JPH0770460B2 - Projection exposure device - Google Patents

Projection exposure device

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JPH0770460B2
JPH0770460B2 JP62092094A JP9209487A JPH0770460B2 JP H0770460 B2 JPH0770460 B2 JP H0770460B2 JP 62092094 A JP62092094 A JP 62092094A JP 9209487 A JP9209487 A JP 9209487A JP H0770460 B2 JPH0770460 B2 JP H0770460B2
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exposure apparatus
laser
light
main body
vibration
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一明 鈴木
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Nikon Corp
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    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/70Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
    • G03F7/708Construction of apparatus, e.g. environment aspects, hygiene aspects or materials
    • G03F7/70858Environment aspects, e.g. pressure of beam-path gas, temperature
    • G03F7/709Vibration, e.g. vibration detection, compensation, suppression or isolation

Description

【発明の詳細な説明】 [産業上の利用分野] 本発明はマスク上の回路パターンを基板上に焼き付ける
投影露光装置に関し、特にレーザ光を露光光として用い
た投影露光装置のレーザ光源と露光装置本体との光学的
接続部の改良に関するものである。
Description: TECHNICAL FIELD The present invention relates to a projection exposure apparatus for printing a circuit pattern on a mask on a substrate, and particularly to a laser light source and an exposure apparatus for a projection exposure apparatus using laser light as exposure light. The present invention relates to improvement of an optical connection portion with a main body.

[従来の技術] 近年、レーザを露光光源として用いた露光装置が注目さ
れてきている。
[Prior Art] In recent years, an exposure apparatus using a laser as an exposure light source has been receiving attention.

レーザ光を用いた露光装置においては、レーザを発振す
る光源が非常に大きいことと、レーザ電源部において冷
却用ファン等の振動が発生することや、レーザ発振の際
に光源において振動が発生することから、露光装置本体
とレーザ光源とを切り離して設置している場合がほとん
どである。更に、レーザ発振時の振動が床面を介して露
光装置本体に伝わらないように、露光装置本体を防振台
上に設置してこの振動に対処しているものもある。
In an exposure apparatus that uses laser light, the light source that oscillates the laser is very large, the cooling fan and other vibrations occur in the laser power supply section, and the light source vibrates during laser oscillation. Therefore, in most cases, the exposure apparatus main body and the laser light source are separately installed. Further, in order to prevent the vibration at the time of laser oscillation from being transmitted to the exposure apparatus main body through the floor surface, there is also one in which the exposure apparatus main body is installed on a vibration isolation table to cope with this vibration.

しかし、このようなレーザを露光光光源として用いた露
光装置においては、仮にレーザ光源と露光装置本体の光
学的接続部からレーザ光が漏れると、周辺に配置された
機器等に悪影響を及ぼすおそれがあり、一層の安全性の
向上が要望されている。
However, in an exposure apparatus that uses such a laser as an exposure light source, if the laser light leaks from the optical connection part between the laser light source and the exposure apparatus main body, there is a risk that the peripheral devices and the like will be adversely affected. Therefore, further improvement in safety is demanded.

その1つの手法として、光ファイバーを用いることが考
えられる。しかしながら、レーザ光を露光に使う露光装
置本体の場合では、露光装置側に入射するレーザ光は比
較的に径が大きくなるため、使用可能な光ファイバーも
極めて太いものが必要となってしまう。それだけでな
く、その光ファイバーの両端はそれぞれ露光装置側とレ
ーザ光源側とに固定されるため振動除去の点で問題が残
る。
As one of the methods, it is possible to use an optical fiber. However, in the case of the exposure apparatus main body that uses laser light for exposure, the diameter of the laser light incident on the exposure apparatus side is relatively large, so that an extremely thick optical fiber must be used. In addition, since both ends of the optical fiber are fixed to the exposure device side and the laser light source side, respectively, there remains a problem in terms of vibration elimination.

