JPH075189B2 - 固体粒状粉体の分配装置及び分配方法 - Google Patents
固体粒状粉体の分配装置及び分配方法Info
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- JPH075189B2 JPH075189B2 JP60279376A JP27937685A JPH075189B2 JP H075189 B2 JPH075189 B2 JP H075189B2 JP 60279376 A JP60279376 A JP 60279376A JP 27937685 A JP27937685 A JP 27937685A JP H075189 B2 JPH075189 B2 JP H075189B2
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- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B05—SPRAYING OR ATOMISING IN GENERAL; APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
- B05B—SPRAYING APPARATUS; ATOMISING APPARATUS; NOZZLES
- B05B7/00—Spraying apparatus for discharge of liquids or other fluent materials from two or more sources, e.g. of liquid and air, of powder and gas
- B05B7/14—Spraying apparatus for discharge of liquids or other fluent materials from two or more sources, e.g. of liquid and air, of powder and gas designed for spraying particulate materials
- B05B7/1404—Arrangements for supplying particulate material
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B05—SPRAYING OR ATOMISING IN GENERAL; APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
- B05B—SPRAYING APPARATUS; ATOMISING APPARATUS; NOZZLES
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- B05B7/1404—Arrangements for supplying particulate material
- B05B7/1472—Powder extracted from a powder container in a direction substantially opposite to gravity by a suction device dipped into the powder
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B05—SPRAYING OR ATOMISING IN GENERAL; APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
- B05B—SPRAYING APPARATUS; ATOMISING APPARATUS; NOZZLES
- B05B7/00—Spraying apparatus for discharge of liquids or other fluent materials from two or more sources, e.g. of liquid and air, of powder and gas
- B05B7/14—Spraying apparatus for discharge of liquids or other fluent materials from two or more sources, e.g. of liquid and air, of powder and gas designed for spraying particulate materials
- B05B7/1404—Arrangements for supplying particulate material
- B05B7/1477—Arrangements for supplying particulate material means for supplying to several spray apparatus
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- Air Transport Of Granular Materials (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】 本発明は、空気を含む固体粒状粉体材料を粒体スプレガ
ン或いは粉体デイスペンサ（分配器）に供給する方法及
び装置に関する。特に本発明は、流動化粉体源から粉体
スプレガン或いは粉体デイスペンサに均一な粉体流を与
