JPH0786484B2 - Goniometer head - Google Patents

Goniometer head

Info

Publication number
JPH0786484B2
JPH0786484B2 JP1123289A JP12328989A JPH0786484B2 JP H0786484 B2 JPH0786484 B2 JP H0786484B2 JP 1123289 A JP1123289 A JP 1123289A JP 12328989 A JP12328989 A JP 12328989A JP H0786484 B2 JPH0786484 B2 JP H0786484B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
angle
crystal
adjusting mechanism
axis
ray diffraction
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Lifetime
Application number
JP1123289A
Other languages
Japanese (ja)
Other versions
JPH02302653A (en
Inventor
和彦 友松
晴夫 冨永
昭人 黒坂
守 青柳
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Fujikura Ltd
Original Assignee
Fujikura Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Fujikura Ltd filed Critical Fujikura Ltd
Priority to JP1123289A priority Critical patent/JPH0786484B2/en
Publication of JPH02302653A publication Critical patent/JPH02302653A/en
Publication of JPH0786484B2 publication Critical patent/JPH0786484B2/en
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Lifetime legal-status Critical Current

Links

Description

【発明の詳細な説明】 [産業上の利用分野] 本発明はX線回折装置に使用され、所定の結晶方位にX
線が入射するように結晶の支持方位(取付け角度)を調
整するためのゴニオメータヘッドに関する。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION [Industrial field of application] The present invention is used in an X-ray diffractometer, and has an X-ray diffraction pattern in a predetermined crystal orientation.
The present invention relates to a goniometer head for adjusting the supporting orientation (mounting angle) of a crystal so that a line is incident.

[従来の技術] 種々の物質の単結晶の評価方法として、ラウエ法、プリ
セッション法及びワイゼンベルグ法等、X線の回折現象
を利用した方法がある。これらの方法はX線が特定の結
晶方位に入射するように単結晶を固定し、X線をこの単
結晶に照射して単結晶による回折スポットを写真フィル
ム上に記録し、この回折スポットを解析して単結晶の評
価を行うものである。これらの方法においては、X線の
照射方向に対して単結晶の特定の方位が所定の方向とな
るように単結晶の角度を調整する必要がある。このため
に、X線回折装置にはゴニオメータヘッドと呼ばれる結
晶取付け角補正機構付きのホルダーが使用されている。
[Prior Art] As methods for evaluating single crystals of various substances, there are methods utilizing X-ray diffraction phenomena, such as the Laue method, the precession method, and the Weisenberg method. These methods fix a single crystal so that X-rays are incident on a specific crystal orientation, irradiate the single crystal with X-rays, record a diffraction spot by the single crystal on a photographic film, and analyze the diffraction spot. Then, the single crystal is evaluated. In these methods, it is necessary to adjust the angle of the single crystal so that a specific orientation of the single crystal becomes a predetermined direction with respect to the X-ray irradiation direction. For this reason, a holder with a crystal attachment angle correction mechanism called a goniometer head is used in the X-ray diffractometer.

X線の放射方向に対して試料結晶の特定結晶方位を所定
の方向に固定するためには、試料結晶をこのゴニオメー
タヘッドに取付けた後、X線回折写真を撮影し、この写
真を解析して結晶取付け角を所定の角度に調整する必要
がある。この作業を複数回繰り返すことにより、所定の
結晶方位方向にX線が入射するように単結晶の取付け角
を所定の角度に調整することができる。
In order to fix the specific crystal orientation of the sample crystal in a predetermined direction with respect to the X-ray radiation direction, after mounting the sample crystal on this goniometer head, an X-ray diffraction photograph was taken and this photograph was analyzed. It is necessary to adjust the crystal mounting angle to a predetermined angle. By repeating this operation a plurality of times, the attachment angle of the single crystal can be adjusted to a predetermined angle so that the X-rays are incident in the predetermined crystal orientation direction.

第2図は試料取付け角と入射X線との位置関係を示す模
式図である。
FIG. 2 is a schematic diagram showing the positional relationship between the sample mounting angle and the incident X-ray.

