JPH0772324A - カラーフィルタの製造方法 - Google Patents
カラーフィルタの製造方法Info
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- JPH0772324A JPH0772324A JP21895493A JP21895493A JPH0772324A JP H0772324 A JPH0772324 A JP H0772324A JP 21895493 A JP21895493 A JP 21895493A JP 21895493 A JP21895493 A JP 21895493A JP H0772324 A JPH0772324 A JP H0772324A
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 カラーフィルタの製造方法に関し、製造効率
の向上，製造工程の合理化，品質の改善を目的とする。 【構成】 ブラックマスク３と複数色の多数の画素R,G,
B とを透光性基板２に形成したカラーフィルタにおい
て、基板２の表面に画素形成用樹脂液を滴下したとき、
樹脂液の拡がり易い方向，かつ，ブラックマスク３の外
側に突条21,22 を設ける。さらに、突条21,22 にはその
長さ方向に整列する画素R,G,B の配設ピッチに対応する
目盛り23を形成させる。TFT-LCD 用カラーフィルタにお
いて、TFT 基板の蓄積容量電極が対向する領域24内かつ
ブラックマスク３の透孔3a内に、画素色別記号を画素の
形成に先立って形成する。ブラックマスク３の縁部3b上
に樹脂パターン32を形成する。
の向上，製造工程の合理化，品質の改善を目的とする。 【構成】 ブラックマスク３と複数色の多数の画素R,G,
B とを透光性基板２に形成したカラーフィルタにおい
て、基板２の表面に画素形成用樹脂液を滴下したとき、
樹脂液の拡がり易い方向，かつ，ブラックマスク３の外
側に突条21,22 を設ける。さらに、突条21,22 にはその
長さ方向に整列する画素R,G,B の配設ピッチに対応する
目盛り23を形成させる。TFT-LCD 用カラーフィルタにお
いて、TFT 基板の蓄積容量電極が対向する領域24内かつ
ブラックマスク３の透孔3a内に、画素色別記号を画素の
形成に先立って形成する。ブラックマスク３の縁部3b上
に樹脂パターン32を形成する。
Description
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、液晶表示パネル（ＬＣ
Ｄ）等に使用されているカラーフィルタの製造方法、特
に、画素形成用樹脂層の品質を安定せしめ、画素形成用
樹脂層の外観検査を容易にし、ブラックマスク縁部のピ
ンホール対策に関する。
Ｄ）等に使用されているカラーフィルタの製造方法、特
に、画素形成用樹脂層の品質を安定せしめ、画素形成用
樹脂層の外観検査を容易にし、ブラックマスク縁部のピ
ンホール対策に関する。
【０００２】カラーフィルタを使用したＬＣＤは、パー
ソナルコンピュータ，ワードプロセッサ等に使用されて
おり、将来的には壁掛けテレビジョンにも利用されるよ
うになる等、その市場成長が期待されている。
ソナルコンピュータ，ワードプロセッサ等に使用されて
おり、将来的には壁掛けテレビジョンにも利用されるよ
うになる等、その市場成長が期待されている。
【０００３】
【従来の技術】ＬＣＤにおけるカラーフィルタの形成方
法には電着法，印刷法，染色法，顔料分散法等がある。
これらにおいて、微細パターンを高精度に形成しなけれ
ばならないカラーフィルタに対しては、フォトリソプロ
セスを利用した顔料分散法が主流となりつつある。
法には電着法，印刷法，染色法，顔料分散法等がある。
これらにおいて、微細パターンを高精度に形成しなけれ
ばならないカラーフィルタに対しては、フォトリソプロ
セスを利用した顔料分散法が主流となりつつある。
【０００４】図５はＬＣＤ用カラーフィルタの断面図、
図６は図５に示すカラーフィルタの主要製造工程の説明
図である。図５において、カラーフィルタ１は、ガラス
基板２の表面にブラックマスク３を形成し、マスク３の
透孔部を埋めるように透光性着色樹脂の画素Ｒ，Ｇ，Ｂ
を所定配列に形成し、画素Ｒ，Ｇ，Ｂによる凹凸を平坦
化するトップコート層４を形成し、その上に透明電極
（ＩＴＯ電極）５を形成してなる。
図６は図５に示すカラーフィルタの主要製造工程の説明
図である。図５において、カラーフィルタ１は、ガラス
基板２の表面にブラックマスク３を形成し、マスク３の
透孔部を埋めるように透光性着色樹脂の画素Ｒ，Ｇ，Ｂ
