JPH0768148A - 皿型造粒機の制御方法 - Google Patents
皿型造粒機の制御方法Info
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- JPH0768148A JPH0768148A JP24382293A JP24382293A JPH0768148A JP H0768148 A JPH0768148 A JP H0768148A JP 24382293 A JP24382293 A JP 24382293A JP 24382293 A JP24382293 A JP 24382293A JP H0768148 A JPH0768148 A JP H0768148A
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- pellet
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 粉体の含有水分や周囲湿度の変動などの外乱
に対するペレット径の変動を少量に抑制する。 【構成】 皿型造粒機１０の回転皿１５から排出される
ペレットＰをサンプリング装置３１によりサンプリング
してその粒径分布を粒径分布計測装置３２により計測
し、この粒径分布に応じて制御装置３３によって、回転
皿１５の深さＨと回転速度Ｖと傾斜角度θのうちの少な
くともひとつを制御する。
に対するペレット径の変動を少量に抑制する。 【構成】 皿型造粒機１０の回転皿１５から排出される
ペレットＰをサンプリング装置３１によりサンプリング
してその粒径分布を粒径分布計測装置３２により計測
し、この粒径分布に応じて制御装置３３によって、回転
皿１５の深さＨと回転速度Ｖと傾斜角度θのうちの少な
くともひとつを制御する。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】この発明は、たとえばアーク炉か
ら発生する製鋼ダスト等の粉体をペレット化する皿型造
粒機の制御方法に関し、さらに詳しくは、前記ペレット
の粒径が所望の範囲内に入るように制御する制御方法に
関する。
ら発生する製鋼ダスト等の粉体をペレット化する皿型造
粒機の制御方法に関し、さらに詳しくは、前記ペレット
の粒径が所望の範囲内に入るように制御する制御方法に
関する。
【０００２】
【従来の技術】一般にアーク炉から発生する製鋼ダスト
は、集じん後その飛散防止を図り取扱性を向上させるた
めに、該製鋼ダスト中の亜鉛等の金属類の回収や埋立等
に先立って、先ずペレット化することがおこなわれてい
る。そしてこのペレット化のための装置としては、皿型
造粒機が用いられ、ダスト上に散布される液体結合剤と
しては、水が一般に用いられている。
は、集じん後その飛散防止を図り取扱性を向上させるた
めに、該製鋼ダスト中の亜鉛等の金属類の回収や埋立等
に先立って、先ずペレット化することがおこなわれてい
る。そしてこのペレット化のための装置としては、皿型
造粒機が用いられ、ダスト上に散布される液体結合剤と
しては、水が一般に用いられている。
【０００３】ところで上記の製鋼ダストの造粒時におけ
るペレット径（直径）は、その取扱性の点から５〜１５
mmとするのが好ましく、ペレット径がこの範囲内に入る
ように、皿型造粒機に供給するダストの量と散布するス
プレー水量とを調節して造粒をおこなっている。しかな
がら、製鋼ダスト中の水分が、製鋼用スクラップ中の水
分量や、造粒機周囲湿度の季節変動、あるいはホッパ中
の貯留時間の長短などによって変動するため、ダスト量
に対する一定比率のスプレー水量の制御だけでは、ペレ
ット径の変動が大きく、たとえばゴルフボール状の大径
品となると回転皿から人手により取出すほかはなく、粉
塵の舞う悪環境下での作業員による造粒状況の監視や手
作業を必要とし、造粒の自動化は困難であった。
るペレット径（直径）は、その取扱性の点から５〜１５
mmとするのが好ましく、ペレット径がこの範囲内に入る
ように、皿型造粒機に供給するダストの量と散布するス
プレー水量とを調節して造粒をおこなっている。しかな
がら、製鋼ダスト中の水分が、製鋼用スクラップ中の水
分量や、造粒機周囲湿度の季節変動、あるいはホッパ中
の貯留時間の長短などによって変動するため、ダスト量
に対する一定比率のスプレー水量の制御だけでは、ペレ
