JPH0794352B2 - 瓦の自動浸掛け装置 - Google Patents
瓦の自動浸掛け装置Info
- Publication number
- JPH0794352B2 JPH0794352B2 JP33941389A JP33941389A JPH0794352B2 JP H0794352 B2 JPH0794352 B2 JP H0794352B2 JP 33941389 A JP33941389 A JP 33941389A JP 33941389 A JP33941389 A JP 33941389A JP H0794352 B2 JPH0794352 B2 JP H0794352B2
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- tile
- glaze slip
- tank
- glazed
- base tile
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- Devices For Post-Treatments, Processing, Supply, Discharge, And Other Processes (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、乾燥した素地（白地）瓦に釉薬スリップ（泥
漿）を自動的に浸掛け（ドブ漬け）する瓦の自動浸掛け
装置に関する。
漿）を自動的に浸掛け（ドブ漬け）する瓦の自動浸掛け
装置に関する。
北陸、東北地方で用いられる瓦は、塩害に対する抗力を
高めるため、乾燥した素地瓦に釉薬スリップを浸掛けし
た後焼成して製造されている。
高めるため、乾燥した素地瓦に釉薬スリップを浸掛けし
た後焼成して製造されている。
従来、この種の瓦の自動浸掛け装置としては、例えば第
７図、第８図に示すように、素地瓦21の幅と同程度の幅
を有し、釉薬スリップ22を収容した施釉タンク23と、乾
燥した素地瓦21（図においては１枚のみ示す）を懸吊し
てその厚さ方向へ連続的に搬送し、素地瓦21を釉薬スリ
ップ22中に浸漬するようにレールを湾曲して設けたトロ
リーコンベヤ24とを備えて構成されている。
７図、第８図に示すように、素地瓦21の幅と同程度の幅
を有し、釉薬スリップ22を収容した施釉タンク23と、乾
燥した素地瓦21（図においては１枚のみ示す）を懸吊し
てその厚さ方向へ連続的に搬送し、素地瓦21を釉薬スリ
ップ22中に浸漬するようにレールを湾曲して設けたトロ
リーコンベヤ24とを備えて構成されている。
しかしながら、上記従来の瓦の自動浸掛け装置において
は、施釉タンク23内を搬送される素地瓦21が釉薬スリッ
プ22の抵抗によって傾き、トロリーコンベヤ24のチャッ
キングハンガーから外れて落下したり、又は第９図
（ａ），（ｂ），（ｃ）に示すように、素地瓦21の上端
部における釉薬スリップ22の掛かり具合が、直線状とな
ることが望ましいものの、下方に凸の円弧状となって施
釉状態が悪くなったり、あるいは処理スピードも小さか
った。
は、施釉タンク23内を搬送される素地瓦21が釉薬スリッ
プ22の抵抗によって傾き、トロリーコンベヤ24のチャッ
キングハンガーから外れて落下したり、又は第９図
（ａ），（ｂ），（ｃ）に示すように、素地瓦21の上端
部における釉薬スリップ22の掛かり具合が、直線状とな
ることが望ましいものの、下方に凸の円弧状となって施
釉状態が悪くなったり、あるいは処理スピードも小さか
った。
このため、施釉タンク23内の釉薬スリップ22を素地瓦21
の搬送方向（図示黒塗り矢印方向）の前方において吸引
し（第７図、第８図においては右方の白抜き矢印）、か
つ後方において吐出する（第７図、第８図においては左
方の白抜き矢印）ポンプ（図示せず）を付設することも
考えられているが、ポンプを極めて容量の大きなものと
しなければならず、実用に供することができない。
の搬送方向（図示黒塗り矢印方向）の前方において吸引
し（第７図、第８図においては右方の白抜き矢印）、か
つ後方において吐出する（第７図、第８図においては左
方の白抜き矢印）ポンプ（図示せず）を付設することも
考えられているが、ポンプを極めて容量の大きなものと
しなければならず、実用に供することができない。
そこで、本発明は、施釉状態を良好にして、かつ処理ス
ピードを大きくし得る瓦の自動浸掛け装置の提供を目的
とする。
ピードを大きくし得る瓦の自動浸掛け装置の提供を目的
とする。
前記課題を解決するため、本発明の瓦の自動浸掛け装置
は、釉薬スリップを収容した施釉タンクと、乾燥した素
地瓦を懸吊して連続的に搬送し、素地瓦を釉薬スリップ
中に浸漬するようにレールを湾曲して設けたトロリーコ
ンベヤとを備えた瓦の自動浸掛け装置において、前記施
