； ¹Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃ ，３００ＭＨ
ｚ）：１．２６（ｔ，３Ｈ）；３．１８（ＡＢ−ｓｙｓ
ｔ．，２Ｈ）；３．９０（ｄｄ，１Ｈ）；４．１８
（ｑ，２Ｈ）；６．６９（ｄｄ，１Ｈ）；７．１２（ｓ
ｂｒ，１Ｈ，ＮＨ）；７．４８（ｄ，１Ｈ）；ＴＬＣ：
（ジクロロメタン／ヘキサン＝７：３）Ｒ_f ＝０．２
７。 ｃ）（７−クロロ−５−ニトロ−４Ｈ−ベンゾ〔１，
４〕オキサジン−３−イリデン）−酢酸エチルエステル １５０mlのＴＨＦに溶解した３０ｇ（８９．５１mmol）
の６−クロロ−２−クロロメチル−４−ニトロ−２，３
−ジヒドロ−ベンゾオキサゾール−２−イル）−酢酸エ
チルエステルの溶液を、１５０mlのＴＨＦに懸濁液させ
た４．７ｇ（１０７．４mmol）の水素化ナトリウム（オ
イル中５５％懸濁液の形で）の懸濁液に０−５°で滴下
する。混合物を３０分間撹拌し次いで室温に加熱し次い
で１時間撹拌する。溶剤を回転蒸発器（５６°）上で除
去し次いで半結晶質の黒色オイルをシリカゲルでクロマ
トグラフィー処理する（ジクロロメタン／ヘキサン＝
７：３）。エーテル／ヘキサンから結晶化させ、２０．
３ｇ（６８mmol）（７６％）の（７−クロロ−５−ニト
ロ−４Ｈ−ベンゾ〔１，４〕−オキサジン−３−イリデ
ン）−酢酸エチルエステルをオレンジ色結晶の形で得
る；ｍ．ｐ．：１６２−１６３°； ¹Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤ
Ｃｌ₃ ，３００ＭＨｚ）：１．３３（ｔ，３Ｈ）；４．
２８（ｑ，２Ｈ）；４．６７（ｄ，２Ｈ）；４．９８
（ｓ，１Ｈ）；７．１８（ｄｄ，１Ｈ）；７．８９
（ｄ，１Ｈ）；１２．２７（ｓｂｒ，１Ｈ）；ＴＬＣ：
（ジクロロメタン／ヘキサン＝７：３）Ｒ_f ＝０．４
０。 ｄ）５−アミノ−７−クロロ−４Ｈ−ベンゾ〔１，４〕
オキサジン−３−イリデン酢酸エチルエステル ７．０ｇ（２３．４４mmol）の７−クロロ−５−ニトロ
−４Ｈ−ベンゾ〔１，４〕−オキサジン−３−イリデン
酢酸エチルエステルを、室温および常圧下６時間２ｇの
ラネーニッケルを用い３００mlのエタノール中で水素添
加する。反応混合物を濾過し次いで濃縮しそして残留物
をシリカゲルでクロマトグラフィー処理する（ジクロロ
メタン／ヘキサ＝７：３）。エタノール／ヘキサンから
結晶化後、５．６７（２１．１mmol）（９０％）の５−
アミノ−７−クロロ−４Ｈ−ベンゾ〔１，４〕オキサジ
ン−３−イリデン−酢酸エチルエステルを微細桃色針状
形で得る；ｍ．ｐ．：１５８−１５９°。 ¹Ｈ−ＮＭＲ
（ＣＤＣｌ₃ ，２００ＭＨｚ）：１．２８（ｔ，３
Ｈ）；３．５５（ｓｂｒ，２Ｈ，ＮＨ₂ ）；４．１７
（ｑ，２Ｈ）；４．５１（ｓ，２Ｈ）；４．７２（ｓ，
１Ｈ）；６．４２（ｄ，１Ｈ）；６．４５（ｄ，１
Ｈ）；９．９５（ｓｂｒ，１Ｈ，ＮＨ）；ＦＤ−ＭＳ：
２６８，２７０（Ｍ⁺ ）；ＴＬＣ：（ジクロロメタン／
ヘキサン＝７：３）Ｒ_f＝０．２１。 ｅ）５−アミノ−７−クロロ−３，４−ジヒドロ−２Ｈ
−ベンゾ〔１，４〕オキサジン−３−イル酢酸エチルエ
ステル 例４ａに準じて調製する；収率９４％帯黄色オイル； ¹
Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ ₃ ，３００ＭＨｚ）：１．２７
（ｔ，３Ｈ）；２．５５（ｄ，２Ｈ）；３．３８（ｓｂ
ｒ，３Ｈ，ＮＨ，ＮＨ₂ ）；３．８９−３．９５（ｍ，
２Ｈ）；４．１４−４．２３（ｍ，３Ｈ）；４．１７
（ｑ，２Ｈ）；６．３３（ｄｄ，１Ｈ）；６．３８（ｄ
ｄ，１Ｈ）；¹³Ｃ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃ ，５０ＭＨ
ｚ）：１４．７；３７．２；４７．３；６１．４；６
８．８；１０８．８；１０９．５；１１９．７；１２
５．０；１３７．２；１４５．８；１７１．９；ＴＬ
Ｃ：（ジクロロメタン）Ｒ_f ＝０．１３。例３９ ：８−クロロ−４，５−ジオキソ−２，３，５，
６−テトラヒドロ−４Ｈ−１−オキサ−３ａ，６−ジア
ザ−フェナレン−３−イル−酢酸 例５に準じて調製する；収率９８％白色ベージュ結晶；
融点：２３６−２４０°； ¹Ｈ−ＮＭＲ（ｄ₆ −ＤＭＳ
Ｏ，２００ＭＨｚ）：２．５２（ｔ，３Ｈ）；４．１２
（ｄｄ，１Ｈ）；４．５０（ｄ，２Ｈ）；４．９４（ｔ
ｄ，１Ｈ）；６．８３（ｄ，１Ｈ）；６．８８（ｄ，１
Ｈ）；１２．１３（ｓ，１Ｈ）；１２．６５（ｓｂｒ，
１Ｈ）；ＦＤ−ＭＳ：２９６，２９８（Ｍ⁺ ）；分析：
Ｃ４４．３１％（４６．３６）；Ｈ３．４３％（３．４
３）；Ｎ８．５７％（９．０１）；Ｃ１４．５６％
（４．５８）。例４０ ：８−クロロ−４，５−ジオキソ−２，３，５，
６−テトラヒドロ−４Ｈ−１−オキサ−３ａ，６−ジア
ザ−フェナレン−３−イル−酢酸ナトリウム塩例２ａに
準じて調製する。例４１ ：２−（８−クロロ−４，５−ジオキソ−２，
３，５，６−テトラヒドロ−４Ｈ−１−オキサ−３ａ，
６−ジアザ−フェナレン−３−イル）−Ｎ−フェニル−
アセトアミド 例９に準じて調製する；収率９３％薄ベージュ結晶；
ｍ．ｐ．：２６３−２６５°； ¹Ｈ−ＮＭＲ（ｄ₆ −Ｄ
ＭＳＯ，２００ＭＨｚ）：２．６０−２．７３（ｍ，２
Ｈ）；４．１５（ｄｄ，１Ｈ）；４．５０（ｄ，２
Ｈ）；５．１０（ｍ，１Ｈ）；６．８２（ｄ，１Ｈ）；
６．８８（ｄ，１Ｈ）；７．０５（ｔ，１Ｈ）；７．３
０（ｔ，２Ｈ）；７．５５（ｄ，２Ｈ）；１０．０５
（ｓ，１Ｈ）；１２．１０（ｓｂｒ，１Ｈ）；ＦＤ−Ｍ
Ｓ：３７１，３７３（Ｍ⁺ ）；分析：Ｃ５５．１１％
（５８．１５）；Ｈ４．０３％（３．８０）；Ｎ１１．
１１％（１１．３０）；Ｃ１９．９４％（９．５４）。例４２ ：例４１に記載した方法に類似の方法で、２−
（８−クロロ−４，５−ジオキソ−２，３，５，６−テ
トラヒドロ−４Ｈ−１−オキサ−３ａ，６−ジアザ−フ
ェナレン−３−イル）−Ｎ−メチル−Ｎ−Ｎ−フェニル
アセトアミドで調製することが可能である；収率：８２
％ベージュ結晶； ¹Ｈ−ＮＭＲ（ｄ₆ −ＤＭＳＯ，３０
０ＭＨｚ）：２．３２（ｄ，２Ｈ）；３．１５（ｓ，３
Ｈ）；４．０７（ｄ，１Ｈ）；４．４５（ｄ，１Ｈ）；
４．９７（ｍ，１Ｈ）；６．７０（ｄ，１Ｈ）；６．７
８（ｄ，１Ｈ）；７．２８−７．４５（ｍ，５Ｈ）；Ｆ
Ｄ−ＭＳ：３８５，３８７（Ｍ⁺ ）；分析：Ｃ５８．０
８％（５９．１５）；Ｈ４．３４％（４．１８）；Ｎ１
２．００％（１０．８９）；ＴＬＣ：（ジクロロメタン
／メタノール／ＮＨ₃ ＝７００：５０：１）Ｒ_f ＝０．
３７。例４３ ：Ｎ−アダマンタン−１−イル−２−（２−（８
−クロロ−４，５−ジオキソ−２，３，５，６−テトラ
ヒドロ−４Ｈ−１−オキサ−３ａ，６−ジアザ−フェナ
レン−３−イル）−アセトアミド 例９に準じて調製する；ベージュ粉末；ｍ．ｐ．：２３
５−２３８°； ¹Ｈ−ＮＭＲ（ｄ₃ −ＤＭＳＯ，２００
ＭＨｚ）：１．６０−２．０５（ｍ，約１５Ｈ）；２．
３２−２．４６（ｍ，２Ｈ）；４．１０（ｄｄ，１
Ｈ）；４．３８（ｄ，１Ｈ）；４．１１（ｑ，１Ｈ）；
４．９７（ｍ，１Ｈ）；６．７８（ｄ，１Ｈ）；６．８
８（ｄ，１Ｈ）；７．５０（ｓｂｒ，１Ｈ）１２．１０
（ｓｂｒ，１Ｈ）；ＦＤ−ＭＳ：４２９，４３１
（Ｍ⁺ ）。例４４ ：２−（８−クロロ−４，５−ジオキソ−２，
３，５，６−テトラヒドロ−４Ｈ−１−オキサ−３ａ，
６−ジアザ−フェナレン−３−イル）−Ｎ，Ｎ−ビス
（２−ヒドロキシ−エチル）アセトアミド 例９に準じて調製する；収率１５％白色結晶；ｍ．
ｐ．：２２０−２２２°； ¹Ｈ−ＮＭＲ（ｄ₃ −ＤＭＳ
Ｏ，３００ＭＨｚ）：１．６０−１．８２（ｍ，２
Ｈ）；３．４２（ｍ，６Ｈ）；４．１２（ｄ，１Ｈ）；
４．２５（ｄ，１Ｈ）；４．７２（ｄｂｒ，２Ｈ）；
４．９７（ｄ，１Ｈ）；６．８０（ｄ，１Ｈ）；６．８
８（ｄ，１Ｈ）；１２．１０（ｓｂｒ，１Ｈ）；ＦＤ−
ＭＳ：３８３，３８５（Ｍ⁺ ）。例４５ ：２，３−ジヒドロ−６Ｈ−１−オキサ−３ａ，
６−ジアザ−フェナレン−４，５−ジオン 例３８に準じて調製する；収率７５％黄色結晶；ｍ．
ｐ．：２９１°； ¹Ｈ−ＮＭＲ（ｄ₆ −ＤＭＳＯ，３０
０ＭＨｚ）：４．０３（ｔ，２Ｈ）；４．３２（ｔ，２
Ｈ）；４．０３（ｔ，２Ｈ）；６．６９−６．７７
（ｍ，２Ｈ）；７．００−７．０５（ｍ，１Ｈ）；１
２．０２（ｓｂｒ，１Ｈ，ＨＮ）；¹³Ｃ−ＮＭＲ（ｄ₆
−ＤＭＳＯ，７４ＭＨｚ）：４０．３５；６３．６１；
１０８．０８；１１０．６６；１１４．０６；１２３．
９７；１２６．６２；１４３．８８；１５３．２９；１
５４．２２；ＦＤ−ＭＳ：２０４（Ｍ⁺ ）；分析：Ｃ５
８．６８％（５８．８２）；Ｈ４．０４％（３．９
５）；Ｎ１３．３３％（１３．７２）。 例４６ ：４，５−ジオキソ−２，３，５，６−テトラヒ
ドロ−４Ｈ−１−オキサ−３ａ，６−ジアザ−フェナレ
ン−３−イル−酢酸エチルエステル 例３８に準じて調製する；収率７９％白色結晶；ｍ．
ｐ．：２５６−２５７°； ¹Ｈ−ＮＭＲ（ｄ₆ −ＤＭＳ
Ｏ，３００ＭＨｚ）：１．７１（ｔ，３Ｈ）；２．６６
（ｍ，２Ｈ）；４．０９（ｑ，２Ｈ）；４．１５（ｍ，
１Ｈ）；４．４８（ｄ，１Ｈ）；５．００（ｔｂｒ，１
Ｈ）；６．７４−６．８３（ｍ，２Ｈ）；７．０７
（ｔ，１Ｈ）；１２．０８（ｓｂｒ，１Ｈ）；¹³Ｃ−Ｎ
ＭＲ（ｄ₆ −ＤＭＳＯ，５０ＭＨｚ）：１４．１；３
３．９；４６．７；６０．８；６６．１；１０８．５；
１１０．７；１１３．３；１２４．１；１２６．８；１
４３．３；１５３．０；１５４．２；１７０．２；ＥＩ
−ＭＳ：２９０（Ｍ⁺ ）；分析：Ｃ５７．７９％（５
