JP2512348B2 - Butadienyl group-containing siloxane compound and method for producing the same - Google Patents

Butadienyl group-containing siloxane compound and method for producing the same

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JP2512348B2 JP5589691A JP5589691A JP2512348B2 JP 2512348 B2 JP2512348 B2 JP 2512348B2 JP 5589691 A JP5589691 A JP 5589691A JP 5589691 A JP5589691 A JP 5589691A JP 2512348 B2 JP2512348 B2 JP 2512348B2
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Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は、1,3−ブタジエニル
基を有する新規なシロキサン化合物及びその製造方法に
関する。
TECHNICAL FIELD The present invention relates to a novel siloxane compound having a 1,3-butadienyl group and a method for producing the same.

【0002】[0002]

【従来の技術】ケイ素原子に、2個の〔2−(1,3−
ブタジエニル)〕基が結合したシラン化合物、即ち、ビ
ス−置換−1,3−ブタジエニルシラン誘導体は、公知
の化合物である(特開昭61−205286号公報)。
然しながら、シロキサン骨格の両末端のケイ素原子のそ
れぞれに〔2−(1,3−ブタジエニル)〕基が結合し
たシロキサン化合物に関しては、未だ知られていない。
2. Description of the Related Art Two [2- (1,3-
Butadienyl)] group-bonded silane compounds, that is, bis-substituted-1,3-butadienylsilane derivatives are known compounds (JP-A 61-205286).
However, a siloxane compound in which a [2- (1,3-butadienyl)] group is bonded to each of the silicon atoms at both ends of the siloxane skeleton has not yet been known.

【0003】[0003]

【発明が解決しようとする課題】従って本発明は、シロ
キサン骨格の両末端のケイ素原子のそれぞれに〔2−
(1,3−ブタジエニル)〕基が結合したシロキサン化
合物及びその製造方法を提供することを目的とする。
Therefore, according to the present invention, each of the silicon atoms at both ends of the siloxane skeleton has [2-
An object of the present invention is to provide a siloxane compound having a (1,3-butadienyl)] group bonded thereto and a method for producing the same.

【0004】[0004]

【課題を達成するための手段】本発明によれば、下記式
〔1〕:
According to the present invention, the following formula [1]:

【化1】(式中、Rは置換又は非置換の炭素原子数1〜
10の1価炭化水素基であり、各Rは、全て同一の基で
あってもよいし、互いに異なる基であってもよい、nは
0〜100の整数である。)で表されるブタジエニル基
含有シロキサン化合物が提供される。
Embedded image (wherein R is a substituted or unsubstituted C 1 -C 1).
10 monovalent hydrocarbon groups, each R may be the same group or different groups, and n is an integer of 0 to 100. ) Butadienyl group-containing siloxane compounds represented by

【0005】ブタジエニル基含有シロキサン化合物 本発明のシロキサン化合物は、シロキサン鎖の2個の末
端ケイ素原子のそれぞれに、非常に反応性の高い〔2−
(1,3−ブタジエニル)〕基が結合している点が顕著
な特徴である。
Butadienyl Group-Containing Siloxane Compound The siloxane compound of the present invention is highly reactive with each of the two terminal silicon atoms of the siloxane chain [2-
A significant feature is that the (1,3-butadienyl)] group is bonded.

【0006】該式〔1〕において、基Rは、炭素原子数
1〜10の1価炭化水素基、例えば代表的なものとして
低級アルキル基、低級アルケニル基、アリール基等を示
し、これはその炭素原子に結合している水素原子の一部
又は全部がハロゲン原子等によって置換されていてもよ
い。具体的には、低級アルキル基として、メチル基、エ
チル基、プロピル基、ブチル基及びこれらの基の水素原
子の一部又は全部がハロゲン原子で置換されている基等
が例示され、低級アルケニル基として、ビニル基、アリ
ル基、ブテニル基及びこれらの基の水素原子の一部又は
全部がハロゲン原子で置換されている基等が例示され、
またアリール基として、フェニル基、トリル基、ナフチ
ル基及びその水素原子の一部又は全部がハロゲン原子で
置換されている基等が例示される。また複数個存在する
これらの基Rは、全て同一の基であってもよいし、互い
に異なる基を示していてもよい。更に、nは、0〜10
0の整数を表す。
In the formula [1], the group R represents a monovalent hydrocarbon group having 1 to 10 carbon atoms, for example, a lower alkyl group, a lower alkenyl group, an aryl group, etc. as typical ones. Some or all of the hydrogen atoms bonded to the carbon atoms may be replaced by halogen atoms or the like. Specific examples of the lower alkyl group include a methyl group, an ethyl group, a propyl group, a butyl group, and a group in which some or all of the hydrogen atoms of these groups are substituted with halogen atoms, and the like. Examples of the vinyl group, allyl group, butenyl group and groups in which some or all of the hydrogen atoms of these groups are substituted with halogen atoms,
Examples of the aryl group include a phenyl group, a tolyl group, a naphthyl group, and a group in which some or all of the hydrogen atoms thereof are replaced with halogen atoms. A plurality of these groups R may be all the same or different from each other. Furthermore, n is 0 to 10
Represents an integer of 0.