釉タンク内に、素地瓦の搬送方向へ延在する隔壁を立設
して釉薬スリップを素地瓦と共に流す往路と、これと反
対に流す復路とを有するループ状の流路を形成し、かつ
施釉タンク内の釉薬スリップを適宜に吸引し、往路の始
端へ吐出するポンプを設けたものである。
は、釉薬スリップを収容した施釉タンクと、乾燥した素
地瓦を懸吊して連続的に搬送し、素地瓦を釉薬スリップ
中に浸漬するようにレールを湾曲して設けたトロリーコ
ンベヤとを備えた瓦の自動浸掛け装置において、前記施
釉タンク内に、素地瓦の搬送方向へ延在する隔壁を立設
して釉薬スリップを素地瓦と共に流す往路と、これと反
対に流す復路とを有するループ状の流路を形成し、かつ
施釉タンク内の釉薬スリップを適宜に吸引し、往路の始
端へ吐出するポンプを設けたものである。
上記手段においては、ポンプの稼動により、施釉タンク
内の釉薬スリップ自体が素地瓦の搬送方向と同方向及び
逆方向の流れを有するループ状の流れを形成し、かつポ
ンプ回転数やバルブ開度の調整により、釉薬スリップの
流速が素地瓦の搬送速度とほぼ等しくなる。
内の釉薬スリップ自体が素地瓦の搬送方向と同方向及び
逆方向の流れを有するループ状の流れを形成し、かつポ
ンプ回転数やバルブ開度の調整により、釉薬スリップの
流速が素地瓦の搬送速度とほぼ等しくなる。
隔壁は、１枚に限らず、２枚としてダブルループ状の流
路を形成するようにしてもよい。
路を形成するようにしてもよい。
施釉タンクは、箱形のもの、又は流路抵抗を小さくする
ため、箱形のものの各コーナーに当て板をしたり、ある
いは各コーナーをアール状に仕上げたもの等が用いられ
る。
ため、箱形のものの各コーナーに当て板をしたり、ある
いは各コーナーをアール状に仕上げたもの等が用いられ
る。
ポンプによる釉薬スラリーの吸引は、施釉タンクの底部
付近で、又は吐出は、上部付近で行うことが好ましく、
このようにすることにより、釉薬スリップを適当に攪拌
して均質にすることができる。
付近で、又は吐出は、上部付近で行うことが好ましく、
このようにすることにより、釉薬スリップを適当に攪拌
して均質にすることができる。
以下、本発明の実施例を図面と共に説明する。
第１図、第２図は第１実施例の瓦の自動浸掛け装置の一
部を破断した側面図、平面図である。
部を破断した側面図、平面図である。
図中１は釉薬スリップ２を収容した箱形の施釉タンク
で、素地瓦３の幅の２倍程度の幅を有している。施釉タ
ンク１の底部には、この施釉タンク１の流さより適宜に
短い長さを有して素地瓦３の搬送方向（図示黒塗り矢印
Ａ方向）へ延在する矩形の隔壁４が、一方（第２図にお
いては上方）の側壁との間に素地瓦３の幅より適宜大き
な間隔を存し、かつ各端壁（第１図、第２図においては
左右の端壁）との間に適宜な間隔を存して垂直に立設さ
れている。そして、施釉タンク１内には、上記隔壁４に
より、釉薬スリップ２を素地瓦３と共に流す往路5a、こ
れと反対に流す復路5b、及び両路5a,5bの両端部を連通
する連通路5c,5dからなるループ状の流路が形成されて
いる。
で、素地瓦３の幅の２倍程度の幅を有している。施釉タ
ンク１の底部には、この施釉タンク１の流さより適宜に
短い長さを有して素地瓦３の搬送方向（図示黒塗り矢印
Ａ方向）へ延在する矩形の隔壁４が、一方（第２図にお
いては上方）の側壁との間に素地瓦３の幅より適宜大き
な間隔を存し、かつ各端壁（第１図、第２図においては
左右の端壁）との間に適宜な間隔を存して垂直に立設さ
れている。そして、施釉タンク１内には、上記隔壁４に
より、釉薬スリップ２を素地瓦３と共に流す往路5a、こ
れと反対に流す復路5b、及び両路5a,5bの両端部を連通
する連通路5c,5dからなるループ状の流路が形成されて
いる。
６はポンプで、施釉タンク１内の釉薬スリップ２の一部
を復路5bの終端と対向する端壁の下部に設けた吸引口７
から吸引し、往路5aの始端と対向する端壁（いずれの端
壁も第１図、第２図においては左端壁）の上部に設けた
吐出口８から吐出し、釉薬スリップ２にループ状の流れ
を形成させるものである。
を復路5bの終端と対向する端壁の下部に設けた吸引口７
から吸引し、往路5aの始端と対向する端壁（いずれの端
壁も第１図、第２図においては左端壁）の上部に設けた
吐出口８から吐出し、釉薬スリップ２にループ状の流れ
を形成させるものである。
９はトロリーコンベヤで、乾燥した素地瓦３をチャッキ
ングハンガー10（第２図においては図示せず）により懸
吊して図示黒塗り矢印Ａ方向へ連続的に搬送し、素地瓦
３を釉薬スリップ２中に浸漬するようにレールが適宜に
湾曲して設けられているものである。
ングハンガー10（第２図においては図示せず）により懸
吊して図示黒塗り矢印Ａ方向へ連続的に搬送し、素地瓦