７．９３）；Ｈ５．０３％（４．８６）；Ｎ９．７０％
（９．６５）。

【０１７４】出発物質を次のように調製する： ａ）５−ニトロ−４Ｈ−ベンゾ〔１，４〕オキサジン−
３−イリデン酢酸エチルエステル 例３７ｃに準じて調製する；収率９７％黄色結晶；ｍ．
ｐ．：１４２°； ¹Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃ ，３００Ｍ
Ｈｚ）：１．３３（ｔ，３Ｈ）；４．２８（ｑ，２
Ｈ）；４．６６（ｓ，２Ｈ）；４．９４（ｓ，１Ｈ）；
７．１６（ｔ，１Ｈ）；７．１９（ｄ，１Ｈ）；７．８
９（ｄｄ，１Ｈ）；１２．２５（ｓｂｒ，１Ｈ）；ＦＤ
−ＭＳ：２６４（Ｍ⁺ ）；ＴＬＣ：（石油エーテル／酢
酸エチル＝９：１）Ｒ_f ＝０．４３。 ｂ）５−アミノ−３，４−ジヒドロ−２Ｈ−ベンゾ
〔１，４〕オキサジン−３−イル酢酸エチルエステル １０ｇ（３．７８mmol）の５−ニトロ−４Ｈ−ベンゾ
〔１，４〕オキサジン−３−イリデン酢酸エチルエステ
ルを、室温で常圧下５０時間１０％ Ｐｄ／Ｃの０．２
ｇを有する５０mlのエタノール中で水素添化する。反応
混合物を濾過しそして濃縮し次いで残留物をシリカゲル
でクロマトグラフィー処理する（石油エーテル／酢酸エ
チル＝８：２）。７５３mg（３．１９mmol）（＝８４
％）の５−アミノ−３，４−ジヒドロ−２Ｈ−ベンゾ
〔１，４〕オキサジン−３−イル−酢酸エチルエステル
を、オレンジ色オイルの形で得る； ¹Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤ
Ｃｌ₃ ，２００ＭＨｚ）：１．２５（ｔ，３Ｈ）；２．
５５（ｄ，２Ｈ）；３．４０（ｓｂｒ，３Ｈ）；３．８
０−３．９７（ｍ，２Ｈ）；４．０５−４．１５（ｍ，
１Ｈ）；４．１８（ｑ，２Ｈ）；６．３１−６．４０
（ｍ，２Ｈ）；６．６０（ｔ，１Ｈ）；ＦＤ−ＭＳ：２
３６（Ｍ⁺ ）；ＴＬＣ：（酢酸エチル／石油エーテル＝
７：３）Ｒ_f ＝０．１７。例４７ ：７，９−ジブロモ−４，５−ジオキソ−２，
３，５，６−テトラヒドロ−４Ｈ−１−オキサ−３ａ，
６−ジアザ−フェナレン−３−イル−酢酸エチルエステ
ル ２当量のＮ−ブロモスクシンイミドを用い例４６に準じ
て調製する。収率９２％白色結晶；ｍ．ｐ．：２８５−
２９０°； ¹Ｈ−ＮＭＲ（ｄ₃ −ＤＭＳＯ，３００ＭＨ
ｚ）：１．１８（ｔ，３Ｈ）；２．６１（ｄ，２Ｈ）；
４．０８（ｑ，２Ｈ）；４．１５（ｄ，１Ｈ）；４．６
０（ｄ，１Ｈ）；５．０２（ｍ，１Ｈ）；７．６８
（ｓ，１Ｈ）；１１．２８（ｓｂｒ，１Ｈ）；ＦＤ−Ｍ
Ｓ：４４６，４４８，４５０（Ｍ⁺ ）。例４８ ：８−ブロモ−４，５−ジオキソ−２，３，５，
６−テトラヒドロ−４Ｈ−１−オキサ−３ａ，６−ジア
ザ−フェナレン−３−イル−酢酸エチルエステル 例３８に準じて調製する；収率１５％ベージュ結晶；
ｍ．ｐ．：２２２−２２７°； ¹Ｈ−ＮＭＲ（ｄ₆ −Ｄ
ＭＳＯ，２００ＭＨｚ）：１．１７（ｔ，３Ｈ）；２．
６２（ｍ，２Ｈ）；４．０８（ｑ，２Ｈ）；４．１２
（ｍ，１Ｈ）；４．５０（ｄ，１Ｈ）；４．９７（ｍ，
１Ｈ）；６．９５（ｄ，１Ｈ）；７．００（ｄ，１
Ｈ）；１２．１１（ｓｂｒ，１Ｈ）；ＦＤ−ＭＳ：３６
８，３７０（Ｍ⁺）。

【０１７５】出発物質を次のように調製する。 ａ）５−ニトロ−３，４−ジヒドロ−２Ｈ−ベンゾ
〔１，４〕オキサジン−３−イル酢酸エチルエステル ５mlのＴＨＦに溶解した１．０ｇ（３．３３mmol）の
（２−クロロメチル−４−ニトロ−２，３−ジヒドロ−
ベンゾ−オキサゾール−２−イル）−酢酸エチルエステ
ルの溶液を、０°−５°で５mlのＴＦＦに分散させて５
５％水素化ナトリウム分散液１４５mg（３．３３mmol）
に添加する。混合物を０°で１５分間そして室温で１時
間撹拌する。２．１ｇ（３３．２６mmol）のナトリウム
シアノホウ素水素化物を加え次いで混合物を０°に冷却
しそして１５mlの５Ｎエタノール性塩酸を滴下する。混
合物を回転蒸発器で濃縮しそして残留物をジクロロメタ
ンに吸収させそして水および飽和塩化ナトリウム溶液で
洗う。有機相を硫酸マグネシウムで乾燥し次いで濃縮し
そしてオレンジ色の粗製生成物をフラッシュクロマトグ
ラフィーに委ねる。３８９mg（１．４６mmol）（＝４４
％）の（５−ニトロ−３，４−ジヒドロ−２Ｈ−ベンゾ
〔１，４〕オキサジン−３−イル）−酢酸エチルエステ
ルをオレンジ色オイルの形で得る； ¹Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤ
Ｃｌ₃ ，２００ＭＨｚ）：１．２８（ｔ，３Ｈ）；２．
６３（ｍ，２Ｈ）；３．９６−４．２０（ｍ，３Ｈ）；
４．２１（ｑ，２Ｈ）；６．５６（ｔ，１Ｈ）；７．０
０（ｄ，１Ｈ）；７．７８（ｄ，１Ｈ）；８．２１（ｓ
ｂｒ，１Ｈ，ＮＨ）；ＦＤ−ＭＳ：２６６（Ｍ⁺ ）；Ｔ
ＬＣ：（ジクロロメタン／ヘキサン＝８：２）Ｒ_f ＝
０．２８。 ｂ）７−ブロモ−５−ニトロ−３，４−ジヒドロ−２Ｈ
−ベンゾ〔１，４〕オキサジン−３−イル酢酸エチルエ
ステル 例４６に準じて調製する；収率５３％オレンジ色オイ
ル； ¹Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃ ，２００ＭＨｚ）：１．
２９（ｔ，３Ｈ）；２．６１（ｄ，２Ｈ）；３．９８−
４．２０（ｍ，３Ｈ）；４．２１（ｑ，２Ｈ）；７．１
０（ｄ，１Ｈ）；７．９２（ｄ，１Ｈ）；８．２６（ｓ
ｂｒ，１Ｈ，ＮＨ）；ＴＬＣ：（ジクロロメタン／ヘキ
サン＝８：２）Ｒ_f ＝０．３８。 ｃ）５−アミノ−７−ブロモ−３，４−ジヒドロ−２Ｈ
−ベンゾ〔１，４〕オキサジン−３−イル酢酸エチルエ
ステル ８１１mg（３．６mmol）の塩化スズ（II）．２水和物
を、１０mlのエタノールに溶解した２４８mg（０．７２
mmol）の（７−ブロモ−５−ニトロ−３，４−ジヒドロ
−２Ｈ−ベンゾ〔１，４〕オキサジン−３−イル）−酢
酸エチルエステルの溶液に加え次いで８０°で５時間撹
拌する。溶剤を除去し次いで残留物をジクロロメタンに
吸収させ次いで水で２回洗浄する。有機相を硫酸マグネ
シウムで乾燥し次いで濃縮する。２２５mgの（５−アミ
ノ−７−ブロモ−３，４−ジヒドロ−２Ｈ−ベンゾ
〔１，４〕オキサジン−３−イル）−酢酸エチルエステ
ルを褐色オイルの形で得、これは更に精製することなく
用いられる。例４９ ：８−クロロ−４，５−ジオキソ−２，３，５，
６−テトラヒドロ−４Ｈ−１−オキサ−３ａ，６−ジア
ザ−フェナレン−３−イル−酢酸ブチルエステル 水分離器中、３．０ｇ（１０．１１mmol）の８−クロロ
−４，５−ジオキソ−２，３，５，６−テトラヒドロ−
４Ｈ−１−オキサ−３ａ，６−ジアザ−フェナレン−３
−イル−酢酸を約１００mlのＣＣｌ₄ ，１．０２ml（１
１．１２mmol）の１−ブタノールおよび２７．１μｌの
濃硫酸中で一夜加熱還流する。更に１５mlの１−ブタノ
ールおよび１００μｌの濃硫酸を加え次いで混合物を６
時間加熱する。溶剤を除去し次いで残留物をジクロロメ
タンに吸収させそして水、飽和炭酸水素ナトリウム溶液
および飽和塩化ナトリウム溶液で洗い次いで硫酸マグネ
シウムで乾燥する。溶剤を除去し次いで残留物をジクロ
ロメタン／石油エーテルから再結晶する。２．５９ｇ
（７．３４mmol）（＝７３％）の８−クロロ−４，５−
ジオキソ−２，３，５，６−テトラヒドロ−４Ｈ−１−
オキサ−３ａ，６−ジアザ−フェナレン−３−イル−酢
酸ブチルエステルを帯褐色−ベージュ結晶の形で得る；
¹Ｈ−ＮＭＲ（ｄ₆ −ＤＭＳＯ，２００ＭＨｚ）：０．
８７（ｔ，３Ｈ）；１．３０（ｍ，２Ｈ）；１．５０
（ｍ，２Ｈ）；２．６５（ｍ，２Ｈ）；４．００（ｔ，
２Ｈ）；４．１５（ｄｄ，１Ｈ）；４．５０（ｄｂｒ，
１Ｈ）；４．９７（ｔ（ｍ），１Ｈ）；６．８１（ｄ，
１Ｈ）；６．８８（ｄ，１Ｈ）；１２．１５（ｓｂｒ，
１Ｈ）；ＦＤ−ＭＳ：３５２，３５４（Ｍ⁺ ）；ＴＬ
Ｃ：（ジクロロメタン／メタノール＝１９：１）Ｒ_f ＝
０．３３。例５０ ：８−メチル−４，５−ジオキソ−２，３，５，
６−テトラヒドロ−４Ｈ−１−チア−３ａ，６−ジアザ
−フェナレン−３−イル−酢酸エチルエステル 例４に準じ調製する。

【０１７６】出発物質を次のように調製する。 ａ）（７−メチル−３，４−ジヒドロ−２Ｈ−ベンゾ
〔１，４〕オキサジン−３−イル）−酢酸エチルエステ
ル 例４ａに準じ（７−メチル−４Ｈ−ベンゾ〔１，４〕−
３−イリデン）−酢酸エチルエステルから調製する； ¹
Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃ ，３００ＭＨｚ）：１．２８
（ｔ，３Ｈ）；２．５７（ｄｄ，１Ｈ）；２．７０（ｄ
ｄ，１Ｈ）；２．８１（ｄｄ，１Ｈ）；３．０１（ｄ
ｄ，１Ｈ）；４．０６（ｍ，１Ｈ）；４．１８（ｑ，１
Ｈ）；４．６７（ｓｂｒ，１Ｈ，ＮＨ）；６．４０
（ｄ，１Ｈ）；６．８４（ｄｄ，１Ｈ）；６．９８（ｄ
ｄ，２Ｈ）；ＴＬＣ：（石油エーテル／酢酸エチル＝
９：１）Ｒ_f ＝０．１２。 ｂ）２−（７−メチル−３−エトキシカルボニルメチル
−２，３−ジヒドロ−ベンゾ〔１，４〕チアジン−４−
イル）−２−オキソ−酢酸エチルエステル 例４ｃに準じて調製する； ¹Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃ ，
３００ＭＨｚ）：恐らく回転異性体の混合物：１．０９
−１．２５（２ｘｔ，１Ｈ）；２．５６（ｍ，２Ｈ）；
３．００（ｄｄｂｒ，１Ｈ）；３．４８（ｄｄｂｒ，１
Ｈ）；４．１１（ｑｕａｒｔ，４Ｈ）；５．４９（ｍ，
１Ｈ）；６．９４（ｄ，１Ｈ）；７．０２（ｄｄ，１
Ｈ）；７．２５（ｄ，１Ｈ）；ＦＤ−ＭＳ：３７１，３
