JPH0762593A - 竪型噴流電解装置 - Google Patents
竪型噴流電解装置Info
- Publication number
- JPH0762593A JPH0762593A JP21174693A JP21174693A JPH0762593A JP H0762593 A JPH0762593 A JP H0762593A JP 21174693 A JP21174693 A JP 21174693A JP 21174693 A JP21174693 A JP 21174693A JP H0762593 A JPH0762593 A JP H0762593A
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- Japan
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- strip
- path
- electrodes
- electrolyte
- electrolytic solution
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- Electroplating Methods And Accessories (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 金属帯の竪型噴流電解装置において、電解液
を効率的に電極間へ導入すると共に、装置を簡素化する
こと。 【構成】 処理槽内の中に、電極の長手方向の下側にス
トリップに対向して整流板を配設すると共に、該整流板
に電極サポートを具備し、さらに、ストリップダウンパ
スとアップパスの中央部に仕切り壁を配設すると共に、
処理槽下部のシンクロールの上下に、少なくとも２箇所
の電解液導入口を設けると共に、処理槽上部の幅方向の
両側に、ダウンパスおよびアップパスのそれぞれに、高
さ方向を調整自在なセキ調整板を配設することにより電
解液を効率的に電極間へ導入することができる。
を効率的に電極間へ導入すると共に、装置を簡素化する
こと。 【構成】 処理槽内の中に、電極の長手方向の下側にス
トリップに対向して整流板を配設すると共に、該整流板
に電極サポートを具備し、さらに、ストリップダウンパ
スとアップパスの中央部に仕切り壁を配設すると共に、
処理槽下部のシンクロールの上下に、少なくとも２箇所
の電解液導入口を設けると共に、処理槽上部の幅方向の
両側に、ダウンパスおよびアップパスのそれぞれに、高
さ方向を調整自在なセキ調整板を配設することにより電
解液を効率的に電極間へ導入することができる。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、金属帯の竪型電解処理
装置に関するものである。
装置に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】ストリップに電解処理を施す竪型処理装
置は、図５に示すように電解液を処理槽の下部から導入
させ、上部よりオーバーフローさせる構造が一般的であ
り広く用いられている。
置は、図５に示すように電解液を処理槽の下部から導入
させ、上部よりオーバーフローさせる構造が一般的であ
り広く用いられている。
【０００３】近年、電解処理装置の高効率化を目的とし
て、図６に示すように電解液をストリップに対して、電
極入口の直近に、電解液導入ヘッダーを配設した構造が
数多く提供されるようになった。
て、図６に示すように電解液をストリップに対して、電
極入口の直近に、電解液導入ヘッダーを配設した構造が
数多く提供されるようになった。
【０００４】例えば、特公平３−３５３９５号公報記載
の提案の場合、図６に示す通り、ストリップと電極間に
電解液を供給し、ストリップと電解液との間に攪拌効果
を与え、高い電流密度を得る方法が提案されている。
の提案の場合、図６に示す通り、ストリップと電極間に
電解液を供給し、ストリップと電解液との間に攪拌効果
を与え、高い電流密度を得る方法が提案されている。
【０００５】この場合、電解液導入ヘッダーからの液流
れをストリップ幅方向で均一化する目的で、処理槽への
電解液導入箇所はダウンパス／アップパスおよびストリ
ップ表側／裏側ならびに操作側／駆動側ごとに合計８箇
所を必要とする。
れをストリップ幅方向で均一化する目的で、処理槽への
電解液導入箇所はダウンパス／アップパスおよびストリ
ップ表側／裏側ならびに操作側／駆動側ごとに合計８箇
所を必要とする。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】図５で提案されている
電解処理装置では、電解液が電極の裏側に廻り込み有効
に生かされていない問題があり、効率的な電解処理がで
きなかった。
電解処理装置では、電解液が電極の裏側に廻り込み有効
に生かされていない問題があり、効率的な電解処理がで