３を釉薬スリップ２中に浸漬するようにレールが適宜に
湾曲して設けられているものである。
上記構成の瓦の自動浸掛け装置においては、ポンプの稼
動による釉薬スリップ２の図示白抜き矢印B,Cのような
吸引、吐出により、施釉タンク１内の釉薬スリップ２自
体が矢印D,Eで示すようにループ状の流れを形成して流
れる。
動による釉薬スリップ２の図示白抜き矢印B,Cのような
吸引、吐出により、施釉タンク１内の釉薬スリップ２自
体が矢印D,Eで示すようにループ状の流れを形成して流
れる。
そして、釉薬スリップ２自体の流速は、ポンプ６の回転
数やバルブ（図示せず）の開度の調整によって素地瓦３
の搬送速度とほぼ等しくなり、素地瓦３がほぼ垂直な懸
吊状態に維持される。釉薬スリップ２自体の流速は、素
地瓦３の搬送速度より僅かに大きくすることが好まし
く、このようにすることにより、素地瓦３の表裏両面に
おける釉薬スラリー２の施釉状態が均一となる。
数やバルブ（図示せず）の開度の調整によって素地瓦３
の搬送速度とほぼ等しくなり、素地瓦３がほぼ垂直な懸
吊状態に維持される。釉薬スリップ２自体の流速は、素
地瓦３の搬送速度より僅かに大きくすることが好まし
く、このようにすることにより、素地瓦３の表裏両面に
おける釉薬スラリー２の施釉状態が均一となる。
第３図、第４図、第５図及び第６図はそれぞれ第２実施
例、第３実施例、第４実施例及び第５実施例の瓦の自動
浸掛け装置の概念図である。
例、第３実施例、第４実施例及び第５実施例の瓦の自動
浸掛け装置の概念図である。
第２実施例のものは、箱形の施釉タンク１内に立設され
る隔壁４′を２枚とし、これらの隔壁４′により、釉薬
スリップ２を素地瓦３と共に流す往路5a′、これと反対
に流す両側の復路5b′及び両路5a′,5b′の両端部を連
通する連通路5c′,5d′からなるダブルループ状の流路
が形成され、これと対応して２個の吸引口（図示せず）
と１個の吐出口（図示せず）とを設け、白抜きの矢印
Ｂ′,C′のように釉薬スリップ２を吸引、吐出するよう
に構成されている。
る隔壁４′を２枚とし、これらの隔壁４′により、釉薬
スリップ２を素地瓦３と共に流す往路5a′、これと反対
に流す両側の復路5b′及び両路5a′,5b′の両端部を連
通する連通路5c′,5d′からなるダブルループ状の流路
が形成され、これと対応して２個の吸引口（図示せず）
と１個の吐出口（図示せず）とを設け、白抜きの矢印
Ｂ′,C′のように釉薬スリップ２を吸引、吐出するよう
に構成されている。
他の構成及び作用効果は、第１実施例のものとほぼ同様
であるので、同一部材等には同一の符号を付してその説
明を省略する。
であるので、同一部材等には同一の符号を付してその説
明を省略する。
第３実施例のものは、施釉タンク１内における釉薬スリ
ップ２の流れを円滑にするため、施釉タンク１の各コー
ナーに当て板11を付設したものであり、又、第４実施例
のものは、同様に釉薬スリップ２の流れを円滑にするた
め、箱形の施釉タンク１′の各コーナーをアール状に形
成したものである。
ップ２の流れを円滑にするため、施釉タンク１の各コー
ナーに当て板11を付設したものであり、又、第４実施例
のものは、同様に釉薬スリップ２の流れを円滑にするた
め、箱形の施釉タンク１′の各コーナーをアール状に形
成したものである。
他の構成及び作用効果は、いずれも第１実施例のものと
ほぼ同様であるので、同一部材等には同一の符号を付し
てその説明を省略する。
ほぼ同様であるので、同一部材等には同一の符号を付し
てその説明を省略する。
又、第５実施例のものは、箱形の施釉タンク１′の各コ
ーナーを第４実施例のものと同様にアール状に形成した
ものであり、他の構成及び作用効果は、第２実施例のも
のとほぼ同様であるので、同一部材等には同一の符号を
付してその説明を省略する。
ーナーを第４実施例のものと同様にアール状に形成した
ものであり、他の構成及び作用効果は、第２実施例のも
のとほぼ同様であるので、同一部材等には同一の符号を
付してその説明を省略する。
なお、上記各実施例においては、施釉タンク1,1′内の
釉薬スリップ２の吸引を復路5b,5b′の終端おける端壁
の下部で行うようにしたが、これに限らず往路5a,5a′
の終端又は復路5b,5b′の始端の端壁その他で行うよう
にしてもよい。
釉薬スリップ２の吸引を復路5b,5b′の終端おける端壁
の下部で行うようにしたが、これに限らず往路5a,5a′
の終端又は復路5b,5b′の始端の端壁その他で行うよう
にしてもよい。
以上のように本発明によれば、ポンプの稼動により、施
釉タンク内の釉薬スリップ自体が素地瓦の搬送方向と同
方向及び逆方向の流れを有するループ状の流れを形成
し、かつその流速がポンプ回転数やバルブ開度の調整に
より素地瓦の搬送速度とほぼ等しくなるので、施釉タン