７３（Ｍ⁺）；ＴＬＣ：（ヘキサン／酢酸エチル＝４：
１）Ｒ_f ＝０．２１。例５２ ：例４〜４８に記載した方法に類似の方法で８−
メチル−４，５−ジオキソ−２，３，５，６−テトラヒ
ドロ−４Ｈ−１−チア−３ａ，６−ジアザ−フェナレン
−３−イル−酢酸を調製することが可能である。例５３ ：例１〜５２に記載した方法と同様の方法で次の
式Ｉの化合物を製造することができる：２−（８−ブロ
モ−４，５−ジオキソ−２，３，５，６−テトラヒドロ
−４Ｈ−１−チア−３ａ，６−ジアザ−フェナレン−３
−イル）−Ｎ−エトキシ−アセトアミド、融点２０２−
２０４°；２−（８−ブロモ−４，５−ジオキソ−２，
３，５，６−テトラヒドロ−４Ｈ−１−チア−３ａ，６
−ジアザ−フェナレン−３−イル）−Ｎ−ヒドロキシ−
アセトアミド、融点２２０−２２１°；２−（８−ブロ
モ−４，５−ジオキソ−２，３，５，６−テトラヒドロ
−４Ｈ−１−チア−３ａ，６−ジアザ−フェナレン−３
−イル）−Ｎ−（２，２，２−トリフルオロエチル）−
アセトアミド、融点２７０−２７１°；２−（８−ブロ
モ−４，５−ジオキソ−２，３，５，６−テトラヒドロ
−４Ｈ−１−チア−３ａ，６−ジアザ−フェナレン−３
−イル）−Ｎ−メトキシ−Ｎ−メチル−アセトアミド、
融点２０１−２０２°；２−〔２−（８−ブロモ−４，
５−ジオキソ−２，３，５，６−テトラヒドロ−４Ｈ−
１−チア−３ａ，６−ジアザ−フェナレン−３−イル）
アセチルアミノ〕−酢酸エチルエステル、融点２００−
２０１°；２−〔２−（８−ブロモ−４，５−ジオキソ
−２，３，５，６−テトラヒドロ−４Ｈ−１−チア−３
ａ，６−ジアザ−フェナレン−３−イル）アセチルアミ
ノ〕−プロピオン酸メチルエステル、融点２８３−２８
５°；２−（８−ブロモ−４，５−ジオキソ−２，３，
５，６−テトラヒドロ−４Ｈ−１−チア−３ａ，６−ジ
アザ−フェナレン−３−イル）−Ｎ−（２，３，４，
５，６−ペンタフルオロベンジルオキシ）−アセトアミ
ド、融点１４７−１４８°；２−（８−ブロモ−４，５
−ジオキソ−２，３，５，６−テトラヒドロ−４Ｈ−１
−チア−３ａ，６−ジアザ−フェナレン−３−イル）−
Ｎ−フェノキシ−アセトアミド、融点１９２−１９３
°；２−（８−ブロモ−４，５−ジオキソ−２，３，
５，６−テトラヒドロ−４Ｈ−１−チア−３ａ，６−ジ
アザ−フェナレン−３−イル）−Ｎ−（３−オキソ−
３，４−ジヒドロ−２Ｈ−ベンゾ〔１，４〕オキサジン
−７−イルメチル）−アセトアミド、融点３００−３０
１°；２−〔２−（８−ブロモ−４，５−ジオキソ−
２，３，５，６−テトラヒドロ−４Ｈ−１−チア−３
ａ，６−ジアザ−フェナレン−３−イル）アセチルアミ
ノ〕−５−（第三ブチルオキシカルボニルアミノメチ
ル）安息香酸メチルエステル、融点９４−９５°；２−
〔２−（８−ブロモ−４，５−ジオキソ−２，３，５，
６−テトラヒドロ−４Ｈ−１−チア−３ａ，６−ジアザ
−フェナレン−３−イル）アセチルアミノ〕−５−（第
三ブチルオキシカルボニルアミノメチル）安息香酸、融
点＞３００°；４−〔２−（８−ブロモ−４，５−ジオ
キソ−２，３，５，６−テトラヒドロ−４Ｈ−１−チア
−３ａ，６−ジアザ−フェナレン−３−イル）アセチル
アミノ〕−安息香酸、融点２９８−３００°；２−（８
−ブロモ−４，５−ジオキソ−２，３，５，６−テトラ
ヒドロ−４Ｈ−１−チア−３ａ，６−ジアザ−フェナレ
ン−３−イル）−Ｎ−（３，５−ビストリフルオロメチ
ルフェニル）−アセトアミド、融点＞２５０°；２−
（８−ブロモ−４，５−ジオキソ−２，３，５，６−テ
トラヒドロ−４Ｈ−１−チア−３ａ，６−ジアザ−フェ
ナレン−３−イル）−Ｎ−（２−クロロ−５−トリフル
オロメチルフェニル）−アセトアミド、融点１９２−１
９８°；２−（８−ブロモ−４，５−ジオキソ−２，
３，５，６−テトラヒドロ−４Ｈ−１−チア−３ａ，６
−ジアザ−フェナレン−３−イル）−Ｎ−（２−メトキ
シフェニル）−アセトアミド、融点＞２５０°；２−
（８−ブロモ−４，５−ジオキソ−２，３，５，６−テ
トラヒドロ−４Ｈ−１−チア−３ａ，６−ジアザ−フェ
ナレン−３−イル）−Ｎ−（２−トリフルオロメトキシ
フェニル）−アセトアミド、融点１４２−１６２°；２
−（８−ブロモ−４，５−ジオキソ−２，３，５，６−
テトラヒドロ−４Ｈ−１−チア−３ａ，６−ジアザ−フ
ェナレン−３−イル）−Ｎ−（４−メトキシフェニル）
−アセトアミド、融点＞２５０°；２−（８−ブロモ−
４，５−ジオキソ−２，３，５，６−テトラヒドロ−４
Ｈ−１−チア−３ａ，６−ジアザ−フェナレン−３−イ
ル）−Ｎ−（２，５−ジメトキシフェニル）−アセトア
ミド、融点＞２５０°；２−（８−ブロモ−４，５−ジ
オキソ−２，３，５，６−テトラヒドロ−４Ｈ−１−チ
ア−３ａ，６−ジアザ−フェナレン−３−イル）−Ｎ−
（２−フルオロ−５−トリフルオロメチル−フェニル）
−アセトアミド、融点１６３−１７０°；２−（８−ブ
ロモ−４，５−ジオキソ−２，３，５，６−テトラヒド
ロ−４Ｈ−１−チア−３ａ，６−ジアザ−フェナレン−
３−イル）−Ｎ−（４−フェノキシフェニル）−アセト
アミド、融点１３７−１４５°；２−（８−ブロモ−
４，５−ジオキソ−２，３，５，６−テトラヒドロ−４
Ｈ−１−チア−３ａ，６−ジアザ−フェナレン−３−イ
ル）−Ｎ−〔４−（４−クロロフェノキシ）フェニル〕
−アセトアミド、融点１０４−１２０°；２−（８−ブ
ロモ−４，５−ジオキソ−２，３，５，６−テトラヒド
ロ−４Ｈ−１−チア−３ａ，６−ジアザ−フェナレン−
３−イル）−Ｎ−（３，４，５−トリメトキシフェニ
ル）−アセトアミド、融点２４０−２４６°；２−（８
−ブロモ−４，５−ジオキソ−２，３，５，６−テトラ
ヒドロ−４Ｈ−１−チア−３ａ，６−ジアザ−フェナレ
ン−３−イル）−Ｎ−（４−フルオロ−２−トリフルオ
ロメチル−フェニル）−アセトアミド、融点１９８−２
０５°；２−（８−ブロモ−４，５−ジオキソ−２，
３，５，６−テトラヒドロ−４Ｈ−１−チア−３ａ，６
−ジアザ−フェナレン−３−イル）−Ｎ−（３−フェノ
キシフェニル）−アセトアミド、融点１２０−１２８
°；２−（８−ブロモ−４，５−ジオキソ−２，３，
５，６−テトラヒドロ−４Ｈ−１−チア−３ａ，６−ジ
アザ−フェナレン−３−イル）−Ｎ−（１−シアノ−１
−メチルエチル）−アセトアミド、融点＞２５０°；２
−（８−ブロモ−４，５−ジオキソ−２，３，５，６−
テトラヒドロ−４Ｈ−１−チア−３ａ，６−ジアザ−フ
ェナレン−３−イル）−Ｎ−（２−メトキシ−５−メチ
ル−フェニル）−アセトアミド、融点＞２５０°；２−
（８−ブロモ−４，５−ジオキソ−２，３，５，６−テ
トラヒドロ−４Ｈ−１−チア−３ａ，６−ジアザ−フェ
ナレン−３−イル）−Ｎ−（３−メトキシ−フェニル）
−アセトアミド、融点９８−１１０°；２−（８−ブロ
モ−４，５−ジオキソ−２，３，５，６−テトラヒドロ
−４Ｈ−１−チア−３ａ，６−ジアザ−フェナレン−３
−イル）−Ｎ−（３，５−ジメトキシ−フェニル）−ア
セトアミド、融点１３０−１３８°；８−メチル−４，
５−ジオキソ−２，３，５，６−テトラヒドロ−４Ｈ−
１−チア−３ａ，６−ジアザ−フェナレン−３−イル酢
酸、融点＞２５０°；２−（８−メチル−４，５−ジオ
キソ−２，３，５，６−テトラヒドロ−４Ｈ−１−チア
−３ａ，６−ジアザ−フェナレン−３−イル）−Ｎ−フ
ェニル−アセトアミド、融点＞２５０°；２−（８−メ
チル−４，５−ジオキソ−２，３，５，６−テトラヒド
ロ−４Ｈ−１−チア−３ａ，６−ジアザ−フェナレン−
３−イル）−Ｎ−（第三ブチルオキシ）−アセトアミ
ド、融点＞２５０°。例５４ ：有効成分、例えば８−ブロモ−４，５−ジオキ
ソ−２，３，５，６−テトラヒドロ−４Ｈ−１−チア−
３ａ，６−ジアザ−フェナレン−３−イル−酢酸、又は
その塩５０mgを各々含有する錠剤を次のように調製する
ことができる。

【０１７７】各々、５０mgの有効成分、例えば（Ｓ）−
Ｎ−（１−カルボキシ−２−メチル−プロプ−１−イ
ル）−Ｎ−ペンタノイル−Ｎ−〔２′−（１Ｎ−テトラ
ザール−５−イル）ビフェニル−４−イルメチル〕−２
−アミンを含有する錠剤を次のように調製できる：組成 （１０，０００個の錠剤） 有効成分 ５００．０ｇ ラクトース ５００．０ｇ ポテトスターチ ３５２．０ｇ ゼラチン ８．０ｇ タルク ６０．０ｇ ステアリン酸マグネシウム １０．０ｇ シリカ（高分散性） ２０．０ｇ エタノール 適 量 有効成分をラクトースおよび２９２ｇのポテトスターチ
と混合し、混合物をゼラチンのアルコール性溶液で湿潤
させ次いで篩を通して粒状化する。乾燥後、残りのポテ
トスターチ、タルク、ステアリン酸マグネシウムおよび
二酸化ケイ素を混合し、混合物を圧縮し、各々有効成分
５０mgを有する１４５．０mgの錠剤を得る；これは所望
により、微細投与のため切り目を設けることもできる。例５５ ：有効成分として３mgの８−ブロモ−４，５−ジ
オキソ−２，３，５，６−テトラヒドロ−４Ｈ−１−チ
ア−３ａ，６−ジアザ−フェナレン−３−イル−酢酸又
はその塩、例えばナトリウム塩を含んでなり、可溶化剤
として２０％シクロデキストリンを含有する、滅菌濾過
水性ゼラチン溶液を、加熱しそして無菌条件下で、防腐
剤としてフェノールを含有する滅菌ゼラチン溶液と共に
混合し、１．０mlの溶液は次の組成を有する： 有効成分 ３mg ゼラチン １５０．０mg フェノール ４．７mg 可溶化剤として２０％シクロデキストリン １．０mg を含有する蒸留水例５６ ：５mgの８−ブロモ−４，５−ジオキソ−２，
３，５，６−テトラヒドロ−４Ｈ−１−チア−３ａ，６
−ジアザ−フェナレン−３−イル−酢酸又はその塩例え
ばそのナトリウム塩を含んでなる、注射用滅菌乾燥物質
の調製のため、有効成分として前記例で言及した式Ｉの
化合物の１種５mgを、２０mgのマニトールおよび可溶化
剤としての２０％シクロデキストリンを含有する１mlの
水性溶液中に溶解する。溶液を滅菌濾過し次いで無菌条
件下で２mlのアンプルに導入し、凍結乾燥する。使用
前、凍結乾燥品を１mlの蒸留水又は１mlの生理食塩水に
溶解する。溶液を筋肉内又は静脈内投与する。製剤は又
二重室使い捨て注射器内に導入することもできる。例５７ ：各々１００mgの８−ブロモ−４，５−ジオキソ
−２，３，５，６−テトラヒドロ−４Ｈ−１−チア−３
ａ，６−ジアザ−フェナレン−３−イル−酢酸又は塩例
えばそのナトリウム塩を含んでなる１００００個のフィ
ルム塗布錠剤の調製に対し、次の調製法が用いられる： 有効成分 １０００ｇ とうもろこしデンプン ６８０ｇ コロイド珪酸 ２００ｇ ステアリン酸マグネシウム ２０ｇ ステアリン酸 ５０ｇ ナトリウムカルボキシメチルデンプン ２５０ｇ 水 適 量 有効成分として前の例で言及した式Ｉの化合物の１種、
５０ｇのとうもろこしデンプンおよびコロイド珪酸の混
合物を、２５０ｇのとうもろこしデンプンおよび２．２
kgの脱イオン水から成るデンプンペーストを用いて加工
し湿潤塊を形成する。この塊を３mmのメッシュ径の篩を
強制的に通し次いで流動床乾燥器内で４５°で３０分間
乾燥する。乾燥した顆粒を１mmメッシュ径の篩を通し、
３３０ｇのとうもろこしデンプンの予じめ篩別した混合
物（１mm篩）、ステアリン酸マグネシウム、ステアリン
酸、およびナトリウムカルボキシメチルデンプンと混合
物し次いで圧縮してわずかに両凸のある錠剤を形成す
る。

フロントページの続き (51)Int.Cl.⁶ 識別記号 庁内整理番号 ＦＩ 技術表示箇所 Ａ６１Ｋ 31/535 ＡＢＳ ＡＥＤ 31/54 ＡＡＢ ＡＡＨ Ｃ０７Ｄ 498/06 //(Ｃ０７Ｄ 513/06 279:12 241:40） (Ｃ０７Ｄ 498/06 265:30 241:40）

Claims (8)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 次式Ｉ： 【化１】 （式中、Ａは低級アルキリデン又は式＞ＣＨ−Ａ₄ −Ｒ
   ₄ （Ｉａ）の基であり、 Ａ₂ は低級アルキリデン又は式＞ＣＨ−Ａ₄ −Ｒ₄ （Ｉ
   ａ），＞Ｃ＝０（Ｉｂ）又は＞ＣＨ（ＯＨ）−Ａ₅ −Ｒ
   ₄ （Ｉｃ）の基であり、 Ａ₃ はオキシ、所望により酸化されたチオ又は基＞Ｃ＝
   ０（Ｉｂ）であり、 Ａ₄ は低級アルキレンであり、 Ａ₅ は低級アルキレン又は直接結合であり、 ｎは０又は１であり、 Ｒ₁ およびＲ₂ は互いに独立に水素、未置換又は低級ア
   ルキル−および／又は低級アルカノイル−置換アミノ、
   ニトロ、低級アルカノイル、遊離又はエーテル化もしく
   はエステル化ヒドロキシ、遊離又はエステル化又はアミ
   ド化カルボキシ、シアノ、所望によりハロゲン化された
   低級アルキル又はハロゲンであり、 Ｒ₃ は水素又はヒドロキシであり、そしてＲ₄ は水素、
   シアノ、遊離又はエステル化又はアミド化カルボキシ、
   遊離又はエステル化ホスホノ又は５−テトラゾリルであ
   る）で表わされる新規オキサ−又はチア−脂肪族架橋キ
   ノキサリン−２，３−ジオン又はその塩。
2. 【請求項２】 式Ｉ（式中、Ａは低級アルキリデン又は
   式＞ＣＨ−Ａ₄ −Ｒ ₄ （Ｉａ）の基であり、 Ａ₂ は低級アルキリデン又は式＞ＣＨ−Ａ₄ −Ｒ₄ （Ｉ
   ａ），＞Ｃ＝０（Ｉｂ）又は＞ＣＨ（ＯＨ）−Ａ₅ −Ｒ
   ₄ （Ｉｃ）の基であり、 Ａ₃ はオキシ、チオ、スルフィニル又はスルホニル又は
   基＞Ｃ＝０（Ｉｂ）であり、 Ａ₄ は低級アルキレンであり、 Ａ₅ は低級アルキレン又は直接結合であり、 ｎは０又は１であり、 Ｒ₁ およびＲ₂ は各々互いに独立に水素、アミノ、低級
   アルキルアミノ、低級アルカノイルアミノ、ジ−低級ア
   ルキルアミノ、Ｎ−低級アルカノイル−Ｎ−低級アルキ
   ル−アミノ、ニトロ、低級アルカノイル、ヒドロキシ、
   低級アルカノイルオキシ、低級アルコキシ、低級アルケ
   ニルオキシ、低級アルキニルオキシ、カルボキシ、低級
   アルコキシカルボニル、カルバモイル、シアノ、低級ア
   ルキル、ポリハロ−低級アルキル又はハロゲンであり、 Ｒ₃ は水素又はヒドロキシであり、そしてＲ₄ は水素、
   シアノ、カルボキシ、低級アルコキシカルボニル、カル
   ボキシ−低級アルコキシカルボニル、低級アルコキシカ
   ルボニル−低級アルコキシカルボニル、低級アルコキシ
   カルボニル、未置換又は低級アルキル−、低級アルコキ
   シ−、ヒドロキシ−、ハロ−および／又はトリフルオロ
   メチル−置換フェニルオキシカルボニル、ベンゾイルオ
   キシ−低級アルコキシカルボニル又はフェニル−低級ア
   ルコキシカルボニル、カルバモイル、低級アルキルカル
   バモイル、低級アルケニルカルバモイル、ジ−低級アル
   キルカルバモイル、ジ−低級アルキルアミノ低級アルキ
   ルカルバモイル、アミノ−低級アルキルアミノ−低級ア
   ルキルカルバモイル、２−オキソイミダゾリジン−１−
   イル−低級アルキルカルバモイル、アミノ−低級アルキ
   ルアミノ−低級アルキレンカルバモイル、２−オキソイ
   ミダゾリジン−１−イル−低級アルキレンカルバモイ
   ル、オキサ−低級アルキレンアミノ−低級アルキルカル
   バモイル、３〜７員シクロアルキルカルバモイル、３〜
   ７員カルボキシシクロアルキルカルバモイル、３〜７員
   低級アルコキシカルボニルシクロアルキルカルバモイ
   ル、３〜７員シクロアルキル−低級アルキルカルバモイ
   ル、３−アザ−２−オキソ−シクヘプチルカルバモイ
   ル、アザリジノカルボニル、２−メチルアザリジノカル
   ボニル、２，３−ジヒドロインドリン−１−イルカルバ
   モイル、ピロリジノカルボニル、ピペリジノカルボニ
   ル、モルホリノカルボニル、チオモルホリノカルボニ
   ル、ピペラジノカルボニル、Ｎ′−低級アルキルピペラ
   ジノカルボニル、未置換又は低級アルキル−低級アルコ
   キシ−ヒドロキシ−、ハロ−および／又はトリフルオロ
   メチル−置換フェニル−低級アルキルカルバモイル、未
   置換又は低級アルキル−低級アルコキシ−、ヒドロキシ
   −、ハロ−、ニトロ−、カルボキシ−、低級アルコキシ
   カルボニル−、フェニル−、フェニルオキシ−および／
   又はトリフルオロメチル−置換Ｎ−フェニルカルバモイ
   ル又はＮ−低級アルキル−Ｎフェニルカルバモイル、ナ
   フチルカルバモイル、５，６，７，８−テトラヒドロナ
   フチルカルバモイル、Ｎ−インダニルカルバモイル、フ
   リル−２−カルバモイル、チエン−２−イルカルバモイ
   ル、チアゾール−２−イルカルバモイル、Ｎ−ベンゾチ
   アゾール−２−イルカルバモイル、フル−２−イルメチ
   ルカルバモイル、チエン−２−イルメチルカルバモイル
   又はチアゾール−２−イルメチルカルバモイル、Ｎ−
   （３−オキソ−２，３−ジヒドロ−４Ｈ−１，４−ベン
   ゾオキサジン−７−イル）メチルカルバモイル、モノ−
   又はジヒドロ−低級アルキルカルバモイル、モノ−又は
   ジ−低級アルコキシアルキルカルバモイル、ポリハロ−
   低級アルキルカルバモイル、カルボキシ低級アルキルカ
   ルバモイル、低級アルコキシカルボニル−低級アルキル
   カルバモイル、ジカルボキシ−低級アルキルカルバモイ
   ル、ジ−低級アルコキシカルボニル−低級アルキルカル
   バモイル、シアノ−低級アルキルカルバモイル、カルボ
   キシ−低級アルケニルカルバモイル又は低級アルコキシ
   カルボニル−低級アルケニルカルバモイル、Ｎ−ヒドロ
   キシカルバモイル、Ｎ−低級アルコキシカルバモイル、
   Ｎ−低級アルコキシ−Ｎ−低級アルキルカルバモイル、
   Ｎ−低級アルケニルオキシカルバモイル又は未置換又は
   低級アルキル−、低級アルコキシ−、ヒドロキシ−、ハ
   ロ−および／又はトリフルオロメチル−置換Ｎ−フェニ
   ルオキシカルバモイル、Ｎ−フェニル−低級アルコキシ
   カルボニル又はＮ−フェニル−低級アルケニルオキシカ
   ルバモイル、ホスホノ、低級アルキルホスホノ、ジ−低
   級アルキルホスホノ又はトリ−低級アルキルホスホノ又
   は５−テトラゾリルである）の請求項１記載の化合物又
   はその塩。
3. 【請求項３】 式Ｉ（式中、Ａは直鎖は分枝Ｃ₁ −Ｃ₇
   アルキレン又は式＞ＣＨ−Ａ₄ −Ｒ₄ （Ｉａ）の基であ
   り、 Ａ₂ は直鎖は分枝Ｃ₁ −Ｃ₇ アルキレン又は式＞ＣＨ−
   Ａ₄ −Ｒ₄ （Ｉａ）、又は＞ＣＨ（ＯＨ）−Ａ₅ −Ｒ₄
   （Ｉｃ）の基であり、 Ａ₃ はオキシ、チオ、スルフィニル又はスルホニルであ
   り、 Ａ₄ は直鎖又は分枝Ｃ₁ −Ｃ₇ アルキレンであり、 Ａ₅ はＣ₁ −Ｃ₄ アルキレン又は直接結合であり、 ｎは０又は１であり、 Ｒ₁ およびＲ₂ は互いに独立に水素、アミノ、Ｎ−Ｃ₁
   −Ｃ₄ アルキルアミノ、Ｎ−Ｃ₁ −Ｃ₇ アルカノイルア
   ミノ、Ｎ，Ｎ−ジ−Ｃ₁ −Ｃ₄ アルキルアミノ、Ｎ−Ｃ
   ₁ −Ｃ₇ アルカノイル−Ｎ−Ｃ₁ −Ｃ₄ アルキルアミ
   ノ、ニトロ、Ｎ−Ｃ₁ −Ｃ₄ アルカノイル、ピバロイ
   ル、ヒドロキシ、Ｎ−Ｃ₁ −Ｃ₄ アルカノイルオキシ、
   ピバロイルオキシ、Ｃ₁ −Ｃ₄ アルコキシ、Ｃ₃ −Ｃ₄
