JPH08104979A - 蒸着装置 - Google Patents

蒸着装置

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JPH08104979A
JPH08104979A JP24168394A JP24168394A JPH08104979A JP H08104979 A JPH08104979 A JP H08104979A JP 24168394 A JP24168394 A JP 24168394A JP 24168394 A JP24168394 A JP 24168394A JP H08104979 A JPH08104979 A JP H08104979A
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敏郎 篠原
Kenichi Anzai
健一 安西
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Abstract

(57)【要約】 【目的】 蒸着過程での基材のピーク温度を低下させる
ことにより、基材の皺や弛みを防止でき、設備コストも
安い蒸着装置を提供する。 【構成】 軸線を中心として回転される冷却ドラム1
と、冷却ドラム1の外周面の一部に帯状の基材Fを巻回
した状態で基材を走行させるアンコイラ2およびリコイ
ラ4と、冷却ドラム1の基材巻回部と対向して配置さ
れ、蒸着材料8を保持する蒸着材料保持部6と、蒸着材
料8を基材巻回部に向けて蒸散させるための加熱機構
と、冷却ドラム1と蒸着材料保持部6との間に配置され
たマスク支持体12と、以上の各構成要素を収容する真
空容器9とを具備する。マスク支持体12は、基材巻回
部へ向かう蒸気を部分的に遮蔽することにより、基材巻
回部上における材料蒸着領域Pを基材走行方向に並ぶ2
以上に分割するマスク板18,20を有する。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、帯状の基材を走行させ
つつ、その表面に金属やセラミックス等の蒸着膜を形成
するための蒸着装置に関するものである。
【0002】
【従来の技術】例えば、金属化フィルムコンデンサ用フ
ィルムや包装用蒸着フィルム、磁気記録用蒸着テープ等
の製造においては、プラスチックフィルムの表面に各種
金属を蒸着する工程が設けられている。この種の蒸着フ
ィルムを製造する際には、従来より、冷却手段を内蔵し
軸線を中心として回転される冷却ドラムと、冷却ドラム
の外周面の一部にフィルム(以下、基材という)を巻回
させた状態でこの基材を走行させるアンコイラおよびリ
コイラと、基材巻回部と対向して配置され蒸着材料を保
持する蒸着材料保持部と、蒸着材料保持部内に保持され
た蒸着材料を蒸散させるための加熱機構と、以上の各構
成要素を収容する真空容器とを備えた蒸着装置が使用さ
れている。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】ところで、前記基材巻
回部に位置する基材には、高温の材料蒸気が直接被着さ
れるため、蒸気からの伝達熱のみならず、材料保持部か
らの輻射熱、さらには材料蒸気が基材に凝着する際に放
出する潜熱により、基材表面は高温に加熱される。この
時の熱により、基材が許容温度以上に熱せられてしまう
と、基材に弛みや皺などの変形が生じ、不良品が発生す
る原因となる。これは特に、極薄の高分子フィルムなど
の熱影響に敏感な材質を使用する際に顕著な問題であ
る。
【0004】そこで従来では、冷却ドラムの冷却効率を
高めたり、基材巻回部において基材が冷却ドラムに隙間
無く密着するように、冷却ドラムや基材の表面平滑性を
調整したり、基材に加える張力分布を高精度に調節する
機構を設けるなど、基材からの放熱性を高めることを主
眼において各種の対策が採られてきた。しかし、以上の
ような対策では、装置の構造が複雑になって設備コスト
が増すうえ、基材巻回部において基材が冷却ドラムから
僅かにでも剥離すると、その剥離部分で基材の冷却効率
が著しく低下して温度が急上昇し、さらに基材の剥離が
進行するという悪循環に陥りやすく、一旦剥離すると比
較的大面積に亙って皺や弛みが生じる問題があった。ま
た、基材が冷却ドラムで冷却された後、基材表面が輻射
熱や潜熱で高温に急激に加熱されると、基材の表裏の温
度差から皺が発生する等の問題もあった。
【0005】本発明は上記事情に鑑みてなされたもの
で、蒸着過程での基材のピーク温度を効果的に低下させ
ることにより、基材の皺や弛みを防止でき、設備コスト
も安い蒸着装置を提供することを課題としている。
【0006】
【課題を解決するための手段】上記課題を解決するた
め、本発明に係る蒸着装置は、その外周面を冷却するた
