JPH08104954A - Soft magnetic alloy, soft magnetic thin film and multilayer film - Google Patents

Soft magnetic alloy, soft magnetic thin film and multilayer film

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JPH08104954A
JPH08104954A JP6263216A JP26321694A JPH08104954A JP H08104954 A JPH08104954 A JP H08104954A JP 6263216 A JP6263216 A JP 6263216A JP 26321694 A JP26321694 A JP 26321694A JP H08104954 A JPH08104954 A JP H08104954A
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alloy
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centered cubic
magnetic
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Abstract

PURPOSE: To obtain a soft magnetic alloy having high Bs and high magnetic permeability at high frequency by specifying a compsn. consisting of Fe, Co and Ni as essential components and Ti and Hf as additives and forming a face-centered cubic single phase having a specified saturation magnetostriction value. CONSTITUTION: This soft magnetic alloy is a soft magnetic Fe-Co-Ni alloy represented by the formula (Fex Coy Niz )100-a-b Tia Hfb (where 0.10<=x<=0.55, 0.20<=y<=0.85, 0.05<=z<=0.28, 3x-5z<=0.60, x+y+z=1, 0<=a<=5, 0<=b<=3 and 0.1<=a+b<=5) and the phase of this alloy is practically a face-centered cubic single phase. When the saturation magnetostriction value of the face-centered cubic phase is represented by λs, the (111) spacing of the phase is represented by d(111) and the (111) spacing of the phase in the case where neither Ti nor Hf is contained is represented by d0 (111), the relation of 1.0×10<-8> <=λs.Δd(111)/d0 (111)<=3.0×10<-8> [where Δd(111)=d(111)-d0 (111)] is satisfied. This alloy ensures high Bs and high magnetic permeability at high frequency especially as a thin film and the 1st layer of a multilayer film.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は、軟磁性合金と、軟磁性
薄膜と、多層膜とに関する。
FIELD OF THE INVENTION The present invention relates to a soft magnetic alloy, a soft magnetic thin film, and a multilayer film.

【0002】[0002]

【従来の技術】磁気記録の分野では高記録密度化に伴な
い高保磁力を有する磁気記録媒体が用いられるようにな
っている。この場合、良好な磁気記録を行なうために
は、磁気ヘッドから密度の高い磁束を発生させる必要が
あるので、飽和磁束密度(Bs )の高い軟磁性薄膜や軟
磁性多層膜を利用したメタル・イン・ギャップ(MI
G)型磁気ヘッド、積層型磁気ヘッド、薄膜磁気ヘッド
などが用いられるようになってきている。これらの磁気
ヘッドに用いられる軟磁性薄膜や軟磁性多層膜には、高
いBs の他、保磁力(Hc )が低く透磁率(μ)が高い
ことも要求される。特に高密度記録媒体用の磁気ヘッド
では、高周波(例えば10MHz 程度)での透磁率が大き
いことが重要である。
2. Description of the Related Art In the field of magnetic recording, a magnetic recording medium having a high coercive force has come to be used with the increase in recording density. In this case, in order to perform good magnetic recording, it is necessary to generate a high-density magnetic flux from the magnetic head. Therefore, a soft magnetic thin film having a high saturation magnetic flux density (Bs) or a soft magnetic multilayer film・ Gap (MI
G) type magnetic heads, laminated type magnetic heads, thin film magnetic heads and the like have been used. The soft magnetic thin film and soft magnetic multilayer film used for these magnetic heads are required to have a high coercive force (Hc) and a low magnetic permeability (μ) in addition to a high Bs. Particularly in a magnetic head for a high density recording medium, it is important that the magnetic permeability at a high frequency (for example, about 10 MHz) is large.

【0003】Bs が15kG以上と高い軟磁性材料はいく
つか提案されているが、他の特性が十分とはいえない。
Some soft magnetic materials having a high Bs of 15 kG or more have been proposed, but other properties are not sufficient.

【0004】例えば、高いBs を示す系としてはFeま
たはFe−Co合金を基本成分とする系が知られてい
る。しかし、Fe−Co合金系の材料は磁歪が大きい。
このため、スパッタ法により形成する際に基板温度や熱
処理温度を最適化したとしてもHc が高くなり、十分な
軟磁気特性が得られない。
For example, as a system showing high Bs, a system containing Fe or Fe-Co alloy as a basic component is known. However, the Fe—Co alloy-based material has a large magnetostriction.
For this reason, even if the substrate temperature and the heat treatment temperature are optimized when the film is formed by the sputtering method, Hc becomes high and sufficient soft magnetic characteristics cannot be obtained.

【0005】Fe系材料の軟磁気特性を改善するための
技術としては、FeにNとOとを数パーセント以下添加
することが提案されている(特開平2−57665号公
報)。このものは、Bs が15kG以上、Hc が1.5 O
e 以下であって良好な軟磁気特性を示すが、耐食性が低
く、常温で通常の湿度の環境で容易に酸化が進み、磁気
特性が大幅に劣化するという問題がある。また、耐熱性
にも問題があり、素子作製の際に必然的に加わる熱によ
り、特性の劣化が生じてしまう。
As a technique for improving the soft magnetic properties of Fe-based materials, it has been proposed to add N and O to Fe by several percent or less (Japanese Patent Laid-Open No. 2-57665). This product has Bs of 15 kG or more and Hc of 1.5 O.
Although it is less than e and exhibits good soft magnetic properties, it has low corrosion resistance, and there is a problem that the magnetic properties are significantly deteriorated due to easy oxidation in an environment of normal temperature and normal humidity. Further, there is also a problem in heat resistance, and the heat that is inevitably applied when manufacturing the element causes deterioration of the characteristics.

