JPH0791308B2 - Trialkylsilylmethyl group-containing silane compound - Google Patents
Trialkylsilylmethyl group-containing silane compoundInfo
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- JPH0791308B2 JPH0791308B2 JP1157320A JP15732089A JPH0791308B2 JP H0791308 B2 JPH0791308 B2 JP H0791308B2 JP 1157320 A JP1157320 A JP 1157320A JP 15732089 A JP15732089 A JP 15732089A JP H0791308 B2 JPH0791308 B2 JP H0791308B2
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【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、新規なトリアルキルシリルメチル基含有シラ
ン化合物に関する。TECHNICAL FIELD The present invention relates to a novel trialkylsilylmethyl group-containing silane compound.
近年、超LSIの高密度化の進展にともなって、種々の微
細加工技術が開発されてきている。例えば、配線の多層
化により生じる段差上に微細なパターンを精度よく形成
するための方法として二層レジスト法がある。この二層
レジスト法は、上層と下層のそれぞれに異なるレジスト
を用いる方法である。この二層レジスト法において上層
に塗布されるレジストは、高感度、高解像度を有するこ
とはもちろんであるが、プラズマエッチングにおいて酸
素プラズマに対する耐性が優れていることが要求され
る。この要求を満たすレジストとして、酸素プラズマと
反応して酸化ケイ素を形成するため比較的酸素プラズマ
耐性が高く、かつ合成が容易なポリシロキサン系のレジ
ストが種々開発されている。In recent years, various fine processing techniques have been developed along with the progress of higher density of VLSI. For example, there is a two-layer resist method as a method for accurately forming a fine pattern on a step caused by multilayer wiring. The two-layer resist method is a method using different resists for the upper layer and the lower layer. The resist applied to the upper layer in the two-layer resist method is of course required to have high sensitivity and high resolution, but is required to have excellent resistance to oxygen plasma in plasma etching. As a resist satisfying this requirement, various polysiloxane-based resists which have relatively high oxygen plasma resistance because they react with oxygen plasma to form silicon oxide and which are easy to synthesize have been developed.
しかし、いまだ十分な酸素プラズマ耐性を有するポリシ
ロキサン系のレジストは開発されていなかった。However, a polysiloxane-based resist having sufficient oxygen plasma resistance has not yet been developed.
そこで本発明者らは、酸素プラズマ耐性の高いレジスト
を開発すべく、鋭意研究の結果、該レジストの合成原料
として有用な新規なトリアルキルシリルメチル基含有シ
ラン化合物を開発するに到った。Therefore, as a result of earnest research to develop a resist having high oxygen plasma resistance, the present inventors have developed a novel trialkylsilylmethyl group-containing silane compound useful as a raw material for synthesizing the resist.
すなわち、本発明は、 一般式（Ｉ）： 〔式中、３個のR1および２個のR2は同一でも異なっても
よく、アルキル基であり、R3は炭素原子数２以上の置換
もしくは非置換の１価の炭化水素基、又は式（II）： (R1)3SiCH2− （II） （ここで、３個のR1は同一でも異なってもよく、前記の
とおりである） で表されるトリアルキルシリルメチル基である〕 で表される新規なトリアルキルシリルメチル基含有シラ
ン化合物を提供するものである。That is, the present invention has the general formula (I): [In the formula, three R 1 s and two R 2 s may be the same or different and each is an alkyl group, and R 3 is a substituted or unsubstituted monovalent hydrocarbon group having 2 or more carbon atoms, or A trialkylsilylmethyl group represented by the formula (II): (R 1 ) 3 SiCH 2- (II) (wherein, three R 1's may be the same or different and are as described above). ] A novel trialkylsilylmethyl group-containing silane compound represented by the following is provided.
本発明のトリアルキルシリルメチル基含有シラン化合物
を表す前記式（Ｉ）において、３個のR1および２個のR2
は同一でも異なってもよく、アルキル基であり、例え
ば、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、ｉ−プロピ
ル基、ｎ−ブチル基等の炭素原子数１〜４のアルキル基
が代表的である。R3は炭素原子数２以上の置換もしくは
非置換の１価の炭化水素基、または前記式（II）で表さ
れるトリアルキルシリルメチル基である。炭素原子数２
以上の置換もしくは非置換の１価の炭化水素基として
は、例えば、エチル基、ｎ−プロピル基、ｉ−プロピル
基等のアルキル基；フェニル基、トリル基等のアリール
基；シクロヘキシル基等のシクロアルキル基などが代表
的である。また、式（II）で表されるトリアルキルシリ
ルメチル基の代表例としては、トリメチルシリルメチル
基、トリエチルシリルメチル基などがある。In the above formula (I) representing the trialkylsilylmethyl group-containing silane compound of the present invention, 3 R 1 and 2 R 2
May be the same or different and each is an alkyl group, for example, an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms such as a methyl group, an ethyl group, an n-propyl group, an i-propyl group and an n-butyl group is typical. is there. R 3 is a substituted or unsubstituted monovalent hydrocarbon group having 2 or more carbon atoms, or a trialkylsilylmethyl group represented by the above formula (II). 2 carbon atoms
Examples of the substituted or unsubstituted monovalent hydrocarbon group include an alkyl group such as an ethyl group, an n-propyl group and an i-propyl group; an aryl group such as a phenyl group and a tolyl group; a cyclohexyl group and the like. An alkyl group and the like are typical. Further, typical examples of the trialkylsilylmethyl group represented by the formula (II) include a trimethylsilylmethyl group and a triethylsilylmethyl group.
本発明の一般式（Ｉ）で表されるトリアルキルシリルメ
チル基含有シラン化合物の代表例としては、トリメチル
シリルメチル（ｎ−プロピル）ジメトキシシラン、トリ
メチルシリルメチル（シクロヘキシル）ジメトキシシラ
ン、トリエチルシリルメチル（エチル）ジエトキシシラ
ン、ビス（トリメチルシリルメチル）ジメトキシシラン
などがある。Typical examples of the trialkylsilylmethyl group-containing silane compound represented by the general formula (I) of the present invention include trimethylsilylmethyl (n-propyl) dimethoxysilane, trimethylsilylmethyl (cyclohexyl) dimethoxysilane, and triethylsilylmethyl (ethyl). Examples include diethoxysilane and bis (trimethylsilylmethyl) dimethoxysilane.
本発明のシラン化合物の製造は、例えば、式（III）： (R1)3SiCH2MgCl （III） （ここで、R1は前記と同じ） で表されるグリニャール試薬と、式（IV）： R3Si(OR2)3 （IV） （ここで、R2およびR3は前記と同じ） で表されるトリアルコキシシラン化合物とを反応させる
方法により行うことができる。The silane compound of the present invention can be produced, for example, by a Grignard reagent represented by the formula (III): (R 1 ) 3 SiCH 2 MgCl (III) (where R 1 is the same as above) R 3 Si (OR 2 ) 3 (IV) (wherein R 2 and R 3 are the same as above) can be reacted with a trialkoxysilane compound.
この製造方法において用いられる式（III）で表される
グリニャール試薬の代表例としては、トリメチルシリル
メチルマグネシウムクロライド、トリエチルシリルメチ
ルマグネシウムクロライド、ｉ−プロピルジメチルシリ
ルメチルマグネシウムクロライド等が挙げられる。この
グリニャール試薬は、常法にしたがって得ることができ
るものであり、式（Ｉ）で表されるシラン化合物の置換
基R1に応じて適宜選択される。Typical examples of the Grignard reagent represented by the formula (III) used in this production method include trimethylsilylmethylmagnesium chloride, triethylsilylmethylmagnesium chloride, i-propyldimethylsilylmethylmagnesium chloride and the like. This Grignard reagent can be obtained by a conventional method and is appropriately selected according to the substituent R 1 of the silane compound represented by the formula (I).
また、式（IV）で表されるトリアルコキシシラン化合物
の代表例としては、ｎ−プロピルトリメトキシシラン、
シクロヘキシルトリメトキシシラン、エチルトリエトキ
シシラン、トリメチルシリルメチルトリメトキシシラン
等が挙げられる。この式（IV）で表されるトリアルコキ
シシラン化合物は、式（Ｉ）で表されるシラン化合物の
所望の置換基R1およびR2に応じて適宜選択される。Further, as a representative example of the trialkoxysilane compound represented by the formula (IV), n-propyltrimethoxysilane,
Examples thereof include cyclohexyltrimethoxysilane, ethyltriethoxysilane and trimethylsilylmethyltrimethoxysilane. The trialkoxysilane compound represented by the formula (IV) is appropriately selected according to the desired substituents R 1 and R 2 of the silane compound represented by the formula (I).
この製造方法において、式（III）で表されるグリニャ
ール試薬の使用量は、通常、前記式（IV）で表されるト
リアルコキシシラン化合物に対して１〜1.2当量程度で
ある。In this production method, the amount of the Grignard reagent represented by the formula (III) is usually about 1 to 1.2 equivalents with respect to the trialkoxysilane compound represented by the formula (IV).
用いられる反応溶媒としては、例えば、トルエン、キシ
レン、ヘキサン等の非プロトン系溶媒が挙げられる。Examples of the reaction solvent used include aprotic solvents such as toluene, xylene and hexane.
反応は、通常、溶媒の還流下に行うのが好ましい。The reaction is usually preferably carried out under reflux of the solvent.
また本発明のシラン化合物は、前記式（III）で表され
るグリニャール試薬と、式（Ｖ）： R3SiX3 （Ｖ） （ここで、R3は前記と同じであり、Ｘはハロゲン原子で
ある） で表されるトリハロシラン化合物とを反応させて式： （ここで、R1およびR3は前記と同じ） で表されるジハロシラン化合物を得、このジハロシラン
化合物を、式： R2OH （ここで、R2は前記と同じ） で表されるアルコールとエステル化反応させることによ
り製造することもできる。The silane compound of the present invention comprises a Grignard reagent represented by the above formula (III) and a formula (V): R 3 SiX 3 (V) (wherein R 3 is the same as above, X is a halogen atom). By reacting with a trihalosilane compound represented by the formula: (Wherein R 1 and R 3 are the same as above), and the dihalosilane compound is combined with an alcohol represented by the formula: R 2 OH (wherein R 2 is the same as above). It can also be produced by carrying out an esterification reaction.
前記式（Ｖ）で表されるトリハロシラン化合物の代表例
としては、ｎ−プロピルトリクロロシラン、シクロヘキ
シルトリクロロシラン、エチルトリクロロシラン、トリ
メチルシリルメチルトリクロロシラン等が挙げられる。Typical examples of the trihalosilane compound represented by the formula (V) include n-propyltrichlorosilane, cyclohexyltrichlorosilane, ethyltrichlorosilane, trimethylsilylmethyltrichlorosilane and the like.
この式（III）で表されるグリニャール試薬と式（Ｖ）
で表されるトリハロシラン化合物との反応によって生成
したジハロシラン化合物と、アルコールとをエステル化
反応させるときに、生成するハロゲン化水素を中和する
ために、トリエチルアミン、N,N−ジメチルアミン等の
塩基をジハロシラン化合物に対して２〜３当量使用する
とよい。The Grignard reagent represented by the formula (III) and the formula (V)
In the esterification reaction of a dihalosilane compound produced by the reaction with a trihalosilane compound represented by the following, in order to neutralize the hydrogen halide produced, a base such as triethylamine, N, N-dimethylamine, etc. Is preferably used in 2-3 equivalents with respect to the dihalosilane compound.
反応溶媒、反応温度等は、前記の方法と同様である。The reaction solvent, the reaction temperature and the like are the same as in the above method.
エステル化に用いられるアルコール化合物としては、例
えば、メタノール、エタノール、ｉ−プロパノール等が
挙げられる。Examples of the alcohol compound used for esterification include methanol, ethanol, i-propanol and the like.
このアルコールの使用量は、式（III）で表されるグリ
ニャール試薬と式（Ｖ）で表されるトリハロシラン化合
物との反応により得られるジハロシラン化合物に対して
２〜３当量程度である。The amount of this alcohol used is about 2 to 3 equivalents with respect to the dihalosilane compound obtained by the reaction of the Grignard reagent represented by the formula (III) and the trihalosilane compound represented by the formula (V).
以上の２種の方法で得られる反応混合物は、いずれも濾
過して析出塩を除去した後、蒸留して精製し本発明のシ
ラン化合物を得ることができる。The reaction mixture obtained by the above two methods can be filtered to remove precipitated salts, and then distilled and purified to obtain the silane compound of the present invention.
本発明のトリアルキルシリルメチル基含有シラン化合物
を単独でもしくは他のジアルコキシシラン化合物ととも
に重合させて得られるオルガノポリシロキサンは、高酸
素プラズマ耐性に優れ、例えば、二層レジスト法に用い
る上層レジストの合成原料として有用である。Organopolysiloxane obtained by polymerizing the trialkylsilylmethyl group-containing silane compound of the present invention alone or together with other dialkoxysilane compounds is excellent in high oxygen plasma resistance, for example, as an upper layer resist used in a two-layer resist method. It is useful as a synthetic raw material.
また、本発明のシラン化合物は、かさ高い置換基である
トリアルキルシリルメチル基を分子内に有するため、プ
ロピレンの重合によって得られる重合体の立体規則性を
高めるためにチーグラー・ナッタ触媒とともに用いられ
る補触媒としても有用である。In addition, the silane compound of the present invention has a trialkylsilylmethyl group, which is a bulky substituent, in the molecule, and therefore is used together with a Ziegler-Natta catalyst to enhance the stereoregularity of the polymer obtained by the polymerization of propylene. It is also useful as a cocatalyst.
以下、実施例を挙げて本発明を詳細に説明する。 Hereinafter, the present invention will be described in detail with reference to examples.
実施例１ 還流冷却器、温度計、攪拌器および滴下ロートを備えた
内容積１のガラス製反応器に、ｎ−プロピルトリメト
キシシラン164.3gおよびTHF300mlを仕込んだ。次に、ト
リメチル（クロロメチル）シラン122.7gとマグネシウム
24.3gをTHF300ml中で反応させて得られたグリニャール
試薬を、還流下に、滴下した後、24時間熟成させた。得
られた反応混合物を濾過して、析出塩を除去した後、蒸
留して沸点:81〜83℃/3mmHgの留分を得た。Example 1 A glass reactor having an inner volume of 1 equipped with a reflux condenser, a thermometer, a stirrer and a dropping funnel was charged with 164.3 g of n-propyltrimethoxysilane and 300 ml of THF. Next, 122.7 g of trimethyl (chloromethyl) silane and magnesium
The Grignard reagent obtained by reacting 24.3 g in 300 ml of THF was added dropwise under reflux, and then aged for 24 hours. The obtained reaction mixture was filtered to remove precipitated salts, and then distilled to obtain a fraction having a boiling point of 81 to 83 ° C./3 mmHg.
得られた留分の質量スペクトル、1H−NMRスペクトルお
よびIRスペクトルを測定したところ、下記に示す結果が
得られた。The mass spectrum, 1 H-NMR spectrum and IR spectrum of the obtained fraction were measured, and the results shown below were obtained.
質量スペクトル 電子衝撃法:m/z（スペクトル強度比） 205（100）、189（４）、177（91）、163（34）、147
（57）、133（36）、117（35）、91（22）、73（57）、
59（67） 化学イオン化法：反応ガス:i−ブタン m/z:2201 H−NMRスペクトル δ:0.01ppm（s,(CH 3)3Si−） −0.22ppm（s,−SiCH 2Si−） 3.43ppm（s,−OCH 3） 0.55ppm（m,−SiCH 2CH2CH3） 1.34ppm（m,−SiCH2CH 2CH3） 0.92ppm（t,−SiCH2CH2CH 3） IRスペクトル：下記の波数に吸収ピークが認められた。Mass spectrum Electron impact method: m / z (spectral intensity ratio) 205 (100), 189 (4), 177 (91), 163 (34), 147
(57), 133 (36), 117 (35), 91 (22), 73 (57),
59 (67) Chemical ionization method: Reaction gas: i-butane m / z: 220 1 H-NMR spectrum δ: 0.01 ppm (s, (C H 3 ) 3 Si−) −0.22 ppm (s, −SiC H 2 Si-) 3.43ppm (s, -OC H 3) 0.55ppm (m, -SiC H 2 CH 2 CH 3) 1.34ppm (m, -SiCH 2 C H 2 CH 3) 0.92ppm (t, -SiCH 2 CH 2 C H 3 ) IR spectrum: Absorption peaks were observed at the following wave numbers.
2940cm-1、2820cm-1、1450cm-1、1410cm-1、1250cm-1、
1190cm-1、1090cm-1、1050cm-1、830cm-1 以上の測定データから、下記式： で表されるトリメチルシリルメチル（ｎ−プロピル）ジ
メトキシシランが得られたことがわかった。（収率:73
％） 実施例２ ｎ−プロピルトリメトキシシランの代わりに、シクロヘ
キシルトリメトキシシラン204.3gを用いた以外は、実施
例１と同様にして反応させ、沸点:89〜91℃/2mmHgを有
する留分を得た。 2940cm -1, 2820cm -1, 1450cm -1 , 1410cm -1, 1250cm -1,
1190cm -1, 1090cm -1, 1050cm -1 , from 830 cm -1 or more measured data, the following formula: It was found that trimethylsilylmethyl (n-propyl) dimethoxysilane represented by (Yield: 73
%) Example 2 Reaction was carried out in the same manner as in Example 1 except that 204.3 g of cyclohexyltrimethoxysilane was used instead of n-propyltrimethoxysilane, and a fraction having a boiling point of 89 to 91 ° C./2 mmHg was obtained. Obtained.