を所定配列に形成し、画素Ｒ，Ｇ，Ｂによる凹凸を平坦
化するトップコート層４を形成し、その上に透明電極
（ＩＴＯ電極）５を形成してなる。
【０００５】ブラックマスク３は、一般に基板２の表面
に被着させたクロム膜の不要部を、エッチングにて除去
し形成している。図６(イ) において、ガラス基板２の表
面には厚さ0.１μm 程度のクロム膜11を被着させたの
ち、その不要部をフォトエッチングによって除去し、図
６(ロ) に示す如く多数の透孔3aがあいたマスク３を形成
する。
に被着させたクロム膜の不要部を、エッチングにて除去
し形成している。図６(イ) において、ガラス基板２の表
面には厚さ0.１μm 程度のクロム膜11を被着させたの
ち、その不要部をフォトエッチングによって除去し、図
６(ロ) に示す如く多数の透孔3aがあいたマスク３を形成
する。
【０００６】次いで、図６(ハ) に示すようにマスク３を
覆う第１の着色樹脂層、例えば光硬化性赤色樹脂層12
は、一般にスピンコート法によって樹脂液を基板２に塗
付し90℃で30分程度加熱するプリベーク処理を施したの
ち、その上に酸素遮断膜13を被着する。樹脂層12の厚さ
は１〜２μm 程度であり、酸素遮断膜13の厚さは1000〜
2000Å程度である。
覆う第１の着色樹脂層、例えば光硬化性赤色樹脂層12
は、一般にスピンコート法によって樹脂液を基板２に塗
付し90℃で30分程度加熱するプリベーク処理を施したの
ち、その上に酸素遮断膜13を被着する。樹脂層12の厚さ
は１〜２μm 程度であり、酸素遮断膜13の厚さは1000〜
2000Å程度である。
【０００７】図６(ニ) において、露光マスク14を使用し
樹脂層12の所定部に露光せしめ硬化させたのち、非露光
部を除去すると図６(ホ) に示すように、基板２の表面に
赤色画素Ｒが形成される。画素Ｒは、200 ℃で１時間程
度加熱し、完全硬化（ポストベーク）させる。
樹脂層12の所定部に露光せしめ硬化させたのち、非露光
部を除去すると図６(ホ) に示すように、基板２の表面に
赤色画素Ｒが形成される。画素Ｒは、200 ℃で１時間程
度加熱し、完全硬化（ポストベーク）させる。
【０００８】次いで、図６(ヘ) に示すようにマスク３お
よび画素Ｒを覆う第２の着色樹脂層、例えば光硬化性緑
色樹脂層15を、樹脂層12と同様に基板２に被着せしめ、
その上に酸素遮断膜16を被着したのち、図６(ト) に示す
ような緑色画素Ｇを画素Ｒと同様に形成する。
よび画素Ｒを覆う第２の着色樹脂層、例えば光硬化性緑
色樹脂層15を、樹脂層12と同様に基板２に被着せしめ、
その上に酸素遮断膜16を被着したのち、図６(ト) に示す
ような緑色画素Ｇを画素Ｒと同様に形成する。
【０００９】次いで、図６(チ) に示す如く画素Ｒおよび
Ｇと同様に画素Ｂを形成したのち、図６(リ) に示す如
く、画素Ｒ，Ｇ，Ｂを覆うトップコート膜17を厚さ２μ
m 程度に被着する。
Ｇと同様に画素Ｂを形成したのち、図６(リ) に示す如
く、画素Ｒ，Ｇ，Ｂを覆うトップコート膜17を厚さ２μ
m 程度に被着する。
【００１０】しかるのち図６(ヌ) に示すように、トップ
コート膜17の不要部を除去してトップコート層４を形成
してから、図６(ル) に示す如く透明電極５を形成し、カ
ラーフィルタ１が完成する。一般にＩＴＯにてなる透明
電極５は、厚さ0.１μm 程度である。
コート膜17の不要部を除去してトップコート層４を形成
してから、図６(ル) に示す如く透明電極５を形成し、カ
ラーフィルタ１が完成する。一般にＩＴＯにてなる透明
電極５は、厚さ0.１μm 程度である。
【００１１】
【発明が解決しようとする課題】以上説明したように、
顔料分散型の光硬化性着色樹脂を使用し、フォトリソプ
ロセスを利用するカラーフィルタ１の製造方法は、ブラ
ックマスク３を形成したのち、第１，第２，第３の画素
Ｒ，Ｇ，Ｂは、樹脂液塗付，そのプリベーク，酸素遮断
液塗付，露光，現像，ポストベークを３回繰り返す必要
がある。
顔料分散型の光硬化性着色樹脂を使用し、フォトリソプ
ロセスを利用するカラーフィルタ１の製造方法は、ブラ
ックマスク３を形成したのち、第１，第２，第３の画素
Ｒ，Ｇ，Ｂは、樹脂液塗付，そのプリベーク，酸素遮断
液塗付，露光，現像，ポストベークを３回繰り返す必要
がある。
【００１２】図７は第２の着色樹脂層形成用樹脂液の拡
がり状況の説明図、図８は画素内ピンホールとブラック
マスク縁部のピンホールの説明図、図９は滴下樹脂液の
偏りによる不良樹脂層の説明図である。
がり状況の説明図、図８は画素内ピンホールとブラック
マスク縁部のピンホールの説明図、図９は滴下樹脂液の
偏りによる不良樹脂層の説明図である。