える改良形方法及び装置に関する。
ン或いは粉体デイスペンサ（分配器）に供給する方法及
び装置に関する。特に本発明は、流動化粉体源から粉体
スプレガン或いは粉体デイスペンサに均一な粉体流を与
える改良形方法及び装置に関する。
粉体は、低圧ベンチユリポンプ室を有する粉体ポンプを
備えた空気式コンベヤラインを通して粉体スプレガンに
供給される。上記低圧ベンチュリポンプ室は粉体供給路
と交差し、この粉体供給路を通して流動床ホッパから粉
体ポンプに粉体を供給している。流動床からベンチユリ
ポンプ室への粉体の流量を計量又は制御するために、こ
のような粉体ポンプは従来、制御された空気流を粉体供
給路は噴射するように動作する計量用空気流路を有して
いた。この計量用空気流の圧力はポンプに入る粉体と混
合される空気の量、従つてまたポンプからの粉体の流量
を制御するものである。
備えた空気式コンベヤラインを通して粉体スプレガンに
供給される。上記低圧ベンチュリポンプ室は粉体供給路
と交差し、この粉体供給路を通して流動床ホッパから粉
体ポンプに粉体を供給している。流動床からベンチユリ
ポンプ室への粉体の流量を計量又は制御するために、こ
のような粉体ポンプは従来、制御された空気流を粉体供
給路は噴射するように動作する計量用空気流路を有して
いた。この計量用空気流の圧力はポンプに入る粉体と混
合される空気の量、従つてまたポンプからの粉体の流量
を制御するものである。
上記のような粉体ポンプを用いる装置を含む粉体スプレ
装置の全てに共通する欠点の一つは、この装置のスプレ
ガンから放出された粉体が不均一に流れるという点にあ
る。即ち、ガンから噴射された粉体が周期的に一気に噴
出したり、雲状に集まつたりし、またガンから噴出され
る粉体密度が周期的に減少したりする。このように、ガ
ンから噴射された粉体の密度が周期的に増減すると、こ
の粉体を塗布する目標基板への粉体の塗布量が不均一に
なる。従つて、このような粉体密度の不規則な変化は非
常に望ましくない。
装置の全てに共通する欠点の一つは、この装置のスプレ
ガンから放出された粉体が不均一に流れるという点にあ
る。即ち、ガンから噴射された粉体が周期的に一気に噴
出したり、雲状に集まつたりし、またガンから噴出され
る粉体密度が周期的に減少したりする。このように、ガ
ンから噴射された粉体の密度が周期的に増減すると、こ
の粉体を塗布する目標基板への粉体の塗布量が不均一に
なる。従つて、このような粉体密度の不規則な変化は非
常に望ましくない。
粉体スプレガンから噴射される粉体密度の上記のような
不規則な変化を最小にしたり、低減する多くの試みがこ
れまでになされている。このような試みにおいては、粉
体スプレガンの設計を変えたり、また粉体用ポンプの設
計及び構成を変えたりしている。これ等の改変された方
式の殆んどのものは上記の問題点を若干は改良するが、
十分なものではない。
不規則な変化を最小にしたり、低減する多くの試みがこ
れまでになされている。このような試みにおいては、粉
体スプレガンの設計を変えたり、また粉体用ポンプの設
計及び構成を変えたりしている。これ等の改変された方
式の殆んどのものは上記の問題点を若干は改良するが、
十分なものではない。
本発明は従つて、改良された粉体スプレ装置を与えるこ
とを目的とし、この装置においては、粉体スプレガン或
いはデイスペンサから噴射される粉体の流量の偶然の又
は不規則な変化が最小化されるか、排除される。
とを目的とし、この装置においては、粉体スプレガン或
いはデイスペンサから噴射される粉体の流量の偶然の又
は不規則な変化が最小化されるか、排除される。
本発明は、粉体スプレ装置の粉体スプレガン或いはデイ
スペンサからの不均一な粉体流の一つの原因が、流動床
粉体源と移送ガンとの間の粉体スプレ装置の構成にある
という発見に一部基づくものである。上記装置のその部
分はこれまで、単に、粉体を流動床ベツドから粉体ポン
プに供給するサイフオン管と、上記粉体ポンプ及びこの
ポンプをガンに接続する長い供給ホースとから構成され
たものである。従つて本発明は、これまで上記装置のこ
の部分の構成によると考えられる粉体の流動変化を排除
することを目的とするものである。
スペンサからの不均一な粉体流の一つの原因が、流動床
粉体源と移送ガンとの間の粉体スプレ装置の構成にある
という発見に一部基づくものである。上記装置のその部
分はこれまで、単に、粉体を流動床ベツドから粉体ポン
プに供給するサイフオン管と、上記粉体ポンプ及びこの
ポンプをガンに接続する長い供給ホースとから構成され
たものである。従つて本発明は、これまで上記装置のこ
の部分の構成によると考えられる粉体の流動変化を排除
することを目的とするものである。
これ等の目的がここでは達成され、また本発明は粉体ポ
ンプからホースを通してデイスペンサガンの近くに置か
れた粉体の補助流動床に粉体を供給し、次にこの粉体を
補助流動床から補助粉体ポンプ及び比較的近いホースを
通して供給するという考え方に一部基づくものである。
補助流動床及び上記粉体スプレ装置のデイスペンサガン
の出口近くに置かれた補助粉体ポンプにより、これまで
ポンプとガンとの間のホースの比較的長い長さによると
され、また流動床粉体源内の粉体の変動レベルによると
された一定でない粉体流が低減され、又は完全に除去さ
れる。
ンプからホースを通してデイスペンサガンの近くに置か
れた粉体の補助流動床に粉体を供給し、次にこの粉体を
補助流動床から補助粉体ポンプ及び比較的近いホースを
通して供給するという考え方に一部基づくものである。