きなかった。
【０００７】図６で提案されている電解処理装置では効
率的な電解処理ができるようになったが次のような問題
がある。
率的な電解処理ができるようになったが次のような問題
がある。
【０００８】電解液を導入する導入へッダーを電極の
直近に配置しているため、液流れに脈動やバラツキが生
じ電解処理ムラの原因となっていた。また、導入へッダ
ー部が動圧のため、ストリップの表側／裏側に圧力差を
生じ、ストリップが電極面に吸いつく現象や、ストリッ
プを振動させ、製品キズを発生させる原因となってい
た。
直近に配置しているため、液流れに脈動やバラツキが生
じ電解処理ムラの原因となっていた。また、導入へッダ
ー部が動圧のため、ストリップの表側／裏側に圧力差を
生じ、ストリップが電極面に吸いつく現象や、ストリッ
プを振動させ、製品キズを発生させる原因となってい
た。
【０００９】導入ヘッダーの構造が複雑で、精度確保
の点から高価なものとなっていた。
の点から高価なものとなっていた。
【００１０】導入ヘッダーの取付け、取り外しに長時
間を要していた。
間を要していた。
【００１１】特に、電極間隔を変更する場合（製品品質
確保上、ストリップの形状や液流れに影響され、電極間
距離の変更を行うことが少なくない）には、表裏の導入
へッダーの間隔も変更しなければならず、メッキ槽の構
造も複雑とならざるを得なかった。
確保上、ストリップの形状や液流れに影響され、電極間
距離の変更を行うことが少なくない）には、表裏の導入
へッダーの間隔も変更しなければならず、メッキ槽の構
造も複雑とならざるを得なかった。
【００１２】このような従来技術の問題点に鑑み、本発
明の目的は、電解液を効率的に電極間に導入させ、従来
のごとき複雑な電解液の導入へッダーをなくし、装置の
簡素化を図った竪型噴流電解装置を提供することにあ
る。
明の目的は、電解液を効率的に電極間に導入させ、従来
のごとき複雑な電解液の導入へッダーをなくし、装置の
簡素化を図った竪型噴流電解装置を提供することにあ
る。
【００１３】
【課題を解決するための手段】上記課題を解決するため
に、本発明は、処理槽内に所定の間隔を置いて対向して
配設した電極間にストリップを走行させて電解処理を行
う竪型噴流電解装置において、電極の長手方向の下側に
ストリップに対向して整流板を配設すると共に、該整流
板に電極サポートを設け、さらに、ストリップダウンパ
スとアップパスとの中間部に仕切り壁を配設すると共
に、処理槽下部のシンクロールの上下に、少なくとも２
箇所の電解液導入口を設けると共に、処理槽上部の幅方
向の両側にあってダウンパスおよびアップパスそれぞれ
に、高さ方向を調整自在なセキ調整板を配設することを
特徴とする。
に、本発明は、処理槽内に所定の間隔を置いて対向して
配設した電極間にストリップを走行させて電解処理を行
う竪型噴流電解装置において、電極の長手方向の下側に
ストリップに対向して整流板を配設すると共に、該整流
板に電極サポートを設け、さらに、ストリップダウンパ
スとアップパスとの中間部に仕切り壁を配設すると共
に、処理槽下部のシンクロールの上下に、少なくとも２
箇所の電解液導入口を設けると共に、処理槽上部の幅方
向の両側にあってダウンパスおよびアップパスそれぞれ
に、高さ方向を調整自在なセキ調整板を配設することを
特徴とする。
【００１４】
【作用】電極の長手方向の下側にストリップに対向して
配設した整流板は電解液の流れをスムースに電極間に導
入させ、かつ、電極の裏側への廻り込み量を少なくさせ
る。
配設した整流板は電解液の流れをスムースに電極間に導
入させ、かつ、電極の裏側への廻り込み量を少なくさせ
る。
【００１５】整流板に連結した電極サポートは電極下部
をサポートし、所定の電極間隔に保持させる。ストリッ
プダウンパスとアップパスの中央部に配設した仕切り壁
はストリップのダウンパス側室とアップパス側室とに仕
切り、独立した液流れを形成させる。
をサポートし、所定の電極間隔に保持させる。ストリッ
プダウンパスとアップパスの中央部に配設した仕切り壁
はストリップのダウンパス側室とアップパス側室とに仕
切り、独立した液流れを形成させる。
【００１６】処理槽上部のアップパスおよびダウンパス
幅方向の両側に配設したセキ調整板は上下パスの液流れ
の差異を高さ方向に調節可能にすることにより、上部か
らの電解液のオーバーフロー量をバランスさせる。
幅方向の両側に配設したセキ調整板は上下パスの液流れ
の差異を高さ方向に調節可能にすることにより、上部か
らの電解液のオーバーフロー量をバランスさせる。
【００１７】処理槽下部のシンクロールの上下に少なく
とも２箇所設けた電解液導入口はストリップの両面への
電解液量を調節可能とする。
とも２箇所設けた電解液導入口はストリップの両面への
電解液量を調節可能とする。
【００１８】
【実施例】以下、図１〜図４に示す実施例にしたがって
説明をする。なお、本発明がこの実施例に限定されない