X線回折装置は相互に直交するX軸、Y軸及びZ軸から
なる3軸座標軸を有している。そして、X線回折装置内
に配設されたX線発生装置から放出されたX線は、図中
矢印で示す方向から試料結晶10に入射する。このX線入
射方向はX軸、Y軸及びZ軸に対して常に一定の角度で
ある。
The X-ray diffractometer has three-axis coordinate axes consisting of an X-axis, a Y-axis and a Z-axis which are orthogonal to each other. Then, the X-rays emitted from the X-ray generator provided in the X-ray diffractometer enter the sample crystal 10 from the direction shown by the arrow in the figure. This X-ray incident direction is always at a constant angle with respect to the X axis, the Y axis, and the Z axis.

試料結晶10を結晶取付け軸11の先端に固定してゴニオメ
ータヘッドに取付ける。この場合は、試料結晶10の特定
方位の方向は所定のX線入射方向とは一致していない。
一般に、X軸を中心として回転する方向における特定方
位方向の角度のずれをα角、Y軸を中心として回転する
方向における特定方位方向の角度のずれをβ角、Z軸を
中心として回転する方向における特定方位方向の角度の
ずれをD角という。
The sample crystal 10 is fixed to the tip of the crystal attachment shaft 11 and attached to the goniometer head. In this case, the direction of the specific orientation of the sample crystal 10 does not match the predetermined X-ray incident direction.
Generally, an angular deviation in a specific azimuth direction in the direction of rotation about the X axis is an α angle, an angular deviation in a particular azimuth direction in a direction of rotation about the Y axis is a β angle, and a direction of rotation about the Z axis is a direction. The deviation of the angle in the specific azimuth direction at is called D angle.

第3図は従来のゴニオメータヘッドを示す正面図であ
る。ゴニオメータヘッドのX・Y方向移動機構部12上に
はβ角調整機構部13が取付けられており、X・Y方向移
動機構部12はβ角調整機構部13をX軸方向及びY軸方向
に個別的に移動させることができる。このβ角調整機構
部13はX・Y方向移動機構部12上に固定された固定部13
aと、この固定部13aの上面湾曲面に面接触する下面湾曲
面を有する可動部13bとにより構成されている。可動部1
3bは駆動装置(図示せず)により固定部13aの湾曲面に
沿って摺動できるようになっている。これにより、可動
部13bは水平軸を中心として回動することができる。
FIG. 3 is a front view showing a conventional goniometer head. A β angle adjusting mechanism unit 13 is attached on the X / Y direction moving mechanism unit 12 of the goniometer head, and the X / Y direction moving mechanism unit 12 moves the β angle adjusting mechanism unit 13 in the X axis direction and the Y axis direction. Can be moved individually. The β angle adjusting mechanism section 13 is a fixed section 13 fixed on the X / Y direction moving mechanism section 12.
and a movable portion 13b having a lower curved surface that comes into surface contact with the upper curved surface of the fixed portion 13a. Moving part 1
3b can be slid along the curved surface of the fixed portion 13a by a driving device (not shown). As a result, the movable portion 13b can rotate about the horizontal axis.

このβ角調整機構部13上には、同様に固定部14aと可動
部14bとにより構成されたα角調整機構部14が設けられ
ている。この固定部14aはβ角調整機構部13の可動部13b
上に固定されている。そして、可動部14bは駆動装置
(図示せず)によりβ角調整機構部13の可動部13bの回
転軸と直交する方向を回転軸として固定部14aの湾曲面
に沿って摺動できるようになっている。
On the β angle adjusting mechanism section 13, an α angle adjusting mechanism section 14 which is similarly constituted by a fixed section 14a and a movable section 14b is provided. This fixed portion 14a is a movable portion 13b of the β angle adjusting mechanism portion 13.
It is fixed on. The movable portion 14b can be slid along the curved surface of the fixed portion 14a by a driving device (not shown) with the direction orthogonal to the rotation axis of the movable portion 13b of the β angle adjusting mechanism 13 as the rotation axis. ing.

また、このα角調整機構部14の可動部14b上には結晶取
付板15が設けられている。
A crystal mounting plate 15 is provided on the movable portion 14b of the α angle adjusting mechanism portion 14.

試料結晶は結晶取付部15に固定される。このとき、結晶
の特定方位方向は任意の方向であるので、α角調整機構
部14及びβ角調整機構部13によりα角及びβ角を調整す
ると共に、ゴニオメータヘッド全体を垂直軸の周りに回
転させることによりD角を調整する必要がある。このた
めには、結晶のX線回折写真を撮影してこれを解析し、
D角、α角及びβ角を少しずつ調整するという作業を繰
り返し行う必要がある。
The sample crystal is fixed to the crystal mounting portion 15. At this time, since the specific orientation direction of the crystal is an arbitrary direction, the α angle adjusting mechanism unit 14 and the β angle adjusting mechanism unit 13 adjust the α angle and the β angle, and the entire goniometer head is rotated around the vertical axis. Therefore, it is necessary to adjust the D angle. To do this, take an X-ray diffraction photograph of the crystal, analyze it,
It is necessary to repeat the work of adjusting the D angle, the α angle and the β angle little by little.

X線回折写真を解析する場合、試料結晶の特定方位方向
がX軸、Y軸及びZ軸のいずれの座標軸とも一致してい
ないときでも、いずれか一軸からの角度のずれを判断す
ることは容易である。しかし、二軸以上の軸からの角度
のずれを同時に判断することは極めて困難である。この
ため、一軸ずつ角度を調整する方法が最も効率が良い方
法である。一般には、ゴニオメータヘッドの構造上最も
広範囲に移動可能なD角を調整を最初に行い、次いでα
角及びβ角の調整を行っている。
When analyzing an X-ray diffraction photograph, it is easy to determine the angle deviation from any one of the X-axis, Y-axis, and Z-axis coordinate axes even if the specific orientation direction of the sample crystal does not match. Is. However, it is extremely difficult to determine the angle deviation from two or more axes at the same time. Therefore, the method of adjusting the angle for each axis is the most efficient method. Generally, the D angle, which is movable in the widest range in the structure of the goniometer head, is adjusted first, and then α
Angle and β angle are adjusted.

[発明が解決しようとする課題] しかしながら、上述の如く従来のゴニオメータヘッドは
α角及びβ角調整機構部14及び13がD角の調整機構部よ
り結晶に近い位置に配設されているため、D角を調整す
るとα角及びβ角調整機構部14及び13の各可動部14b及
び13bの回転軸も移動し、夫々X軸及びY軸から外れて
しまう。この状態でα角又はβ角のいずれか一方のみを
調整しようとしてα角調整機構部14又はβ角調整機構部
13を駆動すると、結晶字体はX軸を中心とする回転とY
軸を中心とする回転とを同時に行うこととなり、α角及
びβ角が双方共変化してしまう。このため、従来のゴニ
オメータヘッドにおいては、α角調節機構部14とβ角調
整機構部13との双方を同時に動かしながら調整する必要
があり、結晶の特定方位方向を所定の方向に一致させる
作業が極めて煩雑である。
[Problems to be Solved by the Invention] However, as described above, in the conventional goniometer head, the α-angle and β-angle adjusting mechanism parts 14 and 13 are arranged closer to the crystal than the D-angle adjusting mechanism part. When the D angle is adjusted, the rotating shafts of the movable parts 14b and 13b of the α angle and β angle adjusting mechanism parts 14 and 13 also move, and deviate from the X axis and the Y axis, respectively. In this state, trying to adjust only one of the α angle and β angle, the α angle adjusting mechanism unit 14 or the β angle adjusting mechanism unit
When 13 is driven, the crystal typeface rotates about the X axis and Y
Since the rotation about the axis is performed at the same time, both the α angle and the β angle change. Therefore, in the conventional goniometer head, it is necessary to perform adjustment while simultaneously moving both the α-angle adjusting mechanism unit 14 and the β-angle adjusting mechanism unit 13, and it is necessary to match the specific orientation direction of the crystal with the predetermined direction. It is extremely complicated.

本発明はかかる問題点に鑑みてなされたものであって、
第1、第2及び第3の方向を中心とした回転について、
夫々個別的に調整することが可能であり、試料結晶の特
定方位方向を所定の方向に調整することが容易であるゴ
ニオメータヘッドを提供することを目的とする。
The present invention has been made in view of such problems,
For rotations about the first, second and third directions,
It is an object of the present invention to provide a goniometer head that can be individually adjusted and that can easily adjust a specific azimuth direction of a sample crystal to a predetermined direction.