   アルケニルオキシ、Ｃ₃ −Ｃ₄ アルキニルオキシ、カル
   ボキシ、Ｃ₁ −Ｃ₄ アルコキシカルボニル、カルバモイ
   ル、シアノ、Ｃ₁ −Ｃ₄ アルキル、ハロゲン又はトリフ
   ルオロメチル又はハロゲンであり、 Ｒ₃ は水素又はヒドロキシであり、そしてＲ₄ は水素、
   シアノ、カルボキシ、Ｃ₁ −Ｃ₇ アルコキシカルボニ
   ル、カルボキシ−Ｃ₁ −Ｃ₄ アルコキシカルボニル、Ｃ
   ₁ −Ｃ₄ −アルコキシカルボニル−Ｃ₁ −Ｃ₄ アルコキ
   シカルボニル、Ｎ−Ｃ₁ −Ｃ₄ アルカノイルオキシ−Ｃ
   ₁ −Ｃ₄ アルコキシカルボニル、ピバロイルオキシ−メ
   トキシカルボニル、未置換又はＣ₁ −Ｃ₄ アルキル−、
   Ｃ₁ −Ｃ₄ アルコキシ−、ヒドロキシ−、ハロ−および
   ／又はトリフルオロメチル−置換フェニルオキシカルボ
   ニル、ベンジルオキシ−Ｃ₁ −Ｃ₄ アルコキシカルボニ
   ル又はフェニル−Ｃ₁ −Ｃ₄ アルコキシカルボニル、カ
   ルバモイル、Ｎ−Ｃ₁ −Ｃ₄ アルキルカルバモイル、Ｃ
   ₂ −Ｃ₄ アルケニルカルバモイル、Ｎ，Ｎ−ジ−Ｃ₁ −
   Ｃ₄ −アルキルカルバモイル、Ｃ₃ −Ｃ ₇ −シクロアル
   キルカルバモイル、カルボキシ−Ｃ₃ −Ｃ₇ シクロアル
   キルカルバモイル、Ｃ₁ −Ｃ₄ アルコキシ−カルボニル
   −Ｃ₃ −Ｃ₇ シクロアルキルカルバモイル、３〜７員Ｎ
   −（Ｃ₃ −Ｃ₆ シクロアルキル）−Ｃ₁ −Ｃ₄ アルキル
   −カルバモイル、３−アザ−２−オキサ−シクロヘプチ
   ルカルバモイル、アザリジノカルボニル、２−メチルア
   ザリジノ−カルボニル、２，３−ジヒドロインドリン−
   １−イルカルバモイル、ピロリジノカルボニル、ピペリ
   ジノカルボニル、モルホリノカルボニル、チオモルホリ
   ノカルボニル、ピペラジノカルボニル、Ｎ′−Ｃ₁ −Ｃ
   ₄ アルキル−ピペラジノカルボニル、未置換又はＣ₁ −
   Ｃ₄ アルキル−、Ｃ₁ −Ｃ₄ アルコキシ−、ヒドロキシ
   −、ハロ−および／又はトリフルオロメチル−置換フェ
   ニル−Ｃ₁ −Ｃ₄ アルキルカルバモイル、未置換又はＣ
   ₁ −Ｃ ₄ アルキル−、Ｃ₁ −Ｃ₄ アルコキシ−、ヒドロ
   キシ−、ハロ−、トリフルオロメチル−、アミノ−、Ｃ
   ₁ −Ｃ₄ アルコキシカルボニルアミノ−、ニトロ−、カ
   ルボキシ、Ｃ₁ −Ｃ₄ アルキニルカルボニル−、例えば
   メトキシ−又はエトキシ−カルボニル−、フェニル−フ
   ェニルオキシ−および／又はトリフルオロメチル−置換
   −Ｎ−フェニルカルバモイル又はＮ−Ｃ₁ −Ｃ₄ アルキ
   ル−Ｎ−フェニル−カルバモイル、ナフチルカルバモイ
   ル、５，６，７，８−テトラヒドロナフチルカルバモイ
   ル、Ｎ−インダニルカルバモイル、フリル−２−カルバ
   モイル、チエン−２−イルカルバモイル、チアゾール−
   ２−イルカルバモイル、Ｎ−ベンゾチアゾール−２−イ
   ルカルバモイル、フル−２−イルメチルカルバモイル、
   チエン−２−イルカルバモイル又はチアゾール−２−イ
   ルメチルカルバモイル、Ｎ−（３−オキソ−２，３−ジ
   ヒドロ−４Ｈ−１，４−ベンゾオキサジン−７−イル）
   メチルカルバモイル、Ｎ−（ヒドロキシ−Ｃ₂ −Ｃ₄ ア
   ルキル）カルバモイル、Ｎ，Ｎ−ジ（ヒドロキシ−Ｃ₂
   −Ｃ₄ −アルキル）カルバモイル、Ｃ₁ −Ｃ₄アルコキ
   シ−Ｃ₁ −Ｃ₄ アルキルカルバモイル、ジ−Ｃ₁ −Ｃ₄
   アルコキシ−Ｃ ₁ −Ｃ₄ アルキルカルバモイル、カルボ
   キシ−Ｃ₁ −Ｃ₄ アルキルカルバモイル、Ｃ₁ −Ｃ₄ ア
   ルコキシカルボニル−Ｃ₁ −Ｃ₄ アルキルカルバモイ
   ル、ポリハロ−Ｃ₂ −Ｃ₄ アルキルカルバモイル、ジカ
   ルボキシ−Ｃ₁ −Ｃ₄ アルキルカルバモイル、ジ−Ｃ₁
   −Ｃ₄ アルコキシカルボニル−Ｃ₁ −Ｃ₄ アルキルカル
   バモイル、シアノ−Ｃ₁ −Ｃ₄ アルキルカルバモイル、
   カルボキシ−Ｃ₂ −Ｃ₄ アルケニルカルバモイル、Ｃ₁
   −Ｃ₄ アルコキシカルボニル−Ｃ₂ −Ｃ₄ アルケニルカ
   ルバモイル、Ｎ−ヒドロキシカルバモイル、Ｎ−Ｃ₁ −
   Ｃ₄ アルコキシカルバモイル、Ｎ−Ｃ₂ −Ｃ₄ アルケニ
   ルオキシカルバモイル、未置換又はＣ₁ −Ｃ₄アルキル
   −、Ｃ₁ −Ｃ₄ アルコキシ−、ヒドロキシ−、ハロ−お
   よび／又はトリフルオロメチル−置換Ｎ−フェニルオキ
   シカルバモイル、Ｎ−フェニル−Ｃ₁ −Ｃ₄ アルコキシ
   カルバモイル又はＮ−フェニル−Ｃ₂ −Ｃ₄ アルケニル
   オキシカルバモイル、ホスホノ、Ｃ₁ −Ｃ₄ アルキルホ
   スホノ、ジ−Ｃ₁ −Ｃ₄ アルキルホスホノ、トリ−Ｃ₁
   −Ｃ₄ アルキルホスホノ又は５−テトラゾリルである）
   の請求項１記載の化合物又はその塩。
4. 【請求項４】 式Ｉ（式中、基Ａ₁ およびＡ₂ の一方
   は、式＞ＣＨ−Ａ₄ −Ｒ₄ （Ｉａ）の基でありそして他
   方は直鎖又は分枝Ｃ₁ −Ｃ₄ アルキレンであり、 Ａ₃ はオキシ、チオ、スルフィニル又はスルホニルであ
   り、 Ａ₄ は直鎖又は分枝Ｃ₁ −Ｃ₄ アルキレンであり、 ｎは０であり、 Ｒ₁ およびＲ₂ は互いに独立に水素、ニトロ、Ｎ−Ｃ₁
   −Ｃ₄ アルカノイル、ピバロイル、ヒドロキシ、Ｃ₁ −
   Ｃ₄ アルコキシ、カルボキシ、Ｃ₁ −Ｃ₄ アルコキシカ
   ルボニル、カルバモイル、シアノ、Ｃ₁ −Ｃ₄ アルキ
   ル、ハロゲン、トリフルオロメチル又はハロゲンであ
   り、 Ｒ₃ は水素であり、そしてＲ₄ は水素、カルボキシ、Ｃ
   ₁ −Ｃ₇ アルコキシカルボニル、Ｃ₁ −Ｃ₄ アルコキシ
   カルボニル−Ｃ₁ −Ｃ₄ アルコキシカルボニル、Ｎ−Ｃ
   ₁ −Ｃ₄ アルカノイルオキシ−Ｃ₁ −Ｃ₄ アルコキシカ
   ルボニル、不飽和又はＣ₁ −Ｃ₄ アルキル−、Ｃ₁ −Ｃ
   ₄ アルコキシ−、ヒドロキシ−、ハロ−および／又はト
   リフルオロメチル−置換フェニルオキシカルボニル、ベ
   ンジルオキシ−Ｃ₁ −Ｃ₄ アルコキシカルボニル又はフ
   ェニル−Ｃ₁ −Ｃ₄ アルコキシカルボニル、カルバモイ
   ル、Ｎ−Ｃ₁ −Ｃ₄ アルキルカルバモイル、Ｃ₂ −Ｃ₄
   アルケニルカルバモイル、Ｎ，Ｎ−ジ−Ｃ₁ −Ｃ₄ アル
   キルカルバモイル、Ｃ₃ −Ｃ₇ シクロアルキルカルバモ
   イル、Ｃ₁ −Ｃ₄ アルコキシ−カルボニル−Ｃ₃ −Ｃ₇
   シクロアルキルカルバモイル、３〜７員Ｎ−（Ｃ₃ −Ｃ
   ₆ シクロアルキル）−Ｃ₁ −Ｃ₄ アルキル−カルボキシ
   −、Ｃ₁ −Ｃ₄ アルコキシカルボニル−、例えばメトキ
   シ−又はエトキシ−カルボニル−、フェニル−、フェニ
   ルオキシ−および／又はトリフルオロメチル−置換Ｎ−
   フェニルカルバモイル又はＮ−Ｃ₁ −Ｃ₄ アルキル−Ｎ
   −フェニル−カルバモイル、ナフチルカルバモイル、
   ５，６，７，８−テトラヒドロナフチルカルバモイル、
   Ｎ−インダニルカルバモイル、フリル−２−カルバモイ
   ル、チエン−２−イルカルバモイル、チアゾール−２−
   イルカルバモイル、Ｎ−ベンゾチアゾール−２−イルカ
   ルバモイル、フル−２−イルメチルカルバモイル、チエ
   ン−２−イルメチルカルバモイル又はチアゾール−２−
   イルメチルカルバモイル、Ｎ−（３−オキソ−２，３−
   ジヒドロ−４Ｈ−１，４−ベンゾオキサジン−７−イ
   ル）メチルカルバモイル、Ｎ−（ヒドロキシ−Ｃ₂ −Ｃ
   ₄ アルキル）カルバモイル、Ｎ，Ｎ−ジ（ヒドロキシ−
   Ｃ₂ −Ｃ₄ −アルキル）カルバモイル、Ｃ ₁ −Ｃ₄ アル
   コキシ−Ｃ₁ −Ｃ₄ アルキルカルバモイル、ジ−Ｃ₁ −
   Ｃ₄ アルコキシ−Ｃ₁ −Ｃ₄ アルキルカルバモイル、カ
   ルボキシ−Ｃ₁ −Ｃ₄ アルキルカルバモイル、Ｃ₁ −Ｃ
   ₄ アルコキシカルボニル−Ｃ₁ −Ｃ₄ アルキルカルバモ
   イル、ポリハロ−Ｃ₂ −Ｃ₄ アルキルカルバモイル、ジ
   カルボキシ−Ｃ₁ −Ｃ₄ アルキルカルバモイル、ジ−Ｃ
   ₁ −Ｃ₄ アルコキシカルボニル−Ｃ₁ −Ｃ₄ アルキルカ
   ルバモイル、シアノ−Ｃ₁ −Ｃ₄ アルキルカルバモイ
   ル、カルボキシ−Ｃ₂ −Ｃ₄ アルケニルカルバモイル、
   Ｃ₁ −Ｃ₄ アルコキシカルボニル−Ｃ₂ −Ｃ₄ アルケニ
   ルカルバモイル、Ｎ−ヒドロキシカルバモイル、Ｎ−Ｃ
   ₁ −Ｃ₄ アルコキシカルバモイル、Ｎ−Ｃ₂ −Ｃ₄ アル
   ケニルオキシカルボキシ、未置換又はＣ₁−Ｃ₄ アルキ
   ル−、Ｃ₁ −Ｃ₄ アルコキシ−、ヒドロキシ−、ハロ−
   および／又はトリフルオロメチル−置換Ｎ−フェニルオ
   キシカルバモイル、Ｎ−フェニル−Ｃ₁ −Ｃ₄ アルコキ
   シカルバモイル又はＮ−フェニル−Ｃ₂ −Ｃ₄ アルケニ
   ルオキシカルバモイル、ホスホノ、Ｃ₁ −Ｃ₄ アルキル
   ホスホノ、ジ−Ｃ₁ −Ｃ₄ アルキルホスホノ、トリ−Ｃ
   ₁ −Ｃ₄ アルキルホスホノ又は５−テトラゾリルであ
   る）の請求項１記載の化合物又はその塩。
5. 【請求項５】 式Ｉ（式中、基Ａ₁ およびＡ₂ の一方は
   式＞ＣＨ−Ａ₄ −Ｒ ₄ （Ｉａ）でありそして他方はメチ
   レンであり、 Ａ₃ はチオであり、 Ａ₄ はメチレンであり、 ｎは０であり、 Ｒ₁ およびＲ₂ は互いに独立に水素、Ｃ₁ −Ｃ₄ アルキ
   ル、トリフルオロメチル又はハロゲンであり、 Ｒ₃ は水素であり、そしてＲ₄ は水素、カルボキシ、Ｃ