得られた留分の質量スペクトル、1H−NMRスペクトルお
よびIRスペクトルを測定したところ、下記に示す結果が
得られた。The mass spectrum, 1 H-NMR spectrum and IR spectrum of the obtained fraction were measured, and the results shown below were obtained.
質量スペクトル 電子衝撃法:m/z（スペクトル強度比） 245（29）、207（２）、177（100）、163（13）、147
（38）、133（10）、117（19）、91（７）、73（10） 化学イオン化法：反応ガス:i−ブタン m/z:2601 H−NMRスペクトル δ:0.05ppm（s,(CH 3)3Si−） −0.22ppm（s,−SiCH 2Si−） 3.49ppm（s,−OCH 3） IRスペクトル：下記の波数に吸収ピークが認められた。Mass spectrum Electron impact method: m / z (spectral intensity ratio) 245 (29), 207 (2), 177 (100), 163 (13), 147
(38), 133 (10), 117 (19), 91 (7), 73 (10) Chemical ionization method: Reaction gas: i-butane m / z: 260 1 H-NMR spectrum δ: 0.05 ppm (s, (C H 3 ) 3 Si−) −0.22ppm (s, −SiC H 2 Si−) 3.49ppm (s, −OC H 3 ) IR spectrum: Absorption peaks were observed at the following wave numbers.
2900cm-1、2820cm-1、1450cm-1、1350cm-1、1245cm-1、
1190cm-1、1085cm-1、1045cm-1、880cm-1、830cm-1 以上の測定データから、下記式： で表されるトリメチルシリルメチル（シクロヘキシル）
ジメトキシシランが得られたことがわかった。（収率:6
2％） 実施例３ 還流冷却器、温度計、攪拌器および滴下ロートを備えた
内容積１のガラス製反応器に、トリメチルシリルメチ
ルトリクロロシラン221.7gおよびTHF300mlを仕込んだ。
次に、トリメチル（クロロメチル）シラン122.7gとマグ
ネシウム24.3gをTHF300ml中で反応させて得られたグリ
ニャール試薬を、還流下に滴下した後、10時間熟成させ
た。得られた反応混合物を濾過して、析出塩を除去した
後、蒸留して沸点:75〜76℃/2mmHgの留分を得た。 2900cm -1, 2820cm -1, 1450cm -1 , 1350cm -1, 1245cm -1,
1190cm -1, 1085cm -1, 1045cm -1 , 880cm -1, from 830 cm -1 or more measured data, the following formula: Trimethylsilylmethyl (cyclohexyl) represented by
It was found that dimethoxysilane was obtained. (Yield: 6
2%) Example 3 221.7 g of trimethylsilylmethyltrichlorosilane and 300 ml of THF were charged into a glass reactor having an inner volume of 1 equipped with a reflux condenser, a thermometer, a stirrer and a dropping funnel.
Next, a Grignard reagent obtained by reacting 122.7 g of trimethyl (chloromethyl) silane with 24.3 g of magnesium in 300 ml of THF was added dropwise under reflux and then aged for 10 hours. The obtained reaction mixture was filtered to remove the precipitated salt and then distilled to obtain a fraction having a boiling point of 75 to 76 ° C / 2 mmHg.
この留分を、攪拌器、還流冷却器、温度計および滴下ロ
ートを備えた内容積１のガラス製反応器に、トリエチ
ルアミン161.9gおよびヘキサン500mlとともに仕込ん
だ。次に、室温下に、滴下ロートからメタノール54.5g
を滴下した後、１時間熟成させた。得られた反応混合物
を濾過して析出塩を除去した後、蒸留して沸点63〜64℃
/1mmHgを有する留分が得られた。This fraction was charged into a glass reactor having an internal volume of 1 equipped with a stirrer, a reflux condenser, a thermometer and a dropping funnel together with 161.9 g of triethylamine and 500 ml of hexane. Then, at room temperature, methanol 54.5g from the dropping funnel
After dripping, it was aged for 1 hour. The obtained reaction mixture is filtered to remove precipitated salts, and then distilled to have a boiling point of 63 to 64 ° C.