【0007】本発明において、代表的なブタジエニル基
含有シロキサン化合物は、例えば、式〔4〕:
In the present invention, a typical butadienyl group-containing siloxane compound has, for example, the formula [4]:

【化4】(式中、Rは、前記のとりである。)で表され
るものである。式〔4〕におけるRの代表的な例として
は、メチル基、ビニル基、アリル基、ブテニル基などの
低級アルケニル基、フェニル基、トリル基、ナフチル基
などのアリール基、及びこれらの基の水素原子の一部又
は全部がハロゲン原子で置換されている基等が例示され
る。またRは、全て同一の基であってもよいし、互いに
異なる基であってもよい。
Embedded image (in the formula, R is the above-mentioned bird). Representative examples of R in the formula [4] include a lower alkenyl group such as a methyl group, a vinyl group, an allyl group and a butenyl group, an aryl group such as a phenyl group, a tolyl group and a naphthyl group, and hydrogen of these groups. Examples include groups in which some or all of the atoms are replaced with halogen atoms. Further, R's may be the same group or different groups.

【0008】式〔4〕の化合物のより具体的な例として
は、1,1,3,3−テトラメチル−1,3−ビス〔2
−(1,3−ブタジエニル)〕ジシロキサン、1,3−
ジメチル−1,3−ジビニル−1,3−ビス〔2−
(1,3−ブタジエニル)〕ジシロキサン及び1,1,
3,3−テトラビニル−1,3−ビス〔2−(1,3−
ブタジエニル)〕ジシロキサンが挙げられる。
More specific examples of the compound of the formula [4] include 1,1,3,3-tetramethyl-1,3-bis [2
-(1,3-Butadienyl)] disiloxane, 1,3-
Dimethyl-1,3-divinyl-1,3-bis [2-
(1,3-Butadienyl)] disiloxane and 1,1,
3,3-Tetravinyl-1,3-bis [2- (1,3-
Butadienyl)] disiloxane.

【0009】製造方法 式〔1〕のブタジエニル基含有シロキサン化合物は、下
に例示する方法(1)及び方法(2)により容易に製造
することができる。方法(1):式〔1〕の化合物は、
(a)下記式〔2〕:
Production Method The butadienyl group-containing siloxane compound of the formula [1] can be easily produced by the following method (1) and method (2). Method (1): The compound of formula [1] is
(A) The following formula [2]:

【化2】(式中、X1 はハロゲン原子を示す。)で表さ
れる2−ハロゲン化マグネシウム−1,3−ブタジエン
と、(b)下記式〔3〕:
2-magnesium-1,3-butadiene represented by the formula: wherein X 1 represents a halogen atom, and (b) the following formula [3]:

【化3】(式中、X2 はハロゲン原子又はアルコキシル
基であり、2個のX2 は同一でも異なっていてもよい、
R及びnは、前述した意味を示す。)で表されるシロキ
サン化合物、とを反応させる工程を有する方法により得
られる。
(Wherein, X 2 is a halogen atom or an alkoxyl group, and two X 2 may be the same or different,
R and n have the above-mentioned meanings. ) And a siloxane compound represented by the formula (1).

【0010】この製造方法において、用いるグリニャー
ル試薬は、前記式〔2〕で表される2−ハロゲン化マグ
ネシウム−1,3−ブタジエンである。このハロゲン原
子は、塩素原子、臭素原子及びヨウ素原子の何れであっ
てもよい。
In this production method, the Grignard reagent used is the 2-halogenated magnesium-1,3-butadiene represented by the above formula [2]. This halogen atom may be any of a chlorine atom, a bromine atom and an iodine atom.

【0011】このグリニャール試薬は、それ自体公知の
方法、例えば J. Org. Chem., 44,4788 (1979) に記載
されている方法にしたがって、例えばテトラヒドロフラ
ン、ジオキサン、ジエチルエーテル等のエーテル系溶媒
中で、2−ハロ−1,3−ブタジエンと金属マグネシウ
ムを混合させることによって容易に製造することができ
る。
This Grignard reagent can be prepared according to a method known per se, for example, the method described in J. Org. Chem., 44 , 4788 (1979) in an ether solvent such as tetrahydrofuran, dioxane, diethyl ether or the like. Thus, it can be easily produced by mixing 2-halo-1,3-butadiene and metallic magnesium.

【0012】また上記グリニャール試薬と反応させるべ
きシロキサン化合物は、前記式〔3〕で表されるハロゲ
ン置換又はアルコキシル基置換シロキサン化合物であ
り、これは目的とする式〔1〕のブタジエニル基含有シ
ロキサン化合物に対応するシロキサン骨格を有するもの
である。
The siloxane compound to be reacted with the Grignard reagent is a halogen-substituted or alkoxyl group-substituted siloxane compound represented by the above formula [3], which is the target butadiene compound containing a butadienyl group of the formula [1]. It has a siloxane skeleton corresponding to.

【0013】この式〔3〕において、基X2 が示すハロ
ゲン原子としては、塩素原子、臭素原子及びヨウ素原子
の何れでもよく、またアルコキシル基としては、メトキ
シル基、エトキシル基、メトキシル置換エトキシル基、
エトキシル置換エトキシル基、プロポキシル基、ブトキ
シル基及びこれらの基の炭素原子に結合した水素原子の
一部又は全部がハロゲン原子で置換された基が例示され
る。更に、この2個の基X2 は、同一でも互いに異なっ
ていてもよい。
In the formula [3], the halogen atom represented by the group X 2 may be any of a chlorine atom, a bromine atom and an iodine atom, and the alkoxyl group may be a methoxyl group, an ethoxyl group, a methoxyl-substituted ethoxyl group,
Ethoxyl-substituted ethoxyl groups, propoxyl groups, butoxyl groups and groups in which some or all of the hydrogen atoms bonded to the carbon atoms of these groups are substituted with halogen atoms are exemplified. Furthermore, the two groups X 2 may be the same or different from each other.

【0014】かかるハロゲン置換又はアルコキシル基置
換シロキサン化合物も、それ自体公知の方法で製造する
ことができる。グリニャール試薬とシロキサン化合物と
の反応は、該反応を阻害しないテトラヒドロフラン等の
ようなエーテル系溶媒中で調製したグリニャール試薬
を、室温以下に冷却し、不活性ガスの存在下で、シロキ
サン化合物を滴下して行わせればよい。また、上記とは
逆に、シロキサン化合物を溶媒に希釈し、冷却、撹拌下
で、先に調製されたグリニャール試薬を滴下させること
によって反応を行うことも可能である。反応温度は、一
般に−50℃〜溶媒の沸点温度、好ましくは0〜30℃
とされる。この反応温度があまり低すぎると反応の進行
が遅くて実用的でなく、高すぎると副反応を生じるおそ
れがある。反応時間は、通常、5分間〜6時間、好まし
くは30分間〜3時間である。
The halogen-substituted or alkoxyl group-substituted siloxane compound can also be produced by a method known per se. The reaction between the Grignard reagent and the siloxane compound is carried out by cooling the Grignard reagent prepared in an ether solvent such as tetrahydrofuran which does not inhibit the reaction to room temperature or below and dropping the siloxane compound in the presence of an inert gas. It should be done. In contrast to the above, it is also possible to carry out the reaction by diluting the siloxane compound in a solvent and dropping the previously prepared Grignard reagent under cooling and stirring. The reaction temperature is generally -50 ° C to the boiling point of the solvent, preferably 0 to 30 ° C.
It is said. If the reaction temperature is too low, the reaction proceeds slowly, which is not practical, and if it is too high, side reactions may occur. The reaction time is generally 5 minutes to 6 hours, preferably 30 minutes to 3 hours.

【0015】用いるグリニャール試薬とシロキサン化合
物との量比は、モル基準で、 1:0.1〜1:2 、好ましく
は、 1:0.2〜1:1 の範囲である。また溶媒の使用量、即
ち反応液の希釈割合は、反応熱、容積効率等を考慮して
決定すればよい。
The amount ratio of the Grignard reagent to the siloxane compound used is on a molar basis in the range of 1: 0.1 to 1: 2, preferably 1: 0.2 to 1: 1. The amount of the solvent used, that is, the dilution ratio of the reaction solution may be determined in consideration of reaction heat, volumetric efficiency, and the like.