さらに、光ファイバーによるレーザ光の損失も考慮しな
ければならないので、この種の露光装置にレーザ光を供
給する系として光ファイバーを使うことは不適当と言え
る。
Furthermore, since it is necessary to consider the loss of the laser light due to the optical fiber, it can be said that it is inappropriate to use the optical fiber as a system for supplying the laser light to this type of exposure apparatus.

これに対し、レーザ光源と露光装置本体との光学的接続
部の光路の周囲を遮光部材で包囲して、その接続部分か
らレーザ光の漏れを防ぐ等の処置方法が考えられる。
On the other hand, a conceivable method is to surround the optical path of the optical connection between the laser light source and the exposure apparatus main body with a light shielding member to prevent the laser light from leaking from the connection.

[発明が解決しようとする問題点] しかし、上記のようにレーザ光源と露光装置本体とを分
離して設置した装置においては、光学的接続部を遮光部
材で包囲する方法をとった場合に、光学的接続部に設け
られた遮光部材を介してレーザ光源において発生する振
動が露光装置本体に伝わってしまい、その結果露光装置
における投影等の種々のプロセスの精度が低下するとい
う問題点がある。
[Problems to be Solved by the Invention] However, in the apparatus in which the laser light source and the exposure apparatus main body are separately installed as described above, when the method of surrounding the optical connection portion with the light shielding member is adopted, The vibration generated in the laser light source is transmitted to the exposure apparatus main body through the light shielding member provided in the optical connection portion, and as a result, the accuracy of various processes such as projection in the exposure apparatus is reduced.

本発明は、かかる点に鑑みてなされたものであり、レー
ザ光による周辺機器への悪影響の除去及び安全性の向上
が図れるとともに、レーザ発振等に伴う振動を良好に除
去できる投影露光装置を得ることを目的とするものであ
る。
The present invention has been made in view of the above points, and obtains a projection exposure apparatus capable of eliminating adverse effects of laser light on peripheral devices and improving safety, and capable of favorably eliminating vibrations associated with laser oscillation and the like. That is the purpose.

[問題点を解決するための手段] 本発明にかかる投影露光装置は、レーザ光源と露光装置
本体との光学的接続部の光路の周囲に防振遮光手段を設
けたことを技術的要点としたものである。
[Means for Solving Problems] A technical point of the projection exposure apparatus according to the present invention is to provide a vibration isolation unit around the optical path of the optical connection between the laser light source and the exposure apparatus main body. It is a thing.

[作用] 本発明においては、レーザ光源と露光装置本体との光学
的接続部の光路の周囲に防振遮光手段を設けているた
め、レーザ光の完全な遮光を行なえるとともに、レーザ
光源で発生する振動をこの防振遮光手段において吸収遮
断でき、振動が露光装置本体に伝わるという不都合が生
じないこととなる。
[Operation] In the present invention, since the antivibration light-shielding means is provided around the optical path of the optical connection portion between the laser light source and the exposure apparatus main body, the laser light can be completely shielded and generated by the laser light source. This vibration can be absorbed and blocked by the anti-vibration shading means, and the problem that the vibration is transmitted to the exposure apparatus main body does not occur.

[実施例] 以下、本発明の実施例を図面を参照しながら説明する。Embodiments Embodiments of the present invention will be described below with reference to the drawings.

第1図は、本発明の一実施例であり全体的な構成が示さ
れている。
FIG. 1 is an embodiment of the present invention and shows the overall configuration.

図において、10は床面上に設置された基台であり、該基
台10の上にレーザ光源12が載置されている。
In the figure, 10 is a base installed on the floor, and a laser light source 12 is placed on the base 10.

レーザ光源12から放射出力されたレーザ光LAは、ミラー
14で反射され、フライアイ・レンズ(はえの目レンズ)
16に入射して照明むらが除去されるようになっている。
The laser light LA radiated and output from the laser light source 12 is reflected by the mirror.
Reflected at 14, fly-eye lens (fly-eye lens)
It is designed to be incident on 16 to eliminate uneven illumination.