【0006】第16回日本応用磁気学会学術講演概要集
の7pF−15には、Co=50〜60wt% 、Fe=2
0〜30wt% 、Ni=20〜30wt% を含有するめっき
膜で、19kG以上の高Bs と良好な耐食性とが得られる
ことが報告されている。しかし、このめっき膜は透磁率
(μ)が600〜700程度であり、パーマロイに比べ
て低い。また、同文献には、透磁率の測定周波数は記載
されていない。
Co = 50-60 wt%, Fe = 2 in 7 pF-15 of the 16th Japan Society for Applied Magnetics Academic Lectures
It has been reported that a plating film containing 0 to 30 wt% and Ni = 20 to 30 wt% can obtain high Bs of 19 kG or more and good corrosion resistance. However, this plated film has a magnetic permeability (μ) of about 600 to 700, which is lower than that of permalloy. Moreover, the measurement frequency of magnetic permeability is not described in the document.

【0007】特公昭63−53277号公報の第1図の
3元組成図には、Fe−Co−Niめっき膜におけるλ
s =0線が示されているが、同公報では高周波における
透磁率は測定しない。なお、前述した第16回日本応用
磁気学会学術講演概要集に記載されている高Bs のFe
−Co−Niめっき膜では、λs の絶対値が大きいため
に透磁率が低くなっていると考えられる。
In the ternary composition diagram of FIG. 1 of Japanese Patent Publication No. 63-53277, λ in the Fe--Co--Ni plating film is shown.
Although the s = 0 line is shown, the same publication does not measure magnetic permeability at high frequencies. It should be noted that Fe of high Bs described in the above-mentioned 16th Japan Society for Applied Magnetic Science abstracts
In the -Co-Ni plated film, it is considered that the magnetic permeability is low because the absolute value of λs is large.

【0008】[0008]

【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、Fe
−Co−Ni系軟磁性合金、特に薄膜について、高Bs
を実現すると共に、高周波における高透磁率を実現する
ことである。
The object of the present invention is to provide Fe
-Co-Ni soft magnetic alloy, especially for thin films, high Bs
And to achieve high magnetic permeability at high frequencies.

【0009】[0009]

【課題を解決するための手段】このような目的は、下記
(1)〜(3)のいずれかの構成により達成される。
(1)Fe、CoおよびNiを主成分とし、添加物とし
てTiおよび/またはHfを含み、各元素の原子比が、 式 (Fex Coy Niz100-a-b Tia Hfb において 0.10≦x≦0.55、 0.20≦y≦0.85、 0.05≦z≦0.28、 3x−5z≦0.60、 x+y+z=1、 0≦a≦5、 0≦b≦3、 0.1≦a+b≦5 で表わされ、実質的に面心立方晶単相から構成され、飽
和磁歪値をλs とし、面心立方晶の(111)面間隔を
d(111)とし、TiおよびHfのいずれも含まない
ときの面心立方晶の(111)面間隔をd0(111)
とし、 Δd(111)=d(111)−d0 (111) としたとき、 1.0×10-8≦λs ・Δd(111)/d0 (11
1)≦3.0×10-8である軟磁性合金。 (2)上記(1)の軟磁性合金から構成されている軟磁
性薄膜。 (3)少なくとも1層が上記(2)の軟磁性薄膜である
多層膜。
Such an object is achieved by any of the following constitutions (1) to (3).
(1) Fe, Co as a main component and Ni, wherein the Ti and / or Hf as an additive, the atomic ratio of each element is represented by the formula (Fe x Co y Ni z) 0 in 100-ab Ti a Hf b. 10 ≦ x ≦ 0.55, 0.20 ≦ y ≦ 0.85, 0.05 ≦ z ≦ 0.28, 3x−5z ≦ 0.60, x + y + z = 1, 0 ≦ a ≦ 5, 0 ≦ b ≦ 3, 0.1 ≦ a + b ≦ 5, which is substantially composed of a face-centered cubic single phase, the saturation magnetostriction value is λs, and the face-centered cubic (111) spacing is d (111). , (111) face spacing of the face-centered cubic crystal when none of Ti, H and Hf is contained is d 0 (111)
Then, when Δd (111) = d (111) −d 0 (111), 1.0 × 10 −8 ≦ λs · Δd (111) / d 0 (11
1) Soft magnetic alloy with ≦ 3.0 × 10 −8 . (2) A soft magnetic thin film composed of the soft magnetic alloy of (1) above. (3) A multilayer film in which at least one layer is the soft magnetic thin film described in (2) above.

【0010】[0010]

【作用および効果】本発明では、Fe−Co−Ni系軟
磁性合金、特に薄膜において、主組成であるFe、Co
およびNiの組成範囲を限定すると共にTiおよび/ま
たはHfを添加し、λs ・Δd(111)/d0 (11
1)が所定範囲に存在するようにする。TiやHfの添
加により結晶粒は微細になり、また、磁歪および格子面
間隔は変化する。本発明では、TiやHfを所定量添加
すると共に、Fe、CoおよびNiの組成比を所定範囲
とすることにより、結晶粒の微細化と磁気弾性効果とが
相乗的に作用し、優れた軟磁気特性、特に10MHz 程度
の高周波において高透磁率が得られる。なお、磁気弾性
効果は、格子が歪むことによる磁歪と内部応力とに起因
する。また、優れた軟磁気特性に加え、500℃の熱処
理にも耐える耐熱性が得られ、15kG以上の高い飽和磁
化を得ることが可能となる。
In the present invention, Fe-Co-Ni-based soft magnetic alloys, particularly Fe and Co, which are the main compositions in thin films, are used.
And Ni and / or Hf are added, and λs · Δd (111) / d 0 (11
1) exists within a predetermined range. The addition of Ti or Hf makes the crystal grains finer, and the magnetostriction and the lattice spacing change. In the present invention, Ti and Hf are added in a predetermined amount and the composition ratio of Fe, Co and Ni is set in a predetermined range, whereby the refinement of crystal grains and the magnetoelastic effect act synergistically, resulting in excellent softness. Magnetic characteristics, especially high permeability at a high frequency of about 10 MHz can be obtained. The magnetoelastic effect is caused by magnetostriction and internal stress due to strain of the lattice. Moreover, in addition to excellent soft magnetic properties, heat resistance that can withstand heat treatment at 500 ° C. is obtained, and high saturation magnetization of 15 kG or more can be obtained.