[課題を解決するための手段] 本発明に係るゴニオメータヘッドは、結晶の支持方位を
調整して特定の結晶方位にX線を入射させるX線回折用
ゴニオメータヘッドにおいて、前記結晶を支持する結晶
取付部と、この結晶取付部を通る第1の方向を中心軸と
して前記結晶取付部を回転させる第1の調整機構部と、
この第1の調整機構部を前記第1の方向に直交する第2
の方向を中心軸として回転させる第2の調整機構部と、
この第2の調整機構部を前記第1及び第2の方向に直交
する第3の方向を中心軸として回転させる第3の調整機
構部とを有することを特徴とする。
[Means for Solving the Problems] A goniometer head according to the present invention is a goniometer head for X-ray diffraction, which adjusts a supporting orientation of a crystal to make X-rays incident on a specific crystal orientation, and a crystal mounting for supporting the crystal. And a first adjusting mechanism part for rotating the crystal mounting part with the first direction passing through the crystal mounting part as a central axis.
This first adjustment mechanism part is arranged in a second direction orthogonal to the first direction.
A second adjusting mechanism portion that rotates about the direction of
It has a 3rd adjustment mechanism part which rotates this 2nd adjustment mechanism part on the 3rd direction orthogonal to the said 1st and 2nd direction as a central axis.

[作用] 本発明においては、先ず、結晶を支持する結晶取付部を
第1の調整機構部により前記結晶取付部を通る第1の方
向を中心として回転させる。これにより、第1の方向を
中心として回転する方向の角度(D角)を調整する。次
に、この第1の方向に直交する第2及び第3の方向を中
心として、夫々第2及び第3の調整機構部により夫々前
記第1及び第2の調整機構部を回転させる。これによ
り、第2及び第3の方向を中心として回転する方向の角
度(α角、β角)を調整する。
[Operation] In the present invention, first, the crystal mounting portion that supports the crystal is rotated about the first direction passing through the crystal mounting portion by the first adjusting mechanism portion. As a result, the angle (D angle) of the direction of rotation about the first direction is adjusted. Next, the second and third adjusting mechanism sections rotate the first and second adjusting mechanism sections, respectively, around the second and third directions orthogonal to the first direction. As a result, the angles (α angle, β angle) of the directions of rotation about the second and third directions are adjusted.

本発明においては、結晶取付部を通る第1の方向を中心
としてこの結晶取付部を回転させる第1の調整機構部に
前記結晶取付部が直接取付けられているので、D角の調
整を行っても、α及びβ角は変化することはない。この
ため、結晶の特定の方位にX線を入射させるために行う
支持方位の調整が容易になる。
In the present invention, since the crystal attachment portion is directly attached to the first adjusting mechanism portion for rotating the crystal attachment portion about the first direction passing through the crystal attachment portion, the D angle should be adjusted. However, the α and β angles do not change. For this reason, it becomes easy to adjust the support orientation for making X-rays incident on a specific orientation of the crystal.

[実施例] 次に、本発明の実施例について添付の図面を参照して説
明する。
[Embodiment] Next, an embodiment of the present invention will be described with reference to the accompanying drawings.

第1図(a)は本発明の実施例を示す左側面図、第1図
(b)は同じくその正面図である。
1 (a) is a left side view showing an embodiment of the present invention, and FIG. 1 (b) is a front view thereof.

本発明に係るゴニオメータヘッドの下部にはX・Y方向
移動機構部2が設けられており、このX・Y方向移動機
構部2上にはβ角調整機構部3が取付けられている。こ
のX・Y方向移動機構部2により、β角調整機構部3は
X線回折装置のX方向及びY方向の限定された範囲内を
移動できるようになっている。
An X / Y-direction moving mechanism unit 2 is provided below the goniometer head according to the present invention, and a β-angle adjusting mechanism unit 3 is mounted on the X / Y-direction moving mechanism unit 2. The X / Y direction moving mechanism unit 2 allows the β angle adjusting mechanism unit 3 to move within a limited range in the X direction and the Y direction of the X-ray diffraction device.