【００１３】図７において、第１の画素Ｒが既に形成さ
れた基板２に、第２の画素形成用樹脂液（緑色樹脂液）
15′を滴下すると、その樹脂液15′の拡がりには方向性
が生じる。同様に、第１，第２の画素Ｒ，Ｇが既に形成
された基板２に第３の画素形成用樹脂液（青色樹脂液）
を滴下すると、その樹脂液の拡がりも樹脂液15′と同様
な方向性が生じる。
れた基板２に、第２の画素形成用樹脂液（緑色樹脂液）
15′を滴下すると、その樹脂液15′の拡がりには方向性
が生じる。同様に、第１，第２の画素Ｒ，Ｇが既に形成
された基板２に第３の画素形成用樹脂液（青色樹脂液）
を滴下すると、その樹脂液の拡がりも樹脂液15′と同様
な方向性が生じる。
【００１４】かかる樹脂液15′等の拡がりの方向性は、
画素Ｒ，Ｇ，Ｂの形状および配列方式によっても異なる
が、例えば画素Ｒ，Ｇ，Ｂの縦方向（図７内の矢印方
向）ピッチが 330μm,横方向ピッチが 110μm であり、
縦長形状の画素Ｒを形成したのち滴下した青色樹脂液1
5′は、画素Ｒの長手方向に拡がり（流れ）易くなる。
画素Ｒ，Ｇ，Ｂの形状および配列方式によっても異なる
が、例えば画素Ｒ，Ｇ，Ｂの縦方向（図７内の矢印方
向）ピッチが 330μm,横方向ピッチが 110μm であり、
縦長形状の画素Ｒを形成したのち滴下した青色樹脂液1
5′は、画素Ｒの長手方向に拡がり（流れ）易くなる。
【００１５】そこで、ガラス基板１をスピンさせて樹脂
層15を形成しようとすると、樹脂液15′の偏り分布によ
って、図９(イ) のように基板２の表面が樹脂層15によっ
て確実に覆われないようになったり、図９(ロ) のように
一般に大円と呼ばれる縞模様18ができ易いため、必要以
上に大量の樹脂液を使用したり、樹脂層15を形成し直さ
ねばならないという問題点があった。
層15を形成しようとすると、樹脂液15′の偏り分布によ
って、図９(イ) のように基板２の表面が樹脂層15によっ
て確実に覆われないようになったり、図９(ロ) のように
一般に大円と呼ばれる縞模様18ができ易いため、必要以
上に大量の樹脂液を使用したり、樹脂層15を形成し直さ
ねばならないという問題点があった。
【００１６】さらに、樹脂層12,15 等の画素形成用樹脂
層にピクセル欠陥 (被着した塵埃等の異物やピンホー
ル) ができたり、ブラックマスク３にピンホールができ
ることもある。
層にピクセル欠陥 (被着した塵埃等の異物やピンホー
ル) ができたり、ブラックマスク３にピンホールができ
ることもある。
【００１７】画素形成用樹脂層のピクセル欠陥がその所
要部分（画素形成領域）に位置し、例えば図８に示すよ
うに画素Ｒ（またはＧまたはＢ）内のピクセル欠陥 (ピ
ンホール)19 は、その画素Ｒの色調を損なうようなる。
しかし、従来技術において画素Ｒ形成前に、ピクセル欠
陥19の位置が画素形成領域かどうかの判断が極めて困難
であるため、従来はピクセル欠陥が発見された樹脂層
は、その欠陥が画素形成領域外であっても除去してい
た。
要部分（画素形成領域）に位置し、例えば図８に示すよ
うに画素Ｒ（またはＧまたはＢ）内のピクセル欠陥 (ピ
ンホール)19 は、その画素Ｒの色調を損なうようなる。
しかし、従来技術において画素Ｒ形成前に、ピクセル欠
陥19の位置が画素形成領域かどうかの判断が極めて困難
であるため、従来はピクセル欠陥が発見された樹脂層
は、その欠陥が画素形成領域外であっても除去してい
た。
【００１８】また、ブラックマスク３のピンホールは、
外縁部（一番外側画素の外）3bのピンホールと画素形成
領域の桟部（画素間部分）3cのピンホールに別けて、そ
の実害 (表示品質の低下) の有無が考慮される。即ち、
幅が数十μm である桟部3cでは画素Ｒ，Ｇ，Ｂの一部が
重るようになるため、画素Ｒ，Ｇ，Ｂが重ならない部位
にできて実害を伴うピンホールは確率的に極めて稀であ
り無視できる反面、一般に幅が数mmである縁部3bにでき
たピンホール20は、縁部3bと画素Ｒ，Ｇ，Ｂとの重なり
が僅かしかないため、その殆どが実害をもたらすことに
なる。
外縁部（一番外側画素の外）3bのピンホールと画素形成
領域の桟部（画素間部分）3cのピンホールに別けて、そ
の実害 (表示品質の低下) の有無が考慮される。即ち、
幅が数十μm である桟部3cでは画素Ｒ，Ｇ，Ｂの一部が
重るようになるため、画素Ｒ，Ｇ，Ｂが重ならない部位
にできて実害を伴うピンホールは確率的に極めて稀であ
り無視できる反面、一般に幅が数mmである縁部3bにでき
たピンホール20は、縁部3bと画素Ｒ，Ｇ，Ｂとの重なり
が僅かしかないため、その殆どが実害をもたらすことに
なる。
【００１９】従って、縁部3bにピンホール20のできたブ