ことは言うまでもない。
説明をする。なお、本発明がこの実施例に限定されない
ことは言うまでもない。
【００１９】図１は本発明の実施例を示す側部断面図、
図２は図１のＡ−Ａ視図、図３は整流板、図４はセキ調
整板である。
図２は図１のＡ−Ａ視図、図３は整流板、図４はセキ調
整板である。
【００２０】図１に示すように、ストリップ２には入側
コンダクターロール９および（または出側コンダクター
ロール１０）により陰極（または陽極）に通電され、ス
トリップ２と対向した電極３ａ，３ｂが陽極（または陰
極）に通電され、電極３ａ，３ｂ間に電解液が導入され
電解処理が行われる。
コンダクターロール９および（または出側コンダクター
ロール１０）により陰極（または陽極）に通電され、ス
トリップ２と対向した電極３ａ，３ｂが陽極（または陰
極）に通電され、電極３ａ，３ｂ間に電解液が導入され
電解処理が行われる。
【００２１】電極３ａ，３ｂ下部には、整流板４ａ，４
ｂを配置し電解液が電極３ａ，３ｂ間を導入すると同時
に液流れを板方向に均等となるよう電極３ａ，３ｂに向
かって傾斜をつける。傾斜角度（θ）は電解液の導入量
によってことなるが、通常３０°〜６０°が適当であ
る。必要によっては、図示しないが整流板４ａ，４ｂの
下面にガイド板を幅方向に設けるとより効果的である。
整流板４ａ，４ｂは処理槽１の幅方向に設けたブラケッ
ト１２ａ，１２ｂにボルト締結されており、ストリップ
パスに対して左右に移動できるように、ボルト穴は長穴
としている。また、整粒板４ａ，４ｂとブラケット１２
ａ，１２ｂとのスキマは整流板４ａ，４ｂ下部にゴム状
のスカート１３ａ，１３ｂを設けている。
ｂを配置し電解液が電極３ａ，３ｂ間を導入すると同時
に液流れを板方向に均等となるよう電極３ａ，３ｂに向
かって傾斜をつける。傾斜角度（θ）は電解液の導入量
によってことなるが、通常３０°〜６０°が適当であ
る。必要によっては、図示しないが整流板４ａ，４ｂの
下面にガイド板を幅方向に設けるとより効果的である。
整流板４ａ，４ｂは処理槽１の幅方向に設けたブラケッ
ト１２ａ，１２ｂにボルト締結されており、ストリップ
パスに対して左右に移動できるように、ボルト穴は長穴
としている。また、整粒板４ａ，４ｂとブラケット１２
ａ，１２ｂとのスキマは整流板４ａ，４ｂ下部にゴム状
のスカート１３ａ，１３ｂを設けている。
【００２２】さらに、整流板４ａ，４ｂ上部には電極３
ａ，３ｂ下部を保持するチャンネル状の電極サポート５
ａ，５ｂがボルト付けされており、位置調整ボルト１４
ａ，１４ｂによって、電極３ａ，３ｂ聞隔を自由に調整
できるようにしている。
ａ，３ｂ下部を保持するチャンネル状の電極サポート５
ａ，５ｂがボルト付けされており、位置調整ボルト１４
ａ，１４ｂによって、電極３ａ，３ｂ聞隔を自由に調整
できるようにしている。
【００２３】処理槽１はストリップダウンパス部とスト
リップアップパス部との上下を仕切り壁８で仕切られて
いる。
リップアップパス部との上下を仕切り壁８で仕切られて
いる。
【００２４】処理槽１上部の電解液のオーバーフローは
ストリップダウンパス部とストリップアップパス部のそ
れぞれの各幅方向に合計４箇所設け、それぞれとも高さ
方向に調整可能なセキ調整板６を設け高さ調整ボルト１
５により高さ調整を行う。
ストリップダウンパス部とストリップアップパス部のそ
れぞれの各幅方向に合計４箇所設け、それぞれとも高さ
方向に調整可能なセキ調整板６を設け高さ調整ボルト１
５により高さ調整を行う。
【００２５】処理槽１への電解液の導入は電解液導入口
７ａ，７ｂより行われる。電解液導入口７ａ，７ｂはシ
ンクロール１１の上部および下部の処理槽１の中央位置
とし、操作側および駆動側の合計４箇所設ける。また、
電解液導入口７ａ，７ｂ入側には、図示しないがそれぞ
れ流量計を設けストリップ２の表側と裏側および操作側
と駆動側の流量をバランスさせる。
７ａ，７ｂより行われる。電解液導入口７ａ，７ｂはシ
ンクロール１１の上部および下部の処理槽１の中央位置
とし、操作側および駆動側の合計４箇所設ける。また、
電解液導入口７ａ，７ｂ入側には、図示しないがそれぞ
れ流量計を設けストリップ２の表側と裏側および操作側
と駆動側の流量をバランスさせる。
【００２６】
【発明の効果】以上、実施例について説明したが、本発
明によれば次のような効果がある。
明によれば次のような効果がある。
【００２７】（１）電解液が電極の裏側への廻り込みが
少なく、電極間のみに有効に流れ、効率的な電解処理が
可能となる。
少なく、電極間のみに有効に流れ、効率的な電解処理が
可能となる。
【００２８】（２）電極間への電解液の液流れは脈動や
幅方向のバラツキがなく、電解処理ムラ等の製品不良を
起こさない。また、ストリップの表裏に圧力差が生じな
いため、電極ヘの吸いつき現象やストリップが振動する
ことがなく製品キズを起こす要因がなくなる。
幅方向のバラツキがなく、電解処理ムラ等の製品不良を