ット径の変動が大きく、たとえばゴルフボール状の大径
品となると回転皿から人手により取出すほかはなく、粉
塵の舞う悪環境下での作業員による造粒状況の監視や手
作業を必要とし、造粒の自動化は困難であった。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】この発明は上記従来の
問題点を解決するもので、粉体の含有水分や造粒機周囲
湿度の変動などの外乱に対するペレット径の変動を少量
に抑制できる皿型造粒機の制御方法を提供しようとする
ものである。
問題点を解決するもので、粉体の含有水分や造粒機周囲
湿度の変動などの外乱に対するペレット径の変動を少量
に抑制できる皿型造粒機の制御方法を提供しようとする
ものである。
【０００５】
【課題を解決するための手段】この出願の第１の発明の
皿型造粒機の制御方法は、回転造粒機の回転皿から排出
されるペレットをサンプリングしてその粒径分布を計測
し、この粒径分布に応じて前記回転皿の深さと回転速度
と傾斜角度のうちの少なくともひとつを制御することを
特徴とする。
皿型造粒機の制御方法は、回転造粒機の回転皿から排出
されるペレットをサンプリングしてその粒径分布を計測
し、この粒径分布に応じて前記回転皿の深さと回転速度
と傾斜角度のうちの少なくともひとつを制御することを
特徴とする。
【０００６】またこの出願の第２の発明の皿型造粒機の
制御方法は、回転造粒機の回転皿から排出されるペレッ
トをサンプリングしてその粒径を計測し、この粒径に応
じて前記回転皿の深さと回転速度と傾斜角度のうちの少
なくともひとつを制御することを特徴とする。
制御方法は、回転造粒機の回転皿から排出されるペレッ
トをサンプリングしてその粒径を計測し、この粒径に応
じて前記回転皿の深さと回転速度と傾斜角度のうちの少
なくともひとつを制御することを特徴とする。
【０００７】
【作用】この発明の皿型造粒機の制御方法においては、
造粒中のペレットをサンプリングしてその粒径分布ある
いは粒径に応じて、粒径を支配する要素である回転皿の
深さと回転速度と傾斜角度のうちの少なくともひとつを
制御するようにしたので、粉体の含有水分や周囲湿度の
変動などの外乱に対してもペレット径の変動が少量に抑
制される。
造粒中のペレットをサンプリングしてその粒径分布ある
いは粒径に応じて、粒径を支配する要素である回転皿の
深さと回転速度と傾斜角度のうちの少なくともひとつを
制御するようにしたので、粉体の含有水分や周囲湿度の
変動などの外乱に対してもペレット径の変動が少量に抑
制される。
【０００８】
【実施例】以下図１および図２により、この発明の一実
施例を説明する。図１において、１はダストホッパで、
上部の供給口１ａから供給された製鋼ダスト２を一時的
に貯留するためのものである。３はダストホッパ１の排
出口に接続したスクリューフィーダ、４はこのスクリュ
ーフィーダの排出口に接続した定量切出用のロータリー
バルブ、５はこのロータリーバルブの排出口に接続した
ダスト流量計である。
施例を説明する。図１において、１はダストホッパで、
上部の供給口１ａから供給された製鋼ダスト２を一時的
に貯留するためのものである。３はダストホッパ１の排
出口に接続したスクリューフィーダ、４はこのスクリュ
ーフィーダの排出口に接続した定量切出用のロータリー
バルブ、５はこのロータリーバルブの排出口に接続した
ダスト流量計である。
【０００９】１０は皿型造粒機で、基台１１に支軸１２
の中心のまわりに傾動自在に支持した回転駆動部１３
と、この回転駆動部１３により中心線１４のまわりに回
転駆動される回転皿１５をそなえている。１６は回転駆
動部１３（従って回転皿１５）の傾動駆動用のリニアア
クチュエータで、パルスモータ１７により駆動される。
１８は回転皿１５の外周に摺接嵌合する短円筒状の外筒
で、円周上の数個所でリニアアクチュエータ１９により
支持されて昇降駆動されるもので、この外筒１８の昇降
により回転皿深さＨが変えられるようになっている。２
０はリニアアクチュエータ１９駆動用のパルスモータで
ある。また２１は回転皿回転駆動用のモータで、インバ
ータ装置により可変速駆動される誘導電動機から成る。
また２５は造粒時に回転皿１５上に水を散布する水スプ
レー装置である。
の中心のまわりに傾動自在に支持した回転駆動部１３