ラックマスク３は、剥がして形成し直したり、そのまま
使用して表示品質が犠牲になるという問題点があった。
ラックマスク３は、剥がして形成し直したり、そのまま
使用して表示品質が犠牲になるという問題点があった。
【００２０】
【課題を解決するための手段】本発明の第１の目的は、
滴下した樹脂液の拡がりを拡がり易い方向に抑制するこ
とで、従来よりも少量の樹脂液で画素形成用樹脂層を均
一化し、樹脂層の形成し直しをなくすことである。
滴下した樹脂液の拡がりを拡がり易い方向に抑制するこ
とで、従来よりも少量の樹脂液で画素形成用樹脂層を均
一化し、樹脂層の形成し直しをなくすことである。
【００２１】本発明の第２の目的は、樹脂層に生じたピ
ンホールが実害となるかどうかの判断を容易ならしめる
ことである。本発明の第３の目的は、ブラックマスク３
の縁部３b にピンホールができてもその実害をなくすこ
とである。
ンホールが実害となるかどうかの判断を容易ならしめる
ことである。本発明の第３の目的は、ブラックマスク３
の縁部３b にピンホールができてもその実害をなくすこ
とである。
【００２２】図１は本発明方法の基本構成の説明図であ
る。図１(イ) において、多数の着色画素を形成するガラ
ス基板２の表面には、多数の画素のそれぞれに対応する
透孔３ａを設けたブラックマスク３を形成し、ブラック
マスク３の中心部に画素形成用樹脂液を滴下したとき該
樹脂が拡がり易い方向、かつ、ブラックマスク３の外側
に、突条21と22を形成する。
る。図１(イ) において、多数の着色画素を形成するガラ
ス基板２の表面には、多数の画素のそれぞれに対応する
透孔３ａを設けたブラックマスク３を形成し、ブラック
マスク３の中心部に画素形成用樹脂液を滴下したとき該
樹脂が拡がり易い方向、かつ、ブラックマスク３の外側
に、突条21と22を形成する。
【００２３】さらに突条21と22は、その長さ方向に整列
する画素（透孔３a)に対応する目盛り線23を形成する。
ガラス基板２を使用して形成したカラーフィルタが、Ｔ
ＦＴ(Thin Film Transistor)を用いたＬＣＤ（ＴＦＴ−
ＬＣＤ）用であるとき、図中に一点鎖線で示すＴＦＴ基
板の蓄積容量電極の対向領域24内かつ透孔３a 内に、画
素の色別記号例えばｒ，ｇ，ｂのような文字（図３参
照）を、好ましくはブラックマスク３形成用の膜からブ
ラックマスク３と同時にパターン形成する。かかる色別
記号ｒ，ｇ，ｂは、目盛り線23と併設させてもよい。
する画素（透孔３a)に対応する目盛り線23を形成する。
ガラス基板２を使用して形成したカラーフィルタが、Ｔ
ＦＴ(Thin Film Transistor)を用いたＬＣＤ（ＴＦＴ−
ＬＣＤ）用であるとき、図中に一点鎖線で示すＴＦＴ基
板の蓄積容量電極の対向領域24内かつ透孔３a 内に、画
素の色別記号例えばｒ，ｇ，ｂのような文字（図３参
照）を、好ましくはブラックマスク３形成用の膜からブ
ラックマスク３と同時にパターン形成する。かかる色別
記号ｒ，ｇ，ｂは、目盛り線23と併設させてもよい。
【００２４】図１(ロ) において、カラーフルタ31はガラ
ス基板２の表面にブラックマスク３を形成したのち、マ
スク３の透孔を埋めるように多数の画素Ｒ，Ｇ，Ｂと、
マスク３の縁部３ｂに積層した樹脂パターン32とを形成
し、しかるのちトップコート膜４を形成してなる。
ス基板２の表面にブラックマスク３を形成したのち、マ
スク３の透孔を埋めるように多数の画素Ｒ，Ｇ，Ｂと、
マスク３の縁部３ｂに積層した樹脂パターン32とを形成
し、しかるのちトップコート膜４を形成してなる。
【００２５】樹脂パターン32は、画素ＲまたはＧまたは
Ｂを形成する樹脂層から画素ＲまたはＧまたはＢと同時
に、好ましくは画素Ｂ形成用樹脂層から画素Ｂと同時に
形成する。
Ｂを形成する樹脂層から画素ＲまたはＧまたはＢと同時
に、好ましくは画素Ｂ形成用樹脂層から画素Ｂと同時に
形成する。
【００２６】
【作用】前記手段において突条21と22は、滴下した樹脂
液が突条21と22の外に拡がらないように抑止する。従っ
て、基板２を回転させる樹脂液のスピンコートにおい
て、形成された樹脂層は従来より少ない樹脂液で均一化
し、従来技術の問題点であった液不足部が解消し、大円
が形成されないようになる。
液が突条21と22の外に拡がらないように抑止する。従っ
て、基板２を回転させる樹脂液のスピンコートにおい
て、形成された樹脂層は従来より少ない樹脂液で均一化
し、従来技術の問題点であった液不足部が解消し、大円
が形成されないようになる。
【００２７】前記手段において目盛り線23と色別記号
ｒ，ｇ，ｂは、画素形成用樹脂層にピクセル欠陥が形成