【0011】従来、Fe−Co−Ni系合金において、
高Bs と高透磁率とを両立させることは難しく、特に高
周波において高透磁率を実現する提案はなされていなか
ったが、本発明により、高いBs が得られる組成範囲に
おいても高周波での高透磁率が得られるようになった。
Conventionally, in Fe-Co-Ni type alloys,
It is difficult to achieve both high Bs and high magnetic permeability, and no proposal has been made to realize high magnetic permeability especially at high frequencies. However, according to the present invention, high magnetic permeability at high frequency is obtained even in the composition range where high Bs is obtained. Has come to be obtained.

【0012】特開平2−68906号公報の表1には、
スパッタ蒸着法により形成されたFe42Co18Ni35
4 およびFe43Co19Ni35Hf3 が記載されてい
る。これらの組成は、Fe−Co−Ni合金にTiまた
はHfを添加する点では本発明と類似するが、Fe、C
o、Niの比率が本発明で限定する範囲から大きく外れ
ているため、λs ・Δd(111)/d0 (111)が
本発明で限定する範囲内とはならず、当然、本発明と同
等の効果は実現しない。同公報には初透磁率の記載があ
るだけで、10MHz 程度の高周波での透磁率については
全く注目していない。
Table 1 of JP-A-2-68906 shows
Fe 42 Co 18 Ni 35 T formed by the sputter deposition method
i 4 and Fe 43 Co 19 Ni 35 Hf 3 are described. These compositions are similar to the present invention in that Ti or Hf is added to the Fe-Co-Ni alloy, but Fe, C
Since the ratio of o and Ni is largely outside the range defined by the present invention, λs · Δd (111) / d 0 (111) does not fall within the range defined by the present invention, and is naturally equivalent to the present invention. The effect of is not realized. The publication only describes the initial magnetic permeability, and does not pay attention to the magnetic permeability at a high frequency of about 10 MHz.

【0013】また、特開昭64−8605号公報には、
Fe29Co40Ni29Ti2 薄膜とFe86Si14薄膜とを
交互に積層した軟磁性薄膜が記載されている。Fe29
40Ni29Ti2 薄膜は、Fe−Co−Ni合金にTi
を添加する点では本発明と類似するが、Fe、Co、N
iの比率が本発明で限定する範囲から外れているため、
本発明と同等の効果は実現しない。同公報では、10MH
z 程度の高周波での透磁率については全く注目していな
い。
Further, Japanese Patent Application Laid-Open No. 64-8605 discloses that
There is described a soft magnetic thin film in which Fe 29 Co 40 Ni 29 Ti 2 thin films and Fe 86 Si 14 thin films are alternately laminated. Fe 29 C
o 40 Ni 29 Ti 2 thin film is made of Fe-Co-Ni alloy with Ti.
Is similar to the present invention in that the addition of Fe, Co, N
Since the ratio of i is out of the range limited by the present invention,
The same effect as the present invention cannot be realized. In the same publication, 10 MH
No attention is paid to the permeability at high frequencies around z.

【0014】[0014]

【具体的構成】以下、本発明の具体的構成について詳細
に説明する。
Specific Structure The specific structure of the present invention will be described in detail below.

【0015】本発明の軟磁性合金は、Fe、Coおよび
Niを主成分とし、添加物としてTiおよび/またはH
fを含む。これらの各元素の原子比は、 式 (Fex Coy Niz100-a-b Tia Hfb において 0.10≦x≦0.55、 0.20≦y≦0.85、 0.05≦z≦0.28、 3x−5z≦0.60、 x+y+z=1、 0≦a≦5、 0≦b≦3、 0.1≦a+b≦5 で表わされ、好ましくは 0.10≦x≦0.45、 0.40≦y≦0.85、 0.05≦z≦0.15、 3x−5z≦0.60、 x+y+z=1、 0.5≦a≦2、 0.5≦b≦1、 0.5≦a+b≦3 である。Fe、CoおよびNiそれぞれの原子比を表わ
すx、yおよびzの限定範囲を、図1に示す。具体的に
は、3x−5z>0.60となると、体心立方晶が析出
しやすくなる。また、zが小さすぎると、体心立方晶が
析出しやすくなる。また、zが大きすぎると、高いBs
が得られなくなる。xが小さすぎると、六方最密晶が析
出し、面心立方構造が得られなくなる。また、a+bが
小さすぎると、TiやHfの添加による効果が不十分と
なり、高周波において高透磁率が得られない。a、bお
よびa+bの少なくとも一つが大きすぎると、体心立方
晶の析出やHf−Co等の化合物相の析出などにより、
高周波において高透磁率が得られなくなる。
The soft magnetic alloy of the present invention contains Fe, Co and Ni as main components, and Ti and / or H as additives.
Including f. Atomic ratio of each of these elements has the formula (Fe x Co y Ni z) 100-ab Ti a Hf b 0.10 ≦ x ≦ 0.55 in, 0.20 ≦ y ≦ 0.85, 0.05 ≦ z ≦ 0.28, 3x−5z ≦ 0.60, x + y + z = 1, 0 ≦ a ≦ 5, 0 ≦ b ≦ 3, 0.1 ≦ a + b ≦ 5, and preferably 0.10 ≦ x ≦ 0.45, 0.40≤y≤0.85, 0.05≤z≤0.15, 3x-5z≤0.60, x + y + z = 1, 0.5≤a≤2, 0.5≤b≤ 1, 0.5 ≦ a + b ≦ 3. FIG. 1 shows a limited range of x, y, and z representing atomic ratios of Fe, Co, and Ni. Specifically, when 3x-5z> 0.60, body-centered cubic crystals tend to precipitate. If z is too small, body-centered cubic crystals are likely to precipitate. Also, if z is too large, high Bs
Can not be obtained. If x is too small, hexagonal close-packed crystals will be precipitated and a face-centered cubic structure will not be obtained. On the other hand, if a + b is too small, the effect of adding Ti or Hf becomes insufficient, and high permeability cannot be obtained at high frequencies. If at least one of a, b, and a + b is too large, body-centered cubic crystals or Hf-Co or other compound phase precipitates.
High permeability cannot be obtained at high frequencies.