A fraction with / 1 mmHg was obtained.
得られた留分の質量スペクトル、1H−NMRスペクトルお
よびIRスペクトルを測定したところ、下記に示す結果が
得られた。The mass spectrum, 1 H-NMR spectrum and IR spectrum of the obtained fraction were measured, and the results shown below were obtained.
質量スペクトル 電子衝撃法:m/z（スペクトル強度比） 249（100）、233（２）、177（26）、161（８）、147
（11）、129（15）、117（12）、89（21）、73（29）、
59（25） 化学イオン化法：反応ガス:i−ブタン m/z:2641 H−NMRスペクトル δ:0.05ppm（s,(CH 3)3Si−） −0.16ppm（s,−SiCH 2Si−） 3.45ppm（s,−OCH 3） IRスペクトル：下記の波数に吸収ピークが認められた。Mass spectrum Electron impact method: m / z (spectral intensity ratio) 249 (100), 233 (2), 177 (26), 161 (8), 147
(11), 129 (15), 117 (12), 89 (21), 73 (29),
59 (25) Chemical ionization method: Reaction gas: i-butane m / z: 264 1 H-NMR spectrum δ: 0.05 ppm (s, (C H 3 ) 3 Si−) −0.16 ppm (s, −SiC H 2 Si−) 3.45 ppm (s, −OC H 3 ) IR spectrum: An absorption peak was observed at the following wave number.
2940cm-1、2820cm-1、1350cm-1、1250cm-1、1185cm-1、
1090cm-1、1055cm-1、830cm-1 以上の測定データから、得られた化合物は、下記式： 〔(CH3)3SiCH2〕2Si(OCH3)2 で表されるビス（トリメチルシリルメチル）ジメトキシ
シランが得られたことがわかった。（収率:76％） 〔発明の効果〕 本発明の新規なトリアルキルシリルメチル基含有シラン
化合物は、高酸素プラズマ耐性を有するオルガノポリシ
ロキサン系のレジストの合成原料として有用である。ま
た、分子内に非常にかさ高い置換基であるトリアルキル
シリルメチル基を含有するため、プロピレンの立体規則
性重合におけるチーグラー・ナッタ触媒の補触媒として
も有用である。2940cm -1 , 2820cm -1 , 1350cm -1 , 1250cm -1 , 1185cm -1 ,
1090cm -1, 1055cm -1, from 830 cm -1 or more measured data, the obtained compound, the following formula: [(CH 3) 3 SiCH 2] 2 Si (OCH 3) bis represented by 2 (trimethylsilylmethyl ) It was found that dimethoxysilane was obtained. (Yield: 76%) [Effect of the invention] The novel trialkylsilylmethyl group-containing silane compound of the present invention is useful as a raw material for synthesizing an organopolysiloxane-based resist having high oxygen plasma resistance. Further, since it contains a trialkylsilylmethyl group which is a very bulky substituent in the molecule, it is also useful as a co-catalyst for the Ziegler-Natta catalyst in stereoregular polymerization of propylene.
Claims (1)
よく、アルキル基であり、R3は炭素原子数２以上の置換
もしくは非置換の１価の炭化水素基、又は式（II）： (R1)3SiCH2− （II） （ここで、３個のR1は同一でも異なってもよく、前記の
とおりである） で表されるトリアルキルシリルメチル基である〕 で表されるトリアルキルシリルメチル基含有シラン化合
物。1. General formula (I): [In the formula, three R 1 s and two R 2 s may be the same or different and each is an alkyl group, and R 3 is a substituted or unsubstituted monovalent hydrocarbon group having 2 or more carbon atoms, or A trialkylsilylmethyl group represented by the formula (II): (R 1 ) 3 SiCH 2- (II) (wherein, three R 1's may be the same or different and are as described above). ] A silane compound containing a trialkylsilylmethyl group represented by:
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1157320A JPH0791308B2 (en) | 1989-06-20 | 1989-06-20 | Trialkylsilylmethyl group-containing silane compound |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1157320A JPH0791308B2 (en) | 1989-06-20 | 1989-06-20 | Trialkylsilylmethyl group-containing silane compound |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
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