   ₁ −Ｃ₄ アルコキシカルボニル、未置換又はＣ₁−Ｃ₄
   アルキル−、Ｃ₁ −Ｃ₄ アルコキシ−、ヒドロキシ−、
   ハロ−および／又はトリフルオロメチル−置換ベンゾイ
   ルオキシ−Ｃ₁ −Ｃ₄ アルコキシカルボニル、未置換又
   はＣ₁ −Ｃ₄ アルキル−、Ｃ₁ −Ｃ₄ アルコキシ−、ヒ
   ドロキシ−、ハロ−および／又はトリフルオロメチル
   −、ニトロ−、カルボキシ−、Ｃ₁ −Ｃ₄ アルコキシカ
   ルボニル−および／又はトリフルオロメチル−置換Ｎ−
   フェニルカルバモイル、ナフチルカルバモイル、５，
   ６，７，８−テトラヒドロナフチルカルバモイル、フリ
   ル−２−カルバモイル、チエン−２−イル−カルバモイ
   ル、チアゾール−２−イルカルバモイル、ビシクロ
   〔２．２．１〕ヘプチル−、ビシクロ〔２．２．２〕オ
   クチル−又はアダマンチル−カルバモイル、３−アザ−
   ２−オキサ−シクロヘプチルカルバモイル、Ｎ−Ｃ₁ −
   Ｃ₄ アルコキシカルバモイル、Ｎ−Ｃ₂ −Ｃ₄ アルケニ
   ル−オキシカルバモイル、未置換又はＣ₁ −Ｃ₄アルキ
   ル−、Ｃ₁ −Ｃ₄ アルコキシ、ヒドロキシ−、ハロ−お
   よび／又はトリフルオロメチル−置換Ｎ−フェニル−Ｃ
   ₁ −Ｃ₄ アルコキシカルバモイル、Ｎ−フェニル−Ｃ₂
   −Ｃ₄ アルケニルオキシカルバモイルである）の請求項
   １記載の化合物又はその塩。
6. 【請求項６】 次式Ｉ′ 【化２】 （式中、Ｒ₁ およびＲ₂ は、互いに独立に水素、Ｃ₁ −
   Ｃ₄ アルキル、トリフルオロメチル又はハロゲンであ
   り、 Ｒ₃ は水素であり、 Ｒ₄ は水素、カルボキシ、Ｃ₁ −Ｃ₄ アルコキシカルボ
   ニル、未置換又はＣ₁−Ｃ₄ アルキル−、Ｃ₁ −Ｃ₄ ア
   ルコキシ−、ヒドロキシ−、ハロ−および／又はトリフ
   ルオロメチル−置換ベンゾイルオキシ−Ｃ₁ −Ｃ₄ アル
   コキシカルボニル、未置換又はＣ₁ −Ｃ₄ アルキル−、
   Ｃ₁ −Ｃ₄ アルコキシ−、ヒドロキシ−、ハロ−および
   ／又はトリフルオロメチル−、ニトロ−、カルボキシ
   −、Ｃ₁ −Ｃ₄ アルコキシカルボニル−、例えばメトキ
   シ−又はエトキシ−カルボニル−、および／又はトリフ
   ルオロメチル−置換Ｎ−フェニルカルバモイル、ナフチ
   ルカルバモイル、５，６，７，８−テトラヒドロナフチ
   ルカルバモイル、フリル−２−カルバモイル、チエン−
   ２−イル−カルバモイル、チアゾール−２−イルカルバ
   モイル、ビシクロ〔２．２．１〕ヘプチル−、ビシクロ
   〔２．２．２〕オクチル−又はアダマンチル−カルバモ
   イル、３−アザ−２−オキソ−シクロヘプチルカルバモ
   イル、Ｎ−Ｃ₁ −Ｃ₄ アルコキシカルバモイル、Ｎ−Ｃ
   ₂ −Ｃ₄ アルケニルオキシカルバモイル、未置換又はＣ
   ₁ −Ｃ₄ −アルキル−、Ｃ₁ −Ｃ₄ −アルコキシ、ヒド
   ロキシ−、ハロ−および／又はトリフルオロメチル−置
   換Ｎ−フェニル−Ｃ₁ −Ｃ₄ アルコキシカルバモイル、
   Ｎ−フェニル−Ｃ₂ −Ｃ₄ アルケニルオキシカルバモイ
   ル又は５−テトラゾリルである）の請求項１記載の化合
   物又はその塩。
7. 【請求項７】 ２−（３（Ｓ）−８−ブロモ−４，５−
   ジオキソ−２，３，５，６−テトラヒドロ−４Ｈ−１−
   チア−３ａ，６−ジアザ−フェナレン−３−イル）−Ｎ
   −フェニル−アセトアミド；２−〔２−（８−ブロモ−
   ４，５−ジオキソ−２，３，５，６−テトラヒドロ−４
   Ｈ−１−チア−３ａ，６−ジアザ−フェナレン−３−イ
   ル）−アセチル−アミノ〕−安息香酸；３（Ｓ）−８−
   ブロモ−４，５−ジオキソ−２，３，５，６−テトラヒ
   ドロ−４Ｈ−１−チア−３ａ，６−ジアザ−フェナレン
   −３−イル酢酸エチルエステル；３（Ｓ）−８−ブロモ
   −４，５−ジオキソ−２，３，５，６−テトラヒドロ−
   ４Ｈ−１−チア−３ａ，６−ジアザ−フェナレン−３−
   イル酢酸；；ジヒドロ−６Ｈ−１−オキサ−３ａ，６−
   ジアザ−フェナレン−４，５−ジオン；４，５−ジオキ
   ソ−２，３，５，６−テトラヒドロ−４Ｈ−１−オキサ
   −３ａ，６−ジアザ−フェナレン−３−イル−Ｎ−フェ
   ニル−アセトアミド；；４，５−ジオキソ−２，３，
   ５，６−テトラヒドロ−４Ｈ−１−オキサ−３ａ，６−
   ジアザ−フェナレン−３−イル酢酸エチルエステル；
   ４，５−ジオキソ−２，３，５，６−テトラヒドロ−４
   Ｈ−１−オキサ−３ａ，６−ジアザ−フェナレン−３−
   イル酢酸；８−ブロモ−１，４，５−トリオキソ−２，
   ３，５，６−テトラヒドロ−１Ｈ，４Ｈ−１−チア−３
   ａ，６−ジアザ−フェナレン−３−イル酢酸エチルエス
   テル；８−ブロモ−１，４，５−トリオキソ−２，３，
   ５，６−テトラヒドロ−１Ｈ，４Ｈ−１−チア−３ａ，
   ６−ジアザ−フェナレン−３−イル酢酸；８−ブロモ−
   １，４，５−トリオキソ−２，３，５，６−テトラヒド
   ロ−１Ｈ，４Ｈ−１−チア−３ａ，６−ジアザ−フェナ
   レン−３−イル−Ｎ−フェニル−アセトアミド；８−ブ
   ロモ−４，５−ジオキソ−２，３，５，６−テトラヒド
   ロ−４Ｈ−１−オキサ−３ａ，６−ジアザ−フェナレン
   −３−イル酢酸エチルエステル；８−ブロモ−４，５−
   ジオキソ−２，３，５，６−テトラヒドロ−４Ｈ−１−
   オキサ−３ａ，６−ジアザ−フェナレン−３−イル酢
   酸；８−ブロモ−４，５−ジオキソ−２，３，５，６−
   テトラヒドロ−４Ｈ−１−オキサ−３ａ，６−ジアザ−
   フェナレン−３−イル−Ｎ−フェニル−アセトアミド；
   ８−クロロ−１，４，５−トリオキソ−２，３，５，６
   −テトラヒドロ−１Ｈ，４Ｈ−１−チア−３ａ，６−ジ
   アザ−フェナレン−３−イル酢酸エチルエステル；８−
   クロロ−１，４，５−トリオキソ−２，３，５，６−テ
   トラヒドロ−１Ｈ，４Ｈ−１−チア−３ａ，６−ジアザ
   −フェナレン−３−イル酢酸；８−クロロ−１，４，５
   −トリオキソ−２，３，５，６−テトラヒドロ−１Ｈ，
   ４Ｈ−１−チア−３ａ，６−ジアザ−フェナレン−３−
   イル−Ｎ−フェニル−アセトアミド；８−クロロ−４，
   ５−ジオキソ−２，３，５，６−テトラヒドロ−４Ｈ−
   １−チア−３ａ，６−ジアザ−フェナレン−３−イル酢
   酸エチルエステル；８−クロロ−４，５−ジオキソ−
   ２，３，５，６−テトラヒドロ−４Ｈ−１−チア−３
   ａ，６−ジアザ−フェナレン−３−イル酢酸；８−クロ
   ロ−４，５−ジオキソ−２，３，５，６−テトラヒドロ
   −４Ｈ−１−チア−３ａ，６−ジアザ−フェナレン−３
   −イル−Ｎ−フェニル−アセトアミド；８−クロロ−６
   Ｈ−１−チア−３ａ，６−ジアザ−フェナレン−３，
   ４，５−トリオン；８−ブロモ−４，５−ジオキソ−
   ２，３，５，６−テトラヒドロ−４Ｈ−１−チア−３
   ａ，６−ジアザ−フェナレン−２−イルアセトアミド；
   ８−ブロモ−４，５−ジオキソ−２，３，５，６−テト
   ラヒドロ−４Ｈ−１−チア−３ａ，６−ジアザ−フェナ
   レン−２−イルアセトニトリル；８−ブロモ−２−（１
   Ｈ−テトラゾール−５−イルメチル）−２，３−ジヒド
   ロ−６Ｈ−１−チア−３ａ，６−ジアザ−フェナレン−
   ４，５−ジオン；８−ブロモ−４，５−ジオキソ−２，
   ３，５，６−テトラヒドロ−４Ｈ−１−チア−３ａ，６
   −ジアザ−フェナレン−２−イル酢酸エチルエステル；
   ８−ブロモ−４，５−ジオキソ−２，３，５，６−テト
   ラヒドロ−４Ｈ−１−チア−３ａ，６−ジアザ−フェナ
   レン−２−イル酢酸；８−ブロモ−４，５−ジオキソ−
   ２，３，５，６−テトラヒドロ−４Ｈ−１−チア−３
   ａ，６−ジアザ−フェナレン−２−イル酢酸Ｎ−フェニ
   ルアミド；２−（８−ブロモ−４，５−ジオキソ−２，
   ３，５，６−テトラヒドロ−４Ｈ−１−チア−３ａ，６
   −ジアザ−フェナレン−３−イル）−アセトアミノ−酢
   酸；１−〔２−（８−ブロモ−４，５−ジオキソ−２，
   ３，５，６−テトラヒドロ−４Ｈ−１−チア−３ａ，６
   −ジアザ−フェナレン−３−イル）−アセチル−アミ
   ノ〕−シクロプロパン−カルボン酸メチルエステル；１
   −〔２−（８−ブロモ−４，５−ジオキソ−２，３，
   ５，６−テトラヒドロ−４Ｈ−１−チア−３ａ，６−ジ
   アザ−フェナレン−３−イル）−アセチル−アミノ〕−
   シクロプロパン−カルボン酸；２，２−ジメチル−プロ
   ピオン酸（８−ブロモ−４，５−ジオキソ−２，３，
   ５，６−テトラヒドロ−４Ｈ−１−チア−３ａ，６−ジ
   アザ−フェナレン−３−イル）−アセトキシメチルエス
   テル；２−（３（Ｒ）−８−ブロモ−４，５−ジオキソ
   −２，３，５，６−テトラヒドロ−４Ｈ−１−チア−３
   ａ，６−ジアザ−フェナレン−３−イル）−Ｎ−フェニ
   ル−アセトアミド；２−（８−ブロモ−１，１，４，５
   −テトラオキソ−２，３，５，６−テトラヒドロ−１
   Ｈ，４Ｈ−６−チア−３ａ，６−ジアザ−フェナレン−
   ３−イル）−Ｎ−フェニル−アセトアミド；２−（８−
   ブロモ−４，５−ジオキソ−２，３，５，６−テトラヒ
   ドロ−４Ｈ−１−チア−３ａ，６−ジアザ−フェナレン
   −３−イル）−Ｎ−フェニル−アセトアミド；２−（８
   −ブロモ−４，５−ジオキソ−２，３，５，６−テトラ