【0016】なお、耐食性向上や耐摩耗性向上のため
に、Feの一部をCr、Cu、Sn、Rh、Pd、M
n、P、B、Zn、Sn、Pt等から選択される少なく
とも1種の元素で置換してもよい。Bs の低下を抑える
ためには、これらの元素の含有率を3重量%以下とする
ことが好ましい。
In order to improve corrosion resistance and wear resistance, part of Fe is Cr, Cu, Sn, Rh, Pd, M.
It may be replaced with at least one element selected from n, P, B, Zn, Sn, Pt and the like. In order to suppress the decrease of Bs, the content of these elements is preferably 3% by weight or less.

【0017】本発明の軟磁性合金は、実質的に面心立方
晶単相から構成される。体心立方晶単相となったり、面
心立方晶と体心立方晶相との混晶となったりすると、本
発明の効果が得られなくなる。ただし、本発明における
主成分の組成範囲は、体心立方晶相が共析する組成範囲
と隣接しているので、極めて微量の体心立方晶が局部的
に偏析して特殊構造が形成され、これにより高特性が得
られている可能性も考えられる。従って、本発明におけ
る「実質的に面心立方晶単相」とは、汎用のX線回折装
置を用いた場合の評価結果とし、上記したような特殊構
造を含む概念とする。なお、結晶構造はX線回折により
確認することができる。
The soft magnetic alloy of the present invention is substantially composed of a face-centered cubic single phase. If the body-centered cubic single phase or a mixed crystal of face-centered cubic and body-centered cubic phases is obtained, the effect of the present invention cannot be obtained. However, since the composition range of the main component in the present invention is adjacent to the composition range in which the body-centered cubic phase is eutectoid, a very small amount of body-centered cubic crystal is locally segregated to form a special structure, Therefore, it is possible that high characteristics are obtained. Therefore, the "substantially face-centered cubic single phase" in the present invention is an evaluation result when a general-purpose X-ray diffractometer is used, and is a concept including the special structure as described above. The crystal structure can be confirmed by X-ray diffraction.

【0018】本発明の軟磁性合金の平均結晶粒径は、2
0〜350A であることが好ましい。TiやHfの添加
によりこのように結晶粒が微細化されるので、良好な軟
磁気特性が得られる。
The average crystal grain size of the soft magnetic alloy of the present invention is 2
It is preferably from 0 to 350A. By adding Ti or Hf, the crystal grains are made finer in this way, so that good soft magnetic characteristics can be obtained.

【0019】本発明の軟磁性合金では、飽和磁歪値をλ
s とし、面心立方晶の(111)面間隔をd(111)
とし、 Δd(111)=d(111)−d0 (111) としたとき、 1.0×10-8≦λs ・Δd(111)/d0 (11
1)≦3.0×10-8 であり、好ましくは 1.0×10-8≦λs ・Δd(111)/d0 (11
1)≦2.0×10-8 である。ただし、d0 (111)は、Fe、Coおよび
Niの比率が同じでTiおよびHfのいずれも含まない
ときの面心立方晶の(111)面間隔である。本発明の
軟磁性合金は実質的に面心立方晶から構成され、(11
1)面が優先配向している。軟磁気特性には磁気弾性効
果が寄与するので、本発明では、磁気弾性効果による寄
与を見積もる指標としてλs ・Δd(111)/d0
(111)を規定し、軟磁気特性、特に高周波での透磁
率との相関を調べた。そして、上記範囲において高周波
で高透磁率、例えば10MHz で500以上の透磁率が得
られることを見いだした。なお、d(111)は、Cu
Kα1 線を用いたX線回折において、面心立方晶の(1
11)面の回折角2θから算出することができる。
In the soft magnetic alloy of the present invention, the saturation magnetostriction value is λ
s and the face-centered cubic (111) spacing is d (111)
Then, when Δd (111) = d (111) −d 0 (111), 1.0 × 10 −8 ≦ λs · Δd (111) / d 0 (11
1) ≦ 3.0 × 10 −8 , preferably 1.0 × 10 −8 ≦ λs · Δd (111) / d 0 (11
1) ≦ 2.0 × 10 −8 . However, d 0 (111) is the face-centered cubic (111) spacing when the ratios of Fe, Co, and Ni are the same and neither Ti nor Hf is contained. The soft magnetic alloy of the present invention is substantially composed of face-centered cubic crystals,
1) The plane is preferentially oriented. Since the magnetoelastic effect contributes to the soft magnetic characteristic, in the present invention, λs · Δd (111) / d 0 is used as an index for estimating the contribution due to the magnetoelastic effect.
(111) was defined, and the correlation with the soft magnetic characteristics, particularly the magnetic permeability at high frequencies, was investigated. It was also found that in the above range, a high magnetic permeability at a high frequency, for example, a magnetic permeability of 500 or more at 10 MHz can be obtained. Note that d (111) is Cu
In X-ray diffraction using the Kα 1 line, the face-centered cubic (1
It can be calculated from the diffraction angle 2θ of the 11) plane.