補助流動床及び上記粉体スプレ装置のデイスペンサガン
の出口近くに置かれた補助粉体ポンプにより、これまで
ポンプとガンとの間のホースの比較的長い長さによると
され、また流動床粉体源内の粉体の変動レベルによると
された一定でない粉体流が低減され、又は完全に除去さ
れる。
本発明者は、従来の粉体スプレ装置での流量変化の大部
分が二つの原因によることを見出している。これ等の原
因はポンプとガンの間に配置した比較的長いホースにあ
り、またスプレ装置に対する流動床粉体源の粉体レベル
の変動にある。ポンプとガンとの間でホースが長くなる
と、このような長いホースに必然的に生じるループ及び
湾曲に起因して流量変化が発生する。粉体はこれ等のル
ープ或いは湾曲部内に集まり、また粉体制限部背後の増
加圧力はこの制限部から解放され、更にこの圧力は生じ
た粉体群がガンから放出されることを惹起し、同時にホ
ース内の圧力増加即ちガンへの粉体流の圧力増加を惹起
する。その後、この粉体は、粉体がホース内に制限部を
形成し、解放され、他の粉体群などを惹起するまで、丁
度粉体が放出されたホースの湾曲部或いはループ内に集
まり始める。
分が二つの原因によることを見出している。これ等の原
因はポンプとガンの間に配置した比較的長いホースにあ
り、またスプレ装置に対する流動床粉体源の粉体レベル
の変動にある。ポンプとガンとの間でホースが長くなる
と、このような長いホースに必然的に生じるループ及び
湾曲に起因して流量変化が発生する。粉体はこれ等のル
ープ或いは湾曲部内に集まり、また粉体制限部背後の増
加圧力はこの制限部から解放され、更にこの圧力は生じ
た粉体群がガンから放出されることを惹起し、同時にホ
ース内の圧力増加即ちガンへの粉体流の圧力増加を惹起
する。その後、この粉体は、粉体がホース内に制限部を
形成し、解放され、他の粉体群などを惹起するまで、丁
度粉体が放出されたホースの湾曲部或いはループ内に集
まり始める。
従来の配置の粉体流方式における流量変化の他の主要原
因である流動床粉体源に含まれる粉体レベルの変動は、
流動床内で粉体レベルが変化する時、粉体を粉体ポンプ
に吸引するのに必要な圧力が異なることによる流量変化
を惹起する。実際には、ポンプ内の真空は粉体をポンプ
に吸引するが、流動床ホツパ内の粉体レベルが異なつて
も変化しない。一方、真空圧は同じままであるが、ポン
プに吸引される粉体流は、ホツパ内の粉体レベルが変化
する時変化する。
因である流動床粉体源に含まれる粉体レベルの変動は、
流動床内で粉体レベルが変化する時、粉体を粉体ポンプ
に吸引するのに必要な圧力が異なることによる流量変化
を惹起する。実際には、ポンプ内の真空は粉体をポンプ
に吸引するが、流動床ホツパ内の粉体レベルが異なつて
も変化しない。一方、真空圧は同じままであるが、ポン
プに吸引される粉体流は、ホツパ内の粉体レベルが変化
する時変化する。
本発明の実施例によれば、粉体スプレ装置は主流動床ホ
ツパ粉体源と、粉体デイスペンサガンに隣接して又はそ
の近くに置かれた小容量の補助流動床ホツパとからな
る。ベンチユリ形のポンプ及び接続ホースは主ホツパか
ら補助ホツパに粉体を搬送し、また補助ベンチユリ型の
粉体ポンプ及び接続ホースは補助ホツパからデイスペン
サガンに粉体を搬送する。補助ホツパと主ホツパとの間
にオーバフロー管が延在して設けられ、このオーバフロ
ー管は補助ホッパ内で粉体を一定レベルに維持するよう
に機能する。粉体スプレ装置の粉体スプレガンに密接し
て設けられた補助ベンチユリポンプと補助流動床ホツパ
とを用いる本発明によれば、粉体流変化の変動源が排除
され得る。主ホツパと補助ホツパとの間の長いホースに
生じる流量変化は、補助粉体ポンプとスプレガンとの間
の流量には影響を与えない。更に、補助流動床ホツパと
の間にオーバフロー管を用いると、過剰粉体量が補助流
動床に供給される限りは、補助ホツパ内の粉体レベルが
一定レベルに維持されることを可能にする。これによ
り、供給ホツパ内の変化する粉体レベルに寄与する流動
変化が除去される。
ツパ粉体源と、粉体デイスペンサガンに隣接して又はそ
の近くに置かれた小容量の補助流動床ホツパとからな
る。ベンチユリ形のポンプ及び接続ホースは主ホツパか
ら補助ホツパに粉体を搬送し、また補助ベンチユリ型の
粉体ポンプ及び接続ホースは補助ホツパからデイスペン
サガンに粉体を搬送する。補助ホツパと主ホツパとの間
にオーバフロー管が延在して設けられ、このオーバフロ
ー管は補助ホッパ内で粉体を一定レベルに維持するよう
に機能する。粉体スプレ装置の粉体スプレガンに密接し
て設けられた補助ベンチユリポンプと補助流動床ホツパ
とを用いる本発明によれば、粉体流変化の変動源が排除
され得る。主ホツパと補助ホツパとの間の長いホースに
生じる流量変化は、補助粉体ポンプとスプレガンとの間
の流量には影響を与えない。更に、補助流動床ホツパと
の間にオーバフロー管を用いると、過剰粉体量が補助流
動床に供給される限りは、補助ホツパ内の粉体レベルが
一定レベルに維持されることを可能にする。これによ
り、供給ホツパ内の変化する粉体レベルに寄与する流動
変化が除去される。
ここで添付図面を参照すると、固体粒状粉体材料を複数
個のスプレガンから噴射する粉体スプレ装置10が示され
ている。図面には３個のガン（粉体分配器）12が示して
あるが、上記粉体スプレ装置は単一ガンから成る、又は
実質的により大きな個数のガン12から成る粉体スプレに
同様に適用出来る。このガン12はそれ自体では本出願の
発明の如何なる部分も構成せず、また従来熟知されたも