【0016】グリニャール試薬とシロキサン化合物との
反応は、上述したように、通常、不活性ガス雰囲気中で
行われるが、かかる不活性ガスとしては、アルゴン、ヘ
リウム及び窒素等を単独又は2種以上の組合せで使用す
ることができるが、経済的な面から窒素ガスが好適であ
る。以上の反応により、式〔1〕で表される本発明のブ
タジエニル基含有シロキサン化合物を製造することがで
きる。
As described above, the reaction between the Grignard reagent and the siloxane compound is usually carried out in an inert gas atmosphere. As such an inert gas, argon, helium, nitrogen, etc. may be used alone or in combination of two or more. Although they can be used in combination, nitrogen gas is preferable from the economical point of view. By the above reaction, the butadienyl group-containing siloxane compound of the present invention represented by the formula [1] can be produced.

【0017】方法(2):本発明のブタジエニル基含有
シロキサン化合物のうち、前記式〔4〕、即ち式:
Method (2): Among the butadienyl group-containing siloxane compounds of the present invention, the above formula [4], that is, the formula:

【化4】(式中、Rは前記のとおりである。)で表され
るものは、式〔5〕:
Embedded image (wherein R is as defined above) has the formula [5]:

【化5】(式中、Yは、加水分解性の原子又は基であ
り、Rは前記のとおりである。)で表されるブタジエニ
ル基含有シランを加水分解、縮合させる工程を有する方
法によっても得られる。
[Image Omitted] (wherein Y is a hydrolyzable atom or group, and R is as defined above), and also by a method having a step of hydrolyzing and condensing a butadienyl group-containing silane. can get.

【0018】式〔5〕において、Rは前記のとおりであ
るが、代表的な例はメチル基、エチル基、プロピル基、
ブチル基などの低級アルキル基、ビニル基、アリル基、
ブテニル基などの低級アルケニル基、フェニル基、トリ
ル基、ナフチル基などのアリール基、及び上述したこれ
らの基の水素原子の一部又は全部がフッ素、塩素、臭素
等のハロゲン原子で置換されている基等があげられる。
また、加水分解性の原子又は基としては、例えば、塩素
原子、臭素原子およびヨウ素原子からなる群から選ばれ
るハロゲン原子;メトキシル基、エトキシル基、メトキ
シル基置換エトキシル基、エトキシル基含有エトキシル
基、プロポキシル基、ブトキシル基等のアルコキシル
基;またはこれらのアルコキシル基の炭素原子に結合し
た水素原子の一部もしくは全部がフッ素、塩素、臭素等
のハロゲン原子で置換された基等が挙げられ、好ましく
はハロゲン原子及びアルコキシル基である。
In the formula [5], R is as described above, but typical examples are methyl group, ethyl group, propyl group,
Lower alkyl group such as butyl group, vinyl group, allyl group,
Lower alkenyl groups such as butenyl groups, phenyl groups, tolyl groups, aryl groups such as naphthyl groups, and some or all of the hydrogen atoms of these groups are substituted with halogen atoms such as fluorine, chlorine and bromine. Groups and the like.
The hydrolyzable atom or group is, for example, a halogen atom selected from the group consisting of chlorine atom, bromine atom and iodine atom; methoxyl group, ethoxyl group, methoxyl group-substituted ethoxyl group, ethoxyl group-containing ethoxyl group, propoxy. And an alkoxyl group such as a butoxyl group; or a group in which some or all of the hydrogen atoms bonded to the carbon atoms of these alkoxyl groups are substituted with a halogen atom such as fluorine, chlorine or bromine, and preferably A halogen atom and an alkoxyl group.