フライアイ・レンズ16を透過した光は、レーザ発振部18
と露光装置本体部20との光学的接続部22を通過して、露
光装置本体部20側に向かうように構成されている。
The light that has passed through the fly-eye lens 16 is
It is configured to pass through the optical connection portion 22 between the main body 20 of the exposure apparatus and the main body 20 of the exposure apparatus.

光学的接続部22は、ここから漏れるレーザを遮光すると
ともに、レーザ発振部18、特にレーザ光源12において発
生する振動を吸収し、該振動がレーザ光の遮光部材(図
示せず)を介して露光装置本体部20側に伝わらないよう
な構成となっている。光学的接続部22の構造については
後述する。なお、光学的接続部22の近傍の光路は、図示
されない遮光部材で包囲されている。
The optical connecting portion 22 shields the laser leaking from the optical connecting portion 22, absorbs the vibration generated in the laser oscillator 18, particularly the laser light source 12, and exposes the vibration through a laser light shielding member (not shown). It is structured so as not to be transmitted to the device body 20 side. The structure of the optical connecting portion 22 will be described later. The optical path in the vicinity of the optical connection portion 22 is surrounded by a light shielding member (not shown).

次に、光学的接続部22を通過した光は、レンズ24及びレ
ンズ26を透過し、ミラー28で反射されて、メインコンデ
ンサレンズ30に入射するようになっている。
Next, the light passing through the optical connection portion 22 is transmitted through the lens 24 and the lens 26, is reflected by the mirror 28, and is incident on the main condenser lens 30.

メインコンデンサレンズ30を透過した光は、照度が一定
となるように調整されて、レチクル32を照明することと
なる。更に、レクチル32を透過した光は、投影レンズ34
を介してウェハ36上にレチクル32上の回路パターンを投
影するようになっている。
The light transmitted through the main condenser lens 30 is adjusted so that the illuminance is constant, and illuminates the reticle 32. Further, the light transmitted through the reticle 32 is projected by the projection lens 34.
The circuit pattern on the reticle 32 is projected onto the wafer 36 via the.

ウェハ36は、防振台38上に載置されたXYステージ40上に
真空チヤック(図示せず)によってチャッキングされて
いる。なお、露光装置本体部20内の装置は全て防振台38
の上に設置されているものとする。
The wafer 36 is chucked by the vacuum chuck (not shown) on the XY stage 40 placed on the vibration isolation table 38. In addition, all the devices in the exposure apparatus main body section 20 are
It is supposed to be installed on top of.

次に、本実施例の特徴である光学的接続部22の構造につ
いて、第2図及び第3図を参照しながら説明する。
Next, the structure of the optical connecting portion 22, which is a feature of this embodiment, will be described with reference to FIGS. 2 and 3.

第2図には、光学的接続部22の第1の態様が示されてい
る。
FIG. 2 shows a first mode of the optical connection portion 22.

図において、50は第1図には示されていないレーザ光路
の遮光部材(の断面)であり、レーザ発振部18と露光装
置本体部20との光学的接続部22の内部には、振動を吸収
できるように、蛇腹状の蛇腹接続部52が遮光部材50と一
体に形成されている。蛇腹接続部52は、微妙な振動をも
吸収できる程度の硬度であるとともに、レーザを完全に
遮光できる材質によって成形されている。
In the figure, reference numeral 50 denotes (a cross section of) a light shielding member for the laser optical path, which is not shown in FIG. A bellows-shaped bellows connecting portion 52 is integrally formed with the light shielding member 50 so as to be absorbed. The bellows connecting portion 52 is formed of a material that has a hardness that can absorb even subtle vibrations and that can completely shield the laser.

また、右側の遮光部材50がレーザ発振部18側のものであ
り、左側の遮光部材50が露光装置本体部20側のものであ
る。
In addition, the light blocking member 50 on the right side is on the laser oscillator 18 side, and the light blocking member 50 on the left side is on the exposure apparatus main body 20 side.