のである。本出願に用いるのに適したこのようなガン
が、本出願の譲受人に譲渡されたトーマス・イー・ホル
スタイン等の米国特許第4,380,320号「静電粉体スプレ
ガンノズル」に図示及び記載されている。
個のスプレガンから噴射する粉体スプレ装置10が示され
ている。図面には３個のガン（粉体分配器）12が示して
あるが、上記粉体スプレ装置は単一ガンから成る、又は
実質的により大きな個数のガン12から成る粉体スプレに
同様に適用出来る。このガン12はそれ自体では本出願の
発明の如何なる部分も構成せず、また従来熟知されたも
のである。本出願に用いるのに適したこのようなガン
が、本出願の譲受人に譲渡されたトーマス・イー・ホル
スタイン等の米国特許第4,380,320号「静電粉体スプレ
ガンノズル」に図示及び記載されている。
粉体スプレ装置10は、上記ガン12の他に、主供給ホッパ
（主流動床ホッパ）14と、補助ホッパ（補助流動床ホッ
パ）16と、主ホッパ14から補助ホッパ16に粉体を移送す
る主空気ポンプ（主粉体空気ポンプ）18と、補助ポンプ
16からガン12に粉体を移送する複数個の補助空気ポンプ
（補助粉体空気ポンプ）20とからなる。上記空気ポンプ
18及び20は従来の粉体ポンプであり、この粉体ポンプは
それ自体は本出願の発明の如何なる部分も構成しない。
本出願に用いるのに適したかかるポンプの一つの例が、
本出願の譲渡人に譲渡されたレーン・エス・ダンカン
（Lane S. Duncan）らによる米国特許第3,746,254号の
「粉体スプレ方式」に図示及び記載されている。
（主流動床ホッパ）14と、補助ホッパ（補助流動床ホッ
パ）16と、主ホッパ14から補助ホッパ16に粉体を移送す
る主空気ポンプ（主粉体空気ポンプ）18と、補助ポンプ
16からガン12に粉体を移送する複数個の補助空気ポンプ
（補助粉体空気ポンプ）20とからなる。上記空気ポンプ
18及び20は従来の粉体ポンプであり、この粉体ポンプは
それ自体は本出願の発明の如何なる部分も構成しない。
本出願に用いるのに適したかかるポンプの一つの例が、
本出願の譲渡人に譲渡されたレーン・エス・ダンカン
（Lane S. Duncan）らによる米国特許第3,746,254号の
「粉体スプレ方式」に図示及び記載されている。
またホツパ14及び16は従来の流動床ホツパであり、また
それ自体は本出願の本発明の如何なる部分も形成しな
い。これ等のホツパ14、16は共にホツパ底面に閉鎖室24
と、この閉鎖室内に設けた空気透過性の天井26とを有し
ている。高圧空気が閉鎖室24の入口28に加えられると、
この空気は閉鎖室24の天井26を通り、この閉鎖室24の上
のホツパに含まれる粉体30を流動化するように動作す
る。
それ自体は本出願の本発明の如何なる部分も形成しな
い。これ等のホツパ14、16は共にホツパ底面に閉鎖室24
と、この閉鎖室内に設けた空気透過性の天井26とを有し
ている。高圧空気が閉鎖室24の入口28に加えられると、
この空気は閉鎖室24の天井26を通り、この閉鎖室24の上
のホツパに含まれる粉体30を流動化するように動作す
る。
上記二つのホツパの異なる点は、補助ホツパ16の方が供
給ホツパ14に比べて大きさが小さく、容量が小さいとい
うことにある。好ましい一つの実施例においては、補助
ホツパ16は粉体を８個のガン12に供給するが、補助ホツ
パ16は供給ホツパ14の体積の約1/16の容積を持つに過ぎ
ない。
給ホツパ14に比べて大きさが小さく、容量が小さいとい
うことにある。好ましい一つの実施例においては、補助
ホツパ16は粉体を８個のガン12に供給するが、補助ホツ
パ16は供給ホツパ14の体積の約1/16の容積を持つに過ぎ
ない。
上記２つのホツパ14、16はまた、供給ホツパ14がその上
部壁に通気孔34を有するが、補助ホツパ16はそれを有し
ないという点で異なる。その代りに、補助ホツパ16はオ
ーバフロー（過剰）管36を介して通気されるが、このオ
ーバフロー管は補助ホツパ16の内部から下方に、このホ
ツパ16の閉鎖室24を通し、また供給ホツパ14の上部壁を
通して延在する。以下に更に詳述するように、オーバフ
ロー管36は補助ホツパ16を通気し、また補助ホツパ16か
ら供給ホツパ14に全ての過剰粉体を戻すように機能す
る。
部壁に通気孔34を有するが、補助ホツパ16はそれを有し
ないという点で異なる。その代りに、補助ホツパ16はオ
ーバフロー（過剰）管36を介して通気されるが、このオ
ーバフロー管は補助ホツパ16の内部から下方に、このホ
ツパ16の閉鎖室24を通し、また供給ホツパ14の上部壁を
通して延在する。以下に更に詳述するように、オーバフ
ロー管36は補助ホツパ16を通気し、また補助ホツパ16か
ら供給ホツパ14に全ての過剰粉体を戻すように機能す
る。
粉体ポンプ18、20は、補助ホツパ16の粉体ポンプ20が供
給ホツパ14の粉体ポンプ18より更に容量が小さいことを
除くと、全て同じである。これ等の粉体ポンプの各々は
流入ポート40、流出ポート42及び噴霧空気取入れポート
44を備える。更に、これ等のポンプの各々は粉体流路46
を内部に有し、この流路を通して粉体がサイフオン管50
を介してポンプのベンチユリポンプ室48に吸引され、こ
こに上記サイフオン管は粉体流路46の入口52を、ポンプ
が粉体を吸引する粉体の流動床30に接続するものであ
る。供給ホツパ用ポンプ18は、ホツパ14から粉体を吸引
し、この粉体を移送ダクト（第１のダクト手段）54を介
して補助ホツパ16内に移送し、一方補助ホツパポンプ20
は補助ホツパ16から粉体を吸引し、また短かい移送用ホ