と、この回転駆動部１３により中心線１４のまわりに回
転駆動される回転皿１５をそなえている。１６は回転駆
動部１３（従って回転皿１５）の傾動駆動用のリニアア
クチュエータで、パルスモータ１７により駆動される。
１８は回転皿１５の外周に摺接嵌合する短円筒状の外筒
で、円周上の数個所でリニアアクチュエータ１９により
支持されて昇降駆動されるもので、この外筒１８の昇降
により回転皿深さＨが変えられるようになっている。２
０はリニアアクチュエータ１９駆動用のパルスモータで
ある。また２１は回転皿回転駆動用のモータで、インバ
ータ装置により可変速駆動される誘導電動機から成る。
また２５は造粒時に回転皿１５上に水を散布する水スプ
レー装置である。
【００１０】一方３０は皿型造粒機１０により造粒され
たペレットＰを収容するペレットホッパ、３１はこのペ
レットホッパへのペレットＰを所定の時間間隔でサンプ
リングするサンプリング装置、３２は該装置によりサン
プリングしたペレットの粒径分布状態を計測する粒径分
布計測装置である。３３は造粒機の制御装置であり、そ
の制御内容は後述する。
たペレットＰを収容するペレットホッパ、３１はこのペ
レットホッパへのペレットＰを所定の時間間隔でサンプ
リングするサンプリング装置、３２は該装置によりサン
プリングしたペレットの粒径分布状態を計測する粒径分
布計測装置である。３３は造粒機の制御装置であり、そ
の制御内容は後述する。
【００１１】サンプリング装置３１は、図２に示すよう
に、鎖線で示すサンプリング位置と実線で示す計測位置
との間を往復するように支柱３５のまわりに旋回駆動さ
れるアーム３６の先端に、サンプリングコップ３７を傾
動可能に取付け、計測位置の該コップ上に乾燥用の熱風
を吹付ける乾燥装置３８と、コップ総重量からコップ自
重を減算してペレット全自重を測定する重量測定装置３
９とを具備して成る。
に、鎖線で示すサンプリング位置と実線で示す計測位置
との間を往復するように支柱３５のまわりに旋回駆動さ
れるアーム３６の先端に、サンプリングコップ３７を傾
動可能に取付け、計測位置の該コップ上に乾燥用の熱風
を吹付ける乾燥装置３８と、コップ総重量からコップ自
重を減算してペレット全自重を測定する重量測定装置３
９とを具備して成る。
【００１２】また粒径分布計測装置３２は、粒径１５mm
を越えるペレットＰa を側方へ排出するふるい４１と、
その下段に配置され粒径５〜１５mmのペレットＰb を側
方へ排出するふるい４２と、粒径５mm未満のペレットＰ
c を収容するホッパ部４３とをそなえたふるい分け装置
４４と、ペレットＰa の重量測定装置４５、およびペレ
ットＰb の重量測定装置４６とから成る。
を越えるペレットＰa を側方へ排出するふるい４１と、
その下段に配置され粒径５〜１５mmのペレットＰb を側
方へ排出するふるい４２と、粒径５mm未満のペレットＰ
c を収容するホッパ部４３とをそなえたふるい分け装置
４４と、ペレットＰa の重量測定装置４５、およびペレ
ットＰb の重量測定装置４６とから成る。
【００１３】上記構成の装置を用いて、ペレットＰの粒
径（詳しくは大部分のペレットＰの粒径）が５〜１５mm
の基準範囲内に入るように、以下のようにして制御をお
こなう。一般に皿型造粒機においては、ペレットの粒径
は回転皿内の滞留時間に関連して増減し、回転皿の傾斜
角度θを大きくし、回転速度Ｖを増すと、ペレット径は
小さくなり、回転皿の深さＨが大きい場合にはペレット
径は大きくなる傾向にある。この関係は、ペレット径を
φ（cm）とすると次式で表される。
径（詳しくは大部分のペレットＰの粒径）が５〜１５mm
の基準範囲内に入るように、以下のようにして制御をお
こなう。一般に皿型造粒機においては、ペレットの粒径
は回転皿内の滞留時間に関連して増減し、回転皿の傾斜
角度θを大きくし、回転速度Ｖを増すと、ペレット径は
小さくなり、回転皿の深さＨが大きい場合にはペレット
径は大きくなる傾向にある。この関係は、ペレット径を
φ（cm）とすると次式で表される。
【００１４】
【数１】 但し Ｈ：回転皿の深さ（ｃｍ） Ｖ：回転皿の回転速度（ｒｐｍ） θ：回転皿の傾斜角度（°） Ｃ，ｋ，ｍ，ｎ：定数
【００１５】この実施例では上記の関係に基づいて、ペ
レットＰの粒径分布状態に応じて、回転皿の深さＨを制