【0020】本発明の軟磁性合金は、X線回折における
(200)面のピーク強度および(111)面のピーク
強度をそれぞれI(200)およびI(111)とした
とき、通常、 I(200)/I(111)≦0.4 である。面心立方晶の場合、(111)面が優先配向す
る。磁歪は結晶配向に依存するため、例えば特願平5−
166406号では、I(200)/I(111)が所
定範囲となるように組成および作製条件を最適化してい
る。これに対し本発明では、λs ・Δd(111)/d
0 (111)を制御することにより高透磁率を得るの
で、単にλs のみを低減する必要はない。したがって、
λs の低減を目的としてI(200)/I(111)を
厳密に制御する必要がなく、生産性が良好となる。
The soft magnetic alloy of the present invention is usually I (200) and I (111) when the peak intensity of the (200) plane and the peak intensity of the (111) plane in X-ray diffraction are I (200) and I (111), respectively. ) / I (111) ≦ 0.4. In the case of face-centered cubic crystal, the (111) plane is preferentially oriented. Since magnetostriction depends on the crystal orientation, for example, Japanese Patent Application No. 5-
In No. 166406, the composition and production conditions are optimized so that I (200) / I (111) falls within a predetermined range. On the other hand, in the present invention, λs · Δd (111) / d
Since high magnetic permeability is obtained by controlling 0 (111), it is not necessary to simply reduce λs. Therefore,
It is not necessary to strictly control I (200) / I (111) for the purpose of reducing λs, and the productivity is good.

【0021】次に、本発明の軟磁性合金の製造方法につ
いて説明する。
Next, a method for manufacturing the soft magnetic alloy of the present invention will be described.

【0022】本発明の軟磁性合金は、用途に応じて薄膜
状、薄帯状、板状等の各種形状に形成される。
The soft magnetic alloy of the present invention is formed into various shapes such as a thin film shape, a ribbon shape, and a plate shape according to the application.

【0023】薄膜状の軟磁性合金の製造には、スパッタ
法、蒸着法、イオンプレーティング法、CVD法などの
ように気相中で薄膜を形成する方法や、電気めっき法な
どのように液相中で薄膜を形成する方法を用いることが
できるが、一般には気相中で薄膜を形成する方法を用い
ることが好ましい。
For the production of a thin film soft magnetic alloy, a method of forming a thin film in a vapor phase such as a sputtering method, a vapor deposition method, an ion plating method, a CVD method or a liquid method such as an electroplating method is used. Although a method of forming a thin film in a phase can be used, it is generally preferable to use a method of forming a thin film in a gas phase.

【0024】スパッタ法を用いる場合、ターゲットには
合金の鋳造体や焼結体を用いればよく、複合ターゲット
を用いてもよい。また、結晶配向制御のためにバイアス
スパッタ法を用いてもよい。バイアス電圧は−30〜−
200V とすることが好ましい。
When the sputtering method is used, an alloy casting or sintered body may be used as the target, and a composite target may be used. A bias sputtering method may be used to control the crystal orientation. Bias voltage is -30 to-
It is preferably 200V.

【0025】蒸着法を用いる場合には、基板温度を40
0℃以下とすることが好ましい。
When the vapor deposition method is used, the substrate temperature is set to 40.
It is preferably 0 ° C. or lower.

【0026】スパッタ法や蒸着法により形成された薄膜
には内部応力が存在し、このために良好な軟磁気特性が
得られにくいので、膜形成後に応力緩和のための熱処理
を施すことが好ましい。この熱処理は、真空中または不
活性ガス雰囲気中で行なうことが好ましく、保持温度は
300〜700℃とすることが好ましく、処理時間は1
〜2時間とすることが好ましい。
Since the thin film formed by the sputtering method or the vapor deposition method has an internal stress, which makes it difficult to obtain a good soft magnetic property, it is preferable to perform a heat treatment for relaxing the stress after the film is formed. This heat treatment is preferably performed in vacuum or in an inert gas atmosphere, the holding temperature is preferably 300 to 700 ° C., and the treatment time is 1
It is preferably set to 2 hours.

【0027】電気めっき法を用いる場合には、スパッタ
法や蒸着法などにより導電性膜を形成して下地膜とし、
この上に軟磁性合金の薄膜を形成する。下地膜には、パ
ーマロイやFeを用いることが好ましい。これにより、
目的とする結晶配向が得やすくなる。
When the electroplating method is used, a conductive film is formed by a sputtering method or a vapor deposition method to form a base film,
A thin film of soft magnetic alloy is formed on this. It is preferable to use permalloy or Fe for the base film. This allows
The desired crystal orientation can be easily obtained.

【0028】軟磁性合金の薄膜には、目的とする方向に
一軸異方性を付与することが好ましい。一軸異方性付与
の方法としては、磁界中成膜や成膜後の磁界中アニール
を用いることができる。
It is preferable to impart uniaxial anisotropy to the intended direction in the thin film of the soft magnetic alloy. As a method for imparting uniaxial anisotropy, film formation in a magnetic field or magnetic field annealing after film formation can be used.

【0029】なお、磁界中成膜や磁界中アニールは、前
述した各方法のいずれを用いる場合にも適用できる。そ
して、スパッタ法または蒸着法を用いた場合には、磁界
中アニールを前述した応力緩和のための熱処理に代える
ことができる。
The film formation in the magnetic field and the annealing in the magnetic field can be applied to any of the above-mentioned methods. When the sputtering method or the vapor deposition method is used, annealing in a magnetic field can be replaced with the heat treatment for stress relaxation described above.