第2図中、(A)はレーザ発振前の基準位置を示したも
のであり、(B)はレーザ発振等に伴う振動により基準
位置からずれた時のものが示されている。
In FIG. 2, (A) shows the reference position before laser oscillation, and (B) shows the reference position when it is deviated from the reference position due to vibration accompanying laser oscillation or the like.

次に、上記第1の態様による実施例の動作及び作用につ
いて、第1図及び第2図を参照しながら説明する。
Next, the operation and action of the embodiment according to the first aspect will be described with reference to FIGS. 1 and 2.

レーザ光源12から放射出力されたレーザ光は、ミラー14
で反射されて、フライアイ・レンズ16を透過し、レーザ
発振部18と露光装置本体部20との光学的接続部22に入射
する。
The laser light emitted and output from the laser light source 12 is reflected by the mirror 14
The light is reflected by the laser beam, passes through the fly-eye lens 16, and enters the optical connection portion 22 between the laser oscillator 18 and the exposure apparatus main body 20.

光学的接続部22には、レーザ光とともに、レーザ発振に
伴いレーザ光源12において発生した振動が伝わる。
The vibration generated in the laser light source 12 due to the laser oscillation is transmitted to the optical connecting portion 22 together with the laser light.

この時、レーザ発振前の光学的接続部22の状態は、第2
図(A)のような基準の状態となっているが、光学的接
続部22に上記のように振動が伝わると、第2図(B)の
ように、レーザ発振部18側の右側の遮光部材50がずれを
生じることとなる。
At this time, the state of the optical connecting portion 22 before the laser oscillation is the second
Although the reference state as shown in FIG. 2A, when the vibration is transmitted to the optical connection portion 22 as described above, as shown in FIG. The member 50 will be displaced.

このような場合に、(B)に示すように、蛇腹接続部52
によって振動を吸収して、左側の遮光部材50のずれを防
ぎ、更に露光装置本体部20側へ振動が伝わることを防
ぐ。
In such a case, as shown in FIG.
The vibration is absorbed by and prevents the left light shielding member 50 from being displaced, and further prevents the vibration from being transmitted to the exposure apparatus main body 20 side.

次に、光学的接続部22を通過した光は、レンズ24,レン
ズ26,ミラー28及びメインコンデンサレンズ30の各光学
素子の各作用によって、レクル32を照明する。更に、投
影レンズ34を介し、レチクル32上の回路パターンをウェ
ハ36に投影露光する。
Next, the light that has passed through the optical connection portion 22 illuminates the reticle 32 by each action of each optical element of the lens 24, the lens 26, the mirror 28, and the main condenser lens 30. Further, the circuit pattern on the reticle 32 is projected and exposed onto the wafer 36 via the projection lens 34.

このように、光学的接続部22に蛇腹接続部52を用いてい
るため、露光装置本体部20側(左側)に振動が伝わるこ
とを防止できるという効果がある。
Thus, since the bellows connecting portion 52 is used for the optical connecting portion 22, it is possible to prevent the vibration from being transmitted to the exposure apparatus main body portion 20 side (left side).

第3図には、光学的接続部22の第2の態様が示されてい
る。
FIG. 3 shows a second mode of the optical connection portion 22.

図において、レーザ発振部18と露光装置本体部20との光
学的接続部22は、筒状の第1遮光部材54と、該第1遮光
部材よりも径の小さな筒状の第2遮光部材56とから構成
されており、第1遮光部材54と第2遮光部材56とは分離
された状態で所定の空間的余裕をもった二重筒状に形成
されている。
In the figure, an optical connection portion 22 between the laser oscillation unit 18 and the exposure apparatus main body unit 20 includes a cylindrical first light shielding member 54 and a cylindrical second light shielding member 56 having a diameter smaller than that of the first light shielding member. The first light-shielding member 54 and the second light-shielding member 56 are separated from each other and are formed in a double cylinder shape with a predetermined spatial margin.