β角調整機構部3は凹状に湾曲した上面を有する固定部
3aと、凸状に湾曲した下面を有する移動部3bとにより構
成されており、固定部3a及び移動部3bは両湾曲面を面接
触させて配置されている。この可動部3bは駆動装置(図
示せず)により固定部3aの湾曲面に沿って摺動できるよ
うになっている。本実施例のゴニオメータヘッドは、こ
の湾曲面の中心軸がX線回折装置のY軸に平行となるよ
うにして、X線回折装置内に配設されている。
The β angle adjusting mechanism section 3 is a fixed section having a concavely curved upper surface.
3a and a moving portion 3b having a convexly curved lower surface, and the fixed portion 3a and the moving portion 3b are arranged with their curved surfaces in surface contact. The movable portion 3b can be slid along the curved surface of the fixed portion 3a by a driving device (not shown). The goniometer head of the present embodiment is arranged in the X-ray diffractometer so that the central axis of this curved surface is parallel to the Y-axis of the X-ray diffractometer.

β角調整機構部3上には、β角調整機構部3と同様に、
固定部4aと可動部4bとにより構成されたα角調整機構部
4が設けられている。この固定部4aはβ角調整機構部3
の可動部3b上に固定されており、可動部4bは駆動装置
(図示せず)により固定部4aの湾曲面に沿って摺動でき
るようになっている。そして、この湾曲面の中心軸はX
線回折装置のX軸と平行になっている。
On the β angle adjusting mechanism section 3, like the β angle adjusting mechanism section 3,
An α-angle adjusting mechanism section 4 including a fixed section 4a and a movable section 4b is provided. This fixing part 4a is a β angle adjusting mechanism part 3
The movable part 4b is fixed on the movable part 3b, and the movable part 4b can be slid along the curved surface of the fixed part 4a by a driving device (not shown). And the central axis of this curved surface is X
It is parallel to the X axis of the line diffractometer.

α角調整機構部4上にはD角調整機構部5が配設されて
いる。このD角調整機構部5は円板状の固定部5aと、同
じく円板状の回転部5bとが同軸上に配置されて相互に面
接触して構成されている。固定部5aはα角調整機構部4
の可動部4b上に固定されており、回転部5bはこの固定部
5a上を駆動装置(図示せず)によりその中心軸の周りに
回転できるようになっている。この回転部5bの回転軸は
α角調整機構部4の円弧面の中心軸と直交している。ま
た、この回転部5b上の中央部には結晶取付部6が配設さ
れている。
A D angle adjusting mechanism 5 is arranged on the α angle adjusting mechanism 4. The D-angle adjusting mechanism 5 is composed of a disk-shaped fixed part 5a and a disk-shaped rotating part 5b which are coaxially arranged and are in surface contact with each other. The fixed portion 5a is the α angle adjusting mechanism portion 4
Is fixed on the movable part 4b of the
A drive device (not shown) can rotate about 5a on its center axis. The rotation axis of the rotating portion 5b is orthogonal to the central axis of the arc surface of the α angle adjusting mechanism portion 4. A crystal attachment portion 6 is arranged in the center of the rotating portion 5b.

次に、上述の如く構成されたゴニオメータヘッドにより
試料結晶の特定方位方向を所定の方向に一致させ、所望
のX線回折写真を撮影する動作について説明する。
Next, a description will be given of the operation of aligning the specific azimuth direction of the sample crystal with a predetermined direction by the goniometer head configured as described above and taking a desired X-ray diffraction photograph.

先ず、結晶取付け軸を結晶取付部6に固定することによ
り、結晶取付け軸上に固着された試料結晶をゴニオメー
タヘッドに取付ける。次に、X・Y方向移動機構部2を
適宜駆動することにより、X線が試料結晶に適正に照射
されるように、試料結晶の位置を調整する。
First, by fixing the crystal attachment shaft to the crystal attachment portion 6, the sample crystal fixed on the crystal attachment shaft is attached to the goniometer head. Next, the position of the sample crystal is adjusted so that the X-ray is properly irradiated to the sample crystal by appropriately driving the X / Y direction moving mechanism unit 2.