ース（第２のダクト手段）56を介して粉体をデイスペン
サガン12に移送する。
給ホツパ14の粉体ポンプ18より更に容量が小さいことを
除くと、全て同じである。これ等の粉体ポンプの各々は
流入ポート40、流出ポート42及び噴霧空気取入れポート
44を備える。更に、これ等のポンプの各々は粉体流路46
を内部に有し、この流路を通して粉体がサイフオン管50
を介してポンプのベンチユリポンプ室48に吸引され、こ
こに上記サイフオン管は粉体流路46の入口52を、ポンプ
が粉体を吸引する粉体の流動床30に接続するものであ
る。供給ホツパ用ポンプ18は、ホツパ14から粉体を吸引
し、この粉体を移送ダクト（第１のダクト手段）54を介
して補助ホツパ16内に移送し、一方補助ホツパポンプ20
は補助ホツパ16から粉体を吸引し、また短かい移送用ホ
ース（第２のダクト手段）56を介して粉体をデイスペン
サガン12に移送する。
ポンプ18、20の入口ポート40は空気ライン58を介して高
圧空気源60に接続され、一方ポンプの噴霧空気入口ポー
ト44は空気ライン62を介して同じ高圧空気源に接続され
る。各ポンプの内部には小さな空気オリフイスが設けら
れ、これを通して空気源60からの高圧空気がそのベンチ
ユリポンプ室48内に低圧を生成するようにベンチユリポ
ンプ室48に流入する。この低圧はサイフオン管50を介し
て粉体を上方にポンプのベンチユリポンプ室48に吸引
し、それによりこの粉体がホース54を介してポンプ18か
らホツパ16に、或いはポンプ20の場合には、ホース56を
介しデイスペンサガン12に搬送され得る。
圧空気源60に接続され、一方ポンプの噴霧空気入口ポー
ト44は空気ライン62を介して同じ高圧空気源に接続され
る。各ポンプの内部には小さな空気オリフイスが設けら
れ、これを通して空気源60からの高圧空気がそのベンチ
ユリポンプ室48内に低圧を生成するようにベンチユリポ
ンプ室48に流入する。この低圧はサイフオン管50を介し
て粉体を上方にポンプのベンチユリポンプ室48に吸引
し、それによりこの粉体がホース54を介してポンプ18か
らホツパ16に、或いはポンプ20の場合には、ホース56を
介しデイスペンサガン12に搬送され得る。
上記の米国特許第3,746,254号に詳述されているよう
に、流入ポート40に供給される空気圧はサイフオン管を
通して上方にポンプのベンチユリポンプ室48に吸引され
る粉体量を制御し、また噴霧取入れポート44に供給され
る空気圧はポンプ内の粉体混合物に対する空気の比を制
御する。通常は、空気ライン（接続手段）58、62の各々
は圧力調節器（図示省略）を有しており、この調節器を
通して流入ポート44に供給された空気圧がポンプのベン
チユリポンプ室48内で吸引される真空度を制御し、且つ
ポンプの粉体流路46を通してベンチユリ室に供給される
粉体混合物に対する相対空気量を制御するように調節さ
れる。
に、流入ポート40に供給される空気圧はサイフオン管を
通して上方にポンプのベンチユリポンプ室48に吸引され
る粉体量を制御し、また噴霧取入れポート44に供給され
る空気圧はポンプ内の粉体混合物に対する空気の比を制
御する。通常は、空気ライン（接続手段）58、62の各々
は圧力調節器（図示省略）を有しており、この調節器を
通して流入ポート44に供給された空気圧がポンプのベン
チユリポンプ室48内で吸引される真空度を制御し、且つ
ポンプの粉体流路46を通してベンチユリ室に供給される
粉体混合物に対する相対空気量を制御するように調節さ
れる。
粉体分配装置の動作時には、空気源60から粉体ポンプ1
8、20の流入ポート40、44に、またホツパ14、16の空気
室24の流入ポート28に高圧空気が供給される。ホツパ1
4、16の流入ポート28に供給された高圧空気は供給ホツ
パ14及び補助ホツパ16に含まれる粉体30の全てを流動化
するように動作する。供給ホツパ14内の流動化粉体30は
ポンプ18のベンチユリポンプ室48により、サイフオン管
50を介して上方に吸引される。次に、この粉体は供給ホ
ツパ用ポンプ18から比較的長い移送用ホース54を介して
補助ホツパ16の粉体流入口68に搬送される。次に、補助
ホツパ16内の流動化粉体が補助ポンプ20により比較的短
かいホース56を介してデイスペンサガン12に移送され
る。実際には、過剰量の粉体が主ホツパ或いは供給ホツ
パ14から補助ホツパ16に移送されるが、この過剰量は全
てのポンプ20の容量より大きい。結果的に、過剰流動化
粉体はオーバフロー管36の入口70を通して供給ホツパ14
に戻る。このようにして、補助ホツパ16内の粉体のレベ
ルは、常に、一定レベル即ちオーバフロー管の入口70の
上部エツジレベルに維持される。
8、20の流入ポート40、44に、またホツパ14、16の空気
室24の流入ポート28に高圧空気が供給される。ホツパ1
4、16の流入ポート28に供給された高圧空気は供給ホツ
パ14及び補助ホツパ16に含まれる粉体30の全てを流動化
するように動作する。供給ホツパ14内の流動化粉体30は
ポンプ18のベンチユリポンプ室48により、サイフオン管
50を介して上方に吸引される。次に、この粉体は供給ホ
ツパ用ポンプ18から比較的長い移送用ホース54を介して
補助ホツパ16の粉体流入口68に搬送される。次に、補助
ホツパ16内の流動化粉体が補助ポンプ20により比較的短
かいホース56を介してデイスペンサガン12に移送され
る。実際には、過剰量の粉体が主ホツパ或いは供給ホツ
パ14から補助ホツパ16に移送されるが、この過剰量は全