この第1遮光部材と第2遮光部材との空間的余裕は、レ
ーザ発振等による振動の変位に基いて、両遮光部材が振
動により接触しない程度に設定されている。
The spatial margin between the first light shielding member and the second light shielding member is set to such an extent that the both light shielding members do not come into contact with each other due to vibration, based on the displacement of vibration due to laser oscillation or the like.

なお、第2図と同様に、図中(A)はレーザ発振前の基
準位置、(B)はレーザ発振等に伴う振動により基準位
置からずれた時のものが示されている。
Similar to FIG. 2, (A) shows the reference position before laser oscillation, and (B) shows the reference position displaced from the reference position due to vibration associated with laser oscillation and the like.

次に、上記第2の実施態様による実施例の動作及び作用
について、第3図を参照しながら説明する。
Next, the operation and action of the embodiment according to the second embodiment will be described with reference to FIG.

上述した上記第1の実施態様と同様に、レーザ光源12か
ら放射出力されると、光学的接続部22には、レーザ光が
入射するとともに、レーザ光源12において発生した振動
が伝わる。
Similarly to the above-described first embodiment, when the laser light source 12 radiates and outputs the laser light, the laser light is incident on the optical connection portion 22 and the vibration generated in the laser light source 12 is transmitted.

この時、レーザ発振前の光学的接続部22の状態は、第3
図(A)のような基準の状態となっているが、光学的接
続部22に上記のように振動が伝わると、第3図(B)の
ように、レーザ発振部18側の第1遮光部材54がずれを生
じることとなる。
At this time, the state of the optical connecting portion 22 before the laser oscillation is the third
Although the reference state as shown in FIG. 3A, when the vibration is transmitted to the optical connection portion 22 as described above, as shown in FIG. The member 54 will be displaced.

このような場合に、レーザ発振部18側の第1遮光部材54
と露光装置本体部側の第2遮光部材56とは、上述したよ
うに分離された状態で空間的余裕をもって設置されてい
るため、(B)に示すように第1遮光部材54がずれを生
じても第2遮光部材56に接触することはなく、露光装置
本体部20側へ振動が伝わることを完全に防止できる。
In such a case, the first light blocking member 54 on the laser oscillator 18 side
Since the second light blocking member 56 on the exposure apparatus main body side is installed with a spatial margin in the separated state as described above, the first light blocking member 54 is displaced as shown in (B). However, there is no contact with the second light shielding member 56, and it is possible to completely prevent the vibration from being transmitted to the exposure apparatus main body 20 side.

次に、光学的接続部22を通過した光は、更に上記第1の
実施態様と同様な構成及び同様な作用によって、投影露
光を行なう。
Next, the light that has passed through the optical connection portion 22 is subjected to projection exposure by the same configuration and similar action as those in the first embodiment.

このように、光学的接続部22を第1遮光部材54との第2
遮光部材56とによって、二重筒状に分離して形成してい
るため、露光装置本体部20側(左側)に振動が伝わるこ
とを防げるという効果がある。
As described above, the optical connecting portion 22 is connected to the first light shielding member 54 by the second
Since the light-shielding member 56 and the light-shielding member 56 are formed separately, it is possible to prevent the vibration from being transmitted to the exposure apparatus main body 20 (left side).

なお、本発明は上記実施例に限定されるものではなく、
光学的接続部22は、第1図に示した位置に限定されるも
のではなく、防振台38に支えられている部分と、その他
のレーザ光源12側の部分との接続部であれば同様な効果
を得られるものである。
The present invention is not limited to the above embodiment,
The optical connecting portion 22 is not limited to the position shown in FIG. 1, and is the same as long as it is a connecting portion between the portion supported by the vibration-proof table 38 and the portion on the other laser light source 12 side. It is possible to obtain various effects.

更に、振動が伝わることにより不都合が生じる他の装置
にも充分適用可能なものである。
Further, it can be sufficiently applied to other devices which cause inconvenience due to transmission of vibration.