次に、試料結晶にX線を照射してX線回折写真を撮影す
る。そして、この写真を所定の方法により解析してD角
のずれ角を求める。この結果に基づいてD角調整機構部
5を駆動して所望の角度だけ試料結晶を回転させる。そ
して、再度試料結晶のX線回折写真を撮影する。D角の
ずれがなくなるまでこの作業を繰り返す。
Next, the sample crystal is irradiated with X-rays and an X-ray diffraction photograph is taken. Then, this photograph is analyzed by a predetermined method to obtain the deviation angle of the D angle. Based on this result, the D angle adjusting mechanism section 5 is driven to rotate the sample crystal by a desired angle. Then, the X-ray diffraction photograph of the sample crystal is taken again. Repeat this work until the deviation of the D angle disappears.

次に、X線回折写真を解析してα角のずれ角を求める。
そして、この結果に基づいてα角調整機構部4を駆動制
御して試料結晶を所望の角度だけ回転させる。その後、
試料結晶のX線回折写真を撮影し、α角のずれ角を求め
る。α角のずれがなくなるまで、このα角の調整作業を
繰り返し行う。
Next, the X-ray diffraction photograph is analyzed to obtain the shift angle of the α angle.
Then, based on this result, the α-angle adjusting mechanism unit 4 is drive-controlled to rotate the sample crystal by a desired angle. afterwards,
An X-ray diffraction photograph of the sample crystal is taken and the shift angle of the α angle is obtained. This α-angle adjustment work is repeated until the α-angle shift is eliminated.

次いで、X線回折写真を解析してβ角のずれ角を求め
る。そして、この結果に基づいてβ角調整機構部3によ
り試料結晶を所望の角度だけ回転させる。その後、上述
のD角及びα角の調整方法と同様に、X線回折写真を撮
影し、β角のずれがなくなるまでこの作業を繰り返し行
う。このようにして、試料結晶の特定方位方向を所定の
方向とした所望のX線回折写真を得ることができる。
Then, the X-ray diffraction photograph is analyzed to determine the deviation angle of the β angle. Then, based on this result, the β-angle adjusting mechanism section 3 rotates the sample crystal by a desired angle. Then, similarly to the method of adjusting the D angle and the α angle described above, an X-ray diffraction photograph is taken, and this operation is repeated until the β angle shift is eliminated. In this way, it is possible to obtain a desired X-ray diffraction photograph with the specific orientation of the sample crystal as the predetermined direction.

次に、第1図(a)及び(b)に示す本実施例のゴニオ
メータヘッドを実際に製作し、その操作性を第3図に示
す従来例のゴニオメータヘッドと比較した結果について
説明する。
Next, the result of actually manufacturing the goniometer head of this embodiment shown in FIGS. 1A and 1B and comparing its operability with the conventional goniometer head shown in FIG. 3 will be described.

試料結晶としてCu単結晶を使用し、この単結晶を実施例
及び従来例のゴニオメータヘッドに取付けた。そして、
この単結晶の(100)、(110)、(111)のいずれか一
つの結晶面にX線が垂直に入射するようにD角、α角及
びβ角の調整を行い、プリセッション法によってCu単結
晶のX線回折写真の撮影を行った。そして、結晶の特定
方位方向とX線回折装置のX軸、Y軸及びZ軸とのずれ
角が0.1゜以下となるまでに必要としたX線回折写真の
枚数を調べた。実施例及び従来例に対し、この操作を夫
々10回ずつ繰り返し行い、必要としたX線回折写真の平
均枚数を算出した。この結果を下記第1表に示す。
A Cu single crystal was used as a sample crystal, and this single crystal was attached to the goniometer heads of Examples and Conventional Examples. And
The D angle, α angle, and β angle were adjusted so that the X-rays were vertically incident on any one of the (100), (110), and (111) crystal planes of this single crystal, and Cu was applied by the precession method. An X-ray diffraction photograph of the single crystal was taken. Then, the number of X-ray diffraction photographs required until the deviation angle between the specific azimuth direction of the crystal and the X-axis, Y-axis and Z-axis of the X-ray diffractometer was 0.1 ° or less was examined. This operation was repeated 10 times for each of the example and the conventional example, and the average number of required X-ray diffraction photographs was calculated. The results are shown in Table 1 below.