   ヒドロ−４Ｈ−１−チア−３ａ，６−ジアザ−フェナレ
   ン−３−イル）−Ｎ−メルチ−Ｎ−フェニル−アセトア
   ミド；２−（８−ブロモ−４，５−ジオキソ−２，３，
   ５，６−テトラヒドロ−４Ｈ−１−チア−３ａ，６−ジ
   アザ−フェナレン−３−イル）−Ｎ−チアゾール−２−
   イル−アセトアミド；２−（８−ブロモ−４，５−ジオ
   キソ−２，３，５，６−テトラヒドロ−４Ｈ−１−チア
   −３ａ，６−ジアザ−フェナレン−３−イル）−Ｎ−シ
   クロ−プロピルメチル−アセトアミド；２−（８−ブロ
   モ−４，５−ジオキソ−２，３，５，６−テトラヒドロ
   −４Ｈ−１−チア−３ａ，６−ジアザ−フェナレン−３
   −イル）−Ｎ−シクロプロピル−アセトアミド；２−
   （８−ブロモ−４，５−ジオキソ−２，３，５，６−テ
   トラヒドロ−４Ｈ−１−チア−３ａ，６−ジアザ−フェ
   ナレン−３−イル）−Ｎ，Ｎ−ジブチル−アセトアミ
   ド；２−（８−ブロモ−４，５−ジオキソ−２，３，
   ５，６−テトラヒドロ−４Ｈ−１−チア−３ａ，６−ジ
   アザ−フェナレン−３−イル）−Ｎ−（２−オキソ−ア
   ゼパン−３−イル）−アセトアミド；２−（８−ブロモ
   −４，５−ジオキソ−２，３，５，６−テトラヒドロ−
   ４Ｈ−１−チア−３ａ，６−ジアザ−フェナレン−３−
   イル）−Ｎ−（２，２−ジメトキシ−エチル）−アセト
   アミド；２−（８−ブロモ−４，５−ジオキソ−２，
   ３，５，６−テトラヒドロ−４Ｈ−１−チア−３ａ，６
   −ジアザ−フェナレン−３−イル）−Ｎ−（５，６，
   ７，８−テトラヒドロ−ナフタレン−１−イル）−アセ
   トアミド；２−（８−ブロモ−４，５−ジオキソ−２，
   ３，５，６−テトラヒドロ−４Ｈ−１−チア−３ａ，６
   −ジアザ−フェナレン−３−イル）−Ｎ−フラン−２−
   イルメチル−アセトアミド；２−（８−ブロモ−４，５
   −ジオキソ−２，３，５，６−テトラヒドロ−４Ｈ−１
   −チア−３ａ，６−ジアザ−フェナレン−３−イル）−
   Ｎ−（２−メトキシエチル）−アセトアミド；２−（８
   −ブロモ−４，５−ジオキソ−２，３，５，６−テトラ
   ヒドロ−４Ｈ−１−チア−３ａ，６−ジアザ−フェナレ
   ン−３−イル）−Ｎ−第三−ブトキシ−アセトアミド；
   ２−（８−ブロモ−４，５−ジオキソ−２，３，５，６
   −テトラヒドロ−４Ｈ−１−チア−３ａ，６−ジアザ−
   フェナレン−３−イル）−Ｎ−プロプ−２−イニル−ア
   セトアミド；２−（８−ブロモ−４，５−ジオキソ−
   ２，３，５，６−テトラヒドロ−４Ｈ−１−チア−３
   ａ，６−ジアザ−フェナレン−３−イル）−Ｎ−シアノ
   −メチル−アセトアミド；２−（８−ブロモ−４，５−
   ジオキソ−２，３，５，６−テトラヒドロ−４Ｈ−１−
   チア−３ａ，６−ジアザ−フェナレン−３−イル）−Ｎ
   −メトキシ−アセトアミド；２−（８−ブロモ−４，５
   −ジオキソ−２，３，５，６−テトラヒドロ−４Ｈ−１
   −チア−３ａ，６−ジアザ−フェナレン−３−イル）−
   アセトアミド；２−（８−クロロ−４，５−ジオキソ−
   ２，３，５，６−テトラヒドロ−４Ｈ−１−オキサ−３
   ａ，６−ジアザ−フェナレン−３−イル）−Ｎ−フェニ
   ル−アセトアミド；２−（８−クロロ−４，５−ジオキ
   ソ−２，３，５，６−テトラヒドロ−４Ｈ−１−オキサ
   −３ａ，６−ジアザ−フェナレン−３−イル）−Ｎ−メ
   チル−Ｎ−フェニル−アセトアミド；２−（８−クロロ
   −４，５−ジオキソ−２，３，５，６−テトラヒドロ−
   ４Ｈ−１−オキサ−３ａ，６−ジアザ−フェナレン−３
   −イル）−Ｎ，Ｎ−ビス（２−ヒドロキシ−エチル）ア
   セトアミド；２−（８−クロロ−４，５−ジオキソ−
   ２，３，５，６−テトラヒドロ−４Ｈ−１−チア−３
   ａ，６−ジアザ−フェナレン−３−イル）−Ｎ−フェニ
   ル−アセトアミド；２−〔２−（８−ブロモ−４，５−
   ジオキソ−２，３，５，６−テトラヒドロ−４Ｈ−１−
   チア−３ａ，６−ジアザ−フェナレン−３−イル）−ア
   セチル−アミノ〕−３，３−ジメチル−酪酸第三ブチル
   エステル；２−〔２−（８−ブロモ−４，５−ジオキソ
   −２，３，５，６−テトラヒドロ−４Ｈ−１−チア−３
   ａ，６−ジアザ−フェナレン−３−イル）−アセチル−
   アミノ〕−マロン酸ジメチルエステル；２−〔２−（８
   −ブロモ−４，５−ジオキソ−２，３，５，６−テトラ
   ヒドロ−４Ｈ−１−チア−３ａ，６−ジアザ−フェナレ
   ン−３−イル）−アセチル−アミノ〕−安息香酸メチル
   エステル；２−〔２−（８−ブロモ−４，５−ジオキソ
   −２，３，５，６−テトラヒドロ−４Ｈ−１−チア−３
   ａ，６−ジアザ−フェナレン−３−イル）−アセチル−
   アミノ〕−３，３−ジメチル−酪酸；３（Ｒ）−８−ブ
   ロモ−４，５−ジオキソ−２，３，５，６−テトラヒド
   ロ−４Ｈ−１−チア−３ａ，６−ジアザ−フェナレン−
   ３−イル酢酸エチルエステル；３（Ｒ）−８−ブロモ−
   ４，５−ジオキソ−２，３，５，６−テトラヒドロ−４
   Ｈ−１−チア−３ａ，６−ジアザ−フェナレン−３−イ
   ル酢酸；３−〔２−（８−ブロモ−４，５−ジオキソ−
   ２，３，５，６−テトラヒドロ−４Ｈ−１−チア−３
   ａ，６−ジアザ−フェナレン−３−イル）−アセチル−
   アミノ〕−プロピオン酸メチルエステル；３−〔２−
   （８−ブロモ−４，５−ジオキソ−２，３，５，６−テ
   トラヒドロ−４Ｈ−１−チア−３ａ，６−ジアザ−フェ
   ナレン−３−イル）−アセチル−アミノ〕−プロピオン
   酸；４，５−ジオキソ−２，３，５，６−テトラヒドロ
   −４Ｈ−１−オキサ−３ａ，６−ジアザ−フェナレン−
   ３−イル酢酸エチルエステル；４−〔２−（８−ブロモ
   −４，５−ジオキソ−２，３，５，６−テトラヒドロ−
   ４Ｈ−１−チア−３ａ，６−ジアザ−フェナレン−３−
   イル）−アセチル−アミノ〕−安息香酸メチルエステ
   ル；７，９−ジブロモ−４，５−ジオキソ−２，３，
   ５，６−テトラヒドロ−４Ｈ−１−オキサ−３ａ，６−
   ジアザ−フェナレン−３−イル酢酸エチルエステル；８
   −ブロモ−１，１，４，５−テトラオキソ−２，３，
   ５，６−テトラヒドロ−１Ｈ，４Ｈ−６−チア−３ａ，
   ６−ジアザ−フェナレン−３−イル酢酸エチルエステ
   ル；８−ブロモ−１，１，４，５−テトラオキソ−２，
   ３，５，６−テトラヒドロ−１Ｈ，４Ｈ−６−チア−３
   ａ，６−ジアザ−フェナレン−３−イル酢酸；８−ブロ
   モ−３−（２−オキソ−２−ピペリジン−１−イル−エ
   チル）−２，３−ジヒドロ−６Ｈ−１−チア−３ａ，６
   −ジアザ−フェナレン−４，５−ジオン；８−ブロモ−
   ３−（２Ｈ−テトラゾール−５−イルメチル）−２，３
   −ジヒドロ−６Ｈ−１−チア−３ａ，６−ジアザ−フェ
   ナレン−４，５−ジオン；８−ブロモ−３−〔２−
   （２，３−ジヒドロ−インドール−１−イル）−２−オ
   キソ−エチル〕−２，３−ジヒドロ−６Ｈ−１−チア−
   ３ａ，６−ジアザ−フェナレン−４，５−ジオン；８−
   ブロモ−３−〔２−（２−メチル−アジリジン−１−イ
   ル）−２−オキソ−エチル〕−２，３−ジヒドロ−６Ｈ
   −１−チア−３ａ，６−ジアザ−フェナレン−４，５−
   ジオン；８−ブロモ−４，５−ジオキソ−２，３，５，
   ６−テトラヒドロ−４Ｈ−１−チア−３ａ，６−ジアザ
   −フェナレン−３−イル酢酸エチルエステル；８−ブロ
   モ−４，５−ジオキソ−２，３，５，６−テトラヒドロ
   −４Ｈ−１−チア−３ａ，６−ジアザ−フェナレン−３
   −イル酢酸；８−ブロモ−４，５−ジオキソ−２，３，
   ５，６−テトラヒドロ−４Ｈ−１−チア−３ａ，６−ジ
   アザ−フェナレン−３−イル酢酸メトキシカルボニル−
   メチルエステル；８−ブロモ−４，５−ジオキソ−２，
   ３，５，６−テトラヒドロ−４Ｈ−１−チア−３ａ，６
   −ジアザ−フェナレン−３−イルアセトニトリル；８−
   クロロ−２，３，５，６−ジヒドロ−６Ｈ−１−チア−
   ３ａ，６−ジアザ−フェナレン−４，５−ジオン；８−
   クロロ−４，５−ジオキソ−２，３，５，６−テトラヒ
   ドロ−４Ｈ−１−オキサ−３ａ，６−ジアザ−フェナレ
   ン−３−イル酢酸エチルエステル；８−クロロ−４，５
   −ジオキソ−２，３，５，６−テトラヒドロ−４Ｈ−１
   −オキサ−３ａ，６−ジアザ−フェナレン−３−イル酢
   酸；８−クロロ−４，５−ジオキソ−２，３，５，６−
   テトラヒドロ−４Ｈ−１−オキサ−３ａ，６−ジアザ−
   フェナレン−３−イル酢酸；８−クロロ−４，５−ジオ
   キソ−２，３，５，６−テトラヒドロ−４Ｈ−１−オキ
   サ−３ａ，６−ジアザ−フェナレン−３−イル酢酸ブチ
   ルエステル；８−クロロ−４，５−ジオキソ−２，３，
   ５，６−テトラヒドロ−４Ｈ−１−チア−３ａ，６−ジ
   アザ−フェナレン−３−イル酢酸ブチルエステル；８−
   クロロ−４，５−ジオキソ−２，３，５，６−テトラヒ
   ドロ−４Ｈ−１−チア−３ａ，６−ジアザ−フェナレン
   −３−イル酢酸；８−メチル−４，５−ジオキソ−２，
   ３，５，６−テトラヒドロ−４Ｈ−１−チア−３ａ，６
   −ジアザ−フェナレン−３−イル酢酸エチルエステル；