[発明の効果] 以上のように、本発明によれば、レーザ光源と露光装置
本体との光学的接続部の光路の周囲に防振遮光手段を設
けているため、レーザ光による周辺機器への悪影響の除
去及び安全性の向上を図れるとともに、レーザ光源で発
生する振動を露光装置本体に伝えずに精密な投影露光を
行なえるという効果がある。
[Effects of the Invention] As described above, according to the present invention, since the vibration-proof and light-shielding means is provided around the optical path of the optical connection portion between the laser light source and the exposure apparatus main body, it is possible to protect peripheral equipment by laser light. It is possible to remove adverse effects and improve safety, and to perform precise projection exposure without transmitting the vibration generated by the laser light source to the exposure apparatus main body.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

第1図は、本発明の一実施例を示す構成図、第2図及び
第3図は本発明の実施態様を示す断面図である。 [主要部分の符号の説明] LA……レーザビーム、12……レーザ光源、18……レーザ
発振部、20……露光装置本体部、22……光学的接続部、
38……防振台、
FIG. 1 is a block diagram showing an embodiment of the present invention, and FIGS. 2 and 3 are sectional views showing an embodiment of the present invention. [Explanation of symbols for main parts] LA ... laser beam, 12 ... laser light source, 18 ... laser oscillator, 20 ... exposure apparatus main body, 22 ... optical connection,
38 …… Anti-vibration table,

Claims (4)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】レーザ装置を露光光源とし、該レーザ装置
と露光装置本体とを分離して設置した投影露光装置にお
いて、 前記レーザ装置と露光装置本体との光学的接続部の光路
の周囲に防振遮光手段を設けたことを特徴とする投影露
光装置。
1. A projection exposure apparatus in which a laser device is used as an exposure light source and the laser device and the exposure device main body are separately installed, and a laser beam is provided around an optical path of an optical connection portion between the laser device and the exposure main body. A projection exposure apparatus, which is provided with a shake blocking means.
【請求項2】前記防振遮光手段は、蛇腹状のものである
ことを特徴とする特許請求の範囲第1項に記載の投影露
光装置。
2. The projection exposure apparatus according to claim 1, wherein the anti-vibration / light-shielding means has a bellows shape.
【請求項3】前記防振遮光手段は、2つの遮光部材を所
定の空間的余裕をもって分離した状態で2重の筒状に形
成したものであることを特徴とする特許請求の範囲第1
項に記載の投影露光装置。
3. The vibration-proof and light-shielding means is formed in a double cylindrical shape in a state where two light-shielding members are separated with a predetermined spatial margin.
The projection exposure apparatus according to item.
【請求項4】前記露光装置本体は、レチクル上の回路パ
ターンをウェハ上に投影する投影光学系と、前記レクチ
ルを前記レーザ装置からのレーザ光で照明するためのコ
ンデンサレンズを含む照明光学系と、前記ウェハを載置
するXYステージとを備え、 前記レーザ装置からのレーザ光を前記露光装置本体内の
照明光学系に向けて射出するフライアイレンズ系を前記
レーザ装置側に設けたことを特徴とする特許請求の範囲
第1項に記載の投影露光装置。
4. The exposure apparatus main body comprises: a projection optical system for projecting a circuit pattern on a reticle onto a wafer; and an illumination optical system including a condenser lens for illuminating the reticle with laser light from the laser apparatus. A fly-eye lens system that emits laser light from the laser device toward an illumination optical system in the exposure apparatus body is provided on the laser device side. The projection exposure apparatus according to claim 1.
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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
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KR101016685B1 (en) * 2009-08-27 2011-02-25 삼성모바일디스플레이주식회사 Comminicating unit and laser oscillating apparatus having the same

Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5372575A (en) * 1976-12-10 1978-06-28 Thomson Csf Pattern transfer optical device

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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS60176888U (en) * 1984-04-27 1985-11-22 三菱電機株式会社 Optical path duct of laser processing equipment

Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5372575A (en) * 1976-12-10 1978-06-28 Thomson Csf Pattern transfer optical device

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