てのポンプ20の容量より大きい。結果的に、過剰流動化
粉体はオーバフロー管36の入口70を通して供給ホツパ14
に戻る。このようにして、補助ホツパ16内の粉体のレベ
ルは、常に、一定レベル即ちオーバフロー管の入口70の
上部エツジレベルに維持される。
粉体ポンプ72は、重力が小さくて主ホツパにオーバフロ
ー粉体を搬送出来ない場合に、オーバフロー管36と結合
される。このようなポンプは、二つのホツパ間にかなり
の距離があるか、主ホツパが補助ホツパの下方に配置さ
れてない設置の時に必要となる。粉体ポンプ72がオーバ
フロー管36と共同する場合は、補助ホツパ内の周囲圧力
を維持するために補助ホツパの上部に通風孔（図示省
略）が設けられる。
ー粉体を搬送出来ない場合に、オーバフロー管36と結合
される。このようなポンプは、二つのホツパ間にかなり
の距離があるか、主ホツパが補助ホツパの下方に配置さ
れてない設置の時に必要となる。粉体ポンプ72がオーバ
フロー管36と共同する場合は、補助ホツパ内の周囲圧力
を維持するために補助ホツパの上部に通風孔（図示省
略）が設けられる。
本発明以前は、供給ホツパ又は主ホツパ14からガン12に
直線粉体を移送していた。装置内には如何なる中間ホツ
パ又は補助ホツパ16も設けられなかつた。本出願者は、
供給ホツパ18からガンに延在した長いホース及び供給ホ
ツパ14内の絶えず変化する粉体レベルが共に、ガンから
の粉体流量が変化する問題に影響し、それを発生させる
ことを見出した。特に、供給ホツパのポンプからガンに
延在する長いホースは、粉体が集積され、長いホースを
通る流れを規制しようとする多数の湾曲部分或いはルー
プ部分をもたらすことを見出している。次に、この制限
された流れはガンに向うホース内の圧力を低下させ、生
じた粉体量の低下は供給ホツパからガンに移送される。
粉体背後の圧力は周期的に、この粉体が制限部分を破壊
し、それにより高密度の粉体塊（puff）がガンから分配
されるレベルまで制限部を発生させた。これは次に、ホ
ースを通る空気流が急激に増加するので、ポンプからガ
ンへの空気流及び粉体流を一時的に増加させた。この制
限部は次に、これが破壊から解放され、上記の工程が反
復を開始すると同時にホース内に蓄積されることにな
る。
直線粉体を移送していた。装置内には如何なる中間ホツ
パ又は補助ホツパ16も設けられなかつた。本出願者は、
供給ホツパ18からガンに延在した長いホース及び供給ホ
ツパ14内の絶えず変化する粉体レベルが共に、ガンから
の粉体流量が変化する問題に影響し、それを発生させる
ことを見出した。特に、供給ホツパのポンプからガンに
延在する長いホースは、粉体が集積され、長いホースを
通る流れを規制しようとする多数の湾曲部分或いはルー
プ部分をもたらすことを見出している。次に、この制限
された流れはガンに向うホース内の圧力を低下させ、生
じた粉体量の低下は供給ホツパからガンに移送される。
粉体背後の圧力は周期的に、この粉体が制限部分を破壊
し、それにより高密度の粉体塊（puff）がガンから分配
されるレベルまで制限部を発生させた。これは次に、ホ
ースを通る空気流が急激に増加するので、ポンプからガ
ンへの空気流及び粉体流を一時的に増加させた。この制
限部は次に、これが破壊から解放され、上記の工程が反
復を開始すると同時にホース内に蓄積されることにな
る。
本出願人は更に、供給ホツパとガンとの間で、また好ま
しくはガンに密接して補助ホツパ16を利用することによ
り、ホース内で上記の粉体の制限部により惹起されるガ
ンから誤つた粉体流が最小にされるか、或いはほぼ除去
されることを見出している。更に本出願人は、補助ホツ
パ16を用いると、ガン12に粉体が供給されるホツパ内の
粉体レベルを一定に維持することにより、ガン12からの
粉体流を一定に維持出来ることも見出している。供給ホ
ツパ内の粉体レベルは変化し易く、またこの変化は、本
発明以前は、ガン12からの粉体流の変化を惹起した。こ
れ等の粉体流の変化は、粉体の流動床からポンプのベン
チユリポンプ室48に粉体を吸引するのに必要な空気圧の
変化に依るものであつた。流動床内の粉体レベルが低下
すると、その流動床から粉体をベンチユリ室に引き上げ
るのにより大きな真空度が必要となる。又は粉体レベル
が上昇すると、必要な真空度はより低くなる。但し、ポ
ンプのベンチユリポンプ室内の真空度は、流動床内の粉
体レベルが変化しても変化しない。代りに、ポンプから
の粉体流が変化する。本出願の発明によれば、補助ホツ
パ内の粉体レベルが一定の場合、ガンからの粉体流の変
化源を除去することが出来る。
しくはガンに密接して補助ホツパ16を利用することによ
り、ホース内で上記の粉体の制限部により惹起されるガ
ンから誤つた粉体流が最小にされるか、或いはほぼ除去
されることを見出している。更に本出願人は、補助ホツ
パ16を用いると、ガン12に粉体が供給されるホツパ内の
粉体レベルを一定に維持することにより、ガン12からの
粉体流を一定に維持出来ることも見出している。供給ホ
ツパ内の粉体レベルは変化し易く、またこの変化は、本
発明以前は、ガン12からの粉体流の変化を惹起した。こ
れ等の粉体流の変化は、粉体の流動床からポンプのベン
チユリポンプ室48に粉体を吸引するのに必要な空気圧の
変化に依るものであつた。流動床内の粉体レベルが低下
すると、その流動床から粉体をベンチユリ室に引き上げ
るのにより大きな真空度が必要となる。又は粉体レベル
が上昇すると、必要な真空度はより低くなる。但し、ポ
ンプのベンチユリポンプ室内の真空度は、流動床内の粉