めの冷却手段を内蔵し、その軸線を中心として回転され
る冷却ドラムと、前記冷却ドラムの外周面の一部に帯状
の基材を巻回した状態でこの基材を走行させる基材走行
機構と、前記冷却ドラムの基材巻回部と対向して配置さ
れ、蒸着材料を保持する蒸着材料保持部と、前記蒸着材
料保持部内に保持された蒸着材料を前記基材巻回部に向
けて蒸散させるための加熱機構と、前記冷却ドラムと前
記蒸着材料保持部との間に配置されたマスク機構と、以
上の各構成要素を収容する真空容器とを具備し、前記マ
スク機構は、前記蒸着材料保持部から前記基材巻回部へ
向かう蒸気を部分的に遮蔽することにより、前記基材巻
回部上における材料蒸着領域を基材走行方向に並ぶ2以
上の領域に分割するマスク部を有することを特徴とす
る。
【0007】請求項2に係る蒸着装置では、マスク部が
それぞれ、前記冷却ドラムの軸線と平行に延びる一定幅
を有するマスク板とされ、これらマスク板は、基材走行
方向へ向けて位置変更可能に支持されていることを特徴
とする。請求項3に係る蒸着装置では、マスク板に冷却
水路が形成され、各冷却水路に冷却水を供給するための
冷却水供給機構が設けられていることを特徴とする。
【0008】
【作用】本発明の蒸着装置では、マスク機構のマスク部
により、蒸着材料保持部から基材巻回部へ向かう蒸気を
部分的に遮蔽して、基材巻回部上における蒸着領域を基
材走行方向に向けて2以上の領域に分割するため、各蒸
着領域間の非蒸着領域では、基材の加熱が一時停止さ
れ、基材から冷却ドラムへの放熱のみが進行して基材温
度が低下する。このように、基材温度は蒸着領域で上昇
し、非蒸着領域で降下するというサイクルを繰り返すか
ら、蒸着過程における基材の温度変化が平均化され、同
じ蒸着膜厚を得る場合にも基材のピーク温度を低下する
ことができ、熱変形による基材の皺や弛みの発生を低減
することが可能である。また、各蒸着領域間に冷却領域
を設けたことにより、たとえ局部的な剥離箇所が生じた
としても、この剥離箇所が加熱され続けることがないか
ら、剥離が加速度的に助長されて大面積に亙る欠陥を生
じるといった不都合が少ない。
【0009】
【実施例】図1は、本発明に係る蒸着装置の一実施例を
示す正断面図である。図中符号1は金属等からなる円柱
状の冷却ドラムであり、図示しない駆動装置により図中
矢印方向へ回転駆動される。冷却ドラム1の外周面の一
部(この例では下面側)には、一定幅で帯状の基材Fが
ドラム周方向に向けて半円状に巻回され、アンコイラ2
から繰り出されてリコイラ4で巻取られることにより連
続走行されるようになっている。基材Fとしては、プラ
スチックフィルムや金属箔を始めとし、いかなる材質を
使用してもよい。
【0010】冷却ドラム1の基材巻回部と対向して蒸着
材料保持部6が配置され、その内部には金属やセラミッ
クス等の蒸着材料8が収容されている。蒸着材料8とし
てはセラミックスや金属など従来より蒸着材料として使
用されている物質であればいかなるものを用いてもよ
い。蒸着材料保持部6には、図示しない加熱機構が付設
されている。加熱機構の種類は限定されないが、例えば
真空蒸着方式を採用する場合には各種ヒータ、電子ビー
ム蒸着法式を採用する場合には電子ビーム発生機構等が
設けられ、これらヒータまたは電子ビームにより蒸着材
料8を加熱することにより、その蒸気が蒸着材料保持部
6から冷却ドラム1に向けて放射されるようになってい
る。加熱機構の構成は周知の通りでよく、ここでは詳述
しない。
【0011】以上の構成は全て真空容器9内に収容され
ている。真空容器9には図示しない真空ポンプおよび不
活性ガス供給源等が接続され、真空容器9内の雰囲気を
所望条件に合わせられるようになっている。真空容器9
内には、冷却ドラム1の中心軸の高さにほぼ一致して水
平な隔壁10が取り付けられ、これら隔壁10により冷
却ドラム1の周囲において真空容器9内空間が上下に区
画されている。隔壁10と冷却ドラム1の周囲との間に
は僅かな間隙が空けられるとともに、冷却ドラム1側の
隔壁10の周縁には、冷却ドラム1の基材巻回部を一定
間隙を空けて包囲するようにマスク支持体12が取り付
けられている。
【0012】マスク支持体12は、図2に示すように、
互いに平行な一対のレール部16と、これらレール部1
6の端部間を直角につなぐ一対の固定マスク部14とか
らなる四角い枠状をなしている。各レール部16は半円
状に湾曲しており、冷却ドラム1の軸方向両端部の外周
面とそれぞれ平行に対向して配置されている。また、固
定マスク部14はレール部16と同一平面に沿って僅か
に湾曲した細長い板状をなし、基材Fの巻始め側の一定
幅部分、および巻終わり側の一定幅部分のそれぞれと一
定間隙を空けて平行に対向している。固定マスク部14