御して粒径の制御をおこなう。すなわち、先ず製鋼ダス
ト２の種類とロータリーバルブ４による切出量に対して
既知の最適な水量のスプレー水を水スプレー装置２５か
らスプレーするとともに、製鋼ダスト２の切出量とスプ
レー水量に対して粒径５〜１５mmのペレットを造粒する
のに適した（全ペレット重量のうち８０％以上が粒径５
〜１５mmの範囲に入る）値として予め実験により求めて
記憶してある回転皿１５の深さＨ1 、回転速度Ｖ1 、傾
斜角度θ1 を、制御装置３３から出力して、これらの初
期設定値にもとづいて皿型造粒機１０を運転して造粒を
おこなう。
レットＰの粒径分布状態に応じて、回転皿の深さＨを制
御して粒径の制御をおこなう。すなわち、先ず製鋼ダス
ト２の種類とロータリーバルブ４による切出量に対して
既知の最適な水量のスプレー水を水スプレー装置２５か
らスプレーするとともに、製鋼ダスト２の切出量とスプ
レー水量に対して粒径５〜１５mmのペレットを造粒する
のに適した（全ペレット重量のうち８０％以上が粒径５
〜１５mmの範囲に入る）値として予め実験により求めて
記憶してある回転皿１５の深さＨ1 、回転速度Ｖ1 、傾
斜角度θ1 を、制御装置３３から出力して、これらの初
期設定値にもとづいて皿型造粒機１０を運転して造粒を
おこなう。
【００１６】運転を開始して所定の時間（たとえば１５
分）経過後、サンプリング装置３１によりペレットＰを
サンプリングし、乾燥装置３８によりペレットＰを乾燥
して転動しやすくしたのち、重量測定装置３９によりペ
レット全重量Ｗo を測定後、ふるい分け装置４４により
サンプリングコップ３７内のペレットをふるい分けして
重量測定装置４５および４６によるペレット重量の測定
をおこない、粒径１５mmを越えるペレットＰa の重量Ｗ
a 、粒径５〜１０mmのペレットＰb の重量Ｗb、および
粒径５mm未満のペレットＰc の重量Ｗc （＝Ｗo −Ｗa
−Ｗb ）を測定あるいは算出する。
分）経過後、サンプリング装置３１によりペレットＰを
サンプリングし、乾燥装置３８によりペレットＰを乾燥
して転動しやすくしたのち、重量測定装置３９によりペ
レット全重量Ｗo を測定後、ふるい分け装置４４により
サンプリングコップ３７内のペレットをふるい分けして
重量測定装置４５および４６によるペレット重量の測定
をおこない、粒径１５mmを越えるペレットＰa の重量Ｗ
a 、粒径５〜１０mmのペレットＰb の重量Ｗb、および
粒径５mm未満のペレットＰc の重量Ｗc （＝Ｗo −Ｗa
−Ｗb ）を測定あるいは算出する。
【００１７】そしてペレットＰa のペレット全重量に対
する重量比率Ｒa およびペレットＰc のペレット全重量
に対する重量比率Ｒc を次式より算出する。
する重量比率Ｒa およびペレットＰc のペレット全重量
に対する重量比率Ｒc を次式より算出する。
【００１８】
【数２】Ｒa ＝Ｗa ／Ｗo ……（２）
【００１９】
【数３】Ｒc ＝Ｗc ／Ｗo ……（３）
【００２０】そして重量比率Ｒa が所定の比率（この実
施例では１０％）を越えたとき、すなわち粒径が増径傾
向にあるとき、制御装置３３により回転皿深さ設定値と
して、次式の深さＨ2 を演算しパルスモータ２０に出力
する。
施例では１０％）を越えたとき、すなわち粒径が増径傾
向にあるとき、制御装置３３により回転皿深さ設定値と
して、次式の深さＨ2 を演算しパルスモータ２０に出力
する。
【００２１】
【数４】Ｈ2 ＝Ｈ1−ΔＨ ＝Ｈ1−Ａ（Ｒa −０．１） ……（４） 但し Ａ：テストランにより予め求めた定数
【００２２】また基準粒径範囲以下のペレットの重量比
率Ｒc が所定の比率（この実施例では１０％）を越えた
とき、すなわち粒径が減径傾向にあるとき、制御装置３
３により回転皿深さ設定値として、次式の深さＨ2′を
演算しパルスモータ２０に出力する。
率Ｒc が所定の比率（この実施例では１０％）を越えた
とき、すなわち粒径が減径傾向にあるとき、制御装置３
３により回転皿深さ設定値として、次式の深さＨ2′を
演算しパルスモータ２０に出力する。
【００２３】
【数５】Ｈ2′＝Ｈ1＋ΔＨ′ ＝Ｈ1＋Ｂ（Ｒc −０．１） ……（５） 但し Ｂ：テストランにより予め求めた定数
【００２４】上記式（４）および（５）による回転皿深
さ設定値Ｈの補正により、ペレットの粒径分布の変動に
応じて回転皿１５の深さＨが減少あるいは増加方向に制