【0030】上述した各方法により形成される軟磁性薄
膜の厚さは、目的に応じて適宜決定すればよく、特に限
定されないが、低い保磁力を得るためには、通常、0.
5〜10μm 程度とすることが好ましく、また、薄膜磁
気ヘッドに適用する場合は0.5〜4.5μm 程度、薄
膜トランスに適用する場合は3〜10μm 程度とするこ
とが好ましい。
The thickness of the soft magnetic thin film formed by each of the above-mentioned methods may be appropriately determined depending on the purpose and is not particularly limited. However, in order to obtain a low coercive force, it is usually 0.
It is preferably about 5 to 10 μm, about 0.5 to 4.5 μm when applied to a thin film magnetic head, and about 3 to 10 μm when applied to a thin film transformer.

【0031】本発明の軟磁性薄膜は、多層膜に適用する
こともできる。多層膜の他の層には、SiO2 、Si3
4 等の非磁性絶縁薄膜や、他の軟磁性薄膜を用いれば
よい。多層膜とすることにより良好な軟磁気特性が得ら
れ、損失の少ない磁気ヘッドが実現する。
The soft magnetic thin film of the present invention can also be applied to a multilayer film. Other layers of the multilayer film include SiO 2 , Si 3
A non-magnetic insulating thin film such as N 4 or another soft magnetic thin film may be used. By using a multilayer film, good soft magnetic characteristics can be obtained, and a magnetic head with less loss can be realized.

【0032】薄帯状の軟磁性合金の製造には、液体急冷
法を用いることが好ましい。液体急冷法では、溶融合金
を射出して冷却ロール等の冷却基体表面に接触させて急
速に冷却し、薄帯状の軟磁性合金を製造する。液体急冷
法には、溶融合金を一方向から冷却する単ロール法や、
対向する二方向から冷却する双ロール法などがあるが、
本発明では単ロール法を用いることが好ましい。前述し
た結晶配向の軟磁性合金を製造するためには、溶融合金
の冷却速度や薄帯の厚さなどの各種条件を適宜選択すれ
ばよい。これら各条件の好ましい範囲は合金組成によっ
ても異なるが、例えば、冷却速度は一般に1×103
1×106 K/s 、特に1×104 〜1×106 K/s とす
ることが好ましく、薄帯の厚さは一般に3〜100μm
、特に10〜70μm とすることが好ましい。
A liquid quenching method is preferably used for producing the ribbon-shaped soft magnetic alloy. In the liquid quenching method, a molten alloy is injected and brought into contact with the surface of a cooling substrate such as a chill roll to be rapidly cooled to produce a ribbon-shaped soft magnetic alloy. The liquid quenching method includes a single roll method for cooling the molten alloy from one direction,
There is a twin roll method that cools from two opposite directions,
In the present invention, it is preferable to use the single roll method. In order to produce the above-mentioned soft magnetic alloy with crystal orientation, various conditions such as the cooling rate of the molten alloy and the thickness of the ribbon may be appropriately selected. Although the preferable range of each of these conditions varies depending on the alloy composition, for example, the cooling rate is generally 1 × 10 3 to
1 × 10 6 K / s, particularly 1 × 10 4 to 1 × 10 6 K / s is preferable, and the thickness of the ribbon is generally 3 to 100 μm.
And particularly preferably 10 to 70 μm.

【0033】これらの方法の他、鋳造法などで所定形状
の軟磁性合金を製造してもよい。
In addition to these methods, a soft magnetic alloy having a predetermined shape may be manufactured by a casting method or the like.

【0034】薄膜状の軟磁性合金は、例えば、MIG
型、積層型、薄膜型の誘導型磁気ヘッド、磁気抵抗効果
型磁気ヘッドの磁気シールド膜や磁気抵抗効果膜、薄膜
トランスなどに適用され、薄帯状の軟磁性合金は、例え
ば、チョークコイル、トランスなどに適用され、鋳造法
により板状などに形成された軟磁性合金は、例えば、磁
気シールド板などに適用されるが、本発明の軟磁性合金
は、これら以外の各種磁気デバイスへの適用も可能であ
る。
The thin film soft magnetic alloy is, for example, MIG.
Type, laminated type, thin film type induction type magnetic head, magnetic resistance film of magnetoresistive effect type magnetic head, magnetoresistive effect film, thin film transformer, etc., and ribbon-shaped soft magnetic alloy is, for example, a choke coil, a transformer. The soft magnetic alloy formed into a plate shape by a casting method is applied to, for example, a magnetic shield plate, but the soft magnetic alloy of the present invention is also applicable to various magnetic devices other than these. It is possible.

【0035】[0035]

【実施例】以下、本発明の具体的実施例を示し、本発明
をさらに詳細に説明する。
EXAMPLES The present invention will be described in more detail below by showing specific examples of the present invention.

【0036】スライドガラス(MATSUNAMI社
製)基板上にRFマグネトロンスパッタ法により軟磁性
薄膜を形成し、測定用サンプルとした。
A soft magnetic thin film was formed on a glass slide (made by MATSUNAMI) substrate by the RF magnetron sputtering method to prepare a measurement sample.

【0037】ターゲットには、直径90mmのFe−Co
合金ターゲット上にNiのチップを円環状に配置した複
合ターゲットを用い、TiやHfを添加する場合には、
同様にTiチップやHfチップを円環状に配置した。ス
パッタはArガス中で行なった。到達圧力は5×10-7
Torr以下、成膜中の圧力は10×10-3Torr、RFパワ
ーは200〜400W、膜形成速度は40〜150A/s
、膜厚は約5000 Aとした。スパッタ時の基板の冷
却は特に行なわなかった。
The target is Fe-Co with a diameter of 90 mm.
When using a composite target in which Ni chips are arranged in an annular shape on an alloy target and adding Ti or Hf,
Similarly, Ti chips and Hf chips were arranged in an annular shape. Sputtering was performed in Ar gas. Ultimate pressure is 5 × 10 -7
The pressure during film formation is 10 × 10 −3 Torr or less, the RF power is 200 to 400 W, and the film formation rate is 40 to 150 A / s.
The film thickness was about 5000 A. The substrate was not particularly cooled during sputtering.

