JPH08100253A - 真空成膜装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【構成】 基板を取り付ける基板取付具（６）を保持し
て回転する円筒形の基板回転器（５）を組み込んだ開閉
扉構造体（３）と、開口部（１０）を前記基板回転器
（５）に相対させた容器構造体（１）とによって構成す
る真空成膜装置であって、開閉扉構造体（３）を、容器
構造体（１）開口部（１０）の両側に配設する。 【効果】 一方の開閉扉構造体（３）を閉めて成膜して
いる間に、他方の開閉扉構造体（３）内にある基板取付
具に基板の脱着を行うことが可能となり、長い時間を費
やす基板取付具への基板の脱着中においても、真空成膜
槽を稼働させて成膜加工を行なうことが可能となり、そ
の結果、成膜の生産性が飛躍的に向上する。また、万
一、開閉扉構造体（３）が故障のために使用できなくな
った場合においても、この発明においては、２個の開閉
扉構造体（３）が備えられているので、残りの開閉扉構
造体（３）で成膜装置を稼働することが可能となる。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】この発明は、真空成膜装置に関す
るものである。さらに詳しくは、この発明は、各種基板
上への様々な気相成膜に有用な、生産性に優れた新しい
真空成膜装置に関するものである。

【０００２】

【従来の技術とその課題】従来から、電子・通信機器、
電気機器、光学機器等の各種の製品分野において、基板
上に様々な物質を気相成膜する技術が広く利用されてい
る。これらの技術としては、スパッタリング法、イオン
プレーティング法、真空蒸着法等がその代表的なものと
して知られている。

【０００３】このような成膜を行なうための装置として
は、開閉扉を有する真空成膜槽が一般的なものであっ
て、通常では、まずはじめに、基板を真空槽内の基板取
付具に取り付けて開閉扉を閉め、真空条件下において基
板上に成膜を行う。次いで、成膜後に開閉扉を開けて、
基板取付具から基板を外し、そして、次の工程として別
の基板を基板取付具に取り付けている。

【０００４】だが、このような従来の真空成膜装置にお
いては、一般的に、数十枚程度の基板を一度に基板取付
具に取り付けているために、すべての基板を基板取付具
から脱着するのに非常に多くの時間を必要とし、しかも
この脱着作業の間は真空成膜槽は開いたままであるの
で、成膜作業が停止したままとなっていた。つまり、従
来の真空成膜装置においては、基板の基板取付具への脱
着が非常に多くの時間を要するために、気相成膜の生産
性の向上には大きな制約があった。

【０００５】そこで、この発明は、以上の通りの事情に
鑑みてなされたものであり、成膜後の基板の取り出し、
そして新たな基板の取り付けに際しての従来装置の欠点
を解消し、より効率的な成膜工程の実施を可能とし、成
膜生産性を大きく向上させることができ、しかも装置の
トラブルに対してもその対応性に優れた、新しい真空成
膜装置を提供することを目的としている。

【０００６】

【課題を解決するための手段】この発明は、上記の課題
を解決するために、基板取付具を保持して回転する基板
回転器を組み込んだ開閉扉構造体と、開口部を前記基板
回転器に相対させた容器構造体とによって構成する真空
成膜装置であって、容器構造体の開口部の両側には、開
閉動自在に各々前記開閉扉構造体が配設されていること
を特徴とする真空成膜装置を提供する。

【０００７】

【作用】上記の通りのこの発明においては、基板回転器
を有する同型の２個の開閉扉構造体を各々、容器構造体
の両側に設置することにより、一方の開閉扉構造体を開
いて、成膜済みの基板を基板取付具から取り外している
間においても、あらかじめ成膜前の基板を基板取付具へ
取り付けてあるもう一方の開閉扉構造体を閉めることに
よって、真空成膜槽内において、基板上に成膜を効率的
に行なうことが可能になる。

【０００８】以下、実施例を示し、さらに詳しくこの発
明について説明する。

【０００９】

【実施例】添付した図面の図１は、この発明の真空成膜
装置の一例を示した斜視図である。たとえば、この図１
に例示したように、この発明の真空成膜装置では、容器
構造体（１）と、開閉扉構造体（３）とによって真空槽
を形成し、容器構造体（１）の開口部（１０）の両側
に、各々、同型の開閉扉構造体（３）を、ヒンジ（２）
等によって開閉動自在に配設している。