【0019】式〔5〕のブタジエニル基含有シランの加
水分解は、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸水
素ナトリウム等のアルカリ化合物の水溶液を室温下にて
調製し、その中に、加水分解反応を阻害しない溶媒、例
えばペンタン、ヘキサン、ヘプタン等のアルキル化合
物、ベンゼン、トルエン、キシレン等のアリール化合
物、テトラヒドロフラン、ジオキサン、ジエチルエーテ
ル等のエーテル系化合物、塩化メチレン、クロロホル
ム、四塩化炭素等のハロゲン化アルキル化合物で希釈し
たブタジエニル基含有ビニルシランを滴下して反応させ
ることによって行われる。また、これとは逆に、上記の
ビニルシランを上記の溶媒で希釈し、その中に、前述の
アルカリ化合物の水溶液を滴下させることによって反応
させることも可能である。
To hydrolyze the silane containing butadienyl group of the formula [5], an aqueous solution of an alkali compound such as sodium hydroxide, potassium hydroxide or sodium hydrogencarbonate is prepared at room temperature, and the hydrolysis reaction is carried out therein. Solvents that do not inhibit, for example, alkyl compounds such as pentane, hexane, heptane, aryl compounds such as benzene, toluene, xylene, ether compounds such as tetrahydrofuran, dioxane, diethyl ether, halogenated alkyls such as methylene chloride, chloroform and carbon tetrachloride. It is carried out by dropping butadienyl group-containing vinylsilane diluted with a compound to react. On the contrary, it is also possible to dilute the above-mentioned vinyl silane with the above-mentioned solvent and drop the aqueous solution of the above-mentioned alkaline compound therein to carry out the reaction.

【0020】このような操作により、式〔5〕のシラン
中のYは加水分解を受けてシラノール基に転換される。
生成したシラノール基は直ぐさま別の分子のシラノール
基と縮合を起す結果、目的とする式〔4〕の化合物が生
成する。
By such an operation, Y in the silane of the formula [5] is hydrolyzed and converted into a silanol group.
The generated silanol group immediately undergoes condensation with the silanol group of another molecule, and as a result, the desired compound of formula [4] is produced.

【0021】かかる加水分解、縮合の反応温度は、一般
に0℃〜溶媒の沸点、好ましくは10〜30℃である。
反応温度があまり低すぎると反応の進行が遅すぎて実用
的でなく、高すぎると副反応を生じる恐れがある。反応
時間は、通常、30分間〜24時間、代表的には、2〜
12時間である。この方法における式〔5〕のシランと
アルカリ化合物との量比は、モル基準で、 1:0.5〜1:1
0、好ましくは 1:1〜1:5 の範囲である。また、溶媒の
使用量(希釈率)は、反応熱、容積効率等を考慮して決
定すれば良い。なお、前記の加水分解反応では、唯一種
のブタジエニル基含有シランだけを用いても良く、上記
のRおよびYで表される基またはハロゲン原子の種類が
異なる二種以上のブタジエニル基含有シランを用いても
良い。Rが異なる二種以上のブタジエニル基含有シラン
を用いた場合には、前記一般式〔4〕の二つのケイ素原
子に異なるRが結合したブタジエニル基含有シロキサン
を製造することができる。
The reaction temperature for such hydrolysis and condensation is generally 0 ° C to the boiling point of the solvent, preferably 10 to 30 ° C.
If the reaction temperature is too low, the progress of the reaction is too slow to be practical, and if it is too high, a side reaction may occur. The reaction time is usually 30 minutes to 24 hours, typically 2 to 24 hours.
12 hours. In this method, the amount ratio of the silane of formula [5] and the alkali compound is 1: 0.5 to 1: 1 on a molar basis.
The range is 0, preferably 1: 1 to 1: 5. The amount of solvent used (dilution rate) may be determined in consideration of reaction heat, volumetric efficiency, and the like. In the above hydrolysis reaction, only one kind of butadienyl group-containing silane may be used, and two or more kinds of butadienyl group-containing silanes having different groups represented by R and Y or different kinds of halogen atoms are used. May be. When two or more butadienyl group-containing silanes having different Rs are used, a butadienyl group-containing siloxane having different Rs bonded to the two silicon atoms of the general formula [4] can be produced.

【0022】なお、上記方法(2)で出発原料として用
いられる式〔5〕のシラン化合物は、例えば、一般式
〔6〕:
The silane compound of the formula [5] used as a starting material in the above method (2) is, for example, a compound represented by the general formula [6]:

【化6】 (式中、RおよびYは前記のとおりである。)で表され
るシランと、前記式〔2〕で表されるグリニャール試薬
とを反応させることによって合成することができる。
[Chemical 6] (In the formula, R and Y are as described above.) And the Grignard reagent represented by the formula [2] can be reacted to synthesize.

【0023】式〔6〕のシランと式〔2〕のグリニャー
ル試薬との反応は、該反応を阻害しないテトラヒドロフ
ラン等のようなエーテル系溶媒で希釈して調製したグリ
ニャール試薬を、室温以下に冷却し、不活性ガスの存在
下で、上記のシランを滴下して反応させることによって
行われる。また、これとは逆に、上記のシランを溶媒で
希釈し、冷却、攪拌下で、先に調製されたグリニャール
試薬を滴下させることによって反応させることも可能で
ある。
The reaction between the silane of the formula [6] and the Grignard reagent of the formula [2] is carried out by diluting the Grignard reagent prepared by diluting with an ether solvent such as tetrahydrofuran which does not inhibit the reaction to room temperature or below. In the presence of an inert gas, the above silane is added dropwise to react with the silane. Conversely, it is also possible to carry out the reaction by diluting the above silane with a solvent and dropping the Grignard reagent prepared above under cooling and stirring.