体レベルが変化しても変化しない。代りに、ポンプから
の粉体流が変化する。本出願の発明によれば、補助ホツ
パ内の粉体レベルが一定の場合、ガンからの粉体流の変
化源を除去することが出来る。
本出願人は本発明について一つの実施例を挙げただけで
あるが、本発明に関係する当業者に取つて明らかなよう
に、本発明の精神から逸脱することなく多くの変更並び
に改変が可能である。従つて、添付した特許請求の範囲
による場合を除いては制限は受けないものと考える。
あるが、本発明に関係する当業者に取つて明らかなよう
に、本発明の精神から逸脱することなく多くの変更並び
に改変が可能である。従つて、添付した特許請求の範囲
による場合を除いては制限は受けないものと考える。
添付図面は、補助粉体ホツパ及び補助粉体ポンプが組み
込まれた粉体噴射装置の斜視図である。 〔主要部分の符号の説明〕 10……粉体噴射装置 12……ガン 14……主供給ホツパ 16……補助供給ホツパ 18……主空気ポンプ 20……補助空気ポンプ 30……粉体 36……オーバフロー管 48……ベンチユリポンプ室 50……サイフオン管 54……移送ダクト 56……移送ホース 58、62……空気ライン 60……空気源
込まれた粉体噴射装置の斜視図である。 〔主要部分の符号の説明〕 10……粉体噴射装置 12……ガン 14……主供給ホツパ 16……補助供給ホツパ 18……主空気ポンプ 20……補助空気ポンプ 30……粉体 36……オーバフロー管 48……ベンチユリポンプ室 50……サイフオン管 54……移送ダクト 56……移送ホース 58、62……空気ライン 60……空気源
Claims (5)
- 【請求項１】固体粒状粉体を分配する分配装置（10）で
あって、 固体粒状粉体材料を受け且つ流動化する第１内室を有す
る主流動床ホッパ（14）と、 第１流入ポート（40）及び第１流出ポート（42）を有す
る主粉体用空気ポンプにして、第１低圧ベンチュリポン
プ室（48）及び該第１低圧ベンチュリポンプ室と交差す
る第１粉体流路（46）を備え、該第１粉体流路は第１サ
イフォン管（50）を介して前記主流動床ホッパの前記第
１内室に接続された第１入口（52）を有する主粉体空気
ポンプ（18）と、 該主粉体ポンプの前記第１流入ポートを高圧空気源（6
0）に接続する接続手段（58）と、 前記主流動床ホッパの前記第１内室よりも実質的に小さ
な容量の第２内室を有する補助流動床ホッパ（16）と、 前記主粉体空気ポンプの前記第１流出ポートを前記補助
流動床ホッパの前記第２内室に接続する第１のダクト手
段（54）と、 第２流入ポート（40）及び第２流出ポートを有する少な
くとも一つの補助粉体用空気ポンプにして、第２低圧ベ
ンチュリポンプ室及び該第２低圧ベンチュリポンプ室に
交差する第２粉体流路を有し、該第２粉体流路は第２サ
イフォン管（50）を介して前記補助流動床ホッパの前記
第２内室に接続した第２入口を有する補助粉体空気ポン
プ（20）と、 少なくとも一つの粉体分配器（12）と、 前記補助粉体ポンプの前記第２流出ポートを前記粉体分
配器に接続する第２のダクト手段（56）と、 からなることを特徴とする固体粒状粉体の分配装置。 - 【請求項２】前記補助粉体ポンプ及び前記粉体分配器は
各々複数個設けられ、前記補助粉体ポンプの各々は第２
サイフォン管を介して前記補助流動床ホッパの第２内室
に接続された第２粉体流路を有し、前記補助粉体ポンプ
の各々は前記第２のダクト手段を介して前記粉体分配器
の一つに接続された第２流出ポートを有している特許請
求の範囲第１項に記載の分配装置。 - 【請求項３】前記補助流動床ホッパ内には流動化粉体を
一定レベルに維持する維持手段（36）が設けられている
特許請求の範囲第１項に記載の分配装置。 - 【請求項４】前記補助流動床ホッパ内で流動化粉体を一
定レベルに維持する前記維持手段は、前記補助流動床ホ
ッパと前記主流動床ホッパとの間に延在するオーバフロ
ー管（36）からなり、該オーバフロー管は前記補助流動
床ホッパの前記第２内室の底部から上方に隔置された第
３入口（70）を有する特許請求の範囲第１項に記載の分
配装置。 - 【請求項５】粉体分配器からの一定流量の固体粒状粉体
材料を分配する分配方法であって、 比較的大容量の主ホッパ内で固体粒状材料を流動化する
工程と、 前記主ホッパの前記固体粒状材料を前記主ホッパよりも
小容量の補助ホッパ内に移送する工程と、 前記補助ホッパ内で前記固体粒状材料を流動化する工程
と、 前記固体粒状材料を前記補助ホッパから粉体分配器に移
送する工程とから成り、 前記補助ホッパから前記粉体分配器に移送されるよりも
より多量の固体粒状材料が前記主ホッパから前記補助ホ
ッパに移送され、 前記補助ホッパ内で一定の流動化粉体レベルを維持する
ように、前記補助ホッパから前記主ホッパに過剰な固体
粒状材料が移送される ことを特徴とする一定流量の固体粒状粉体材料を分配す
る分配方法。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| US68150284A | 1984-12-13 | 1984-12-13 | |
| US681502 | 1984-12-13 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS61192620A JPS61192620A (ja) | 1986-08-27 |
| JPH075189B2 true JPH075189B2 (ja) | 1995-01-25 |
Family