起こさない。また、ストリップの表裏に圧力差が生じな
いため、電極ヘの吸いつき現象やストリップが振動する
ことがなく製品キズを起こす要因がなくなる。
【００２９】（３）構造が複雑な電解液導入ヘッダーが
不要となり、処理槽の構造がシンプルとなるため、製作
費を大幅に削減できる。また、保全が容易となり、電極
間距離の選定も簡単に行うことができる。
不要となり、処理槽の構造がシンプルとなるため、製作
費を大幅に削減できる。また、保全が容易となり、電極
間距離の選定も簡単に行うことができる。
【００３０】（４）ストリップ走行に伴う、ダウンパス
とアップパスの液面差異がなくなり、また、液流れをス
トリップダウンパスとアップパスならびにストリップ表
裏面間で均一となり、安定した操業を可能とする。
とアップパスの液面差異がなくなり、また、液流れをス
トリップダウンパスとアップパスならびにストリップ表
裏面間で均一となり、安定した操業を可能とする。
【００３１】（５）電解液の導入箇所が少なくなり、配
管設計が容易となり製作費が削減される。
管設計が容易となり製作費が削減される。
【図１】 本発明の実施例を示す側部断面図である。
【図２】 図１のＡ−Ａ視図を示す。
【図３】 整流板を示す。
【図４】 セキ調整板を示す。
【図５】 従来の電解処理装置の側部断面図である。
【図６】 従来の他の電解処理装置の側部断面図であ
る。
る。
ｌ 処理槽 ２ ストリップ ３ａ，３ｂ 電極 ４ａ，４ｂ 整流板 ５ａ，５ｂ 電極サポー卜 ６ セキ調整板 ７ａ，７ｂ 電解液導入口 ８ 仕切り壁 ９ 入側コンダクターロール １０ 出側コンダクターロール １１ シンクロール １２ａ，１２ｂ ブラケッ卜 １３ａ，１３ｂ スカート １４ａ，１４ｂ 位置調整ボル卜 １５ 高さ調整ボルト
フロントページの続き (72)発明者 土屋 清秀 福岡県北九州市戸畑区大字中原46−59 新 日本製鐵株式会社機械・プラント事業部内 (72)発明者 柴田 博行 福岡県北九州市戸畑区大字中原46−59 新 日本製鐵株式会社機械・プラント事業部内 (72)発明者 段原 克己 福岡県北九州市戸畑区大字中原46−59 新 日本製鐵株式会社機械・プラント事業部内 (72)発明者 増田 修司 福岡県北九州市戸畑区大字中原46番地の59 日鐵プラント設計株式会社内
Claims (1)
- 【請求項１】 処理槽内に、所定の間隔を置いて対向し
て配設した電極間にストリップを走行させて電解処理を
行う竪型噴流電解装置において、電極の長手方向の下側
にストリップに対向して整流板を配設すると共に、該整
流板に電極サポートを設け、さらにストリップダウンパ
スとストリップアップパスとの中間部に仕切り壁を配設
すると共に、処理槽下部のシンクロールの上下それぞれ
に少なくとも２箇所の電解液導入口を配設し、さらに処
理槽上部の幅方向の両側にあって、ストリップダウンパ
スおよびアップパスそれぞれに高さ方向を調整自在なセ
キ調整板を配設したことを特徴とした竪型噴流電解装
置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP21174693A JP2813530B2 (ja) | 1993-08-26 | 1993-08-26 | 竪型噴流電解装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP21174693A JP2813530B2 (ja) | 1993-08-26 | 1993-08-26 | 竪型噴流電解装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0762593A true JPH0762593A (ja) | 1995-03-07 |
| JP2813530B2 JP2813530B2 (ja) | 1998-10-22 |
Family
ID=16610903
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP21174693A Expired - Fee Related JP2813530B2 (ja) | 1993-08-26 | 1993-08-26 | 竪型噴流電解装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2813530B2 (ja) |
-
1993
- 1993-08-26 JP JP21174693A patent/JP2813530B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP2813530B2 (ja) | 1998-10-22 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 19980703 |
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