御され、ペレットの粒径の増径あるいは減径傾向が修正
されて、大部分のペレット粒径が所望の粒径範囲（５〜
１５mm）に入る造粒が進行する。
さ設定値Ｈの補正により、ペレットの粒径分布の変動に
応じて回転皿１５の深さＨが減少あるいは増加方向に制
御され、ペレットの粒径の増径あるいは減径傾向が修正
されて、大部分のペレット粒径が所望の粒径範囲（５〜
１５mm）に入る造粒が進行する。
【００２５】上記のサンプリング後、次回のサンプリン
グにおいても上記と同様な粒径分布の計測をおこない、
回転皿深さ設定値Ｈ2 またはＨ2′に対して式（４）お
よび（５）と同様な補正をおこなったＨ3 またはＨ3′
を新たな設定値として回転皿深さの制御をおこない、以
下同様なサンプリングデータに基づく設定値Ｈの補正に
よる制御をおこなう。
グにおいても上記と同様な粒径分布の計測をおこない、
回転皿深さ設定値Ｈ2 またはＨ2′に対して式（４）お
よび（５）と同様な補正をおこなったＨ3 またはＨ3′
を新たな設定値として回転皿深さの制御をおこない、以
下同様なサンプリングデータに基づく設定値Ｈの補正に
よる制御をおこなう。
【００２６】上記装置（但し回転皿１５の直径：３００
０mm、回転皿深さ：３００〜４５０mm、回転速度：１０
〜１５ｒｐｍ、傾斜角度：４５〜６０°）を用いて、製
鋼ダスト２として電気炉ダストを回転皿１５上に毎時５
トン（毎分８３．３kg）供給し、毎分１０リットルのス
プレー水を散布しつつ、回転皿の回転速度Ｖ1 ＝１３ｒ
ｐｍ、傾斜角度θ1 ＝５３°、深さＨ1 ＝４００cmの初
期条件で造粒を開始した。そして１５分ごとにペレット
Ｐのサンプリングと粉体分布の計測をおこない、前記式
（４）および（５）（但しＡ＝７５０、Ｂ＝５００）で
回転皿深さＨの設定値を補正しつつ、１日に約４〜６時
間の造粒を３日間におこなったところ、ペレットＰの全
重量のうち平均９５％（日平均）が基準粒径５〜１５mm
の範囲内に入るという結果が得られた。これに対して比
較例として上記初期条件の設定値のままで補正をおこな
わず造粒をおこなったところ、ペレット径５〜１５mmの
基準範囲に入ったものは、ペレット全重量の平均８０％
（日平均）であった。
０mm、回転皿深さ：３００〜４５０mm、回転速度：１０
〜１５ｒｐｍ、傾斜角度：４５〜６０°）を用いて、製
鋼ダスト２として電気炉ダストを回転皿１５上に毎時５
トン（毎分８３．３kg）供給し、毎分１０リットルのス
プレー水を散布しつつ、回転皿の回転速度Ｖ1 ＝１３ｒ
ｐｍ、傾斜角度θ1 ＝５３°、深さＨ1 ＝４００cmの初
期条件で造粒を開始した。そして１５分ごとにペレット
Ｐのサンプリングと粉体分布の計測をおこない、前記式
（４）および（５）（但しＡ＝７５０、Ｂ＝５００）で
回転皿深さＨの設定値を補正しつつ、１日に約４〜６時
間の造粒を３日間におこなったところ、ペレットＰの全
重量のうち平均９５％（日平均）が基準粒径５〜１５mm
の範囲内に入るという結果が得られた。これに対して比
較例として上記初期条件の設定値のままで補正をおこな
わず造粒をおこなったところ、ペレット径５〜１５mmの
基準範囲に入ったものは、ペレット全重量の平均８０％
（日平均）であった。
【００２７】この発明は上記実施例に限定されるもので
はなく、たとえば上記式（４）および（５）における重
量比率Ｒa およびＲc による補正項は、一次式のかわり
にｎ次式を用いてもよい。また回転皿の深さＨのかわり
に、回転皿の回転速度Ｖあるいは傾斜角度θの制御をお
こなったり、これら３個の値すべて、あるいは任意の組
合せの２個の値について、制御をおこなうようにしても
よい。
はなく、たとえば上記式（４）および（５）における重
量比率Ｒa およびＲc による補正項は、一次式のかわり
にｎ次式を用いてもよい。また回転皿の深さＨのかわり
に、回転皿の回転速度Ｖあるいは傾斜角度θの制御をお
こなったり、これら３個の値すべて、あるいは任意の組
合せの２個の値について、制御をおこなうようにしても
よい。
【００２８】また上記実施例では、粒径分布を基準粒径
範囲外のペレットの重量比で把握したが、たとえば粒径
分布を数値化し、上記式（４）および（５）以外の演算
式を用いて制御をおこなうようにしてもよい。たとえば
サンプリングしたペレットをＣＣＤカメラで撮像して画