されたとき、その欠陥が何色画素領域にあるかを鑑別可
能にする。従って、例えば赤色画素用樹脂層に形成され
たピクセル欠陥は、目盛り線23または色別記号ｒ，ｇ，
ｂによってその位置を認識し、画素Ｒ領域に対応すれば
樹脂層の塗付し直しを必要とするが、ピクセル欠陥が画
素Ｒ領域外であればその樹脂層は塗付し直すことなく利
用する。
ｒ，ｇ，ｂは、画素形成用樹脂層にピクセル欠陥が形成
されたとき、その欠陥が何色画素領域にあるかを鑑別可
能にする。従って、例えば赤色画素用樹脂層に形成され
たピクセル欠陥は、目盛り線23または色別記号ｒ，ｇ，
ｂによってその位置を認識し、画素Ｒ領域に対応すれば
樹脂層の塗付し直しを必要とするが、ピクセル欠陥が画
素Ｒ領域外であればその樹脂層は塗付し直すことなく利
用する。
【００２８】前記手段において樹脂パターン32は、図１
(ロ) に示すようにブラックマスク縁部３ｂのピンホール
20を覆うようになる。従って、ピンホール20の透過光の
一部は樹脂パターン32に吸収されるようになり、例えば
ピンホール20の直径が１５μm であり, 樹脂パターン32
を画素Ｂと同じ樹脂層より形成したとき、ピンホール透
過光の透過率は10％程度になるため、ピンホール20の実
害は無視できるようになる。
(ロ) に示すようにブラックマスク縁部３ｂのピンホール
20を覆うようになる。従って、ピンホール20の透過光の
一部は樹脂パターン32に吸収されるようになり、例えば
ピンホール20の直径が１５μm であり, 樹脂パターン32
を画素Ｂと同じ樹脂層より形成したとき、ピンホール透
過光の透過率は10％程度になるため、ピンホール20の実
害は無視できるようになる。
【００２９】
【実施例】以下に、本発明方法の基本構成の説明図であ
る前出の図１と、従来の主要製造工程を示す前出の図６
および、本発明方法の実施例に係わる図２，図３，図４
を用いて、本発明方法の実施例を説明する。
る前出の図１と、従来の主要製造工程を示す前出の図６
および、本発明方法の実施例に係わる図２，図３，図４
を用いて、本発明方法の実施例を説明する。
【００３０】図２は本発明方法による突条が樹脂液の偏
った拡がりを抑制することの説明図、図３はＴＦＴ基板
の蓄積容量電極に対向する色別記号の説明図、図４は画
素形成用樹脂層のピクセル欠陥の説明図である。
った拡がりを抑制することの説明図、図３はＴＦＴ基板
の蓄積容量電極に対向する色別記号の説明図、図４は画
素形成用樹脂層のピクセル欠陥の説明図である。
【００３１】本発明方法の第１の実施例は、従来の製造
工程に突条21,22 の製造工程を追加したものである。突
条21,22 は、画素Ｒ，Ｇ，Ｂが形成されてないことによ
って、樹脂液の拡がりに偏りが生じない第１の樹脂層12
を露光→現像し、樹脂層12から画素Ｒと同時に形成す
る。
工程に突条21,22 の製造工程を追加したものである。突
条21,22 は、画素Ｒ，Ｇ，Ｂが形成されてないことによ
って、樹脂液の拡がりに偏りが生じない第１の樹脂層12
を露光→現像し、樹脂層12から画素Ｒと同時に形成す
る。
【００３２】画素Ｒと突条21,22 が形成された基板２は
図２に示すように、第２の樹脂層15の形成のためブラッ
クマスク３の中心部に樹脂液15″を滴下すると、その樹
脂液15″の拡がりは、その拡がり易い方向（画素Ｒの長
手方向）に設けた突条21,22によって、拡がり易い方向
の拡がりが抑制される。そのため、従来の樹脂液15′よ
りもブラックマスク３上に留まる率が高く、かつ、拡が
り難い方向（図中矢印に直角方向）に樹脂液15′よりも
拡がるようになる。
図２に示すように、第２の樹脂層15の形成のためブラッ
クマスク３の中心部に樹脂液15″を滴下すると、その樹
脂液15″の拡がりは、その拡がり易い方向（画素Ｒの長
手方向）に設けた突条21,22によって、拡がり易い方向
の拡がりが抑制される。そのため、従来の樹脂液15′よ
りもブラックマスク３上に留まる率が高く、かつ、拡が
り難い方向（図中矢印に直角方向）に樹脂液15′よりも
拡がるようになる。
【００３３】従って、基板２を回転させることによって
樹脂液15″より形成した樹脂層15は、図９に示す塗付さ
れない部分や大円模様18が形成されないようになり、か
つ、完全な樹脂層15を形成するのに必要な樹脂液15″の
量は、樹脂液15′のそれよりより少なくて済む。
樹脂液15″より形成した樹脂層15は、図９に示す塗付さ
れない部分や大円模様18が形成されないようになり、か
つ、完全な樹脂層15を形成するのに必要な樹脂液15″の
量は、樹脂液15′のそれよりより少なくて済む。
【００３４】本発明方法の第２の実施例は、突条21,22