この第1表から明らかなように、D角の調整の際には本
実施例のゴニオメータヘッドは従来例と殆ど同じ枚数の
X線回折写真が必要であった。しかし、その後のα角及
びβ角の調整時に必要としたX線回折写真の枚数で比較
すると、実施例は従来例の約1/3の枚数であり、D角の
調整に必要とした枚数を合計した全体の写真の枚数で比
較しても、実施例は従来例の約2/3と少なかった。
As is clear from Table 1, the goniometer head of this embodiment required almost the same number of X-ray diffraction photographs as the conventional example when adjusting the D angle. However, in comparison with the number of X-ray diffraction photographs required at the time of adjusting the α angle and β angle thereafter, the example is about 1/3 the number of the conventional example, and the number required for adjusting the D angle is Even when compared with the total number of photographs, the number of examples was about two-thirds less than that of the conventional example.

[発明の効果] 以上説明したように本発明に係るゴニオメータヘッド
は、結晶取付部を通る第1の方向を中心軸として結晶を
回転させる第1の調整機構部と、前記第1の方向と直交
する第2の方向を中心軸としてこの第1の調整機構部を
回転させる第2の調整機構部と、前記第2の方向と直交
する第3の方向を中心軸としてこの第2の調整機構部を
回転させる第3の調整機構部とにより構成されているか
ら、X線回折装置のX軸及びY軸を中心として回転する
方向に対して結晶の特定方位の角度の調整を個別的に行
うことができる。このため、結晶取付け角の調整のため
のX線回折写真の解析が容易になると共に、調整のため
のX線回折写真の撮影回数が著しく減少する。従って、
X線回折による単結晶の解析が極めて短時間で終了する
という効果を奏する。
[Effects of the Invention] As described above, the goniometer head according to the present invention includes the first adjusting mechanism portion that rotates the crystal about the first direction passing through the crystal mounting portion as the central axis, and the first adjusting mechanism portion that is orthogonal to the first direction. A second adjusting mechanism part for rotating the first adjusting mechanism part with the second direction as a central axis, and a second adjusting mechanism part with a third direction orthogonal to the second direction as a central axis. And a third adjusting mechanism for rotating the X-ray diffraction device, so that the angle of a specific orientation of the crystal is individually adjusted with respect to the direction of rotation around the X-axis and the Y-axis of the X-ray diffractometer. You can Therefore, it becomes easy to analyze the X-ray diffraction photograph for adjusting the crystal attachment angle, and the number of times of taking the X-ray diffraction photograph for adjustment is significantly reduced. Therefore,
The single crystal analysis by X-ray diffraction is completed in an extremely short time.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

第1図(a)は本発明の実施例を示す左側面図、第1図
(b)は同じくその正面図、第2図は試料取付け角と入
射X線との位置関係を示す模式図、第3図は従来のゴニ
オメータヘッドを示す正面図である。 2,12;X・Y方向移動機構部、3,13;β角調整機構部、3a,
4a,5a,13a,14a;固定部、3b,4b,13b,14b;可動部、4,14;
α角調整機構部、5;D角調整機構部、5b;回転部、6,15;
結晶取付部、10;試料結晶、11;結晶取付け軸
FIG. 1 (a) is a left side view showing an embodiment of the present invention, FIG. 1 (b) is a front view of the same, and FIG. 2 is a schematic view showing a positional relationship between a sample mounting angle and an incident X-ray. FIG. 3 is a front view showing a conventional goniometer head. 2,12; X / Y direction moving mechanism section, 3,13; β angle adjusting mechanism section, 3a,
4a, 5a, 13a, 14a; fixed part, 3b, 4b, 13b, 14b; movable part, 4, 14;
α-angle adjusting mechanism section, 5; D-angle adjusting mechanism section, 5b; Rotating section, 6, 15;
Crystal mounting part, 10; Sample crystal, 11; Crystal mounting axis

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 青柳 守 東京都江東区木場1丁目5番1号 藤倉電 線株式会社内 (56)参考文献 特開 平1−260353(JP,A) 特開 昭61−153552(JP,A) 実公 昭43−6240(JP,Y1) ─────────────────────────────────────────────────── ─── Continuation of the front page (72) Inventor Mamoru Aoyagi 1-5-1 Kiba, Koto-ku, Tokyo Fujikura Electric Wire Co., Ltd. (56) Reference JP-A-1-260353 (JP, A) JP A 61-153552 (JP, A) Actual public Sho 43-6240 (JP, Y1)