像処理することにより各ペレットの粒径と個数を計測
し、基準粒径範囲外のペレットの個数を算出して上記と
同様な制御をおこなうほか、サンプリング全ペレットの
平均粒径を算出して、この粒径に応じて、たとえば式
（１）あるいはその変形式等を用いて制御をおこなうよ
うにしてもよい。
範囲外のペレットの重量比で把握したが、たとえば粒径
分布を数値化し、上記式（４）および（５）以外の演算
式を用いて制御をおこなうようにしてもよい。たとえば
サンプリングしたペレットをＣＣＤカメラで撮像して画
像処理することにより各ペレットの粒径と個数を計測
し、基準粒径範囲外のペレットの個数を算出して上記と
同様な制御をおこなうほか、サンプリング全ペレットの
平均粒径を算出して、この粒径に応じて、たとえば式
（１）あるいはその変形式等を用いて制御をおこなうよ
うにしてもよい。
【００２９】またこの発明は製鋼ダスト以外の各種粉体
の皿型造粒機による造粒にも適用できるものである。
の皿型造粒機による造粒にも適用できるものである。
【００３０】
【発明の効果】以上説明したようにこの発明によれば、
造粒中のペレットをサンプリングしてその粒径分布ある
いは粒径に応じて、粒径を支配する要素である回転皿の
深さと回転速度と傾斜角度のうちの少なくともひとつを
制御するようにしたので、粉体の含有水分や周囲湿度の
変動などの外乱に対しても、ペレット径の変動を少量に
抑制することができ、造粒の自動化に寄与するものであ
る。
造粒中のペレットをサンプリングしてその粒径分布ある
いは粒径に応じて、粒径を支配する要素である回転皿の
深さと回転速度と傾斜角度のうちの少なくともひとつを
制御するようにしたので、粉体の含有水分や周囲湿度の
変動などの外乱に対しても、ペレット径の変動を少量に
抑制することができ、造粒の自動化に寄与するものであ
る。
【図１】この発明の制御方法を実施するための装置の一
例を示す機器系統図である。
例を示す機器系統図である。
【図２】図１におけるサンプリング装置および粒径分布
計測装置の機器系統図である。
計測装置の機器系統図である。
１…ダストホッパ、２…製鋼ダスト、４…ロータリーバ
ルブ、１０…皿型造粒機、１１…基台、１３…回転駆動
部、１５…回転皿、１６…リニアアクチュエータ、１７
…パルスモータ、１８…外筒、１９…リニアアクチュエ
ータ、２０…パルスモータ、２１…モータ、２５…水ス
プレー装置、３１…サンプリング装置、３２…粒径分布
計測装置、３３…制御装置、３７…サンプリングコッ
プ、３８…乾燥装置、３９…重量測定装置、４４…ふる
い分け装置、４５…重量測定装置、４６…重量測定装
置、Ｐ…ペレット。
ルブ、１０…皿型造粒機、１１…基台、１３…回転駆動
部、１５…回転皿、１６…リニアアクチュエータ、１７
…パルスモータ、１８…外筒、１９…リニアアクチュエ
ータ、２０…パルスモータ、２１…モータ、２５…水ス
プレー装置、３１…サンプリング装置、３２…粒径分布
計測装置、３３…制御装置、３７…サンプリングコッ
プ、３８…乾燥装置、３９…重量測定装置、４４…ふる
い分け装置、４５…重量測定装置、４６…重量測定装
置、Ｐ…ペレット。
Claims (2)
- 【請求項１】 回転造粒機の回転皿から排出されるペレ
ットをサンプリングしてその粒径分布を計測し、この粒
径分布に応じて前記回転皿の深さと回転速度と傾斜角度
のうちの少なくともひとつを制御することを特徴とする
皿型造粒機の制御方法。 - 【請求項２】 回転造粒機の回転皿から排出されるペレ
ットをサンプリングしてその粒径を計測し、この粒径に
応じて前記回転皿の深さと回転速度と傾斜角度のうちの
少なくともひとつを制御することを特徴とする皿型造粒
機の制御方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP24382293A JPH0768148A (ja) | 1993-09-02 | 1993-09-02 | 皿型造粒機の制御方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP24382293A JPH0768148A (ja) | 1993-09-02 | 1993-09-02 | 皿型造粒機の制御方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0768148A true JPH0768148A (ja) | 1995-03-14 |