ID=24735542
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP60279376A Expired - Lifetime JPH075189B2 (ja) | 1984-12-13 | 1985-12-13 | 固体粒状粉体の分配装置及び分配方法 |
Country Status (5)
| Country | Link |
|---|---|
| EP (1) | EP0185479B1 (ja) |
| JP (1) | JPH075189B2 (ja) |
| AU (1) | AU568034B2 (ja) |
| CA (1) | CA1276918C (ja) |
| DE (1) | DE3582411D1 (ja) |
Families Citing this family (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| FR2666753A1 (fr) * | 1990-09-18 | 1992-03-20 | Sames Sa | Dispositif d'alimentation d'un appareil de projection de poudre. |
| US5474609A (en) * | 1992-06-30 | 1995-12-12 | Nordson Corporation | Methods and apparatus for applying powder to workpieces |
| US5520735A (en) * | 1992-06-30 | 1996-05-28 | Nordson Corporation | Nozzle assembly and system for applying powder to a workpiece |
| DE19913448A1 (de) | 1999-03-25 | 2000-09-28 | Itw Gema Ag | Pulverbehälter-Niveausondenvorrichtung |
| CN108545481B (zh) * | 2018-05-30 | 2023-11-21 | 泰山石膏(陕西)有限公司 | 节能型干粉料供应系统 |
Family Cites Families (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| FR1494061A (fr) * | 1964-10-08 | 1967-09-08 | R L U M G Automation Sa | Perfectionnement aux dispositifs de projection de produits pulvérulents |
| BE790830A (fr) * | 1971-11-02 | 1973-02-15 | Nordson Corp | Pulverisateur electrostatique |
| GB1521800A (en) * | 1976-12-23 | 1978-08-16 | Coors Container Co | Powder feeder pick-up tube |
| US4380320A (en) * | 1981-02-25 | 1983-04-19 | Nordson Corporation | Electrostatic powder spray gun nozzle |
| JPS58106322U (ja) * | 1982-01-13 | 1983-07-20 | 新日本製鐵株式会社 | 微粉体の連続切出装置 |
| JPS58135033A (ja) * | 1982-02-03 | 1983-08-11 | Nippon Steel Corp | 微粉炭気送装置 |
-
1985
- 1985-11-28 DE DE8585308678T patent/DE3582411D1/de not_active Expired - Lifetime
- 1985-11-28 EP EP19850308678 patent/EP0185479B1/en not_active Expired
- 1985-12-05 AU AU50789/85A patent/AU568034B2/en not_active Ceased
- 1985-12-13 JP JP60279376A patent/JPH075189B2/ja not_active Expired - Lifetime
- 1985-12-13 CA CA000497687A patent/CA1276918C/en not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| DE3582411D1 (de) | 1991-05-08 |
| AU5078985A (en) | 1986-06-19 |
| JPS61192620A (ja) | 1986-08-27 |
| EP0185479B1 (en) | 1991-04-03 |
| AU568034B2 (en) | 1987-12-10 |
| EP0185479A2 (en) | 1986-06-25 |
| EP0185479A3 (en) | 1987-10-07 |
| CA1276918C (en) | 1990-11-27 |
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