【0024】[0024]

【実施例】実施例1 リフラックスコンデンサー、温度計、攪拌機及び滴下ロ
ートを備えた2lのフラスコ内に、2−塩化マグネシウ
ム−1,3−ブタジエン(330ミリモル)のテトラヒ
ドロフラン溶液300ml、を窒素気流下で仕込んだ後、
フラスコ内を0℃に冷却し、1,1,3,3−テトラメ
チル−1,3−ジクロロシロキサン16.7g(82ミ
リモル)を滴下した。次いで、反応溶液を加熱し、テト
ラヒドロフランを還流させながら1時間熟成を行った。
熟成終了後、反応溶液中の過剰なグリニャール試薬を、
塩化アンモニウム水溶液を用いて加水分解した。次い
で、水層をn−ヘキサンで抽出し、得られた有機層を蒸
留することによって、目的とする化合物8.8gを得た
(収率45%)。
Example 1 300 ml of a tetrahydrofuran solution of 2-magnesium chloride-1,3-butadiene (330 mmol) in a 2 l flask equipped with a reflux condenser, a thermometer, a stirrer and a dropping funnel was placed under a nitrogen stream. After charging in
The inside of the flask was cooled to 0 ° C., and 16.7 g (82 mmol) of 1,1,3,3-tetramethyl-1,3-dichlorosiloxane was added dropwise. Then, the reaction solution was heated and aged for 1 hour while refluxing tetrahydrofuran.
After aging, remove excess Grignard reagent in the reaction solution.
Hydrolysis was performed using an aqueous solution of ammonium chloride. Next, the aqueous layer was extracted with n-hexane, and the obtained organic layer was distilled to obtain 8.8 g of the target compound (yield 45%).

【0025】この化合物について、NMR、マススペク
トル、赤外線吸収スペクトル及び元素分析の測定を行っ
た。その結果を以下に示す。この測定結果から、得られ
た化合物は、1,1,3,3−テトラメチル−1,3−
ビス〔2−(1,3−ブタジエニル)〕ジシロキサンで
あると認められる。
This compound was measured by NMR, mass spectrum, infrared absorption spectrum and elemental analysis. The results are shown below. From the measurement results, the obtained compound was identified as 1,1,3,3-tetramethyl-1,3-
It is identified as bis [2- (1,3-butadienyl)] disiloxane.

【0026】 [0026]

【化7】 5.57,5.80(2d,J=3Hz,2H,C2 =C) 6.49 (dd,J=10.17Hz,1H,C=CH2 ) マススペクトル; 238(M+ ),223(M+ −CH3 [Chemical 7] 5.57,5.80 (2d, J = 3Hz, 2H, C H 2 = C) 6.49 (dd, J = 10.17Hz, 1H, C H = CH 2) Mass spectrum; 238 (M +) , 223 (M + —CH 3 )

【0027】赤外線吸収スペクトル;図1に示す。 元素分析;C1222OSi2 として Infrared absorption spectrum; shown in FIG. Elemental analysis; as C 12 H 22 OSi 2

【0028】実施例2 実施例1と同様のフラスコ内に、2−塩化マグネシウム
−1,3−ブタジエン(660ミリモル)のテトラヒド
ロフラン溶液330ml、を窒素気流下で仕込んだ後、該
フラスコ内を0℃に冷却し、1,1,3,3−テトラメ
チル−1,3−ジクロロジシロキサン66.8g(33
0ミリモル)を滴下し、その後反応温度を25℃とし、
2時間熟成させた。
Example 2 A flask similar to that used in Example 1 was charged with 330 ml of a tetrahydrofuran solution of 2-magnesium chloride-1,3-butadiene (660 mmol) under a nitrogen stream, and then the temperature inside the flask was set to 0 ° C. Cooled to 1,6,3 g of 1,1,3,3-tetramethyl-1,3-dichlorodisiloxane (33
0 mmol) was added dropwise, and then the reaction temperature was adjusted to 25 ° C.,
Aged for 2 hours.