の長さ方向に整列する透孔３a に対応する目盛り線23を
突条21,22 に形成することであり、そのことによって、
図４に示す如く樹脂層12に発生したピクセル欠陥19は、
樹脂層12を通して目盛り線23を観察し、欠陥19が画素
Ｒ，Ｇ，Ｂのどの領域に対応するかが容易に判別可能に
なる。
の長さ方向に整列する透孔３a に対応する目盛り線23を
突条21,22 に形成することであり、そのことによって、
図４に示す如く樹脂層12に発生したピクセル欠陥19は、
樹脂層12を通して目盛り線23を観察し、欠陥19が画素
Ｒ，Ｇ，Ｂのどの領域に対応するかが容易に判別可能に
なる。
【００３５】従って、画素Ｒを形成する樹脂層12におい
て、ピクセル欠陥19が画素Ｒの形成領域であれば形成し
直す必要があるが、ピクセル欠陥19が画素Ｒ領域外であ
れば画素Ｒの形成時に除去されるため、形成し直すこと
なく使用することになる。
て、ピクセル欠陥19が画素Ｒの形成領域であれば形成し
直す必要があるが、ピクセル欠陥19が画素Ｒ領域外であ
れば画素Ｒの形成時に除去されるため、形成し直すこと
なく使用することになる。
【００３６】突条21,22 の目盛り線23を利用し、ピクセ
ル欠陥19が形成された樹脂層12を形成し直すかどうかの
かかる判別は、画素Ｇを形成するための樹脂層15およ
び、画素Ｂを形成するための樹脂層についても適用され
るようになる。
ル欠陥19が形成された樹脂層12を形成し直すかどうかの
かかる判別は、画素Ｇを形成するための樹脂層15およ
び、画素Ｂを形成するための樹脂層についても適用され
るようになる。
【００３７】本発明方法の第３の実施例は、ＴＦＴ−Ｌ
ＣＤ用カラーフィルタに関するものであり、多数のＴＦ
Ｔを形成したＴＦＴ基板には、画素Ｒ，Ｇ，Ｂを横切る
ような蓄積容量電極が形成され、その蓄積容量領域が不
透明であることを利用し、蓄積容量電極の対向領域24
内, かつ，ブラックマスク３の透孔３a 内に、ｒ，ｇ，
ｂのような画素色別記号を形成すれば、図４に示す如く
樹脂層12に発生したピクセル欠陥19は、樹脂層12を通し
て色別記号ｒ，ｇ，ｂを観察し、欠陥19が画素Ｒ，Ｇ，
Ｂのどの領域に対応するかが判別可能になる。
ＣＤ用カラーフィルタに関するものであり、多数のＴＦ
Ｔを形成したＴＦＴ基板には、画素Ｒ，Ｇ，Ｂを横切る
ような蓄積容量電極が形成され、その蓄積容量領域が不
透明であることを利用し、蓄積容量電極の対向領域24
内, かつ，ブラックマスク３の透孔３a 内に、ｒ，ｇ，
ｂのような画素色別記号を形成すれば、図４に示す如く
樹脂層12に発生したピクセル欠陥19は、樹脂層12を通し
て色別記号ｒ，ｇ，ｂを観察し、欠陥19が画素Ｒ，Ｇ，
Ｂのどの領域に対応するかが判別可能になる。
【００３８】従って、ピクセル欠陥19が形成された画素
Ｒ形成用樹脂層12において、形成し直しが必要かどうか
の判別が色別記号ｒ，ｇ，ｂによって可能となり、かか
る判別は、画素Ｇを形成するための樹脂層15および、画
素Ｂを形成するための樹脂層についても適用されるよう
になる。
Ｒ形成用樹脂層12において、形成し直しが必要かどうか
の判別が色別記号ｒ，ｇ，ｂによって可能となり、かか
る判別は、画素Ｇを形成するための樹脂層15および、画
素Ｂを形成するための樹脂層についても適用されるよう
になる。
【００３９】本発明方法において色別記号は前記ｒ，
ｇ，ｂに限定されるものでなく、例えば画素Ｒに対応し
て●を，画素Ｇに対応して●●を，画素Ｂに対応して●
●●の如く、適当な文字や記号が使用可能である。そし
て、一般に蓄積容量電極の幅は30μm 程度であるため色
別記号の高さは20μm 程度以下とし、ＬＣＤとして組み
立てたとき基板２とＴＦＴ基板とが多少ずれるようなこ
とがあっても、色別記号が蓄積容量電極の実際の対向領
域24から外れないようにすることが好ましい。
ｇ，ｂに限定されるものでなく、例えば画素Ｒに対応し
て●を，画素Ｇに対応して●●を，画素Ｂに対応して●
●●の如く、適当な文字や記号が使用可能である。そし
て、一般に蓄積容量電極の幅は30μm 程度であるため色
別記号の高さは20μm 程度以下とし、ＬＣＤとして組み
立てたとき基板２とＴＦＴ基板とが多少ずれるようなこ
とがあっても、色別記号が蓄積容量電極の実際の対向領
域24から外れないようにすることが好ましい。
【００４０】また、好ましい色別記号はブラックマスク
３を形成するクロム膜11から、ブラックマスク３と同時
に形成することである。本発明方法の第４の実施例は、
ブラックマスク縁部３b のピンホール対策であり、ガラ
ス基板２の表面にブラックマスク３を形成したのちその