の全長は、図2に示すように冷却ドラム1の軸線方向長
さよりも大きく設定されている。
【0013】各レール部16には、その中心線に沿って
レール部16のほぼ全長に亙って延びるスリット22が
形成されている。また、レール部16の外周面に沿っ
て、基材Fの巻始め側から順に、第1マスク板18、第
2マスク板20、第2マスク板20および第1マスク板
18がそれぞれ冷却ドラム1の軸線方向に向けて配置さ
れ、各マスク板18,20の両端を貫通するボルト24
がそれぞれスリット22に通されてナット(図示略)で
固定されている。これにより、各マスク板18,20
は、両端のボルト24を緩めると、レール部16の外周
面に沿って円周方向へ位置変更でき、さらにボルト24
を取り外せばレール部16から取り外しもできるように
なっている。
【0014】マスク板18,20の幅および厚さは、必
要とする蒸着条件に合わせて適宜設定されるべきであ
る。具体的には、図1に示すように、蒸着材料保持部6
からの蒸気が基材Fに到達する蒸着領域Pと、到達しな
い非蒸着領域Qが交互に形成される状態において、蒸着
中の基材Fのピーク温度が、基材Fに皺や弛みが生じる
許容限界温度よりも十分低くなるように、実験を行って
決定すべきである。マスク板18,20の枚数は4枚に
限定されず、必要とされる基材冷却効果に応じて適宜変
更してよい。
【0015】マスク板18,20の材質としては、蒸着
中に高温になることから、セラミックスや金属材料、ま
たはこれらの複合材料等の耐熱材料が好ましい。より好
ましくは、マスク板18,20を熱伝導性の高い金属ま
たはこれら金属を主組成物とする複合材料で形成すると
ともに、その内部に冷却水路を形成し、これら冷却水路
へ冷却水供給機構から冷却水を循環させるようにすると
よい。図3はそのような冷却水路26が形成されたマス
ク板18,20を示す。冷却水路26はマスク板18
(20)の両端に取り付けられたパイプ28間を連通さ
せるもので、マスク板18(20)の内部で蛇行してい
る。さらに、パイプ28はそれぞれチューブを介して図
示しない冷却水供給機構に接続されている。冷却水路2
6の形状は図示形状に限定されず、必要に応じて適宜変
更してよい。なお、マスク支持体12の固定マスク部1
4およびレール部16内にも前記同様の冷却水路26を
形成し、マスク板18,20とともに冷却することがよ
り好ましい。
【0016】マスク板18,20の内部に冷却水路26
を形成した場合には、蒸着中のマスク板18,20の温
度上昇が抑制されるため、これらマスク板18,20と
対向する位置での基材Fの冷却効率を一層高めることが
できる。これにより、基材Fの最高温度をさらに低下さ
せることが可能で、皺や弛みを防止する効果を一層高め
ることができる。
【0017】上記構成からなる蒸着装置によれば、マス
ク板18,20により蒸着材料保持部6から基材巻回部
へ向かう蒸気を部分的に遮蔽し、図1に示すように、基
材巻回部上における蒸着領域を基材走行方向に向けて3
つの領域Pに分割するため、各蒸着領域P間の非蒸着領
域Qでは、基材Fの加熱が停止され、基材Fから冷却ド
ラム1への放熱のみが進行して基材温度が低下する。こ
のため、基材Fの温度は図4に示すように蒸着領域Pで
上昇し、非蒸着領域Qで降下するというサイクルを繰り
返すから、蒸着過程における基材Fの温度変化が平均化
され、同じ蒸着膜厚を得る場合にも基材Fのピーク温度
を低下することができ、熱変形による基材Fの皺や弛み
の発生を防ぐことが可能である。また、マスク支持体1
2およびマスク板18,20を配置するだけの単純な構
造であるから、安いコストで確実な効果を得ることがで
きる。
【0018】また、各蒸着領域P間に冷却領域Qを設け
たことにより、たとえ局部的に冷却ドラム1から基材F
が剥離した箇所が生じたとしても、この剥離箇所が加熱
され続けることがなく、剥離が加速度的に助長されて大
面積に亙る欠陥を生じるといった不都合が少ない。これ
に対し従来の装置では、蒸着領域の全面において図5に
示すように基材温度が急激に上昇し続けるから、冷却ド
ラムからの剥離などにより基材の冷却効率が僅かに低下
しただけで、その部分の最高温度が簡単に許容範囲を超
えてしまい、皺や弛みの問題を生じ易い。
【0019】さらに、この実施例では、マスク板18,
20の位置を個々に調整することにより、蒸着領域Pと
非蒸着領域Qの各幅を自在に調整できるから、例えば図
4に示す3つのピーク温度がほぼ同値となるように調整
することが容易で、皺や弛み発生のおそれを最小化する
と共に、十分な蒸着効率を得ることが可能である。な
お、本発明は上記実施例のみに限定されるものではな
く、他にも様々な変形例が可能である。例えば、上記実
施例ではレール部16の外周面に沿ってマスク板18,