【0029】熟成終了後、反応溶液を実施例1と同様の
操作を行って目的とする化合物47.1gを得た(収率60
%)。この化合物について、実施例1と同様の分析を行
った結果、この化合物は、1,1,3,3−テトラメチ
ル−1,3−ビス〔2−(1,3−ブタジエニル)〕ジ
シロキサンであることが確認された。
After the aging, the reaction solution was treated in the same manner as in Example 1 to obtain 47.1 g of the desired compound (yield 60
%). As a result of performing the same analysis as in Example 1 on this compound, the compound was 1,1,3,3-tetramethyl-1,3-bis [2- (1,3-butadienyl)] disiloxane. It was confirmed that there is.

【0030】実施例3 リフラックスコンデンサ、温度計、攪拌機および滴下ロ
ートを備えた1リットルのフラスコ内に、水酸化カリウ
ム 100.8g( 1.8モル)の水溶液400mlを仕込んだ
後、フラスコ内を25℃に保ち、2−(メチルビニルメ
トキシシリル)−1,3−ブタジエン92.4g( 0.6モ
ル)の塩化メチレン溶液200mlを滴下した。滴下終了
後、反応溶液を攪拌しながら25℃で10時間熟成させ
た。反応終了後、反応溶液中にn−ヘキサンを300ml
加え、有機層を100mlの水で2回洗浄した後、得られ
た有機層を蒸留することによって、目的とする化合物4
0.9gを得た(収率52%)。
Example 3 A 1-liter flask equipped with a reflux condenser, a thermometer, a stirrer and a dropping funnel was charged with 400 ml of an aqueous solution of 100.8 g (1.8 mol) of potassium hydroxide, and then the temperature in the flask was raised to 25 ° C. Maintaining the temperature, 200 ml of a methylene chloride solution containing 92.4 g (0.6 mol) of 2- (methylvinylmethoxysilyl) -1,3-butadiene was added dropwise. After completion of dropping, the reaction solution was aged at 25 ° C. for 10 hours while stirring. After the reaction was completed, 300 ml of n-hexane was added to the reaction solution.
In addition, the organic layer was washed twice with 100 ml of water, and the obtained organic layer was distilled to obtain the desired compound 4
0.9 g was obtained (yield 52%).

【0031】得られた化合物について、 1HNMR、マ
ススペクトル、赤外線吸収スペクトルおよび元素分析の
測定を行った。その結果を以下に示す。この測定結果か
ら、この化合物は、1,3−ジメチル−1,3−ジビニ
ル−1,3−ビス〔2−(1,3−ブタジエニル)〕ジ
シロキサンであることが確認された。
The obtained compound was measured by 1 HNMR, mass spectrum, infrared absorption spectrum and elemental analysis. The results are shown below. From this measurement result, it was confirmed that this compound was 1,3-dimethyl-1,3-divinyl-1,3-bis [2- (1,3-butadienyl)] disiloxane.

【0032】 [0032]

【化8】 5.61,5.81(2d,J=3Hz,4H,C2 =C) 5.59〜6.32(m,6H,Si−C=C2 ) 6.38 (dd,J=10,17Hz,2H,C−C=CH2 ) マススペクトル; 262(M+ ),247(M+ −CH3 Embedded image 5.61,5.81 (2d, J = 3Hz, 4H, C H 2 = C) 5.59~6.32 (m, 6H, Si-C H = C H 2) 6.38 (dd, J = 10,17Hz, 2H, C-C H = CH 2) mass spectrum; 262 (M +), 247 (M + -CH 3)

【0033】赤外線吸収スペクトル;図2に示す。 元素分析;C1422OSi2 として Infrared absorption spectrum; shown in FIG. Elemental analysis; as C 14 H 22 OSi 2

【0034】実施例4 実施例1と同様のフラスコ内に、水酸化カリウム 112.0
g( 2.0モル)の水溶液450mlを仕込んだ後、フラス
コ内を5℃に冷却し、2−(メチルビニルメトキシシリ
ル)−1,3−ブタジエン 154.0g( 1.0モル)のクロ
ロホルム溶液300mlを滴下した。滴下終了後、反応温
度を5℃とし、攪拌しながら20時間熟成させた後、実
施例1と同様にして目的の化合物46gを得た(収率3
5%)。得られた化合物について、実施例1と同様の分
析を行った結果、この化合物は、1,3−ジメチル−
1,3−ジビニル−1,3−ビス〔2−(1,3−ブタ
ジエニル)〕ジシロキサンであることが確認された。
Example 4 In a flask similar to Example 1, potassium hydroxide 112.0
After charging 450 ml of an aqueous solution of g (2.0 mol), the inside of the flask was cooled to 5 ° C., and 300 ml of a chloroform solution of 154.0 g (1.0 mol) of 2- (methylvinylmethoxysilyl) -1,3-butadiene was added dropwise. After completion of the dropwise addition, the reaction temperature was set to 5 ° C., and the mixture was aged for 20 hours with stirring, then 46 g of the desired compound was obtained in the same manner as in Example 1 (yield 3
5%). The obtained compound was analyzed in the same manner as in Example 1. As a result, the compound was found to be 1,3-dimethyl-
It was confirmed to be 1,3-divinyl-1,3-bis [2- (1,3-butadienyl)] disiloxane.