縁部３b に樹脂パターン32を積層形成せしめ、縁部３b
に形成されたピンホール20の光透過率を抑制する方法で
ある。
３を形成するクロム膜11から、ブラックマスク３と同時
に形成することである。本発明方法の第４の実施例は、
ブラックマスク縁部３b のピンホール対策であり、ガラ
ス基板２の表面にブラックマスク３を形成したのちその
縁部３b に樹脂パターン32を積層形成せしめ、縁部３b
に形成されたピンホール20の光透過率を抑制する方法で
ある。
【００４１】樹脂パターン32の簡易な形成方法として
は、画素ＲまたはＧまたはＢを形成する樹脂層を利用
し、画素ＲまたはＧまたはＢと同時に形成することであ
り、好ましくは画素ＲおよびＧより光透過率が小さい画
素Ｂと同時形成させることである。因みに、ピンホール
20の直径が１５μm であるとき、画素Ｒ形成用樹脂層12
の光透過率は15％程度、画素Ｇ形成用樹脂層15の光透過
率が35％程度であるのに対し、画素Ｂ形成用樹脂層の光
透過率は10％程度である。
は、画素ＲまたはＧまたはＢを形成する樹脂層を利用
し、画素ＲまたはＧまたはＢと同時に形成することであ
り、好ましくは画素ＲおよびＧより光透過率が小さい画
素Ｂと同時形成させることである。因みに、ピンホール
20の直径が１５μm であるとき、画素Ｒ形成用樹脂層12
の光透過率は15％程度、画素Ｇ形成用樹脂層15の光透過
率が35％程度であるのに対し、画素Ｂ形成用樹脂層の光
透過率は10％程度である。
【００４２】
【発明の効果】以上説明したように本発明方法によれ
ば、従来方法より少ない樹脂液で均一を画素形成用樹脂
層が形成可能となり、樹脂層にピクセル欠陥が形成され
ても該欠陥の位置によって使用可能なものは使用するよ
うにし、さらに、ブラックマスク縁部のピンホールに対
し光透過率を小さくして殆ど影響ないようにした効果が
ある。
ば、従来方法より少ない樹脂液で均一を画素形成用樹脂
層が形成可能となり、樹脂層にピクセル欠陥が形成され
ても該欠陥の位置によって使用可能なものは使用するよ
うにし、さらに、ブラックマスク縁部のピンホールに対
し光透過率を小さくして殆ど影響ないようにした効果が
ある。
【図１】 本発明方法の基本構成の説明図
【図２】 本発明方法による突条が樹脂液の偏った拡が
りを抑制することの説明図
りを抑制することの説明図
【図３】 ＴＦＴ基板の蓄積容量電極に対向する色別記
号の説明図
号の説明図
【図４】 画素形成用樹脂層のピクセル欠陥の説明図
【図５】 ＬＣＤ用カラーフィルタの断面図
【図６】 図５に示すカラーフィルタの主要製造工程の
説明図
説明図
【図７】 第２の着色樹脂層形成用樹脂液の拡がり状況
の説明図
の説明図
【図８】 画素内ピンホールとブラックマスク縁部のピ
ンホールの説明図
ンホールの説明図
【図９】 滴下樹脂液の偏りによる不良樹脂層の説明図
２はガラス基板 ３はブラックマスク ３ａはブラックマスクの透孔 ３ｂはブラックマスクの縁部 ３ｃはブラックマスクの桟部 11はブラックマスク形成用の膜 12,15 は画素形成用樹脂層 15″は画素形成用樹脂液 21,22 は樹脂液の拡がり抑制用の突条 23は目盛り線 24はＴＦＴ基板の蓄積容量電極が対向する領域 32は樹脂パターン Ｒ，Ｇ，Ｂは画素 ｒ，ｇ，ｂは色別記号
Claims (7)
- 【請求項１】 画素間遮光用ブラックマスクと複数色の
透光性着色樹脂にてなる多数の画素とを透光性基板に形
成したカラーフィルタにおいて、 該ブラックマスク(3) を形成した該基板(2) の表面に該
画素(R,G,B) を形成するための樹脂液 (15″) を滴下し
たとき、その樹脂液の拡がり易い方向，かつ，該ブラッ
クマスクの外側に、該樹脂液の拡がりを抑制する突条(2
1,22) を設けること、 を特徴とするカラーフィルタの製造方法。 - 【請求項２】 請求項１記載のカラーフィルタの製造方
法において、 最初の前記画素(R) を形成するための樹脂層(12)より、
該最初の画素と同時に前記突条(21,22) を形成させるこ
と、 を特徴とするカラーフィルタの製造方法。 - 【請求項３】 請求項１記載のカラーフィルタの製造方
法において、 前記突条(21,22) にはその長さ方向に整列する前記画素
(R,G,B) の配設ピッチに対応する目盛り(23)を形成せし
めること、 を特徴とするカラーフィルタの製造方法。 - 【請求項４】 画素間遮光用ブラックマスク(3) と複数
色の透光性着色樹脂にてなる多数の画素(R,G,B) とを透
光性基板(2) に形成したカラーフィルタがＴＦＴを使用
した液晶表示パネルに使用するものであるとき、該ブラ
ックマスクの該画素形成用透孔(3a)内，かつ，該ＴＦＴ