   ８−メチル−４，５−ジオキソ−２，３，５，６−テト
   ラヒドロ−４Ｈ−１−チア−３ａ，６−ジアザ−フェナ
   レン−３−イル酢酸；３−〔２−（８−ブロモ−４，５
   −ジオキソ−２，３，５，６−テトラヒドロ−４Ｈ−１
   −チア−３ａ，６−ジアザ−フェナレン−３−イル）−
   アセチル−アミノ〕−ブト−２−エン酸メチルエステ
   ル；安息香酸（８−ブロモ−４，５−ジオキソ−２，
   ３，５，６−テトラヒドロ−４Ｈ−１−チア−３ａ，６
   −ジアザ−フェナレン−３−イル）−アセトキシメチル
   エステル；１Ｎ−アダマンタン−１−イル−２−（８−
   ブロモ−４，５−ジオキソ−２，３，５，６−テトラヒ
   ドロ−４Ｈ−１−チア−３ａ，６−ジアザ−フェナレン
   −３−イル）−アセトアミド；１Ｎ−アダマンタン−１
   −イル−２−（８−クロロ−４，５−ジオキソ−２，
   ３，５，６−テトラヒドロ−４Ｈ−１−オキサ−３ａ，
   ６−ジアザ−フェナレン−３−イル）−アセトアミド；
   １Ｎ−アダマンタン−２−イル−２−（８−ブロモ−
   ４，５−ジオキソ−２，３，５，６−テトラヒドロ−４
   Ｈ−１−チア−３ａ，６−ジアザ−フェナレン−３−イ
   ル）−アセトアミド；１Ｎ−アリル−２−（８−ブロモ
   −４，５−ジオキソ−２，３，５，６−テトラヒドロ−
   ４Ｈ−１−チア−３ａ，６−ジアザ−フェナレン−３−
   イル）−アセトアミド；１Ｎ−アリルオキシ−２−（８
   −ブロモ−４，５−ジオキソ−２，３，５，６−テトラ
   ヒドロ−４Ｈ−１−チア−３ａ，６−ジアザ−フェナレ
   ン−３−イル）−アセトアミド；１Ｎ−ベンジルオキシ
   −２−（８−ブロモ−４，５−ジオキソ−２，３，５，
   ６−テトラヒドロ−４Ｈ−１−チア−３ａ，６−ジアザ
   −フェナレン−３−イル）−アセトアミド；１Ｎ−ビシ
   クロ〔２．２．１〕ヘプト−２−イル−２−（８−ブロ
   モ−４，５−ジオキソ−２，３，５，６−テトラヒドロ
   −４Ｈ−１−チア−３ａ，６−ジアザ−フェナレン−３
   −イル）−アセトアミド；１２，３−ジヒドロ−６Ｈ−
   １−オキサ−３ａ，６−ジアザ−フェナレン−４，５−
   ジオン；２−（８−ブロモ−４，５−ジオキソ−２，
   ３，５，６−テトラヒドロ−４Ｈ−１−チア−３ａ，６
   −ジアザ−フェナレン−３−イル）−Ｎ−エトキシ−ア
   セトアミド；２−（８−ブロモ−４，５−ジオキソ−
   ２，３，５，６−テトラヒドロ−４Ｈ−１−チア−３
   ａ，６−ジアザ−フェナレン−３−イル）−Ｎ−ヒドロ
   キシ−アセトアミド；２−（８−ブロモ−４，５−ジオ
   キソ−２，３，５，６−テトラヒドロ−４Ｈ−１−チア
   −３ａ，６−ジアザ−フェナレン−３−イル）−Ｎ−
   （２，２，２−トリフルオロエチル）−アセトアミド；
   ２−（８−ブロモ−４，５−ジオキソ−２，３，５，６
   −テトラヒドロ−４Ｈ−１−チア−３ａ，６−ジアザ−
   フェナレン−３−イル）−Ｎ−メトキシ−Ｎ−メルチ−
   アセトアミド；２−〔２−（８−ブロモ−４，５−ジオ
   キソ−２，３，５，６−テトラヒドロ−４Ｈ−１−チア
   −３ａ，６−ジアザ−フェナレン−３−イル）アセチル
   アミノ〕−酢酸エチルエステル；２−〔２−（８−ブロ
   モ−４，５−ジオキソ−２，３，５，６−テトラヒドロ
   −４Ｈ−１−チア−３ａ，６−ジアザ−フェナレン−３
   −イル）アセチルアミノ〕−プロピオン酢酸メチルエス
   テル；２−（８−ブロモ−４，５−ジオキソ−２，３，
   ５，６−テトラヒドロ−４Ｈ−１−チア−３ａ，６−ジ
   アザ−フェナレン−３−イル）−Ｎ−（２，３，４，
   ５，６−ペンタフルオロベンジルオキシ）−アセトアミ
   ド；２−（８−ブロモ−４，５−ジオキソ−２，３，
   ５，６−テトラヒドロ−４Ｈ−１−チア−３ａ，６−ジ
   アザ−フェナレン−３−イル）−Ｎ−フェノキシ−アセ
   トアミド；２−（８−ブロモ−４，５−ジオキソ−２，
   ３，５，６−テトラヒドロ−４Ｈ−１−チア−３ａ，６
   −ジアザ−フェナレン−３−イル）−Ｎ−（３−オキソ
   −３，４−ジヒドロ−２Ｈ−ベンゾ〔１，４〕オキサジ
   ン−７−イルメチル）−アセトアミド；２−〔２−（８
   −ブロモ−４，５−ジオキソ−２，３，５，６−テトラ
   ヒドロ−４Ｈ−１−チア−３ａ，６−ジアザ−フェナレ
   ン−３−イル）アセチルアミノ〕−５−（第三ブチルオ
   キシカルボニルアミノメチル）安息香酸メチルエステ
   ル；２−〔２−（８−ブロモ−４，５−ジオキソ−２，
   ３，５，６−テトラヒドロ−４Ｈ−１−チア−３ａ，６
   −ジアザ−フェナレン−３−イル）アセチルアミノ〕−
   ５−（第三ブチルオキシカルボニルアミノメチル）安息
   香酸；４−〔２−（８−ブロモ−４，５−ジオキソ−
   ２，３，５，６−テトラヒドロ−４Ｈ−１−チア−３
   ａ，６−ジアザ−フェナレン−３−イル）アセチルアミ
   ノ〕−安息香酸；２−（８−ブロモ−４，５−ジオキソ
   −２，３，５，６−テトラヒドロ−４Ｈ−１−チア−３
   ａ，６−ジアザ−フェナレン−３−イル）−Ｎ−（３，
   ５−ビストリフルオロメチルフェニル）−アセトアミ
   ド；２−（８−ブロモ−４，５−ジオキソ−２，３，
   ５，６−テトラヒドロ−４Ｈ−１−チア−３ａ，６−ジ
   アザ−フェナレン−３−イル）−Ｎ−（２−クロロ−５
   −トリフルオロメチルフェニル）−アセトアミド；２−
   （８−ブロモ−４，５−ジオキソ−２，３，５，６−テ
   トラヒドロ−４Ｈ−１−チア−３ａ，６−ジアザ−フェ
   ナレン−３−イル）−Ｎ−（２−メチルオキシフェニ
   ル）−アセトアミド；２−（８−ブロモ−４，５−ジオ
   キソ−２，３，５，６−テトラヒドロ−４Ｈ−１−チア
   −３ａ，６−ジアザ−フェナレン−３−イル）−Ｎ−
   （２−トリフルオロメチルフェニル）−アセトアミド；
   ２−（８−ブロモ−４，５−ジオキソ−２，３，５，６
   −テトラヒドロ−４Ｈ−１−チア−３ａ，６−ジアザ−
   フェナレン−３−イル）−Ｎ−（４−メトキシフェニ
   ル）−アセトアミド；２−（８−ブロモ−４，５−ジオ
   キソ−２，３，５，６−テトラヒドロ−４Ｈ−１−チア
   −３ａ，６−ジアザ−フェナレン−３−イル）−Ｎ−
   （２，５−ジメトキシフェニル）−アセトアミド；２−
   （８−ブロモ−４，５−ジオキソ−２，３，５，６−テ
   トラヒドロ−４Ｈ−１−チア−３ａ，６−ジアザ−フェ
   ナレン−３−イル）−Ｎ−（２−フルオロ−５−トリフ
   ルオロメチル−フェニル）−アセトアミド；２−（８−
   ブロモ−４，５−ジオキソ−２，３，５，６−テトラヒ
   ドロ−４Ｈ−１−チア−３ａ，６−ジアザ−フェナレン
   −３−イル）−Ｎ−（４−フェノキシフェニル）−アセ
   トアミド；２−（８−ブロモ−４，５−ジオキソ−２，
   ３，５，６−テトラヒドロ−４Ｈ−１−チア−３ａ，６
   −ジアザ−フェナレン−３−イル）−Ｎ−〔４−（４−
   クロロフェノキシ）フェニル〕−アセトアミド；２−
   （８−ブロモ−４，５−ジオキソ−２，３，５，６−テ
   トラヒドロ−４Ｈ−１−チア−３ａ，６−ジアザ−フェ
   ナレン−３−イル）−Ｎ−（３，４，５−トリメトキシ
   フェニル）−アセトアミド；２−（８−ブロモ−４，５
   −ジオキソ−２，３，５，６−テトラヒドロ−４Ｈ−１
   −チア−３ａ，６−ジアザ−フェナレン−３−イル）−
   Ｎ−（４−フルオロ−２−トリフルオロメチル−フェニ
   ル）−アセトアミド；２−（８−ブロモ−４，５−ジオ
   キソ−２，３，５，６−テトラヒドロ−４Ｈ−１−チア
   −３ａ，６−ジアザ−フェナレン−３−イル）−Ｎ−
   （３−フェノキシフェニル）−アセトアミド；２−（８
   −ブロモ−４，５−ジオキソ−２，３，５，６−テトラ
   ヒドロ−４Ｈ−１−チア−３ａ，６−ジアザ−フェナレ
   ン−３−イル）−Ｎ−（１−シアノ−１−メチルエチ
   ル）−アセトアミド；２−（８−ブロモ−４，５−ジオ
   キソ−２，３，５，６−テトラヒドロ−４Ｈ−１−チア
   −３ａ，６−ジアザ−フェナレン−３−イル）−Ｎ−
   （２−メトキシ−５−メチル−フェニル）−アセトアミ
   ド；２−（８−ブロモ−４，５−ジオキソ−２，３，
   ５，６−テトラヒドロ−４Ｈ−１−チア−３ａ，６−ジ
   アザ−フェナレン−３−イル）−Ｎ−（３−メトキシ−
   フェニル）−アセトアミド；２−（８−ブロモ−４，５
   −ジオキソ−２，３，５，６−テトラヒドロ−４Ｈ−１
   −チア−３ａ，６−ジアザ−フェナレン−３−イル）−
   Ｎ−（３，５−ジメトキシフェニル−フェニル）−アセ
   トアミド；８−メチル−４，５−ジオキソ−２，３，
   ５，６−テトラヒドロ−４Ｈ−１−チア−３ａ，６−ジ
   アザ−フェナレン−３−イル酢酸；２−（８−メチル−
   ４，５−ジオキソ−２，３，５，６−テトラヒドロ−４
   Ｈ−１−チア−３ａ，６−ジアザ−フェナレン−３−イ
   ル）−Ｎ−フェニル−アセトアミド又は２−（８−メチ
   ル−４，５−ジオキソ−２，３，５，６−テトラヒドロ
   −４Ｈ−１−チア−３ａ，６−ジアザ−フェナレン−３
   −イル）−Ｎ−（第三ブチルオキシ）−アセトアミド又
   は各々の場合においてそれらの塩。
8. 【請求項８】 請求項１〜７のいずれか１項に記載の化
   合物又はその医薬として許容し得る塩並びに通常の医薬
   賦形剤および担体を含んでなる医薬組成物。