20を摺動させる構成であったが、レール部16の内周
面に沿ってマスク板18,20を摺動させるようにし、
マスク板18,20と基材Fとの離間距離を縮小して、
マスク板18,20による基材Fの冷却効果を高めるよ
うにしてもよい。さらに、マスク部は必ずしも位置調整
可能でなくともよく、マスク支持体12と一体に固定し
てもよい。
【0020】
【発明の効果】以上説明したように、本発明に係る蒸着
装置によれば、マスク機構のマスク部により、蒸着材料
保持部から基材巻回部へ向かう蒸気を部分的に遮蔽し
て、基材巻回部上における蒸着領域を基材走行方向に向
けて2以上の領域に分割するため、各蒸着領域間の非蒸
着領域では、基材への加熱が停止され、基材から冷却ド
ラムへの放熱のみが進行して基材温度が低下する。この
ように、基材温度は蒸着領域で上昇し、非蒸着領域で降
下するというサイクルを繰り返すから、蒸着過程におけ
る基材の温度変化が平均化され、同じ蒸着膜厚を得る場
合にも基材のピーク温度を低下することができる。した
がって、熱変形による基材の皺や弛みの発生を低減する
ことが可能である。また、各蒸着領域間に冷却領域を設
けたことにより、たとえ局部的な剥離箇所が生じたとし
ても、この剥離箇所が加熱され続けることがないから、
剥離が加速度的に助長されて大面積に亙る欠陥を生じる
といった不都合が少ない。このように優れた効果を得ら
れるにも拘わらず、構成が単純であるから設備コストは
安いという利点を有する。
【0021】請求項2記載の蒸着装置では、マスク部と
して冷却ドラム軸線と平行に延びるマスク板を設け、こ
れらマスク板を基材走行方向へ向けて位置変更可能に支
持しているので、各蒸着領域におけるピーク温度をほぼ
同値となるように調整することにより、皺や弛み発生の
おそれを最小化すると共に、十分な蒸着効率を得ること
が可能である。
【0022】請求項3記載の蒸着装置では、マスク板の
内部に冷却水路を形成し冷却水を流すようにしているの
で、蒸着中のマスク板の温度上昇が抑制され、マスク板
と対向する位置での基材の冷却効率を一層高めることが
できる。これにより、基材の最高温度をさらに低下させ
ることが可能で、皺や弛みを防止する効果を一層高める
ことができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明に係る蒸着装置の一実施例を示す正断面
図である。
【図2】同実施例のマスク支持体(マスク機構)を下方
から見た図である。
【図3】同実施例のマスク板の一例を示す平面図であ
る。
【図4】本発明の効果を示す基材温度のグラフである。
【図5】従来装置の問題点を示すための基材温度のグラ
フである。
【符号の説明】 1 冷却ドラム 2 アンコイラ(基材走行機構) 4 リコイラ(基材走行機構) 6 蒸着材料保持部 8 蒸着材料 9 真空容器 10 隔壁 12 マスク支持体(マスク機構) 14 固定マスク部 16 レール部 18 第1マスク板(マスク部) 20 第2マスク板(マスク部) 22 スリット 24 ボルト 26 冷却水路 P 蒸着領域 Q 非蒸着領域

Claims (3)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】その外周面を冷却するための冷却手段を内
    蔵し、その軸線を中心として回転される冷却ドラムと、 前記冷却ドラムの外周面の一部に帯状の基材を巻回した
    状態でこの基材を走行させる基材走行機構と、 前記冷却ドラムの基材巻回部と対向して配置され、蒸着
    材料を保持する蒸着材料保持部と、 前記蒸着材料保持部内に保持された蒸着材料を前記基材
    巻回部に向けて蒸散させるための加熱機構と、 前記冷却ドラムと前記蒸着材料保持部との間に配置され
    たマスク機構と、 以上の各構成要素を収容する真空容器とを具備し、 前記マスク機構は、前記蒸着材料保持部から前記基材巻
    回部へ向かう蒸気を部分的に遮蔽することにより、前記
    基材巻回部上における材料蒸着領域を基材走行方向に並
    ぶ2以上の領域に分割するマスク部を具備することを特
    徴とする蒸着装置。
  2. 【請求項2】前記マスク部はそれぞれ、前記冷却ドラム
    の軸線と平行に延びる一定幅を有するマスク板であり、
    これらマスク板は、基材走行方向へ向けて位置変更可能
    に支持されていることを特徴とする請求項1記載の蒸着
    装置。
  3. 【請求項3】前記マスク板には冷却水路が形成されると
    ともに、各冷却水路に冷却水を供給するための冷却水供
    給機構が設けられていることを特徴とする請求項2記載
    の蒸着装置。
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