を形成したＴＦＴ基板の蓄積容量電極が対向する領域(2
4)内に、該画素の色別記号(r,g,b) を該画素の形成に先
立って形成すること、 を特徴とするカラーフィルタの製造方法。 - 【請求項５】 請求項４記載のカラーフィルタの製造方
法において、 前記色別記号(r,g,b) を前記ブラックマスク(3) と同時
に該ブラックマスク形成用の膜(11)から形成すること、 を特徴とするカラーフィルタの製造方法。 - 【請求項６】 画素間遮光用ブラックマスクと複数色の
透光性着色樹脂にてなる多数の画素とを透光性基板に形
成したカラーフィルタにおいて、 該画素(R,G,B) を形成する樹脂層を該基板(2) に被着し
たのち、該画素と該ブラックマスク(3) の縁部(3b)上の
樹脂パターン(32)とを該樹脂層から形成すること、 を特徴とするカラーフィルタの製造方法。 - 【請求項７】 請求項６記載のカラーフィルタの製造方
法において、 前記画素(R,G,B) が赤，緑，青の３色であり、該青色画
素(B) を形成する樹脂層より前記樹脂パターン(32)を形
成すること、 を特徴とするカラーフィルタの製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP21895493A JPH0772324A (ja) | 1993-09-03 | 1993-09-03 | カラーフィルタの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP21895493A JPH0772324A (ja) | 1993-09-03 | 1993-09-03 | カラーフィルタの製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0772324A true JPH0772324A (ja) | 1995-03-17 |
Family
ID=16727946
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP21895493A Withdrawn JPH0772324A (ja) | 1993-09-03 | 1993-09-03 | カラーフィルタの製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0772324A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100476918B1 (ko) * | 2001-06-25 | 2005-03-18 | 세이코 엡슨 가부시키가이샤 | 컬러 필터 및 그 제조 방법, 컬러 필터용 액적 재료 착탄정밀도 시험 기판 및 그 제조 방법, 발광용 기판 및 그제조 방법, 발광용 기판용 액적 재료 착탄 정밀도 시험기판 및 그 제조 방법, 액적 재료 착탄 정밀도의 측정방법, 전기 광학 장치, 전자 기기, 성막 방법과 성막 장치 |
| JP2012253036A (ja) * | 2002-01-15 | 2012-12-20 | Seiko Epson Corp | 表示装置および電子機器 |
-
1993
- 1993-09-03 JP JP21895493A patent/JPH0772324A/ja not_active Withdrawn
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100476918B1 (ko) * | 2001-06-25 | 2005-03-18 | 세이코 엡슨 가부시키가이샤 | 컬러 필터 및 그 제조 방법, 컬러 필터용 액적 재료 착탄정밀도 시험 기판 및 그 제조 방법, 발광용 기판 및 그제조 방법, 발광용 기판용 액적 재료 착탄 정밀도 시험기판 및 그 제조 방법, 액적 재료 착탄 정밀도의 측정방법, 전기 광학 장치, 전자 기기, 성막 방법과 성막 장치 |
| JP2012253036A (ja) * | 2002-01-15 | 2012-12-20 | Seiko Epson Corp | 表示装置および電子機器 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A300 | Withdrawal of application because of no request for examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A300 Effective date: 20001107 |