【００１０】容器構造体（１）には、排気口（７）、タ
ーゲット（８）、アースシールド（９）、反応性ガス、
不活性ガス等のガス導入口、観察窓等が適宜に設けられ
る。そして、この例では、開閉扉構造体（３）の内部に
は、円筒形のドラム（４）と、そのドラム（４）の外側
表面に付設した回転可能な円筒形の基板回転器（５）、
および、基板回転器（５）の外側表面に付設した基板を
取り付けるための基板取付具（６）が、組み込まれてい
る。

【００１１】基板回転器（５）には、基板の大きさに合
わせて大きさを変えることができる複数個の基板取付具
（６）を取り付けることができ、たとえば、基板にガラ
ス基板を用いる場合は、１個の開閉扉に数十枚のガラス
基板を取り付けること等を可能とする。また、図示して
いないが、真空成膜の方式に応じて、ターゲット、蒸発
源、イオンビーム照射手段、加熱装置、プラズマ励起手
段、光照射手段、膜厚モニター等の諸手段を容器構造体
（１）や開閉扉構造体（３）内に適宜に配置できること
は言うまでもない。

【００１２】たとえば以上の通りのこの発明の真空成膜
装置を用いた成膜生成方法としては、まずはじめに、基
板を一方の開閉扉構造体（３）内にある基板取付具
（６）に取り付け、その開閉扉構造体（３）を閉めて、
真空成膜槽（１）内で基板上に成膜を行い、その成膜を
行なっている間に、もう一方の開いている開閉扉構造体
（３）内の基板取付具（６）に基板を取り付けて、その
開閉扉構造体（３）を待機させておく。

【００１３】そして、真空成膜槽（１）内において、基
板上の成膜が終了したら、閉めてある開閉扉構造体
（３）を開けて、直ちに、待機中の基板取付済み開閉扉
構造体（３）を閉めて、基板上の成膜を開始する。そし
て、この基板上の成膜中において、開けた開閉扉構造体
（３）の基板取付具（６）から成膜済みの基板を取り出
して、新たに成膜前の基板を、基板取付具（６）に取り
付ける。

【００１４】このように、２個の開閉扉構造体を交互に
繰り返して開閉することにより、開けた開閉扉構造体に
おける基板の基板取付金具からの取り出しの間において
も、成膜することが可能となり、生産性が飛躍的に向上
する。たとえば、実際にも、２４時間稼働したときは、
開閉扉構造体を１個だけ備えた真空成膜装置よりも、こ
の発明の真空成膜装置の方が、約２倍近く成膜された基
板の量が多いことが確認されている。

【００１５】またさらにこの発明においては、万一、ひ
とつの開閉扉構造体が故障のために使用できなくなった
場合、一個の開閉扉構造体しか備えていない真空成膜装
置では、完全に成膜作業が行えなくなるが、この発明の
ダブル開閉扉構造体を備えた真空成膜装置においては、
残りの開閉扉構造体を用いて、成膜装置を稼働すること
が可能となる。

【００１６】

【発明の効果】以上詳しく説明した通り、この発明にお
いて、一方の開閉扉構造体を閉めて成膜している間に、
他方の開閉扉構造体内にある基板取付具に基板の脱着を
行うことが可能となり、長い時間を費やす基板取付具へ
の基板の脱着中においても、真空成膜槽を稼働させて成
膜加工を行なうことが可能となり、その結果、成膜の生
産性が飛躍的に向上する。

【００１７】また、万一、開閉扉構造体が故障のために
使用できなくなった場合においても、この発明において
は、２個の開閉扉構造体が備えられているので、残りの
開閉扉構造体で成膜装置を稼働することが可能となる。

【図面の簡単な説明】

【図１】この発明の実施例を示した概略斜視図である。

【符号の説明】

１ 容器構造体 ２ ヒンジ ３ 開閉扉構造体 ４ 円筒形のドラム ５ 基板回転器 ６ 基板取付具 ７ 排気口 ８ ターゲット ９ アースシールド １０ 開口部

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 基板取付具を保持して回転する基板回転
   器を組み込んだ開閉扉構造体と、開口部を前記基板回転
   器に相対させた容器構造体とによって構成する真空成膜
   装置であって、容器構造体の開口部の両側には、開閉動
   自在に各々前記開閉扉構造体が配設されていることを特
   徴とする真空成膜装置。