【0035】[0035]

【発明の効果】本発明の新規シロキサン化合物は、非常
に反応性に富むブタジエニル基がシロキサン鎖の両端に
結合した分子構造を有していることに関連して、シリコ
ーン樹脂及び各種有機樹脂を合成するための中間体や改
質剤として、広く使用されることが期待される。特にシ
ロキサン骨格中のケイ素原子の置換基としてアルケニル
基が結合しているものに関しては、種々の官能基の導入
や、架橋反応が可能であり、シリコーン工業的にも更に
幅広い応用が期待される。
INDUSTRIAL APPLICABILITY The novel siloxane compound of the present invention has a molecular structure in which very reactive butadienyl groups are bonded to both ends of a siloxane chain, and thus a silicone resin and various organic resins are synthesized. It is expected that it will be widely used as an intermediate or a modifier for the purpose. In particular, those having an alkenyl group bonded as a substituent of a silicon atom in the siloxane skeleton can be introduced with various functional groups and a crosslinking reaction, and are expected to have wider applications in the silicone industry.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】 実施例1で合成されたシロキサン化合物の赤
外線吸収スペクトルを示すグラフである。
FIG. 1 is a graph showing an infrared absorption spectrum of a siloxane compound synthesized in Example 1.

【図2】 実施例3で得られた化合物の赤外線吸収スペ
クトルを示すグラフである。
2 is a graph showing an infrared absorption spectrum of the compound obtained in Example 3. FIG.

Claims (3)

(57)【特許請求の範囲】(57) [Claims] 【請求項1】 下記式〔1〕: 【化1】 (式中、Rは置換又は非置換の炭素原子数1〜10の1
価炭化水素基であり、各Rは、全て同一の基であっても
よいし、互いに異なる基であってもよい、nは0〜10
0の整数である。)で表されるブタジエニル基含有シロ
キサン化合物。
1. The following formula [1]: (Wherein, R is a substituted or unsubstituted C 1 -C 1)
And each R may be the same group or different groups. N is 0 to 10
It is an integer of 0. ) A siloxane compound containing a butadienyl group represented by
【請求項2】 (a)下記式〔2〕: 【化2】 (式中、X1 はハロゲン原子を示す。)で表される2−
ハロゲン化マグネシウム−1,3−ブタジエンと、
(b)下記式〔3〕: 【化3】 (式中、X2 はハロゲン原子又はアルコキシル基であ
り、2個のX2 は同一でも異なる基であってもよい、R
及びnは、前述した意味を示す。)で表されるシロキサ
ン化合物、とを反応させることを特徴とする請求項1に
記載のブタジエニル基含有シロキサン化合物の製造方
法。
2. (a) The following formula [2]: (In the formula, X 1 represents a halogen atom.) 2
Magnesium halide-1,3-butadiene,
(B) The following formula [3]: (In the formula, X 2 is a halogen atom or an alkoxyl group, and two X 2 may be the same or different, R
And n have the above-mentioned meanings. The siloxane compound represented by these is reacted with the siloxane compound of Claim 1 characterized by the above-mentioned.
【請求項3】 一般式〔4〕: 【化4】 (式中、Rは前記のとおりである。)で表されるブタジ
エニル基含有シロキサン化合物の製造方法であって、式
〔5〕: 【化5】 (式中、Yは、加水分解性の原子又は基を示し、Rは前
記のとおりである。)で表されるブタジエニル基含有シ
ランを加水分解、縮合反応させる工程を有する製造方
法。
3. A general formula [4]: A method for producing a butadienyl group-containing siloxane compound represented by the formula (wherein R is as described above), which is represented by the formula [5]: (In the formula, Y represents a hydrolyzable atom or group, and R is as described above.) A production method having a step of hydrolyzing and condensing a butadienyl group-containing silane represented by the formula.
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