ク内の釉薬スラリー中における素地瓦の状態を垂直に維
持することができ、その施釉状態を良好にすることがで
きると共に、処理スピードを大きくすることができる。
釉タンク内の釉薬スリップ自体が素地瓦の搬送方向と同
方向及び逆方向の流れを有するループ状の流れを形成
し、かつその流速がポンプ回転数やバルブ開度の調整に
より素地瓦の搬送速度とほぼ等しくなるので、施釉タン
ク内の釉薬スラリー中における素地瓦の状態を垂直に維
持することができ、その施釉状態を良好にすることがで
きると共に、処理スピードを大きくすることができる。
第１図〜第６図は本発明の実施例を示し、第１図及び第
２図は第１実施例の瓦の自動浸掛け装置の一部を破断し
た側面図及び平面図、第３図、第４図、第５図及び第６
図はそれぞれ第２実施例、第３実施例、第４実施例およ
び第５実施例の瓦の自動浸掛け装置の概念図、第７図及
び第８図は従来の瓦の自動浸掛け装置の概略を示す側面
図及び平面図、第９図（ａ），（ｂ）及び（ｃ）はそれ
ぞれ従来技術による素地瓦の施釉状態を示す説明図であ
る。 1,1′……施釉タンク、２……釉薬スリップ ３……素地瓦、4,4′……隔壁 5a,5a′……往路、5b,5b′……復路 5c,5c′,5d,5d′……連通路 ６……ポンプ、７……吸引口、８……吐出口 ９……トロリーコンバヤ、11……当て板
２図は第１実施例の瓦の自動浸掛け装置の一部を破断し
た側面図及び平面図、第３図、第４図、第５図及び第６
図はそれぞれ第２実施例、第３実施例、第４実施例およ
び第５実施例の瓦の自動浸掛け装置の概念図、第７図及
び第８図は従来の瓦の自動浸掛け装置の概略を示す側面
図及び平面図、第９図（ａ），（ｂ）及び（ｃ）はそれ
ぞれ従来技術による素地瓦の施釉状態を示す説明図であ
る。 1,1′……施釉タンク、２……釉薬スリップ ３……素地瓦、4,4′……隔壁 5a,5a′……往路、5b,5b′……復路 5c,5c′,5d,5d′……連通路 ６……ポンプ、７……吸引口、８……吐出口 ９……トロリーコンバヤ、11……当て板
Claims (1)
- 【請求項１】釉薬スリップを収容した施釉タンクと、乾
燥した素地瓦を懸吊して連続的に搬送し、素地瓦を釉薬
スリップ中に浸漬するようにレールを湾曲して設けたト
ロリーコンベヤとを備えた瓦の自動浸掛け装置におい
て、前記施釉タンク内に、素地瓦の搬送方向へ延在する
隔壁を立設して釉薬スリップを素地瓦と共に流す往路
と、これと反対に流す復路とを有するループ状の流路を
形成し、かつ施釉タンク内の釉薬スリップを適宜に吸引
し、往路の始端へ吐出するポンプを設けたことを特徴と
する瓦の自動浸掛け装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP33941389A JPH0794352B2 (ja) | 1989-12-27 | 1989-12-27 | 瓦の自動浸掛け装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP33941389A JPH0794352B2 (ja) | 1989-12-27 | 1989-12-27 | 瓦の自動浸掛け装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH03199180A JPH03199180A (ja) | 1991-08-30 |
| JPH0794352B2 true JPH0794352B2 (ja) | 1995-10-11 |
Family
ID=18327238
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP33941389A Expired - Fee Related JPH0794352B2 (ja) | 1989-12-27 | 1989-12-27 | 瓦の自動浸掛け装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0794352B2 (ja) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN110696167B (zh) * | 2019-10-30 | 2020-11-06 | 福建省佳美集团公司 | 一种流水线式陶瓷上釉方法 |
-
1989
- 1989-12-27 JP JP33941389A patent/JPH0794352B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH03199180A (ja) | 1991-08-30 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |