JPH0794415A - ランプ加熱装置 - Google Patents

ランプ加熱装置

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Publication number
JPH0794415A
JPH0794415A JP23384593A JP23384593A JPH0794415A JP H0794415 A JPH0794415 A JP H0794415A JP 23384593 A JP23384593 A JP 23384593A JP 23384593 A JP23384593 A JP 23384593A JP H0794415 A JPH0794415 A JP H0794415A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
lamp
heating device
light
mirror
plane mirrors
Prior art date
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Withdrawn
Application number
JP23384593A
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English (en)
Inventor
Mitsuru Egawa
満 江川
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Fujitsu Ltd
Original Assignee
Fujitsu Ltd
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Filing date
Publication date
Application filed by Fujitsu Ltd filed Critical Fujitsu Ltd
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Publication of JPH0794415A publication Critical patent/JPH0794415A/ja
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Abstract

(57)【要約】 【目的】 ランプ加熱装置に関し,加熱効率を高め,基
板温度の制御性を向上する。 【構成】 棒状ランプ 1と反射鏡とを有し,該反射鏡は
該棒状ランプを囲み且つ出射部が開口された円柱鏡2Aと
該円柱鏡の出射部に設けられた2枚の対向する平面鏡2B
とからなり,該平面鏡の間隔を該棒状ランプの径より小
さくする。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は有機金属気相成長(MOCV
D) 装置等に用いられるランプ加熱装置に関する。
【0002】近年, 成長技術の進歩にともない, 大口径
基板上への均一な成膜が要求されている。このために
は,基板温度を厳密に制御することが重要である。大面
積加熱にはランプと反射鏡との組み合わせを配列したラ
ンプ加熱装置が用いられることが多いが,温度制御の上
で加熱効率の高い反射鏡が必要となる。
【0003】
【従来の技術】通常のランプ加熱装置は, 回転楕円鏡の
一方の焦点に加熱源を置き, 他方の焦点に置かれた試料
を加熱するものであるが,MOCVD 装置においては反応生
成物が反射鏡に被着するため, このタイプのランプ加熱
装置は利用できない。
【0004】このため,図4に示されるような,石英窓
3によって成長室と隔離されたランプ加熱装置が用いら
れることが多い。図4は従来例によるランプ加熱装置の
説明図である。
【0005】この装置は,直径10mm程度の棒状ハロゲン
ランプ 1と金(Au)コーティングを施した反射鏡 2からな
る。また, 反射鏡 2は半円柱鏡と平行平面鏡からなる。
ハロゲンランプのフィラメント1Aから出た光は, 反射鏡
2により反射され,平行平面鏡の間より基板 5を載せた
サセプタ 4に照射されてこれを加熱する。
【0006】
【発明が解決しようとする課題】この加熱装置からの放
射光には,反射鏡で反射されて出てくる光と,反射を受
けずに出てくる光があるが,出射部の平面鏡の間隔がラ
ンプの径より大きいため,前者の光の大部分は放射角度
が大きくなる。このために, 基板加熱に有効に使用され
る放射光のパワーは少なく, 有効エネルギーの低減にと
もない基板温度の制御が困難となる問題が生じていた。
【0007】本発明はランプ加熱装置の加熱効率を高
め,基板温度の制御性を向上させることを目的とする。
【0008】
【課題を解決するための手段】上記課題の解決は,棒状
ランプ 1と反射鏡とを有し,該反射鏡は該棒状ランプを
囲み且つ出射部が開口された円柱鏡2Aと該円柱鏡の出射
部に設けられた2枚の対向する平面鏡2Bとからなり,該
平面鏡の間隔を該棒状ランプの径より小さくしたランプ
加熱装置により達成される。
【0009】