【0038】膜形成後、膜中の応力を緩和するために、
1×10-5Torr以下の圧力下で500℃に1時間保持し
た。
After the film is formed, in order to relieve the stress in the film,
It was kept at 500 ° C. for 1 hour under a pressure of 1 × 10 −5 Torr or less.

【0039】各サンプルについて、以下に示す測定を行
なった。結果を各表に示す。
The following measurements were carried out for each sample. The results are shown in each table.

【0040】膜組成 蛍光X線分析により測定した。 Film composition was measured by fluorescent X-ray analysis.

【0041】飽和磁束密度(Bs )、保磁力(Hc ) VSM(試料振動式磁力計)を用い、最大印加磁界10
kOe で測定した。
Saturation magnetic flux density (Bs), coercive force (Hc) Using VSM (sample vibrating magnetometer), maximum applied magnetic field 10
Measured in kOe.

【0042】飽和磁歪値(λs ) サンプルをその膜面内で回転する100 Oe の磁界中に
配置し、レーザー光線を使用してサンプルの磁歪による
伸縮を反りとして同期整流方式で検出し、λsを算出し
た。なお、飽和磁歪値測定用のサンプルには、厚さ0.
15mmのガラス板を基板として使用した。
Saturation magnetostriction value (λs) A sample was placed in a magnetic field of 100 Oe rotating in the film plane, and expansion and contraction due to magnetostriction of the sample was detected as a warp by a synchronous rectification method using a laser beam to calculate λs did. The sample for measuring the saturation magnetostriction value had a thickness of 0.
A 15 mm glass plate was used as the substrate.

【0043】Δd(111)/d0 (111) 面心立方構造の(111)面間隔d(111)は、Cu
Kα1 線を用いたX線回折により、面心立方構造の(1
11)面の回折角2θを求め、これから算出した。そし
て、主成分の組成比が同じでTiおよびHfのいずれも
含まないサンプルの(111)面間隔d0 (111)を
用いて、 Δd(111)=d(111)−d0 (111) によりΔd(111)を求め、算出した。
The (111) plane spacing d (111) of the Δd (111) / d 0 (111) face-centered cubic structure is Cu
By X-ray diffraction using Kα 1 line, (1
The diffraction angle 2θ of the 11) plane was obtained and calculated from this. Then, using the (111) plane spacing d 0 (111) of the sample having the same main component composition ratio and containing neither Ti nor Hf, Δd (111) = d (111) −d 0 (111) Δd (111) was calculated and calculated.

【0044】平均結晶粒径 CuKα1 線を用いたX線回折により、面心立方構造の
(111)面のピークの半値幅から求めた。
The average grain size was determined from the half-value width of the peak of the (111) plane of the face-centered cubic structure by X-ray diffraction using CuKα 1 ray.

【0045】結晶配向 CuKα1 線を用いたX線回折により、面心立方構造の
ピーク強度比I(200)/I(111)を求めた。
The peak intensity ratio I (200) / I (111) of the face-centered cubic structure was determined by X-ray diffraction using a crystallographically oriented CuKα 1 ray.

【0046】交流透磁率(μ) ネットワークアナライザーを用い、Sパラメーター法に
より磁化困難軸方向で測定した。測定周波数は10MHz
とした。
The AC permeability (μ) was measured in the direction of the hard axis by the S parameter method using a network analyzer. Measurement frequency is 10MHz
And

【0047】なお、各表において、fccは面心立方
晶、bccは体心立方晶、Hf−CoはCo23Hf6
ある。
In each table, fcc is face-centered cubic crystal, bcc is body-centered cubic crystal, and Hf-Co is Co 23 Hf 6 .

【0048】[0048]

【表1】 [Table 1]

【0049】[0049]

【表2】 [Table 2]

【0050】[0050]

【表3】 [Table 3]

【0051】各表に示されるように、所定の組成を有
し、かつλs ・Δd(111)/d0(111)が所定
の範囲内に存在する本発明の軟磁性合金では、高Bs が
得られると共に高周波において高透磁率が得られること
がわかり、λs の低さが高周波での透磁率の高さに直結
しないこともわかる。
As shown in each table, in the soft magnetic alloy of the present invention having a predetermined composition and having λsΔd (111) / d 0 (111) within a predetermined range, high Bs is high. It is found that a high magnetic permeability is obtained at the same time as the high frequency, and it is also understood that the low λs is not directly connected to the high magnetic permeability at the high frequency.

【0052】これに対し、表1および表2に示されるよ
うに、Ti、HfまたはTi+Hfの添加量が限定範囲
を超えるサンプルでは、高周波での透磁率が低く、Bs
も低くなっている。
On the other hand, as shown in Tables 1 and 2, in the samples in which the addition amount of Ti, Hf or Ti + Hf exceeds the limited range, the magnetic permeability at high frequency is low and Bs is high.
Is also low.

【0053】表3の比較サンプルNo. 301〜305
は、前述した特開昭64−8605号公報記載のFe29
Co40Ni29Ti2 薄膜と主成分(Fe、Co、Ni)
中の元素比率がほぼ同じサンプルである。これらの比較
サンプルでは、主成分組成が本発明における限定範囲か
ら外れているため、TiやHfの添加によりかえって透
磁率が低くなってしまっている。
Comparative sample Nos. 301 to 305 in Table 3
Is Fe 29 described in the above-mentioned JP-A-64-8605.
Co 40 Ni 29 Ti 2 thin film and main components (Fe, Co, Ni)
The samples have almost the same element ratios. In these comparative samples, the composition of the main component is out of the limited range of the present invention, and therefore the permeability is lowered by the addition of Ti or Hf.