Claims (1)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】結晶の支持方位を調整して特定の結晶方位
にX線を入射させるX線回折用ゴニオメータヘッドにお
いて、前記結晶を支持する結晶取付部と、この結晶取付
部を通る第1の方向を中心軸として前記結晶取付部を回
転させる第1の調整機構部と、この第1の調整機構部を
前記第1の方向に直交する第2の方向を中心軸として回
転させる第2の調整機構部と、この第2の調整機構部を
前記第1の方向及び第2の方向に直交する第3の方向を
中心軸として回転させる第3の調整機構部とを有するこ
とを特徴とするゴニオメータヘッド。
1. A goniometer head for X-ray diffraction, which adjusts a supporting orientation of a crystal to make X-rays incident on a specific crystal orientation, and a crystal mounting portion for supporting the crystal and a first mounting portion passing through the crystal mounting portion. A first adjusting mechanism part for rotating the crystal attachment part about a direction as a central axis, and a second adjusting part for rotating the first adjusting mechanism part about a second direction orthogonal to the first direction as a central axis. A goniometer, comprising: a mechanical section; and a third adjusting mechanism section that rotates the second adjusting mechanism section about a third direction orthogonal to the first direction and the second direction as a central axis. head.
JP1123289A 1989-05-17 1989-05-17 Goniometer head Expired - Lifetime JPH0786484B2 (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP1123289A JPH0786484B2 (en) 1989-05-17 1989-05-17 Goniometer head

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP1123289A JPH0786484B2 (en) 1989-05-17 1989-05-17 Goniometer head

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPH02302653A JPH02302653A (en) 1990-12-14
JPH0786484B2 true JPH0786484B2 (en) 1995-09-20

Family

ID=14856873

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP1123289A Expired - Lifetime JPH0786484B2 (en) 1989-05-17 1989-05-17 Goniometer head

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPH0786484B2 (en)

Families Citing this family (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
SG11202006227TA (en) * 2017-12-28 2020-07-29 Rigaku Denki Co Ltd X-ray inspection device

Also Published As

Publication number Publication date
JPH02302653A (en) 1990-12-14

Similar Documents

Publication Publication Date Title
TW453939B (en) Process and device for producing cylindrical single crystals and process for cutting semiconductor wafers
JPWO2009078415A1 (en) X-ray inspection apparatus and method
US3566112A (en) X-ray goniometers providing independent control of three rotary motions and one reciprocating motion
KR20200099597A (en) X-ray inspection device
JPH0786484B2 (en) Goniometer head
JP2003156457A (en) Automatic adjusting method of goniometer and related device related thereto
JP4226973B2 (en) X-ray crystal orientation measuring apparatus with crystal sample holding device
JP4045442B2 (en) Calibration method of rotation center axis in X-ray CT apparatus and X-ray CT apparatus
JP2666462B2 (en) Ring ECT sensitivity correction device
WO1993008462A1 (en) X-ray diffractometer
JP2001249086A (en) X-ray fluoroscopic apparatus
JP4447801B2 (en) X-ray topograph apparatus and X-ray topograph method
JPH05107204A (en) Method and apparatus for measuring x-ray diffraction
JPH0933456A (en) Method for measuring orientation of ingot of single crystal
JPH06122119A (en) Seed rod cutting method
JPH1137958A (en) Method for measuring angle of inclination of crystal axis
JP2004184122A (en) Center axis calibrating fixture in x-ray ct equipment and calibration method using the fixture
JP3635606B2 (en) Collimator setting device
JP2003149179A (en) Orientation measuring device for monocrystal
JPH112614A (en) X-ray measuring method of single crystal axial orientation and device
JP2999272B2 (en) Parallel beam X-ray diffractometer
JPH0949812A (en) Sample holder for x-ray diffractometer
JP3236688B2 (en) Small area X-ray diffractometer
JPH0227488Y2 (en)
JP2732311B2 (en) X-ray topography equipment