Family
ID=17109447
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP24382293A Pending JPH0768148A (ja) | 1993-09-02 | 1993-09-02 | 皿型造粒機の制御方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0768148A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE102010013095A1 (de) * | 2010-03-29 | 2011-09-29 | Haver Engineering Gmbh | Pelletiereinrichtung |
| DE102010013096A1 (de) * | 2010-03-29 | 2011-09-29 | Haver Engineering Gmbh | Pelletiereinrichtung und Verfahren |
| DE102011113880A1 (de) | 2011-09-22 | 2013-03-28 | Haver Engineering Gmbh | Pelletiereinrichtung und Verfahren |
-
1993
- 1993-09-02 JP JP24382293A patent/JPH0768148A/ja active Pending
Cited By (10)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE102010013095A1 (de) * | 2010-03-29 | 2011-09-29 | Haver Engineering Gmbh | Pelletiereinrichtung |
| DE102010013096A1 (de) * | 2010-03-29 | 2011-09-29 | Haver Engineering Gmbh | Pelletiereinrichtung und Verfahren |
| WO2011124337A1 (de) | 2010-03-29 | 2011-10-13 | Haver Engineering Gmbh | Pelletiereinrichtung |
| WO2011124336A1 (de) | 2010-03-29 | 2011-10-13 | Haver Engineering Gmbh | Pelletiereinrichtung und verfahren |
| CN102869438A (zh) * | 2010-03-29 | 2013-01-09 | 海福工程有限公司 | 造球设备和方法 |
| AU2011238144B2 (en) * | 2010-03-29 | 2014-05-15 | Haver Engineering Gmbh | Pelletizing device and method |
| US8808590B2 (en) | 2010-03-29 | 2014-08-19 | Haver Engineering Gmbh | Pelletizing device and method |
| EA022123B1 (ru) * | 2010-03-29 | 2015-11-30 | Хавер Инжениринг Гмбх | Устройство для гранулирования и способ его использования |
| DE102011113880A1 (de) | 2011-09-22 | 2013-03-28 | Haver Engineering Gmbh | Pelletiereinrichtung und Verfahren |
| WO2013041228A1 (de) | 2011-09-22 | 2013-03-28 | Haver Engineering Gmbh | Pelletiereinrichtung und verfahren |
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