【0054】表3の比較サンプルNo. 306〜310
は、前述した特開平2−68906号公報記載のFe42
Co18Ni35Ti4 およびFe43Co19Ni35Hf3
主成分の元素比率がほぼ同じサンプルである。これらの
比較サンプルでは、主成分組成が本発明における限定範
囲から外れているため、TiやHfの添加によりかえっ
て透磁率が低くなってしまっている。
Comparative sample Nos. 306 to 310 in Table 3
Is Fe 42 described in the above-mentioned JP-A-2-68906.
It is a sample in which the element ratios of main components are almost the same as those of Co 18 Ni 35 Ti 4 and Fe 43 Co 19 Ni 35 Hf 3 . In these comparative samples, the composition of the main component is out of the limited range of the present invention, and therefore the permeability is lowered by the addition of Ti or Hf.

【0055】表3の比較サンプルNo. 311〜314
も、主組成が本発明における限定範囲を外れているた
め、TiやHfの添加によりかえって透磁率が低くなっ
てしまっている。
Comparative sample Nos. 311 to 314 in Table 3
However, since the main composition is out of the limited range in the present invention, addition of Ti or Hf rather lowers the magnetic permeability.

【0056】表3のサンプルNo. 316および318
は、Ni量を表わすzが好ましい範囲を外れているが、
サンプルNo. 315および317とそれぞれ比較する
と、Ti添加による特性改善は認められる。
Sample Nos. 316 and 318 of Table 3
Is outside the preferable range of z, which represents the amount of Ni,
When compared with Sample Nos. 315 and 317, respectively, the characteristic improvement by the addition of Ti is recognized.

【0057】なお、厚さ500 Aの軟磁性薄膜と厚さ5
0 Aの非磁性絶縁薄膜(Si34)とを交互に20層
づつ積層した多層膜において、軟磁性薄膜を上記各サン
プルと同様にして形成したところ、上記各サンプルと同
様にTiおよび/またはHf添加の効果が明らかであっ
た。
A soft magnetic thin film with a thickness of 500 A and a thickness of 5
When a soft magnetic thin film was formed in the same manner as each of the above samples in a multilayer film in which 20 non-magnetic insulating thin films (Si 3 N 4 ) of 0 A were alternately laminated, Ti and / or Alternatively, the effect of Hf addition was clear.

【0058】以上の実施例の結果から、本発明の効果が
明らかである。
From the results of the above examples, the effects of the present invention are clear.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】本発明の軟磁性合金の主成分の比率を示す3成
分組成図である。
FIG. 1 is a three-component composition diagram showing the ratio of the main components of a soft magnetic alloy of the present invention.

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 FI 技術表示箇所 H01F 10/16 (72)発明者 野口 潔 東京都中央区日本橋一丁目13番1号 ティ ーディーケイ株式会社内 (72)発明者 大池 太郎 東京都中央区日本橋一丁目13番1号 ティ ーディーケイ株式会社内 (72)発明者 篠浦 治 東京都中央区日本橋一丁目13番1号 ティ ーディーケイ株式会社内─────────────────────────────────────────────────── ─── Continuation of front page (51) Int.Cl. 6 Identification number Internal reference number FI Technical indication location H01F 10/16 (72) Inventor Kiyoshi Noguchi 1-13-1 Nihonbashi, Chuo-ku, Tokyo TDK stock Inside the company (72) Inventor Taro Oike 1-13-1 Nihonbashi, Chuo-ku, Tokyo TDC Corporation (72) Inventor Osamu Shinoura 1-13-1 Nihonbashi, Chuo-ku, Tokyo TDC Corporation

Claims (3)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 Fe、CoおよびNiを主成分とし、添
加物としてTiおよび/またはHfを含み、各元素の原
子比が、 式 (Fex Coy Niz100-a-b Tia Hfb において 0.10≦x≦0.55、 0.20≦y≦0.85、 0.05≦z≦0.28、 3x−5z≦0.60、 x+y+z=1、 0≦a≦5、 0≦b≦3、 0.1≦a+b≦5 で表わされ、 実質的に面心立方晶単相から構成され、 飽和磁歪値をλs とし、面心立方晶の(111)面間隔
をd(111)とし、TiおよびHfのいずれも含まな
いときの面心立方晶の(111)面間隔をd0(11
1)とし、 Δd(111)=d(111)−d0 (111) としたとき、 1.0×10-8≦λs ・Δd(111)/d0 (11
1)≦3.0×10-8 である軟磁性合金。
[Claim 1] Fe, Co as a main component and Ni, wherein the Ti and / or Hf as an additive, the atomic ratio of each element is represented by the formula (Fe x Co y Ni z) in 100-ab Ti a Hf b 0.10≤x≤0.55, 0.20≤y≤0.85, 0.05≤z≤0.28, 3x-5z≤0.60, x + y + z = 1, 0≤a≤5, 0≤ b ≦ 3, 0.1 ≦ a + b ≦ 5, substantially composed of a face-centered cubic single phase, a saturation magnetostriction value of λs, and a face-centered cubic (111) spacing of d (111). ) And the (111) spacing of face-centered cubic crystals when neither Ti nor Hf is contained is d 0 (11
1) and Δd (111) = d (111) −d 0 (111), 1.0 × 10 −8 ≦ λs · Δd (111) / d 0 (11
1) Soft magnetic alloy with ≦ 3.0 × 10 −8 .
【請求項2】 請求項1の軟磁性合金から構成されてい
る軟磁性薄膜。
2. A soft magnetic thin film composed of the soft magnetic alloy of claim 1.
【請求項3】 少なくとも1層が請求項2の軟磁性薄膜
である多層膜。
3. A multilayer film in which at least one layer is the soft magnetic thin film according to claim 2.
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