【作用】図1は本発明の原理説明図である。この図は,
ランプ加熱装置の1ユニットを示す。
【0010】図において, 1は棒状ハロゲンランプ, 2A
は円柱鏡, 2Bは平行平面鏡である。平行平面鏡2Bの間隔
aは,従来のものに比べ,光の回折が起こらない範囲で
小さくする。また,棒状ハロゲンランプ 1は,その中心
と平面鏡入り口との距離dが可能な限り大きくなるよう
に設置する。反射鏡は反射率を高めるため従来例と同様
に金コーティングを施す。
【0011】円柱鏡で反射されずに出てくる光はθ
C 〔= tan-1 (a/2d)〕より小さな角度で放射さ
れ,また円柱鏡で何回か反射されて出てくる光の大部分
もθC 程度の小さな角度で放射される。従って, 加熱光
の大部分は基板領域内を有効に照射することが可能とな
り,ランプパワーの使用効率が高くなる。
【0012】
【実施例】図2は本発明の実施例(1) の説明図である。
図において,ランプ径は10mm, コイル状フィラメントの
径は 3mm, 円柱鏡径は16mm, 平行平面鏡の長さは15mmで
あり,ランプはその中心と平面鏡との距離が11mmになる
ように設置されている。また, 平行平面鏡の間隔はフィ
ラメントの径と同じく 3mmである。
【0013】この装置の加熱光の放射角度は,反射され
ずに出てくる光の放射角θは約 3°以下となり,一方,
反射鏡で反射されて出てくる光の放射角θC は約 8°と
なる。
【0014】図3は本発明の実施例(2) の説明図であ
る。図において,ランプ径は10mm, コイル状フィラメン
トの径は 3mm, 円柱鏡径は16mm, 平行平面鏡の長さは15
mmであり,ランプは図2と同じ位置に設置されている。
また, 平行平面鏡の間隔はランプの径と同じく10mmであ
る。
【0015】この装置の加熱光の放射角度は,反射され
ずに出てくる光の放射角θは約11°以下となり,一方,
反射鏡で反射されて出てくる光の放射角θC は約24°と
なる。
【0016】図1,2より,平行平面鏡の間隔を小さく
することにより, ランプ加熱装置から出射される光の放
射角が小さくなることがわかる。
【0017】
【発明の効果】本発明によれば,ランプ加熱装置の光の
放射角を低減でき,この結果加熱効率が高められること
により,ランプパワーの使用効率が高くなり,基板温度
の制御性が向上した。
【図面の簡単な説明】
【図1】 本発明の原理説明図
【図2】 本発明の実施例(1) の説明図
【図3】 本発明の実施例(2) の説明図
【図4】 従来例によるランプ加熱装置の説明図
【符号の説明】 1 棒状ハロゲンランプ 1A フィラメント 2 反射鏡 2A 円柱鏡 2B 平行平面鏡 3 石英窓 4 サセプタ 5 基板

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 棒状ランプ(1) と反射鏡とを有し,該反
    射鏡は該棒状ランプを囲み且つ出射部が開口された円柱
    鏡(2A)と該円柱鏡の出射部に設けられた2枚の対向する
    平面鏡(2B)とからなり,該平面鏡の間隔を該棒状ランプ
    の径より小さくしたことを特徴とするランプ加熱装置。
JP23384593A 1993-09-20 1993-09-20 ランプ加熱装置 Withdrawn JPH0794415A (ja)

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JP23384593A JPH0794415A (ja) 1993-09-20 1993-09-20 ランプ加熱装置

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JPH0794415A true JPH0794415A (ja) 1995-04-07

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ID=16961474

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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2002098175A3 (de) * 2001-05-28 2003-02-20 Barbara Gerstendoerfer-Hart Vorrichtung zur erwärmung von substraten mit seitenblenden und/oder sekundären reflektoren

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2002098175A3 (de) * 2001-05-28 2003-02-20 Barbara Gerstendoerfer-Hart Vorrichtung zur erwärmung von substraten mit seitenblenden und/oder sekundären reflektoren

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